JP2005215437A - 光学素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 配向膜付きのガラス基板11上に、屈折率異方性を有する放射線重合型液晶分子を含有する液晶組成物を塗布して液晶層12を形成した後、この液晶層12上に、屈折率異方性を有しない透明材料からなるオーバーコート層13を積層する。オーバーコート層13の屈折率は、液晶層12の通常光屈折率と異常光屈折率との間の値をとる。これにより、液晶層12のうちオーバーコート層13側の界面で生じる界面反射が抑制され、当該界面における液晶分子の向きに起因して生じる光学的なムラが防止される。
【選択図】 図1
Description
<配向膜付きのガラス基板の準備>
膜厚が0.7mmのガラス基板上に、ポリイミドを含有する配向膜溶液をスピンコート法により塗布した。そして、このようにして形成された塗布膜中の溶剤を蒸発させた後、200℃でポストベイクし、ラビング処理を行うことにより、表面に配向能が付与された配向膜付きのガラス基板を作製した。なお、このようにしてガラス基板上に形成された配向膜の膜厚は0.1μmであった。
次に、液晶組成物と光重合開始剤とを99:1の重量比で混合した粉体をシクロヘキサノンに30重量%の割合で溶解させることにより、液晶層形成用塗工液を調整した。なお、液晶組成物としては、放射線重合型液晶分子である重合性モノマーとカイラル剤とを含有するものを用いた。
その後、このようにして調製した液晶層形成用塗工液を、上述したガラス基板の配向膜上にスピンコート法により塗布した。そして、このようにして形成された塗布膜中の溶剤を蒸発させた後、80℃の温度で3分間加熱して塗布膜中の液晶分子を配向させた。そして、クーリングプレートを用い、放射線重合型液晶分子の液晶転移点以下の温度である22℃に冷却した状態で1時間放置し、最終的にコレステリック液晶規則性を有する乾燥塗布膜(未硬化状態の液晶層)を形成した。なお、ここでの冷却温度は液晶転移点以下であるが、乾燥塗布膜中の液晶分子はいわゆる過冷却の状態にあり、コレステリック液晶規則性を維持している。
このようなコレステリック液晶層上に、JSR(株)製のJNPC−80(商品名)を用い、これをスピンコート法により2μmの膜厚で成膜した。そして、60℃で10分間に亘ってホットプレート上で予備乾燥を行い、次いで、クリーンオーブン内で150℃の温度で30分間保持し、ポストベイクを行った。
オーバーコート層を形成しなかった以外は上述した実施例1と同様の条件で光学素子を製造した。
実施例1と同様の方法を用い、3.6±0.1μmの膜厚でコレステリック液晶層を形成した。さらに、このようにして形成されたコレステリック液晶層上にJSR(株)製のJNPC−80(商品名)を異なる膜厚(0.1μm、1μm、2μm、5μm、10μm、20μmの6種類)で塗布し、膜厚が異なるオーバーコート層を備えた複数の光学素子を製造した。
オーバーコート層を形成しなかった以外は上述した実施例2と同様の条件で光学素子を製造し、実施例2と同様の測定を行った。
実施例1及び比較例1において製造された光学素子のそれぞれを、クロスニコルの関係で配置された2枚の直線偏光板の間に挟み込み、目視で観察したところ、実施例1に係る光学素子の面内に現れる明暗模様(光学的なムラ)は、比較例1に係る光学素子の面内に現れる明暗模様に比べて非常に小さかった。
11 ガラス基板(基材)
12,12A,12B 液晶層
13,13A オーバーコート層
Claims (12)
- 屈折率異方性を有する液晶分子からなる、液晶規則性の分子構造を有する液晶層と、
前記液晶層上に積層された、屈折率異方性を有しない透明材料からなるオーバーコート層とを備え、
前記オーバーコート層の屈折率は、前記液晶層の通常光屈折率と異常光屈折率との間の値をとることを特徴とする光学素子。 - 前記オーバーコート層は、その膜厚が、当該オーバーコート層を透過する光と、当該オーバーコート層の表面で界面反射された後に前記液晶層を経て再度当該オーバーコート層を透過する光との間での干渉により、前記液晶層の界面で生じる界面反射に起因した光学的なムラを抑制するように決められていることを特徴とする、請求項1に記載の光学素子。
- 前記液晶層の分子構造はネマチック液晶規則性を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の光学素子。
- 前記液晶層の分子構造はコレステリック液晶規則性を有することを特徴とする、請求項1又は2に記載の光学素子。
- 前記液晶層の選択反射波長帯域は可視光域にあることを特徴とする、請求項4に記載の光学素子。
- 前記液晶層の選択反射波長帯域は紫外域にあることを特徴とする、請求項4に記載の光学素子。
- 前記液晶層は、所定の表示パターンに合わせてパターニングされていることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記液晶層は、前記所定の表示パターンに対応する着色パターンを有するカラーフィルタであることを特徴とする、請求項7に記載の光学素子。
- 前記オーバーコート層は、所定の表示パターンに対応する着色パターンを有するカラーフィルタであることを特徴とする、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の光学素子。
- 前記液晶層は、配向能を有する基材上に積層されていることを特徴とする、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の光学素子。
- 基材上に、屈折率異方性を有する液晶分子を含有する液晶組成物を塗布する工程と、
前記基材上に塗布された液晶組成物中の液晶分子を配向させ、液晶規則性の分子構造を有する液晶層を形成する工程と、
分子構造が液晶規則性を有するように形成された前記液晶層を硬化させる工程と、
硬化された前記液晶層上に、屈折率異方性を有しない透明材料を直接塗布し、前記液晶層の通常光屈折率と異常光屈折率との間の値の屈折率を持つオーバーコート層を形成する工程とを含むことを特徴とする、光学素子の製造方法。 - 前記オーバーコート層は、その膜厚が、当該オーバーコート層を透過する光と、当該オーバーコート層の表面で界面反射された後に前記液晶層を経て再度当該オーバーコート層を透過する光との間での干渉により、前記液晶層の界面で生じる界面反射に起因した光学的なムラを抑制するように決められていることを特徴とする、請求項11に記載の方法。
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WO2013154073A1 (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-17 | 富士フイルム株式会社 | 光学異方性を有する積層体 |
JP2014178460A (ja) * | 2013-03-14 | 2014-09-25 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン位相差フィルム及び画像表示装置 |
JP2015197604A (ja) * | 2014-04-01 | 2015-11-09 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 光学フィルムの製造方法 |
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