JP2009181932A - Method for manufacturing organic el element, organic el element, and organic el system - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that reduction of uneven luminance is difficult on a conventional organic EL element. <P>SOLUTION: In a manufacturing method for an organic EL element 27 having a first light-emitting layer 69 arranged on a first substrate 41 and a second light-emitting layer 77 arranged on the first light-emitting layer 69, in which the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 are overlapped at a plane view, the manufacturing method comprises: a first step of forming the first light-emitting layer 69; and a second step of forming the second light-emitting layer 77 after completing the first step. The first step includes a step where a liquid body including a material of the first light-emitting layer 69 is arranged on the first substrate by an applying method. The second step includes a step where a liquid body including a material of the second light-emitting layer 77 is arranged on a range overlapped on the first light-emitting layer by an applying method at a plane view. Each of the first step and the second step includes steps different with each other. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL素子の製造方法、有機EL素子及び有機EL装置に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL element, an organic EL element, and an organic EL device.

従来から、有機材料で構成された発光層が一対の電極間に介在し、一対の電極間に電圧を印加することによって発光層を発光させることができる有機EL(Electro Luminescence)素子が知られている。そして、複数の有機EL素子を有する有機EL装置が、画像を表示する表示装置として利用されてきている。
このような有機EL装置では、発光層の形成材料を含む液状体を液滴吐出法で基板上に配置してから、液状体に乾燥処理を施すことによって、各有機EL素子の発光層を形成する方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。
Conventionally, there has been known an organic EL (Electro Luminescence) element in which a light-emitting layer made of an organic material is interposed between a pair of electrodes, and the light-emitting layer can emit light by applying a voltage between the pair of electrodes. Yes. An organic EL device having a plurality of organic EL elements has been used as a display device for displaying an image.
In such an organic EL device, a liquid material containing a light emitting layer forming material is placed on a substrate by a droplet discharge method, and then the liquid material is dried to form a light emitting layer of each organic EL element. There is a known method (see, for example, Patent Document 1).

特開2007−110156号公報JP 2007-110156 A

ところで、有機EL素子において、液滴吐出法などの塗布法で形成した発光層では、断面の形状が、基板側に向かって凹となる凹状や、基板とは反対側に向かって凸となる凸状になることがある。断面の形状が凹状や凸状になっていると、発光層には、厚みが厚い部分と薄い部分とを有する膜厚分布が生じることがある。発光層に厚みが厚い部分と薄い部分とがあると、厚い部分と薄い部分との間で輝度に差異が生じやすい。
つまり、従来の有機EL素子では、輝度ムラを軽減することが困難であるという未解決の課題がある。
By the way, in the organic EL element, in the light emitting layer formed by a coating method such as a droplet discharge method, the cross-sectional shape is a concave shape that is concave toward the substrate side, or a convex shape that is convex toward the opposite side of the substrate. May form. When the cross-sectional shape is concave or convex, the light emitting layer may have a film thickness distribution having a thick part and a thin part. If the light emitting layer has a thick portion and a thin portion, a difference in luminance tends to occur between the thick portion and the thin portion.
That is, the conventional organic EL element has an unsolved problem that it is difficult to reduce luminance unevenness.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現され得る。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]基板上に設けられた第1発光層と、前記第1発光層上に設けられた第2発光層とを有し、平面視で前記第1発光層と前記第2発光層とが重なっている有機EL素子の製造方法であって、前記第1発光層を形成する第1工程と、前記第1工程の後に前記第2発光層を形成する第2工程と、を有し、前記第1工程には、前記第1発光層の材料を含む液状体を、前記基板上に塗布法で配置する工程が含まれており、前記第2工程には、前記第2発光層の材料を含む液状体を、平面視で前記第1発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれており、前記第1工程及び前記第2工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 1 A first light emitting layer provided on a substrate and a second light emitting layer provided on the first light emitting layer, and the first light emitting layer and the second light emitting layer in a plan view. A first step of forming the first light-emitting layer, and a second step of forming the second light-emitting layer after the first step. The first step includes a step of disposing a liquid containing the material of the first light emitting layer on the substrate by a coating method, and the second step includes the step of forming the second light emitting layer. A step of disposing a liquid material containing a material in a region overlapping with the first light emitting layer in a plan view, the first step and the second step including different steps from each other; A method for producing an organic EL element, comprising:

適用例1の製造方法にかかる有機EL素子は、第1発光層と、第2発光層とを有している。第1発光層は、基板上に設けられている。第2発光層は、第1発光層上に設けられている。第1発光層と第2発光層とは、平面視で重なっている。
この有機EL素子の製造方法は、第1発光層を形成する第1工程と、第1工程の後に第2発光層を形成する第2工程とを有している。第1工程には、第1発光層の材料を含む液状体を、基板上に塗布法で配置する工程が含まれている。第2工程には、第2発光層の材料を含む液状体を、平面視で第1発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれている。そして、第1工程及び第2工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいる。このため、第1発光層と第2発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第1発光層と第2発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第1発光層と第2発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
The organic EL element according to the manufacturing method of Application Example 1 includes a first light emitting layer and a second light emitting layer. The first light emitting layer is provided on the substrate. The second light emitting layer is provided on the first light emitting layer. The first light emitting layer and the second light emitting layer overlap in plan view.
This method for manufacturing an organic EL element includes a first step of forming a first light emitting layer and a second step of forming a second light emitting layer after the first step. The first step includes a step of arranging a liquid containing the material of the first light emitting layer on the substrate by a coating method. The second step includes a step of arranging a liquid containing the material of the second light emitting layer by a coating method in a region overlapping the first light emitting layer in plan view. Each of the first step and the second step includes different steps. For this reason, the tendency of the film thickness distribution can be easily made different between the first light emitting layer and the second light emitting layer. Thereby, it is possible to easily complement the thin portions of the first light emitting layer and the second light emitting layer with each other. As a result, the luminance unevenness caused by the film thickness distribution can be easily complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, and the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例2]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第1乾燥工程を含んでおり、前記第2工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第2乾燥工程を含んでおり、前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程は、乾燥条件が互いに異なる工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 2 In the above-described method for manufacturing an organic EL element, the first step includes a first drying step of drying the liquid after the step of disposing the liquid. The two steps include a second drying step of drying the liquid after the step of disposing the liquid, and the first drying step and the second drying step are steps having different drying conditions. The manufacturing method of the organic EL element characterized by the above-mentioned.

適用例2では、第1工程が第1乾燥工程を含み、第2工程が第2乾燥工程を含んでいる。第1乾燥工程では、第1発光層の材料を含む液状体を乾燥させる。第2乾燥工程では、第2発光層の材料を含む液状体を乾燥させる。そして、第1乾燥工程と第2乾燥工程とは、乾燥条件が互いに異なる工程である。
この製造方法では、第1乾燥工程の乾燥条件と第2乾燥工程の乾燥条件が互いに異なるので、第1発光層と第2発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第1発光層と第2発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第1発光層と第2発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
In Application Example 2, the first step includes a first drying step, and the second step includes a second drying step. In the first drying step, the liquid containing the material of the first light emitting layer is dried. In the second drying step, the liquid containing the material of the second light emitting layer is dried. The first drying process and the second drying process are processes with different drying conditions.
In this manufacturing method, the drying conditions in the first drying step and the drying conditions in the second drying step are different from each other, so that the tendency of the film thickness distribution can be easily made different between the first light emitting layer and the second light emitting layer. . Thereby, it is possible to easily complement the thin portions of the first light emitting layer and the second light emitting layer with each other. As a result, the luminance unevenness caused by the film thickness distribution can be easily complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, and the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例3]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程は、乾燥速度が互いに異なる工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 3 A method for manufacturing an organic EL element according to the above-described method, wherein the first drying step and the second drying step are steps having different drying rates.

適用例3では、第1乾燥工程と第2乾燥工程とは、乾燥速度が互いに異なっている。この製造方法では、第1乾燥工程の乾燥速度と第2乾燥工程の乾燥速度が互いに異なるので、第1発光層と第2発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第1発光層と第2発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第1発光層と第2発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。   In Application Example 3, the first drying step and the second drying step have different drying speeds. In this manufacturing method, since the drying speed of the first drying step and the drying speed of the second drying step are different from each other, the tendency of the film thickness distribution can be easily made different between the first light emitting layer and the second light emitting layer. . Thereby, it is possible to easily complement the thin portions of the first light emitting layer and the second light emitting layer with each other. As a result, the luminance unevenness caused by the film thickness distribution can be easily complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, and the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例4]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程のそれぞれでは、各前記液状体を減圧乾燥法で乾燥させることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 4 In the above-described organic EL device manufacturing method, in each of the first drying step and the second drying step, each liquid material is dried by a reduced pressure drying method. Device manufacturing method.

適用例4では、第1乾燥工程及び第2乾燥工程のそれぞれにおいて、各液状体を減圧乾燥法で乾燥させることができる。   In the application example 4, in each of the first drying step and the second drying step, each liquid material can be dried by a reduced pressure drying method.

[適用例5]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程は、減圧速度が互いに異なる工程であることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 5 A method for manufacturing an organic EL element according to the above-described method, wherein the first drying step and the second drying step are steps having different pressure reduction rates.

適用例5では、第1乾燥工程と第2乾燥工程とは、減圧速度が互いに異なっている。これにより、第1乾燥工程の乾燥速度と第2乾燥工程の乾燥速度とを互いに異ならせやすくすることができる。   In Application Example 5, the first drying step and the second drying step have different pressure reduction rates. Thereby, it is possible to easily make the drying speed of the first drying process different from the drying speed of the second drying process.

[適用例6]基板上に設けられた第1発光層と、前記第1発光層上に設けられた第2発光層とを有し、平面視で前記第1発光層と前記第2発光層とが重なっている有機EL素子の製造方法であって、前記第1発光層を形成する第1工程と、前記第1工程の後に、前記第2発光層を形成する第2工程と、を有し、前記第1工程には、前記基板上に前記第1発光層の材料を含む第1液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、前記第2工程には、平面視で前記第1発光層に重なる領域に前記第2発光層の材料を含む第2液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、前記第1液状体と前記第2液状体とは、互いに組成が異なることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   [Application Example 6] A first light emitting layer provided on a substrate and a second light emitting layer provided on the first light emitting layer, and the first light emitting layer and the second light emitting layer in plan view. A method of manufacturing an organic EL device in which the first light emitting layer is formed and a second step of forming the second light emitting layer after the first step. The first step includes a step of disposing a first liquid material containing the material of the first light emitting layer on the substrate by a coating method, and the second step includes the step of viewing the plane in a plan view. A step of disposing a second liquid containing the material of the second light-emitting layer in a region overlapping the first light-emitting layer by a coating method, wherein the first liquid and the second liquid are composed of each other; The manufacturing method of the organic EL element characterized by the above-mentioned.

適用例6の製造方法にかかる有機EL素子は、第1発光層と、第2発光層とを有している。第1発光層は、基板上に設けられている。第2発光層は、第1発光層上に設けられている。第1発光層と第2発光層とは、平面視で重なっている。
この有機EL素子の製造方法は、第1発光層を形成する第1工程と、第1工程の後に第2発光層を形成する第2工程とを有している。第1工程には、第1発光層の材料を含む第1液状体を、基板上に塗布法で配置する工程が含まれている。第2工程には、第2発光層の材料を含む第2液状体を、平面視で第1発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれている。
そして、第1液状体と第2液状体とは、互いに組成が異なっている。このため、第1発光層と第2発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第1発光層と第2発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第1発光層と第2発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。
The organic EL element according to the manufacturing method of Application Example 6 includes a first light emitting layer and a second light emitting layer. The first light emitting layer is provided on the substrate. The second light emitting layer is provided on the first light emitting layer. The first light emitting layer and the second light emitting layer overlap in plan view.
This method for manufacturing an organic EL element includes a first step of forming a first light emitting layer and a second step of forming a second light emitting layer after the first step. The first step includes a step of disposing a first liquid material containing the material of the first light emitting layer on the substrate by a coating method. The second step includes a step of arranging the second liquid material containing the material of the second light emitting layer by a coating method in a region overlapping the first light emitting layer in plan view.
The first liquid body and the second liquid body have different compositions. For this reason, the tendency of the film thickness distribution can be easily made different between the first light emitting layer and the second light emitting layer. Thereby, it is possible to easily complement the thin portions of the first light emitting layer and the second light emitting layer with each other. As a result, the luminance unevenness caused by the film thickness distribution can be easily complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, and the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例7]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1液状体と前記第2液状体とは、それぞれ有機物を含んでおり、前記第1液状体に含まれる前記有機物と、前記第2液状体に含まれる前記有機物とは、互いに分子量が異なることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 7 In the method of manufacturing the organic EL element, the first liquid body and the second liquid body each include an organic substance, and the organic substance included in the first liquid body; The method of manufacturing an organic EL element, wherein the organic substances contained in the second liquid material have different molecular weights.

適用例7では、第1液状体と第2液状体とは、それぞれ有機物を含んでいる。そして、第1液状体に含まれる有機物と、第2液状体に含まれる有機物とは、互いに分子量が異なっている。このため、第1発光層と第2発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第1発光層と第2発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第1発光層と第2発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。   In Application Example 7, each of the first liquid body and the second liquid body contains an organic substance. The organic matter contained in the first liquid and the organic matter contained in the second liquid have different molecular weights. For this reason, the tendency of the film thickness distribution can be easily made different between the first light emitting layer and the second light emitting layer. Thereby, it is possible to easily complement the thin portions of the first light emitting layer and the second light emitting layer with each other. As a result, the luminance unevenness caused by the film thickness distribution can be easily complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, and the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例8]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1液状体と前記第2液状体とは、それぞれ、液体と有機物とが混合した構成を有しており、前記第1液状体に含まれる前記液体と、前記第2液状体に含まれる前記液体とは、互いに種類が異なることを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 8 In the method of manufacturing the organic EL element, the first liquid body and the second liquid body have a configuration in which a liquid and an organic material are mixed, and the first liquid body and the second liquid body are mixed. The method for manufacturing an organic EL element, wherein the liquid contained in the liquid and the liquid contained in the second liquid are different from each other.

適用例8では、第1液状体と第2液状体とは、それぞれ、液体と有機物とが混合した構成を有している。そして、第1液状体に含まれる液体と、第2液状体に含まれる液体とは、互いに種類が異なっている。このため、第1発光層と第2発光層とで、膜厚分布の傾向を異ならせやすくすることができる。これにより、第1発光層と第2発光層とのそれぞれに、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完させやすくすることができる。この結果、膜厚分布に起因する輝度ムラを第1発光層と第2発光層とで互いに補完させやすくすることができ、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。   In Application Example 8, each of the first liquid body and the second liquid body has a configuration in which a liquid and an organic substance are mixed. The liquid contained in the first liquid and the liquid contained in the second liquid are different from each other. For this reason, the tendency of the film thickness distribution can be easily made different between the first light emitting layer and the second light emitting layer. Thereby, it is possible to easily complement the thin portions of the first light emitting layer and the second light emitting layer with each other. As a result, the luminance unevenness caused by the film thickness distribution can be easily complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, and the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例9]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1工程の後に、前記第2液状体に対して耐性を有する中間層を前記第1発光層上に形成する第3工程を有し、前記第2工程では、前記第2発光層を前記中間層に重ねて形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。   Application Example 9 In the above-described organic EL device manufacturing method, a third step of forming an intermediate layer having resistance to the second liquid material on the first light emitting layer after the first step. And in the second step, the second light emitting layer is formed so as to overlap the intermediate layer.

適用例9の製造方法は、第1発光層上に中間層を形成する第3工程を有している。中間層は、第2液状体に対して耐性を有している。そして、第2工程では、第2発光層を中間層に重ねて形成する。このため、第1発光層を第2液状体から保護しつつ、第2発光層を形成することができる。   The manufacturing method of Application Example 9 includes a third step of forming an intermediate layer on the first light emitting layer. The intermediate layer is resistant to the second liquid. In the second step, the second light emitting layer is formed so as to overlap the intermediate layer. For this reason, the second light emitting layer can be formed while protecting the first light emitting layer from the second liquid material.

[適用例10]上記の有機EL素子の製造方法であって、前記第1工程は、前記基板上に配置された前記第1液状体に、前記第2液状体に対する耐性を付与する工程を含んでおり、前記第2工程では、前記第2発光層を前記第1発光層に重ねて形成することを特徴とする有機EL素子の製造方法。   [Application Example 10] In the method of manufacturing the organic EL element, the first step includes a step of imparting resistance to the second liquid material to the first liquid material disposed on the substrate. In the second step, the second light-emitting layer is formed so as to overlap the first light-emitting layer.

適用例10では、第1工程は、基板上に配置された第1液状体に、第2液状体に対する耐性を付与する工程を含んでいる。そして、第2工程では、第2発光層を第1発光層に重ねて形成する。このため、第1発光層を第2液状体から保護しつつ、第2発光層を形成することができる。   In Application Example 10, the first step includes a step of imparting resistance to the second liquid material to the first liquid material arranged on the substrate. In the second step, the second light emitting layer is formed so as to overlap the first light emitting layer. For this reason, the second light emitting layer can be formed while protecting the first light emitting layer from the second liquid material.

[適用例11]基板と、前記基板上に設けられた第1発光層と、前記第1発光層上に設けられた第2発光層と、を有し、前記第2発光層は、平面視で前記第1発光層に重なっており、前記第1発光層と前記第2発光層とは、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完していることを特徴とする有機EL素子。   Application Example 11 A substrate, a first light-emitting layer provided on the substrate, and a second light-emitting layer provided on the first light-emitting layer, and the second light-emitting layer in plan view In the organic EL element, the first light emitting layer overlaps the first light emitting layer, and the first light emitting layer and the second light emitting layer complement each other with a thin portion.

適用例11の有機EL素子は、基板と、第1発光層と、第2発光層とを有している。第1発光層は、基板上に設けられている。第2発光層は、第1発光層上に設けられており、平面視で第1発光層に重なっている。そして、第1発光層と第2発光層とは、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完している。このため、膜厚分布に起因する輝度ムラが第1発光層と第2発光層とで互いに補完されるので、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。   The organic EL element of Application Example 11 includes a substrate, a first light emitting layer, and a second light emitting layer. The first light emitting layer is provided on the substrate. The second light emitting layer is provided on the first light emitting layer and overlaps the first light emitting layer in plan view. And the 1st light emitting layer and the 2nd light emitting layer mutually complement the thin part in each thickness. For this reason, since the luminance unevenness resulting from the film thickness distribution is complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced.

[適用例12]上記の有機EL素子であって、前記第1発光層と前記第2発光層とは、中間層を介して重なっていることを特徴とする有機EL素子。   Application Example 12 In the organic EL element described above, the first light emitting layer and the second light emitting layer overlap with each other through an intermediate layer.

[適用例13]複数の画素が設定されており、各前記画素に対応して、上記の有機EL素子を有することを特徴とする有機EL装置。   Application Example 13 An organic EL device in which a plurality of pixels are set and the organic EL element is provided corresponding to each pixel.

適用例13の有機EL装置は、複数の画素の各画素に対応して、有機EL素子を有している。このため、画素ごとに有機EL素子を駆動することにより、画像を表示させることができる。
また、各有機EL素子では、第1発光層と第2発光層とが、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完している。このため、膜厚分布に起因する輝度ムラが第1発光層と第2発光層とで互いに補完されるので、有機EL素子の輝度ムラを軽減しやすくすることができる。そして、この有機EL装置は、輝度ムラが軽減された有機EL素子を有しているので、画像の表示品位の向上が図られる。
The organic EL device of Application Example 13 has an organic EL element corresponding to each pixel of the plurality of pixels. For this reason, an image can be displayed by driving an organic EL element for every pixel.
Moreover, in each organic EL element, the 1st light emitting layer and the 2nd light emitting layer mutually complement the thin part in each. For this reason, since the luminance unevenness resulting from the film thickness distribution is complemented by the first light emitting layer and the second light emitting layer, the luminance unevenness of the organic EL element can be easily reduced. Since this organic EL device has an organic EL element with reduced luminance unevenness, the display quality of the image can be improved.

実施形態について、有機EL装置を利用した表示装置を例に、図面を参照しながら説明する。
実施形態における表示装置1は、図1に示すように、表示面3を有している。
Embodiments will be described with reference to the drawings, taking a display device using an organic EL device as an example.
The display device 1 according to the embodiment has a display surface 3 as shown in FIG.

ここで、表示装置1には、複数の画素5が設定されている。複数の画素5は、表示領域7内で、図中のX方向及びY方向に配列しており、X方向を行方向とし、Y方向を列方向とするマトリクスMを構成している。表示装置1は、複数の画素5から選択的に表示面3を介して表示装置1の外に光を射出することで、表示面3に画像を表示することができる。なお、表示領域7とは、画像が表示され得る領域である。図1では、構成をわかりやすく示すため、画素5が誇張され、且つ画素5の個数が減じられている。   Here, a plurality of pixels 5 are set in the display device 1. The plurality of pixels 5 are arranged in the X direction and the Y direction in the drawing within the display area 7, and constitute a matrix M in which the X direction is the row direction and the Y direction is the column direction. The display device 1 can display an image on the display surface 3 by selectively emitting light from the plurality of pixels 5 to the outside of the display device 1 via the display surface 3. The display area 7 is an area where an image can be displayed. In FIG. 1, the pixels 5 are exaggerated and the number of the pixels 5 is reduced for easy understanding of the configuration.

表示装置1は、図1中のA−A線における断面図である図2に示すように、素子基板11と、封止基板13とを有している。
素子基板11には、表示面3側すなわち封止基板13側に、複数の画素5のそれぞれに対応して、後述する有機EL素子などが設けられている。
The display device 1 includes an element substrate 11 and a sealing substrate 13 as shown in FIG. 2 which is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
The element substrate 11 is provided with an organic EL element, which will be described later, corresponding to each of the plurality of pixels 5 on the display surface 3 side, that is, the sealing substrate 13 side.

封止基板13は、素子基板11よりも表示面3側で素子基板11に対向した状態で設けられている。素子基板11と封止基板13とは、接着剤16を介して接合されている。表示装置1では、有機EL素子は、接着剤16によって表示面3側から覆われている。
また、素子基板11と封止基板13との間は、表示装置1の周縁よりも内側で表示領域7を囲むシール材17によって封止されている。つまり、表示装置1では、有機EL素子と接着剤16とが、素子基板11及び封止基板13並びにシール材17によって封止されている。
The sealing substrate 13 is provided in a state facing the element substrate 11 on the display surface 3 side with respect to the element substrate 11. The element substrate 11 and the sealing substrate 13 are bonded via an adhesive 16. In the display device 1, the organic EL element is covered with the adhesive 16 from the display surface 3 side.
Further, the element substrate 11 and the sealing substrate 13 are sealed with a sealing material 17 that surrounds the display region 7 inside the periphery of the display device 1. That is, in the display device 1, the organic EL element and the adhesive 16 are sealed with the element substrate 11, the sealing substrate 13, and the sealing material 17.

ここで、表示装置1における複数の画素5は、それぞれ、表示面3から射出する光の色が、図3に示すように、赤系(R)、緑系(G)及び青系(B)のうちの1つに設定されている。つまり、マトリクスMを構成する複数の画素5は、Rの光を射出する画素5rと、Gの光を射出する画素5gと、Bの光を射出する画素5bとを含んでいる。
なお、以下においては、画素5という表記と、画素5r、5g及び5bという表記とが、適宜、使いわけられる。
Here, each of the plurality of pixels 5 in the display device 1 has a red color (R), a green color (G), and a blue color (B) as shown in FIG. Is set to one of these. That is, the plurality of pixels 5 constituting the matrix M include a pixel 5r that emits R light, a pixel 5g that emits G light, and a pixel 5b that emits B light.
In the following description, the expression “pixel 5” and the expressions “pixels 5r, 5g, and 5b” are appropriately used.

ここで、Rの色は、純粋な赤の色相に限定されず、橙等を含む。Gの色は、純粋な緑の色相に限定されず、青緑や黄緑を含む。Bの色は、純粋な青の色相に限定されず、青紫や青緑等を含む。他の観点から、Rの色を呈する光は、光の波長のピークが、可視光領域で570nm以上の範囲にある光であると定義され得る。また、Gの色を呈する光は、光の波長のピークが500nm〜565nmの範囲にある光であると定義され得る。Bの色を呈する光は、光の波長のピークが415nm〜495nmの範囲にある光であると定義され得る。   Here, the color of R is not limited to a pure red hue, and includes orange and the like. The color of G is not limited to a pure green hue, and includes blue-green and yellow-green. The color of B is not limited to a pure blue hue, and includes bluish purple and blue-green. From another viewpoint, light exhibiting the color of R can be defined as light having a light wavelength peak in a range of 570 nm or more in the visible light region. The light exhibiting the color G can be defined as light having a light wavelength peak in the range of 500 nm to 565 nm. Light exhibiting the color B can be defined as light having a light wavelength peak in the range of 415 nm to 495 nm.

マトリクスMでは、Y方向に沿って並ぶ複数の画素5が、1つの画素列18を構成している。また、X方向に沿って並ぶ複数の画素5が、1つの画素行19を構成している。1つの画素列18内の各画素5は、光の色がR、G及びBのうちの1つに設定されている。つまり、マトリクスMは、複数の画素5rがY方向に配列した画素列18rと、複数の画素5gがY方向に配列した画素列18gと、複数の画素5bがY方向に配列した画素列18bとを有している。そして、表示装置1では、画素列18r、画素列18g及び画素列18bが、この順でX方向に沿って反復して並んでいる。
なお、以下においては、画素列18という表記と、画素列18r、画素列18g及び画素列18bという表記とが、適宜、使いわけられる。
In the matrix M, a plurality of pixels 5 arranged along the Y direction form one pixel column 18. A plurality of pixels 5 arranged along the X direction form one pixel row 19. Each pixel 5 in one pixel column 18 has a light color set to one of R, G, and B. That is, the matrix M includes a pixel column 18r in which a plurality of pixels 5r are arranged in the Y direction, a pixel column 18g in which the plurality of pixels 5g are arranged in the Y direction, and a pixel column 18b in which the plurality of pixels 5b are arranged in the Y direction. have. In the display device 1, the pixel column 18r, the pixel column 18g, and the pixel column 18b are repeatedly arranged in this order along the X direction.
In the following, the notation of the pixel column 18 and the notation of the pixel column 18r, the pixel column 18g, and the pixel column 18b are appropriately used.

表示装置1は、回路構成を示す図である図4に示すように、画素5ごとに、TFT(Thin Film Transistor)素子21と、TFT素子23と、保持容量25と、有機EL素子27とを有している。各有機EL素子27は、画素電極29と、有機層31と、共通電極33とを有している。
また、表示装置1は、走査線駆動回路34と、データ線駆動回路35と、複数の走査線36と、複数のデータ線37と、複数の電源線38とを有している。
As shown in FIG. 4, which is a diagram showing a circuit configuration, the display device 1 includes a TFT (Thin Film Transistor) element 21, a TFT element 23, a storage capacitor 25, and an organic EL element 27 for each pixel 5. Have. Each organic EL element 27 has a pixel electrode 29, an organic layer 31, and a common electrode 33.
Further, the display device 1 includes a scanning line driving circuit 34, a data line driving circuit 35, a plurality of scanning lines 36, a plurality of data lines 37, and a plurality of power supply lines 38.

複数の走査線36は、それぞれ走査線駆動回路34につながっており、Y方向に互いに間隔をあけた状態でX方向に延びている。
複数のデータ線37は、それぞれデータ線駆動回路35につながっており、X方向に互いに間隔をあけた状態でY方向に延びている。
複数の電源線38は、X方向に互いに間隔をあけた状態で、且つ各電源線38と各データ線37とがX方向に間隔をあけた状態でY方向に延びている。
The plurality of scanning lines 36 are respectively connected to the scanning line driving circuit 34 and extend in the X direction with a space therebetween in the Y direction.
The plurality of data lines 37 are respectively connected to the data line driving circuit 35, and extend in the Y direction with a space therebetween in the X direction.
The plurality of power supply lines 38 extend in the Y direction with the power supply lines 38 and the data lines 37 spaced in the X direction, with the power supply lines 38 spaced from each other in the X direction.

各画素5は、各走査線36と各データ線37との交差に対応して設定されている。各走査線36は、図3に示す各画素行19に対応している。各データ線37及び各電源線38は、それぞれ、図3に示す各画素列18に対応している。
図4に示す各TFT素子21のゲート電極は、対応する各走査線36に電気的につながっている。各TFT素子21のソース電極は、対応する各データ線37に電気的につながっている。TFT素子21のドレイン電極は、TFT素子23のゲート電極及び保持容量25の一方の電極に電気的につながっている。
Each pixel 5 is set corresponding to the intersection of each scanning line 36 and each data line 37. Each scanning line 36 corresponds to each pixel row 19 shown in FIG. Each data line 37 and each power line 38 correspond to each pixel column 18 shown in FIG.
The gate electrode of each TFT element 21 shown in FIG. 4 is electrically connected to the corresponding scanning line 36. The source electrode of each TFT element 21 is electrically connected to each corresponding data line 37. The drain electrode of the TFT element 21 is electrically connected to the gate electrode of the TFT element 23 and one electrode of the storage capacitor 25.

保持容量25の他方の電極と、TFT素子23のソース電極は、それぞれ、対応する各電源線38に電気的につながっている。
各TFT素子23のドレイン電極は、各画素電極29に電気的につながっている。各画素電極29と共通電極33とは、画素電極29を陽極とし、共通電極33を陰極とする一対の電極を構成している。
ここで、共通電極33は、マトリクスMを構成する複数の画素5間にわたって一連した状態で設けられており、複数の画素5間にわたって共通して機能する。
各画素電極29と共通電極33との間に介在する有機層31は、有機材料で構成されており、後述する発光層を含んだ構成を有している。
The other electrode of the storage capacitor 25 and the source electrode of the TFT element 23 are electrically connected to the corresponding power supply lines 38, respectively.
The drain electrode of each TFT element 23 is electrically connected to each pixel electrode 29. Each pixel electrode 29 and the common electrode 33 constitute a pair of electrodes having the pixel electrode 29 as an anode and the common electrode 33 as a cathode.
Here, the common electrode 33 is provided in a series of states between the plurality of pixels 5 constituting the matrix M, and functions in common between the plurality of pixels 5.
The organic layer 31 interposed between each pixel electrode 29 and the common electrode 33 is made of an organic material and has a configuration including a light emitting layer to be described later.

TFT素子21は、このTFT素子21につながる走査線36に走査信号が供給されるとON状態となる。このとき、このTFT素子21につながるデータ線37からデータ信号が供給され、TFT素子23がON状態になる。TFT素子23のゲート電位は、データ信号の電位が保持容量25に一定の期間だけ保持されることによって、一定の期間だけ保持される。これにより、TFT素子23のON状態が一定の期間だけ保持される。   The TFT element 21 is turned on when a scanning signal is supplied to the scanning line 36 connected to the TFT element 21. At this time, a data signal is supplied from the data line 37 connected to the TFT element 21, and the TFT element 23 is turned on. The gate potential of the TFT element 23 is held for a certain period by holding the data signal potential in the holding capacitor 25 for a certain period. Thereby, the ON state of the TFT element 23 is held for a certain period.

TFT素子23のON状態が保持されているときに、TFT素子23のゲート電位に応じた電流が、電源線38から画素電極29と有機層31を経て共通電極33に流れる。そして、有機層31に含まれる発光層が、有機層31を流れる電流量に応じた輝度で発光する。表示装置1は、有機層31に含まれる発光層が発光し、発光層からの光が封止基板13を介して表示面3から射出されるトップエミッション型の有機EL装置の1つである。なお、表示装置1では、表示面3側という表現が上側とも表現され、底面15側という表現が下側とも表現される。   When the ON state of the TFT element 23 is maintained, a current corresponding to the gate potential of the TFT element 23 flows from the power supply line 38 to the common electrode 33 through the pixel electrode 29 and the organic layer 31. Then, the light emitting layer included in the organic layer 31 emits light with a luminance corresponding to the amount of current flowing through the organic layer 31. The display device 1 is one of top emission type organic EL devices in which a light emitting layer included in the organic layer 31 emits light, and light from the light emitting layer is emitted from the display surface 3 through the sealing substrate 13. In the display device 1, the expression “display surface 3 side” is also expressed as the upper side, and the expression “bottom surface 15 side” is also expressed as the lower side.

ここで、素子基板11及び封止基板13のそれぞれの構成について、詳細を説明する。
素子基板11は、図3中のC−C線における断面図である図5に示すように、第1基板41を有している。なお、図5では、構成をわかりやすく示すため、TFT素子21及び保持容量25並びにデータ線37が省略されている。
第1基板41は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面3側に向けられた第1面42aと、底面15側に向けられた第2面42bとを有している。
Here, the details of the configurations of the element substrate 11 and the sealing substrate 13 will be described.
The element substrate 11 has a first substrate 41 as shown in FIG. 5 which is a cross-sectional view taken along the line CC in FIG. In FIG. 5, the TFT element 21, the storage capacitor 25, and the data line 37 are omitted for easy understanding of the configuration.
The first substrate 41 is made of a light-transmitting material such as glass or quartz, for example, and includes a first surface 42a facing the display surface 3 side and a second surface 42b facing the bottom surface 15 side. have.

第1基板41の第1面42aには、ゲート絶縁膜43が設けられている。ゲート絶縁膜43の表示面3側には、絶縁膜45が設けられている。絶縁膜45の表示面3側には、絶縁膜47が設けられている。
また、第1基板41の第1面42aには、各画素5のTFT素子23に対応して、半導体層51が設けられている。半導体層51は、ゲート絶縁膜43によって表示面3側から覆われている。なお、ゲート絶縁膜43の材料としては、例えば酸化シリコンなどの材料が採用され得る。
A gate insulating film 43 is provided on the first surface 42 a of the first substrate 41. An insulating film 45 is provided on the display surface 3 side of the gate insulating film 43. An insulating film 47 is provided on the display surface 3 side of the insulating film 45.
A semiconductor layer 51 is provided on the first surface 42 a of the first substrate 41 so as to correspond to the TFT elements 23 of the respective pixels 5. The semiconductor layer 51 is covered with the gate insulating film 43 from the display surface 3 side. In addition, as a material of the gate insulating film 43, materials, such as a silicon oxide, can be employ | adopted, for example.

ゲート絶縁膜43の表示面3側には、平面視で半導体層51に重なる領域にゲート電極53が設けられている。ゲート電極53の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。ゲート電極53は、絶縁膜45によって表示面3側から覆われている。   On the display surface 3 side of the gate insulating film 43, a gate electrode 53 is provided in a region overlapping the semiconductor layer 51 in plan view. As a material of the gate electrode 53, for example, a metal such as aluminum, copper, molybdenum, tungsten, or chromium, or an alloy containing these metals can be used. The gate electrode 53 is covered with the insulating film 45 from the display surface 3 side.

絶縁膜45の表示面3側には、平面視で半導体層51のソース領域(図示せず)に重なる領域にソース電極55が設けられている。ソース電極55は、絶縁膜45及びゲート絶縁膜43に設けられたコンタクトホール57を介して半導体層51のソース領域(図示せず)につながっている。ソース電極55の材料としては、例えば、アルミニウム、銅、モリブデン、タングステン、クロムなどの金属や、これらを含む合金などが採用され得る。ソース電極55は、絶縁膜47によって表示面3側から覆われている。   On the display surface 3 side of the insulating film 45, a source electrode 55 is provided in a region overlapping a source region (not shown) of the semiconductor layer 51 in plan view. The source electrode 55 is connected to a source region (not shown) of the semiconductor layer 51 through a contact hole 57 provided in the insulating film 45 and the gate insulating film 43. As a material of the source electrode 55, for example, a metal such as aluminum, copper, molybdenum, tungsten, or chromium, or an alloy containing these metals can be employed. The source electrode 55 is covered with the insulating film 47 from the display surface 3 side.

絶縁膜47の表示面3側には、画素電極29が設けられている。画素電極29は、絶縁膜47、絶縁膜45及びゲート絶縁膜43に設けられたコンタクトホール59を介して半導体層51のドレイン領域(図示せず)につながっている。画素電極29の材料としては、例えば、銀、白金、アルミニウム、銅などの光反射性を有する金属や、これらを含む合金などが採用され得る。   A pixel electrode 29 is provided on the display surface 3 side of the insulating film 47. The pixel electrode 29 is connected to a drain region (not shown) of the semiconductor layer 51 through a contact hole 59 provided in the insulating film 47, the insulating film 45, and the gate insulating film 43. As a material of the pixel electrode 29, for example, a light-reflective metal such as silver, platinum, aluminum, or copper, or an alloy containing these metals can be employed.

画素電極29を陽極として機能させる場合には、銀、白金などの仕事関数が比較的高い材料を用いることが好ましい。また、画素電極29としてITO(Indium Tin Oxide)やインジウム亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide)などを用い、光反射性を有する部材を画素電極29と第1基板41との間に設けた構成も採用され得る。
また、絶縁膜45及び47の材料としては、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの材料が採用され得る。
When the pixel electrode 29 functions as an anode, it is preferable to use a material having a relatively high work function such as silver or platinum. Further, a configuration in which ITO (Indium Tin Oxide), indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide), or the like is used as the pixel electrode 29 and a light-reflective member is provided between the pixel electrode 29 and the first substrate 41 is also employed. Can be done.
Further, as the material of the insulating films 45 and 47, for example, materials such as silicon oxide, silicon nitride, and acrylic resin can be adopted.

隣り合う画素電極29同士の間には、各画素5を区画する絶縁膜61が領域62にわたって設けられている。絶縁膜61は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコン、アクリル系の樹脂などの光透過性を有する材料で構成されており、平面視で格子状に設けられている。絶縁膜61は、表示領域7にわたって設けられている。このため、表示領域7は、絶縁膜61によって複数の画素5の領域に区画されている。なお、各画素電極29は、絶縁膜61によって囲まれた各画素5の領域に平面視で重なっている。   An insulating film 61 that partitions each pixel 5 is provided across the region 62 between the adjacent pixel electrodes 29. The insulating film 61 is made of a light-transmitting material such as silicon oxide, silicon nitride, or acrylic resin, and is provided in a lattice shape in plan view. The insulating film 61 is provided over the display area 7. For this reason, the display region 7 is partitioned into regions of the plurality of pixels 5 by the insulating film 61. Each pixel electrode 29 overlaps the area of each pixel 5 surrounded by the insulating film 61 in plan view.

絶縁膜61の表示面3側には、各画素5の領域を囲むバンク63が設けられている。バンク63は、例えば、カーボンブラックやクロムなどの光吸収性が高い材料を含有するアクリル系の樹脂やポリイミドなどの樹脂で構成されており、平面視で格子状に設けられている。
画素電極29の表示面3側には、バンク63に囲まれた領域内に、有機層31が設けられている。ここで、表示装置1では、有機層31は、第1有機層31aと、第2有機層31bとを有している。
On the display surface 3 side of the insulating film 61, a bank 63 surrounding the area of each pixel 5 is provided. The bank 63 is made of, for example, an acrylic resin or a polyimide resin containing a material having a high light absorption property such as carbon black or chromium, and is provided in a lattice shape in plan view.
On the display surface 3 side of the pixel electrode 29, an organic layer 31 is provided in a region surrounded by the bank 63. Here, in the display device 1, the organic layer 31 includes a first organic layer 31 a and a second organic layer 31 b.

第1有機層31aは、各画素5に対応して設けられており、正孔注入層65と、第1正孔輸送層67と、第1発光層69とを有している。
正孔注入層65は、有機材料で構成されており、平面視で絶縁膜61によって囲まれた領域内で、画素電極29の表示面3側に設けられている。
正孔注入層65の有機材料としては、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)等のポリチオフェン誘導体と、ポリスチレンスルホン酸(PSS)等との混合物が採用され得る。正孔注入層65の有機材料としては、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやこれらの誘導体なども採用され得る。
The first organic layer 31 a is provided corresponding to each pixel 5 and includes a hole injection layer 65, a first hole transport layer 67, and a first light emitting layer 69.
The hole injection layer 65 is made of an organic material, and is provided on the display surface 3 side of the pixel electrode 29 in a region surrounded by the insulating film 61 in plan view.
As the organic material for the hole injection layer 65, a mixture of a polythiophene derivative such as 3,4-polyethylenedioxythiophene (PEDOT) and polystyrene sulfonic acid (PSS) or the like may be employed. As the organic material for the hole injection layer 65, polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, derivatives thereof, and the like may be employed.

第1正孔輸送層67は、有機材料で構成されており、平面視でバンク63によって囲まれた領域内で、正孔注入層65の表示面3側に設けられている。
第1正孔輸送層67の有機材料としては、例えば、下記化合物1として示されるTFBなどのトリフェニルアミン系ポリマーを含んだ構成が採用され得る。
The first hole transport layer 67 is made of an organic material, and is provided on the display surface 3 side of the hole injection layer 65 in a region surrounded by the banks 63 in plan view.
As the organic material of the first hole transport layer 67, for example, a configuration including a triphenylamine-based polymer such as TFB shown as the following compound 1 can be adopted.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

第1発光層69は、有機材料で構成されており、平面視でバンク63によって囲まれた領域内で、第1正孔輸送層67の表示面3側に設けられている。
Rの画素5rに対応する第1発光層69の有機材料としては、例えば、下記化合物2として示されるF8(ポリジオクチルフルオレン)と、ペリレン染料とを混合したものが採用され得る。
The first light emitting layer 69 is made of an organic material, and is provided on the display surface 3 side of the first hole transport layer 67 in a region surrounded by the banks 63 in plan view.
As the organic material of the first light emitting layer 69 corresponding to the R pixel 5r, for example, a mixture of F8 (polydioctylfluorene) shown as the following compound 2 and a perylene dye may be employed.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

Gの画素5gに対応する第1発光層69の有機材料としては、例えば、下記化合物3として示されるF8BTと、上記化合物1として示されるTFBと、上記化合物2として示されるF8とを混合したものが採用され得る。   The organic material of the first light emitting layer 69 corresponding to the G pixel 5g is, for example, a mixture of F8BT shown as the following compound 3, TFB shown as the compound 1 and F8 shown as the compound 2 Can be employed.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

Bの画素5bに対応する第1発光層69の有機材料としては、例えば、上記化合物2として示されるF8が採用され得る。   As the organic material of the first light emitting layer 69 corresponding to the B pixel 5b, for example, F8 shown as the compound 2 can be adopted.

第1有機層31aの表示面3側には、図5に示すように、バンク63に囲まれた領域内に、電子注入層71が設けられている。電子注入層71の材料としては、例えばカルシウムなどが採用され得る。
電子注入層71の表示面3側には、バンク63に囲まれた領域内に、電荷発生層73が設けられている。電荷発生層73の材料としては、例えば酸化バナジウムなどが採用され得る。
On the display surface 3 side of the first organic layer 31a, an electron injection layer 71 is provided in a region surrounded by the banks 63 as shown in FIG. As a material of the electron injection layer 71, for example, calcium or the like can be adopted.
On the display surface 3 side of the electron injection layer 71, a charge generation layer 73 is provided in a region surrounded by the bank 63. As a material of the charge generation layer 73, for example, vanadium oxide or the like can be adopted.

電荷発生層73の表示面3側には、バンク63に囲まれた領域内に、第2有機層31bが設けられている。
第2有機層31bは、各画素5に対応して設けられており、第2正孔輸送層75と、第2発光層77とを有している。
第2正孔輸送層75は、有機材料で構成されており、平面視でバンク63によって囲まれた領域内で、電荷発生層73の表示面3側に設けられている。第2正孔輸送層75の有機材料としては、例えば、上記化合物1として示されるTFBなどが採用され得る。
On the display surface 3 side of the charge generation layer 73, a second organic layer 31 b is provided in a region surrounded by the bank 63.
The second organic layer 31 b is provided corresponding to each pixel 5 and has a second hole transport layer 75 and a second light emitting layer 77.
The second hole transport layer 75 is made of an organic material, and is provided on the display surface 3 side of the charge generation layer 73 in a region surrounded by the banks 63 in plan view. As the organic material of the second hole transport layer 75, for example, TFB shown as the compound 1 may be employed.

第2発光層77は、有機材料で構成されており、平面視でバンク63によって囲まれた領域内で、第2正孔輸送層75の表示面3側に設けられている。
Rの画素5rに対応する第2発光層77の有機材料としては、例えば、上記化合物2として示されるF8と、ペリレン染料とを混合したものが採用され得る。
Gの画素5gに対応する第2発光層77の有機材料としては、例えば、上記化合物1として示されるTFBと、上記化合物2として示されるF8と、上記化合物3として示されるF8BTとを混合したものが採用され得る。
Bの画素5bに対応する第2発光層77の有機材料としては、例えば、上記化合物2として示されるF8が採用され得る。
The second light emitting layer 77 is made of an organic material, and is provided on the display surface 3 side of the second hole transport layer 75 in a region surrounded by the banks 63 in plan view.
As the organic material of the second light emitting layer 77 corresponding to the R pixel 5r, for example, a mixture of F8 shown as the compound 2 and a perylene dye may be employed.
The organic material of the second light emitting layer 77 corresponding to the G pixel 5g is, for example, a mixture of TFB shown as the compound 1, F8 shown as the compound 2, and F8BT shown as the compound 3. Can be employed.
As the organic material of the second light emitting layer 77 corresponding to the B pixel 5b, for example, F8 shown as the compound 2 can be adopted.

第2発光層77の表示面3側には、バンク63に囲まれた領域内に、電子注入層78が設けられている。電子注入層78の材料としては、例えばカルシウムなどが採用され得る。   On the display surface 3 side of the second light emitting layer 77, an electron injection layer 78 is provided in a region surrounded by the bank 63. As the material of the electron injection layer 78, for example, calcium or the like can be adopted.

電子注入層78の表示面3側には、共通電極33が設けられている。共通電極33は、例えば、ITOやインジウム亜鉛酸化物等の光透過性を有する材料や、マグネシウム銀等を薄膜化して光透過性を付与したものなどで構成され、電子注入層78及びバンク63を表示面3側から複数の画素5間にわたって覆っている。
なお、表示装置1では、各画素5において発光する領域は、平面視で画素電極29と有機層31と共通電極33とが重なる領域であると定義され得る。また、画素5ごとに発光する領域を構成する要素の一群が1つの有機EL素子27であると定義され得る。表示装置1では、1つの有機EL素子27は、1つの画素電極29と、1つの有機層31と、1つの電子注入層71と、1つの電荷発生層73と、1つの電子注入層78と、1つの画素5に対応する共通電極33とを含んだ構成を有している。
A common electrode 33 is provided on the display surface 3 side of the electron injection layer 78. The common electrode 33 is made of, for example, a light-transmitting material such as ITO or indium zinc oxide, or a material that has been made light-transmitting by thinning magnesium silver or the like. A plurality of pixels 5 are covered from the display surface 3 side.
In the display device 1, the region that emits light in each pixel 5 can be defined as a region where the pixel electrode 29, the organic layer 31, and the common electrode 33 overlap in a plan view. In addition, a group of elements constituting a region that emits light for each pixel 5 may be defined as one organic EL element 27. In the display device 1, one organic EL element 27 includes one pixel electrode 29, one organic layer 31, one electron injection layer 71, one charge generation layer 73, and one electron injection layer 78. The configuration includes a common electrode 33 corresponding to one pixel 5.

封止基板13は、例えばガラスや石英などの光透過性を有する材料で構成されており、表示面3側に向けられた外向面79aと、底面側に向けられた対向面79bとを有している。
上記の構成を有する素子基板11及び封止基板13は、素子基板11の共通電極33と封止基板13の対向面79bとの間が、接着剤16を介して接合されている。
The sealing substrate 13 is made of a light-transmitting material such as glass or quartz, for example, and has an outward surface 79a directed to the display surface 3 side and an opposing surface 79b directed to the bottom surface side. ing.
In the element substrate 11 and the sealing substrate 13 having the above-described configuration, the common electrode 33 of the element substrate 11 and the facing surface 79 b of the sealing substrate 13 are bonded via an adhesive 16.

表示装置1では、図2に示すシール材17は、図5に示す第1基板41の第1面42aと、封止基板13の対向面79bとによって挟持されている。つまり、表示装置1では、有機EL素子27及び接着剤16が、第1基板41及び封止基板13並びにシール材17によって封止されている。なお、シール材17は、対向面79b及び共通電極33の間に設けられていてもよい。この場合、有機EL素子27及び接着剤16は、素子基板11及び封止基板13並びにシール材17によって封止されているとみなされ得る。   In the display device 1, the sealing material 17 illustrated in FIG. 2 is sandwiched between the first surface 42 a of the first substrate 41 and the facing surface 79 b of the sealing substrate 13 illustrated in FIG. 5. That is, in the display device 1, the organic EL element 27 and the adhesive 16 are sealed with the first substrate 41, the sealing substrate 13, and the sealing material 17. The sealing material 17 may be provided between the facing surface 79b and the common electrode 33. In this case, the organic EL element 27 and the adhesive 16 can be regarded as being sealed by the element substrate 11, the sealing substrate 13, and the sealing material 17.

ここで、表示装置1の製造方法について説明する。
表示装置1の製造方法は、素子基板11を製造する工程と、表示装置1を組み立てる工程とに大別される。
素子基板11を製造する工程では、図6(a)に示すように、まず、第1基板41の第1面42aに駆動素子層81を形成する。この駆動素子層81には、前述したTFT素子21、TFT素子23、保持容量25、画素電極29、ゲート絶縁膜43、絶縁膜45、絶縁膜47などが含まれている。
Here, a method for manufacturing the display device 1 will be described.
The manufacturing method of the display device 1 is roughly divided into a step of manufacturing the element substrate 11 and a step of assembling the display device 1.
In the process of manufacturing the element substrate 11, first, the drive element layer 81 is formed on the first surface 42 a of the first substrate 41 as shown in FIG. The drive element layer 81 includes the TFT element 21, the TFT element 23, the storage capacitor 25, the pixel electrode 29, the gate insulating film 43, the insulating film 45, the insulating film 47, and the like described above.

次いで、図6(b)に示すように、平面視で画素電極29の周縁及び絶縁膜47に重なる領域(図5に示す領域62)に絶縁膜61を形成する。
次いで、図6(c)に示すように、平面視で絶縁膜61に重なる領域にバンク63を形成する。
次いで、画素電極29をO2プラズマ処理などで活性化させてから、バンク63の表面にCF4プラズマ処理などで撥液性を付与する。
Next, as illustrated in FIG. 6B, the insulating film 61 is formed in a region overlapping the periphery of the pixel electrode 29 and the insulating film 47 (region 62 illustrated in FIG. 5) in plan view.
Next, as shown in FIG. 6C, a bank 63 is formed in a region overlapping the insulating film 61 in plan view.
Next, after the pixel electrode 29 is activated by O 2 plasma treatment or the like, liquid repellency is imparted to the surface of the bank 63 by CF 4 plasma treatment or the like.

次いで、図7(a)に示すように、絶縁膜61によって囲まれた各画素5の領域内に後述する液滴吐出ヘッド83から、正孔注入層65を構成する有機材料が含まれた液状体65aを液滴65bとして吐出することで、各画素5の領域内に液状体65aを配置する。
なお、液滴吐出ヘッド83から液状体65aなどを液滴として吐出する技術は、インクジェット技術と呼ばれる。そして、インクジェット技術を活用して液状体65aなどを所定の位置に配置する方法は、インクジェット法と呼ばれる。このインクジェット法は、塗布法の1つである。
Next, as shown in FIG. 7A, a liquid containing an organic material constituting the hole injection layer 65 from a droplet discharge head 83 described later in the region of each pixel 5 surrounded by the insulating film 61. By discharging the body 65a as the droplet 65b, the liquid body 65a is arranged in the region of each pixel 5.
The technique for ejecting the liquid material 65a and the like as droplets from the droplet ejection head 83 is called an inkjet technique. And the method of arrange | positioning the liquid body 65a etc. in a predetermined position using an inkjet technique is called the inkjet method. This ink jet method is one of coating methods.

ここで、液滴吐出ヘッド83の構成について説明する。
液滴吐出ヘッド83は、斜視図である図8に示すように、ノズルプレート85と、振動板87と、複数の圧電素子89と、複数の隔壁部91とを有している。ノズルプレート85には、液状体を液滴93として吐出する複数個のノズル95が、図中X'方向に沿って所定間隔で形成されている。また、振動板87には、図示しない外部タンクから供給される液状体の受け口となる孔97が形成されている。
Here, the configuration of the droplet discharge head 83 will be described.
As shown in FIG. 8 which is a perspective view, the droplet discharge head 83 includes a nozzle plate 85, a vibration plate 87, a plurality of piezoelectric elements 89, and a plurality of partition walls 91. In the nozzle plate 85, a plurality of nozzles 95 for discharging a liquid material as droplets 93 are formed at predetermined intervals along the X ′ direction in the drawing. The diaphragm 87 is formed with a hole 97 that serves as a receiving port for a liquid material supplied from an external tank (not shown).

複数の隔壁部91は、X'方向に沿って所定間隔で並び、ノズルプレート85と振動板87とに挟まれている。また、ノズルプレート85と振動板87との間には、孔97に連通し、孔97を介して液状体が充填される液たまり99が形成されている。そして、X'方向に隣り合う隔壁部91同士間には、供給路101を介して液たまり99に連通するキャビティ103が形成されている。なお、各ノズル95は、各キャビティ103に連通している。
上記の構成を有する液滴吐出ヘッド83は、圧電素子89が駆動されると、キャビティ103内の液状体を、各ノズル95から液滴93として吐出する。
The plurality of partition walls 91 are arranged at predetermined intervals along the X ′ direction and are sandwiched between the nozzle plate 85 and the diaphragm 87. A liquid pool 99 is formed between the nozzle plate 85 and the vibration plate 87 and communicates with the hole 97 and is filled with a liquid material through the hole 97. A cavity 103 communicating with the liquid pool 99 via the supply path 101 is formed between the partition walls 91 adjacent in the X ′ direction. Each nozzle 95 communicates with each cavity 103.
When the piezoelectric element 89 is driven, the droplet discharge head 83 having the above-described configuration discharges the liquid material in the cavity 103 from each nozzle 95 as a droplet 93.

各画素5の領域内に配置された液状体65aを減圧乾燥法で乾燥させてから焼成を行うことによって、図7(b)に示す正孔注入層65が形成され得る。なお、正孔注入層65を構成する有機材料が含まれた液状体65aは、PEDOTとPSSとの混合物を、溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、イソプロピルアルコール、ノルマルブタノールなどが採用され得る。なお、減圧乾燥法は、減圧環境下で行う乾燥方法であり、真空乾燥法とも呼ばれる。また、液状体65aの焼成条件は、環境温度が約200℃で、保持時間が約10分間である。   A hole injection layer 65 shown in FIG. 7B can be formed by drying the liquid material 65a arranged in the region of each pixel 5 by a reduced pressure drying method and then performing firing. In addition, the liquid material 65a containing the organic material constituting the hole injection layer 65 may employ a configuration in which a mixture of PEDOT and PSS is dissolved in a solvent. As the solvent, for example, diethylene glycol, isopropyl alcohol, normal butanol and the like can be employed. The reduced pressure drying method is a drying method performed under a reduced pressure environment, and is also called a vacuum drying method. The firing conditions for the liquid 65a are an environmental temperature of about 200 ° C. and a holding time of about 10 minutes.

次いで、図7(b)に示すように、バンク63によって囲まれた領域内に液滴吐出ヘッド83から、第1正孔輸送層67を構成する有機材料が含まれた液状体67aを液滴67bとして吐出することで、バンク63によって囲まれた領域内に液状体67aを配置する。このとき、正孔注入層65は、液状体67aによって覆われる。なお、液状体67aは、TFBを溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。   Next, as shown in FIG. 7B, the liquid material 67 a containing the organic material constituting the first hole transport layer 67 is dropped from the droplet discharge head 83 in the region surrounded by the bank 63. By discharging as 67 b, the liquid material 67 a is arranged in the region surrounded by the bank 63. At this time, the hole injection layer 65 is covered with the liquid 67a. The liquid material 67a may employ a configuration in which TFB is dissolved in a solvent. As the solvent, for example, cyclohexylbenzene can be employed.

次いで、液状体67aを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図7(c)に示す第1正孔輸送層67が形成され得る。なお、液状体67aの焼成条件は、環境温度が約130℃で、保持時間が約1時間である。   Next, after the liquid 67a is dried by a reduced pressure drying method, the first hole transport layer 67 shown in FIG. 7C can be formed by baking in an inert gas. The firing conditions for the liquid 67a are an environmental temperature of about 130 ° C. and a holding time of about 1 hour.

次いで、図7(c)に示すように、バンク63によって囲まれた各領域内に、第1発光層69を構成する有機材料が含まれた液状体69aを配置する。液状体69aは、液滴吐出ヘッド83から液状体69aを液滴69bとして吐出することによって配置される。このとき、第1正孔輸送層67は、液状体69aによって覆われる。なお、液状体69aは、画素5r、5g及び5bのそれぞれに対応する前述した有機材料を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。   Next, as shown in FIG. 7C, a liquid 69 a containing an organic material constituting the first light emitting layer 69 is disposed in each region surrounded by the bank 63. The liquid material 69a is disposed by discharging the liquid material 69a from the droplet discharge head 83 as droplets 69b. At this time, the first hole transport layer 67 is covered with the liquid 69a. The liquid material 69a may employ a configuration in which the above-described organic material corresponding to each of the pixels 5r, 5g, and 5b is dissolved in a solvent. As the solvent, for example, cyclohexylbenzene can be employed.

次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図5に示す第1発光層69が形成され得る。液状体69aの焼成条件は、環境温度が約130℃で、保持時間が約1時間である。   Next, after the liquid 69a is dried by a reduced pressure drying method, the first light emitting layer 69 shown in FIG. 5 can be formed by firing in an inert gas. The firing conditions of the liquid 69a are an environmental temperature of about 130 ° C. and a holding time of about 1 hour.

次いで、蒸着技術などを活用してカルシウム等の膜を、バンク63に囲まれた領域内に形成することにより、図9(a)に示す電子注入層71が形成され得る。
次いで、蒸着技術などを活用して酸化バナジウム等の膜を、バンク63に囲まれた領域内に形成することにより、図9(a)に示す電荷発生層73が形成され得る。
なお、電子注入層71及び電荷発生層73は、それぞれ、バンク63をマスクで表示面3側から覆った状態で形成され得る。
Next, an electron injection layer 71 shown in FIG. 9A can be formed by using a vapor deposition technique or the like to form a film of calcium or the like in a region surrounded by the bank 63.
Next, a film such as vanadium oxide is formed in a region surrounded by the bank 63 by utilizing a vapor deposition technique or the like, whereby the charge generation layer 73 shown in FIG. 9A can be formed.
The electron injection layer 71 and the charge generation layer 73 can each be formed in a state where the bank 63 is covered from the display surface 3 side with a mask.

次いで、図9(a)に示すように、バンク63によって囲まれた領域内に液滴吐出ヘッド83から、第2正孔輸送層75を構成する有機材料が含まれた液状体75aを液滴75bとして吐出することで、バンク63によって囲まれた領域内に液状体75aを配置する。このとき、電荷発生層73は、液状体75aによって覆われる。なお、液状体75aは、TFBを溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。   Next, as shown in FIG. 9A, a liquid body 75 a containing an organic material constituting the second hole transport layer 75 is dropped from a droplet discharge head 83 in a region surrounded by the bank 63. By discharging as 75 b, the liquid material 75 a is arranged in the region surrounded by the bank 63. At this time, the charge generation layer 73 is covered with the liquid 75a. The liquid material 75a may employ a configuration in which TFB is dissolved in a solvent. As the solvent, for example, cyclohexylbenzene can be employed.

次いで、液状体75aを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図9(b)に示す第2正孔輸送層75が形成され得る。液状体75aの焼成条件は、環境温度が約130℃で、保持時間が約1時間である。   Next, after the liquid 75a is dried by a reduced pressure drying method, the second hole transport layer 75 shown in FIG. 9B can be formed by firing in an inert gas. The firing conditions of the liquid 75a are an environmental temperature of about 130 ° C. and a holding time of about 1 hour.

次いで、図9(b)に示すように、バンク63によって囲まれた各領域内に、第2発光層77を構成する有機材料が含まれた液状体77aを配置する。液状体77aは、液滴吐出ヘッド83から液状体77aを液滴77bとして吐出することによって配置される。このとき、第2正孔輸送層75は、液状体77aによって覆われる。なお、液状体77aは、画素5r、5g及び5bのそれぞれに対応する前述した有機材料を溶媒に溶解させた構成が採用され得る。溶媒としては、例えば、シクロヘキシルベンゼンなどが採用され得る。   Next, as shown in FIG. 9B, a liquid 77 a containing an organic material constituting the second light emitting layer 77 is disposed in each region surrounded by the bank 63. The liquid body 77a is disposed by discharging the liquid body 77a as droplets 77b from the droplet discharge head 83. At this time, the second hole transport layer 75 is covered with the liquid 77a. In addition, the liquid 77a may employ a configuration in which the above-described organic material corresponding to each of the pixels 5r, 5g, and 5b is dissolved in a solvent. As the solvent, for example, cyclohexylbenzene can be employed.

次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させてから、不活性ガス中で焼成を行うことによって、図5に示す第2発光層77が形成され得る。液状体77aの焼成条件は、環境温度が約130℃で、保持時間が約1時間である。   Next, after the liquid 77a is dried by a reduced pressure drying method, the second light emitting layer 77 shown in FIG. 5 can be formed by firing in an inert gas. The firing conditions of the liquid 77a are an environmental temperature of about 130 ° C. and a holding time of about 1 hour.

次いで、蒸着技術などを活用してカルシウム等の膜を、バンク63に囲まれた領域内に形成することにより、図5に示す電子注入層78が形成され得る。このとき、電子注入層78は、バンク63をマスクで表示面3側から覆った状態で形成され得る。
次いで、スパッタリング技術などを活用してITO等の膜を形成してから、この膜をフォトリソグラフィ技術及びエッチング技術などを活用してパターニングすることにより、図5に示す共通電極33が形成され得る。これにより、素子基板11が製造され得る。
Next, by using a vapor deposition technique or the like to form a film of calcium or the like in a region surrounded by the bank 63, the electron injection layer 78 shown in FIG. 5 can be formed. At this time, the electron injection layer 78 can be formed in a state where the bank 63 is covered with the mask from the display surface 3 side.
Next, a common electrode 33 shown in FIG. 5 can be formed by forming a film of ITO or the like using a sputtering technique and then patterning the film using a photolithography technique, an etching technique, or the like. Thereby, the element substrate 11 can be manufactured.

表示装置1を組み立てる工程では、図2に示すように、素子基板11及び封止基板13を、接着剤16及びシール材17を介して接合する。
このとき、素子基板11及び封止基板13は、図5に示すように、第1基板41の第1面42aと、封止基板13の対向面79bとが向き合った状態で接合される。これにより、表示装置1が製造され得る。
In the process of assembling the display device 1, as shown in FIG. 2, the element substrate 11 and the sealing substrate 13 are joined via an adhesive 16 and a sealing material 17.
At this time, the element substrate 11 and the sealing substrate 13 are bonded in a state where the first surface 42a of the first substrate 41 and the facing surface 79b of the sealing substrate 13 face each other, as shown in FIG. Thereby, the display apparatus 1 can be manufactured.

ここで、表示装置1では、各有機EL素子27において、図5中のD部の拡大図である図10に示すように、第1発光層69と第2発光層77とで膜厚分布の傾向が異なっている。第1発光層69は、表示面3側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有している。これに対し、第2発光層77は、表示面3側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有している。第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。   Here, in the display device 1, in each organic EL element 27, as shown in FIG. 10 that is an enlarged view of a D portion in FIG. 5, the film thickness distribution of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 is The trend is different. The first light emitting layer 69 has a tendency of a film thickness distribution that is convex toward the display surface 3 side. On the other hand, the 2nd light emitting layer 77 has the tendency of the film thickness distribution which becomes concave toward the display surface 3 side. The first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other with their thin portions.

ところで、第1発光層69や第2発光層77に膜厚分布があると、第1発光層69や第2発光層77には膜厚分布に応じて輝度の分布が生じやすくなる。そして、輝度の分布は、輝度ムラとして表れる。
これに対し、表示装置1では、第1発光層69及び第2発光層77が互いに膜厚の薄い部分を補完し合っているので、第1発光層69及び第2発光層77は、互いに輝度の分布を補完し合う。これにより、画素5における発光の領域内で、輝度が均一になりやすい。
By the way, when the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 have a film thickness distribution, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 tend to have a luminance distribution according to the film thickness distribution. The luminance distribution appears as luminance unevenness.
On the other hand, in the display device 1, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other with the thin portions, so that the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 have a luminance with respect to each other. Complement each other's distribution. As a result, the luminance tends to be uniform within the light emission region of the pixel 5.

なお、表示装置1では、第1発光層69が表示面3側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有し、第2発光層77が表示面3側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有している例を示したが、それぞれの膜厚分布の傾向はこれに限定されない。それぞれの膜厚分布は、図11に示すように、第1発光層69が底面15側に向かって凹となる傾向を有し、第2発光層77が底面15側に向かって凸となる傾向を有していてもよい。   In the display device 1, the first light emitting layer 69 tends to have a film thickness distribution that is convex toward the display surface 3 side, and the second light emitting layer 77 is a film thickness that is concave toward the display surface 3 side. Although the example which has the tendency of distribution was shown, the tendency of each film thickness distribution is not limited to this. As shown in FIG. 11, each film thickness distribution has a tendency that the first light emitting layer 69 tends to be concave toward the bottom surface 15 side, and the second light emitting layer 77 tends to be convex toward the bottom surface 15 side. You may have.

第1発光層69の膜厚分布の傾向と、第2発光層77の膜厚分布の傾向とを異ならせることは、第1発光層69の形成条件と第2発光層77の形成条件とを異ならせることによって実現され得る。これにより、有機EL素子27における輝度ムラを軽減しやすくすることができる。   Differentiating the tendency of the film thickness distribution of the first light-emitting layer 69 from the tendency of the film thickness distribution of the second light-emitting layer 77 means that the conditions for forming the first light-emitting layer 69 and the conditions for forming the second light-emitting layer 77 are different. It can be realized by making it different. Thereby, luminance unevenness in the organic EL element 27 can be easily reduced.

表示装置1において、第1基板41が基板に対応し、液状体69aが第1液状体に対応し、液状体77aが第2液状体に対応し、溶媒が液体に対応している。   In the display device 1, the first substrate 41 corresponds to the substrate, the liquid material 69a corresponds to the first liquid material, the liquid material 77a corresponds to the second liquid material, and the solvent corresponds to the liquid.

表示装置1では、第1発光層69の膜厚分布の傾向と、第2発光層77の膜厚分布の傾向とが異なっている。第1発光層69及び第2発光層77は、互いに膜厚の薄い部分を補完し合っている。このため、第1発光層69及び第2発光層77は、互いに輝度の分布を補完し合う。この結果、有機EL素子27における輝度ムラの軽減が図られる。   In the display device 1, the tendency of the film thickness distribution of the first light emitting layer 69 is different from the tendency of the film thickness distribution of the second light emitting layer 77. The first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other with a thin portion. Therefore, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other in luminance distribution. As a result, luminance unevenness in the organic EL element 27 is reduced.

なお、表示装置1では、有機層31からの光を封止基板13を介して表示面3から射出するトップエミッション型の有機EL装置を例に説明したが、有機EL装置はこれに限定されない。有機EL装置は、有機層31からの光を素子基板11を介して底面15から射出するボトムエミッション型も採用され得る。
ボトムエミッション型の場合、有機層31からの光が底面15から射出されるので、底面15側に表示面3が設定される。つまり、ボトムエミッション型では、表示装置1の底面15と表示面3とが入れ替わる。そして、ボトムエミッション型では、底面15側が上側に対応し、表示面3側が下側に対応する。
In the display device 1, the top emission type organic EL device that emits light from the organic layer 31 from the display surface 3 through the sealing substrate 13 has been described as an example. However, the organic EL device is not limited thereto. As the organic EL device, a bottom emission type in which light from the organic layer 31 is emitted from the bottom surface 15 through the element substrate 11 may be employed.
In the case of the bottom emission type, since the light from the organic layer 31 is emitted from the bottom surface 15, the display surface 3 is set on the bottom surface 15 side. That is, in the bottom emission type, the bottom surface 15 of the display device 1 and the display surface 3 are interchanged. In the bottom emission type, the bottom surface 15 side corresponds to the upper side, and the display surface 3 side corresponds to the lower side.

また、表示装置1では、各有機EL素子27が、図5に示すように、第1有機層31aと第2有機層31bとの間に、電子注入層71及び電荷発生層73が介在した構成を有しているが、有機EL素子27の構成はこれに限定されない。
有機EL素子27の構成としては、電子注入層71及び電荷発生層73が省略された構成も採用され得る。
電子注入層71及び電荷発生層73が省略された有機EL素子27aは、図12に示すように、第1発光層69と第2発光層77とが中間層111を介して重なった構成が採用され得る。
Further, in the display device 1, each organic EL element 27 has a configuration in which an electron injection layer 71 and a charge generation layer 73 are interposed between the first organic layer 31a and the second organic layer 31b, as shown in FIG. However, the configuration of the organic EL element 27 is not limited to this.
As the configuration of the organic EL element 27, a configuration in which the electron injection layer 71 and the charge generation layer 73 are omitted may be employed.
As shown in FIG. 12, the organic EL element 27a in which the electron injection layer 71 and the charge generation layer 73 are omitted employs a configuration in which the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 overlap with each other through the intermediate layer 111. Can be done.

有機EL素子27aを有する表示装置10は、有機EL素子27aを除いては表示装置1と同様の構成を有している。このため、表示装置10において表示装置1と同様の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。   The display device 10 having the organic EL element 27a has the same configuration as the display device 1 except for the organic EL element 27a. For this reason, about the structure similar to the display apparatus 1 in the display apparatus 10, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

中間層111は、第2発光層77を構成する有機材料が含まれた液状体77a中の溶媒が第1発光層69側に移行するのを妨げるためのもので、紫外線硬化型の液晶や、紫外線硬化樹脂、熱硬化型の樹脂等によって形成され得る。つまり、中間層111は、液状体77a中の溶媒に対する耐性を有している。これにより、第1発光層69を液状体77aから保護することができる。   The intermediate layer 111 is for preventing the solvent in the liquid 77a containing the organic material constituting the second light emitting layer 77 from moving to the first light emitting layer 69 side. It can be formed of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, or the like. That is, the intermediate layer 111 has resistance to the solvent in the liquid 77a. Thereby, the 1st light emitting layer 69 can be protected from the liquid 77a.

紫外線硬化型の液晶としては、例えば、重合性を有する棒状液晶を含有する重合性液晶組成物が採用され得る。
紫外線硬化型樹脂としては、例えば、マレイミド骨格を持つ紫外線硬化型樹脂を主成分とし、かつ、可溶性ポリイミド樹脂を含有してなる紫外線硬化型樹脂組成物が採用され得る。
熱硬化型樹脂としては、例えば、ポリシロキサン樹脂が採用され得る。
As the ultraviolet curable liquid crystal, for example, a polymerizable liquid crystal composition containing a rod-like liquid crystal having polymerizability may be employed.
As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable resin composition containing, as a main component, an ultraviolet curable resin having a maleimide skeleton and containing a soluble polyimide resin may be employed.
As the thermosetting resin, for example, a polysiloxane resin can be employed.

表示装置10においても、第1発光層69の膜厚分布の傾向と、第2発光層77の膜厚分布の傾向とが、図12中のE部の拡大図である図13に示すように、異なっている。第1発光層69及び第2発光層77は、互いに膜厚の薄い部分を補完し合っている。このため、第1発光層69及び第2発光層77は、互いに輝度の分布を補完し合う。この結果、有機EL素子27aにおける輝度ムラの軽減が図られる。
さらに、表示装置10では、表示装置1における電子注入層71、電荷発生層73及び第2正孔輸送層75が省略されているので、薄型化が図られる。
Also in the display device 10, the tendency of the film thickness distribution of the first light emitting layer 69 and the tendency of the film thickness distribution of the second light emitting layer 77 are as shown in FIG. 13 which is an enlarged view of part E in FIG. Is different. The first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other with a thin portion. Therefore, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other in luminance distribution. As a result, luminance unevenness in the organic EL element 27a can be reduced.
Further, in the display device 10, the electron injection layer 71, the charge generation layer 73, and the second hole transport layer 75 in the display device 1 are omitted, so that the thickness can be reduced.

なお、表示装置10では、各有機EL素子27aが、第1発光層69と第2発光層77との間に中間層111が介在した構成を有しているが、有機EL素子27aの構成はこれに限定されない。
有機EL素子27aの構成としては、中間層111が省略された構成も採用され得る。
中間層111が省略された有機EL素子27bは、図14に示すように、第1発光層69と第2発光層77とが重なっている。
In the display device 10, each organic EL element 27a has a configuration in which the intermediate layer 111 is interposed between the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77. However, the configuration of the organic EL element 27a is as follows. It is not limited to this.
As the configuration of the organic EL element 27a, a configuration in which the intermediate layer 111 is omitted may be employed.
In the organic EL element 27b in which the intermediate layer 111 is omitted, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 overlap as shown in FIG.

有機EL素子27bを有する表示装置100は、有機EL素子27bを除いては表示装置1や表示装置10と同様の構成を有している。このため、表示装置100において表示装置1や表示装置10と同様の構成については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。   The display device 100 having the organic EL element 27b has the same configuration as the display device 1 and the display device 10 except for the organic EL element 27b. For this reason, about the structure similar to the display apparatus 1 and the display apparatus 10 in the display apparatus 100, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

表示装置100での第1発光層69の形成においては、第1発光層69の構成する有機材料が含まれた液状体69aに、有機材料を化学的に架橋する架橋剤と、光重合開始剤とが含まれている。そして、第1正孔輸送層67上に配置された液状体69aに紫外線を照射することによって、液状体69aが化学的に架橋されている。液状体69aが化学的に架橋された状態で形成された第1発光層69は、液状体77a中の溶媒に対する耐性が付与されている。これにより、第1発光層69を液状体77aから保護することができる。   In the formation of the first light-emitting layer 69 in the display device 100, a cross-linking agent that chemically cross-links the organic material to the liquid 69a containing the organic material constituting the first light-emitting layer 69, and a photopolymerization initiator. And are included. The liquid 69a is chemically cross-linked by irradiating the liquid 69a disposed on the first hole transport layer 67 with ultraviolet rays. The first light emitting layer 69 formed in a state where the liquid 69a is chemically cross-linked is given resistance to the solvent in the liquid 77a. Thereby, the 1st light emitting layer 69 can be protected from the liquid 77a.

なお、架橋剤としては、例えば、1,4−ブタンジオールジメタクリレートや、トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが採用され得る。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエチルエーテルなどが採用され得る。
In addition, as a crosslinking agent, 1, 4- butanediol dimethacrylate, a trimethylol propane trimethacrylate, etc. can be employ | adopted, for example.
As the photopolymerization initiator, for example, benzoin ethyl ether or the like can be employed.

表示装置100においても、第1発光層69の膜厚分布の傾向と、第2発光層77の膜厚分布の傾向とが、図14中のF部の拡大図である図15に示すように、異なっている。第1発光層69及び第2発光層77は、互いに膜厚の薄い部分を補完し合っている。このため、第1発光層69及び第2発光層77は、互いに輝度の分布を補完し合う。この結果、有機EL素子27bにおける輝度ムラの軽減が図られる。
さらに、表示装置100では、表示装置10における中間層111が省略されているので、一層の薄型化が図られる。
Also in the display device 100, the tendency of the film thickness distribution of the first light emitting layer 69 and the tendency of the film thickness distribution of the second light emitting layer 77 are as shown in FIG. 15 which is an enlarged view of the F part in FIG. Is different. The first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other with a thin portion. Therefore, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other in luminance distribution. As a result, luminance unevenness in the organic EL element 27b can be reduced.
Furthermore, in the display device 100, since the intermediate layer 111 in the display device 10 is omitted, the thickness can be further reduced.

ここで、第1発光層69の膜厚分布の傾向と、第2発光層77の膜厚分布の傾向とを異ならせる実施例について説明する。
(実施例1)
第1発光層69を形成する液状体69aの乾燥速度と、第2発光層77を形成する液状体77aの乾燥速度とを異ならせて有機EL素子27を形成した。
この実施例1における第1発光層69及び第2発光層77のそれぞれの形成条件を、下記表1に示す。
Here, an example in which the tendency of the film thickness distribution of the first light emitting layer 69 and the tendency of the film thickness distribution of the second light emitting layer 77 are different will be described.
Example 1
The organic EL element 27 was formed by varying the drying speed of the liquid material 69 a forming the first light emitting layer 69 and the drying speed of the liquid material 77 a forming the second light emitting layer 77.
The formation conditions of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 in Example 1 are shown in Table 1 below.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

まず、液状体69aや液状体77aとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ500k(500×103)とした。また、それぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。 First, the liquid material 69a and the liquid material 77a were prepared by mixing the aforementioned organic material and solvent. At this time, the molecular weight of the organic material was 500 k (500 × 10 3 ), respectively. Moreover, cyclohexylbenzene was employ | adopted as each solvent.

次いで、液状体69aをインクジェット法で第1正孔輸送層67上に配置した。
次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約1分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体69aに窒素ガス中で焼成を施して、第1発光層69を形成した。
次いで、第1発光層69上に、電子注入層71、電荷発生層73及び第2正孔輸送層75をこの順に形成した。
Next, the liquid 69a was disposed on the first hole transport layer 67 by an inkjet method.
Next, the liquid 69a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 1 minute.
Next, the liquid 69a was baked in nitrogen gas to form the first light emitting layer 69.
Next, an electron injection layer 71, a charge generation layer 73, and a second hole transport layer 75 were formed in this order on the first light emitting layer 69.

次いで、液状体77aをインクジェット法で第2正孔輸送層75上に配置した。
次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体77aに窒素ガス中で焼成を施して、第2発光層77を形成した。
次いで、第2発光層77上に、電子注入層78及び共通電極33をこの順に形成した。
Next, the liquid 77a was disposed on the second hole transport layer 75 by an inkjet method.
Next, the liquid 77a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the second light emitting layer 77 was formed by baking the liquid 77a in nitrogen gas.
Next, the electron injection layer 78 and the common electrode 33 were formed in this order on the second light emitting layer 77.

実施例1では、減圧乾燥において、液状体69aに対する減圧速度を液状体77aに対する減圧速度よりも速くすることによって、液状体69aの乾燥速度が液状体77aの乾燥速度よりも速く設定されている。
実施例1における有機EL素子27を観察した結果、第1発光層69と第2発光層77とは、図10に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
In Example 1, in the drying under reduced pressure, the drying speed of the liquid 69a is set higher than the drying speed of the liquid 77a by increasing the pressure reducing speed for the liquid 69a higher than the pressure reducing speed for the liquid 77a.
As a result of observing the organic EL element 27 in Example 1, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 had different film thickness distribution trends as shown in FIG.

第1発光層69は、表示面3側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第2発光層77は、表示面3側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例1では、第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。   The 1st light emitting layer 69 had the tendency of the film thickness distribution which becomes convex toward the display surface 3 side. On the other hand, the second light emitting layer 77 has a tendency of a film thickness distribution that becomes concave toward the display surface 3 side. In the first embodiment, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 complement each other with the thin portions.

(実施例2)
液状体69aの溶媒の種類と、液状体77aの溶媒の種類とを異ならせることによって、液状体69aの組成と、液状体77aの組成とを異ならせた。これにより、有機EL素子27を形成した。
この実施例2における第1発光層69及び第2発光層77のそれぞれの形成条件を、下記表2に示す。
(Example 2)
The composition of the liquid 69a and the composition of the liquid 77a were made different by making the kind of the solvent of the liquid 69a different from the kind of the solvent of the liquid 77a. Thereby, the organic EL element 27 was formed.
The formation conditions of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 in Example 2 are shown in Table 2 below.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

まず、液状体69aや液状体77aとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ500k(500×103)とした。また、液状体69aの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用し、液状体77aの溶媒としてイソプロピルビフェニルを採用した。 First, the liquid material 69a and the liquid material 77a were prepared by mixing the aforementioned organic material and solvent. At this time, the molecular weight of the organic material was 500 k (500 × 10 3 ), respectively. Further, cyclohexylbenzene was adopted as the solvent of the liquid 69a, and isopropyl biphenyl was adopted as the solvent of the liquid 77a.

次いで、液状体69aをインクジェット法で第1正孔輸送層67上に配置した。
次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体69aに窒素ガス中で焼成を施して、第1発光層69を形成した。
次いで、第1発光層69上に、電子注入層71、電荷発生層73及び第2正孔輸送層75をこの順に形成した。
Next, the liquid 69a was disposed on the first hole transport layer 67 by an inkjet method.
Next, the liquid 69a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the liquid 69a was baked in nitrogen gas to form the first light emitting layer 69.
Next, an electron injection layer 71, a charge generation layer 73, and a second hole transport layer 75 were formed in this order on the first light emitting layer 69.

次いで、液状体77aをインクジェット法で第2正孔輸送層75上に配置した。
次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体77aに窒素ガス中で焼成を施して、第2発光層77を形成した。
次いで、第2発光層77上に、電子注入層78及び共通電極33をこの順に形成した。
Next, the liquid 77a was disposed on the second hole transport layer 75 by an inkjet method.
Next, the liquid 77a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the second light emitting layer 77 was formed by baking the liquid 77a in nitrogen gas.
Next, the electron injection layer 78 and the common electrode 33 were formed in this order on the second light emitting layer 77.

実施例2における有機EL素子27を観察した結果、第1発光層69と第2発光層77とは、図11に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
第1発光層69は、底面15側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第2発光層77は、底面15側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例2では、第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
As a result of observing the organic EL element 27 in Example 2, the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 had different film thickness distribution trends as shown in FIG.
The 1st light emitting layer 69 had the tendency of the film thickness distribution which becomes concave toward the bottom face 15 side. On the other hand, the second light emitting layer 77 has a tendency of a film thickness distribution that is convex toward the bottom surface 15 side. In Example 2, the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 complement each other with their thin portions.

(実施例3)
液状体69aの有機材料の分子量と、液状体77aの有機材料の分子量とを異ならせることによって、液状体69aの組成と、液状体77aの組成とを異ならせた。これにより、有機EL素子27を形成した。
この実施例3における第1発光層69及び第2発光層77のそれぞれの形成条件を、下記表3に示す。
(Example 3)
The composition of the liquid 69a and the composition of the liquid 77a were made different by making the molecular weight of the organic material of the liquid 69a different from the molecular weight of the organic material of the liquid 77a. Thereby, the organic EL element 27 was formed.
The formation conditions of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 in Example 3 are shown in Table 3 below.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

まず、液状体69aや液状体77aとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、液状体69aの有機材料の分子量を500kとし、液状体77aの有機材料の分子量を50k(50×103)とした。また、液状体69a及び液状体77aのそれぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。 First, the liquid material 69a and the liquid material 77a were prepared by mixing the aforementioned organic material and solvent. At this time, the molecular weight of the organic material of the liquid body 69a was 500 k, and the molecular weight of the organic material of the liquid body 77a was 50 k (50 × 10 3 ). Further, cyclohexylbenzene was employed as a solvent for each of the liquid 69a and the liquid 77a.

次いで、液状体69aをインクジェット法で第1正孔輸送層67上に配置した。
次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体69aに窒素ガス中で焼成を施して、第1発光層69を形成した。
次いで、第1発光層69上に、電子注入層71、電荷発生層73及び第2正孔輸送層75をこの順に形成した。
Next, the liquid 69a was disposed on the first hole transport layer 67 by an inkjet method.
Next, the liquid 69a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the liquid 69a was baked in nitrogen gas to form the first light emitting layer 69.
Next, an electron injection layer 71, a charge generation layer 73, and a second hole transport layer 75 were formed in this order on the first light emitting layer 69.

次いで、液状体77aをインクジェット法で第2正孔輸送層75上に配置した。
次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体77aに窒素ガス中で焼成を施して、第2発光層77を形成した。
次いで、第2発光層77上に、電子注入層78及び共通電極33をこの順に形成した。
Next, the liquid 77a was disposed on the second hole transport layer 75 by an inkjet method.
Next, the liquid 77a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the second light emitting layer 77 was formed by baking the liquid 77a in nitrogen gas.
Next, the electron injection layer 78 and the common electrode 33 were formed in this order on the second light emitting layer 77.

実施例3における有機EL素子27を観察した結果、第1発光層69と第2発光層77とは、膜厚分布の傾向が異なっていた。実施例3における第1発光層69と第2発光層77とは、膜厚分布の傾向が実施例2と同様であった。
つまり、実施例3における第1発光層69は、図11に示すように、底面15側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。同様に、実施例3における第2発光層77は、底面15側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例3では、第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。
As a result of observing the organic EL element 27 in Example 3, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 had different film thickness distribution trends. The first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 in Example 3 had the same film thickness distribution trend as in Example 2.
That is, as shown in FIG. 11, the first light emitting layer 69 in Example 3 had a tendency of a film thickness distribution that became concave toward the bottom surface 15 side. Similarly, the 2nd light emitting layer 77 in Example 3 had the tendency of the film thickness distribution which becomes convex toward the bottom face 15 side. In Example 3, the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 complement each other with thin portions.

(実施例4)
第1発光層69を形成する液状体69aの乾燥速度と、第2発光層77を形成する液状体77aの乾燥速度とを異ならせて有機EL素子27aを形成した。
この実施例4における第1発光層69及び第2発光層77のそれぞれの形成条件を、下記表4に示す。
Example 4
The organic EL element 27a was formed by varying the drying speed of the liquid material 69a forming the first light emitting layer 69 and the drying speed of the liquid material 77a forming the second light emitting layer 77.
The formation conditions of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 in Example 4 are shown in Table 4 below.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

まず、液状体69aや液状体77aとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ500k(500×103)とした。また、それぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。 First, the liquid material 69a and the liquid material 77a were prepared by mixing the aforementioned organic material and solvent. At this time, the molecular weight of the organic material was 500 k (500 × 10 3 ), respectively. Moreover, cyclohexylbenzene was employ | adopted as each solvent.

次いで、液状体69aをインクジェット法で第1正孔輸送層67上に配置した。
次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約1分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体69aに窒素ガス中で焼成を施して、第1発光層69を形成した。
次いで、第1発光層69上に、中間層111を形成した。なお、中間層111の材料として熱硬化型樹脂であるポリシロキサン樹脂を採用し、溶媒としてジプロピルケトンとメチルシクロヘキサノンとを混合したものを採用した。
Next, the liquid 69a was disposed on the first hole transport layer 67 by an inkjet method.
Next, the liquid 69a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 1 minute.
Next, the liquid 69a was baked in nitrogen gas to form the first light emitting layer 69.
Next, the intermediate layer 111 was formed on the first light emitting layer 69. Note that a polysiloxane resin, which is a thermosetting resin, was used as the material of the intermediate layer 111, and a mixture of dipropyl ketone and methylcyclohexanone was used as the solvent.

次いで、液状体77aをインクジェット法で中間層111上に配置した。
次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体77aに窒素ガス中で焼成を施して、第2発光層77を形成した。
次いで、第2発光層77上に、電子注入層78及び共通電極33をこの順に形成した。
Next, the liquid 77a was disposed on the intermediate layer 111 by an inkjet method.
Next, the liquid 77a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the second light emitting layer 77 was formed by baking the liquid 77a in nitrogen gas.
Next, the electron injection layer 78 and the common electrode 33 were formed in this order on the second light emitting layer 77.

実施例4では、減圧乾燥において、液状体69aに対する減圧速度を液状体77aに対する減圧速度よりも速くすることによって、液状体69aの乾燥速度が液状体77aの乾燥速度よりも速く設定されている。
実施例4における有機EL素子27aを観察した結果、第1発光層69と第2発光層77とは、図13に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
In the fourth embodiment, the drying speed of the liquid 69a is set to be higher than the drying speed of the liquid 77a by making the pressure reducing speed for the liquid 69a higher than the pressure reducing speed for the liquid 77a in the vacuum drying.
As a result of observing the organic EL element 27a in Example 4, the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 had different film thickness distribution trends as shown in FIG.

第1発光層69は、表示面3側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第2発光層77は、表示面3側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例4では、第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。   The 1st light emitting layer 69 had the tendency of the film thickness distribution which becomes convex toward the display surface 3 side. On the other hand, the second light emitting layer 77 has a tendency of a film thickness distribution that becomes concave toward the display surface 3 side. In Example 4, the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 complement each other with thin portions.

(実施例5)
第1発光層69を形成する液状体69aの乾燥速度と、第2発光層77を形成する液状体77aの乾燥速度とを異ならせて有機EL素子27bを形成した。
この実施例5における第1発光層69及び第2発光層77のそれぞれの形成条件を、下記表5に示す。
(Example 5)
The organic EL element 27b was formed by varying the drying speed of the liquid 69a forming the first light emitting layer 69 and the drying speed of the liquid 77a forming the second light emitting layer 77.
The formation conditions of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 in Example 5 are shown in Table 5 below.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

まず、液状体69aや液状体77aとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ500k(500×103)とした。また、それぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。 First, the liquid material 69a and the liquid material 77a were prepared by mixing the aforementioned organic material and solvent. At this time, the molecular weight of the organic material was 500 k (500 × 10 3 ), respectively. Moreover, cyclohexylbenzene was employ | adopted as each solvent.

次いで、架橋剤と光重合開始剤とを含む液状体69aをインクジェット法で第1正孔輸送層67上に配置した。
次いで、液状体69aに紫外線を照射して、液状体69aを化学的に架橋させた。
次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約1分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体69aに窒素ガス中で焼成を施して、第1発光層69を形成した。
Next, a liquid 69a containing a crosslinking agent and a photopolymerization initiator was disposed on the first hole transport layer 67 by an inkjet method.
Next, the liquid 69a was irradiated with ultraviolet rays to chemically crosslink the liquid 69a.
Next, the liquid 69a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 1 minute.
Next, the liquid 69a was baked in nitrogen gas to form the first light emitting layer 69.

次いで、液状体77aをインクジェット法で第1発光層69上に配置した。
次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体77aに窒素ガス中で焼成を施して、第2発光層77を形成した。
次いで、第2発光層77上に、電子注入層78及び共通電極33をこの順に形成した。
Next, the liquid 77a was disposed on the first light emitting layer 69 by an inkjet method.
Next, the liquid 77a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the second light emitting layer 77 was formed by baking the liquid 77a in nitrogen gas.
Next, the electron injection layer 78 and the common electrode 33 were formed in this order on the second light emitting layer 77.

実施例5では、減圧乾燥において、液状体69aに対する減圧速度を液状体77aに対する減圧速度よりも速くすることによって、液状体69aの乾燥速度が液状体77aの乾燥速度よりも速く設定されている。
実施例5における有機EL素子27bを観察した結果、第1発光層69と第2発光層77とは、図15に示すように、膜厚分布の傾向が異なっていた。
In the fifth embodiment, the drying speed of the liquid 69a is set to be higher than the drying speed of the liquid 77a by making the pressure reducing speed for the liquid 69a higher than the pressure reducing speed for the liquid 77a.
As a result of observing the organic EL element 27b in Example 5, the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 had different film thickness distribution trends as shown in FIG.

第1発光層69は、表示面3側に向かって凸となる膜厚分布の傾向を有していた。これに対し、第2発光層77は、表示面3側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。実施例5では、第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の薄い部分を互いに補完し合っている。   The 1st light emitting layer 69 had the tendency of the film thickness distribution which becomes convex toward the display surface 3 side. On the other hand, the second light emitting layer 77 has a tendency of a film thickness distribution that becomes concave toward the display surface 3 side. In Example 5, the 1st light emitting layer 69 and the 2nd light emitting layer 77 complement each other each thin part.

(比較例)
第1発光層69の形成条件と、第2発光層77の形成条件とを同様にした。
この比較例における第1発光層69及び第2発光層77のそれぞれの形成条件を、下記表6に示す。
(Comparative example)
The formation conditions of the first light emitting layer 69 and the formation conditions of the second light emitting layer 77 were the same.
Table 6 below shows the formation conditions of the first light-emitting layer 69 and the second light-emitting layer 77 in this comparative example.

Figure 2009181932
Figure 2009181932

まず、液状体69aや液状体77aとして、前述した有機材料と溶媒とを混合したものを調合した。このとき、有機材料の分子量を、それぞれ500k(500×103)とした。また、液状体69a及び液状体77aのそれぞれの溶媒としてシクロヘキシルベンゼンを採用した。 First, the liquid material 69a and the liquid material 77a were prepared by mixing the aforementioned organic material and solvent. At this time, the molecular weight of the organic material was 500 k (500 × 10 3 ), respectively. Further, cyclohexylbenzene was employed as a solvent for each of the liquid 69a and the liquid 77a.

次いで、液状体69aをインクジェット法で第1正孔輸送層67上に配置した。
次いで、液状体69aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体69aに窒素ガス中で焼成を施して、第1発光層69を形成した。
次いで、第1発光層69上に、電子注入層71、電荷発生層73及び第2正孔輸送層75をこの順に形成した。
Next, the liquid 69a was disposed on the first hole transport layer 67 by an inkjet method.
Next, the liquid 69a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the liquid 69a was baked in nitrogen gas to form the first light emitting layer 69.
Next, an electron injection layer 71, a charge generation layer 73, and a second hole transport layer 75 were formed in this order on the first light emitting layer 69.

次いで、液状体77aをインクジェット法で第2正孔輸送層75上に配置した。
次いで、液状体77aを減圧乾燥法で乾燥させた。このとき、減圧乾燥における減圧速度を、約10分間で100Paまで減圧させる速度とした。
次いで、液状体77aに窒素ガス中で焼成を施して、第2発光層77を形成した。
次いで、第2発光層77上に、電子注入層78及び共通電極33をこの順に形成した。
Next, the liquid 77a was disposed on the second hole transport layer 75 by an inkjet method.
Next, the liquid 77a was dried by a reduced pressure drying method. At this time, the pressure reduction speed in the vacuum drying was set to a speed at which the pressure was reduced to 100 Pa in about 10 minutes.
Next, the second light emitting layer 77 was formed by baking the liquid 77a in nitrogen gas.
Next, the electron injection layer 78 and the common electrode 33 were formed in this order on the second light emitting layer 77.

比較例における有機EL素子27を観察した結果、第1発光層69と第2発光層77とは、図16に示すように、膜厚分布の傾向が同様であった。
第1発光層69は、底面15側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。また、第2発光層77も、底面15側に向かって凹となる膜厚分布の傾向を有していた。比較例では、第1発光層69及び第2発光層77は、それぞれの膜厚の厚い部分を互いに助長し合っている。
As a result of observing the organic EL element 27 in the comparative example, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 had the same tendency of the film thickness distribution as shown in FIG.
The 1st light emitting layer 69 had the tendency of the film thickness distribution which becomes concave toward the bottom face 15 side. The second light emitting layer 77 also had a tendency for a film thickness distribution that became concave toward the bottom surface 15 side. In the comparative example, the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 promote the thick portions of each other.

実施例1〜3及び比較例における各有機EL素子27、実施例4の有機EL素子27a、並びに実施例5の有機EL素子27bの発光状態を観察した。その結果、実施例1〜3の有機EL素子27、実施例4の有機EL素子27a、並びに実施例5の有機EL素子27bのいずれにおいても、比較例よりも輝度ムラが軽減していることが確認された。   The light emission states of the organic EL elements 27 in Examples 1 to 3 and the comparative example, the organic EL element 27a in Example 4, and the organic EL element 27b in Example 5 were observed. As a result, in any of the organic EL elements 27 of Examples 1 to 3, the organic EL element 27a of Example 4, and the organic EL element 27b of Example 5, the luminance unevenness is reduced as compared with the comparative example. confirmed.

なお、本実施形態では、複数の画素5が設定され、画素5ごとに有機EL素子27や有機EL素子27aや有機EL素子27bを有する表示装置1や表示装置10や表示装置100を例に説明したが、実施の形態はこれに限定されない。実施の形態としては、有機EL素子27や有機EL素子27aや有機EL素子27bを表示領域7にわたって一連した状態で設けた照明装置などの形態もある。このような照明装置は、例えば液晶表示装置などの光源に好適である。   In the present embodiment, a plurality of pixels 5 are set, and the display device 1, the display device 10, and the display device 100 having the organic EL element 27, the organic EL element 27 a, and the organic EL element 27 b for each pixel 5 will be described as an example. However, the embodiment is not limited to this. As an embodiment, there is also a form such as a lighting device in which the organic EL element 27, the organic EL element 27a, and the organic EL element 27b are provided in a state of being arranged in a series over the display region 7. Such an illuminating device is suitable for a light source such as a liquid crystal display device.

また、表示装置1や表示装置10や表示装置100において、マトリクスMを構成する複数の画素5のそれぞれに液状体69aや液状体77aを配置するときに、第1基板41と液滴吐出ヘッド83との相対移動の方向を複数の方向にわけて配置することが好ましい。これは、液滴吐出ヘッド83における複数個のノズル95間の吐出バラツキの影響を分散させることができるためである。   Further, in the display device 1, the display device 10, and the display device 100, when the liquid material 69 a and the liquid material 77 a are disposed in each of the plurality of pixels 5 that form the matrix M, the first substrate 41 and the droplet discharge head 83 are used. It is preferable that the relative movement directions are arranged in a plurality of directions. This is because the influence of the discharge variation among the plurality of nozzles 95 in the droplet discharge head 83 can be dispersed.

例えば、まず、液滴吐出ヘッド83のX'方向と、マトリクスMのX方向とを合わせる。そして、第1基板41と液滴吐出ヘッド83とをY方向に相対移動させながら、複数の画素5のそれぞれに各ノズル95から液滴69bや液滴77bを吐出させる。
次いで、液滴吐出ヘッド83のX'方向と、マトリクスMのY方向とを合わせる。そして、第1基板41と液滴吐出ヘッド83とをX方向に相対移動させながら、複数の画素5のそれぞれに各ノズル95から液滴69bや液滴77bを吐出させる。
For example, first, the X ′ direction of the droplet discharge head 83 and the X direction of the matrix M are matched. Then, while moving the first substrate 41 and the droplet discharge head 83 relative to each other in the Y direction, droplets 69b and droplets 77b are discharged from each nozzle 95 to each of the plurality of pixels 5.
Next, the X ′ direction of the droplet discharge head 83 and the Y direction of the matrix M are matched. Then, while moving the first substrate 41 and the droplet discharge head 83 relative to each other in the X direction, a droplet 69b and a droplet 77b are discharged from each nozzle 95 to each of the plurality of pixels 5.

各画素5に液状体69aや液状体77aを配置するときに、第1基板41と液滴吐出ヘッド83との相対移動の方向を複数の方向にわけて配置すれば、1つの画素列18又は1つの画素行19が1つのノズル95に対応することを避けることができる。これにより、画素列18同士間、又は画素行19同士間で、第1発光層69や第2発光層77の膜厚のバラツキを軽減することができる。この結果、画素列18同士間、又は画素行19同士間での輝度ムラを軽減することができ、表示装置1や表示装置10や表示装置100における画像の表示品位の向上が図られる。   When the liquid material 69a and the liquid material 77a are arranged in each pixel 5, if the relative movement directions of the first substrate 41 and the droplet discharge head 83 are arranged in a plurality of directions, one pixel row 18 or It can be avoided that one pixel row 19 corresponds to one nozzle 95. This can reduce variations in the film thickness of the first light emitting layer 69 and the second light emitting layer 77 between the pixel columns 18 or between the pixel rows 19. As a result, luminance unevenness between the pixel columns 18 or between the pixel rows 19 can be reduced, and the display quality of the image in the display device 1, the display device 10, or the display device 100 can be improved.

上述した表示装置1、表示装置10及び表示装置100は、それぞれ例えば、図17に示す電子機器500の表示部510に適用され得る。この電子機器500は、携帯電話機である。この電子機器500は、操作ボタン511を有している。表示部510は、操作ボタン511で入力した内容や着信情報を始めとする様々な情報について表示を行うことができる。この電子機器500では、表示部510に表示装置1、表示装置10又は表示装置100が適用されているので、各画素5における輝度ムラが低く抑えられる。   The display device 1, the display device 10, and the display device 100 described above can be applied to, for example, the display unit 510 of the electronic device 500 illustrated in FIG. This electronic device 500 is a mobile phone. This electronic device 500 has operation buttons 511. The display unit 510 can display various information including information input by the operation buttons 511 and incoming call information. In the electronic apparatus 500, since the display device 1, the display device 10, or the display device 100 is applied to the display unit 510, luminance unevenness in each pixel 5 can be suppressed to be low.

なお、電子機器500としては、携帯電話機に限られず、モバイルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーションシステム用の表示機器などの車載機器、オーディオ機器等の種々の電子機器が挙げられる。   The electronic device 500 is not limited to a mobile phone, and includes various electronic devices such as mobile computers, digital still cameras, digital video cameras, in-vehicle devices such as display devices for car navigation systems, and audio devices.

本発明の実施形態における表示装置を示す平面図。The top view which shows the display apparatus in embodiment of this invention. 図1中のA−A線における断面図。Sectional drawing in the AA in FIG. 本実施形態における複数の画素の一部を示す平面図。FIG. 3 is a plan view showing a part of a plurality of pixels in the embodiment. 実施形態における表示装置の回路構成を示す図。1 is a diagram showing a circuit configuration of a display device according to an embodiment. 図3中のC−C線における断面図。Sectional drawing in the CC line | wire in FIG. 本実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in this embodiment. 本実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in this embodiment. 本実施形態での素子基板の製造工程に適用され得る液滴吐出ヘッドの主要構成を示す斜視図。The perspective view which shows the main structures of the droplet discharge head which can be applied to the manufacturing process of the element substrate in this embodiment. 本実施形態での素子基板の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of the element substrate in this embodiment. 図5中のD部の拡大図。The enlarged view of the D section in FIG. 本実施形態での第1発光層と第2発光層とにおける膜厚分布の他の傾向例を示す断面図表示領域における温度分布の一例を示す図。The figure which shows an example of the temperature distribution in sectional drawing display area which shows the other example of the film thickness distribution in the 1st light emitting layer and 2nd light emitting layer in this embodiment. 本実施形態における表示装置の他の構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows the other structural example of the display apparatus in this embodiment. 図12中のE部の拡大図。The enlarged view of the E section in FIG. 本実施形態における表示装置のさらに他の構成例を示す断面図。Sectional drawing which shows the further another structural example of the display apparatus in this embodiment. 図14中のF部の拡大図。The enlarged view of the F section in FIG. 本実施形態での比較例における有機EL素子を示す断面図。Sectional drawing which shows the organic EL element in the comparative example in this embodiment. 本実施形態における表示装置を適用した電子機器の斜視図。The perspective view of the electronic device to which the display apparatus in this embodiment is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1,10,100…表示装置、3…表示面、5…画素、7…表示領域、11…素子基板、13…封止基板、15…底面、27,27a,27b…有機EL素子、29…画素電極、31…有機層、31a…第1有機層、31b…第2有機層、33…共通電極、65…正孔注入層、67…第1正孔輸送層、69…第1発光層、69a…液状体、75…第2正孔輸送層、77…第2発光層、77a…液状体、83…液滴吐出ヘッド、111…中間層、500…電子機器、510…表示部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,10,100 ... Display apparatus, 3 ... Display surface, 5 ... Pixel, 7 ... Display area, 11 ... Element substrate, 13 ... Sealing substrate, 15 ... Bottom surface, 27, 27a, 27b ... Organic EL element, 29 ... Pixel electrode 31... Organic layer 31 a first organic layer 31 b second organic layer 33 common electrode 65 hole injection layer 67 first hole transport layer 69 first light emitting layer 69 69a ... Liquid material, 75 ... Second hole transport layer, 77 ... Second light emitting layer, 77a ... Liquid material, 83 ... Liquid discharge head, 111 ... Intermediate layer, 500 ... Electronic equipment, 510 ... Display unit.

Claims (13)

基板上に設けられた第1発光層と、前記第1発光層上に設けられた第2発光層とを有し、平面視で前記第1発光層と前記第2発光層とが重なっている有機EL素子の製造方法であって、
前記第1発光層を形成する第1工程と、
前記第1工程の後に前記第2発光層を形成する第2工程と、を有し、
前記第1工程には、前記第1発光層の材料を含む液状体を、前記基板上に塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第2工程には、前記第2発光層の材料を含む液状体を、平面視で前記第1発光層に重なる領域に塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第1工程及び前記第2工程のそれぞれは、互いに異なる工程を含んでいることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A first light emitting layer provided on the substrate; and a second light emitting layer provided on the first light emitting layer, wherein the first light emitting layer and the second light emitting layer overlap in plan view. A method for manufacturing an organic EL element,
A first step of forming the first light emitting layer;
A second step of forming the second light emitting layer after the first step,
The first step includes a step of disposing a liquid material containing the material of the first light emitting layer on the substrate by a coating method,
The second step includes a step of arranging a liquid containing the material of the second light emitting layer by a coating method in a region overlapping the first light emitting layer in plan view,
Each of the said 1st process and the said 2nd process includes a mutually different process, The manufacturing method of the organic EL element characterized by the above-mentioned.
前記第1工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第1乾燥工程を含んでおり、
前記第2工程は、前記液状体を配置する前記工程の後に前記液状体を乾燥させる第2乾燥工程を含んでおり、
前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程は、乾燥条件が互いに異なる工程であることを特徴とする請求項1に記載の有機EL素子の製造方法。
The first step includes a first drying step of drying the liquid after the step of disposing the liquid.
The second step includes a second drying step of drying the liquid after the step of disposing the liquid.
The method of manufacturing an organic EL element according to claim 1, wherein the first drying step and the second drying step are steps having different drying conditions.
前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程は、乾燥速度が互いに異なる工程であることを特徴とする請求項2に記載の有機EL素子の製造方法。   The method of manufacturing an organic EL element according to claim 2, wherein the first drying step and the second drying step are steps having different drying rates. 前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程のそれぞれでは、各前記液状体を減圧乾燥法で乾燥させることを特徴とする請求項3に記載の有機EL素子の製造方法。   4. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 3, wherein in each of the first drying step and the second drying step, each of the liquid materials is dried by a reduced pressure drying method. 前記第1乾燥工程及び前記第2乾燥工程は、減圧速度が互いに異なる工程であることを特徴とする請求項4に記載の有機EL素子の製造方法。   5. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 4, wherein the first drying step and the second drying step are steps having different pressure reduction rates. 基板上に設けられた第1発光層と、前記第1発光層上に設けられた第2発光層とを有し、平面視で前記第1発光層と前記第2発光層とが重なっている有機EL素子の製造方法であって、
前記第1発光層を形成する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記第2発光層を形成する第2工程と、を有し、
前記第1工程には、前記基板上に前記第1発光層の材料を含む第1液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第2工程には、平面視で前記第1発光層に重なる領域に前記第2発光層の材料を含む第2液状体を塗布法で配置する工程が含まれており、
前記第1液状体と前記第2液状体とは、互いに組成が異なることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A first light emitting layer provided on the substrate; and a second light emitting layer provided on the first light emitting layer, wherein the first light emitting layer and the second light emitting layer overlap in plan view. A method for manufacturing an organic EL element,
A first step of forming the first light emitting layer;
A second step of forming the second light emitting layer after the first step,
The first step includes a step of disposing a first liquid material containing the material of the first light emitting layer on the substrate by a coating method,
The second step includes a step of disposing a second liquid material containing the material of the second light emitting layer in a region overlapping the first light emitting layer in a plan view by a coating method,
The method of manufacturing an organic EL element, wherein the first liquid body and the second liquid body have different compositions.
前記第1液状体と前記第2液状体とは、それぞれ有機物を含んでおり、
前記第1液状体に含まれる前記有機物と、前記第2液状体に含まれる前記有機物とは、互いに分子量が異なることを特徴とする請求項6に記載の有機EL素子の製造方法。
The first liquid body and the second liquid body each contain an organic substance,
The method of manufacturing an organic EL element according to claim 6, wherein the organic substance contained in the first liquid body and the organic substance contained in the second liquid body have different molecular weights.
前記第1液状体と前記第2液状体とは、それぞれ、液体と有機物とが混合した構成を有しており、
前記第1液状体に含まれる前記液体と、前記第2液状体に含まれる前記液体とは、互いに種類が異なることを特徴とする請求項6に記載の有機EL素子の製造方法。
Each of the first liquid body and the second liquid body has a configuration in which a liquid and an organic material are mixed,
The method for producing an organic EL element according to claim 6, wherein the liquid contained in the first liquid and the liquid contained in the second liquid are different from each other.
前記第1工程の後に、前記第2液状体に対して耐性を有する中間層を前記第1発光層上に形成する第3工程を有し、
前記第2工程では、前記第2発光層を前記中間層に重ねて形成することを特徴とする請求項8に記載の有機EL素子の製造方法。
A third step of forming an intermediate layer having resistance to the second liquid material on the first light emitting layer after the first step;
9. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 8, wherein in the second step, the second light emitting layer is formed so as to overlap the intermediate layer.
前記第1工程は、前記基板上に配置された前記第1液状体に、前記第2液状体に対する耐性を付与する工程を含んでおり、
前記第2工程では、前記第2発光層を前記第1発光層に重ねて形成することを特徴とする請求項8に記載の有機EL素子の製造方法。
The first step includes a step of imparting resistance to the second liquid material to the first liquid material disposed on the substrate;
9. The method of manufacturing an organic EL element according to claim 8, wherein, in the second step, the second light emitting layer is formed so as to overlap the first light emitting layer.
基板と、
前記基板上に設けられた第1発光層と、
前記第1発光層上に設けられた第2発光層と、を有し、
前記第2発光層は、平面視で前記第1発光層に重なっており、
前記第1発光層と前記第2発光層とは、それぞれにおける膜厚の薄い部分を互いに補完していることを特徴とする有機EL素子。
A substrate,
A first light emitting layer provided on the substrate;
A second light emitting layer provided on the first light emitting layer,
The second light emitting layer overlaps the first light emitting layer in plan view,
The organic EL element, wherein the first light emitting layer and the second light emitting layer complement each other with a thin portion.
前記第1発光層と前記第2発光層とは、中間層を介して重なっていることを特徴とする請求項11に記載の有機EL素子。   The organic EL element according to claim 11, wherein the first light emitting layer and the second light emitting layer overlap with each other through an intermediate layer. 複数の画素が設定されており、
各前記画素に対応して、請求項11又は12に記載の有機EL素子を有することを特徴とする有機EL装置。
Multiple pixels are set,
An organic EL device comprising the organic EL element according to claim 11 or 12 corresponding to each of the pixels.
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