JP2005209768A - 静電吸着装置及び静電吸着方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被吸着基板16の厚さがd1の時、静電吸着装置の電極ピッチをW、電極12上の誘電体厚さをd2とした時、Wが(d1+d2)の1.3倍以下、さらに、d2がWの1/4以下の関係にある静電吸着装置である。
【効果】被吸着基板表面の導電性膜の有無に関係なく、被吸着基板の外部領域の電位を微弱にできると共に同等の吸着力が得られるため、被吸着基板の種類に応じた印加電圧の調整が不要になり生産性が向上する。また静電吸着装置の電子線を用いるEB描画装置などへの適用が可能になる。
【選択図】図4
Description
(1)平板状誘電体内に複数の電極を形成し、この電極に正負の電圧を交互に印加して(隣り合う電極に電位差を与えて)前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を吸着する静電吸着装置においては、誘電体厚(誘電体内に形成される電極から静電吸着装置の吸着面までの距離)をb、電極ピッチをWとした時、Wを(d+b)の1.3倍以下にすることにより、被吸着基板の外に形成される電界強度を低くできると共に、被吸着基板(素ガラスと膜付ガラス)の種類に関係なく、同じ吸着力が得られる。また、吸着力向上の観点から電極ピッチWに対して、誘電体厚bをWの1/4以下にする。
(2)平板状絶縁体に複数の矩形溝を形成し、その溝の底部に給電線に接続された電極を設け、さらに、前記溝部を誘電体で埋め込んだ構造で、前記電極に正負の電圧を交互に印加して(隣り合う電極に電位差を与えて)前記平板状絶縁体に誘電体を埋め込んだ側の表面で絶縁性基板を吸着する静電吸着装置においては、前記複数の電極ピッチをWとした時、前記Wを前記dの1.3倍以下にする。
図1は、本発明の実施例1である静電吸着装置1の断面図である。この実施例では、アルミナ(Al2O3)などの絶縁体2内に溝を掘って、その底部には電極3が設けられ、そこに誘電体4が埋め込まれ、さらに、電極3には電圧印加用の配線5が接続された構造である。配線5には電源6が接続されている。
図4は、本発明の実施例2の静電吸着装置10の断面図である。この実施例では誘電体11に溝を設け、この溝の底部に電極12が、また、この電極12には電圧印加用の配線14が接続され、また、溝は絶縁体13で密閉された構造である。配線14には電源15が接続してある。
図13は本発明の実施例3の静電吸着装置20の断面図である。この実施例では例えば、ポリイミドやAl2O3などの誘電体21内に電極22が埋め込まれ、電極22には電圧印加用の配線23が接続された構造である。また、配線23には電源24が接続されている。
図14は本発明の実施例4の静電吸着装置30の断面図である。この実施例では、Al2O3などの絶縁体31内に溝を掘って、その底部には電極32が設けられ、そこに誘電体33が埋め込まれ、その上部に絶縁体34が設けられ、さらに、電極32には電圧印加用の配線35が接続された構造である。配線35には電源36が接続されている。
図15は本発明の実施例5の静電吸着装置40の断面図である。この実施例では、Al2O3などの絶縁体41内に溝を掘って、その底部には電極42が設けられ、そこに誘電体43が埋め込まれ、ひとつおきに誘電体43の上部に絶縁体44が設けられ、さらに、電極42には電圧印加用の配線45が接続された構造である。配線45には電源46が接続されている。
図16は実施例1から5の静電吸着装置及びその静電吸着方法を適用した液晶ガラス基板貼り合せ装置(以後、貼り合せ装置)を示す断面図である。本実施例の貼り合せ装置では、ゲートバルブ85付きの真空容器80内に静電吸着装置82を有する上基板ホルダー81と静電吸着装置84有する下基板ホルダー83が上下に対向する構成で設けてある。また、上基板ホルダー81にはホルダー駆動装置86が、下基板ホルダー83にはホルダー駆動装置87が連結してある。更に、筐体枠88には固定柱89で真空容器80を、ホルダー駆動装置86及び87は直接固定した構造である。
図17は実施例1から5の静電吸着装置及びその静電吸着方法を適用したEB(電子線)描画装置を示す断面図である。本実施例のEB描画装置では、真空容器102内の底部に静電吸着装置104を有する基板ホルダー103が設置してある。また、真空容器102上部には、制御システム105により制御される電子線源100及び光学系101が取り付けてある。
10…静電吸着装置、11…誘電体、12…電極、13…絶縁体、14…給電線、15…電源、16…被吸着物、
20…静電吸着装置、21…誘電体、22…電極、23…給電線、24…電源、25…被吸着物、
30…静電吸着装置、31…絶縁体、32…電極、33…誘電体、34…絶縁体、35…給電源、36…電源、37…被吸着物、
40…静電吸着装置、41…絶縁体、42…電極、43…誘電体、44…絶縁体、45…給電源、46…電源、47…被吸着物、
80…真空容器、81…上基板ホルダー、82,84…静電吸着装置、83…下基板ホルダー、85…ゲートバルブ、86,87…ホルダー駆動装置、88…筐体枠、89…固定柱、90,91…ガラス基板、
100…電子銃、101…光学系、102…真空容器、103…基板ホルダ、104…静電吸着装置、105…制御システム、106…電子線、107…処理基板。
Claims (10)
- 平板状絶縁体に複数の矩形溝を形成し、その溝の底部に給電線に接続された電極を設け、さらに、前記溝部を誘電体で埋め込んだ構造を有し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて前記平板状絶縁体に前記誘電体を埋め込んだ側の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着装置であって、
前記絶縁性基板の厚さがdの時、前記静電吸着装置の複数の電極ピッチWが前記dの1.3倍以下になっていることを特徴とする静電吸着装置。 - 平板状誘電体内に複数の電極を形成し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着装置であって、
前記絶縁性基板の厚さがdの時、前記複数の電極ピッチをW、前記平板状誘電体内の電極から吸着面までの距離をbとした時、前記電極ピッチWが前記dとbの和の1.3倍以下になっていることを特徴とする静電吸着装置。 - 平板状誘電体内に複数の電極を形成し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて、前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着装置であって、
前記複数の電極ピッチWに対して、前記平板状誘電体内の電極から吸着面までの距離bが前記Wの1/4以下であることを特徴とする静電吸着装置。 - 平板状誘電体内に複数の電極を形成し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて、前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着装置であって、
前記絶縁性基板の厚さがdの時、前記静電吸着装置の複数の電極ピッチをW、前記平板状誘電体内の電極から吸着面までの距離をbとした時、前記電極ピッチWが前記dとbの和の1.3倍以下であり、かつ、前記bがWの1/4以下であることを特徴とする静電吸着装置。 - 請求項1乃至請求項4のうちの何れか1項に記載の静電吸着装置を含むことを特徴とする液晶ガラス基板処理装置。
- 請求項1乃至請求項4のうちの何れか1項に記載の静電吸着装置を含むことを特徴とするEB描画装置。
- 平板状絶縁体に複数の矩形溝を形成し、その溝の底部に給電線に接続された電極を設け、さらに、前記溝部を誘電体で埋め込んだ構造を有する静電吸着装置を使用し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて前記平板状絶縁体に前記誘電体を埋め込んだ側の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着方法であって、
前記絶縁性基板の厚さがdの時、前記複数の電極ピッチWが前記dの1.3倍以下の状態で前記絶縁性基板を静電吸着することを特徴とする静電吸着方法。 - 平板状誘電体内に複数の電極を形成し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着方法であって、
前記絶縁性基板の厚さがdの時、前記複数の電極ピッチをW、前記平板状誘電体内の電極から吸着面までの距離をbとした時、前記電極ピッチWが前記dとbの和の1.3倍以下の状態で前記絶縁性基板を静電吸着することを特徴とする静電吸着方法。 - 平板状誘電体内に複数の電極を形成し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて、前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着方法であって、
前記複数の電極ピッチWに対して、前記平板状誘電体内の電極から吸着面までの距離bが前記Wの1/4以下の状態で前記絶縁性基板を静電吸着することを特徴とする静電吸着方法。 - 平板状誘電体内に複数の電極を形成し、前記複数の電極の隣り合う電極に電位差を与えて、前記平板状誘電体の一方の表面で絶縁性基板を静電吸着する静電吸着方法であって、
前記絶縁性基板の厚さがdの時、前記複数の電極ピッチをW、前記平板状誘電体内の電極から吸着面までの距離をbとした時、前記電極ピッチWが前記dとbの和の1.3倍以下であり、かつ、前記bがWの1/4以下の状態で前記絶縁性基板を静電吸着することを特徴とする静電吸着方法。
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