JP2005211770A - Substrate manufacturing apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate manufacturing apparatus capable of forming a thin film excellent in in-plane film thickness uniformity and capable of suitably adapted to an electronic display device such as an organic EL display device or the like. <P>SOLUTION: In the substrate manufacturing apparatus used in a process for forming the thin film such as an organic layer or the like in an organic EL element by bonding liquid droplets to a substrate from a liquid droplet coating part comprising an ink jet device or the like and irradiating the liquid droplet applied substrate with electromagnetic waves such as infrared rays or the like, the substrate to which the liquid droplet are bonded is successively irradiated with electromagnetic waves. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、基板製造装置、基板製造方法及び電子表示装置に関する。より詳しくは、液滴を乾燥させて膜を形成する工程に用いる基板製造装置、これを用いてなる基板製造方法、及び、これらによって作製されてなる電子表示装置に関するものである。 The present invention relates to a substrate manufacturing apparatus, a substrate manufacturing method, and an electronic display device. More specifically, the present invention relates to a substrate manufacturing apparatus used in a process of forming a film by drying droplets, a substrate manufacturing method using the same, and an electronic display device manufactured by these.

基板製造装置は、パターニング処理等の加工を施した基板を製造するための装置であり、このような基板製造装置により作製された基板は、例えば、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置、カラーフィルタ、X線センサ、マイクロレンズアレイ等の電子表示装置等に用いられている。これらの中で、有機EL表示装置においては、基板上に発光層である有機層がドットのパターンに応じて形成されたパターニング基板が用いられている。このような有機EL素子は、電気信号に対する高速応答性を有し、自ら光を放つため視認性が高く、また、有機材料を主たる原料としているために分子設計が幅広く行えるとともに多色化が容易である、というの利点を有する。また、完全固体素子であるため、耐衝撃性に優れるとともに取り扱いが容易である等の優れた特性を有している。そのため、近年、面光源やディスプレイ、プリンターの光源への応用が進められ、注目されている。 The substrate manufacturing apparatus is an apparatus for manufacturing a substrate subjected to processing such as patterning processing, and the substrate manufactured by such a substrate manufacturing apparatus includes, for example, an organic EL (electroluminescence) display device, a color filter, It is used in electronic display devices such as X-ray sensors and microlens arrays. Among these, in an organic EL display device, a patterning substrate in which an organic layer as a light emitting layer is formed on a substrate according to a dot pattern is used. Such organic EL elements have high-speed response to electrical signals, high light visibility because they emit light themselves, and because organic materials are the main raw materials, they can be used in a wide range of molecular designs and easily multicolored. It has the advantage of being. Further, since it is a completely solid element, it has excellent characteristics such as excellent impact resistance and easy handling. Therefore, in recent years, application to surface light sources, displays, and light sources of printers has been promoted and attracted attention.

このような有機EL素子は、大きく分けて低分子型と高分子型とに分類することができる。低分子型有機EL素子は、主に蒸着法を用いて作製され、一方、高分子型有機EL素子は、スピンコート法、液滴塗布法(インクジェット法)、転写法等の方法を用いて作製される。液滴塗布法(インクジェット法)を用いる場合、高分子型有機EL素子は、主に液滴を基板上に滴下し乾燥させて膜を形成することによって作製される。この液滴の乾燥工程は、膜厚の制御において非常に重要な工程である。 Such organic EL elements can be broadly classified into a low molecular type and a high molecular type. Low molecular weight organic EL elements are produced mainly using vapor deposition, while polymer organic EL elements are produced using methods such as spin coating, droplet coating (inkjet), and transfer. Is done. When the droplet coating method (inkjet method) is used, the polymer type organic EL element is produced mainly by dropping a droplet on a substrate and drying it to form a film. This droplet drying step is a very important step in controlling the film thickness.

従来の基板製造装置に関し、溶質を含む溶媒の乾燥過程、乾燥後の膜厚分布について、乾燥条件により、液滴が乾燥して形成される膜の膜厚は周囲部が厚くなる場合と、液滴の中心部の乾燥を進行させることで中心部の膜厚が厚くなる場合とがあることが開示されている(例えば、非特許文献1。)。
これに対して、機能性素子の製造方法に関し、機能層の平坦性を得るために、機能層の中心部が凸形状の場合と凹形状の場合とに応じて、機能層形成用塗工液の乾燥工程における溶媒の揮発速度を制御する方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。更に特許文献1には、凸形状の場合の揮発速度を速くする方法として、送風により揮発溶媒を拡散させ溶媒の飽和を防止する方法、ホットプレート又は遠赤外線ヒーターによって熱を加える方法が記載されており、また、凹形状の場合の揮発速度を遅くする方法として、揮発溶媒を雰囲気中に過度に充満させ溶媒の揮発を抑制する方法や加圧、冷却等の方法が記載されている。しかしながら、これらの方法おいては、面内に分布する各々の膜の乾燥過程を同じにすることは容易でなく、例えば、最初に形成された膜と最後に形成された膜とで同じ乾燥過程を実現するのは容易でなかった。これに起因して、面内で膜厚の均一性を得ることが困難となっていたため、この点において工夫の余地があった。
特開2003−266003号公報(第1−6頁) 「フィジカル レビュー イー(PHYSICAL REVIEW E)」,(米国),アメリカ物理学会(APS),第62巻,p.756
Regarding the conventional substrate manufacturing apparatus, with respect to the drying process of the solvent containing the solute and the film thickness distribution after drying, depending on the drying conditions, the film thickness of the film formed by drying the droplets may be thicker at the periphery. It is disclosed that there is a case where the film thickness of the central part is increased by drying the central part of the droplet (for example, Non-Patent Document 1).
On the other hand, regarding the method for producing a functional element, in order to obtain the flatness of the functional layer, the functional layer forming coating liquid is used depending on whether the central portion of the functional layer is convex or concave. A method for controlling the volatilization rate of the solvent in the drying step is disclosed (for example, see Patent Document 1). Further, Patent Document 1 describes a method of increasing the volatilization rate in the case of a convex shape by diffusing a volatile solvent by blowing air to prevent saturation of the solvent, and a method of applying heat by a hot plate or a far infrared heater. In addition, as a method of slowing down the volatilization rate in the case of a concave shape, a method of excessively filling a volatile solvent in the atmosphere to suppress the volatilization of the solvent, and a method such as pressurization and cooling are described. However, in these methods, it is not easy to make the drying process of each film distributed in the plane the same. For example, the same drying process is used for the first formed film and the last formed film. It was not easy to realize. Because of this, it has been difficult to obtain film thickness uniformity in the plane, and there is room for improvement in this respect.
JP 2003-266003 A (page 1-6) “Physical Review E” (USA), American Physical Society (APS), Vol. 62, p. 756

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、面内における膜厚の均一性に優れた薄膜を形成することができる基板製造装置、それを用いた基板製造方法及び電子表示装置を提供することを目的とするものである。 The present invention has been made in view of the above-described situation, and provides a substrate manufacturing apparatus capable of forming a thin film with excellent film thickness uniformity in a plane, a substrate manufacturing method using the same, and an electronic display device. It is intended to do.

本発明者らは、液滴を乾燥させて膜を形成する工程に用いる基板製造装置、好ましくは、有機EL表示装置等の電子表示装置の製造に好適に適用することができる基板製造装置について種々検討するうち、液滴塗布法(インクジェット法)により塗布し乾燥した膜は、液滴の乾燥過程により各々の膜間で膜厚分布を生じることに着目した。例えば、このような膜厚分布を有した膜を有機層として有機EL表示装置に用いた場合には、各ドット間の膜厚が異なることにより発光特性が異なり、つまりは膜厚制御ができていないことにより表示輝度のドット間バラツキとなり表示品位を損なうこととなる。一方、このような膜厚分布を抑制することにより、特に有機EL表示装置に適用した場合、発光特性や寿命特性への影響が特に大きい有機層の膜厚分布を抑制することができることから、高効率で長寿命の有機EL表示装置を提供することができる。また、カラーフィルタにおいては、膜厚分布を抑制することで透過強度の分布を抑制することが可能となることから、表示品位を向上させることが可能となる。そこで、電磁波を利用する液滴の乾燥方法において、各膜間の膜厚を均一化することを目的として、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射することにより、吐出された順に乾燥が順次開始されるようにすれば、個々の膜の乾燥過程が全て同一となるように液滴の吐出から乾燥までの時間を制御することができ、各膜間の膜厚バラツキを抑制することが可能となることを見いだし、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 The present inventors have various substrate manufacturing apparatuses that can be suitably applied to the manufacture of an electronic display device such as an organic EL display device, preferably used in a process of forming a film by drying droplets. During the study, attention was paid to the fact that the film applied and dried by the droplet coating method (inkjet method) produced a film thickness distribution between the respective films due to the drying process of the droplets. For example, when a film having such a film thickness distribution is used as an organic layer in an organic EL display device, the light emission characteristics differ due to the difference in film thickness between dots, that is, the film thickness can be controlled. If not, the display luminance varies between dots, and the display quality is impaired. On the other hand, by suppressing such a film thickness distribution, particularly when applied to an organic EL display device, it is possible to suppress the film thickness distribution of an organic layer that has a particularly large effect on light emission characteristics and life characteristics. An organic EL display device that is efficient and has a long lifetime can be provided. In the color filter, the transmission intensity distribution can be suppressed by suppressing the film thickness distribution, so that the display quality can be improved. Therefore, in the method of drying droplets using electromagnetic waves, the droplets were ejected by sequentially irradiating the electromagnetic waves after the droplets were deposited on the substrate in order to make the film thickness between the films uniform. If drying is started sequentially, the time from droplet discharge to drying can be controlled so that the drying process of each film is the same, and variations in film thickness between films are suppressed. The present inventors have found that it is possible to solve this problem and have conceived that the above-mentioned problems can be solved brilliantly.

すなわち本発明は、基板上に液滴塗布部から液滴を付着させ、電磁波照射部により電磁波を照射して薄膜を形成する工程に用いられる基板製造装置であって、上記基板製造装置は、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射するものである基板製造装置である。
以下に本発明を詳述する。
That is, the present invention is a substrate manufacturing apparatus used in a process of forming a thin film by depositing droplets from a droplet applying unit on a substrate and irradiating an electromagnetic wave from the electromagnetic wave irradiation unit. This is a substrate manufacturing apparatus that sequentially irradiates electromagnetic waves after depositing droplets on a substrate.
The present invention is described in detail below.

本発明の基板製造装置は、膜形成装置として用いられるものである。
上記基板としては、透明性の高いものが好ましく、例えば、ガラス等の無機材料、透明樹脂等から構成されるものを用いることができる。液滴としては特に限定されるものではないが、液滴吐出法(インクジェット法)により塗布するのに適した特性を有するものから構成されることが好ましい。
The substrate manufacturing apparatus of the present invention is used as a film forming apparatus.
As said board | substrate, a highly transparent thing is preferable, For example, what consists of inorganic materials, such as glass, transparent resin, etc. can be used. Although it does not specifically limit as a droplet, It is preferable to comprise from what has the characteristic suitable for apply | coating by a droplet discharge method (inkjet method).

上記液滴塗布部としては、例えば、インクジェット装置、ディスペンサ装置等からなるものが挙げられる。また、電磁波照射部としては、例えば、赤外線を照射することができるものが好ましい。すなわち電磁波の照射は、赤外線により行われることが好ましい。赤外線を液滴に照射することにより、液滴を効果的に加熱して乾燥させることができる。なお、上記赤外線は、主な成分が波長略770nmから略1mmに含まれてなる電磁波を指す。好ましくは、略0.8〜20μmの近赤外線であり、効果的な加熱を行うのに特に有効である。更に、電磁波照射部の好ましい形態としては、複数の電磁波照射部が設置され、複数の領域に対して電磁波を同時に照射することができる形態が挙げられ、効率よく複数の液滴を乾燥させて薄膜を形成することが可能となる。より好ましい形態としては、複数の電磁波照射部において、電磁波の照射強度等を個別に制御することが可能な形態が挙げられる。
本発明の基板製造装置においては、液滴塗布部と電磁波照射部とを必須構成部材として有する限り、その他の構成部材を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。
As said droplet application part, what consists of an inkjet apparatus, a dispenser apparatus, etc. is mentioned, for example. Moreover, as an electromagnetic wave irradiation part, what can irradiate infrared rays, for example is preferable. That is, the irradiation of electromagnetic waves is preferably performed by infrared rays. By irradiating the droplets with infrared rays, the droplets can be effectively heated and dried. In addition, the said infrared rays point out the electromagnetic waves in which the main component is contained in the wavelength from about 770 nm to about 1 mm. Preferably, it is a near infrared ray of about 0.8 to 20 μm, which is particularly effective for effective heating. Furthermore, as a preferable form of the electromagnetic wave irradiation part, there is a form in which a plurality of electromagnetic wave irradiation parts are installed and electromagnetic waves can be simultaneously irradiated to a plurality of regions, and a plurality of droplets are efficiently dried to form a thin film Can be formed. As a more preferable form, the form which can control individually the irradiation intensity | strength etc. of electromagnetic waves in several electromagnetic wave irradiation part is mentioned.
In the board | substrate manufacturing apparatus of this invention, as long as it has a droplet application part and an electromagnetic wave irradiation part as an essential structural member, the other structural member may be included or it is not necessary to include.

上記基板製造装置は、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射するものである。これにより、液滴塗布部により基板上に付着させた液滴を放置することなく、電磁波照射部により電磁波を照射して乾燥させることが可能であるため、液滴の乾燥過程に起因する各膜間の膜厚バラツキを抑制することが可能となる。このような本発明によれば、例えば、有機EL表示装置に用いられる基板上に有機層を形成する場合には、ドット間における乾燥バラツキを大幅に抑制することができ、ドット間の膜厚の均一性に優れた有機層を形成することが可能となり、更に電極等を形成して有機EL素子とした場合、均一な発光状態を得ることが可能となる。 The substrate manufacturing apparatus sequentially irradiates electromagnetic waves after depositing droplets on a substrate. As a result, it is possible to irradiate and dry the electromagnetic wave by the electromagnetic wave irradiation unit without leaving the liquid droplets adhered on the substrate by the liquid droplet application unit. It becomes possible to suppress the film thickness variation in between. According to the present invention as described above, for example, when an organic layer is formed on a substrate used in an organic EL display device, it is possible to greatly suppress the variation in drying between dots, and the film thickness between dots can be reduced. An organic layer having excellent uniformity can be formed, and when an electrode or the like is further formed to form an organic EL element, a uniform light emitting state can be obtained.

上記基板製造装置は、基板上に液滴が付着し広がり始める時間間隔以上を設けて液滴に電磁波を照射するものであることが好ましい。すなわち、液滴が基板に付着した直後から、少なくとも基板上側からみた液滴径が広がった後に、電磁波照射部による乾燥が始まるようにして、液滴塗布部と電磁波照射部とを併置したものであることが好ましい。これにより、液滴は基板上に塗布された後に広がり、その後に電磁波照射部による乾燥が始まることとなるので、広がる前に乾燥を始める場合と比べて、液滴をより平坦な状態にして乾燥することができ、膜厚の平坦性を向上させることが可能となる。 It is preferable that the substrate manufacturing apparatus irradiates the droplets with electromagnetic waves with a time interval or more at which the droplets start to adhere and spread on the substrate. That is, the droplet application unit and the electromagnetic wave irradiation unit are arranged side by side so that the drying by the electromagnetic wave irradiation unit starts immediately after the droplets are attached to the substrate and at least after the droplet diameter as viewed from the upper side of the substrate widens. Preferably there is. As a result, the droplet spreads after being applied on the substrate, and then drying by the electromagnetic wave irradiation unit starts, so that the droplet is dried in a flatter state than when drying is started before spreading. Therefore, the flatness of the film thickness can be improved.

上記基板製造装置は、液滴塗布部と電磁波照射部とが間隔を置いて設置されたものであることが好ましい。この形態においては、液滴塗布部により液滴を付着させた後、電磁波照射部の所まで基板を移動させることとなるので、液滴塗布部と電磁波照射部との間隔、基板の移動速度等により、基板上に液滴が付着してから電磁波照射までの時間を容易に調整することができる。その他、基板製造装置の形態としては、例えば、液滴塗布部と電磁波照射部とが一体的に設けられ、液滴塗布部と電磁波照射部とが時間毎に切り替わる形態等であってもよい。 In the substrate manufacturing apparatus, it is preferable that the droplet application unit and the electromagnetic wave irradiation unit are installed with an interval therebetween. In this embodiment, after the droplet is applied by the droplet application unit, the substrate is moved to the electromagnetic wave irradiation unit, so the distance between the droplet application unit and the electromagnetic wave irradiation unit, the moving speed of the substrate, etc. This makes it possible to easily adjust the time from when the droplets adhere to the substrate until the electromagnetic wave irradiation. In addition, the form of the substrate manufacturing apparatus may be, for example, a form in which the droplet application unit and the electromagnetic wave irradiation unit are integrally provided, and the liquid droplet application unit and the electromagnetic wave irradiation unit are switched every time.

また、上記基板製造装置においては、基板上に液滴が付着してから電磁波照射までの時間及び電磁波を照射している時間は、各液滴で略同じになることが好ましい。すなわち、液滴毎に見た場合、液滴が吐出されてから、電磁波照射による乾燥までの時間が等しく、更に各液滴における乾燥時間が等しくなることが好ましい。この結果、各膜間の膜厚プロファイルのバラツキを抑制することができる。例えば、有機EL表示装置に用いられる基板上に有機層を形成する場合には、各ドットにおける液滴塗布から乾燥までの履歴を同一にすることができるため、ドット間における乾燥バラツキを大幅に抑制することができ、有機EL表示装置の表示品位の向上が可能となる。なお、本発明において、「略同じ」の用語の意味は、実質的に同じであると評価される形態であることが好ましいが、本発明の作用効果を発揮することになる限り、それに類する形態として、所定の差を持つ形態等も含むものである。 Moreover, in the said board | substrate manufacturing apparatus, it is preferable that the time from the time a droplet adheres on a board | substrate until electromagnetic wave irradiation and the time which irradiates electromagnetic waves become substantially the same with each droplet. That is, when viewed for each droplet, it is preferable that the time from the ejection of the droplet to the drying by electromagnetic wave irradiation is equal, and further the drying time for each droplet is equal. As a result, variations in the film thickness profile between the films can be suppressed. For example, when an organic layer is formed on a substrate used in an organic EL display device, the history from application to drying of droplets in each dot can be made the same, greatly reducing variation in drying between dots. Therefore, the display quality of the organic EL display device can be improved. In the present invention, the meaning of the term “substantially the same” is preferably a form that is evaluated to be substantially the same. However, as long as the effects of the present invention are exhibited, a form similar thereto As such, a form having a predetermined difference is included.

上記基板製造装置において、薄膜を形成する領域は、隔壁によって規定する方法、及び、表面張力の差によって規定する方法の少なくとも一方の規定方法により規定されることが好ましい。すなわち、基板に対して液滴滴下位置(膜形成位置)を規定するための隔壁(バンク)を形成した形態、基板に対して親撥液処理を施して液の濡れ性を制御した形態、及び、これらの組み合わせの形態が好ましい。隔壁としては、液滴の広がりを抑制することができるものであればよく、例えば、断面形状が四角形、T字形状、逆テーパ形状等のものが挙げられる。また、隔壁は、親撥液処理により液の濡れ性が制御されたものであってもよい。表面張力の差によって規定する形態としては、基板の液滴滴下位置(膜形成位置)とそれ以外の領域との液の濡れ性に差を設けたものであればよい。これらの規定方法によれば、より正確に液滴を付着させる位置を規定することができる。この場合、膜面側から見た場合の液滴の形状は円形である必要はなく、長方形、小判型、多角形等にすることができる。 In the substrate manufacturing apparatus, the region where the thin film is formed is preferably defined by at least one of a method of defining by the partition and a method of defining by the difference in surface tension. That is, a form in which a partition wall (bank) for defining a droplet dropping position (film formation position) is formed on the substrate, a form in which the wettability of the liquid is controlled by performing a liquid repellent treatment on the substrate, and These combined forms are preferred. As the partition wall, any partition wall can be used as long as it can suppress the spread of the droplets. Examples of the partition wall include those having a cross-sectional shape of a quadrangle, T-shape, reverse taper shape, and the like. Further, the partition wall may be one whose liquid wettability is controlled by a liquid repellent treatment. As a form defined by the difference in surface tension, any form may be used as long as there is a difference in liquid wettability between the droplet dropping position (film forming position) of the substrate and the other region. According to these defining methods, it is possible to define the position where the droplets are attached more accurately. In this case, the shape of the liquid droplet when viewed from the film surface side does not need to be circular, and can be rectangular, oval, polygonal, or the like.

<有機EL素子における液滴乾燥と発光特性との関係>
液滴塗布法(インクジェット法)においては、液滴乾燥の過程において、どのような時間の経過で乾燥されるかということも非常に重要である。すなわち、複数の液滴を吐出して膜を形成する場合、必ず最初に吐出した液滴と最後に吐出した液滴とでは時間的な差が生じているため、その後に全ての液滴に対して同時刻に乾燥を行うと、各液滴で乾燥までの時間経過が異なることとなる。ここで、有機EL表示装置に用いられる基板上のドット毎に有機層を形成する場合において、各ドットの有機層の乾燥過程が異なることは膜厚が異なることを意味し、表示装置として用いた際に、これはすなわち発光閾値の差となって現れ、表示ムラが生じることとなる。また、有機EL表示装置における発光効率や素子寿命は、有機層の膜厚と非常に大きな相関があり、適正で均一な膜厚を得ることは、高効率で長寿命の有機EL素子を得るために非常に重要な要素である。
本発明の基板製造装置を用いれば、各ドット間の有機層の膜厚分布の均一な有機EL素子を作製することが可能となり、高効率で長寿命の有機EL素子の実現が可能となる。
<Relationship between droplet drying and emission characteristics in organic EL elements>
In the droplet application method (inkjet method), it is very important how long the droplet is dried in the course of droplet drying. That is, when a film is formed by ejecting a plurality of droplets, there is always a time difference between the first ejected droplet and the last ejected droplet. If drying is performed at the same time, the time elapsed until drying differs for each droplet. Here, in the case where an organic layer is formed for each dot on a substrate used in an organic EL display device, the difference in the drying process of the organic layer of each dot means that the film thickness is different and used as a display device. At this time, this appears as a difference in the light emission threshold value, resulting in display unevenness. Moreover, the luminous efficiency and element lifetime in the organic EL display device have a very large correlation with the film thickness of the organic layer, and obtaining an appropriate and uniform film thickness is for obtaining an organic EL element with high efficiency and long life. It is a very important element.
If the substrate manufacturing apparatus of this invention is used, it will become possible to produce the organic EL element with the uniform film thickness distribution of the organic layer between each dot, and realization of a highly efficient and long-life organic EL element will be attained.

本発明はまた、上記基板製造装置を用いてなる基板製造方法でもある。このような基板製造方法によれば、上記基板製造装置を用いることにより液滴を効果的に乾燥させることができるので、基板上に面内の膜厚分布が抑制された薄膜を形成することが可能である。 The present invention is also a substrate manufacturing method using the substrate manufacturing apparatus. According to such a substrate manufacturing method, since the droplets can be effectively dried by using the substrate manufacturing apparatus, it is possible to form a thin film with an in-plane film thickness distribution suppressed on the substrate. Is possible.

本発明は更に、上記基板製造装置により作製されてなる電子表示装置でもある。このような電子表示装置は、面内の膜厚分布が抑制され、膜平坦性が高い薄膜が形成された基板を備え、例えば、有機EL表示装置、カラーフィルタ、マイクロレンズアレイ、X線センサ、感光センサ等の表示品位、感度分布等を向上することが可能なものである。
中でも、電子表示装置は、電子エレクトロルミネッセンス表示装置であることが好ましい。有機層の面内の膜厚分布が抑制され、膜平坦性が高いことから、均一な発光プロファイルを持ち、更に高効率長寿命な有機EL表示装置とすることができる。
The present invention is also an electronic display device manufactured by the substrate manufacturing apparatus. Such an electronic display device includes a substrate on which a film thickness distribution in a plane is suppressed and a thin film with high film flatness is formed. For example, an organic EL display device, a color filter, a microlens array, an X-ray sensor, It is possible to improve the display quality, sensitivity distribution, and the like of the photosensitive sensor.
Of these, the electronic display device is preferably an electronic electroluminescence display device. Since the in-plane film thickness distribution of the organic layer is suppressed and the film flatness is high, an organic EL display device having a uniform light emission profile and having a high efficiency and a long life can be obtained.

本発明の基板製造装置は、上述のような構成であるので、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射することにより、液滴塗布部により基板上に付着させた液滴を放置することなく、電磁波照射部により電磁波を照射して乾燥させることが可能であるため、液滴の乾燥過程に起因する各膜間の膜厚バラツキを抑制することが可能となる。このような本発明の基板製造装置によれば、例えば、有機EL表示装置に用いられる基板上に有機層を形成する場合には、ドット間における乾燥バラツキを大幅に抑制することができ、ドット間の膜厚の均一性に優れた有機層を形成することが可能となり、更に電極等を形成して有機EL素子とした場合、均一な発光状態を得ることが可能となる。 Since the substrate manufacturing apparatus of the present invention is configured as described above, after the droplets are deposited on the substrate, the droplets deposited on the substrate by the droplet coating unit are sequentially irradiated by electromagnetic waves. Since it is possible to irradiate an electromagnetic wave from the electromagnetic wave irradiation unit without drying and to dry the film, it is possible to suppress the film thickness variation between the films due to the drying process of the droplets. According to such a substrate manufacturing apparatus of the present invention, for example, in the case where an organic layer is formed on a substrate used in an organic EL display device, it is possible to greatly suppress the variation in drying between dots. It is possible to form an organic layer with excellent uniformity of the film thickness, and when an electrode or the like is further formed to form an organic EL element, a uniform light emitting state can be obtained.

以下に実施例を掲げ、図面を参照して本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings with reference to examples. However, the present invention is not limited only to these examples.

本発明の基板製造装置により、基板上に有機層が形成された有機EL素子用基板を作製し、これを用いて有機EL素子を作製した。 A substrate for an organic EL element in which an organic layer was formed on a substrate was produced by the substrate manufacturing apparatus of the present invention, and an organic EL element was produced using this.

<有機EL素子の構造>
まず、図3−a及び図3−bを参照して実施例で作製した有機EL素子の構造について簡単に説明する。
図3−aは、実施例で作製した有機EL素子の基本的な構造を示す断面模式図であり、図3−bは、図3−aに示した有機EL素子の平面模式図である。
図3−a及び図3−bに示すように、有機EL素子は、素子全体を支持する支持基板1と、発光材料を含む有機層3と、この有機層3に電流を与えるための第一の電極2及び第二の電極4と、封止材5とを備えたものである。第一の電極2、有機層3、及び、第二の電極4は、この順に支持基板1上に積層されており、更にこれらの全面は封止材5により覆われている。
<Structure of organic EL element>
First, the structure of the organic EL element produced in the example will be briefly described with reference to FIGS.
FIG. 3A is a schematic cross-sectional view showing the basic structure of the organic EL element produced in the example, and FIG. 3-B is a schematic plan view of the organic EL element shown in FIG.
As shown in FIGS. 3A and 3B, the organic EL element includes a support substrate 1 that supports the entire element, an organic layer 3 that includes a light emitting material, and a first for supplying a current to the organic layer 3. The electrode 2 and the second electrode 4, and the sealing material 5 are provided. The first electrode 2, the organic layer 3, and the second electrode 4 are laminated on the support substrate 1 in this order, and the entire surface thereof is further covered with a sealing material 5.

支持基板1上には、少なくとも一方の電極が配され、ここでは第一の電極2が配されている。この支持基板1の材料としては特に限定されるものではなく、従来の有機EL素子に使用されているもの等が挙げられ、例えば、石英、ソーダガラス、セラミック材料等の無機材料や、ポリイミド、ポリエステル等の有機材料等を使用することができる。 On the support substrate 1, at least one electrode is disposed, and the first electrode 2 is disposed here. The material of the support substrate 1 is not particularly limited, and examples thereof include those used in conventional organic EL elements. For example, inorganic materials such as quartz, soda glass, ceramic materials, polyimide, polyester, etc. Organic materials such as can be used.

第一の電極2及び第二の電極4の材料としては特に限定されるものではないが、通常では、これらの電極の一方は透明性材料からなる。この透明性材料としては特に限定されるものではなく、従来の有機EL素子に使用されているもの等が挙げられ、例えば、インジウム−錫酸化物(ITO)、SnO、Au薄膜等の無機材料や、ポリアニリン、ポリチオフェン薄膜等の有機材料等を使用することができる。また、他方の電極の材料としては特に限定されるものではなく、従来の有機EL素子に使用されているもの等が挙げられ、例えば、金属の単体、合金又はそれらの積層体等を使用することができる。この金属としては、例えば、マグネシウム、リチウム、カルシウム、銀、アルミニウム、インジウム、セシウム、銅、ニッケル、LiF等を使用することができる。 Although it does not specifically limit as a material of the 1st electrode 2 and the 2nd electrode 4, Usually, one of these electrodes consists of a transparent material. The transparent material is not particularly limited, and examples thereof include those used in conventional organic EL elements. Examples thereof include inorganic materials such as indium-tin oxide (ITO), SnO 2 , and Au thin films. Alternatively, organic materials such as polyaniline and polythiophene thin films can be used. In addition, the material of the other electrode is not particularly limited, and examples include those used in conventional organic EL elements. For example, a single metal, an alloy, or a laminate thereof is used. Can do. As this metal, for example, magnesium, lithium, calcium, silver, aluminum, indium, cesium, copper, nickel, LiF, or the like can be used.

有機層3は、発光層のみからなる単層構造であってもよいし、発光層を含む積層構造であってもよい。この積層構造の例としては、ホール注入輸送層と発光層とを順に積層した構造、発光層と電子注入輸送層とを順に積層した構造、ホール注入輸送層と発光層と電子注入輸送層とを順に積層した構造等が挙げられる。なお、発光層は、電荷(電子又はホール)輸送材料、電荷(電子又はホール)注入材料、電荷(電子又はホール)制限材料を含んでいてもよく、例えば、電子輸送材料を含む電子輸送性発光層等であってもよい。また、ホール注入輸送層は、ホール注入層とホール輸送層とに分割され、電子注入輸送層は、電子注入層と電子輸送層とに分割されていてもよい。 The organic layer 3 may have a single-layer structure including only a light-emitting layer, or may have a stacked structure including a light-emitting layer. Examples of this laminated structure include a structure in which a hole injecting and transporting layer and a light emitting layer are sequentially laminated, a structure in which a light emitting layer and an electron injecting and transporting layer are sequentially laminated, a hole injecting and transporting layer, a light emitting layer, and an electron injecting and transporting layer. A structure in which the layers are stacked in order is mentioned. Note that the light emitting layer may include a charge (electron or hole) transport material, a charge (electron or hole) injection material, and a charge (electron or hole) limiting material, for example, an electron transport light emission including an electron transport material. It may be a layer or the like. The hole injection / transport layer may be divided into a hole injection layer and a hole transport layer, and the electron injection / transport layer may be divided into an electron injection layer and an electron transport layer.

有機層3に含まれる発光層の材料としては、例えば、発光アシスト剤、電荷輸送材料、添加剤(ドナーやアクセプター等)、発光性のドーパント等を含む発光材料を使用することができる。この発光層の発光材料としては、従来の有機EL素子に使用されている公知の発光材料等を使用することができる。このような発光材料は、低分子発光材料、高分子発光材料、及び、高分子発光材料の前駆体等の種類に分類することができるが、発光層の発光材料としては、これらのうちの2種類以上の材料が組み合わされて使用されてもよい。また、有機層3を構成する発光層等の各層を液滴の塗布により形成する場合に用いられる溶剤としては、各層の材料を溶解可能なもの又は均一に分散させることが可能なものを選択することができ、更に材料の不可溶に関わらず別の溶剤を添加してもよい。また、液滴の塗布には、インクジェット装置、ディスペンサ等を使用することができる。 As a material of the light emitting layer included in the organic layer 3, for example, a light emitting material containing a light emission assisting agent, a charge transporting material, an additive (such as a donor or an acceptor), a light emitting dopant, or the like can be used. As the light emitting material of the light emitting layer, a known light emitting material used in a conventional organic EL element can be used. Such light-emitting materials can be classified into types such as a low-molecular light-emitting material, a polymer light-emitting material, and a precursor of the polymer light-emitting material. More than one kind of materials may be used in combination. Moreover, as a solvent used when forming each layer such as a light emitting layer constituting the organic layer 3 by applying droplets, a solvent that can dissolve or uniformly disperse the material of each layer is selected. In addition, another solvent may be added regardless of the insolubility of the material. An ink jet device, a dispenser, or the like can be used for applying the droplets.

封止材5は、水分や酸素が有機層3にできるだけ触れないようにするために設けられるものである。この封止材5による封止方法は特に限定されるものではなく、例えば、防水性及び防湿性に優れた有機材料又は無機材料の成膜による封止方法や、ガラスキャップ又はメタルキャップの貼付による封止方法等を使用することができる。また、ガラスキャップ又はメタルキャップと基板との密閉空間内にゲッター材を配置し、ゲッター材により酸素や水分等の吸着を行い、封止した内部の酸化及び吸湿を防止してもよい。 The sealing material 5 is provided to prevent moisture and oxygen from touching the organic layer 3 as much as possible. The sealing method by this sealing material 5 is not specifically limited, For example, the sealing method by the film-forming of the organic material or the inorganic material excellent in waterproofness and moisture proofness, and the sticking of a glass cap or a metal cap A sealing method or the like can be used. Further, a getter material may be disposed in a sealed space between the glass cap or the metal cap and the substrate, and adsorption of oxygen, moisture, and the like may be performed by the getter material to prevent oxidation and moisture absorption inside the sealed interior.

<有機EL素子の作製>
図1は、実施例で使用した本発明の基板製造装置の要部を示す側面模式図である。また、図2は、図1の基板製造装置から液滴に対して電磁波が照射される様子を示す側面模式図である。
液滴塗布部6として、インクジェット装置を用いた。また、液滴塗布部6より吐出する液としては、正孔輸送層の材料として、PEDOT(ポリエチレンジオキシチオフェン)/PSS(ポリスチレンスルホン酸)溶液を使用し、発光層の材料として、キシレンやテトラリン溶媒と、これら溶媒に可溶なMEH−PPVやポリフルオレン系等の高分子発光材料を使用したが、これら材料や溶媒に限定されるものではない。また液物性に関しては、インクジェット吐出に通常使用される程度のものとし、粘度は5〜15mPa・sに調整し、表面張力は30〜35mN/mに調整した。
<Production of organic EL element>
FIG. 1 is a schematic side view showing the main part of the substrate manufacturing apparatus of the present invention used in the examples. FIG. 2 is a schematic side view showing a state in which electromagnetic waves are applied to the droplets from the substrate manufacturing apparatus of FIG.
An ink jet device was used as the droplet applying unit 6. Moreover, as a liquid discharged from the droplet application part 6, a PEDOT (polyethylenedioxythiophene) / PSS (polystyrene sulfonic acid) solution is used as a material for a hole transport layer, and xylene or tetralin is used as a material for a light emitting layer. Although a solvent and a polymer light-emitting material such as MEH-PPV or polyfluorene soluble in these solvents are used, it is not limited to these materials and solvents. The liquid physical properties were those usually used for inkjet discharge, the viscosity was adjusted to 5 to 15 mPa · s, and the surface tension was adjusted to 30 to 35 mN / m.

図1に示すように、電磁波照射部7として、赤外線を照射する装置をインクジェット装置6と並置させて用いた。このように配置することで、液滴塗布と赤外線照射とを連続して行うことが可能となる。なお、ここでは、電磁波照射部7として、簡便に使用することができる赤外レーザを使用したが、電磁波としては、乾燥を促進することができればよく、赤外線に限定されるものではない。
その他にも、波長略0.8〜1μmの輝線を有するキセノンランプを光ファイバに入射させてから対象物に集光させる点集光型の加熱装置を用いることも可能である。但し、波長は特に限定されるものではなく、照射対象に対して吸収される波長域を含んでいればよい。
As shown in FIG. 1, as the electromagnetic wave irradiation unit 7, a device that irradiates infrared rays is used in parallel with the inkjet device 6. By arranging in this way, it is possible to continuously perform droplet application and infrared irradiation. In addition, although the infrared laser which can be used simply was used as the electromagnetic wave irradiation part 7 here, as long as it can accelerate | stimulate drying as electromagnetic waves, it is not limited to infrared rays.
In addition, it is also possible to use a point condensing type heating device that makes a xenon lamp having an emission line having a wavelength of about 0.8 to 1 μm incident on an optical fiber and then condenses it on an object. However, the wavelength is not particularly limited as long as it includes the wavelength range that is absorbed by the irradiation target.

図2に示すように、基板製造装置においては、基板ステージ9上に設置された基板10がインクジェットヘッドに対して相対的に順次送られ、インクジェット装置6のノズルから液滴が吐出され、順次基板10上の定められた位置に付着していく。
本実施例では、液滴を納めるための隔壁(土手)1aを設けたパターン基板を使用し、具体的には、図3のようなものである。液滴は、各々の隔壁(土手)1a内に順次吐出された。ドットピッチは、200μmとしたが、ドット形状を含めて特に限定されるものではない。
As shown in FIG. 2, in the substrate manufacturing apparatus, the substrate 10 placed on the substrate stage 9 is sequentially sent relative to the ink jet head, and droplets are ejected from the nozzles of the ink jet device 6. It adheres to a predetermined position on 10.
In this embodiment, a pattern substrate provided with partition walls (banks) 1a for containing droplets is used, and specifically, as shown in FIG. The liquid droplets were sequentially discharged into each partition wall (bank) 1a. The dot pitch is 200 μm, but is not particularly limited including the dot shape.

更に基板ステージ9は順次送られ、液滴塗布後すぐに電磁波照射部(赤外線照射装置)7により赤外線11が照射され、基板付着直後の液滴12形状から基板付着後に広がった液滴13形状になった状態で、液滴は乾燥され、膜14が形成された。
ここで、すぐに赤外線11での乾燥を行わずに基板10全面に液滴の吐出を行った後に乾燥処理した場合と、インクジェット装置6での塗布後に各液滴を赤外線照射装置7により順次乾燥した場合(本実施例の場合)とを比較した結果、後者の場合の方が各ドット15a間の膜厚差を抑制することができた。これは、液滴塗布後に各液滴から溶媒が蒸発していくが、すぐに赤外線照射装置7を用いずに放置した場合は各液滴での蒸発していく速度が異なり、つまりは乾燥により膜厚差を生じてしまうのに対して、すぐに赤外線照射装置7を用いた場合は、液滴塗布直後に乾燥が開始されるので、各液滴が均等な乾燥過程となり、膜厚差が生じにくくなるためである。
本実施例では、液滴塗布後の各液滴に対する電磁波11の照射強度は一定としたが、順に小→大→小となるように制御することとしてもよい。極端な加熱冷却を抑制することができるので、安定した乾燥を行うことが可能となる。このような場合には、液滴塗布後の電磁波照射部7を複数設けてもよい。照射時間が不足しているが照射強度を上げることができない場合等にも適用することができる。また、膜厚分布を抑制するために、最初の液滴から最後の液滴に対して照射強度を変更してもよく、例えば、前半から後半へ徐々に照射強度を大きくしたり、その逆に小さくしたりすることとしてもよい。
更に、インクジェット装置6におけるノズルの形態としては、複数ノズル(吐出穴が複数)又は単数ノズル(吐出穴が1つ)のいずれであってもよく、また、ヘッドの形態としても、複数ヘッド又は単数ヘッドのいずれであってもよいが、生産性の点から、複数ノズルで複数ヘッドの形態が好ましく、この場合には、各ノズルに対応した電磁波照射部7を併置することがより好ましい。
そして、素子作製に当たっては、塗布及び乾燥の雰囲気は、大気中よりも不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましく、更に、水分濃度がppmオーダー以下であることや、酸素濃度がppmオーダー以下であることが好ましい。
Further, the substrate stage 9 is sequentially sent, and immediately after applying the droplet, the electromagnetic wave irradiation unit (infrared irradiation device) 7 irradiates the infrared ray 11 to change the shape of the droplet 12 immediately after the substrate is attached to the shape of the droplet 13 spreading after the substrate is attached. In this state, the droplet was dried and a film 14 was formed.
Here, when the drying process is performed after the droplets are ejected to the entire surface of the substrate 10 without immediately drying with the infrared rays 11, the droplets are sequentially dried by the infrared irradiation device 7 after being applied by the inkjet device 6. As a result of comparison with the case (in this example), the latter case was able to suppress the film thickness difference between the dots 15a. This is because the solvent evaporates from each droplet after droplet application, but the rate at which each droplet evaporates differs immediately when left without using the infrared irradiation device 7, that is, by drying. In contrast to the film thickness difference, when the infrared irradiation device 7 is used immediately, the drying starts immediately after the droplet application, so that each droplet becomes a uniform drying process, and the film thickness difference is reduced. This is because it is difficult to occur.
In this embodiment, the irradiation intensity of the electromagnetic wave 11 with respect to each droplet after the droplet application is constant, but it may be controlled so that the order is small → large → small. Since extreme heating and cooling can be suppressed, stable drying can be performed. In such a case, a plurality of electromagnetic wave irradiation sections 7 after applying the droplets may be provided. The present invention can also be applied to cases where the irradiation time is insufficient but the irradiation intensity cannot be increased. In order to suppress the film thickness distribution, the irradiation intensity may be changed from the first droplet to the last droplet. For example, the irradiation intensity is gradually increased from the first half to the second half, and vice versa. It may be made smaller.
Furthermore, the form of the nozzles in the ink jet apparatus 6 may be either a plurality of nozzles (a plurality of ejection holes) or a single nozzle (a single ejection hole), and the form of the head may be a plurality of heads or a singular. Any of the heads may be used, but from the viewpoint of productivity, a form of a plurality of heads with a plurality of nozzles is preferable. In this case, it is more preferable that the electromagnetic wave irradiation unit 7 corresponding to each nozzle is juxtaposed.
In preparing the device, the atmosphere for coating and drying is preferably performed in an inert gas atmosphere rather than in the air, and the moisture concentration is on the order of ppm or less, and the oxygen concentration is on the order of ppm or less. It is preferable.

上記基板製造装置を用いて作製された膜14は、ドット15a間の膜厚の分布が抑制され、膜平坦性が高いものであった。更に陽極/正孔輸送層/高分子発光層/陰極からなる構造の有機EL表示装置を作製したところ、発光の均一性を向上することができた。
なお、ドットの平面形状としては、特に限定されるものではなく、長方形、楕円形、多角形等であってもよい。また1ドットを一つの膜形成領域としてもよいし、あるいは複数のドットをまとめて一つの膜形成領域としてもよい。実施例で作製した有機EL素子のものと異なるドット配置の一例として、図4−a及び図4−bに、有機EL素子の別例の基本的な構造を示す。
The film 14 produced using the substrate manufacturing apparatus had a high film flatness with suppressed film thickness distribution between the dots 15a. Furthermore, when an organic EL display device having a structure comprising an anode / hole transport layer / polymer light emitting layer / cathode was produced, the uniformity of light emission could be improved.
The planar shape of the dot is not particularly limited, and may be a rectangle, an ellipse, a polygon, or the like. One dot may be used as one film forming area, or a plurality of dots may be combined into one film forming area. As an example of a dot arrangement different from that of the organic EL element produced in the example, FIGS. 4A and 4B show a basic structure of another example of the organic EL element.

実施例で使用した本発明の基板製造装置の要部を示す側面模式図である。It is a side surface schematic diagram which shows the principal part of the board | substrate manufacturing apparatus of this invention used in the Example. 図1の基板製造装置から液滴に対して電磁波が照射される様子を示す側面模式図である。It is a side surface schematic diagram which shows a mode that electromagnetic waves are irradiated with respect to a droplet from the board | substrate manufacturing apparatus of FIG. 実施例で作製した有機EL素子の基本的な構造を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the basic structure of the organic EL element produced in the Example. 図3−aに示した有機EL素子の平面模式図である。FIG. 3 is a schematic plan view of the organic EL element shown in FIG. 有機EL素子の別例の基本的な構造を示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the basic structure of another example of an organic EL element. 図4−aに示した有機EL素子の平面模式図である。FIG. 4 is a schematic plan view of the organic EL element shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1:支持基板
1a、1b:隔壁
2:第一の電極
3:有機層
4:第二の電極
5:封止材
6:液滴塗布部(インクジェット装置)
7:電磁波照射部
9:基板ステージ
10:基板
11:電磁波(赤外線)
12:基板付着直後の液滴
13:基板付着後に広がった液滴
14:膜
15a、15b:ドット
1: support substrate 1a, 1b: partition wall 2: first electrode 3: organic layer 4: second electrode 5: sealing material 6: droplet application part (inkjet device)
7: Electromagnetic wave irradiation unit 9: Substrate stage 10: Substrate 11: Electromagnetic wave (infrared ray)
12: Droplet immediately after substrate attachment 13: Droplet spread after substrate attachment 14: Film 15a, 15b: Dot

Claims (7)

基板上に液滴塗布部から液滴を付着させ、電磁波照射部により電磁波を照射して薄膜を形成する工程に用いられる基板製造装置であって、
該基板製造装置は、液滴を基板上に付着させた後、順次電磁波を照射するものであることを特徴とする基板製造装置。
A substrate manufacturing apparatus used in a process of forming a thin film by attaching a droplet from a droplet application unit on a substrate and irradiating an electromagnetic wave by an electromagnetic wave irradiation unit,
The substrate manufacturing apparatus irradiates electromagnetic waves sequentially after depositing droplets on the substrate.
前記基板製造装置は、基板上に液滴が付着し広がり始める時間間隔以上を設けて液滴に電磁波を照射するものであることを特徴とする請求項1記載の基板製造装置。 2. The substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the substrate manufacturing apparatus irradiates the droplets with electromagnetic waves for a time interval at which a droplet starts to adhere and spread on the substrate. 前記基板製造装置は、液滴塗布部と電磁波照射部とが間隔を置いて設置されたものであることを特徴とする請求項1又は2記載の基板製造装置。 3. The substrate manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the substrate manufacturing apparatus has a droplet applying unit and an electromagnetic wave irradiation unit installed at an interval. 前記基板上に液滴が付着してから電磁波照射までの時間及び電磁波を照射している時間は、各液滴で略同じになることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板製造装置。 The time from when a droplet is deposited on the substrate to when the electromagnetic wave is irradiated and the time when the electromagnetic wave is irradiated are substantially the same for each droplet. Board manufacturing equipment. 請求項1〜4のいずれかに記載の基板製造装置を用いてなることを特徴とする基板製造方法。 A substrate manufacturing method using the substrate manufacturing apparatus according to claim 1. 請求項1〜4のいずれかに記載の基板製造装置により作製されてなることを特徴とする電子表示装置。 An electronic display device manufactured by the substrate manufacturing apparatus according to claim 1. 前記電子表示装置は、電子エレクトロルミネッセンス表示装置であることを特徴とする請求項6記載の電子表示装置。 The electronic display device according to claim 6, wherein the electronic display device is an electronic electroluminescence display device.
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