JP2005190897A - Manufacturing method for gas discharge display device - Google Patents

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貴司 三山
Yukitaka Yamada
幸香 山田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method for a gas discharge display device, wherein there is no need for alignment in forming an electrode, the time needed for an electrode forming process can be substantially shortened, and the material cost of the electrode and the cost of a manufacturing facility can be reduced. <P>SOLUTION: In this manufacturing method for the gas discharge display device, a recessed part 7a and a groove 21 are formed on the surface of a glass substrate 31 by chemical etching etc., then a liquid-repellent layer 32 is formed over the entire surface of the glass substrate 31, including the groove 21, by a dipping method, a roll coating method, a spray coating method, etc.; then a conductive composition 33 containing conductive particles is supplied on the liquid-repellent layer 32 in a terminal forming range C including the groove 21 by using a dispenser 34; and a connecting terminal 22 is formed by heat-treating the conductive composition 33. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ガス放電表示装置の製造方法に係り、特に詳しくは、高精細化、高輝度化を図るためのプラズマディスプレイ等の表示装置を製造する際に、電極形成時におけるアラインメントの必要が無く、電極形成工程に要する時間を大幅に短縮することができ、電極の材料コスト及び製造設備のコストを低減することが可能な技術に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a gas discharge display device, and more particularly, when manufacturing a display device such as a plasma display for achieving high definition and high brightness, there is no need for alignment during electrode formation. The present invention relates to a technique that can significantly reduce the time required for the electrode forming process and can reduce the material cost of the electrode and the cost of the manufacturing equipment.

近年、ハイビジョン用の大画面、高画質の表示デバイスとしてプラズマディスプレイ(PDP:ガス放電表示装置)が注目されている。
このプラズマディスプレイは、1対の透明基板をシール材を介して対向配置し、一方の透明基板の内表面に複数のストライプ状の第1の電極を形成するとともに、他方の透明基板の内表面に前記第1の電極に直交する複数のストライプ状の第2の電極を形成し、これら第2の電極間に隔壁を形成し、これら隔壁により画成された凹部を放電セルとした構造のもので、従来の液晶ディスプレイ等に比べて、高階調表示が可能であり、色再現性、高速応答性に優れ、しかも、対角30インチ以上の大画面を比較的安価に実現することできるという様々な特徴を有する。
In recent years, a plasma display (PDP: gas discharge display device) has attracted attention as a large-screen high-definition display device for high-definition.
In this plasma display, a pair of transparent substrates are arranged to face each other via a sealant, and a plurality of stripe-shaped first electrodes are formed on the inner surface of one transparent substrate, and the inner surface of the other transparent substrate is formed. A plurality of stripe-shaped second electrodes perpendicular to the first electrode are formed, a partition is formed between the second electrodes, and a recess defined by the partition is used as a discharge cell. Compared to conventional liquid crystal displays and the like, various displays such as high gradation display, excellent color reproducibility and high-speed response, and can realize a large screen with a diagonal of 30 inches or more relatively inexpensively. Has characteristics.

図5は、従来の面放電型電極構造を有するAC型プラズマディスプレイ(AC−PDP)を示す部分分解斜視図、図6は同プラズマディスプレイの背面側のガラス基板の端子部付近を示す断面図である。
このプラズマディスプレイ100は、2枚のガラス基板(透明基板)101、102が互いに対向配置され、前面側のガラス基板102の内表面(ガラス基板101に対向する側の一主面)には、インジウム添加酸化スズ(ITO:Indium Tin Oxide)、SnO等の透明導電材料からなるストライプ状の複数の走査電極(透明電極)104A及び維持電極104Bが互いに平行に形成され、これら走査電極104A及び維持電極104Bは透明な誘電体層103により覆われ、さらにこの誘電体層103は、MgO等からなる透明な保護膜(図示略)により覆われている。上記の走査電極104A及び維持電極104Bは、交互に配置されている。
FIG. 5 is a partially exploded perspective view showing a conventional AC type plasma display (AC-PDP) having a surface discharge electrode structure, and FIG. 6 is a cross-sectional view showing the vicinity of a terminal portion of a glass substrate on the back side of the plasma display. is there.
In this plasma display 100, two glass substrates (transparent substrates) 101 and 102 are arranged to face each other, and indium is formed on the inner surface of the front glass substrate 102 (one main surface facing the glass substrate 101). A plurality of stripe-shaped scan electrodes (transparent electrodes) 104A and sustain electrodes 104B made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or SnO 2 are formed in parallel to each other. These scan electrodes 104A and sustain electrodes 104B is covered with a transparent dielectric layer 103, and this dielectric layer 103 is further covered with a transparent protective film (not shown) made of MgO or the like. The scan electrodes 104A and the sustain electrodes 104B are alternately arranged.

一方、背面側のガラス基板101の内表面(ガラス基板102に対向する側の一主面)には、ガス放電を行う空間である放電セル107を形成するために、上述した走査電極104A及び維持電極104Bと交差する方向に、所定の高さを有する複数の隔壁108がストライプ状に形成され、これらの隔壁108、108、…により凹部107aが形成され、これら隔壁108、108及び凹部107aにより囲まれた領域がガス放電を行う空間である溝状の放電セル107とされている。また、隔壁108はガラス基板101と一体形成されている。
それぞれの凹部107aには、上述した走査電極104A及び維持電極104Bに直交するストライプ状のAg箔、AgペーストあるいはCr−Cu−Cr積層膜等の導電材料からなるアドレス電極106が形成され、これらアドレス電極106、…は反射率の高い誘電体層105で覆われ、この誘電体層105上には、3原色である赤(R)、緑(G)、青(B)のうちいずれかの色を発光する蛍光体109が積層されている。
On the other hand, on the inner surface of the glass substrate 101 on the back side (one main surface on the side facing the glass substrate 102), the above-described scan electrodes 104A and the sustain electrodes are formed in order to form the discharge cells 107 which are spaces for gas discharge. A plurality of partition walls 108 having a predetermined height are formed in a stripe shape in a direction crossing the electrode 104B, and a recess 107a is formed by the partition walls 108, 108,... And surrounded by the partition walls 108, 108 and the recess 107a. This region is a groove-like discharge cell 107 which is a space for gas discharge. The partition wall 108 is formed integrally with the glass substrate 101.
Each recess 107a is formed with an address electrode 106 made of a conductive material such as a striped Ag foil, Ag paste, or Cr—Cu—Cr laminated film orthogonal to the scan electrode 104A and the sustain electrode 104B. The electrodes 106 are covered with a highly reflective dielectric layer 105, and on the dielectric layer 105, one of the three primary colors red (R), green (G), and blue (B) Are stacked.

背面側のガラス基板101の内表面(一主面)は、図6に示すように、表示面となる表示部Dと、この表示部Dの周囲をシールガラス等のシール材により封着してなるシール部Sと、このシール部Sの外側に形成されてなる端子部Tという3つの領域により構成され、表示部Dを構成する放電セル107の各凹部107a及びアドレス電極106はシール部Sまで延在して形成されている。
各アドレス電極106は引き出し電極111により端子部Tの接続端子112に接続されている。これらの接続端子112は、フレキシブルプリント配線基板(FPC:図示せず)等の外部回路を電気的に接続するためのものである。
そして、これらの接続端子112、112、…の部分が露出するように、ガラス基板101、102を互いに対向させ、各放電セル107、107、…の内部に147nmのXe共鳴放射光を利用するNe−Xe、He−Xe等の放電ガスを封入した状態で、表示部Dの周囲のシール部Sをシールガラス等のシール材により封着した構成になっている。
As shown in FIG. 6, the inner surface (one main surface) of the glass substrate 101 on the back side is sealed with a display portion D serving as a display surface and a periphery of the display portion D with a sealing material such as seal glass. Each of the concave portions 107a and the address electrodes 106 of the discharge cell 107 constituting the display portion D are formed up to the seal portion S. The seal portion S and the terminal portion T are formed outside the seal portion S. It is formed to extend.
Each address electrode 106 is connected to the connection terminal 112 of the terminal portion T by a lead electrode 111. These connection terminals 112 are for electrically connecting an external circuit such as a flexible printed circuit board (FPC: not shown).
Then, the glass substrates 101 and 102 are opposed to each other so that the portions of the connection terminals 112, 112,... Are exposed, and Ne that uses Xe resonance radiation of 147 nm inside each discharge cell 107, 107,. In a state in which a discharge gas such as -Xe or He-Xe is sealed, the sealing portion S around the display portion D is sealed with a sealing material such as sealing glass.

このプラズマディスプレイ100では、例えば、サンドブラスト法により平板状のガラス基板101の表面を切削して凹部107aを形成し、次いで、フォトリソグラフィ法によりAgシート等の導電材料をパターニングして凹部107aにアドレス電極106を形成し、このアドレス電極106上に誘電体層105、蛍光体109を順次形成し、その後、凹部107aの一方の端部の周縁部分にアドレス電極106と接続される引き出し電極111を形成する方法が採られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−43804号公報
In the plasma display 100, for example, the surface of the flat glass substrate 101 is cut by a sandblast method to form a recess 107a, and then a conductive material such as an Ag sheet is patterned by a photolithography method to form an address electrode on the recess 107a. 106, and a dielectric layer 105 and a phosphor 109 are sequentially formed on the address electrode 106, and then an extraction electrode 111 connected to the address electrode 106 is formed on the peripheral edge of one end of the recess 107a. The method is taken (for example, refer patent document 1).
JP 2001-43804 A

ところで、上述した従来のプラズマディスプレイ100では、フォトリソグラフィ法を用いてAgシート等の導電材料をパターニングし、凹部107aにアドレス電極106を、端子部Tに接続端子112を、それぞれ形成し、このアドレス電極106と接続端子112との間に引き出し電極111を形成する方法が採られているが、フォトリソグラフィ法を適用した設備自体、非常に高価なものであるから、設備コストを低減することが難しいという問題点があった。
また、フォトリソグラフィ法は、導電材料形成、レジスト塗布、マスクのアラインメント、レジストのパターニング、導電材料のエッチング等、工程が複雑になるために、製造プロセスが長くなり、導電材料のロスも多いという問題点があった。特に、導電材料としてAgシートを用いた場合、電極となるのはAgシートのうちのほんの一部分であるから、高価な貴金属のかなりの部分が無駄になってしまい、製造コストを押し上げる要因になっている。
By the way, in the conventional plasma display 100 described above, a conductive material such as an Ag sheet is patterned using a photolithography method, and the address electrode 106 is formed in the concave portion 107a, and the connection terminal 112 is formed in the terminal portion T. Although a method of forming the extraction electrode 111 between the electrode 106 and the connection terminal 112 is adopted, the equipment itself to which the photolithography method is applied is very expensive, so it is difficult to reduce the equipment cost. There was a problem.
In addition, the photolithography method has a problem that the manufacturing process becomes long and there is a lot of loss of the conductive material because of complicated processes such as conductive material formation, resist coating, mask alignment, resist patterning, conductive material etching, etc. There was a point. In particular, when an Ag sheet is used as a conductive material, since only a part of the Ag sheet becomes an electrode, a considerable portion of expensive noble metal is wasted, which increases the manufacturing cost. Yes.

本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、電極形成時におけるアラインメントの必要が無く、電極形成工程に要する時間を大幅に短縮することができ、電極の材料コスト及び製造設備のコストを低減することができるガス放電表示装置の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and there is no need for alignment during electrode formation, and the time required for the electrode formation process can be greatly reduced. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a gas discharge display device capable of reducing the cost.

上記課題を解決するために、本発明は次のようなガス放電表示装置の製造方法を採用した。
すなわち、本発明のガス放電表示装置の製造方法は、1対の透明基板が互いに対向配置され、これらの透明基板のうち一方の透明基板の一主面に複数のストライプ状の第1の電極が互いに平行に形成されるとともに、他方の透明基板の対向する側の一主面に前記第1の電極に直交する複数のストライプ状の第2の電極が互いに平行に形成され、これら第2の電極それぞれの間には隔壁が形成され、これら隔壁により画成されたそれぞれの凹部が放電セルとされ、これら凹部の長手方向の少なくとも一方の外側かつ前記他方の透明基板の一主面に前記凹部と連通する溝が形成され、当該溝に前記第2の電極と接続する接続端子が形成されてなるガス放電表示装置の製造方法であって、前記他方の透明基板の一主面に、前記凹部に連通する溝を形成し、次いで、当該溝を含む前記一主面上に撥液層を形成し、次いで、前記溝を含む前記一主面上に前記接続端子を形成するための導電性粒子を含む導電性組成物を供給することを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention employs the following method for manufacturing a gas discharge display device.
That is, in the method for manufacturing a gas discharge display device according to the present invention, a pair of transparent substrates are arranged to face each other, and a plurality of striped first electrodes are formed on one main surface of one of the transparent substrates. A plurality of striped second electrodes perpendicular to the first electrode are formed in parallel to each other on one main surface of the opposite side of the other transparent substrate, and these second electrodes A barrier rib is formed between each, and each recess defined by these barriers is a discharge cell. The recess is formed on at least one outer side in the longitudinal direction of the recess and on one main surface of the other transparent substrate. A method of manufacturing a gas discharge display device, wherein a groove that communicates is formed, and a connection terminal that is connected to the second electrode is formed in the groove, wherein the groove is formed on one main surface of the other transparent substrate, on the recess. Shaped communicating groove Then, a conductive composition containing conductive particles for forming a liquid repellent layer on the one main surface including the groove, and then forming the connection terminal on the one main surface including the groove. It is characterized by supplying.

このガス放電表示装置の製造方法では、前記他方の透明基板の一主面に、前記凹部に連通する溝を形成し、次いで、当該溝を含む前記一主面上に撥液層を形成し、次いで、前記溝を含む前記一主面上に前記接続端子を形成するための導電性粒子を含む導電性組成物を供給することにより、この導電性組成物のうち前記溝の両側の隔壁の上端部分に付着したものは、撥液層により弾かれて前記溝内に流れ落ち、隔壁の上端に残ることはない。また、この導電性組成物のうち前記溝内に供給されたものは、周囲から流れ落ちる導電性組成物と一体になって、その表面張力により表面積が小さくなるように変形して溝内に保存される。   In this method for manufacturing a gas discharge display device, a groove communicating with the recess is formed on one main surface of the other transparent substrate, and then a liquid repellent layer is formed on the one main surface including the groove, Next, by supplying a conductive composition including conductive particles for forming the connection terminal on the one main surface including the groove, the upper ends of the partition walls on both sides of the groove in the conductive composition. The material adhering to the portion is bounced by the liquid repellent layer and flows down into the groove and does not remain at the upper end of the partition wall. In addition, the conductive composition supplied into the groove is integrated with the conductive composition that flows down from the surroundings, and is deformed so that the surface area is reduced by the surface tension and stored in the groove. The

このように、前記溝を含む前記一主面上に供給された導電性組成物は、前記溝内にのみ形状を保持した状態で保持されるので、この溝の外に流れ出で隔壁部分に付着する等の不具合が生じる虞はない。よって、導電性組成物を溝内に供給する際のアラインメント等の作業が不要になり、作業時間が大幅に短縮される。
これにより、前記溝を含む前記一主面上に導電性組成物を供給するという簡単な操作で、この導電性組成物を前記溝内にのみ速やかに供給することが可能になる。
As described above, since the conductive composition supplied on the one main surface including the groove is held in a state where the shape is held only in the groove, the conductive composition flows out of the groove and adheres to the partition wall portion. There is no risk of malfunction. Therefore, work such as alignment when supplying the conductive composition into the groove is not required, and the work time is greatly shortened.
Thus, the conductive composition can be supplied quickly only into the groove by a simple operation of supplying the conductive composition onto the one main surface including the groove.

前記撥液層を、前記溝を除く前記一主面上に形成することとしてもよい。
前記導電性組成物と前記透明基板の一主面との接触角(θ)は、30°以上かつ100°以下の範囲内にあることが好ましい。
前記導電性組成物の23℃、剪断速度10(1/秒)における粘度は、0.01Pa・s以上かつ10Pa・s以下の範囲内にあることが好ましい。
The liquid repellent layer may be formed on the one main surface excluding the groove.
The contact angle (θ) between the conductive composition and one main surface of the transparent substrate is preferably in the range of 30 ° to 100 °.
The conductive composition preferably has a viscosity at 23 ° C. and a shear rate of 10 (1 / second) within a range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s.

本発明のガス放電表示装置の製造方法によれば、前記他方の透明基板の一主面に、前記凹部に連通する溝を形成し、次いで、当該溝を含む前記一主面上に撥液層を形成し、次いで、前記溝を含む前記一主面上に前記接続端子を形成するための導電性粒子を含む導電性組成物を供給するので、前記溝を含む前記一主面上に導電性組成物を供給するという簡単な操作で、アラインメントを行うことなしに前記導電性組成物を前記溝内にのみ供給することができる。したがって、アラインメントの必要が無く、透明基板上に接続端子を容易かつ短時間で形成することができ、電極形成工程に要する時間を大幅に短縮することができる。
また、導電性組成物は溝内にのみ集合するので、導電性組成物の無駄がなくなり、電極の材料コストを低減することができる。
さらに、この工程は、既存の簡単な設備で対応可能であるから、製造設備のコストを低減することができる。
According to the method for manufacturing a gas discharge display device of the present invention, a groove communicating with the recess is formed on one main surface of the other transparent substrate, and then the liquid repellent layer is formed on the one main surface including the groove. And then supplying a conductive composition including conductive particles for forming the connection terminal on the one main surface including the groove, and thus providing conductivity on the one main surface including the groove. With the simple operation of supplying the composition, the conductive composition can be supplied only into the groove without alignment. Therefore, there is no need for alignment, the connection terminals can be formed on the transparent substrate easily and in a short time, and the time required for the electrode forming process can be greatly reduced.
Further, since the conductive composition collects only in the groove, the conductive composition is not wasted, and the material cost of the electrode can be reduced.
Furthermore, since this process can be handled with existing simple equipment, the cost of manufacturing equipment can be reduced.

本発明のガス放電表示装置の製造方法の一実施の形態について図面に基づき説明する。
ここでは、ガス放電表示装置として面放電型電極構造のAC型プラズマディスプレイ(AC−PDP)を例に採り説明する。
図1は本実施形態のガス放電表示装置の製造方法が適用されるAC型プラズマディスプレイ(AC−PDP)を示す部分分解斜視図、図2は同プラズマディスプレイの背面側のガラス基板の端子部付近を示す平面図、図3は図2のA−A線に沿う断面図である。なお、図1〜図3に示すプラズマディスプレイは一例であり、本発明はこのプラズマディスプレイに限定されるものではない。
An embodiment of a method for manufacturing a gas discharge display device of the present invention will be described with reference to the drawings.
Here, an AC plasma display (AC-PDP) having a surface discharge electrode structure will be described as an example of the gas discharge display device.
FIG. 1 is a partially exploded perspective view showing an AC type plasma display (AC-PDP) to which the method of manufacturing a gas discharge display device of this embodiment is applied, and FIG. 2 is a vicinity of a terminal portion of a glass substrate on the back side of the plasma display. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. The plasma display shown in FIGS. 1 to 3 is an example, and the present invention is not limited to this plasma display.

このプラズマディスプレイ1は、2枚のガラス基板(透明基板)2、3が互いに対向配置され、前面側のガラス基板3の内表面(ガラス基板2に対向する側の一主面)には、インジウム添加酸化スズ(ITO:Indium Tin Oxide)、SnO等の透明導電材料からなるストライプ状の複数の走査電極(透明電極)4A及び維持電極4Bが互いに平行に形成され、これら走査電極4A及び維持電極4Bは透明な誘電体層5により覆われ、さらにこの誘電体層5は、MgO等からなる透明な保護膜(図示略)により覆われている。上記の走査電極4A及び維持電極4Bは、交互に配置されている。 In this plasma display 1, two glass substrates (transparent substrates) 2 and 3 are arranged to face each other, and an inner surface of the front glass substrate 3 (one main surface facing the glass substrate 2) is indium. A plurality of stripe-shaped scan electrodes (transparent electrodes) 4A and sustain electrodes 4B made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) and SnO 2 are formed in parallel to each other. These scan electrodes 4A and sustain electrodes 4B is covered with a transparent dielectric layer 5, and this dielectric layer 5 is further covered with a transparent protective film (not shown) made of MgO or the like. The scan electrodes 4A and the sustain electrodes 4B are alternately arranged.

一方、背面側のガラス基板2の内表面(ガラス基板3に対向する側の一主面)には、ガス放電を行う空間である放電セル7を形成するために、上述した走査電極4A及び維持電極4Bの延在方向と交差する方向に、所定の高さを有する複数の隔壁8がストライプ状に形成され、これらの隔壁8、8、…により挟まれる領域が凹部7aとされ、これら隔壁8、8及び凹部7aにより囲まれた空間領域がガス放電を行う空間である溝状の放電セル7とされている。   On the other hand, on the inner surface of the glass substrate 2 on the back side (one main surface facing the glass substrate 3), the above-described scan electrodes 4A and the sustain electrodes are formed in order to form discharge cells 7 that are spaces for gas discharge. A plurality of partition walls 8 having a predetermined height are formed in a stripe shape in a direction crossing the extending direction of the electrode 4B, and a region sandwiched by these partition walls 8, 8,. , 8 and the space 7 surrounded by the recess 7a is a groove-shaped discharge cell 7 which is a space for gas discharge.

隔壁8、8、…は、ガラス基板2とは異なる別部材により構成されていてもよいが、プラズマディスプレイ1の製造工程を簡略化するために、図1に示すように、ガラス基板2と一体形成されていることが望ましい。
各放電セル7内、すなわち凹部7aの底面には、上述した走査電極4A及び維持電極4Bに直交しかつ凹 部7aの底面に沿う帯状のアドレス電極(第2の電極)11が形成され、これらアドレス電極11、11、…は反射率の高い誘電体層12で覆われ、各誘電体層12上には、3原色である赤(R)、緑(G)、青(B)のうちいずれかの色を発光する蛍光体13が積層されている。
The partition walls 8, 8,... May be formed of separate members different from the glass substrate 2, but in order to simplify the manufacturing process of the plasma display 1, as shown in FIG. It is desirable that it be formed.
In each discharge cell 7, that is, on the bottom surface of the recess 7a, a strip-like address electrode (second electrode) 11 is formed perpendicular to the scan electrode 4A and the sustain electrode 4B and along the bottom surface of the recess 7a. The address electrodes 11, 11,... Are covered with a dielectric layer 12 having high reflectivity, and on each dielectric layer 12, any one of the three primary colors red (R), green (G), and blue (B) The phosphors 13 emitting such colors are stacked.

これらのアドレス電極11、11、…は、凹部7a内に、少なくとも導電性粒子と、ガラスフリットと、水と、バインダー樹脂と、分散剤を含有するスラリー(導電性液状物質)を充填し、次いで、所定時間静置することにより上記の導電性粒子を沈降させ、次いで、所定の温度で所定時間熱処理し、この沈降した導電性粒子同士を互いに接合させることにより得られる。   These address electrodes 11, 11,... Are filled with slurry (conductive liquid material) containing at least conductive particles, glass frit, water, a binder resin, and a dispersing agent in the recess 7a, It is obtained by allowing the conductive particles to settle by standing for a predetermined time, then heat-treating at a predetermined temperature for a predetermined time, and bonding the precipitated conductive particles to each other.

上記の導電性粒子としては、例えば、平均粒径が0.05〜5.0μm、好ましくは0.1〜2.0μmの、Ag粒子あるいはAg合金粒子が好適に用いられる。
また、ガラスフリットとしては、電極の特性に影響を及ぼさないものであれば良く、例えば、平均粒径が0.1〜5.0μm、好ましくは0.1〜2.0μmの、硼珪酸鉛ガラス、硼珪酸亜鉛ガラス、硼珪酸ビスマスガラス等が好適に用いられる。
As the conductive particles, for example, Ag particles or Ag alloy particles having an average particle diameter of 0.05 to 5.0 μm, preferably 0.1 to 2.0 μm, are preferably used.
The glass frit is not particularly limited as long as it does not affect the characteristics of the electrode. For example, a lead borosilicate glass having an average particle size of 0.1 to 5.0 μm, preferably 0.1 to 2.0 μm. Borosilicate zinc glass, borosilicate bismuth glass and the like are preferably used.

これらのアドレス電極11、11、…は、上記の導電性粒子を沈降させる方法の他、Ag箔等のストライプ状の導電箔を貼り付ける方法、あるいはフォトリソグラフィ法によりAgシート等の導電性シートをパターニングする方法によっても形成することができる。
この導電箔等としては、例えば、厚みが1〜15μm、好ましくは2〜10μmのAg箔あるいはAg合金箔が好適に用いられる。
These address electrodes 11, 11,... Are formed by applying a conductive sheet such as an Ag sheet by a method of attaching a stripe-shaped conductive foil such as an Ag foil, or a photolithography method in addition to the method of precipitating the conductive particles. It can also be formed by a patterning method.
As the conductive foil, for example, an Ag foil or an Ag alloy foil having a thickness of 1 to 15 μm, preferably 2 to 10 μm is preferably used.

このガラス基板2の内表面には、図2及び図3に示すように、表示部を構成する各放電セル7の凹部7aが、その長手方向の一端部がシール部Sまで延在するように形成され、各凹部7aの一端部には該凹部7aに連通する溝21が該凹部7aの長手方向と一致する様に形成され、この溝21内及び凹部7aの端面には、アドレス電極11に接続する接続端子22が形成されている。
この接続端子22が形成される領域、すなわち、溝21、凹部7aの端面及び底部の一部が端子形成範囲Cになっている。
On the inner surface of the glass substrate 2, as shown in FIGS. 2 and 3, the concave portions 7 a of the discharge cells 7 constituting the display portion are extended so that one end portion in the longitudinal direction extends to the seal portion S. A groove 21 communicating with the recess 7a is formed at one end of each recess 7a so as to coincide with the longitudinal direction of the recess 7a. A connection terminal 22 to be connected is formed.
A region where the connection terminal 22 is formed, that is, the groove 21, the end surface of the recess 7a, and a part of the bottom portion is a terminal formation range C.

この場合、凹部7aの深さDは概ね100〜200μm、溝21の深さdは概ね5〜30μm、凹部7a及び溝21の幅Wは概ね50〜150μmである。
この接続端子22は、アドレス電極11と幅及び厚みがほぼ等しいもので、Ag微粒子またはAg−Pd微粒子等の導電性粒子を主成分とする導電材料により構成されている。
In this case, the depth D of the recess 7a is approximately 100 to 200 μm, the depth d of the groove 21 is approximately 5 to 30 μm, and the width W of the recess 7a and the groove 21 is approximately 50 to 150 μm.
The connection terminal 22 has substantially the same width and thickness as the address electrode 11 and is made of a conductive material whose main component is conductive particles such as Ag fine particles or Ag—Pd fine particles.

次に、本実施形態のガス放電表示装置の製造方法について図4に基づき説明する。
まず、図4(a)に示すように、ソーダライムガラス等からなるガラス基板(透明基板)31を有機溶剤を用いて洗浄し、乾燥させた後、このガラス基板31に、凹部7a及び溝21を形成する。
この凹部7aと溝21との間の面は、略垂直な面としてもよく、所定の角度傾斜した傾斜面としてもよい。
この凹部7a及び溝21は、ケミカルエッチング等のドライエッチングやウェットエッチング、あるいはサンドブラスト法を用いて形成することができる。
Next, the manufacturing method of the gas discharge display apparatus of this embodiment is demonstrated based on FIG.
First, as shown in FIG. 4A, after a glass substrate (transparent substrate) 31 made of soda lime glass or the like is washed with an organic solvent and dried, the concave portions 7a and grooves 21 are formed in the glass substrate 31. Form.
The surface between the recess 7a and the groove 21 may be a substantially vertical surface or an inclined surface inclined at a predetermined angle.
The recesses 7a and the grooves 21 can be formed using dry etching such as chemical etching, wet etching, or sand blasting.

ドライエッチングやウェットエッチングの場合、凹部7aと同一形状の開口を有するレジスト膜によりガラス基板31の表面に底浅の凹部7aを形成した後、凹部7a及び溝21と同一形状の開口を有するマスクを用いてガラス基板31の表面に所定の深さの凹部7a及び溝21を形成する方法が取られる。
また、サンドブラスト法の場合、凹部7aと溝21でサンドブラストの条件を変えることにより、ガラス基板31の表面に所定の深さの凹部7a及び溝21を形成することができる。
In the case of dry etching or wet etching, a shallow shallow recess 7a is formed on the surface of the glass substrate 31 with a resist film having the same shape as the recess 7a, and then a mask having the same shape as the recess 7a and the groove 21 is formed. A method is used in which the recesses 7a and the grooves 21 having a predetermined depth are formed on the surface of the glass substrate 31.
Further, in the case of the sandblasting method, the recesses 7a and the grooves 21 having a predetermined depth can be formed on the surface of the glass substrate 31 by changing the sandblasting conditions between the recesses 7a and the grooves 21.

次いで、図4(b)に示すように、ディップ法、ロールコート法、スプレーコート法等により溝21を含むガラス基板31の表面全面に、後述する導電性粒子を含む導電性組成物(以下、導電性組成物と略称する)に対して撥液性を有する撥液層32を形成する。
この撥液層32は、アルキル基、パーフルオロアルキル基、ジメチルポリシロキシ基等を有するアルコキシシランやシリル化剤を塗布、乾燥することで形成することができる。
なお、ディップ法やスプレーコート法を用いた場合には、溝21を含むガラス基板31の表面全面に撥液層32が形成されるが、ロールコート法を用いた場合には、溝21を除くガラス基板31の表面全面に撥液層32を形成することも可能である。
Next, as shown in FIG. 4B, a conductive composition (hereinafter referred to as “conductive composition”) containing conductive particles described below on the entire surface of the glass substrate 31 including the groove 21 by dipping, roll coating, spray coating, or the like. A liquid repellent layer 32 having liquid repellency is formed on the conductive composition).
The liquid repellent layer 32 can be formed by applying and drying an alkoxysilane having an alkyl group, a perfluoroalkyl group, a dimethylpolysiloxy group, or a silylating agent.
In addition, when the dip method or the spray coating method is used, the liquid repellent layer 32 is formed on the entire surface of the glass substrate 31 including the groove 21, but when the roll coating method is used, the groove 21 is excluded. It is also possible to form the liquid repellent layer 32 on the entire surface of the glass substrate 31.

次いで、図4(c)に示すように、溝21を含む端子形成範囲Cの撥液層32上に導電性組成物33を供給する。
この導電性組成物33は、導電性粒子と、ガラスフリットと、水や有機溶剤等の溶媒と、バインダー樹脂と、分散剤を含有する液状の物質である。
Next, as shown in FIG. 4C, the conductive composition 33 is supplied onto the liquid repellent layer 32 in the terminal formation range C including the grooves 21.
The conductive composition 33 is a liquid substance containing conductive particles, glass frit, a solvent such as water or an organic solvent, a binder resin, and a dispersant.

導電性粒子としては、所定の温度で熱処理することによりガラスフリットと接合一体化するものが好ましく、例えば、平均粒径が0.05〜5.0μm、好ましくは0.1〜2.0μmの、Ag粒子あるいはAg合金粒子が好適に用いられる。
また、ガラスフリットとしては、上記の導電性粒子と濡れ性が良く、しかも420〜490℃で溶融するものが好ましく、例えば、平均粒径が0.1〜5.0μm、好ましくは0.1〜2.0μmの、硼珪酸鉛ガラス、硼珪酸亜鉛ガラス、硼珪酸ビスマスガラス等が好適に用いられる。
As the conductive particles, those that are bonded and integrated with the glass frit by heat treatment at a predetermined temperature are preferable. For example, the average particle size is 0.05 to 5.0 μm, preferably 0.1 to 2.0 μm. Ag particles or Ag alloy particles are preferably used.
The glass frit preferably has good wettability with the above conductive particles and melts at 420 to 490 ° C., for example, the average particle size is 0.1 to 5.0 μm, preferably 0.1 to 0.1 μm. 2.0 μm lead borosilicate glass, zinc borosilicate glass, bismuth borosilicate glass and the like are preferably used.

この導電性組成物33は、ガラス基板31の表面(一主面)との接触角(θ)が30°以上かつ100°以下、好ましくは40°以上かつ80°以下の範囲内にあることが好ましい。
ここで、ガラス基板31の表面(一主面)との接触角(θ)を30°以上かつ100°以下と限定した理由は、接触角(θ)が30°未満では、導電性組成物33が隔壁8の上端に残存してしまい、アドレス電極11が短絡する虞があるからであり、また、接触角(θ)が100°を超えると、導電性組成物33が隔壁8の上端に孤立残存し、同様にアドレス電極11が短絡する虞があるからである。
The conductive composition 33 has a contact angle (θ) with the surface (one main surface) of the glass substrate 31 of 30 ° or more and 100 ° or less, preferably 40 ° or more and 80 ° or less. preferable.
Here, the reason why the contact angle (θ) with the surface (one main surface) of the glass substrate 31 is limited to 30 ° or more and 100 ° or less is that the conductive composition 33 is used when the contact angle (θ) is less than 30 °. May remain at the upper end of the partition wall 8 and the address electrode 11 may be short-circuited. When the contact angle (θ) exceeds 100 °, the conductive composition 33 is isolated at the upper end of the partition wall 8. This is because there is a possibility that the address electrode 11 may be short-circuited.

また、この導電性組成物33の23℃、剪断速度10(1/秒)における粘度ηが0.01Pa・s以上かつ10Pa・s以下、好ましくは0.1Pa・s以上かつ5Pa・s以下の範囲内にあることが好ましい。
ここで、23℃、剪断速度10(1/秒)における粘度ηを0.01Pa・s以上かつ10Pa・s以下と限定した理由は、粘度ηが0.01Pa・s未満では、導電性組成物33が凹部7aと溝21との間の面に付着せず、アドレス電極11に接続して形成される接続端子22に断線が生じるからであり、また、粘度ηが10Pa・sを超えると、導電性組成物33が隔壁8の上端に残ってしまうからである。
The conductive composition 33 has a viscosity η at 23 ° C. and a shear rate of 10 (1 / second) of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s, preferably 0.1 Pa · s to 5 Pa · s. It is preferable to be within the range.
Here, the reason why the viscosity η at 23 ° C. and a shear rate of 10 (1 / second) is limited to 0.01 Pa · s or more and 10 Pa · s or less is that when the viscosity η is less than 0.01 Pa · s, the conductive composition 33 does not adhere to the surface between the recess 7a and the groove 21, and disconnection occurs in the connection terminal 22 formed by connecting to the address electrode 11, and when the viscosity η exceeds 10 Pa · s, This is because the conductive composition 33 remains at the upper end of the partition wall 8.

本実施形態の導電性組成物33は、ガラス基板31の表面(一主面)との接触角(θ)及び23℃、剪断速度10(1/秒)における粘度ηが、上記の各条件を満たすように、導電性粒子、ガラスフリット、水や有機溶剤等の溶媒、バインダー樹脂、分散剤それぞれの種類及び成分比が設定されている。   In the conductive composition 33 of the present embodiment, the contact angle (θ) with the surface (one main surface) of the glass substrate 31 and the viscosity η at 23 ° C. and a shear rate of 10 (1 / second) satisfy the above conditions. The types and component ratios of the conductive particles, glass frit, solvent such as water and organic solvent, binder resin, and dispersant are set so as to satisfy the conditions.

導電性組成物33を端子形成範囲Cに供給する場合、ディスペンサー(供給手段)34が好適に用いられる。
ディスペンサー32の替わりに、インクジェットノズル、噴霧ノズル、等を用いてもよい。
供給方法としては、ディスペンサー34あるいはインクジェットノズルを溝21、21、…の配列方向に平行移動しつつ、各溝21に対して連続供給または逐一供給する方法が好適である。
When supplying the conductive composition 33 to the terminal formation range C, a dispenser (supplying means) 34 is preferably used.
Instead of the dispenser 32, an inkjet nozzle, a spray nozzle, or the like may be used.
As a supply method, a method in which the dispenser 34 or the inkjet nozzle is moved in parallel in the arrangement direction of the grooves 21, 21,.

ここでは、溝21を含むガラス基板31の表面全面に撥液層32が形成されているので、導電性組成物33が溝21以外のガラス基板31の表面に付着したとしても、撥液層32の撥水性により弾かれて溝21内に供給されることとなり、溝21以外の部分に残ることはない。
特に、溝21を除くガラス基板31の表面全面に撥液層32が形成されている場合、この効果はより顕著である。
Here, since the liquid repellent layer 32 is formed on the entire surface of the glass substrate 31 including the groove 21, even if the conductive composition 33 adheres to the surface of the glass substrate 31 other than the groove 21, the liquid repellent layer 32. It is repelled by the water repellency and supplied into the groove 21 and does not remain in the portion other than the groove 21.
In particular, when the liquid repellent layer 32 is formed on the entire surface of the glass substrate 31 excluding the grooves 21, this effect is more remarkable.

次いで、図4(d)に示すように、この導電性組成物33を所定時間静置して表面のレベリングを行い、その後、所定の温度で所定時間、熱処理することにより、導電性粒子とガラスフリットが強固に接合した導電材料からなる接続端子22が得られる。
熱処理条件としては、例えば、大気中で、最高保持温度400〜600℃、最高保持温度の保持時間10〜30分が好ましい。
Next, as shown in FIG. 4 (d), the conductive composition 33 is allowed to stand for a predetermined time to level the surface, and then heat-treated at a predetermined temperature for a predetermined time, whereby the conductive particles and the glass are heated. A connection terminal 22 made of a conductive material to which the frit is firmly bonded is obtained.
As heat treatment conditions, for example, a maximum holding temperature of 400 to 600 ° C. and a holding time of the maximum holding temperature of 10 to 30 minutes are preferable in the air.

次いで、接続端子22に接続するアドレス電極11を形成する。
アドレス電極11は、凹部7a内に、少なくとも導電性粒子と、ガラスフリットと、水と、バインダー樹脂と、分散剤を含有するスラリー(導電性液状物質)を充填し、次いで、所定時間静置することにより上記の導電性粒子を沈降させ、次いで、所定の温度で所定時間熱処理し、この沈降した導電性粒子同士を互いに接合させることにより得られる。
Next, the address electrode 11 connected to the connection terminal 22 is formed.
The address electrode 11 is filled with a slurry (conductive liquid substance) containing at least conductive particles, glass frit, water, binder resin, and a dispersant in the concave portion 7a, and is then allowed to stand for a predetermined time. Thus, the conductive particles are allowed to settle, and then heat-treated at a predetermined temperature for a predetermined time, and the precipitated conductive particles are bonded to each other.

その後、アドレス電極11を含む凹部7a及び隔壁8、8の全面に、誘電体層12を形成し、放電セル7の内面の誘電体層12上に蛍光体13を形成することにより、背面側のガラス基板2を作製することができる。
一方、ガラス基板の内表面に走査電極4A及び維持電極4B、透明な誘電体層5、透明な保護膜(図示略)を順次積層し、前面側のガラス基板3を作製する。
その後、これらのガラス基板2、3を対向配置してガラス基板2、3同士を貼り合わせ、各放電セル7、7、…の内部にNe−Xe、He−Xe等の混合ガスを封入し、周囲をシールガラス等により封着する。
以上により、プラズマディスプレイ1を作製することができる。
なお、上記のアドレス電極11は、接続端子22を形成する前に形成しておいてもよい。
Thereafter, a dielectric layer 12 is formed on the entire surface of the recess 7 a including the address electrode 11 and the barrier ribs 8, 8, and a phosphor 13 is formed on the dielectric layer 12 on the inner surface of the discharge cell 7. The glass substrate 2 can be produced.
On the other hand, the scanning electrode 4A and the sustaining electrode 4B, the transparent dielectric layer 5, and the transparent protective film (not shown) are sequentially laminated on the inner surface of the glass substrate to produce the front glass substrate 3.
Then, these glass substrates 2 and 3 are arranged to face each other, and the glass substrates 2 and 3 are bonded together, and a mixed gas such as Ne—Xe and He—Xe is sealed inside each discharge cell 7, 7,. The periphery is sealed with seal glass or the like.
As described above, the plasma display 1 can be manufactured.
The address electrode 11 may be formed before the connection terminal 22 is formed.

本実施形態のガス放電表示装置の製造方法によれば、溝21を含むガラス基板31の表面全面に撥液層32を形成し、次いで、溝21を含むガラス基板31上に導電性組成物33を供給するので、簡単な操作で、アラインメントを行うことなしに導電性組成物33を溝21内にのみ供給することができる。したがって、アラインメントの必要が無く、ガラス基板31上に接続端子22を容易かつ短時間で形成することができ、電極形成工程に要する時間を大幅に短縮することができる。   According to the method for manufacturing a gas discharge display device of this embodiment, the liquid repellent layer 32 is formed on the entire surface of the glass substrate 31 including the grooves 21, and then the conductive composition 33 is formed on the glass substrate 31 including the grooves 21. Therefore, the conductive composition 33 can be supplied only into the groove 21 without performing alignment by a simple operation. Therefore, there is no need for alignment, and the connection terminal 22 can be formed on the glass substrate 31 easily and in a short time, and the time required for the electrode forming process can be greatly reduced.

また、導電性組成物33は溝21内にのみ供給されるので、導電性組成物33、すなわちAg微粒子等の導電性粒子の無駄がなくなり、電極の材料コストを低減することができる。
さらに、この工程は、既存の簡単な設備で対応可能であるから、製造設備のコストを低減することができる。
Further, since the conductive composition 33 is supplied only into the groove 21, the conductive composition 33, that is, conductive particles such as Ag fine particles is not wasted, and the material cost of the electrode can be reduced.
Furthermore, since this process can be handled with existing simple equipment, the cost of manufacturing equipment can be reduced.

以上、本発明のガス放電表示装置の製造方法の一実施形態について図面に基づき説明してきたが、具体的な構成は上述した一実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計の変更等が可能である。
例えば、アドレス電極11は、上述したスラリーを用いる方法の外、フォトリソグラフィ法によりAgシート、Ag箔等の導電材料をパターニングすることにより形成してもよい。
As mentioned above, although one Embodiment of the manufacturing method of the gas discharge display apparatus of this invention was described based on drawing, a specific structure is not limited to one Embodiment mentioned above, and does not deviate from the summary of this invention. The design can be changed within the range.
For example, the address electrode 11 may be formed by patterning a conductive material such as an Ag sheet or an Ag foil by a photolithography method in addition to the method using the slurry described above.

本発明のガス放電表示装置の製造方法は、透明基板の表面に溝を形成し、この溝を含む表面全面に撥液層を形成し、この溝を含む表面全面に導電性粒子を含む導電性組成物を供給するという簡単な操作で、アラインメントを行うことなしに導電性組成物を溝内にのみ供給することができるので、ガス放電表示装置の製造工程の大幅な短縮、製造コストの大幅な削減が可能になる。この製造方法は、透明基板の表面に接続端子が形成されたという構成を有する装置に対しても容易に適用可能であるから、その効果は非常に大きなものである。   In the method for manufacturing a gas discharge display device of the present invention, a groove is formed on the surface of a transparent substrate, a liquid repellent layer is formed on the entire surface including the groove, and a conductive material including conductive particles on the entire surface including the groove. Since the conductive composition can be supplied only into the groove without performing alignment by a simple operation of supplying the composition, the manufacturing process of the gas discharge display device is greatly shortened and the manufacturing cost is greatly increased. Reduction is possible. Since this manufacturing method can be easily applied to an apparatus having a configuration in which a connection terminal is formed on the surface of a transparent substrate, the effect is very large.

本発明の一実施形態のガス放電表示装置の製造方法が適用されるAC型プラズマディスプレイを示す部分分解斜視図である。It is a partial exploded perspective view showing an AC type plasma display to which a manufacturing method of a gas discharge display device of one embodiment of the present invention is applied. 本発明の一実施形態のガス放電表示装置の製造方法が適用される背面側のガラス基板の端子部付近を示す平面図である。It is a top view which shows the terminal part vicinity of the glass substrate of the back side to which the manufacturing method of the gas discharge display apparatus of one Embodiment of this invention is applied. 図2のA−A線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the AA line of FIG. 本発明の一実施形態のガス放電表示装置の製造方法を示す過程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the gas discharge display apparatus of one Embodiment of this invention. 従来の面放電型電極構造を有するAC型プラズマディスプレイを示す部分分解斜視図である。It is a partial exploded perspective view which shows the AC type plasma display which has the conventional surface discharge type electrode structure. 従来の面放電型電極構造を有するAC型プラズマディスプレイの背面側のガラス基板の端子部付近を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the terminal part vicinity of the glass substrate of the back side of the AC type plasma display which has the conventional surface discharge type electrode structure.

符号の説明Explanation of symbols

1 プラズマディスプレイ
2、3 ガラス基板(透明基板)
4A 走査電極(第1の電極)
4B 維持電極
5 誘電体層
7 放電セル
7a 凹部
8 隔壁
11 アドレス電極(第2の電極)
12 誘電体層
13 蛍光体
21 溝
22 接続端子
31 ガラス基板(透明基板)
32 撥液層
33 導電性粒子を含む導電性組成物
34 ディスペンサー(供給手段)
1 Plasma display 2, 3 Glass substrate (transparent substrate)
4A Scanning electrode (first electrode)
4B Sustain electrode 5 Dielectric layer 7 Discharge cell 7a Recessed part 8 Partition 11 Address electrode (second electrode)
12 Dielectric layer 13 Phosphor 21 Groove 22 Connection terminal 31 Glass substrate (transparent substrate)
32 Liquid repellent layer 33 Conductive composition containing conductive particles 34 Dispenser (supply means)

Claims (4)

1対の透明基板が互いに対向配置され、これらの透明基板のうち一方の透明基板の一主面に複数のストライプ状の第1の電極が互いに平行に形成されるとともに、他方の透明基板の対向する側の一主面に前記第1の電極に直交する複数のストライプ状の第2の電極が互いに平行に形成され、これら第2の電極それぞれの間には隔壁が形成され、これら隔壁により画成されたそれぞれの凹部が放電セルとされ、これら凹部の長手方向の少なくとも一方の外側かつ前記他方の透明基板の一主面に前記凹部と連通する溝が形成され、当該溝に前記第2の電極と接続する接続端子が形成されてなるガス放電表示装置の製造方法であって、
前記他方の透明基板の一主面に、前記凹部に連通する溝を形成し、次いで、当該溝を含む前記一主面上に撥液層を形成し、次いで、前記溝を含む前記一主面上に前記接続端子を形成するための導電性粒子を含む導電性組成物を供給することを特徴とするガス放電表示装置の製造方法。
A pair of transparent substrates are arranged opposite to each other, and a plurality of stripe-shaped first electrodes are formed in parallel with each other on one main surface of one of the transparent substrates, and the other transparent substrate is opposed to the other transparent substrate. A plurality of striped second electrodes perpendicular to the first electrode are formed in parallel to each other on one main surface, and a partition is formed between each of the second electrodes. Each formed recess is a discharge cell, and a groove communicating with the recess is formed on at least one outer side of the recess in the longitudinal direction and on one main surface of the other transparent substrate, and the second groove is formed in the groove. A manufacturing method of a gas discharge display device in which a connection terminal connected to an electrode is formed,
A groove communicating with the recess is formed on one main surface of the other transparent substrate, a liquid repellent layer is then formed on the one main surface including the groove, and then the one main surface including the groove A method of manufacturing a gas discharge display device, comprising supplying a conductive composition containing conductive particles for forming the connection terminal thereon.
前記撥液層を、前記溝を除く前記一主面上に形成することを特徴とする請求項1記載のガス放電表示装置の製造方法。 2. The method of manufacturing a gas discharge display device according to claim 1, wherein the liquid repellent layer is formed on the one main surface excluding the groove. 前記導電性組成物と前記透明基板の一主面との接触角(θ)は、30°以上かつ100°以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1または2記載のガス放電表示装置の製造方法。 3. The gas discharge display device according to claim 1, wherein a contact angle (θ) between the conductive composition and one main surface of the transparent substrate is in a range of 30 ° to 100 °. Manufacturing method. 前記導電性組成物の23℃、剪断速度10(1/秒)における粘度は、0.01Pa・s以上かつ10Pa・s以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1、2または3記載のガス放電表示装置の製造方法。 The viscosity at 23 ° C. and a shear rate of 10 (1 / second) of the conductive composition is in a range of 0.01 Pa · s to 10 Pa · s. Manufacturing method of the gas discharge display device.
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