JP2003183401A - Curable resin composition and cured product thereof - Google Patents

Curable resin composition and cured product thereof

Info

Publication number
JP2003183401A
JP2003183401A JP2001386912A JP2001386912A JP2003183401A JP 2003183401 A JP2003183401 A JP 2003183401A JP 2001386912 A JP2001386912 A JP 2001386912A JP 2001386912 A JP2001386912 A JP 2001386912A JP 2003183401 A JP2003183401 A JP 2003183401A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
curable resin
molecule
meth
cured product
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001386912A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2003183401A5 (en
Inventor
Hirofumi Inoue
浩文 井上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP2001386912A priority Critical patent/JP2003183401A/en
Publication of JP2003183401A publication Critical patent/JP2003183401A/en
Publication of JP2003183401A5 publication Critical patent/JP2003183401A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/12Using specific substances
    • H05K2203/122Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax, thiol
    • H05K2203/124Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition capable of preventing trouble caused by electrostatic charge and suppressing production costs while keeping physical properties required for a printed circuit board, and further giving good preserving stability to the resist ink after formulating a curing agent. <P>SOLUTION: This curable resin composition comprises curable components such as a polycarboxylic acid having two or more carboxy groups in the molecule and an epoxy resin, a curing agent and an electroconductive filler (carbon black, etc.), having pH higher than 7.0. The cured product of the composition is also provided. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線基板
のソルダーレジスト等に用いられる保護被膜用の硬化性
樹脂組成物、その硬化物とその硬化物により被膜された
プリント配線基板並びに該硬化性樹脂組成物の製造法に
関するものである。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a curable resin composition for a protective coating used for a solder resist of a printed wiring board, a cured product thereof, a printed wiring board coated with the cured product, and the curable resin. The present invention relates to a method for producing a composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線基板はポリイミドフィル
ム、フェノール樹脂積層板、ガラスエポキシ樹脂被膜板
などの基板、回路を形成する銅箔そしてアクリルエポキ
シ系樹脂等を主体としたレジスト保護膜などから構成さ
れている。このうち基板およびレジスト保護膜は、元来
絶縁を目的として使われているため、高い絶縁性をもっ
ている。例えばプリント配線板に使用されているレジス
ト被膜は、表面抵抗が10 12Ω以上の絶縁抵抗を有して
いる。この高い絶縁性故にこれらの素材は帯電しやすい
性質を持っている。
2. Description of the Related Art A printed wiring board is a polyimide film
Film, phenol resin laminated board, glass epoxy resin coated board
Substrate such as, copper foil and acrylic epoxy forming circuit
It consists of a resist protective film mainly composed of
Has been. Of these, the substrate and the resist protective film are originally
Since it is used for insulation, it has high insulation properties.
ing. For example, the resist used in printed wiring boards
The coating has a surface resistance of 10 12With insulation resistance of Ω or more
There is. Due to this high insulation, these materials are easily charged
It has a property.

【0003】一方、近年電子機器が小型化、高性能化が
進むにつれ、製造時の静電気による製品不良の発生が問
題視され、静電気の帯電防止技術が重要視されてきてい
る。例えば電子機器の製造工程では、帯電防止服、リス
トストラップなど導電素材を利用した方法や、イオナイ
ザーなど電荷を供給する方法で帯電の防止を図ってい
る。しかしながら、上記のような対策のみでは帯電防止
が不十分な場合も増えてきており、その対策としてレジ
スト被膜で保護されたプリント配線板に帯電防止機能を
持たせる試みがなされている。例えば特開平02-17
4289号公報、特開平04-261539号公報等で
はプリント配線板のレジスト被膜の上面または上下面
に、さらに導電性ポリマー粒子や金属酸化物を含有した
帯電防止インキを印刷することが提案されている
On the other hand, in recent years, with the progress of miniaturization and high performance of electronic devices, the occurrence of product defects due to static electricity at the time of manufacture has been regarded as a problem, and static electricity antistatic technology has been emphasized. For example, in the manufacturing process of electronic devices, a method of using an electrically conductive material such as antistatic clothing and a wrist strap, or a method of supplying an electric charge such as an ionizer is used to prevent the electrostatic charge. However, there are increasing cases in which the antistatic property is not sufficient only by the above measures, and as a countermeasure, attempts have been made to provide a printed wiring board protected by a resist film with an antistatic function. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 02-17
Japanese Patent No. 4289 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-261539 propose to print an antistatic ink containing conductive polymer particles and metal oxides on the upper surface or the upper and lower surfaces of a resist film of a printed wiring board.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】前述したようなレジス
ト被膜表面に導電性被膜を形成する方法は、製造工程が
複雑化し、コストアップの原因となる。また、導電性被
膜を形成する際、本来被膜されてはならない回路パター
ンの端子部分にも被膜され接点不良となる可能性があ
る。さらには、導電性被膜に含有される界面活性剤など
の帯電防止剤は、低融点であったり、耐薬品性・耐熱性
が不十分であったり、さらにはレジスト層から滲み出や
すかったりするものが多い。そのためレジストインキ塗
布後の乾燥工程で気化したものやレジスト被膜表面に滲
み出したものおよびその劣化物が電子部品に付着するこ
とで、トラブルを起こすことがある。
The method of forming a conductive film on the surface of a resist film as described above complicates the manufacturing process and causes an increase in cost. Further, when the conductive coating is formed, the terminal portion of the circuit pattern, which should not be coated originally, may be coated, resulting in contact failure. Furthermore, the antistatic agent such as a surfactant contained in the conductive film has a low melting point, insufficient chemical resistance and heat resistance, and is more likely to exude from the resist layer. There are many. For this reason, troubles may occur due to the vaporized substances, exuded substances on the surface of the resist coating, and their deteriorated substances adhering to the electronic components in the drying step after the application of the resist ink.

【0005】従来から帯電防止を目的に樹脂に金属粉や
カーボンブラックなどの導電性無機物を添加することは
行われている。しかしこの帯電防止手法を電子基板材料
に使用されるレジスト用インクそのものに応用した例は
ない。また、単に帯電防止目的で、一般的な導電性無機
物を添加したのみでは、レジスト用インクに必要な特性
が十分に得られず、場合によっては逆に損なわれてしま
う。
Conventionally, it has been practiced to add a conductive inorganic substance such as metal powder or carbon black to a resin for the purpose of preventing static electricity. However, there is no example in which this antistatic method is applied to the resist ink itself used for the electronic substrate material. In addition, merely adding a general conductive inorganic substance for the purpose of antistatic cannot sufficiently obtain the properties required for the resist ink, and in some cases, it may be adversely affected.

【0006】また、従来のレジスト用インク、特にカル
ボキシル基を含むレジストインクは、全成分の混合後、
室温保存すると熱架橋反応によるゲルがインク内に発生
するため短期間で使えなくなるという問題がある。その
ため室温での長期の保存は難しく、低温で保存するかま
たは硬化性樹脂等の主成分と硬化触媒等の硬化成分とを
分けて保存し、使用直前に混ぜて使うことが一般的に行
われている。しかし、低温保存の場合は冷凍・冷蔵庫が
必要となるうえに、使用前に長時間かけて室温に戻す必
要がある。また、冷蔵庫に保存した場合にはその混合物
の寿命は十分ではない。主成分と硬化成分に分けた場
合、インクの寿命は長くなるが、インクを混ぜる工程が
必要なため,作業工程が増え製造コストが高くなる。主
剤、硬化剤の種類によっては使用前の混合では分散が十
分にできない等の問題が発生し、使用できる主剤、硬化
剤成分の使用制限が多くなる。
Conventional resist inks, particularly resist inks containing a carboxyl group, are not
When stored at room temperature, there is a problem that gel cannot be used for a short period of time because gel is generated in the ink due to a thermal crosslinking reaction. Therefore, it is difficult to store it at room temperature for a long period of time, and it is common to store it at low temperature or store the main component such as curable resin and the curing component such as curing catalyst separately and mix them just before use. ing. However, in the case of low temperature storage, a freezer and a refrigerator are required, and it is necessary to return the temperature to room temperature for a long time before use. Also, the shelf life of the mixture is not sufficient when stored in the refrigerator. When the main component and the curing component are separated, the life of the ink becomes longer, but the process of mixing the ink is required, which increases the number of work steps and increases the manufacturing cost. Depending on the types of the main agent and the curing agent, problems such as insufficient dispersion cannot be obtained by mixing before use, and there are many restrictions on the use of the main agent and curing agent components that can be used.

【0007】本発明はプリント配線基板における上記従
来技術の諸問題を解決することを課題とする。即ち、プ
リント基板に要求される物性を維持した上で、静電気の
帯電によるトラブルを防止し、かつ製造コストを抑制
し、さらには硬化剤配合後のレジストインクの保存安定
性が良好である硬化性樹脂組成物を提供することを課題
とする。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art in a printed wiring board. That is, while maintaining the physical properties required for the printed circuit board, it prevents troubles due to electrostatic charging, suppresses the manufacturing cost, and has good storage stability of the resist ink after the curing agent is mixed. An object is to provide a resin composition.

【0008】[0008]

【問題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため誠意研究した結果、分子中に2個以上
のカルボキシル基を有するポリカルボン酸樹脂、pHが
7.0を上回る導電性フィラーを含有する硬化性樹脂組成
物から保存安定性に優れた1液性プリント配線基板用イ
ンクが得られること、およびその硬化物が、表面抵抗1
3〜1011Ωの範囲にあり長期間にわたる安定した帯
電防止性を示すだけでなく、耐メッキ性、耐薬品性、高
耐熱性、柔軟性などの特性にも優れることを見出し、本
発明を完成するに至った。すなわち、本発明は以下の
[1]〜[15]に示される硬化性樹脂組成物、その硬
化物、およびプリント配線基板ならびに該硬化性樹脂組
成物の製造法に関する。
Means for Solving the Problems As a result of sincere research for solving the above-mentioned problems, the present inventors have found that the polycarboxylic acid resin having two or more carboxyl groups in the molecule has
A one-component printed wiring board ink having excellent storage stability can be obtained from a curable resin composition containing a conductive filler of more than 7.0, and the cured product has a surface resistance of 1
It has been found that not only does it have a stable antistatic property for a long period of time in the range of 0 3 to 10 11 Ω, but it is also excellent in properties such as plating resistance, chemical resistance, high heat resistance, flexibility, etc. Has been completed. That is, the present invention relates to a curable resin composition shown in the following [1] to [15], a cured product thereof, a printed wiring board, and a method for producing the curable resin composition.

【0009】[1] 一分子中に2個以上のカルボキシ
ル基を有するポリカルボン酸樹脂(A)、硬化成分
(B)、硬化剤(C)およびpHが7.0を上回る導電
性フィラー(D)を含むことを特徴とする硬化性樹脂組
成物。 [2] 一分子中に2個以上のカルボキシル基を有する
ポリカルボン酸樹脂(A)が一分子中に2個以上のカル
ボキシル基を有する、エポキシ(メタ)アクリレート樹
脂またはウレタン(メタ)アクリレート樹脂であること
を特徴とする[1]に記載の硬化性樹脂組成物。
[1] A polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule, a curing component (B), a curing agent (C) and a conductive filler (D) having a pH of more than 7.0. And a curable resin composition. [2] An epoxy (meth) acrylate resin or urethane (meth) acrylate resin in which a polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule has two or more carboxyl groups in one molecule. The curable resin composition according to [1].

【0010】[3] 光重合開始剤(E)を含むことを
特徴とする[2]に記載の硬化性樹脂組成物。 [4] 希釈剤(F)を含むことを特徴とする[1]〜
[3]のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物。
[3] The curable resin composition as described in [2], which contains a photopolymerization initiator (E). [4] A diluent (F) is included in [1] to
The curable resin composition according to any one of [3].

【0011】[5] 一分子中に2個以上のカルボキシ
ル基を有するポリカルボン酸樹脂(A)の酸価が5〜1
50mgKOH/gで、かつ重量平均分子量が1,00
0〜100,000であることを特徴とする[1]〜
[4]のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物。 [6] 硬化成分(B)が一分子中に2個以上のエポキ
シ基を有するエポキシ樹脂であることを特徴とする
[1]〜[5]のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成
物。 [7] 導電性フィラー(D)がカーボンブラックであ
ることを特徴とする[1]〜[6]のいずれか一つに記
載の硬化性樹脂組成物。
[5] The acid value of the polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule is 5 to 1
50 mgKOH / g and weight average molecular weight of 100
0 to 100,000 [1]
The curable resin composition according to any one of [4]. [6] The curable resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the curing component (B) is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. . [7] The curable resin composition according to any one of [1] to [6], wherein the conductive filler (D) is carbon black.

【0012】[8] 粘度が500〜500,000m
Pa・sであることを特徴とする[1]〜[7]のいず
れか一つに記載の硬化性樹脂組成物。 [9] [1]〜[8]のいずれか一つに記載の硬化性
樹脂組成物を硬化してなることを特徴とする硬化物。 [10] 表面抵抗が103〜1011Ωであることを特
徴とする[9]に記載の硬化物。
[8] Viscosity is 500 to 500,000 m
Pa · s, The curable resin composition according to any one of [1] to [7]. [9] A cured product obtained by curing the curable resin composition according to any one of [1] to [8]. [10] The cured product according to [9], which has a surface resistance of 10 3 to 10 11 Ω.

【0013】[11] [1]〜[9]のいずれか一つ
に記載の硬化性樹脂組成物を含むレジストインク。 [12] [9]または[10]に記載の硬化物からな
るソルダーレジスト。 [13] [9]または[10]に記載の硬化物からな
る保護膜。 [14] [9]または[10]に記載の硬化物[で一
部分、または全面が被覆されたプリント配線基板。
[11] A resist ink containing the curable resin composition according to any one of [1] to [9]. [12] A solder resist comprising the cured product according to [9] or [10]. [13] A protective film made of the cured product according to [9] or [10]. [14] A printed wiring board partially or entirely coated with the cured product [[9] or [10].

【0014】[15] 一分子中に2個以上のカルボキ
シル基を有するポリカルボン酸樹脂(A)とpHが7.
0を上回る導電性フィラー(D)を混合する工程(I)
と工程(I)より得られた混合物に一分子中に2個以上
のカルボキシル基を有するポリカルボン酸樹脂(A)、
硬化成分(B)、硬化剤(C)および必要に応じて光重
合開始剤(E)、希釈剤(F)を混合する工程(II)
からなる硬化性樹脂組成物の製造方法。 [16] pHが7.0を上回る導電性フィラー(D)
を添加することを特徴とするレジストインクの帯電防止
方法。
[15] The pH of the polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule is 7.
Step (I) of mixing more than 0 conductive filler (D)
And a polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule in the mixture obtained in the step (I),
Step (II) of mixing the curing component (B), the curing agent (C) and, if necessary, the photopolymerization initiator (E) and the diluent (F)
A method for producing a curable resin composition comprising: [16] Conductive filler (D) having a pH of more than 7.0
A method for preventing electrification of a resist ink, which comprises adding

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の一分子中に2個以上のカルボキシル基を有する
ポリカルボン酸樹脂(A)(以下、単に「ポリカルボン
酸樹脂(A)」あるいは「成分(A)」と称すことがあ
る。)は、樹脂分子中に化学的に結合したカルボキシル
基を有す樹脂のことである。一分子中に2個以上のカル
ボキシル基を有する限り、公知慣用のポリカルボン酸樹
脂を使用することが出来る。例えばカルボキシル基を有
するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂、ウレタン(メ
タ)アクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレ
ン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイ
ミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができ
る。ここで「(メタ)アクリレート」とはメタクリレー
トまたはアクリレートを意味する。このうち好ましいも
のとして、一分子中に光重合性不飽和結合を有するポリ
カルボン酸樹脂がある。具体的には分子中に二個以上の
カルボキシル基を有する、エポキシ(メタ)アクリレー
ト樹脂、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂等が挙げら
れる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below.
The polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule of the present invention (hereinafter, may be simply referred to as “polycarboxylic acid resin (A)” or “component (A)”). , A resin having a chemically bonded carboxyl group in the resin molecule. Any known and commonly used polycarboxylic acid resin can be used as long as it has two or more carboxyl groups in one molecule. For example, epoxy (meth) acrylate resin having a carboxyl group, urethane (meth) acrylate resin, polystyrene resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyamide resin, polyimide resin, polyester resin or the like can be used. Here, "(meth) acrylate" means methacrylate or acrylate. Among these, polycarboxylic acid resins having a photopolymerizable unsaturated bond in one molecule are preferable. Specific examples include epoxy (meth) acrylate resins and urethane (meth) acrylate resins having two or more carboxyl groups in the molecule.

【0016】分子中に二個以上のカルボキシル基を有す
るエポキシ(メタ)アクリレート樹脂は、一般にエポキ
シ化合物と(メタ)アクリル酸と酸無水物とを反応させ
ることによって得られるものである。ここで使用される
エポキシ化合物としては、特に限定されるものではない
が、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノー
ルF型エポキシ化合物、ビスフェノールS型エポキシ化
合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾ
ールノボラック型エポキシ化合物、または脂肪族エポキ
シ化合物などのエポキシ化合物が挙げられる。
The epoxy (meth) acrylate resin having two or more carboxyl groups in the molecule is generally obtained by reacting an epoxy compound with (meth) acrylic acid and an acid anhydride. The epoxy compound used here is not particularly limited, but includes a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a bisphenol S type epoxy compound, a phenol novolac type epoxy compound, a cresol novolac type epoxy compound, or Epoxy compounds such as aliphatic epoxy compounds may be mentioned.

【0017】酸無水物としては、無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラ
ヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘ
キサヒドロ無水フタル酸、無水エンドメチレンテトラヒ
ドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロ
フタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水
フタル酸等の二塩基性酸無水物、無水トリメリット酸、
無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物等の芳香族多価カルボン酸無水物、5−(2,
5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−
シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、エンド
ビシクロ−[2,2,1]−ヘプト−5−エン−2,3
−ジカルボン酸無水物等が挙げられる。
As the acid anhydride, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, Dibasic acid anhydrides such as methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride,
Aromatic polyvalent carboxylic acid anhydrides such as pyromellitic dianhydride and benzophenone tetracarboxylic dianhydride; 5- (2
5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-
Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, endobicyclo- [2,2,1] -hept-5-ene-2,3
-Dicarboxylic acid anhydride etc. are mentioned.

【0018】一分子中に二個以上のカルボキシル基を有
するウレタン(メタ)アクリレート樹脂としては、ヒド
ロキシル基を有する(メタ)アクリレート(a)由来の
単位と、ポリオール(b)由来の単位と、ポリイソシア
ナート(c)由来の単位とを構成単位として含む化合物
が好ましい。この化合物において、両末端はヒドロキシ
ル基を有する(メタ)アクリレート(a)由来の単位か
らなり、両末端の間はウレタン結合により連結されたポ
リオール(b)由来の単位とポリイソシアナート(c)
由来の単位とから構成される。そして、このウレタン結
合により連結された繰り返し単位には、カルボキシル基
が存在した構造を有している。
As a urethane (meth) acrylate resin having two or more carboxyl groups in one molecule, a unit derived from a (meth) acrylate (a) having a hydroxyl group, a unit derived from a polyol (b), and a poly A compound containing a unit derived from the isocyanate (c) as a constitutional unit is preferable. In this compound, both terminals are composed of a unit derived from (meth) acrylate (a) having a hydroxyl group, and a unit derived from a polyol (b) and a polyisocyanate (c) which are linked by a urethane bond between the both terminals.
It is composed of the unit of origin. The repeating unit linked by the urethane bond has a structure in which a carboxyl group is present.

【0019】一分子中に二個以上のカルボキシル基を有
するウレタン(メタ)アクリレート化合物の一例はは、
少なくとも、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレ
ート(a)と、ポリオール(b)と、ポリイソシアナー
ト(c)とを反応させることによって得られるものであ
り、ポリオール(b)またはポリイソシアナート(c)
の少なくともどちらか一方には、カルボキシル基を有す
る化合物を使用する。特にカルボキシル基を有するポリ
オール(b)を使用することが好ましい。
An example of a urethane (meth) acrylate compound having two or more carboxyl groups in one molecule is:
It is obtained by reacting at least a (meth) acrylate (a) having a hydroxyl group, a polyol (b) and a polyisocyanate (c), and the polyol (b) or the polyisocyanate (c).
A compound having a carboxyl group is used for at least one of the above. It is particularly preferable to use the polyol (b) having a carboxyl group.

【0020】ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレ
ート(a)としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、前記各
(メタ)アクリレートのカプロラクトンまたは酸化アル
キレン付加物、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、
グリセリンジ(メタ)アクリレート、グリシジルメタク
リレート−アクリル酸付加物、トリメチロールプロパン
モノ(メタ)アクリレート、トリメチロールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アク
リレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アク
リルレート、トリメチロールプロパン−酸化アルキレン
付加物−ジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これ
らのヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート
(a)は1種または2種以上を組み合わせて用いること
ができる。また、これらのうちでは、2−ヒドロキシエ
チル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレ
ートが好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートがより好ましい。
Examples of the (meth) acrylate (a) having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone or oxidation of each of the (meth) acrylates. Alkylene adduct, glycerin mono (meth) acrylate,
Glycerin di (meth) acrylate, glycidyl methacrylate-acrylic acid adduct, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, trimethyloldi (meth)
Examples thereof include acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, and trimethylolpropane-alkylene oxide adduct-di (meth) acrylate. These (meth) acrylates (a) having a hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more. Moreover, among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate are preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is more preferable.

【0021】ポリオール(b)としては、ポリマーポリ
オール(b1)および/またはジヒドロキシル化合物
(b2)を使用できる。ポリマーポリオール(b1)と
しては、具体的にポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポ
リエーテル系ジオール、多価アルコールと多塩基酸のエ
ステルから得られるポリエステル系ポリオール、ヘキサ
メチレンカーボネート、ペンタメチレンカーボネート等
に由来の単位を構成単位として含むポリカーボネート系
ジオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリブチロラ
クトンジオール等のポリラクトン系ジオールが挙げられ
る。
As the polyol (b), a polymer polyol (b1) and / or a dihydroxyl compound (b2) can be used. Specific examples of the polymer polyol (b1) include polyether diols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol, polyester polyols obtained from esters of polyhydric alcohols and polybasic acids, hexamethylene carbonate, pentamethylene. Examples thereof include polycarbonate-based diols containing units derived from carbonate and the like as constitutional units, polycaprolactone diols, polybutyrolactone diols and other polylactone-based diols.

【0022】また、カルボキシル基を有するポリマーポ
リオール(b1)を使用する場合は、例えば、上記ポリ
マーポリオール(b1)合成時に(無水)トリメリット
酸等の3価以上の多塩基酸を共存させ、カルボキシル基
が残存するように合成した化合物などを使用することが
できる。
When the polymer polyol (b1) having a carboxyl group is used, for example, a tribasic or more polybasic acid such as (anhydrous) trimellitic acid is allowed to coexist at the time of synthesizing the polymer polyol (b1). A compound synthesized so that the group remains may be used.

【0023】ジヒドロキシル化合物(b2)としては、
2つのアルコール性ヒドロキシル基を有する分岐または
直鎖状の化合物を使用できる。特にカルボキシル基を有
するジヒドロキシ脂肪族カルボン酸を使用することが好
ましい。このようなジヒドロキシル化合物(b2)とし
ては、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン
酸が挙げられる。カルボキシル基を有するジヒドロキシ
脂肪族カルボン酸を使用することによって、ウレタン
(メタ)アクリレート化合物中に容易にカルボキシル基
を存在させることができる。
As the dihydroxyl compound (b2),
Branched or linear compounds with two alcoholic hydroxyl groups can be used. In particular, it is preferable to use a dihydroxy aliphatic carboxylic acid having a carboxyl group. Examples of such a dihydroxyl compound (b2) include dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid. By using a dihydroxy aliphatic carboxylic acid having a carboxyl group, the carboxyl group can be easily present in the urethane (meth) acrylate compound.

【0024】ポリマーポリオール(b1)、およびジヒ
ドロキシル化合物(b2)は、1種または2種以上を組
み合わせて用いることができる。
The polymer polyol (b1) and the dihydroxyl compound (b2) may be used either individually or in combination of two or more.

【0025】また、一分子中に二個以上のカルボキシル
基を有するウレタン(メタ)アクリレート化合物の製造
の際に、カルボキシル基を有するポリマーポリオール
(b1)を併用する場合や、後述するポリイソシアナー
ト(c)としてカルボキシル基を有するものを使用する
場合には、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、
1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、
ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタ
ンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シク
ロヘキサンジメタノール、ハイドロキノンなどのカルボ
キシル基を持たないジヒドロキシル化合物(b2)を使
用してもよい。
Further, when a urethane (meth) acrylate compound having two or more carboxyl groups in one molecule is produced, a polymer polyol (b1) having a carboxyl group is used in combination, or a polyisocyanate (described later) ( When a compound having a carboxyl group is used as c), ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol,
1,3-butanediol, 1,5-pentanediol,
A dihydroxyl compound (b2) having no carboxyl group such as neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol and hydroquinone may be used. .

【0026】ポリイソシアナート(c)としては、具体
的に2,4−トルエンジイソシアナート、2,6−トル
エンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、
ヘキサメチレンジイソシアナート、ジフェニルメチレン
ジイソシアナート、(o,m,またはp)−キシレンジ
イソシアナート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシ
アナート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアナー
ト、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアナ
ート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレレンジイソシ
アナートおよび1,5−ナフタレンジイソシアナート等
のジイソシナートが挙げられる。これらのポリイソシア
ナートは1種または2種以上を組み合わせて用いること
ができる。また、カルボキシル基を有するポリイソシア
ナート(c)を使用することができる。
Specific examples of the polyisocyanate (c) include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate,
Hexamethylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, (o, m, or p) -xylene diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl isocyanate), trimethyl hexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate , Cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate and 1,5-naphthalene diisocyanate. These polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more. Further, a polyisocyanate (c) having a carboxyl group can be used.

【0027】前記のポリカルボン酸樹脂(A)の重量平
均分子量は1,000〜100,000であることが好
ましく、8000〜30000が更に好ましい。ここ
で、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーで測定したポリスチレン換算の値である。ポ
リカルボン酸樹脂(A)の重量平均分子量が1,000
未満では、硬化膜の伸度、可撓性、並びに強度を損なう
ことがあり、100,000を超えると硬くなり可撓性
を低下させるおそれがある。
The weight average molecular weight of the polycarboxylic acid resin (A) is preferably 1,000 to 100,000, more preferably 8,000 to 30,000. Here, the weight average molecular weight is a polystyrene conversion value measured by gel permeation chromatography. The weight average molecular weight of the polycarboxylic acid resin (A) is 1,000.
If the amount is less than 100%, the elongation, flexibility and strength of the cured film may be impaired, and if it exceeds 100,000, the cured film may become hard and flexibility may be deteriorated.

【0028】ポリカルボン酸樹脂(A)の酸価は5〜1
50mgKOH/gであるものが好ましく、30〜12
0mgKOH/gが更に好ましい。酸価が10mgKO
H/g未満では硬化性成分との反応性が低下し耐熱性を
損ねることがある。150mgKOH/gを超えると硬
化膜の耐アルカリ性、電気特性等のレジストとしての特
性が低下する場合がある。
The acid value of the polycarboxylic acid resin (A) is 5 to 1
It is preferably 50 mgKOH / g, 30 to 12
0 mg KOH / g is more preferred. Acid value is 10mgKO
If it is less than H / g, the reactivity with the curable component may decrease and the heat resistance may be impaired. If it exceeds 150 mgKOH / g, the characteristics as a resist such as alkali resistance and electric characteristics of the cured film may deteriorate.

【0029】なお、本明細書を通して、樹脂の酸価は以
下の方法により測定したものである。100ml三角フ
ラスコに試料約0.2gを精密天秤にて精秤し、これに
ピリジン10mlを加えて溶解する。更に、この容器に
指示薬としてフェノールフタレインエタノール溶液を1
〜3滴添加し、試料が均一になるまで十分に攪拌する。
これを、0.05N水酸化カリウム−エタノール溶液で
滴定し、指示薬の微紅色が30秒間続いたときを、中和
の終点とする。その結果を下記の計算式を用いて得た値
を、樹脂の酸価とする。 酸価(mgKOH/g)=〔B×fラ5.611〕/S B:0.05N水酸化カリウム−エタノール溶液の使用
量(ml) f:0.05N水酸化カリウム−エタノール溶液のファ
クター S:試料の採取量(g)
Throughout the present specification, the acid value of the resin is measured by the following method. About 0.2 g of the sample is precisely weighed in a 100 ml Erlenmeyer flask by a precision balance, and 10 ml of pyridine is added to this and dissolved. Further, add 1 phenolphthalein ethanol solution as an indicator to this container.
Add ~ 3 drops and stir well until sample is uniform.
This is titrated with a 0.05 N potassium hydroxide-ethanol solution, and the end point of neutralization is when the indicator is slightly reddish for 30 seconds. The value obtained by using the calculation formula below is used as the acid value of the resin. Acid value (mgKOH / g) = [B × f 5.611] / S B: amount of 0.05N potassium hydroxide-ethanol solution used (ml) f: 0.05N potassium hydroxide-ethanol solution factor S : Amount of sample (g)

【0030】また、これらポリカルボン酸樹脂(A)
は、単独または2種以上を組み合わせて用いることが出
来る。
Further, these polycarboxylic acid resins (A)
Can be used alone or in combination of two or more.

【0031】本発明の硬化成分(B)は、それ自身が熱
や紫外線等の光によって硬化するものや、本発明の組成
物中の主成分であるポリカルボン酸樹脂(A)中のカル
ボキシル基やその他の官能基(例えば水酸基)と熱や紫
外線等によって反応するものでも良い。
The curing component (B) of the present invention is one which is itself cured by heat or light such as ultraviolet rays, or the carboxyl group in the polycarboxylic acid resin (A) which is the main component in the composition of the present invention. It may also react with other functional groups (eg, hydroxyl group) by heat, ultraviolet rays, or the like.

【0032】具体的には、エポキシ樹脂、フェノール樹
脂、シリコン樹脂、ポリアミド樹脂等をあげることがで
きる。これらの中ではエポキシ樹脂が好ましい。エポキ
シ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ
樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エ
ポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂、N−グリシジル型エポキシ樹脂、ビスフェノ
ールAのノボラック型エポキシ樹脂、キレート型エポキ
シ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、アミノ基含有
エポキシ樹脂、ゴム変性エポキシ樹脂、ジシクロペンタ
ジエンフェノリック型エポキシ樹脂、シリコーン変性エ
ポキシ樹脂、ε−カプロラクトン変性エポキシ樹脂など
の一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化
合物が挙げられる。また、難燃性付与のために、塩素、
臭素等のハロゲンや燐等の原子が熱や水によって分解さ
れにくい結合状態でその構造中に導入されたものを使用
してもよい。さらに、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、ジグリシジルフタレート樹脂、ヘテロサイクリック
エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェ
ノール型エポキシ樹脂およびテトラグリシジルキシレノ
イルエタン樹脂等を使用してもよい。
Specific examples include epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyamide resin and the like. Of these, epoxy resins are preferred. Specific examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolac type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type. Epoxy resin, N-glycidyl type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, chelate type epoxy resin, glyoxal type epoxy resin, amino group-containing epoxy resin, rubber modified epoxy resin, dicyclopentadiene phenolic epoxy resin, silicone modified epoxy An epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule such as a resin or an ε-caprolactone modified epoxy resin can be used. In order to impart flame retardancy, chlorine,
A halogen atom such as bromine or an atom such as phosphorus introduced into the structure in a bound state that is not easily decomposed by heat or water may be used. Further, bisphenol S type epoxy resin, diglycidyl phthalate resin, heterocyclic epoxy resin, bixylenol type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, tetraglycidyl xylenoyl ethane resin and the like may be used.

【0033】他の硬化成分(B)としてはエポキシ基や
カルボキシル基と反応する官能基や光重合性の官能基を
有する低分子モノマーやオリゴマーが挙げられる。これ
らの硬化剤(B)のうち、光重合性のものとしては、2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレート類;エチレングリコールやプ
ロピレングリコールなどのモノ、ジまたはポリ(メタ)
アクリレート類;N,Nジメチルアクリルアミド、N−
メチロールアクリルアミド等のアクリルアミド類;N,
N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等のア
ミノアルキル(メタ)アクリレート類;トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールま
たはこれらのエチレンオキサイド付加物もしくはプロピ
レンオキサイド付加物などのモノまたはポリ(メタ)ア
クリレート類;グリセリンジグリシジルエーテル、トリ
メチロールプロパントリトリグリシジルエーテル、トリ
グリシジルイソシアヌレート等のグリシジルエーテルの
モノまたはポリ(メタ)アクリレート類;ビスフェノー
ルAのオリゴマーのモノまたはポリ(メタ)アクリレー
ト類;ウレタン化合物のモノまたはポリ(メタ)アクリ
レート類;その他の多官能の(メタ)アクリル酸エステ
ルモノマーおよびオリゴマー等が挙げられる。
Examples of the other curing component (B) include low molecular weight monomers and oligomers having a functional group reactive with an epoxy group or a carboxyl group or a photopolymerizable functional group. Among these curing agents (B), the photopolymerizable ones include 2
-Hydroxyethyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate; mono, di or poly (meth) such as ethylene glycol and propylene glycol
Acrylates; N, N dimethylacrylamide, N-
Acrylamides such as methylolacrylamide; N,
Aminoalkyl (meth) acrylates such as N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; polyhydric alcohols such as trimethylolpropane and pentaerythritol, or mono- or poly (meth) such as ethylene oxide adducts or propylene oxide adducts thereof Acrylates; mono- or poly (meth) acrylates of glycidyl ethers such as glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane tritriglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate; mono- or poly (meth) acrylates of oligomers of bisphenol A; urethane compounds Mono- or poly (meth) acrylates; other polyfunctional (meth) acrylic acid ester monomers and oligomers, etc. may be mentioned.

【0034】本発明の熱硬化性樹脂組成物において、前
記硬化成分(B)は、単独または2種以上の混合物とし
て用いられる。硬化成分(B)の配合量は、組成物中、
1〜50質量%が好ましく、より好ましくは3〜45質
量%である。硬化成分(B)の配合量が1質量%未満で
は、熱硬化性樹脂組成物の硬化膜のはんだ耐熱性が不十
分となる場合があり、50質量%を超えると、硬化膜の
収縮量が多くなり、フレキシブルプリント配線基板(F
PC)の絶縁保護膜として使用した場合にそり変形(カ
ール)が増大する傾向がある。
In the thermosetting resin composition of the present invention, the curing component (B) is used alone or as a mixture of two or more kinds. The amount of the curing component (B) blended in the composition is
The amount is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 3 to 45% by mass. When the content of the curing component (B) is less than 1% by mass, the solder heat resistance of the cured film of the thermosetting resin composition may be insufficient, and when it exceeds 50% by mass, the amount of shrinkage of the cured film may be insufficient. Flexible printed wiring board (F
When used as an insulating protective film for (PC), warpage deformation (curl) tends to increase.

【0035】本発明の硬化剤(C)は、密着性、耐薬品
性、耐熱性当の特性をより一層向上するために使用され
る。このような硬化剤の具体例としては、例えば、四国
化成工業(株)製、2MZ、2E4MZ、C11Z、C17
Z、2PZ、1B2MZ、2MZ−CN、2E4MZ−
CN,C11Z−CN、2PZ−CN、2PHZ−CN、
2MZ−CNS、2E4MZ−CNS、2PZ−CN
S、2MZ−AZINE、2E4MZ−AZINE、C
11Z−AZINE、2MA−OK、2P4MHZ、2P
HZ、2P4BHZ等のイミダゾール誘導体;アセトグ
アナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類;ジアミ
ノジフェニルメタン、m−フェニレンジアミン、m−キ
シレンジアミン、ジアミノジフェニルスルフォンン、ジ
シアンジアミド、尿素、尿素誘導体、メラミン、多塩基
ヒドラジド等のポリアミン類;これらの有機酸塩および
/またはエポキシアダクト;三フッ化ホウ素のアミン錯
体;エチルジアミノ−S−トリアジン、2,4−ジアミ
ノ−S−トリアジン,2,4−ジアミノ−6−キシリル
−S−トリアジン等のトリアジン誘導体類;トリメチル
アミン、トリエタノールアミン、N,N−ジメチルオク
チルアミン、N−ベンジルジメチルアミン、ピリジン、
N−メチルモルホリン、ヘキサ(N−メチル)メラミ
ン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノフェノー
ル)、テトラメチルグアニジン、m−アミノフェノール
等のアミン類;ポリビニルフェノール、ポリビニルフェ
ノール臭素化物、フェノールノボラック、アルキルフェ
ノールノボラック等のポリフェノール類;トリブチルホ
スフィン、トリフェニルホスフィン、トリス−2−シア
ノエチルホスフィン等の有機ホスフィン類;トリ−n−
ブチル(2,5−ジヒドロキシフェニル)ホスホニウム
ブロマイド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロ
ライド等のホスホニウム塩類;ベンジルトリメチルアン
モニウムクロライド、フェニルトリブチルアンモニウム
クロライド等の4級アンモニウム塩類;前記多塩基酸無
水物;ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボロエー
ト、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモ
ネート、2,4,6−トリフェニルチオピリリウムヘキ
サフルオロホスフェート、チバ・ガイギー社製、イルガ
キュアー261、旭電化(株)製、オプトマ−SP−1
70等の光カチオン重合触媒;スチレン−無水マレイン
酸樹脂;フェニルイソシアネートとジメチルアミンの等
モル反応物や、トリレンジイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートとジメチ
ルアミンの等モル反応物等の公知慣用である硬化剤類あ
るいは硬化促進剤類が挙げられる。
The curing agent (C) of the present invention is used to further improve the properties such as adhesion, chemical resistance and heat resistance. Specific examples of such a curing agent include 2MZ, 2E4MZ, C 11 Z, and C 17 manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd.
Z, 2PZ, 1B2MZ, 2MZ-CN, 2E4MZ-
CN, C 11 Z-CN, 2PZ-CN, 2PHZ-CN,
2MZ-CNS, 2E4MZ-CNS, 2PZ-CN
S, 2MZ-AZINE, 2E4MZ-AZINE, C
11 Z-AZINE, 2MA-OK, 2P4MHZ, 2P
Imidazole derivatives such as HZ, 2P4BHZ; guanamines such as acetoguanamine and benzoguanamine; polyamines such as diaminodiphenylmethane, m-phenylenediamine, m-xylenediamine, diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide, urea, urea derivatives, melamine, and polybasic hydrazide Organic acids and / or epoxy adducts; amine complexes of boron trifluoride; ethyldiamino-S-triazine, 2,4-diamino-S-triazine, 2,4-diamino-6-xylyl-S- Triazine derivatives such as triazine; trimethylamine, triethanolamine, N, N-dimethyloctylamine, N-benzyldimethylamine, pyridine,
Amines such as N-methylmorpholine, hexa (N-methyl) melamine, 2,4,6-tris (dimethylaminophenol), tetramethylguanidine, m-aminophenol; polyvinylphenol, polyvinylphenol bromide, phenol novolac, Polyphenols such as alkylphenol novolac; organic phosphines such as tributylphosphine, triphenylphosphine and tris-2-cyanoethylphosphine; tri-n-
Butyl (2,5-dihydroxyphenyl) phosphonium bromide, phosphonium salts such as hexadecyltributylphosphonium chloride; quaternary ammonium salts such as benzyltrimethylammonium chloride, phenyltributylammonium chloride; the above polybasic acid anhydrides; diphenyliodonium tetrafluoroborol Ate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, 2,4,6-triphenylthiopyrylium hexafluorophosphate, manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 261, Asahi Denka Co., Ltd., Optoma-SP-1
Cationic polymerization catalysts such as 70; styrene-maleic anhydride resins; well-known conventional substances such as equimolar reaction products of phenyl isocyanate and dimethylamine, and organic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate and isophorone diisocyanate and equimolar reactions of dimethylamine. Examples of the curing agents or curing accelerators are

【0036】これら硬化剤(C)は本発明の硬化成分
(B)の種類に応じて適切なものを使用する必要があ
る。硬化剤(C)は単独または2種以上混合して用いる
ことができる。硬化剤(C)の使用量は、前記硬化成分
(B)100質量部に対して、0.1〜25質量部が好
ましく、0.5〜15質量部が更に好ましい。硬化剤
(C)の配合量が本発明の硬化性樹脂組成物に対して
0.1質量%未満であると、組成物の硬化が不十分とな
り、25質量%を超えるとその硬化物からの昇華性成分
が多くなり好ましくない。
It is necessary to use an appropriate curing agent (C) depending on the type of the curing component (B) of the present invention. The curing agent (C) can be used alone or in combination of two or more. The amount of the curing agent (C) used is preferably 0.1 to 25 parts by mass, more preferably 0.5 to 15 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the curing component (B). When the compounding amount of the curing agent (C) is less than 0.1% by mass with respect to the curable resin composition of the present invention, curing of the composition becomes insufficient, and when it exceeds 25% by mass, the composition from the cured product becomes Sublimable components increase, which is not preferable.

【0037】本発明で用いられる導電性フィラー(D)
は、pH7.0を上回る化合物で、かつ樹脂の導電化に用
いられる導電性フィラーであれば特に制限はい。その具
体例としては、導電性ポリマー、カーボン系導電フィラ
ー、金属粉、金属フレーク、金属リボン、金属繊維、金
属酸化物、導電性物質で被覆された非カーボン系導電フ
ィラーなどが挙げられる。
Conductive filler (D) used in the present invention
Is a compound having a pH of more than 7.0 and is not particularly limited as long as it is a conductive filler used for making the resin conductive. Specific examples thereof include conductive polymers, carbon-based conductive fillers, metal powders, metal flakes, metal ribbons, metal fibers, metal oxides, non-carbon-based conductive fillers coated with a conductive substance, and the like.

【0038】導電性高分子としては、ポリアセチレン
系、ポリフェニレン系、複素環ポリマー、イオン性ポリ
マー、ラダーおよびネットワーク状ポリマー等を用いる
ことができる。
As the conductive polymer, polyacetylene-based, polyphenylene-based, heterocyclic polymer, ionic polymer, ladder, network polymer and the like can be used.

【0039】カーボン系導電フィラーとして、カーボン
粉末、黒鉛、炭素繊維、カーボンフレーク、鱗片状カー
ボン等があり、その原料、製造法からアセチレンブラッ
ク、オイルファーネスブラック、サーマルブラック、チ
ャンネルブラック等のカーボンブラック類、PAN系、
ピッチ系のカーボンファイバー類、並びに天然グラファ
イト、人工グラファイト等のグラファイト類が挙げられ
る。
Examples of the carbon-based conductive filler include carbon powder, graphite, carbon fiber, carbon flakes, and scale-like carbon. Carbon blacks such as acetylene black, oil furnace black, thermal black, and channel black are selected according to the raw material and the manufacturing method. , PAN system,
Pitch-based carbon fibers and graphites such as natural graphite and artificial graphite can be used.

【0040】前記カーボン系導電フィラーは、チタネー
ト系、アルミ系、シラン系などの表面処理剤で表面処理
を施されていても良い。また、カーボン系導電フィラー
表面に存在するキノン基、フェノール性水酸基などと反
応する反応性ポリマーもしくは反応性モノマーでグラフ
ト化され、表面処理を施され、光硬化性が改善されたも
のを使用してもよい。また、熱硬化性樹脂組成物を製造
する際の作業性を向上させるために、造粒されたものを
用いてもよい。
The carbon type conductive filler may be surface-treated with a surface treatment agent such as titanate type, aluminum type or silane type. In addition, a quinone group present on the surface of the carbon-based conductive filler, grafted with a reactive polymer or reactive monomer that reacts with a phenolic hydroxyl group, etc., subjected to surface treatment, and using one having improved photocurability is used. Good. Further, in order to improve the workability in producing the thermosetting resin composition, a granulated product may be used.

【0041】また、前記カーボン系導電フィラーを予め
分散剤、溶剤等に分散させたものを用いても良い。分散
剤としては、カーボン系導電フィラーに親和性のある界
面活性剤、顔料誘導体、高分子化合物等を用いることが
出来る。溶媒としてはポリカルボン酸樹脂を溶解させる
ものであれば特に制限は受けないが、沸点が120℃〜
200℃の範囲にある有機溶剤が好ましい。中でも、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールモノエチルエーテル等が分散制御しやすく好適
である。
It is also possible to use the carbon type conductive filler previously dispersed in a dispersant, a solvent or the like. As the dispersant, a surfactant, a pigment derivative, a polymer compound or the like having an affinity for the carbon-based conductive filler can be used. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the polycarboxylic acid resin, but the boiling point is 120 ° C to
Organic solvents in the range of 200 ° C. are preferred. Among them, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether and the like are preferable because dispersion control is easy.

【0042】非カーボン系導電フィラーとして、金属
粉、金属フレーク、金属リボンの金属種の具体例は銀、
ニッケル、銅、亜鉛、アルミニウム、ステンレス、鉄、
黄銅、クロム、錫などが例示できる。金属繊維の金属種
の具体例としては鉄、銅、ステンレス、アルミニウム、
黄銅などが例示できる。かかる金属粉、金属フレーク、
金属リボン、金属繊維はチタネート系、アルミ系、シラ
ン系などの表面処理剤で表面処理を施されていても良
い。金属酸化物の具体例としてはSnO2 (アンチモン
ドープ)、In23 (アンチモンドープ)、ZnO
(アルミニウムドープ)などが例示でき、これらはチタ
ネート系、アルミ系、シラン系などの表面処理剤で表面
処理を施されていても良い。
As the non-carbon type conductive filler, specific examples of metal species such as metal powder, metal flakes and metal ribbons are silver,
Nickel, copper, zinc, aluminum, stainless steel, iron,
Examples include brass, chrome and tin. Specific examples of the metal species of the metal fiber include iron, copper, stainless steel, aluminum,
A brass etc. can be illustrated. Such metal powder, metal flakes,
The metal ribbon and the metal fiber may be surface-treated with a surface-treating agent such as titanate-based, aluminum-based or silane-based. Specific examples of the metal oxide include SnO 2 (antimony-doped), In 2 O 3 (antimony-doped), ZnO.
(Aluminum dope) and the like can be exemplified, and these may be surface-treated with a surface treatment agent such as titanate-based, aluminum-based or silane-based.

【0043】導電性物質で被覆された無機フィラーにお
ける導電性物質の具体例としてはアルミニウム、ニッケ
ル、銀、カーボン、SnO2 (アンチモンドープ)、I
23 (アンチモンドープ)などが例示できる。また
被覆される無機フィラーとしては、マイカ、ガラスビー
ズ、ガラス繊維、炭素繊維、チタン酸カリウィスカー、
硫酸バリウム、酸化亜鉛、酸化チタン、ホウ酸アルミウ
ィスカー、酸化亜鉛系ウィスカー、酸化チタン酸系ウィ
スカー、炭化珪素ウィスカーなどが例示できる。被覆方
法としては真空蒸着法、スパッタリング法、無電解メッ
キ法、焼き付け法などが挙げられる。またこれらはチタ
ネート系、アルミ系、シラン系などの表面処理剤で表面
処理を施されていても良い。
Specific examples of the conductive substance in the inorganic filler coated with the conductive substance include aluminum, nickel, silver, carbon, SnO 2 (antimony-doped), and I.
Examples thereof include n 2 O 3 (antimony-doped). Further, as the inorganic filler to be coated, mica, glass beads, glass fiber, carbon fiber, potassium whisker titanate,
Examples thereof include barium sulfate, zinc oxide, titanium oxide, aluminum borate whiskers, zinc oxide type whiskers, titanic acid type whiskers, and silicon carbide whiskers. Examples of the coating method include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an electroless plating method and a baking method. Further, these may be surface-treated with a surface treatment agent such as titanate-based, aluminum-based or silane-based.

【0044】上記の導電性フィラー(D)の内、無機化
合物導電性フィラー(D)が好ましく、さらに好ましい
のは、カーボン系導電フィラーであり、その中でもカー
ボンブラックが最も好ましい。
Among the above conductive fillers (D), the inorganic compound conductive filler (D) is preferable, and more preferable is the carbon type conductive filler, and among them, carbon black is the most preferable.

【0045】上記導電性フィラー(D)は、pHが7.0
を上回るものが好ましく、より好ましくはpH 7.1〜10.
0である。pH7.0以下では熱硬化性樹脂組成物の保存
安定性が悪くなる場合が多く、好ましくない。また2種
以上の導電性フィラー(D)を併用して用いても良い。
上記のpH値は導電性フィラー(D)と蒸留水の混合液
をガラス電極メーターで測定した値であり、測定法の詳
細は実施例に記したとおりである。
The conductive filler (D) has a pH of 7.0.
It is preferably higher than pH 7.1, more preferably pH 7.1 to 10.
It is 0. When the pH is 7.0 or less, the storage stability of the thermosetting resin composition often deteriorates, which is not preferable. Further, two or more kinds of conductive fillers (D) may be used in combination.
The above pH value is a value measured by a glass electrode meter of a mixed liquid of the conductive filler (D) and distilled water, and the details of the measuring method are as described in the examples.

【0046】さらに、組成物に対する導電性フィラー
(D)の分散性を向上させるため、導電性フィラー
(D)には種々の表面処理剤が施されていてもよく、脂
肪酸と金属からなる公知慣用の脂肪酸金属塩、シラン
系、アジドシラン系、チタネート系等の公知慣用のカッ
プリング剤、オキシ・エチレンドデシル・アミン等の公
知慣用の界面活性剤等を用いることが出来る。
Further, in order to improve the dispersibility of the electrically conductive filler (D) in the composition, the electrically conductive filler (D) may be subjected to various surface treatment agents. Known fatty acid metal salts, silane-based, azidosilane-based, and titanate-based known coupling agents, and oxy-ethylenedodecyl-amine and other known surfactants can be used.

【0047】本発明の導電性フィラー(D)の粒径は用
いる導電性フィラー(D)の種類や形状により異なり一
概に規定できないが、例えば粒子状のカーボンブラック
の場合、一次粒子が100nm以下のものが好ましく、さら
に好ましいのは、50nm以下である。
The particle size of the conductive filler (D) of the present invention varies depending on the type and shape of the conductive filler (D) used and cannot be specified unconditionally. For example, in the case of particulate carbon black, the primary particles have a particle size of 100 nm or less. Those having a thickness of 50 nm or less are more preferable.

【0048】本発明で用いられる導電性フィラー(D)
の好ましい含有量は、用いる導電性フィラーの種類によ
り異なるため、一概に規定はできないが、本発明の硬化
性樹脂組成物を硬化(重合)して得られた硬化物、ソル
ダーレジスト、保護膜等の表面抵抗が103〜1011Ω
となるように設定することが望ましい。通常、導電性と
流動性、保存安定性、光感度などとのバランスの点か
ら、組成物中0.05〜80質量%、好ましくは0.1
〜60質量%の範囲とすることが好ましい。特に導電性
フィラー(D)がカーボン系導電性フィラーである場
合、その含有量は0.1〜10質量%の範囲が好まし
い。
Conductive filler (D) used in the present invention
The preferred content of is different depending on the type of the conductive filler used, so it cannot be unconditionally specified, but a cured product obtained by curing (polymerizing) the curable resin composition of the present invention, a solder resist, a protective film, etc. Surface resistance of 10 3 to 10 11 Ω
It is desirable to set so that Usually, from the viewpoint of the balance of conductivity and fluidity, storage stability, photosensitivity, etc., 0.05 to 80% by mass, preferably 0.1% in the composition.
It is preferably in the range of -60% by mass. Particularly when the conductive filler (D) is a carbon-based conductive filler, its content is preferably in the range of 0.1 to 10 mass%.

【0049】本発明で用いられる導電性フィラー(D)
の体積固有抵抗値は1.0×10-1Ω・cm以下のものが
好ましく、より好ましくは1.0×10-3Ω・cm以下で
ある。
Conductive filler (D) used in the present invention
The volume resistivity value of is preferably 1.0 × 10 −1 Ω · cm or less, more preferably 1.0 × 10 −3 Ω · cm or less.

【0050】本発明に用いられる光重合開始剤(E)と
しては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フ
ェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、
4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等の
ベンゾフェノン類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブ
チルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベン
ゾインアルキルエーテル類、4―フェノキシジクロロア
セトフェノン、4−t−ブチル−ジクロロアセトフェノ
ン、4−t−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエ
トキシアセトフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルア
ミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−
1等のアセトフェノン類、チオキサンテン、2-クロルチ
オキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2,4−ジ
メチルチオキサンテン等のチオキサンテン類、エチルア
ントラキノン、ブチルアントラキノン等のアルキルアン
トラキノン類、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキ
サイド類、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエ
タン−1−オンなどのベンジルジメチルケタール類、2
−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−
ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−
ブタノン−1などのα−アミノケトン類、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、
1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]−2
−ヒドロキシ−2−メチル−プロパン−1−オンなどの
α−ヒドロキシケトン類、9,10−フェナンスレンキ
ノン等を挙げることができる。これらは単独、あるいは
2種以上の混合物として用いることができる。
As the photopolymerization initiator (E) used in the present invention, benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, hydroxybenzophenone,
Benzophenones such as 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, benzoin, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin butyl ether, benzoin isobutyl ether and other benzoin alkyl ethers, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyl- Dichloroacetophenone, 4-t-butyl-trichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-
1, acetophenones, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2-methylthioxanthene, thioxanthenes such as 2,4-dimethylthioxanthene, alkylanthraquinones such as ethylanthraquinone and butylanthraquinone, 2,4,6- Acylphosphine oxides such as trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzyldimethylketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, 2
-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-
Morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-
Dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl)-
Α-aminoketones such as butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one,
1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2
Examples include α-hydroxyketones such as -hydroxy-2-methyl-propan-1-one and 9,10-phenanthrenequinone. These can be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0051】これらの光重合開始剤(E)のうちでは、
ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、アシルホスフィ
ンオキサイド類、α−アミノケトン類、α−ヒドロキシ
ケトン類が好ましく、特に、4,4’−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチル
アミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−
1、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキサイド、2−メチル−1−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オ
ン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モ
ルフォリノフェニル)−ブタノン−1,1−ヒドロキシ
−シクロヘキシル−フェニルケトンが、波長吸収効率が
高く、高活性であるため好ましい。
Among these photopolymerization initiators (E),
Benzophenones, acetophenones, acylphosphine oxides, α-aminoketones and α-hydroxyketones are preferable, and particularly 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 -Morpholinophenyl) -butanone-
1,2,4,6-Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl ketone is preferable because it has high wavelength absorption efficiency and high activity.

【0052】これらの光重合開始剤(E)の配合量は、
本発明の硬化性樹脂組成物中の光硬化成分の合計100
質量%中0.1〜20質量%が好ましく、0.2〜10
質量%がより好ましい。光重合開始剤(E)の配合量が
0.1質量%未満であると、感光性組成物の硬化が不十
分となる場合がある。なお、ここで言う光硬化成分とは
一分子中に2個以上のカルボキシル基を有するポリカル
ボン酸樹脂(A)、硬化成分(B)、希釈剤(F)およ
び必要に応じて添加されるその他の成分のうち、(メ
タ)アクリレート基等の光重合性の官能基を有している
成分を指す。また、光重合開始剤を使用し、紫外線で重
合硬化させる場合には、重合速度を向上させるために必
要に応じて光増感剤を併用することができる。そのよう
な目的で使用する増感剤としては、ピレン、ペリレン、
2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジメチルチ
オキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、フェ
ノチアジンなどが挙げられる。増感剤を併用する場合の
使用量は、光重合開始剤100質量部に対して、0.1
〜100質量部の範囲が好ましい。
The blending amount of these photopolymerization initiators (E) is
A total of 100 photocurable components in the curable resin composition of the present invention.
0.1-20 mass% is preferable in mass%, 0.2-10
Mass% is more preferable. When the blending amount of the photopolymerization initiator (E) is less than 0.1% by mass, curing of the photosensitive composition may be insufficient. The photo-curing component referred to here is a polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule, a curing component (B), a diluent (F), and others added as necessary. Among these components, it means a component having a photopolymerizable functional group such as a (meth) acrylate group. Further, in the case of using a photopolymerization initiator and polymerizing and curing it with ultraviolet rays, a photosensitizer can be used in combination as necessary in order to improve the polymerization rate. As the sensitizer used for such a purpose, pyrene, perylene,
2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, phenothiazine and the like can be mentioned. When used in combination with the sensitizer, the amount used is 0.1 with respect to 100 parts by mass of the photopolymerization initiator.
The range of 100 to 100 parts by mass is preferable.

【0053】希釈剤(F)は粘度を下げることにより本
発明の硬化性樹脂組成物の塗布性を向上させるために用
いるものである。その具体例としては、有機溶剤が挙げ
られる。
The diluent (F) is used for improving the coating property of the curable resin composition of the present invention by lowering the viscosity. Specific examples thereof include organic solvents.

【0054】有機溶剤の代表的なものとしては、エチル
メチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、トルエ
ン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水
素類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルカ
ルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエ
チルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグ
ルコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ブチル
セロソルブアセテート、カルビトールアセテート等のエ
ステル類、エタノール、プロパノール、エチレングリコ
ール、プロピレングリコールなどのアルコール類、オク
タン、デカンなどの脂肪族炭化水素、石油エーテル、石
油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油
系溶剤等を挙げることができる。これらの有機溶媒はプ
リント基板などへの塗工後、蒸発除去される。希釈剤
(F)としては有機溶剤以外に反応性希釈剤も使用する
ことができる。この反応性希釈剤とはエポキシ基やカル
ボキシル基と反応する基官能基や光重合性の官能基を有
する低分子モノマーを意味する。反応性希釈剤は硬化性
樹脂組成物の硬化成分として硬化物中に残ることにな
る。反応性希釈剤は硬化成分(B)の内、特に粘度が低
いものとも言える。
Typical organic solvents include ketones such as ethyl methyl ketone and cyclohexanone, aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol and butyl carbitol. , Propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether and other glycol ethers, ethyl acetate, butyl acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate and other esters, ethanol , Alcohols such as propanol, ethylene glycol and propylene glycol, aliphatic hydrocarbons such as octane and decane, petroleum ether, petroleum naphtha, hydrogenated stone Naphtha, petroleum solvents such as solvent naphtha, and the like. These organic solvents are removed by evaporation after coating on a printed circuit board or the like. As the diluent (F), a reactive diluent can be used in addition to the organic solvent. The reactive diluent means a low molecular weight monomer having a functional group capable of reacting with an epoxy group or a carboxyl group or a photopolymerizable functional group. The reactive diluent remains in the cured product as a curing component of the curable resin composition. It can be said that the reactive diluent has a particularly low viscosity among the curing components (B).

【0055】前記の希釈剤(F)は、単独または2種以
上の混合物として用いられ、その使用量は本発明の硬化
性樹脂組成物の粘度が500〜500,000mPa・
sになるように設定する量が好ましく、さらに好ましく
は1,000〜500,000mPa・sとなる量であ
る。本発明の硬化性樹脂組成物中の希釈剤の割合は、5
〜80質量%が好ましく、特に好ましくは10〜70質
量%である。なお、硬化性樹脂組成物の粘度は、JIS
K5400に従い測定した値である。温度の表示がな
い場合は25℃での値である。
The diluent (F) is used alone or as a mixture of two or more kinds, and the amount of the diluent (F) used is such that the viscosity of the curable resin composition of the present invention is 500 to 500,000 mPa.
The amount set to be s is preferable, and more preferably 1,000 to 500,000 mPa · s. The proportion of the diluent in the curable resin composition of the present invention is 5
-80 mass% is preferable, and 10-70 mass% is especially preferable. The viscosity of the curable resin composition is JIS
It is a value measured according to K5400. When there is no indication of temperature, it is the value at 25 ° C.

【0056】本発明の硬化性樹脂組成物は、更に、耐熱
性、硬度、チクソトロピー性、粘性などの特性を向上す
る目的で必要に応じて公知慣用の無機充填剤、有機充填
剤、ワックスや界面活性剤等を使用することができる。
無機充填剤の具体例としては、硫酸バリウム、チタン酸
バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸化ケイ素、結晶性シ
リカ、無定形シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、水酸化アルミ
ニウム、雲母粉等の公知慣用の無機充填剤が使用でき
る。有機充填剤の具体例としては、シリコーン樹脂、シ
リコンゴム、弗素樹脂等が挙げられる。ワックスの具体
例としては、ポリアミドワックス、酸化ポリエチレンワ
ックス等が挙げられる。界面活性剤の具体例としては、
シリコンオイル、高級脂肪酸エステル、アミド等が挙げ
られる。これらの流動性調整剤は、1種または2種以上
を組み合わせて用いることができる。また、これらのう
ちでは、無機充填剤を使用すると、感光性組成物の流動
性だけではなく、耐熱性、硬度などの特性も改良できる
ため好ましい。
The curable resin composition of the present invention further comprises known and commonly used inorganic fillers, organic fillers, waxes and interfaces as necessary for the purpose of improving properties such as heat resistance, hardness, thixotropy and viscosity. Activators and the like can be used.
Specific examples of the inorganic filler, barium sulfate, barium titanate, silicon oxide powder, finely powdered silicon oxide, crystalline silica, amorphous silica, talc, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum oxide, aluminum hydroxide, Known and commonly used inorganic fillers such as mica powder can be used. Specific examples of the organic filler include silicone resin, silicone rubber, and fluorine resin. Specific examples of the wax include polyamide wax and oxidized polyethylene wax. Specific examples of the surfactant include
Silicon oil, higher fatty acid ester, amide and the like can be mentioned. These fluidity modifiers may be used alone or in combination of two or more. Of these, the use of an inorganic filler is preferable because not only the fluidity of the photosensitive composition but also the heat resistance and hardness can be improved.

【0057】更に、必要に応じて、ハイドロキノン、ハ
イドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコ
ール、ピロガロール、フェノチアジン等の公知慣用の重
合禁止剤、シリカ、アスベスト、オルベン、ベントン、
モンモリロナイト等の公知慣用の増粘剤、シリコーン
系、フッ素系、アクリル系、高分子系等の消泡剤および
/または、レベリング剤、イミダゾール系、チアゾール
系、トリアゾール系、シランカップリング剤等の密着性
付与剤のような公知慣用の添加剤類を用いることができ
る。また、他の添加剤として、例えば保存安定性のため
に紫外線防止剤、可塑剤など、本発明の主旨を損ねない
範囲で添加することができる。
Further, if necessary, known conventional polymerization inhibitors such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, phenothiazine, silica, asbestos, orben, benton,
Adhesion of well-known and commonly used thickeners such as montmorillonite, silicone-based, fluorine-based, acrylic-based, polymer-based defoaming agents and / or leveling agents, imidazole-based, thiazole-based, triazole-based, silane coupling agents, etc. Known and conventional additives such as a sex imparting agent can be used. Further, as other additives, for example, an ultraviolet inhibitor and a plasticizer for storage stability can be added within a range not impairing the gist of the present invention.

【0058】また、アクリル酸エステル類などのエチレ
ン性不飽和化合物の共重合体類や、多価アルコール類と
多塩基酸化合物から合成されるポリエステル樹脂類等の
公知慣用のバインダー樹脂およびポリエステル(メタ)
アクリレート、ポリウレタン(メタ)アクリレート、エ
ポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性モノマーやオ
リゴマー類も組成物としての諸特性に影響を及ぼさない
範囲で用いることができる。これらは前記の反応性希釈
剤として用いられることもある。
Further, known binder resins and polyesters (meth), such as copolymers of ethylenically unsaturated compounds such as acrylic acid esters, polyester resins synthesized from polyhydric alcohols and polybasic acid compounds, etc. )
Photopolymerizable monomers and oligomers such as acrylates, polyurethane (meth) acrylates, and epoxy (meth) acrylates can also be used as long as they do not affect the properties of the composition. These may be used as the above-mentioned reactive diluent.

【0059】本発明の硬化性樹脂組成物の引火性を低下
させるために水を添加することもできる。水を添加する
場合には、成分(A)のカルボキシル基をトリメチルア
ミン、トリエチルアミン等のアミン類、N,N−ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチ
ルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジ
メチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリ
ン、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−メ
チロールアクリルアミド等の3級アミノ基を有する(メ
タ)アクリレート化合物で造塩することにより、成分
(A)を水に溶解するようにすることが好ましい。
Water may be added to reduce the flammability of the curable resin composition of the present invention. When water is added, the carboxyl group of the component (A) is converted to amines such as trimethylamine and triethylamine, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N, By salting with a (meth) acrylate compound having a tertiary amino group such as N-dimethyl (meth) acrylamide, acryloylmorpholine, N-isopropyl (meth) acrylamide, N-methylolacrylamide, the component (A) is dissolved in water. It is preferable that it is dissolved.

【0060】本発明の樹脂組成物を製造するに当たって
は、ポリカルボン酸樹脂(A)と導電性フィラー(D)
を混合した樹脂組成物(I)を調製し、次にこの樹脂組
成物(I)とポリカルボン酸樹脂、硬化性成分、硬化
剤、希釈剤、光開始剤やその他の添加剤との混合を行う
ことにより、安定した表面抵抗測定値が得られる硬化性
樹脂組成物が得られる。この方法は導電性フィラー
(D)を10質量%以下添加する際により有効であり、
2質量%以下添加する際に特に有効である。導電性フィ
ラー(D)を10質量%以下添加する際に、樹脂組成物
(I)を調製せずにポリカルボン酸樹脂(A)、導電性
フィラー(D)、硬化樹脂(B)、硬化剤(C)、光重
合開始剤(E)、希釈剤(F)やその他の添加剤の混合
を行うと、導電性フィラー(D)の分散が悪くなり、安
定した表面抵抗値の樹脂組成物は得られない。樹脂組成
物(I)のポリカルボン酸樹脂(A)と導電性フィラー
(D)の混合比率はポリカルボン酸樹脂(A)50〜9
0質量%、導電性フィラー(D)50〜10質量%であ
り、好ましくはポリカルボン酸樹脂(A)80〜90質
量%、導電性フィラー(D)20〜10質量%である。
In producing the resin composition of the present invention, the polycarboxylic acid resin (A) and the conductive filler (D) are used.
To prepare a resin composition (I), and then to mix the resin composition (I) with a polycarboxylic acid resin, a curable component, a curing agent, a diluent, a photoinitiator and other additives. By performing it, a curable resin composition that can obtain a stable surface resistance measurement value can be obtained. This method is more effective when the conductive filler (D) is added in an amount of 10% by mass or less,
It is particularly effective when added in an amount of 2% by mass or less. When 10% by mass or less of the conductive filler (D) is added, the polycarboxylic acid resin (A), the conductive filler (D), the curable resin (B), and the curing agent are prepared without preparing the resin composition (I). When (C), the photopolymerization initiator (E), the diluent (F) and other additives are mixed, the dispersion of the conductive filler (D) becomes poor and a resin composition having a stable surface resistance value is obtained. I can't get it. The mixing ratio of the polycarboxylic acid resin (A) and the conductive filler (D) of the resin composition (I) is 50 to 9 of the polycarboxylic acid resin (A).
0% by mass, 50 to 10% by mass of the conductive filler (D), preferably 80 to 90% by mass of the polycarboxylic acid resin (A) and 20 to 10% by mass of the conductive filler (D).

【0061】本発明の硬化性樹脂組成物は、上記の各成
分を通常の方法で均一に混合することによって得られ
る。混合の方法には特に制限はなく、一部の成分を混合
してから残りの成分を混合してもよく、または、すべて
の成分を一括で混合してもよいが、前述のごとくポリカ
ルボン酸樹脂(A)と導電性フィラー(D)を先に混合
した後、残りの成分を混合することがより望ましい。
The curable resin composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing the above-mentioned components by a conventional method. The mixing method is not particularly limited, and some of the components may be mixed and then the remaining components may be mixed, or all the components may be mixed at once. It is more desirable to mix the resin (A) and the conductive filler (D) first, and then mix the remaining components.

【0062】混合装置としては、たとえばリゾルバー、
ロールミル、ビーズミルなどの公知の混練機を用いるこ
とができる。
As the mixing device, for example, a resolver,
A known kneader such as a roll mill or a bead mill can be used.

【0063】また、本発明の硬化性樹脂組成物は、特に
レジストインキに有用であるが、塗料、コーティング
剤、接着剤等としても使用することができる。本発明の
組成物をレジストインキとして用いる場合、塗布可能な
基材としては、ポリイミドフィルム、フェノール樹脂積
層板、ガラスエポキシ樹脂被膜板があげられる。本発明
の硬化物は柔軟性に優れるため、特にポリイミドフィル
ム等を基材とするフレキシブル基板に適している。
The curable resin composition of the present invention is particularly useful as a resist ink, but can also be used as a paint, a coating agent, an adhesive or the like. When the composition of the present invention is used as a resist ink, examples of substrates that can be applied include polyimide films, phenol resin laminated plates, and glass epoxy resin coated plates. Since the cured product of the present invention has excellent flexibility, it is particularly suitable for a flexible substrate having a polyimide film or the like as a base material.

【0064】本発明のレジストインキ組成物は、例え
ば、次のようにして硬化し、硬化物を得る。即ち、フレ
キシブルプリント配線板に、スクリーン印刷法、スプレ
ー法、ロールコート法、静電塗装法、カーテンコート法
等の方法により5〜160μmの膜厚で本発明の硬化性
樹脂組成物を塗布し、塗膜を100〜200℃で、0.
1〜2時間、乾燥・硬化反応させ、硬化被膜を得る方法
が挙げられる。更に諸物性の向上のために、紫外線の照
射および/または加熱(例えば、100〜200?で、
0.5〜1.0時間)によって十分な硬化を行っても良
い。
The resist ink composition of the present invention is cured, for example, as follows to obtain a cured product. That is, the curable resin composition of the present invention is applied to a flexible printed wiring board with a film thickness of 5 to 160 μm by a method such as a screen printing method, a spray method, a roll coating method, an electrostatic coating method, a curtain coating method, The coating film at 100 to 200 ° C.
A method of obtaining a cured film by performing a drying / curing reaction for 1 to 2 hours can be mentioned. Further, in order to improve various physical properties, irradiation with ultraviolet rays and / or heating (for example, 100 to 200?
Sufficient curing may be performed for 0.5 to 1.0 hour).

【0065】また光感光性レジストとして使用する場合
には、光重合開始剤を含む、本発明の硬化性樹脂組成物
やレジストインクを回路が形成された基板上に10μm
〜100μmの厚みで塗布した後、60℃〜100℃の
温度範囲で、5〜30分間程度で熱処理して乾燥し、所
望の露光パターンが施されたネガマスクを介して露光
し、未露光部分を現像液で除去して現像し、100℃〜
180℃の温度範囲で、10〜40分間程度熱処理して
硬化させる方法が挙げられる。この組成物は、硬化物と
した場合の可撓性にとりわけ優れ、柔軟性に優れるた
め、FPC基板の絶縁保護被膜に用いるのに特に適して
いて、カールが少なく、取扱い性にも優れたFPC基板
とすることができる。更に、多層プリント配線基板の層
間の絶縁樹脂層としても使用してもよい。
When used as a photo-sensitive resist, the curable resin composition of the present invention containing a photo-polymerization initiator and the resist ink are applied to a substrate having a circuit formed thereon in an amount of 10 μm.
After being applied to a thickness of -100 μm, it is heat-treated in a temperature range of 60 ° C to 100 ° C for about 5 to 30 minutes and dried, and exposed through a negative mask having a desired exposure pattern to expose an unexposed portion. Remove with a developing solution and develop, 100 ℃ ~
A method of heat-treating at a temperature range of 180 ° C. for about 10 to 40 minutes and curing is exemplified. This composition is particularly suitable for use as an insulating protective film of an FPC substrate because it has excellent flexibility when it is used as a cured product, and thus it has little curl and is easy to handle. It can be a substrate. Further, it may be used as an insulating resin layer between the layers of the multilayer printed wiring board.

【0066】露光に用いられる活性光は、公知の活性光
源、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノ
ンアーク等から発生する活性光が用いられる。感光層に
含まれる光重合開始剤(E)の感受性は、通常、紫外線
領域において最大であるので、その場合の活性光源は紫
外線を有効に放射するものが好ましい。もちろん、光重
合開始剤(E)が可視光線に感受するもの、例えば、
9,10−フェナンスレンキノン等である場合には、活
性光としては可視光が用いられ、その光源としては前記
活性光源以外に写真用フラッド電球、太陽ランプなども
用いられる。また、現像液には、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸
ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類
などのアルカリ水溶液を使用することができる。
As the active light used for the exposure, active light generated from a known active light source such as carbon arc, mercury vapor arc, xenon arc or the like is used. Since the sensitivity of the photopolymerization initiator (E) contained in the photosensitive layer is usually maximum in the ultraviolet region, the active light source in that case is preferably one which effectively emits ultraviolet light. Of course, those in which the photopolymerization initiator (E) is sensitive to visible light, for example,
In the case of 9,10-phenanthrenequinone or the like, visible light is used as the active light, and a photographic flood light bulb, a sun lamp, or the like is used as the light source in addition to the active light source. As the developing solution, an alkaline aqueous solution of potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines or the like can be used.

【0067】本発明の硬化性樹脂組成物を硬化(重合)
して得られた硬化物、ソルダーレジスト、保護膜等はそ
の表面抵抗が103〜1011Ωであることが好ましく、
103〜1010Ωであることがより好ましく、104〜1
10Ωであることが更に好ましい。表面抵抗が103Ω
未満ではプリント配線基板の回路間が導通してしまう恐
れがあり、逆に1011Ωを越えると帯電防止性能が充分
ではなくなる。
Curing (polymerization) of the curable resin composition of the present invention
The surface resistance of the cured product, solder resist, protective film, etc. obtained by the above is preferably 10 3 to 10 11 Ω,
More preferably 10 3 to 10 10 Ω, and 10 4 to 1
More preferably, it is 0 10 Ω. Surface resistance is 10 3 Ω
If it is less than 10 11 Ω, there is a risk of electrical continuity between the circuits of the printed wiring board. On the other hand, if it exceeds 10 11 Ω, the antistatic performance becomes insufficient.

【0068】[0068]

【実施例】以下、本発明の実施例により更に具体的に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0069】[製造例1] 希釈剤(F)を含有するエ
ポキシアクリレート樹脂(以下、「EAR」とする)の
製造例 nの平均値が3.3、エポキシ当量:650、軟化点:
81.1℃、溶融粘度(150℃):12.5mPa・
sである式(1)で表されるビスフェノールA型エポキ
シ樹脂371gを、エピクロルヒドリン925gとジメ
チルスルホキシド462.5gを溶解させた後、撹拌下
70℃で98.5% NaOH 52.8gを100分か
けて添加した。添加後さらに70℃で3時間反応を行な
った。次いで過剰の未反応エピクロルヒドリンおよびジ
メチルスルホキシドの大半を減圧下で留去し、副生塩と
ジメチルスルホキシドを含む反応生成物をメチルイソブ
チルケトン750gに溶解させ、さらに30質量% N
aOH水溶液10gを加え70℃で1時間反応させた。
反応終了後、水200gで2回水洗を行った。油水分離
後、油層よりメチルイソブチルケトンを蒸留回収して、
エポキシ当量287、加水分解性塩素含有量0.07
%、軟化点64.2℃、溶融粘度7.1mPa・s(1
50℃)のエポキシ樹脂(a−1)340gを得た。得
られたエポキシ樹脂(a−1)2870g(10当
量)、アクリル酸720g(10当量)、メチルハイド
ロキノン2.8g、カルビトールアセテート1943.
5gを仕込み、90℃に加熱、撹拌し、反応混合物を溶
解した。次いで、反応液を60℃に冷却し、トリフェニ
ルフォスフィン16.6gを仕込み、100℃に加熱
し、約32時間反応し、酸価が1.0mgKOH/gの
反応物を得た。次に、これに無水コハク酸783g
(7.83モル)、カルビトールアセテート421.6
gを仕込み、95℃に加熱し、約6時間反応し、冷却
し、固形分の酸価が100mgKOH/gであり、固形
分の濃度が65%となるようにカルビトールアセテート
で希釈されたエポキシアクリレート樹脂EPAを得た。
得られたEARの粘度は250mPa・s(25℃)で
あった。
Production Example 1 An average value of Production Example n of an epoxy acrylate resin (hereinafter referred to as “EAR”) containing a diluent (F) is 3.3, an epoxy equivalent is 650, and a softening point is:
81.1 ° C, melt viscosity (150 ° C): 12.5 mPa
371 g of the bisphenol A type epoxy resin represented by the formula (1), which is s, is dissolved in 925 g of epichlorohydrin and 462.5 g of dimethyl sulfoxide, and then 52.8 g of 98.5% NaOH is added over 100 minutes at 70 ° C. under stirring. Added. After the addition, the reaction was further carried out at 70 ° C. for 3 hours. Then, most of the excess unreacted epichlorohydrin and dimethyl sulfoxide were distilled off under reduced pressure, the reaction product containing the by-product salt and dimethyl sulfoxide was dissolved in 750 g of methyl isobutyl ketone, and further 30% by mass N 2
10 g of an aOH aqueous solution was added and the reaction was carried out at 70 ° C. for 1 hour.
After the reaction was completed, the product was washed twice with 200 g of water. After separation of oil and water, methyl isobutyl ketone was distilled and recovered from the oil layer,
Epoxy equivalent 287, hydrolyzable chlorine content 0.07
%, Softening point 64.2 ° C., melt viscosity 7.1 mPa · s (1
340 g of epoxy resin (a-1) having a temperature of 50 ° C. was obtained. 2870 g (10 equivalents) of the obtained epoxy resin (a-1), 720 g (10 equivalents) of acrylic acid, 2.8 g of methylhydroquinone, carbitol acetate 1943.
5 g was charged, the mixture was heated to 90 ° C. and stirred to dissolve the reaction mixture. Then, the reaction solution was cooled to 60 ° C., 16.6 g of triphenylphosphine was charged, the mixture was heated to 100 ° C. and reacted for about 32 hours to obtain a reaction product having an acid value of 1.0 mgKOH / g. Next, add 783 g of succinic anhydride to this.
(7.83 mol), carbitol acetate 421.6
g, heated to 95 ° C., reacted for about 6 hours, cooled, an epoxy having a solid content acid value of 100 mgKOH / g, and a solid content concentration of 65% diluted with carbitol acetate. An acrylate resin EPA was obtained.
The viscosity of the obtained EAR was 250 mPa · s (25 ° C).

【化1】 [Chemical 1]

【0070】[製造例2] 希釈剤(F)を含有するウ
レタンアクリレート化合物「PUA−1」製造 攪拌装置、温度計、コンデンサーを備えた反応容器に、
ポリマーポリオールとしてポリカプロラクトンジオール
(ダイセル化学工業株式会社製、PLACCEL21
2、分子量1250)、3750g(=3mol)、カ
ルボキシル基を有するジヒドロキシル化合物としてジメ
チロールプロピオン酸、402g(=3mol)、ポリ
イソシアナートとしてイソホロンジイソシアナート15
54g(=7mol)およびヒドロキシル基を有する
(メタ)アクリレートとして2−ヒドロキシエチルアク
リレート、238g(=2.05mol)、さらにp−
メトキシフェノールおよびジ−t−ブチル−ヒドロキシ
トルエンを各々1.0gずつを投入した。攪拌しながら
60℃まで加熱して停止し、ジブチル錫ジラウレート
1.6gを添加した。反応容器内の温度が低下し始めた
ら再度加熱して、80℃で攪拌を続け、赤外線吸収スペ
クトルでイソシアナート基の吸収スペクトル(2280
cm-1)が消失したことを確認して反応を終了した。固
形分が50質量%となるようにカルビトールアセテート
を添加し、希釈剤(F)を含有する粘稠液体のウレタン
アクリレート化合物PUA−1を得た。得られたウレタ
ンアクリレート(カルビトールアセテートは除く)の重
量平均分子量は25,000(平均分子量は、ゲル担体
液体クロマトグラフィー(GPC昭和電工製GPC−
1)を用い、ポリスチレンに換算した値で求めた。)、
固形分の酸価は40mgKOH/gであった。
Production Example 2 Production of Urethane Acrylate Compound "PUA-1" Containing Diluent (F) In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, condenser,
Polycaprolactone diol as a polymer polyol (PLACCEL21 manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.)
2, molecular weight 1250), 3750 g (= 3 mol), dimethylolpropionic acid as a dihydroxyl compound having a carboxyl group, 402 g (= 3 mol), isophorone diisocyanate as a polyisocyanate 15
54 g (= 7 mol) and 2-hydroxyethyl acrylate as a (meth) acrylate having a hydroxyl group, 238 g (= 2.05 mol), and further p-
1.0 g each of methoxyphenol and di-t-butyl-hydroxytoluene were added. The mixture was heated to 60 ° C. with stirring and stopped, and 1.6 g of dibutyltin dilaurate was added. When the temperature in the reaction vessel begins to drop, it is heated again and stirring is continued at 80 ° C., and the absorption spectrum of the isocyanate group (2280
(cm -1 ) was confirmed to have disappeared, and the reaction was terminated. Carbitol acetate was added so that the solid content was 50% by mass to obtain a viscous liquid urethane acrylate compound PUA-1 containing the diluent (F). The weight average molecular weight of the obtained urethane acrylate (excluding carbitol acetate) was 25,000 (the average molecular weight was determined by gel carrier liquid chromatography (GPC Showa Denko GPC-
The value was converted to polystyrene using 1). ),
The acid value of the solid content was 40 mgKOH / g.

【0071】[製造例3] 希釈剤(F)を含有するウ
レタンアクリレート化合物の「PUA−2」製造 ポリマーポリオールとしてポリテトラメチレングリコー
ル(保土谷化学工業社製PTG−850SN、分子量8
50)850g(=1mol)、カルボキシル基を有す
るジヒドロキシル化合物としてジメチロールプロピオン
酸938g(=7mol)、ポリイソシアナートとして
イソホロンジイソシアナート1998g(=9mol)
を投入した。攪拌しながら60℃まで加熱して停止し、
ジブチル錫ジラウレート1.4gを添加した。反応容器
内の温度が低下し始めたら再度加熱して80℃にし、7
5〜85℃に保ちながら攪拌を続け、残存NCOの濃度
が理論値になったところで反応を停止させウレタンオリ
ゴマーを合成した。さらにp−メトキシフェノールおよ
びジ−t−ブチル−ヒドロキシトルエンを各々0.9g
ずつ反応容器に導入してから、ヒドロキシル基を有する
アクリレートとして2−ヒドロキシエチルアクリレート
238g(=2.05mol)を加え、反応を再開し
た。赤外線吸収スペクトルでイソシアナート基の吸収ス
ペクトル(2280cm-1)が消失したことを確認して
反応を終了した。固形分が45質量%となるようにカルビ
トールアセテートを添加し、粘稠液体のウレタンアクリ
レート化合物PUA−2を得た。得られたウレタンアク
リレート(カルビトールアセテートは除く)の重量平均
分子量は16,000、酸価は90mgKOH/gであ
った。
Production Example 3 Production of "PUA-2" of Urethane Acrylate Compound Containing Diluent (F) Polytetramethylene glycol (PTG-850SN, Hodogaya Chemical Co., Ltd., molecular weight 8) as polymer polyol
50) 850 g (= 1 mol), dimethylolpropionic acid 938 g (= 7 mol) as a dihydroxyl compound having a carboxyl group, and isophorone diisocyanate 1998 g (= 9 mol) as a polyisocyanate.
Was thrown in. Heat to 60 ° C with stirring and stop,
1.4 g of dibutyltin dilaurate was added. When the temperature inside the reaction vessel begins to drop, reheat to 80 ° C and
Stirring was continued while maintaining the temperature at 5 to 85 ° C., and when the residual NCO concentration reached the theoretical value, the reaction was stopped to synthesize a urethane oligomer. Furthermore, 0.9 g each of p-methoxyphenol and di-t-butyl-hydroxytoluene
After introducing each into the reaction vessel, 238 g (= 2.05 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate as an acrylate having a hydroxyl group was added to restart the reaction. The reaction was terminated by confirming that the absorption spectrum of the isocyanate group (2280 cm -1 ) had disappeared in the infrared absorption spectrum. Carbitol acetate was added so that the solid content was 45% by mass to obtain a viscous liquid urethane acrylate compound PUA-2. The obtained urethane acrylate (excluding carbitol acetate) had a weight average molecular weight of 16,000 and an acid value of 90 mgKOH / g.

【0072】<硬化性樹脂組成物の製造>以下の実施
例、比較例で使用した市販品は以下のとおりである。
<Production of Curable Resin Composition> Commercial products used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

【0073】硬化成分(B) ZNA−115 :2官能(アクリル酸残基数を意味す
る)アクリル酸エステルオリゴマー KAYARAD
ZNA−115(日本化薬社製)(アクリル酸残基数) YL−6121H:テトラメチルビフェノール型エポキ
シ樹脂とビフェノール型エポキシ樹脂との混合物(油化
シェル社製) ウレタンアクリレート−1:6官能ウレタンアクリレー
トモノマー EB1290K(ダイセル化学工業社製) アクリレート−2:2官能ウレタンアクリレートオリゴ
マー UF8001(共栄社化学社製) DCPA−120:6官能アクリル酸エステルモノマー
KAYARAD DCPA−120(日本化薬社製)
Curing component (B) ZNA-115: bifunctional (meaning the number of acrylic acid residues) acrylic acid ester oligomer KAYARAD
ZNA-115 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) (number of acrylic acid residues) YL-6121H: a mixture of tetramethylbiphenol type epoxy resin and biphenol type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell Co.) Urethane acrylate-1: 6 functional urethane Acrylate monomer EB1290K (manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.) Acrylate-2: 2 functional urethane acrylate oligomer UF8001 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) DCPA-120: 6 functional acrylic ester monomer KAYARAD DCPA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

【0074】硬化剤(C) PC−1:メラミン(日産化学工業社製)Curing agent (C) PC-1: Melamine (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)

【0075】導電性フィラー(D) M880 :MONARCH 880(pH値8.
5) BP2000:BLACK PEARLS 2000
(pH値8.6) BP130 :BLACK PEARLS 130(p
H値8.0) M1000 :MONARCH 1000(pH値2.
5) 以上キャボット・スペシャリティ・ケイミカルズ・イン
ク社製
Conductive filler (D) M880: MONARCH 880 (pH value 8.
5) BP2000: BLACK PEARLS 2000
(PH value 8.6) BP130: BLACK PEARLS 130 (p
H value 8.0) M1000: MONARCH 1000 (pH value 2.
5) Made by Cabot Specialty Chemicals Inc.

【0076】光重合開始剤(E) TPO :2,4,6−トリメチルベンゾイルフェ
ニルフォスフィンオキサイド TPO(BASF社製) IRGACURE 369:(チバ・スペシャリティー
・ケミカルズ社製) EAB−F:4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾ
フェノン EAB−F(保土谷化学社製) DETX−S:2,4−ジエチルチオキサントン(日本
化薬社製)
Photopolymerization Initiator (E) TPO: 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide TPO (manufactured by BASF) IRGACURE 369: (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) EAB-F: 4,4 '-Bis (diethylamino) benzophenone EAB-F (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) DETX-S: 2,4-diethylthioxanthone (Nippon Kayaku Co., Ltd.)

【0077】希釈剤(F) カルビトールアセテート:ダイセル化学社製 #8500:カルビトールアセテートと石油ナフサの混
合物、日本ポリテック社製
Diluent (F) Carbitol Acetate: Daicel Chemical Co. # 8500: Mixture of carbitol acetate and petroleum naphtha, Japan Polytec

【0078】充填剤 硫酸バリウム:堺化学工業社製 シリカ :AEROSIL、日本アエロジル社製Filler Barium sulfate: made by Sakai Chemical Industry Silica: AEROSIL, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.

【0079】[実施例1〜5、比較例1〜2]表1記載
の希釈剤(F)を含有するポリカルボン酸樹脂(A)9
0質量%と導電性フィラー(D)10質量%を4インチ
三本ロール(井上製作所製)により混合(23℃)し、
得られた樹脂組成物とポリカルボン酸樹脂(A)、硬化
成分(B)、硬化剤(C)、導電性フィラー(D)およ
び希釈剤(F)並びに市販の充填剤(硫酸バリウム、シ
リカ)とを最終的に表1に示す配合割合(質量%)にな
るように、4インチ三本ロールにより混合(23℃)
し、硬化性樹脂組成物を調製した。ポリカルボン酸樹脂
成分として、上記製造例1で製造した樹脂「EAR」を
使用した。EARには希釈剤(F)としてカルビトール
アセテートが含まれている。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 2 Polycarboxylic acid resin (A) 9 containing the diluent (F) shown in Table 1
0% by mass and 10% by mass of the conductive filler (D) were mixed (23 ° C.) with a 4-inch triple roll (manufactured by Inoue Seisakusho),
The obtained resin composition and polycarboxylic acid resin (A), curing component (B), curing agent (C), conductive filler (D) and diluent (F), and commercially available fillers (barium sulfate, silica) And are mixed by a 4-inch three-roll mill so that the blending ratio (mass%) shown in Table 1 is finally obtained (23 ° C)
Then, a curable resin composition was prepared. As the polycarboxylic acid resin component, the resin "EAR" produced in Production Example 1 above was used. The EAR contains carbitol acetate as a diluent (F).

【0080】[実施例6〜9、比較例3〜4]表2記載
の希釈剤(F)を含有するポリカルボン酸樹脂(A)9
0質量%と導電性フィラー(D)10質量%を4インチ
三本ロールにより混合(23℃)し、得られた樹脂組成
物とポリカルボン酸樹脂(A)、硬化成分(B)、硬化
剤(C)、導電性フィラー(D)、光重合開始剤(E)
および希釈剤(F)並びに市販の充填剤とを表2に示す
最終配合割合(質量%)になるように4インチ三本ロー
ルにより混合(23℃)して、硬化性樹脂組成物を調製
した。ポリカルボン酸樹脂成分として、上記製造例で製
造した樹脂「PUA−1」、「PUA−2」、「EA
R」を使用した。これらには希釈剤(F)としてカルビ
トールアセテートが含まれている。
[Examples 6 to 9 and Comparative Examples 3 to 4] Polycarboxylic acid resin (A) 9 containing the diluent (F) shown in Table 2
0% by mass and 10% by mass of the conductive filler (D) were mixed by a 4-inch triple roll (23 ° C.), and the obtained resin composition, polycarboxylic acid resin (A), curing component (B), curing agent (C), conductive filler (D), photopolymerization initiator (E)
A diluent (F) and a commercially available filler were mixed (at 23 ° C.) with a 4-inch triple roll so that the final blending ratio (mass%) shown in Table 2 was obtained to prepare a curable resin composition. . As the polycarboxylic acid resin component, the resins "PUA-1", "PUA-2", and "EA" produced in the above production examples
R ”was used. These contain carbitol acetate as a diluent (F).

【0081】[硬化物の作製1]実施例1〜5、比較例
1,2で得られた硬化性樹脂組成物を硬化後の膜厚が2
0〜40μになるようにスクリーンプリント法にて評価
用基板(銅厚35μmの銅箔貼りガラス繊維強化エポキ
シ樹脂基板)上に塗布し、塗膜を150℃の熱風乾燥機
で30分熱硬化させた。得られた硬化膜を有する試験片
について、後述の保存安定性、表面抵抗の各物性評価を
実施した。
[Preparation 1 of Cured Product] The curable resin compositions obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 and 2 had a film thickness of 2 after curing.
It is applied on a substrate for evaluation (copper foil-bonded glass fiber reinforced epoxy resin substrate having a copper thickness of 35 μm) by a screen printing method so as to be 0 to 40 μ, and the coating film is heat cured for 30 minutes by a hot air dryer at 150 ° C. It was With respect to the test piece having the obtained cured film, the physical properties of storage stability and surface resistance described below were evaluated.

【0082】[硬化物の作製2]実施例6〜9比較例
3,4で得られた硬化性樹脂組成物を硬化後の膜厚が2
0〜40μmになるようにスクリーンプリント法にて評
価用基板(銅厚35μmの銅箔貼りガラス繊維強化エポ
キシ樹脂基板)上に塗布し、70℃の熱風乾燥機で30
分乾燥させた。塗膜が室温になるまで放冷した後メタル
ハライドランプで露光(1J/cm2、波長365nm換
算、散乱光)後、1質量%炭酸ナトリウム水溶液を用
い、室温30℃、スプレー圧0.2MPaで1分間現像
した。更に熱風乾燥機を用いて150℃で30分間熱処
理し、硬化物を得た。得られた試験片について、後述の
保存安定性、現像性、光感度、表面抵抗の各物性評価を
行った。
[Cured Product Preparation 2] Examples 6 to 9 The curable resin compositions obtained in Comparative Examples 3 and 4 had a film thickness of 2 after curing.
It is coated on a substrate for evaluation (copper foil-bonded glass fiber reinforced epoxy resin substrate having a copper thickness of 35 μm) by a screen printing method so as to have a thickness of 0 to 40 μm, and is dried with a hot air dryer at 70 ° C.
It was dried for a minute. After allowing the coating film to cool to room temperature, exposing it with a metal halide lamp (1 J / cm 2 , wavelength 365 nm conversion, scattered light), and using a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution at room temperature 30 ° C. and a spray pressure of 0.2 MPa, 1 Developed for minutes. Further, it was heat-treated at 150 ° C. for 30 minutes using a hot air dryer to obtain a cured product. The obtained test piece was evaluated for each physical property such as storage stability, developability, photosensitivity, and surface resistance described below.

【0083】(導電性フィラーのpH値)導電性フィラ
ーをpH測定用硬質三角フラスコに5g量り取り、精製
水100mlを加えて5分間煮沸した。このとき、蒸発
した減量分を煮沸処理した精製水を加え補った後、密封
して23℃まで冷却した。この上澄み液をビーカーに移
し、JIS Z8802の7記載のガラス電極を用いる
pH測定方法(23℃)により測定した。
(PH Value of Conductive Filler) 5 g of the conductive filler was weighed in a hard Erlenmeyer flask for pH measurement, 100 ml of purified water was added, and the mixture was boiled for 5 minutes. At this time, the evaporated weight loss was supplemented with boiled purified water, sealed, and cooled to 23 ° C. This supernatant was transferred to a beaker and measured by a pH measuring method (23 ° C.) using a glass electrode described in JIS Z8802-7.

【0084】(保存安定性)密閉容器で保存された樹脂
組成物を、40℃の恒温槽に入れ、樹脂組成物中にゲル
が発生した日数を目視にて測定した。
(Storage stability) The resin composition stored in a closed container was placed in a constant temperature bath at 40 ° C., and the number of days when gel was generated in the resin composition was visually measured.

【0085】(表面抵抗)評価用基板として市販の櫛型
パターン基板(IPC規格ANCI/ICP-SM-840B、ICP-B25
テスト基盤/タイプB)を用いた以外は、硬化物の作製
1,2にしたがって試験片を作製した。各試験片を23
℃、50%RHの雰囲気で24時間状態調製した後、P
ROSTAT社製抵抗測定器PRS−801にて表面抵
抗値を測定した。
(Surface resistance) A commercially available comb pattern substrate (IPC standard ANCI / ICP-SM-840B, ICP-B25) is used as a substrate for evaluation.
Test pieces were prepared in accordance with Preparations 1 and 2 of the cured product except that the test base / type B) was used. 23 for each test piece
After conditioning for 24 hours in an atmosphere of 50 ° C and 50% RH,
The surface resistance value was measured with a resistance measuring device PRS-801 manufactured by ROSTAT.

【0086】(光感度)実施例6〜9、比較例3,4で
得られた硬化性樹脂組成物を硬化後の膜厚が20〜25
μmになるようにスクリーンプリント法にて評価用基板
(銅厚35μmの銅箔貼りガラス繊維強化エポキシ樹脂
基板)上に塗布し、80℃の熱風乾燥機で30分乾燥さ
せた。塗膜が室温になるまで放冷した後、ステップタブ
レット(日立化成工業社製、21段ステップタブレッ
ト)を用い、メタルハライドランプで露光(1J/c
2、波長365nm換算、散乱光)した。その後、硬
化物の作製2と同様にして現像、熱処理を行い、基板に
残存した硬化物の段数を測定し感光性組成物の光感度を
評価した。光感度は、ステップタブレットの段数で示さ
れ、このステップタブレットの段数が高いほど、光感度
が高いことを示す。
(Photosensitivity) The film thickness after curing the curable resin compositions obtained in Examples 6 to 9 and Comparative Examples 3 and 4 was 20 to 25.
It was applied to a substrate for evaluation (copper foil-coated glass fiber reinforced epoxy resin substrate having a copper thickness of 35 μm) by a screen printing method so as to have a thickness of μm, and dried by a hot air dryer at 80 ° C. for 30 minutes. After allowing the coating film to cool to room temperature, use a step tablet (21 step tablet manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) to expose with a metal halide lamp (1 J / c).
m 2 , wavelength 365 nm conversion, scattered light). After that, development and heat treatment were performed in the same manner as in Production 2 of cured product, and the number of stages of the cured product remaining on the substrate was measured to evaluate the photosensitivity of the photosensitive composition. The light sensitivity is indicated by the number of steps of the step tablet, and the higher the number of steps of this step tablet, the higher the light sensitivity.

【0087】(現像性)実施例6〜9、比較例3,4で
得られた硬化性樹脂組成物を硬化後の膜厚が20〜25
μmになるようにスクリーンプリント法にて評価用基板
(銅厚35μm)上に塗布し、80℃の熱風乾燥機で3
0分乾燥させた。1質量%炭酸ナトリウム水溶液として
用い室温30℃、スプレー圧0.2MPaで1分間現像
した。現像性の判定は基板上の樹脂組成物等の残渣度合
いを目視にて、下記の三段階で行った。 ○:現像残渣が無いもの △:現像残渣が若干あるもの ×:現像残渣があるもの 以上の評価結果を表1および表2に示す。
(Developability) The curable resin compositions obtained in Examples 6 to 9 and Comparative Examples 3 and 4 had a film thickness of 20 to 25 after curing.
It is applied to the evaluation substrate (copper thickness 35 μm) by the screen printing method so as to have a thickness of
It was dried for 0 minutes. It was used as a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution and developed at room temperature of 30 ° C. and a spray pressure of 0.2 MPa for 1 minute. The developing property was judged by visually observing the degree of residue of the resin composition or the like on the substrate in the following three stages. ◯: No development residue Δ: Some development residue X: Development residue The above evaluation results are shown in Tables 1 and 2.

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【0088】[0088]

【発明の効果】本発明の硬化性樹脂組成物は、特定の導
電性フィラー(D)を使用した保存安定性に優れた1液
性組成物である。また、その硬化物は優れた帯電防止性
を示すだけでなく、耐メッキ性、耐薬品性、高耐熱性、
光感度、現像性、柔軟性などの特性にも優れる。従って
この硬化物が一部分、または全面が被覆されたプリント
配線基板は、静電気対策が必要な電子機器への利用に適
している。
EFFECT OF THE INVENTION The curable resin composition of the present invention is a one-part composition excellent in storage stability using a specific conductive filler (D). Further, the cured product not only exhibits excellent antistatic property, but also has resistance to plating, chemical resistance, high heat resistance,
It has excellent characteristics such as photosensitivity, developability, and flexibility. Therefore, the printed wiring board, which is partially or entirely coated with this cured product, is suitable for use in electronic devices that require measures against static electricity.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/004 501 G03F 7/004 501 7/027 512 7/027 512 515 515 H05K 3/28 H05K 3/28 D Fターム(参考) 2H025 AA06 AA10 AA19 AB15 AB20 AC01 AD01 BC13 BC66 BC74 BC81 BJ00 CA00 CB30 CC09 CC17 4J002 BC07Y CC03X CC04Y CD02X CD05X CD06X CD12X CD13X CD20W CD20X CK02W CL00X CP00X DA018 DA028 DA038 DA068 DE048 EC056 EH076 EN007 EN107 EP006 ER007 ET007 ET017 EU047 EU077 EU117 EU187 EW017 EW047 EW177 FA018 FA048 FD118 FD14Y FD147 GQ05 4J031 AA19 AA41 AA47 AA55 AA59 AB01 AC03 AD01 AE07 AF23 AF26 5E314 AA25 AA27 AA32 AA43 BB02 BB06 BB11 BB12 CC01 FF01 GG06 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G03F 7/004 501 G03F 7/004 501 7/027 512 512 7/027 512 515 515 H05K 3/28 H05K 3 / 28 DF Term (Reference) 2H025 AA06 AA10 AA19 AB15 AB20 AC01 AD01 BC13 BC66 BC74 BC81 BJ00 CA00 CB30 CC09 CC17 4J002 BC07Y CC03X CC04Y CD02X CD05X CD06X CD12X CD13X CD20W CD20X CK02W CL00X DA76 EN006 ET017 EU047 EU077 EU117 EU187 EW017 EW047 EW177 FA018 FA048 FD118 FD14Y FD147 GQ05 4J031 AA19 AA41 AA47 AA55 AA59 AB01 AC03 AD01 AE07 AF23 AF26 5E314 AA25 AA27 AA32 AA43 BB02 BB01 BB02 BB06 BB06 BB06 BB06 BB06

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一分子中に2個以上のカルボキシル基を有
するポリカルボン酸樹脂(A)、硬化成分(B)、硬化
剤(C)およびpHが7.0を上回る導電性フィラー
(D)を含むことを特徴とする硬化性樹脂組成物。
1. A polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule, a curing component (B), a curing agent (C) and a conductive filler (D) having a pH of more than 7.0. A curable resin composition comprising:
【請求項2】一分子中に2個以上のカルボキシル基を有
するポリカルボン酸樹脂(A)が一分子中に2個以上の
カルボキシル基を有する、エポキシ(メタ)アクリレー
ト樹脂またはウレタン(メタ)アクリレート樹脂である
ことを特徴とする請求項1に記載の硬化性樹脂組成物。
2. An epoxy (meth) acrylate resin or urethane (meth) acrylate in which a polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule has two or more carboxyl groups in one molecule. The curable resin composition according to claim 1, which is a resin.
【請求項3】光重合開始剤(E)を含むことを特徴とす
る請求項2に記載の硬化性樹脂組成物。
3. The curable resin composition according to claim 2, which contains a photopolymerization initiator (E).
【請求項4】希釈剤(F)を含むことを特徴とする請求
項1〜3のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成物。
4. The curable resin composition according to claim 1, further comprising a diluent (F).
【請求項5】一分子中に2個以上のカルボキシル基を有
するポリカルボン酸樹脂(A)の酸価が5〜150mg
KOH/gで、かつ重量平均分子量が1,000〜10
0,000であることを特徴とする請求項1〜4のいず
れか一つに記載の硬化性樹脂組成物。
5. The acid value of the polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule is 5 to 150 mg.
KOH / g and weight average molecular weight of 1,000 to 10
It is 10,000, The curable resin composition as described in any one of Claims 1-4.
【請求項6】硬化成分(B)が一分子中に2個以上のエ
ポキシ基を有するエポキシ樹脂であることを特徴とする
請求項1〜5のいずれか一つに記載の硬化性樹脂組成
物。
6. The curable resin composition according to claim 1, wherein the curing component (B) is an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule. .
【請求項7】導電性フィラー(D)がカーボンブラック
であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一つに
記載の硬化性樹脂組成物。
7. The curable resin composition according to claim 1, wherein the conductive filler (D) is carbon black.
【請求項8】粘度が500〜500,000mPa・s
であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一つに
記載の硬化性樹脂組成物。
8. A viscosity of 500 to 500,000 mPa · s.
The curable resin composition according to any one of claims 1 to 7, wherein
【請求項9】請求項1〜8のいずれか一つに記載の硬化
性樹脂組成物を硬化してなることを特徴とする硬化物。
9. A cured product obtained by curing the curable resin composition according to any one of claims 1 to 8.
【請求項10】表面抵抗が103〜1011Ωであること
を特徴とする請求項9に記載の硬化物。
10. The cured product according to claim 9, which has a surface resistance of 10 3 to 10 11 Ω.
【請求項11】請求項1〜9のいずれか一つに記載の硬
化性樹脂組成物を含むレジストインク。
11. A resist ink containing the curable resin composition according to claim 1.
【請求項12】請求項9または10に記載の硬化物から
なるソルダーレジスト。
12. A solder resist comprising the cured product according to claim 9 or 10.
【請求項13】請求項9または10に記載の硬化物から
なる保護膜。
13. A protective film comprising the cured product according to claim 9.
【請求項14】請求項9または10に記載の硬化物で一
部分、または全面が被覆されたプリント配線基板。
14. A printed wiring board partially or entirely coated with the cured product according to claim 9.
【請求項15】一分子中に2個以上のカルボキシル基を
有するポリカルボン酸樹脂(A)とpHが7.0を上回
る導電性フィラー(D)を混合する工程(I)と工程
(I)より得られた混合物に一分子中に2個以上のカル
ボキシル基を有するポリカルボン酸樹脂(A)、硬化成
分(B)、硬化剤(C)および必要に応じて光重合開始
剤(E)、希釈剤(F)を混合する工程(II)からな
る硬化性樹脂組成物の製造方法。
15. A step (I) and a step (I) of mixing a polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule and a conductive filler (D) having a pH of more than 7.0. The resulting mixture has a polycarboxylic acid resin (A) having two or more carboxyl groups in one molecule, a curing component (B), a curing agent (C), and optionally a photopolymerization initiator (E), A method for producing a curable resin composition, which comprises the step (II) of mixing a diluent (F).
【請求項16】pHが7.0を上回る導電性フィラー
(D)を添加することを特徴とするレジストインクの帯
電防止方法。
16. A method of preventing electrification of a resist ink, which comprises adding a conductive filler (D) having a pH of more than 7.0.
JP2001386912A 2001-12-20 2001-12-20 Curable resin composition and cured product thereof Pending JP2003183401A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001386912A JP2003183401A (en) 2001-12-20 2001-12-20 Curable resin composition and cured product thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001386912A JP2003183401A (en) 2001-12-20 2001-12-20 Curable resin composition and cured product thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003183401A true JP2003183401A (en) 2003-07-03
JP2003183401A5 JP2003183401A5 (en) 2005-03-17

Family

ID=27595904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001386912A Pending JP2003183401A (en) 2001-12-20 2001-12-20 Curable resin composition and cured product thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003183401A (en)

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004359742A (en) * 2003-06-03 2004-12-24 Fujitsu Ltd Conductive resin composition, conductive membrane, and electronic device
JP2005125724A (en) * 2003-10-20 2005-05-19 Toyobo Co Ltd Laminate
JP2005326724A (en) * 2004-05-17 2005-11-24 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive resin composition for resistance element and laminate or element embedded substrate using the same
JP2006009461A (en) * 2004-06-28 2006-01-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Filler
JP2007017644A (en) * 2005-07-06 2007-01-25 Arisawa Mfg Co Ltd Photosensitive heat-curable resin composition, photosensitive cover lay using the composition, and flexible printed wiring board
WO2007105713A1 (en) * 2006-03-16 2007-09-20 Showa Denko K.K. Heat curable resin composition, overcoating agent for flexible circuit board, and surface protective film
WO2009011304A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-22 Showa Denko K. K. Heat curable resin compositon
JP2009265388A (en) * 2008-04-25 2009-11-12 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, and photosensitive permanent resist and photosensitive film, using the same
WO2013022030A1 (en) * 2011-08-10 2013-02-14 東海ゴム工業株式会社 Flexible conductive material
KR20150026795A (en) * 2013-08-28 2015-03-11 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board
JP2015161764A (en) * 2014-02-27 2015-09-07 株式会社タムラ製作所 photosensitive resin composition
WO2018079533A1 (en) * 2016-10-31 2018-05-03 住友ベークライト株式会社 Thermally conductive paste and electronic device
JP2019032474A (en) * 2017-08-09 2019-02-28 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive resin composition, dry film, cured product and printed wiring board
WO2019155819A1 (en) * 2018-02-08 2019-08-15 株式会社ノリタケカンパニーリミテド Photosensitive composition and use thereof
JP2019196444A (en) * 2018-05-09 2019-11-14 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product and electronic component
JP2021036331A (en) * 2020-11-02 2021-03-04 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive resin composition, dry film, cured product and printed wiring board
WO2022070593A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 富士フイルム株式会社 Ink set, laminate, and method for producing laminate
CN116218333A (en) * 2023-01-10 2023-06-06 江南大学 Photo-curing coating and preparation method thereof

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004359742A (en) * 2003-06-03 2004-12-24 Fujitsu Ltd Conductive resin composition, conductive membrane, and electronic device
JP2005125724A (en) * 2003-10-20 2005-05-19 Toyobo Co Ltd Laminate
JP2005326724A (en) * 2004-05-17 2005-11-24 Toppan Printing Co Ltd Photosensitive resin composition for resistance element and laminate or element embedded substrate using the same
JP4701632B2 (en) * 2004-05-17 2011-06-15 凸版印刷株式会社 Photosensitive resin composition for resistance element and laminate or element built-in substrate using the same
JP2006009461A (en) * 2004-06-28 2006-01-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Filler
JP4557614B2 (en) * 2004-06-28 2010-10-06 旭化成ケミカルズ株式会社 Filler
JP4504275B2 (en) * 2005-07-06 2010-07-14 株式会社有沢製作所 Photosensitive thermosetting resin composition, photosensitive coverlay using the composition, and flexible printed wiring board
JP2007017644A (en) * 2005-07-06 2007-01-25 Arisawa Mfg Co Ltd Photosensitive heat-curable resin composition, photosensitive cover lay using the composition, and flexible printed wiring board
JP2013117031A (en) * 2006-03-16 2013-06-13 Showa Denko Kk Method of forming flexible circuit board protective layer
WO2007105713A1 (en) * 2006-03-16 2007-09-20 Showa Denko K.K. Heat curable resin composition, overcoating agent for flexible circuit board, and surface protective film
JP5237790B2 (en) * 2006-03-16 2013-07-17 昭和電工株式会社 Surface protection film of flexible circuit board
US8420216B2 (en) 2007-07-18 2013-04-16 Showa Denko K.K. Thermosetting resin composition
KR101151196B1 (en) * 2007-07-18 2012-06-08 쇼와 덴코 가부시키가이샤 Heat curable resin composition
WO2009011304A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-22 Showa Denko K. K. Heat curable resin compositon
JP5506382B2 (en) * 2007-07-18 2014-05-28 昭和電工株式会社 Thermosetting resin composition
JPWO2009011304A1 (en) * 2007-07-18 2010-09-24 昭和電工株式会社 Thermosetting resin composition
JP2009265388A (en) * 2008-04-25 2009-11-12 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition, and photosensitive permanent resist and photosensitive film, using the same
WO2013022030A1 (en) * 2011-08-10 2013-02-14 東海ゴム工業株式会社 Flexible conductive material
JP2013035974A (en) * 2011-08-10 2013-02-21 Tokai Rubber Ind Ltd Flexible conductive material
CN103649231A (en) * 2011-08-10 2014-03-19 东海橡塑工业株式会社 Flexible conductive material
KR101660583B1 (en) * 2013-08-28 2016-09-27 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board
KR20150026795A (en) * 2013-08-28 2015-03-11 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 Photosensitive resin composition, dry film, cured product, and printed wiring board
JP2015161764A (en) * 2014-02-27 2015-09-07 株式会社タムラ製作所 photosensitive resin composition
WO2018079533A1 (en) * 2016-10-31 2018-05-03 住友ベークライト株式会社 Thermally conductive paste and electronic device
JPWO2018079533A1 (en) * 2016-10-31 2018-10-25 住友ベークライト株式会社 Thermally conductive paste and electronic device
CN109890903A (en) * 2016-10-31 2019-06-14 住友电木株式会社 Thermal conductivity cream and electronic device
US20190338171A1 (en) * 2016-10-31 2019-11-07 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Thermally conductive paste and electronic device
JP2019032474A (en) * 2017-08-09 2019-02-28 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive resin composition, dry film, cured product and printed wiring board
WO2019155819A1 (en) * 2018-02-08 2019-08-15 株式会社ノリタケカンパニーリミテド Photosensitive composition and use thereof
KR20200118135A (en) 2018-02-08 2020-10-14 가부시키가이샤 노리타케 캄파니 리미티드 Photosensitive composition and its use
JP2019196444A (en) * 2018-05-09 2019-11-14 太陽インキ製造株式会社 Curable resin composition, dry film, cured product and electronic component
WO2022070593A1 (en) 2020-09-30 2022-04-07 富士フイルム株式会社 Ink set, laminate, and method for producing laminate
JP2021036331A (en) * 2020-11-02 2021-03-04 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive resin composition, dry film, cured product and printed wiring board
JP7043568B2 (en) 2020-11-02 2022-03-29 太陽インキ製造株式会社 Photosensitive resin compositions, dry films, cured products, and printed wiring boards
CN116218333A (en) * 2023-01-10 2023-06-06 江南大学 Photo-curing coating and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003183401A (en) Curable resin composition and cured product thereof
US20070166642A1 (en) Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof
JP4986439B2 (en) Photo / thermosetting resin cured film, manufacturing method thereof, and flexible printed wiring board
JP5319132B2 (en) Photocurable / thermosetting resin composition and cured product thereof
JP2003212954A (en) Phosphorus-containing urethane (meth)acrylate compound and photosensitive composition
JP2006284911A (en) Flame retardant composition for solder resist and cured body of same
JP2006011395A (en) Photosensitive resin composition, and cured product and use thereof
JPWO2007032326A1 (en) Photosensitive resin composition and cured product thereof
JP2000281738A (en) Novel unsaturated group-containing polycarboxylic acid resin, resin composition and cured product thereof
JP2707495B2 (en) Photosensitive thermosetting resin composition
JP4611554B2 (en) Photosensitive composition, cured product thereof, and printed wiring board using the same
JP5395552B2 (en) Photosensitive thermosetting resin composition and flexible printed wiring board
JP2005173577A (en) Flame retardant photosensitive composition and its cured object
JP2007177180A (en) Epoxy resin varnish, photosensitive resin composition and its cured product
JP4082835B2 (en) Resin composition and cured products thereof
JP2003084429A (en) Resist curable flame-retardant composition and cured article thereof
JP2008074938A (en) Photosensitive resin composition and its cured product
JP2006330235A (en) Flame-retardant solder resist resin composition and insulating protective coat
JP6705084B2 (en) Method for manufacturing multilayer printed wiring board and multilayer printed wiring board
WO2018146821A1 (en) Photosensitive resin composition, solder resist film using said photosensitive resin composition, flexible printed wiring board, and image display device
JP2009185181A (en) Photocurable or heat-curable resin composition and cured product thereof
JP2006253664A (en) Solder resist flame-retardant composition and applications thereof
JP2003195486A (en) Photosensitive composition, cured product of the same and printed wiring board using the same
JP2012114232A (en) Flexible printed circuit board with built-in reinforcing plate and method of manufacturing flexible printed circuit board with built-in reinforcing plate
JPH11316457A (en) Photosensitive resin composition and printed circuit board having solder resist film or resin insulating layer formed from the composition

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040408

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040408

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041214

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050412