JP2005186504A - Lithographic printing plate original plate and lithographic printing method - Google Patents

Lithographic printing plate original plate and lithographic printing method Download PDF

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直憲 牧野
Noribumi Inno
紀文 因埜
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久 堀田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate original plate having excellent on-machine developing properties, thin line reproducibility, good capability of suppressing staining and printing resistance, and a lithographic printing method using the same. <P>SOLUTION: The lithographic printing plate original plate has an image recording layer on a hydrophilic support wherein the peak area of fluorine, silicon and aluminum measured by an X-ray photoelectron spectroscopic method is at a specific ratio, and contains a copolymer having at least (a1) a repeating unit contains at least one ethylenically unsaturated bond, and (a2) a repeating unit containing at least one functional group interacting with the support surface, in the image recording layer or the other layers. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、平版印刷版原版およびそれを用いる平版印刷方法に関する。詳しくは、コンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザーを走査することにより直接製版することができる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷版原版、および、前記平版印刷版原版を印刷機上で現像して印刷する平版印刷方法に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor and a lithographic printing method using the same. Specifically, a lithographic printing plate precursor capable of direct plate making by scanning with an infrared laser based on a digital signal from a computer or the like, and developing the lithographic printing plate precursor on a printing press, the so-called lithographic printing plate precursor. The present invention relates to a planographic printing method for printing.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙等の被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルム等の原画を通した露光を行った後、画像部の画像記録層を残存させ、非画像部の画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解して除去することで親水性の支持体の表面を露出させる方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate comprises an oleophilic image area that receives ink in the printing process and a hydrophilic non-image area that receives dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oil-based inks repel each other, so that the oleophilic image area of the lithographic printing plate is the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is dampened with the water receiving area (ink non-receiving area). In this method, a difference in ink adhesion is caused on the surface of the lithographic printing plate, and after ink is applied only to the image area, the ink is transferred to a printing medium such as paper and printed.
In order to produce this lithographic printing plate, conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) in which an oleophilic photosensitive resin layer (image recording layer) is provided on a hydrophilic support has been widely used. Normally, after exposing a lithographic printing plate precursor through an original image such as a lithographic film, the image recording layer in the image area is left, and the image recording layer in the non-image area is dissolved with an alkaline developer or an organic solvent. The lithographic printing plate is obtained by carrying out plate making by a method of exposing the surface of the hydrophilic support by removing it.

従来の平版印刷版原版の製版工程においては、露光の後、非画像部を画像記録層に応じた現像液等によって溶解除去する工程が必要であるが、このような付加的に行われる湿式処理を不要化し又は簡易化することが課題の一つとして挙げられている。特に、近年、地球環境への配慮から湿式処理に伴って排出される廃液の処分が産業界全体の大きな関心事となっているので、上記課題の解決の要請は一層強くなってきている。   In the conventional plate-making process of a lithographic printing plate precursor, a step of dissolving and removing the non-image area with a developing solution or the like corresponding to the image recording layer is necessary after exposure. One of the problems is to make the system unnecessary or simplified. In particular, in recent years, disposal of waste liquids discharged with wet processing has become a major concern for the entire industry due to consideration for the global environment, and therefore, the demand for solving the above-mentioned problems has become stronger.

これに対して、簡易な製版方法の一つとして、平版印刷版原版の非画像部の除去を通常の印刷工程の中で行えるような画像記録層を用い、露光後、印刷機上で非画像部を除去し、平版印刷版を得る、機上現像と呼ばれる方法が提案されている。
機上現像の具体的方法としては、例えば、湿し水、インキ溶剤又は湿し水とインキとの乳化物に溶解し又は分散することが可能な画像記録層を有する平版印刷版原版を用いる方法、印刷機のローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法、湿し水、インキ溶剤等の浸透によって画像記録層の凝集力又は画像記録層と支持体との接着力を弱めた後、ローラー類やブランケット胴との接触により、画像記録層の力学的除去を行う方法が挙げられる。
なお、本発明においては、特別な説明がない限り、「現像処理工程」とは、印刷機以外の装置(通常は自動現像機)を使用し、液体(通常はアルカリ性現像液)を接触させることにより、平版印刷版原版の画像記録層の未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる工程を指し、「機上現像」とは、印刷機を用いて、液体(通常は印刷インキ及び/又は湿し水)を接触させることにより、平版印刷版原版の画像記録層の未露光部分を除去し、親水性支持体表面を露出させる方法及び工程を指す。
On the other hand, as one of simple plate making methods, an image recording layer that can remove a non-image portion of a lithographic printing plate precursor in a normal printing process is used. A method called on-press development has been proposed in which a part is removed to obtain a lithographic printing plate.
As a specific method of on-press development, for example, a method of using a lithographic printing plate precursor having an image recording layer that can be dissolved or dispersed in an fountain solution, an ink solvent, or an emulsion of a fountain solution and an ink. , A method of mechanically removing the image recording layer by contact with rollers or a blanket cylinder of a printing press, cohesion force of the image recording layer by penetration of dampening water, ink solvent, etc., or between the image recording layer and the support. There is a method in which after the adhesive force is weakened, the image recording layer is mechanically removed by contact with rollers or a blanket cylinder.
In the present invention, unless otherwise specified, the “development process step” refers to using a device other than a printing press (usually an automatic developing machine) and bringing a liquid (usually an alkaline developer) into contact therewith. Refers to the process of removing the unexposed portion of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor and exposing the surface of the hydrophilic support, and “on-press development” refers to a liquid (usually printing ink) using a printing press. And / or a dampening solution) to remove the unexposed portion of the image recording layer of the lithographic printing plate precursor and expose the surface of the hydrophilic support.

一方、近年、画像情報をコンピュータによって電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ
・プレート技術が注目されてきている。従って、このような技術に適応した平版印刷版原版を得ることが重要な技術課題の一つとなっている。
On the other hand, in recent years, digitization techniques for electronically processing, storing, and outputting image information by a computer have become widespread, and various new image output methods corresponding to such digitization techniques are put into practical use. It is becoming. Along with this, digitized image information is carried by high-convergence radiation such as laser light, and the lithographic printing plate precursor is scanned and exposed with that light, directly without using a lithographic film. Computer-to-plate technology for manufacturing is attracting attention. Accordingly, obtaining a lithographic printing plate precursor adapted to such a technique is one of the important technical issues.

上述したように、近年、製版作業の簡易化、乾式化及び無処理化は、地球環境への配慮とデジタル化への適合化との両面から、従来にも増して、強く望まれるようになってきている。
しかしながら、従来の紫外から可視領域の光を利用する画像記録方式を機上現像などの製版作業の簡易化に用いた場合、露光後も画像記録層が定着しないため室内光にたいする感光性を有し、平版印刷版原版を包装から出した後、機上現像が完了するまでの間、完全に遮光状態に保つ必要があった。
As described above, in recent years, simplification, drying, and no processing of plate making operations have become more desirable than ever in terms of both consideration for the global environment and adaptation to digitalization. It is coming.
However, when the conventional image recording method using light in the ultraviolet to visible region is used for simplification of plate making operations such as on-press development, the image recording layer is not fixed even after exposure, so that it has sensitivity to room light. After the lithographic printing plate precursor was taken out of the package, it was necessary to keep it completely shielded from light until the on-press development was completed.

最近、波長760〜1200nmの赤外線を放射する半導体レーザー、YAGレーザー等の高出力レーザーが安価に入手できるようになってきたことから、デジタル化技術に組み込みやすい走査露光による平版印刷版の製造方法として、これらの高出力レーザーを画像記録光源として用いる方法が有望視されるようになっている。
従来の紫外から可視領域の光を利用する製版方法では、感光性の平版印刷版原版に対して低照度から中照度で像様露光を行い、画像記録層における光化学反応による像様の物性変化によって画像記録を行う。これに対して、上述した高出力レーザーを用いる方法では、露光領域に極短時間に大量の光エネルギーを照射して、光エネルギーを効率的に熱エネルギーに変換させ、その熱により、画像記録層において化学変化、相変化、形態又は構造の変化等の熱変化を起こさせ、その変化を画像記録に利用する。従って、画像情報はレーザー光等の光エネルギーによって入力されるが、画像記録は光エネルギーに加えて熱エネルギーによる反応も加味された状態で行われる。通常、このような高パワー密度露光による発熱を利用した記録方式はヒートモード記録と呼ばれ、光エネルギーを熱エネルギーに変えることは光熱変換と呼ばれる。
Recently, high-power lasers such as semiconductor lasers that emit infrared rays having a wavelength of 760 to 1200 nm, YAG lasers, etc. have become available at a low cost. Therefore, a method using these high-power lasers as an image recording light source has been considered promising.
In the conventional plate making method using light in the ultraviolet to visible region, a photosensitive lithographic printing plate precursor is subjected to imagewise exposure from low to medium illuminance, and image-like physical property changes due to photochemical reaction in the image recording layer. Record an image. On the other hand, in the method using the above-described high-power laser, a large amount of light energy is irradiated to the exposure region in a very short time, and the light energy is efficiently converted into heat energy. In the process, a thermal change such as a chemical change, a phase change, a form or a structure is caused and the change is used for image recording. Therefore, image information is input by light energy such as laser light, but image recording is performed in a state in which reaction by heat energy is taken into account in addition to light energy. Usually, such a recording method using heat generated by high power density exposure is called heat mode recording, and changing light energy to heat energy is called photothermal conversion.

ヒートモード記録を用いる製版方法の大きな長所は、室内照明のような通常の照度レベルの光では画像記録層が感光しないこと、及び、高照度露光によって記録された画像の定着が必須ではないことにある。つまり、ヒートモード記録に用いられる平版印刷版原版は、露光前には室内光により感光してしまうおそれがなく、露光後には画像の定着が必須ではない。従って、例えば、高出力レーザーを用いた露光により不溶化し又は可溶化する画像記録層を用い、露光した画像記録層を像様にして平版印刷版とする製版工程を機上現像で行えば、露光後、たとえ室内の環境光に暴露されても画像が影響を受けない印刷システムが可能となることが期待され、その実現が望まれている。   The major advantages of the plate making method using heat mode recording are that the image recording layer is not exposed to light at a normal illuminance level such as indoor lighting, and that fixing of images recorded by high illuminance exposure is not essential. is there. That is, the lithographic printing plate precursor used for heat mode recording is not likely to be exposed to room light before exposure, and image fixing is not essential after exposure. Therefore, for example, if an image recording layer that is insolubilized or solubilized by exposure using a high-power laser is used, and the plate making process in which the exposed image recording layer is imaged to form a lithographic printing plate is performed by on-machine development, exposure is performed. Later, it is expected that a printing system in which an image is not affected even if exposed to ambient light in a room will be possible, and its realization is desired.

このような平版印刷版原版として、例えば、親水性結合剤中に疎水性熱可塑性重合体粒子を分散させた像形成層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この平版印刷版原版は、赤外線レーザーにより露光して、疎水性熱可塑性重合体粒子を熱により融着合体させて画像を形成させた後、印刷機のシリンダー上に取り付け、湿し水及び/又はインキを供給することによって、機上現像することが可能である。   As such a lithographic printing plate precursor, for example, a lithographic printing plate precursor in which an image forming layer in which hydrophobic thermoplastic polymer particles are dispersed in a hydrophilic binder is provided on a hydrophilic support is known ( For example, see Patent Document 1.) This lithographic printing plate precursor is exposed to an infrared laser, and the hydrophobic thermoplastic polymer particles are fused and coalesced by heat to form an image. Then, the lithographic printing plate precursor is attached onto a cylinder of a printing machine, dampening water and / or On-press development is possible by supplying ink.

しかし、このように重合体微粒子の単なる熱融着による合体で画像を形成させる方法は、良好な機上現像性を示すものの、画像強度が極めて弱く、耐刷性が不十分であった。   However, the method for forming an image by merging the polymer fine particles by simple thermal fusion as described above exhibits good on-press developability, but the image strength is extremely weak and the printing durability is insufficient.

このような機上現像可能な平版印刷版原版の耐刷性を改良するものとして、親水性支持体上に、熱により反応する官能基を有する化合物を含有しているマイクロカプセルを含む感熱層を設け、赤外線吸収剤を感熱層かその隣接する層に含有していることを特徴とする平版印刷版用原版が提案されている(特許文献2及び特許文献3参照。)。   In order to improve the printing durability of such an on-press developable lithographic printing plate precursor, a thermosensitive layer comprising a microcapsule containing a compound having a functional group that reacts with heat on a hydrophilic support is provided. There is proposed a lithographic printing plate precursor comprising an infrared absorber contained in a heat-sensitive layer or an adjacent layer (see Patent Document 2 and Patent Document 3).

また、耐刷性を改良する別の技術として、支持体上に、赤外線吸収剤とラジカル重合開始剤と重合性化合物とを含有する感光層を設けた機上現像可能な平版印刷版原版が知られている(特許文献4参照。)。
上記のような重合反応などの反応を用いる方法は、重合体微粒子の熱融着により形成される画像部に比べ、画像部の化学結合密度が高いため画像強度を向上させることが可能であるが、機上現像性と、細線再現性や耐刷性との両立という点では未だ不十分であった。
一方、平版印刷版用支持体に関して、特許文献5には支持体表面に有する無機フッ素化合物とケイ酸化合物との含有量が特定の関係式にあることが開示されている。
特許第2938397号明細書 特開2001−277740号公報 特開2001−277742号公報 特開2002−287334号公報 特開2003−1961号公報
As another technique for improving printing durability, a lithographic printing plate precursor capable of on-press development, which is provided with a photosensitive layer containing an infrared absorber, a radical polymerization initiator and a polymerizable compound on a support, is known. (See Patent Document 4).
The method using a reaction such as a polymerization reaction as described above can improve the image strength because the chemical bond density of the image portion is higher than that of the image portion formed by thermal fusion of polymer fine particles. However, it is still insufficient in terms of both on-press developability, fine line reproducibility and printing durability.
On the other hand, regarding a lithographic printing plate support, Patent Document 5 discloses that the contents of the inorganic fluorine compound and the silicate compound on the surface of the support are in a specific relational expression.
Japanese Patent No. 2938397 JP 2001-277740 A JP 2001-277742 A JP 2002-287334 A Japanese Patent Laid-Open No. 2003-1961

本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであって、機上現像性、細線再現性、耐汚れ性および耐刷性に優れた平版印刷版原版およびそれを用いた平版印刷方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above prior art, and provides a lithographic printing plate precursor excellent in on-press developability, fine line reproducibility, stain resistance and printing durability, and a lithographic printing method using the same. The purpose is to do.

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、平版印刷版原版の画像記録層またはその他の層に特定の基を含有する共重合体を含有するとともに、支持体の表面状態を特定化することによって、上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに到った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventor contains a copolymer containing a specific group in the image recording layer or other layer of the lithographic printing plate precursor, and the surface state of the support. By specifying the above, the inventors have found that the above object can be achieved, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は以下の通りである。
(1) 表面が下記式(1)を満たす親水性支持体上に、画像記録層を有し、該画像記録層またはその他の層に少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位とを有する共重合体を含む平版印刷版原版。
0.30≦(A+B)/(A+B+C)≦0.90 (1)
A:X線光電子分光法を用いて測定して得られるフッ素(1S)のピーク面積(counts・eV/sec)
B:X線光電子分光法を用いて測定して得られるケイ素(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
C:X線光電子分光法を用いて測定して得られるアルミニウム(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
That is, the present invention is as follows.
(1) The surface has an image recording layer on a hydrophilic support satisfying the following formula (1), and the image recording layer or other layer contains at least one (a1) ethylenically unsaturated bond. A lithographic printing plate precursor comprising a copolymer having a repeating unit and (a2) a repeating unit containing at least one functional group that interacts with the support surface.
0.30 ≦ (A + B) / (A + B + C) ≦ 0.90 (1)
A: Peak area of fluorine (1S) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
B: Peak area of silicon (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
C: Peak area of aluminum (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)

(2) 前記共重合体が親水性部分を有する共重合体である前記(1)に記載の平版印刷版原版。
(3) 前記共重合体が、前記親水性支持体と画像記録層との間に設けられた下塗層に含まれる前記(1)または(2)に記載の平版印刷版原版。
(2) The lithographic printing plate precursor as described in (1) above, wherein the copolymer is a copolymer having a hydrophilic portion.
(3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein the copolymer is contained in an undercoat layer provided between the hydrophilic support and the image recording layer.

(4) 表面が下記式(1)を満たす親水性支持体上に、画像記録層を有し、該画像記録層またはその他の層に少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位とを有する共重合体を含む平版印刷版原版を、印刷機に装着し、赤外線レーザーで画像様に露光した後、又は、赤外線レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該平版印刷版原版に、印刷インキと湿し水とを供給して、該画像記録層の赤外線未露
光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
0.30≦(A+B)/(A+B+C)≦0.90 (1)
A:X線光電子分光法を用いて測定して得られるフッ素(1S)のピーク面積(counts・eV/sec)
B:X線光電子分光法を用いて測定して得られるケイ素(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
C:X線光電子分光法を用いて測定して得られるアルミニウム(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
(4) The surface has an image recording layer on a hydrophilic support satisfying the following formula (1), and the image recording layer or other layer contains at least one (a1) ethylenically unsaturated bond. A lithographic printing plate precursor comprising a copolymer having a repeating unit and (a2) a repeating unit containing at least one functional group that interacts with the support surface is mounted on a printing press and imagewise exposed with an infrared laser. Or after imagewise exposure with an infrared laser, it is mounted on a printing press, and the lithographic printing plate precursor is supplied with printing ink and fountain solution to remove the infrared unexposed portion of the image recording layer. Lithographic printing method to remove and print.
0.30 ≦ (A + B) / (A + B + C) ≦ 0.90 (1)
A: Peak area of fluorine (1S) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
B: Peak area of silicon (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
C: Peak area of aluminum (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)

(5) 前記共重合体が親水性部分を有する共重合体である前記(4)に記載の平版印刷方法。
(6)前記共重合体が、前記親水性支持体と画像記録層との間に設けられた下塗層に含まれる前記(4)または(5)に記載の平版印刷方法。
(5) The lithographic printing method according to (4), wherein the copolymer is a copolymer having a hydrophilic portion.
(6) The lithographic printing method according to (4) or (5), wherein the copolymer is contained in an undercoat layer provided between the hydrophilic support and the image recording layer.

本発明によれば、機上現像性に優れ、細線再現性、耐汚れ性および耐刷性も良好な平版印刷版原版およびそれを用いた平版印刷方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a lithographic printing plate precursor excellent in on-press developability, fine line reproducibility, stain resistance and printing durability, and a lithographic printing method using the same.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、例えば(A)赤外線吸収剤、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および(D)バインダーポリマーを含有し、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去可能である画像記録層を有し、更に画像記録層またはその他の層に少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つが含有する繰り返し単位とを有する共重合体(以下「特定共重合体」とも言う。)を含むことを一つの特徴とする。また、上記特定共重合体は親水性部分を有することが好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The lithographic printing plate precursor according to the present invention contains, for example, (A) an infrared absorber, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a binder polymer. It has an image-recording layer that can be removed by both, and the image-recording layer or other layer further interacts with (a2) at least one repeating unit containing at least one ethylenically unsaturated bond and (a2) the support surface. One feature is that it includes a copolymer having a repeating unit containing at least one functional group (hereinafter also referred to as “specific copolymer”). Moreover, it is preferable that the said specific copolymer has a hydrophilic part.

上記特定共重合体としては、下記式(I)で表される繰り返し単位を含有するものが好ましい。   As the specific copolymer, those containing a repeating unit represented by the following formula (I) are preferable.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

式(I)中、A1はエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位を表し、A2は支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位を表す。x、yは共重合比を表す。
式(I)において、A1で表される繰り返し単位は、好ましくは下記式(A1)で表される。
In formula (I), A 1 represents a repeating unit containing at least one ethylenically unsaturated bond, and A 2 represents a repeating unit containing at least one functional group that interacts with the support surface. x and y represent copolymerization ratios.
In the formula (I), the repeating unit represented by A 1 is preferably represented by the following formula (A1).

Figure 2005186504
Figure 2005186504

式中、R1〜R3はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、またはハロゲン原子を表す。R4〜R6はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、アシル基、またはアシルオキシ基を表す。またR4とR5、またはR5とR6で環を形成してもよい。Lは−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。 In the formula, R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom. R 4 to R 6 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, an acyl group, or an acyloxy group. Further, R 4 and R 5 , or R 5 and R 6 may form a ring. L represents a divalent linking group selected from the group consisting of -CO-, -O-, -NH-, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof.

組み合わせからなるLの具体例を以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がエチレン性不飽和結合に結合する。
L1:−CO−NH−二価の脂肪族基−O−CO−
L2:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L3:−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L4:−二価の脂肪族基−O−CO−
L5:−CO−NH−二価の芳香族基−O−CO−
L6:−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L7:−二価の芳香族基−O−CO−
L8:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L9:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L10:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の脂肪族基−O−CO−
L11:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の脂肪族基−O−CO−
L12:−CO−二価の脂肪族基−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−
L13:−CO−二価の脂肪族基−O−CO−二価の芳香族基−O−CO−
L14:−CO−二価の芳香族基−CO−O−二価の芳香族基−O−CO−
L15:−CO−二価の芳香族基−O−CO−二価の芳香族基−O−CO−
Specific examples of L composed of combinations are given below. In the following examples, the left side is bonded to the main chain, and the right side is bonded to the ethylenically unsaturated bond.
L1: -CO-NH-divalent aliphatic group -O-CO-
L2: —CO—divalent aliphatic group —O—CO—
L3: -CO-O-divalent aliphatic group -O-CO-
L4: -Divalent aliphatic group -O-CO-
L5: -CO-NH-divalent aromatic group -O-CO-
L6: -CO-divalent aromatic group -O-CO-
L7: -Divalent aromatic group -O-CO-
L8: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aliphatic group-O-CO-
L9: -CO-divalent aliphatic group-O-CO-divalent aliphatic group-O-CO-
L10: -CO-Divalent aromatic group -CO-O-Divalent aliphatic group -O-CO-
L11: -CO-Divalent aromatic group -O-CO-Divalent aliphatic group -O-CO-
L12: -CO-divalent aliphatic group-CO-O-divalent aromatic group-O-CO-
L13: -CO-Divalent aliphatic group -O-CO-Divalent aromatic group -O-CO-
L14: -CO-divalent aromatic group-CO-O-divalent aromatic group-O-CO-
L15: -CO-Divalent aromatic group -O-CO-Divalent aromatic group -O-CO-

二価の脂肪族基とは、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基またはポリアルキレンオキシ基を意味する。なかでもアルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、および置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基および置換アルキレン基がさらに好ましい。
二価の脂肪族基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、さらに分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。
二価の脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20であることが好ましく、1乃至15であることがより好ましく、1乃至12であることがさらに好ましく、1乃至10であることがさらにまた好ましく、1乃至8であることが最も好ましい。
二価の脂肪族基の置換基の例としては、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基およびジアリールアミノ基等が挙げられる。
The divalent aliphatic group means an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, a substituted alkenylene group, an alkynylene group, a substituted alkynylene group or a polyalkyleneoxy group. Of these, an alkylene group, a substituted alkylene group, an alkenylene group, and a substituted alkenylene group are preferable, and an alkylene group and a substituted alkylene group are more preferable.
The divalent aliphatic group is preferably a chain structure rather than a cyclic structure, and more preferably a linear structure than a branched chain structure.
The number of carbon atoms in the divalent aliphatic group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, further preferably 1 to 12, and further preferably 1 to 10. It is preferably 1 to 8, and most preferably.
Examples of the substituent of the divalent aliphatic group include a halogen atom (F, Cl, Br, I), a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a cyano group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, and an acyl group. , Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, monoalkylamino group, dialkylamino group, arylamino group and diarylamino group.

二価の芳香族基とは、アリール基または置換アリール基を意味する。好ましくは、フェニレン、置換フェニレン基、ナフチレンおよび置換ナフチレン基である。
二価の芳香族基の置換基の例としては、上記二価の脂肪族基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。
The divalent aromatic group means an aryl group or a substituted aryl group. Preferable are phenylene, substituted phenylene group, naphthylene and substituted naphthylene group.
Examples of the substituent for the divalent aromatic group include an alkyl group in addition to the examples of the substituent for the divalent aliphatic group.

式(I)において、A2で表される繰り返し単位は、具体的には下記式(A2)で表される。 In the formula (I), the repeating unit represented by A 2 is specifically represented by the following formula (A2).

Figure 2005186504
Figure 2005186504

式中、R1〜R3およびLは前記式(A1)で表されるものと同義である。Qは支持体表面と相互作用する官能基(以下、「特定官能基」と略記する場合がある。)を表す。
特定官能基としては、具体的には支持体表面のSi−OH、Si−O-、Al3+、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等と共有結合、イオン結合、水素結合、極性相互作用、ファンデルワールズ相互作用などの相互作用が可能な基が挙げられる。特定官能基の具体例を以下に挙げる。
In formula, R < 1 > -R < 3 > and L are synonymous with what is represented by said Formula (A1). Q represents a functional group that interacts with the support surface (hereinafter sometimes abbreviated as “specific functional group”).
Specific functional groups include, specifically, Si—OH, Si—O , Al 3+ , aluminum oxide, zirconium oxide, etc. on the support surface, covalent bond, ionic bond, hydrogen bond, polar interaction, van der Waals Examples include groups capable of interaction such as interaction. Specific examples of the specific functional group are listed below.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

(上記式中、R11〜R13はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、またはアルケニル基を表し、M1およびM2はそれぞれ独立に、水素原子、金属原子、またはアンモニウム基を表し、X-はカウンターアニオンを表す。)
これらのなかでも特定官能基としては、アンモニウム基、ピリジニウム基等のオニウム塩基、リン酸エステル基、ホスホン酸基、ホウ酸基、アセチルアセトン基などのβ−ジケトン基などが好適である。
(In the above formula, R 11 to R 13 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkynyl group, or an alkenyl group, and M 1 and M 2 each independently represent a hydrogen atom, a metal atom, or Represents an ammonium group, and X represents a counter anion.)
Among these, the specific functional group is preferably an onium base such as an ammonium group or a pyridinium group, a β-diketone group such as a phosphate group, a phosphonic acid group, a boric acid group, or an acetylacetone group.

式(A2)において、Lは−CO−、−O−、−NH−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。
組み合わせからなるLの具体例としては、前記(A1)におけるLの具体例に加えて以下のものを挙げることができる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がエチレン性不飽和結合に結合する。
L16: −CO−NH−
L17: −CO−O−
L18: −二価の芳香族基−
In the formula (A2), L represents a divalent linking group selected from the group consisting of —CO—, —O—, —NH—, a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, and combinations thereof. .
Specific examples of L composed of combinations include the following in addition to the specific examples of L in (A1). In the following examples, the left side is bonded to the main chain, and the right side is bonded to the ethylenically unsaturated bond.
L16: —CO—NH—
L17: -CO-O-
L18: -Divalent aromatic group-

式(A2)で表される繰り返し単位中には親水性部分を有していてもよい。式(A2)に親水性部分が含まれない場合には、本発明で用いられる前記共重合体には共重合成分としてさらに下記式(A3)で表される繰り返し単位を含有することが好ましい。   The repeating unit represented by the formula (A2) may have a hydrophilic portion. When the hydrophilic part is not contained in the formula (A2), the copolymer used in the present invention preferably further contains a repeating unit represented by the following formula (A3) as a copolymerization component.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

式中、R1〜R3およびLは前記式(A1)で表されるものと同義である。Wは下記基を表す。 In formula, R < 1 > -R < 3 > and L are synonymous with what is represented by said Formula (A1). W represents the following group.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

ただし、M1は前記式(A2)の説明で表されるものと同義である。
7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子、あるいは炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキル基を表す。ここで、R7とR8とで含窒素の環構造を形成してもよい。
9は炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキレン基を表す。
10は水素原子または炭素数1〜12のアルキル基を表す。
nは1〜100の整数を表す。
前記特定共重合体の分子量としては、質量平均分子量で500〜100,000の範囲が好ましく、700〜50,000の範囲がより好ましい。また(a1)は全共重合モノマーに対して5〜80モル%が好ましく、10〜50モル%がより好ましい。(a2)は全共重合モノマーに対して5〜80モル%が好ましく、10〜50モル%がより好ましい。さらに、(a3)は全共重合モノマーに対して5〜80モル%が好ましく、10〜50モル%がより好ましい。
However, M 1 is the same meanings as those represented in the description of the formula (A2).
R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Here, R 7 and R 8 may form a nitrogen-containing ring structure.
R 9 represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms.
R 10 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
n represents an integer of 1 to 100.
As a molecular weight of the said specific copolymer, the range of 500-100,000 is preferable at a mass mean molecular weight, and the range of 700-50,000 is more preferable. Further, (a1) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers. (A2) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers. Furthermore, (a3) is preferably from 5 to 80 mol%, more preferably from 10 to 50 mol%, based on all copolymerized monomers.

本発明において用いられる前記特定共重合体の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the specific copolymer used in the present invention are shown below, but are not limited thereto.

Figure 2005186504
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Figure 2005186504
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Figure 2005186504
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本発明において前記特定共重合体の使用形態としては、画像記録層中に含有させることも、また支持体と画像記録層との間に設けられる下記で説明する下塗層(中間層)などの画像記録層に隣接する層に含有させることもできるが、下塗り層中に用いるのが本発明の効果が十分に発揮されるため特に好ましい。下塗層が断熱層として機能することにより、赤外線レーザーによる露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく利用されるようになるため、高感度化が図れるという利点がある。また、未露光部においては、画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、機上現像性が向上する。
本発明において前記特定共重合体を下塗り層に用いる場合には、通常該共重合体を溶剤で希釈して用いる。溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、THF、DMF、1−メトキシ−2−プロパノール、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒が挙げられ、特にアルコール類が好ましい。これらの有機溶媒は混合して用いることもできる。
なお、前記特定共重合体化合物を下塗り層に用いる場合、特定共重合体単独で親水性支持体上に塗設または、必要に応じて後述する有機化合物等の下塗り剤と併用してもよい。
In the present invention, the specific copolymer may be used in the image recording layer such as an undercoat layer (intermediate layer) described below provided between the support and the image recording layer. Although it can be contained in a layer adjacent to the image recording layer, it is particularly preferable to use it in the undercoat layer since the effect of the present invention is sufficiently exhibited. Since the undercoat layer functions as a heat insulating layer, heat generated by exposure with an infrared laser is not diffused to the support and can be used efficiently, so that there is an advantage that high sensitivity can be achieved. In addition, in the unexposed area, the image recording layer is easily peeled off from the support, so that the on-press developability is improved.
In the present invention, when the specific copolymer is used for the undercoat layer, the copolymer is usually diluted with a solvent. Examples of the solvent include water and organic solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, ethylene glycol, hexylene glycol, THF, DMF, 1-methoxy-2-propanol, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, and particularly alcohols. Is preferred. These organic solvents can also be mixed and used.
When the specific copolymer compound is used for the undercoat layer, the specific copolymer alone may be coated on the hydrophilic support, or may be used in combination with an undercoat agent such as an organic compound described later if necessary.

下塗層塗布液の濃度(特定共重合体の濃度)としては、0.001〜10質量%が好ましく、より好ましくは0.01〜5質量%であり、さらに好ましくは0.05〜1質量%である。下塗り層には、必要に応じて後述する界面活性剤を添加してもよい。   As a density | concentration (concentration of a specific copolymer) of undercoat layer coating liquid, 0.001-10 mass% is preferable, More preferably, it is 0.01-5 mass%, More preferably, it is 0.05-1 mass. %. A surfactant described later may be added to the undercoat layer as necessary.

特定共重合体が下塗層に含まれる場合の塗布量(固形分)は、1〜30mg/m2 であるのが好ましく、3〜30mg/m2 であるのがより好ましい。 The coating amount in the case where the specific copolymer contained in the undercoat layer (solids) is preferably from 1 to 30 mg / m 2, and more preferably 3 to 30 mg / m 2.

次に、本発明の平版印刷版原版における画像記録層について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、例えば(A)赤外線吸収剤、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および(D)バインダーポリマーを含有し、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去可能な画像記録層を有するものが好適である。
以下にこの好適な態様における画像記録層を構成する各成分について詳細に説明する。
Next, the image recording layer in the planographic printing plate precursor according to the invention will be described in detail.
The planographic printing plate precursor of the present invention contains, for example, (A) an infrared absorber, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a binder polymer on a support, Those having an image recording layer removable with water or both of them are preferred.
Hereinafter, each component constituting the image recording layer in this preferred embodiment will be described in detail.

〔(A)赤外線吸収剤〕
本発明における画像記録層には、760〜1200nmの赤外線を発するレーザーを光源とする画像形成を効率的に行うことを可能にするため、赤外線吸収剤が含有されるのがよい。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有している。この際発生した熱により、後述する重合開始剤(ラジカル発生剤)が熱分解し、ラジカルを発生する。 本発明で用いられるかかる赤外線吸収剤は、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料である。
[(A) Infrared absorber]
The image recording layer in the present invention preferably contains an infrared absorbing agent in order to efficiently perform image formation using a laser emitting infrared light of 760 to 1200 nm as a light source. The infrared absorber has a function of converting absorbed infrared rays into heat. Due to the heat generated at this time, a polymerization initiator (radical generator) described later is thermally decomposed to generate radicals. Such an infrared absorber used in the present invention is a dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭60−78787号等の公報に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等の公報に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等の公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号公報等に記載されているスクワリリウム色素、英国特許第434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げることができる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, etc. Is mentioned.
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, The methine dyes described in JP-A-58-181690 and JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, Naphthoquinone dyes described in JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and the like, squarylium dyes described in JP-A-58-112792, and the like; And cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

また、米国特許第5,156,938号明細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号明細書記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号公報(米国特許第4,327,169号明細書)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号の公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。   In addition, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) described in US Pat. No. 3,881,924 is also suitable. ) Pyrylium salt, trimethine thiapyrylium salt described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59- No. 41363, 59-84248, 59-84249, 59-146063, 59-146061, and pyrine compounds described in JP-A-59-216146. In US Pat. No. 4,283,475, the pentamethine thiopyrylium salt, etc., and Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are disclosed. Pyrylium compounds are also preferably used. Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in US Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。さらに、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が好ましく、特に好ましい一つの例として
下記一般式(i)で示されるシアニン色素が挙げられる。
Among these dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes are particularly preferable. Further, cyanine dyes and indolenine cyanine dyes are preferred, and one particularly preferred example is a cyanine dye represented by the following general formula (i).

Figure 2005186504
Figure 2005186504

一般式(i)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。 In formula (i), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

一般式(i)におけるX2は酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、又はヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。Phはフェニル基を表す。 X 2 in the general formula (i) represents an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and L 1 is a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or carbon containing a hetero atom. A hydrocarbon group having 1 to 12 atoms is shown. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se. Xa - the Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom. Ph represents a phenyl group.

一般式(i)におけるR1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 in the general formula (i) each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(i)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (i) has an anionic substituent in its structure and neutralization of charge is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion from the viewpoint of storage stability of the recording layer coating solution, and particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal ion. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(i)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969公報の段落番号[0017]から[0019]に記載されたものを挙げることができる。
また、特に好ましい他の例として、特開2002−278057号公報に記載の特定インドレニンシアニン色素を挙げることができる。
さらに、赤外線吸収剤としては、水溶性であることが好ましいが、非水溶性の場合は、分散や混合溶媒に溶解する等の方法により添加することもできる。
Specific examples of cyanine dyes represented by formula (i) that can be suitably used in the present invention include those described in paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969. Can do.
Other particularly preferable examples include specific indolenine cyanine dyes described in JP-A-2002-278057.
Furthermore, the infrared absorber is preferably water-soluble, but when it is water-insoluble, it can be added by a method such as dispersion or dissolution in a mixed solvent.

本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。   Examples of the pigment used in the present invention include commercially available pigments and color index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986), “Printing Ink Technology”, CMC Publishing, 1984) can be used.

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。この範囲で、顔料分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性と画像記録層の良好な均一性が得られる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the pigment dispersion in the image recording layer coating solution and good uniformity of the image recording layer can be obtained.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

これらの赤外線吸収剤の画像記録層への添加は、重合反応を阻害する副作用を抑制する
ため、必要最小量とすることが好ましい。
The addition of these infrared absorbers to the image recording layer is preferably made the minimum necessary amount in order to suppress side effects that inhibit the polymerization reaction.

これらの赤外線吸収剤は、画像記録層の全固形分に対し0.001〜50質量%、好ましくは0.005〜30質量%、特に好ましくは0.01〜10質量%の割合で添加することができる。この範囲内で、画像記録層の均一性や膜強度に好ましくない影響を与えることなく、高感度が得られる。   These infrared absorbers are added in a proportion of 0.001 to 50% by mass, preferably 0.005 to 30% by mass, particularly preferably 0.01 to 10% by mass, based on the total solid content of the image recording layer. Can do. Within this range, high sensitivity can be obtained without adversely affecting the uniformity and film strength of the image recording layer.

上述したこれらの赤外線吸収剤の中で、好ましい染料としては一般式(i)で示されるシアニン染料が好ましい。   Among these infrared absorbers described above, a preferable dye is a cyanine dye represented by the general formula (i).

〔(B)重合開始剤〕
本発明に用いられる重合発生剤としては、光、熱或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できる重合発生剤としては、公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができ、 本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物は、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。本発明に係る熱ラジカル発生剤としては、公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独又は2種以上を併用して用いることができる。
ラジカルを発生する化合物としては、例えば、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、が挙げられる。
[(B) polymerization initiator]
The polymerization generator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the polymerization generator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used, and a radical that is suitably used in the present invention is generated. The compound to be used refers to a compound that initiates and accelerates polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group by generating radicals by thermal energy. As the thermal radical generator according to the present invention, a known polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, or the like can be appropriately selected and used. Moreover, the compound which generate | occur | produces a radical can be used individually or in combination of 2 or more types.
Examples of the compound that generates radicals include organic halogenated compounds, carbonyl compounds, organic peroxide compounds, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, Examples include oxime ester compounds and onium salt compounds.

上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林等、「Bull Chem.Soc Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号、特開昭48−36281号、特開昭55−32070号、特開昭60−239736号、特開昭61−169835号、特開昭61−169837号、特開昭62−58241号、特開昭62−212401号、特開昭63−70243号、特開昭63−298339号の各公報、M.P.Hutt"Journal of Heterocyclic Chemistry"1(No3),(1970)等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物:S−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halogenated compound include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605, JP-A 48-36281, JP-A 55-32070, JP-A 60-239736, JP-A 61-169835, JP-A 61-169837, JP-A 62-58241, JP 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No 3), (1970), and in particular, an oxazole compound substituted with a trihalomethyl group: S-triazine compound.

より好適には、すくなくとも一つのモノ、ジ、又はトリハロゲン置換メチル基がs−トリアジン環に結合したs−トリアジン誘導体、具体的には、例えば、2,4,6−トリス(モノクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2―n−プロピル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロロエチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3,4−エポキシフェニル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔1−(p−メトキシフェニル)−2,4−ブタジエニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−i−プロピルオキシスチリル)−4、6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−ナトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンジルチオ−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロモメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−メトキシ−4,6−ビス(トリブロモメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。
More preferably, an s-triazine derivative having at least one mono, di, or trihalogen-substituted methyl group bonded to the s-triazine ring, specifically, for example, 2,4,6-tris (monochloromethyl)- s-triazine, 2,4,6-tris (dichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2-n-propyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, -(3,4-epoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [1 -(P-methoxyphenyl) -2,4-butadienyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- ( p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (pi-propyloxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p -Tolyl) -4,
6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-natoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-phenylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2-benzylthio-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s -Triazine, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine, 2-methoxy-4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine and the like.

上記カルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドトキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチルー(4'−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体、チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体等を挙げることができる。   Examples of the carbonyl compound include benzophenone, Michler ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone and other benzophenone derivatives, 2,2-dimethoxy- 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1- Hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) Acetophenone derivatives such as ketones, thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, p- Examples thereof include benzoic acid ester derivatives such as ethyl dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate.

上記アゾ化合物としては例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

上記有機過酸化化合物としては、例えば、トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネート、3,3',4,4'−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等が挙げられる。   Examples of the organic peroxide compound include trimethylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butyl). Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) butane, tert-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydro Peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, , 5-Oxanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxy Dicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxyoctanoate, tert-butyl peroxylaurate, tersyl carbonate, 3,3 ′, 4,4′-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4 '-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate) , Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

上記メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−249号公報、特開平2−4705号公報、特開平5−83588号公報記載の種々のチタノセン化合物、例えば、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、特開平1−304453号公報、特開平1−152109号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。   Examples of the metallocene compound include JP-A-59-152396, JP-A-61-151197, JP-A-63-41484, JP-A-2-249, JP-A-2-4705, Various titanocene compounds described in JP-A-5-83588, such as di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, Di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-di-fluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluorophen-1-yl, di- -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-penta Fluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,6-trifluoropheny -1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4 , 5,6-pentafluorophen-1-yl, iron-arene complexes described in JP-A-1-304453 and JP-A-1-152109, and the like.

上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号各明細書等に記載の種々の化合物、具体的には、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ブロモフェニル))4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイジダゾール、2,2'−ビス(o,o'−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−メチルフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、2,2'−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include JP-B-6-29285, U.S. Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. And, specifically, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-bromophenyl) )) 4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl) -4,4', 5,5 '-Tetraphenylbiimidazole, 2, 2' Bis (o-nitrophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (o-trifluorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and the like.

上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開昭62−143044号、特開昭62−150242号、特開平9−188685号、特開平9−188686号、特開平9−188710号、特開2000−131837号、特開2002−107916号、特許第2764769号、特開2002−116539号等の各公報、及び、Kunz,Martin"Rad Tech'98.Proceeding April 19−22,1998,Chicago"等に記載される有機ホウ酸塩、特開平6−157623号公報、特開平6−175564号公報、特開平6−175561号公報に記載の有機ホウ素スルホニウム錯体或いは有機ホウ素オキソスルホニウム錯体、特開平6−175554号公報、特開平6−175553号公報に記載の有機ホウ素ヨードニウム錯体、特開平9−188710号公報に記載の有機ホウ素ホスホニウム錯体、特開平6−348011号公報、特開平7−128785号公報、特開平7−140589号公報、特開平7−306527号公報、特開平7−292014号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。   Examples of the organic borate compounds include JP-A-62-143044, JP-A-62-1050242, JP-A-9-188585, JP-A-9-188686, JP-A-9-188710, and JP-A-9-188710. 2000-131837, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-107916, Japanese Patent No. 2764769, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-116539, and Kunz, Martin “Rad Tech'98. Proceeding April 19-22, 1998, Chicago”, etc. Organoboron salts described in JP-A-6-157623, JP-A-6-175564, JP-A-6-175561, and organic boron oxosulfonium complexes, No. 175554, JP-A-6-175553 Organoboron iodonium complexes described in JP-A-9-188710, organoboron phosphonium complexes described in JP-A-9-348710, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7- Specific examples include organoboron transition metal coordination complexes such as those described in Japanese Patent No. 306527 and Japanese Patent Laid-Open No. 7-292014.

上記ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号公報、特開2002−328465号公報等に記載される化合物が挙げられる。   Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2002-328465.

上記オキシムエステル化合物としては、J.C.S. Perkin II (1979 )1653-1660)、J.C.S.
Perkin II (1979)156-162、Journal of Photopolymer Science and Technology(1995)202-232、特開2000-66385号公報記載の化合物、特開2000-80068号公報記載の化合物等が挙げられ、具体的には下記化合物である。
Examples of the oxime ester compounds include JCS Perkin II (1979) 1653-1660), JCS
Perkin II (1979) 156-162, Journal of Photopolymer Science and Technology (1995) 202-232, compounds described in JP 2000-66385 A, compounds described in JP 2000-80068 A, and the like. Is the following compound.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

また上記オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   Examples of the onium salt compound include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in U.S. Pat. No. 4,069,055, ammonium salts described in JP-A-4-365049, U.S. Pat. No. 4,069, No. 055, No. 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104 and 143, U.S. Pat. Nos. 339,049 and 410,201, JP -150848, JP-A-2-296514, iodonium salts, European Patent Nos. 370,693, 390,214, 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 161,811, 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,4 No. 44, No. 2,833,827, German Patent Nos. 2,904,626, 3,604,580, and 3,604,581, the sulfonium salts described in J. Pat. V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as arsonium salts.

特に反応性、安定性の面から上記オキシムエステル化合物或いはジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。本発明において、これらのオニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合開始剤として機能する。
本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般式(RI-I)〜(RI-III)で表されるオニウム塩である。
In particular, from the viewpoint of reactivity and stability, the above oxime ester compounds, diazonium salts, iodonium salts, and sulfonium salts are exemplified. In the present invention, these onium salts function not as acid generators but as ionic radical polymerization initiators.
The onium salts suitably used in the present invention are onium salts represented by the following general formulas (RI-I) to (RI-III).

Figure 2005186504
Figure 2005186504

式(RI-I)中、Ar11は置換基を1〜6個有していても良い炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z11 -は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオンであり、安定性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-I), Ar 11 represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms and carbon numbers. 1-12 alkenyl group, C1-C12 alkynyl group, C1-C12 aryl group, C1-C12 alkoxy group, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C1 12 alkylamino groups, C1-C12 dialkylamino groups, C1-C12 alkylamide groups or arylamide groups, carbonyl groups, carboxyl groups, cyano groups, sulfonyl groups, C1-C12 thioalkyl groups And a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 11 - represents a monovalent anion, a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, a sulfate ion, stability From the surface, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, and sulfinate ion are preferable.

式(RI-II)中、Ar21、Ar22は各々独立に置換基を1〜6有していても良い炭素数20以下のアリール基を表し、好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z21 -は1価の陰イオンを表
し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン、カルボン酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。
In the formula (RI-II), Ar 21 and Ar 22 each independently represents an aryl group having 20 or less carbon atoms which may have 1 to 6 substituents, and preferred substituents have 1 to 12 carbon atoms. Alkyl group, alkenyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl group having 1 to 12 carbon atoms, aryl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, aryloxy group having 1 to 12 carbon atoms, halogen atom , C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl group, cyano group, sulfonyl group, carbon number 1 -12 thioalkyl group and C1-C12 thioaryl group are mentioned. Z 21 - represents a monovalent anion, a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, a carboxylic acid ion From the viewpoints of stability and reactivity, perchlorate ions, hexafluorophosphate ions, tetrafluoroborate ions, sulfonate ions, sulfinate ions, and carboxylate ions are preferable.

式(RI-III)中、R31、R32、R33は各々独立に置換基を1〜6有していても良い炭素数20以下のアリール基又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基を表し、好ましくは反応性、安定性の面から、アリール基であることが望ましい。好ましい置換基としては炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルケニル基、炭素数1〜12のアルキニル基、炭素数1〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜12のアリーロキシ基、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキルアミノ基、炭素数1〜12のジアルキルアミノ基、炭素数1〜12のアルキルアミド基又はアリールアミド基、カルボニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホニル基、炭素数1〜12のチオアルキル基、炭素数1〜12のチオアリール基が挙げられる。Z31 -は1価の陰イオンを表し、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、チオスルホン酸イオン、硫酸イオン、カルボン酸イオンであり、安定性、反応性の面から過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、テトラフルオロボレートイオン、スルホン酸イオン、スルフィン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましく、特に、特開2001−343742号公報記載のカルボン酸イオン、更に好ましくは特開2002−148790号公報記載のカルボン酸イオンが好ましい。 In the formula (RI-III), R 31 , R 32 , and R 33 each independently represent an aryl group having 20 or less carbon atoms, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group that may have 1 to 6 substituents. In view of reactivity and stability, an aryl group is desirable. Preferred substituents include alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkenyl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkynyl groups having 1 to 12 carbon atoms, aryl groups having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms, C1-C12 aryloxy group, halogen atom, C1-C12 alkylamino group, C1-C12 dialkylamino group, C1-C12 alkylamide group or arylamide group, carbonyl group, carboxyl Group, a cyano group, a sulfonyl group, a thioalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a thioaryl group having 1 to 12 carbon atoms. Z 31 - represents a monovalent anion, a halogen ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, thiosulfonate ion, sulfate ion, a carboxylic acid ion From the viewpoints of stability and reactivity, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, tetrafluoroborate ion, sulfonate ion, sulfinate ion, and carboxylate ion are preferable. In particular, the carboxyl described in JP-A-2001-343742 is preferable. Acid ions, more preferably carboxylate ions described in JP-A No. 2002-148790 are preferred.

本発明に適用し得る重合開始剤の具体例を以下に挙げるがこれらに限定されない。   Specific examples of the polymerization initiator that can be applied to the present invention are listed below, but are not limited thereto.

Figure 2005186504
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Figure 2005186504
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Figure 2005186504
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Figure 2005186504
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Figure 2005186504
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これらの重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で、良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。これらの重合開始剤は、1種のみを用いても良いし、2種以上を併用しても良い。また、これらの重合開始剤は他の成分と同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。   These polymerization initiators are added in a proportion of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.5 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass, based on the total solid content constituting the image recording layer. Can do. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained. These polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. Moreover, these polymerization initiators may be added to the same layer as other components, or another layer may be provided and added thereto.

〔(C)重合性化合物〕
本発明における画像記録層に用いることのできる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有す
る不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
[(C) Polymerizable compound]
The polymerizable compound that can be used in the image recording layer in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two. It is selected from the compounds having the above. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, amino group or mercapto group with a monofunctional or polyfunctional isocyanate or epoxy, and monofunctional or polyfunctional A dehydration condensation reaction product with a functional carboxylic acid is also preferably used. Further, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an electrophilic substituent such as an epoxy group or an epoxy group with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, a halogen group or In addition, a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、イソシアヌール酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, isocyanuric acid ethylene oxide (EO) Examples include modified triacrylates and polyester acrylate oligomers.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate. Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate. Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate. Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭51−47334号、特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特開昭59−5241号、特開平2−226149号の各公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。   Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59- Those having an aromatic skeleton described in JP-A No. 5241 and JP-A-2-226149 and those containing an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。   Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like. Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B No. 54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   Further, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable. Specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinylurethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups Etc.

CH2=C(R4)COOCH2CH(R5)OH (A)
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
CH 2 = C (R 4) COOCH 2 CH (R 5) OH (A)
(However, R 4 and R 5 represent H or CH 3. )

また、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号公報、特公昭56−17654号公報、特公昭62−39417号公報、特公昭62−39418号公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63−277653号公報、特開昭63−260909号公報、特開平1−105238号公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。   Also, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56- Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent No. 17654, Japanese Patent Publication No. 62-39417, and Japanese Patent Publication No. 62-39418 are also suitable. Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, it is possible to obtain a photopolymerizable composition excellent in the photosensitive speed.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号、各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, and JP-A-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. In addition, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, and vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 are also included. Can be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な平版印刷版原版の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。
また、画像記録層中の他の成分(例えばバインダーポリマー、重合開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、支持体や後述のオーバーコート層等との密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
About these polymerizable compounds, the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount and the like can be arbitrarily set according to the performance design of the final lithographic printing plate precursor. For example, it is selected from the following viewpoints.
From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image portion, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrene compound, vinyl ether type). A method of adjusting both sensitivity and strength by using a compound) is also effective.
In addition, the compatibility and dispersibility with other components in the image recording layer (for example, a binder polymer, a polymerization initiator, a colorant, etc.) are important factors in selecting and using the polymerizable compound, For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination. In addition, a specific structure may be selected for the purpose of improving adhesion to a support or an overcoat layer described later.

上記の重合性化合物は、画像記録層中に、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。   The polymerizable compound is used in the image recording layer in an amount of preferably 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass. These may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage of the polymerizable compound can be arbitrarily selected from the viewpoint of polymerization inhibition with respect to oxygen, resolution, fogging, refractive index change, surface adhesiveness, etc. The layer construction and coating method such as undercoating and overcoating can also be carried out.

〔(D)バインダーポリマー〕
本発明では、画像記録層の皮膜特性や機上現像性の向上のため、バインダーポリマーを用いるのがよい。バインダーポリマーとしては、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有する線状有機ポリマーが好ましい。このようなバインダーポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられる。
[(D) Binder polymer]
In the present invention, a binder polymer is preferably used in order to improve the film characteristics of the image recording layer and the on-press developability. A conventionally well-known thing can be used as a binder polymer without a restriction | limiting, The linear organic polymer which has film property is preferable. Examples of such binder polymers include acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, methacrylic resins, polystyrene resins, novolac phenolic resins, polyester resins, and synthetic rubbers. And natural rubber.

バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していることが好ましい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中又は側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよいし、高分子反応によって導入してもよい。   The binder polymer preferably has crosslinkability in order to improve the film strength of the image area. In order to impart crosslinkability to the binder polymer, a crosslinkable functional group such as an ethylenically unsaturated bond may be introduced into the main chain or side chain of the polymer. The crosslinkable functional group may be introduced by copolymerization or may be introduced by a polymer reaction.

分子の主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、ポリ−1,4−ブタジエン、ポリ−1,4−イソプレン等が挙げられる。   Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene and poly-1,4-isoprene.

分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例としては、アクリル酸又はメタクリル酸のエステル又はアミドのポリマーであって、エステル又はアミドの残基(−COOR又はCONHRのR)の少なくとも一部がエチレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることができる。   Examples of polymers having ethylenically unsaturated bonds in the side chain of the molecule are polymers of esters or amides of acrylic acid or methacrylic acid, at least of the residue of the ester or amide (-COOR or CONHR R) Mention may be made of polymers having some ethylenically unsaturated bonds.

エチレン性不飽和結合を有する残基(上記R)の例としては、−(CH2 n CR1 =CR2 3 、−(CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 CH2 O)n CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n NH−CO−O−CH2 CR1 =CR2 3 、−(CH2 n −O−CO−CR1 =CR2 3 及び(CH2 CH2 O)2 −X(式中、R1 〜R3 はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜20のアルキル基、アリール基、アルコキシ基もしくはアリールオキシ基を表し、R1 とR2 又はR3 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは、1〜10の整数を表す。Xは、ジシクロペンタジエニル残基を表す。)を挙げることができる。 Examples of the residue (the R) having an ethylenically unsaturated bond, - (CH 2) n CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2 CH 2 O) n CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n NH-CO-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3, - (CH 2) n -O-CO —CR 1 ═CR 2 R 3 and (CH 2 CH 2 O) 2 —X (wherein R 1 to R 3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, and alkoxy. R 1 and R 2 or R 3 may be bonded to each other to form a ring, n represents an integer of 1 to 10. X represents a dicyclopentadienyl residue. Represents a group).

エステル残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 O−CH2 CH=CH2 、−CH2 C(CH3 )=CH2 、−CH2 CH=CH−C6 5 、−CH2 CH2 OCOCH=CH−C6 5 、−CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、−CH2CH2OCOCH=CH2、−CH2 CH2 −NHCOO−CH2 CH=CH2 及びCH2 CH2 O−X(式中、Xはジシクロペンタジエニル残基を表す。)が挙げられる。
アミド残基の具体例としては、−CH2 CH=CH2 、−CH2 CH2 −Y(式中、Yはシクロヘキセン残基を表す。)、−CH2 CH2 −OCO−CH=CH2 が挙げられる。
Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 O—CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 C (CH 3 ) ═CH 2 , —CH 2 CH═CH— C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5, -CH 2 CH 2 OCOC (CH 3) = CH 2, -CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2, -CH 2 CH 2 -NHCOO -CH 2 CH = CH 2 and CH 2 CH (wherein, X represents a dicyclopentadienyl residue.) 2 O-X and the like.
Specific examples of the amide residue include —CH 2 CH═CH 2 , —CH 2 CH 2 —Y (wherein Y represents a cyclohexene residue), —CH 2 CH 2 —OCO—CH═CH 2. Is mentioned.

架橋性を有するバインダーポリマーは、例えば、その架橋性官能基にフリーラジカル(重合開始ラジカル又は重合性化合物の重合過程の生長ラジカル)が付加し、ポリマー間で直接に又は重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。又は、ポリマー中の原子(例えば、官能性架橋基に隣接する炭素原子上の水素原子)がフリーラジカルにより引き抜かれてポリマーラジカルが生成し、それが互いに結合することによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化する。   The binder polymer having crosslinkability, for example, has a free radical (polymerization initiation radical or a growth radical in the polymerization process of the polymerizable compound) added to the crosslinkable functional group, and the polymerization chain of the polymerizable compound is formed directly between the polymers. Through addition polymerization, a cross-link is formed between the polymer molecules and cured. Alternatively, atoms in the polymer (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to the functional bridging group) are abstracted by free radicals to form polymer radicals that are bonded together, thereby causing cross-linking between polymer molecules. Forms and cures.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量(ヨウ素滴定によるラジカル重合可能な不飽和二重結合の含有量)は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。この範囲で、良好な感度と良好な保存安定性が得られる。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer (content of unsaturated double bond capable of radical polymerization by iodine titration) is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0, per 1 g of the binder polymer. -7.0 mmol, most preferably 2.0-5.5 mmol. Within this range, good sensitivity and good storage stability can be obtained.

また、画像記録層未露光部の機上現像性向上の観点から、バインダーポリマーは、インキ及び/又湿し水に対する溶解性又は分散性が高いことが好ましい。
インキに対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親油的な方が好ましく、湿し水に対する溶解性又は分散性を向上させるためには、バインダーポリマーは、親水的な方が好ましい。このため、本発明においては、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することも有効である。
Further, from the viewpoint of improving the on-press developability of the image recording layer unexposed portion, the binder polymer preferably has high solubility or dispersibility in ink and / or fountain solution.
In order to improve solubility or dispersibility in ink, the binder polymer is preferably oleophilic, and in order to improve solubility or dispersibility in dampening water, the binder polymer is hydrophilic. Is preferred. Therefore, in the present invention, it is also effective to use a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer in combination.

親水的なバインダーポリマーとしては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボキシレート基、ヒドロキシエチル基、ポリオキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ポリオキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、アンモニウム基、アミド基、カルボキシメチル基、スルホン酸基、リン酸基等の親水性基を有するものが好適に挙げられる。   Examples of hydrophilic binder polymers include hydroxy groups, carboxyl groups, carboxylate groups, hydroxyethyl groups, polyoxyethyl groups, hydroxypropyl groups, polyoxypropyl groups, amino groups, aminoethyl groups, aminopropyl groups, and ammonium. Preferred are those having a hydrophilic group such as a group, an amide group, a carboxymethyl group, a sulfonic acid group, and a phosphoric acid group.

具体例として、アラビアゴム、カゼイン、ゼラチン、デンプン誘導体、カルボキシメチルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポリアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシピロピルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール類、加水分解度が60質量%以上、好ましくは80質量%以上である加水分解ポリビニルアセテート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポリマー及びコポリマー、ポリビニルピロリドン、アルコール可溶性ナイロン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンとのポリエーテル等が挙げられる。   Specific examples include gum arabic, casein, gelatin, starch derivatives, carboxymethylcellulose and its sodium salt, cellulose acetate, sodium alginate, vinyl acetate-maleic acid copolymers, styrene-maleic acid copolymers, polyacrylic acids and their salts, Polymethacrylic acids and their salts, hydroxyethyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxyethyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl methacrylate homopolymers and copolymers, hydroxypropyl acrylate homopolymers and copolymers, hydroxybutyl methacrylate homopolymers Polymers and copolymers, homopolymers and copolymers of hydroxybutyl acrylate, polyethylene glycol , Hydroxypropylene polymers, polyvinyl alcohols, hydrolyzed polyvinyl acetate, polyvinyl formal, polyvinyl butyral, polyvinyl pyrrolidone, acrylamide homopolymers and copolymers having a hydrolysis degree of 60% by mass or more, preferably 80% by mass or more Methacrylamide homopolymers and polymers, N-methylolacrylamide homopolymers and copolymers, polyvinylpyrrolidone, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, etc. Is mentioned.

バインダーポリマーは、質量平均分子量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましく、また、数平均分子量が1000以上であるのが好ましく、2000〜25万であるのがより好ましい。多分散度(質量平均分子量/数平均分子量)は、1.1〜10であるのが好ましい。   The binder polymer preferably has a mass average molecular weight of 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000, and a number average molecular weight of 1,000 or more, preferably 2000 to 250,000. More preferred. The polydispersity (mass average molecular weight / number average molecular weight) is preferably 1.1 to 10.

上記バインダーポリマーは、ランダムポリマー、ブロックポリマー、グラフトポリマー等のいずれでもよいが、ランダムポリマーであるのが好ましい。
かかるバインダーポリマーは、従来公知の方法により合成することができる。側鎖に架橋性基を有するバインダーポリマーは、ラジカル重合又は高分子反応によって容易に合成できる。
The binder polymer may be a random polymer, a block polymer, a graft polymer, or the like, but is preferably a random polymer.
Such a binder polymer can be synthesized by a conventionally known method. The binder polymer having a crosslinkable group in the side chain can be easily synthesized by radical polymerization or polymer reaction.

バインダーポリマーは単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、10〜90質量%で
あるのが好ましく、20〜80質量%であるのがより好ましい。この範囲で、良好な画像部の強度と画像形成性が得られる。
また、重合性化合物とバインダーポリマーは、質量比で1/9〜7/3となる量で用いるのが好ましい。
A binder polymer may be used independently or may be used in mixture of 2 or more types.
The content of the binder polymer is preferably 10 to 90% by mass and more preferably 20 to 80% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer. Within this range, good image area strength and image formability can be obtained.
Moreover, it is preferable to use a polymeric compound and a binder polymer in the quantity used as 1 / 9-7 / 3 by mass ratio.

〔画像記録層のその他の成分〕
本発明における画像記録層には、上記(A)〜(D)以外の成分、例えば、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤(熱重合防止剤)、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、低分子親水性化合物等を含有させることができる。
[Other components of image recording layer]
In the image recording layer of the present invention, components other than the above (A) to (D), for example, surfactant, colorant, print-out agent, polymerization inhibitor (thermal polymerization inhibitor), higher fatty acid derivative, plasticizer Inorganic fine particles, low molecular weight hydrophilic compounds, and the like can be contained.

<界面活性剤>
本発明において、画像記録層には、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために界面活性剤を用いるのが好ましい。界面活性剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙げられる。界面活性剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
<Surfactant>
In the present invention, it is preferable to use a surfactant in the image recording layer in order to promote on-press developability at the start of printing and to improve the coated surface state. Examples of the surfactant include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants, and fluorosurfactants. Surfactant may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

本発明に用いられるノニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、ショ糖脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリオキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノールアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールとポリプロピレングリコールの共重合体が挙げられる。   The nonionic surfactant used for this invention is not specifically limited, A conventionally well-known thing can be used. For example, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl phenyl ethers, polyoxyethylene polystyryl phenyl ethers, polyoxyethylene polyoxypropylene alkyl ethers, glycerin fatty acid partial esters, sorbitan fatty acid partial esters, pentaerythritol Fatty acid partial esters, propylene glycol mono fatty acid esters, sucrose fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid partial esters, polyoxyethylene sorbitol fatty acid partial esters, polyethylene glycol fatty acid esters, polyglycerin fatty acid partial esters, Polyoxyethylenated castor oil, polyoxyethylene glycerin fatty acid partial esters, fatty acid diethanolamides, N N- bis-2-hydroxyalkylamines, polyoxyethylene alkylamines, triethanolamine fatty acid ester, trialkylamine oxide, polyethylene glycol, copolymers of polyethylene glycol and polypropylene glycol.

本発明に用いられるアニオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、脂肪酸塩類、アビエチン酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカンスルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホコハク酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分けん化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類が挙げられる。   The anionic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known anionic surfactants can be used. For example, fatty acid salts, abietic acid salts, hydroxyalkane sulfonates, alkane sulfonates, dialkyl sulfosuccinate esters, linear alkyl benzene sulfonates, branched alkyl benzene sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, alkyl phenoxy poly Oxyethylene propyl sulfonates, polyoxyethylene alkyl sulfophenyl ether salts, N-methyl-N-oleyl taurine sodium salt, N-alkyl sulfosuccinic acid monoamide disodium salt, petroleum sulfonates, sulfated beef oil, fatty acid alkyl esters Sulfates, alkyl sulfates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, fatty acid monoglyceride sulfates, polyoxyethylene alcohol Ruphenyl ether sulfates, polyoxyethylene styryl phenyl ether sulfates, alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, polyoxyethylene alkyl phenyl ether phosphates, styrene / maleic anhydride Examples thereof include partial saponification products of polymers, partial saponification products of olefin / maleic anhydride copolymers, and naphthalene sulfonate formalin condensates.

本発明に用いられるカチオン界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体が挙げられる。
本発明に用いられる両性界面活性剤は、特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。例えば、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類が挙げられる。
The cationic surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known cationic surfactants can be used. Examples thereof include alkylamine salts, quaternary ammonium salts, polyoxyethylene alkylamine salts, and polyethylene polyamine derivatives.
The amphoteric surfactant used in the present invention is not particularly limited, and conventionally known amphoteric surfactants can be used. Examples thereof include carboxybetaines, aminocarboxylic acids, sulfobetaines, aminosulfuric esters, and imidazolines.

なお、上記界面活性剤の中で、「ポリオキシエチレン」とあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレン等の「ポリオキシアルキレン」に読み替えることもでき、本発明においては、それらの界面活性剤も用いることができる。   Of the above surfactants, the term “polyoxyethylene” can be read as “polyoxyalkylene” such as polyoxymethylene, polyoxypropylene, polyoxybutylene, etc. These surfactants can also be used.

更に好ましい界面活性剤としては、本発明における(D)成分以外にも、分子内にパーフルオロアルキル基を含有するフッ素系界面活性剤が挙げられる。このようなフッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステル等のアニオン型;パーフルオロアルキルベタイン等の両性型;パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩等のカチオン型;パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフルオロアルキル基及び親水性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基、親水性基及び親油性基を含有するオリゴマー、パーフルオロアルキル基及び親油性基を含有するウレタン等のノニオン型が挙げられる。また、特開昭62−170950号、同62−226143号及び同60−168144号の各公報に記載されているフッ素系界面活性剤も好適に挙げられる。   Further preferred surfactants include fluorine-based surfactants containing a perfluoroalkyl group in the molecule in addition to the component (D) in the present invention. Examples of such fluorosurfactants include anionic types such as perfluoroalkyl carboxylates, perfluoroalkyl sulfonates, and perfluoroalkyl phosphates; amphoteric types such as perfluoroalkyl betaines; Cation type such as trimethylammonium salt; perfluoroalkylamine oxide, perfluoroalkylethylene oxide adduct, oligomer containing perfluoroalkyl group and hydrophilic group, oligomer containing perfluoroalkyl group and lipophilic group, perfluoroalkyl Nonionic types such as an oligomer containing a group, a hydrophilic group and a lipophilic group, and a urethane containing a perfluoroalkyl group and a lipophilic group. Moreover, the fluorine-type surfactant described in each gazette of Unexamined-Japanese-Patent No. 62-170950, 62-226143, and 60-168144 is also mentioned suitably.

界面活性剤は、単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
界面活性剤は、画像記録層に、0.001〜10質量%含有させることが好ましく、0.01〜5質量%含有させることがより好ましい。
Surfactant can be used individually or in combination of 2 or more types.
The surfactant is preferably contained in the image recording layer in an amount of 0.001 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 5% by mass.

<着色剤>
本発明における画像記録層には、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、及び特開昭62−293247号公報に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料も好適に用いることができる。
<Colorant>
In the image recording layer of the present invention, a dye having a large absorption in the visible light region can be used as an image colorant. Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (orientated chemistry) Manufactured by Kogyo Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI522015), etc., and JP-A-62-2 And dyes described in Japanese Patent No. 293247. In addition, pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, and titanium oxide can also be suitably used.

<焼き出し剤>
本発明における画像記録層には、焼き出し画像生成のため、酸又はラジカルによって変色する化合物を添加することができる。このような化合物としては、例えばジフェニルメタン系、トリフェニルメタン系、チアジン系、オキサジン系、キサンテン系、アンスラキノン系、イミノキノン系、アゾ系、アゾメチン系等の各種色素が有効に用いられる。
<Bakeout agent>
In the image recording layer of the present invention, a compound that is discolored by an acid or a radical can be added to produce a printout image. As such a compound, for example, various dyes such as diphenylmethane, triphenylmethane, thiazine, oxazine, xanthene, anthraquinone, iminoquinone, azo, and azomethine are effectively used.

具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチルレッド、ナイルブルー2B、ナイルブルーA、メチルバイオレット、マラカイドグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルーBOH[保土ケ谷化学(株)製]、オイルブルー#603[オリエント化学工業(株)製]、オイルピンク#312[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッド5B[オリエント化学工業(株)製]、オイルスカーレット#308[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドOG[オリエント化学工業(株)製]、オイルレッドRR[オリエント化学工業(株)製]、オイルグリーン#502[オリエント化学工業(株)製]、スピロンレッドBEHスペシャル[保土ケ谷化学工業(株)製]、m−クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンB、ローダミン6G、スルホローダミンB、オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシアニリノ−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、2−カルボキシステアリルアミノ−4−p−N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アミノ−フェニルイミノナフトキノン、1−フェニル−3−メチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン、1−β−ナフチル−4−p−ジエチルアミノフェニルイミノ−5−ピラゾロン等の染料やp,p',p"−ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン(ロイコクリスタルバイオレット)、Pergascript Blue SRB(チバガイギー社製)等のロイコ染料が挙げられる。   Specific examples include brilliant green, ethyl violet, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, paramethyl red, Congo Fred, Benzopurpurin 4B, α-Naphthyl Red, Nile Blue 2B, Nile Blue A, Methyl Violet, Malachide Green, Parafuchsin, Victoria Pure Blue BOH [manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], Oil Blue # 603 [Orient Chemical Kogyo Co., Ltd.], Oil Pink # 312 [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red 5B [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Scarlet # 308 [Orient Gaku Kogyo Co., Ltd.], Oil Red OG [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Red RR [Orient Chemical Co., Ltd.], Oil Green # 502 [Orient Chemical Co., Ltd.], Spiron Red BEH Special [made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.], m-cresol purple, cresol red, rhodamine B, rhodamine 6G, sulforhodamine B, auramine, 4-p-diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxyanilino-4-p- Diethylaminophenyliminonaphthoquinone, 2-carboxystearylamino-4-pN, N-bis (hydroxyethyl) amino-phenyliminonaphthoquinone, 1-phenyl-3-methyl-4-p-diethylaminophenylimino-5-pyrazolone, 1-β-naphthyl-4- - dyes and p of diethylamino phenyl imino-5-pyrazolone, p ', p "- hexamethyl triamnotriphenylmethane (leuco crystal violet), and a leuco dye such as Pergascript Blue SRB (manufactured by Ciba-Geigy).

上記の他に、感熱紙や感圧紙用の素材として知られているロイコ染料も好適なものとして挙げられる。具体例としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、2−(N−フェニル−N−メチルアミノ)−6−(N−p−トリル−N−エチル)アミノ−フルオラン、2−アニリノ−3−メチル−6−(N−エチル−p−トルイジノ)フルオラン、3,6−ジメトキシフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−5−メチル−7−(N,N−ジベンジルアミノ)−フルオラン、3−(N−シクロヘキシル−N−メチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メチル−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−6−メトキシ−7−アミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−(4−クロロアニリノ)フルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−クロロフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7−ベンジルアミノフルオラン、3−(N,N−ジエチルアミノ)−7,8−ベンゾフロオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−(N,N−ジブチルアミノ)−6−メチル−7−キシリジノフルオラン、3−ピペリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3−ピロリジノ−6−メチル−7−アニリノフルオラン、3,3−ビス(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(1−n−ブチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、3,3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフタリド、3−(4−ジエチルアミノ−2−エトキシフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)−4−ザフタリド、3−(4−ジエチルアミノフェニル)−3−(1−エチル−2−メチルインドール−3−イル)フタリド、などが挙げられる。   In addition to the above, a leuco dye known as a material for thermal paper or pressure-sensitive paper is also suitable. Specific examples include crystal violet lactone, malachite green lactone, benzoylleucomethylene blue, 2- (N-phenyl-N-methylamino) -6- (Np-tolyl-N-ethyl) amino-fluorane, 2-anilino. -3-methyl-6- (N-ethyl-p-toluidino) fluorane, 3,6-dimethoxyfluorane, 3- (N, N-diethylamino) -5-methyl-7- (N, N-dibenzylamino) ) -Fluorane, 3- (N-cyclohexyl-N-methylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3 -(N, N-diethylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methyl-7-chloro Fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -6-methoxy-7-aminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7- (4-chloroanilino) fluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-chlorofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7-benzylaminofluorane, 3- (N, N-diethylamino) -7,8-benzofluorane, 3- (N, N-dibutyl) Amino) -6-methyl-7-anilinofluorane, 3- (N, N-dibutylamino) -6-methyl-7-xylidinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane 3-pyrrolidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3,3-bis (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (1-n-butyl- -Methylindol-3-yl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3- (4-diethylamino-2-ethoxyphenyl) -3- (1-ethyl- 2-methylindol-3-yl) -4-zaphthalide, 3- (4-diethylaminophenyl) -3- (1-ethyl-2-methylindol-3-yl) phthalide, and the like.

酸又はラジカルによって変色する染料は、画像記録層に、0.01〜10質量%の割合で添加することが好ましい。   It is preferable to add the dye which changes color by an acid or a radical to the image recording layer at a ratio of 0.01 to 10% by mass.

<熱重合防止剤>
本発明における画像記録層には、画像記録層の製造中又は保存中において(C)重合性化合物の不要な熱重合を防止するために、少量の熱重合防止剤を添加するのが好ましい。
熱重合防止剤としては、例えば、ヒドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩が好適に挙げられる。
熱重合防止剤は、画像記録層に、約0.01〜約5質量%含有させるのが好ましい。
<Thermal polymerization inhibitor>
In order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound (C) during production or storage of the image recording layer, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is preferably added to the image recording layer in the present invention.
Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-t- (Butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt are preferred.
The thermal polymerization inhibitor is preferably contained in the image recording layer in an amount of about 0.01 to about 5% by mass.

<高級脂肪酸誘導体等>
本発明における画像記録層には、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で画像記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、画像記録層の全固形分に対して、約0.1〜約10質量%であるのが好ましい。
<Higher fatty acid derivatives, etc.>
In the image recording layer of the present invention, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide or the like is added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and the surface of the image recording layer is dried during coating. It may be unevenly distributed. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.1 to about 10% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

<可塑剤>
本発明における画像記録層は、機上現像性を向上させるために、可塑剤を含有してもよい。
可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリルフタレート等のフタル酸エステル類;ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカプリル酸エステル等のグリコールエステル類;トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類;ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエート等の脂肪族二塩基酸エステル類;ポリグリシジルメタクリレート、クエン酸トリエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル等が好適に挙げられる。
可塑剤は、画像記録層に、約30質量%以下の割合で含有させることが好ましい。
<Plasticizer>
The image recording layer in the invention may contain a plasticizer in order to improve the on-press developability.
Examples of the plasticizer include phthalates such as dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diallyl phthalate; Glycol esters such as glycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicaprylate; Phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioct Ruazereto, aliphatic dibasic acid esters such as dibutyl maleate; polyglycidyl methacrylate, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate in.
The plasticizer is preferably contained in the image recording layer at a ratio of about 30% by mass or less.

<無機微粒子>
本発明における画像記録層は、表面粗面化による界面接着性の強化、画像部の硬化皮膜強度向上及び非画像部の機上現像性向上のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化チタン、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム又はこれらの混合物が好適に挙げられる。
無機微粒子は、平均粒径が5nm〜10μmであるのが好ましく、0.5μm〜3μmであるのがより好ましい。上記範囲であると、画像記録層中に安定に分散して、画像記録層の膜強度を十分に保持し、印刷時の汚れを生じにくい親水性に優れる非画像部を形成することができる。
上述したような無機微粒子は、コロイダルシリカ分散物等の市販品として容易に入手することができる。
無機微粒子の含有量は、画像記録層の全固形分に対して、20質量%以下であるのが好ましく、10質量%以下であるのがより好ましい。
<Inorganic fine particles>
The image recording layer in the present invention may contain inorganic fine particles in order to enhance the interfacial adhesiveness by surface roughening, improve the cured film strength of the image area, and improve the on-press developability of the non-image area.
As the inorganic fine particles, for example, silica, alumina, magnesium oxide, titanium oxide, magnesium carbonate, calcium alginate, or a mixture thereof is preferably exemplified.
The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 5 nm to 10 μm, and more preferably 0.5 μm to 3 μm. Within the above range, it is possible to form a non-image portion having excellent hydrophilicity that is stably dispersed in the image recording layer, sufficiently retains the film strength of the image recording layer, and hardly causes stains during printing.
The inorganic fine particles as described above can be easily obtained as a commercial product such as a colloidal silica dispersion.
The content of the inorganic fine particles is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less, based on the total solid content of the image recording layer.

<低分子親水性化合物>
本発明における画像記録層は、機上現像性向上のため、親水性低分子化合物を含有しても良い。親水性低分子化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール等のポリヒドロキシ類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンモノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩等が上げられる。
<Low molecular hydrophilic compound>
The image recording layer in the invention may contain a hydrophilic low molecular weight compound for improving on-press developability. Examples of hydrophilic low-molecular compounds include water-soluble organic compounds such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and the like, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyhydroxys such as pentaerythritol, organic amines such as triethanolamine and diethanolamine monoethanolamine and salts thereof, organic sulfonic acids such as toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and the like Examples thereof include organic carboxylic acids such as salts, tartaric acid, oxalic acid, citric acid, malic acid, lactic acid, gluconic acid and amino acids, and salts thereof.

〔画像記録層の形成〕
本発明においては、上記の画像記録層構成成分を画像記録層に含有させる方法として、
いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開2002−287334号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型画像記録層である。もう一つの態様は、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、前記(A)〜(D)成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させて画像記録層に含有させるマイクロカプセル型画像記録層である。 さらに、マイクロカプセル型画像記録層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。より良好な機上現像性を得るためには、画像記録層をマイクロカプセル型画像記録層とすることが有利である。
(Formation of image recording layer)
In the present invention, as a method of incorporating the image recording layer constituents into the image recording layer,
Several embodiments can be used. One is a molecular dispersion type image recording layer in which the constituent components are dissolved and applied in an appropriate solvent as described in JP-A-2002-287334, for example. In another embodiment, for example, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, all or part of the components (A) to (D) are encapsulated in a microcapsule. It is a microcapsule type image recording layer to be contained in the recording layer. Further, in the microcapsule type image recording layer, the constituent component can be contained outside the microcapsule. Here, it is preferable that the microcapsule-type image recording layer includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule. In order to obtain better on-press developability, it is advantageous that the image recording layer is a microcapsule type image recording layer.

上記の画像記録層構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第2800457号、同第2800458号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第3287154号の各明細書、特公昭38−19574号、同42−446号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第3418250号、同第3660304号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第3796669号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第3914511号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第4001140号、同第4087376号、同第4089802号の各明細書にみられる尿素―ホルムアルデヒド系又は尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第4025445号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭36−9163号、同51−9079号の各公報にみられるモノマー重合によるin situ法、英国特許第930422号、米国特許第3111407号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第952807号、同第967074号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。   As a method of microencapsulating the above-mentioned image recording layer constituent components, known methods can be applied. For example, as a method for producing microcapsules, a method using coacervation found in U.S. Pat. Nos. 2,800,547 and 2,800,498, U.S. Pat. No. 3,287,154, JP-B-38-19574, 42-446 by the interfacial polymerization method, US Pat. No. 3,418,250, US Pat. No. 3,660,304 by precipitation of polymer, US Pat. No. 3,796,669, isocyanate polyol A method using a wall material, a method using an isocyanate wall material found in US Pat. No. 3,914,511, and a urea-formaldehyde system found in US Pat. Nos. 4,001,140, 4,087,376 and 4,089,802. Or urea formaldehyde-resorcinol A method using a wall forming material, a method using a wall material such as melamine-formaldehyde resin, hydroxycellulose, etc. found in US Pat. No. 4,025,445, and Japanese Patent Publication Nos. 36-9163 and 51-9079. In situ method by monomer polymerization, spray drying method found in British Patent No. 930422, US Pat. No. 3,111,407, electrolytic dispersion cooling method seen in British Patent Nos. 952807, 967074, etc. However, it is not limited to these.

本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、3次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記バインダーポリマー導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入してもよい。   A preferable microcapsule wall used in the present invention has a three-dimensional cross-linking and has a property of swelling with a solvent. From such a viewpoint, the wall material of the microcapsule is preferably polyurea, polyurethane, polyester, polycarbonate, polyamide, and a mixture thereof, and particularly preferably polyurea and polyurethane. Moreover, you may introduce | transduce into the microcapsule wall the compound which has crosslinkable functional groups, such as the said ethylenically unsaturated bond which can introduce | transduce the binder polymer.

このようなマイクロカプセルは、カプセル同士が熱により合体してもよいし、合体しなくともよい。要は、マイクロカプセル内包物のうち、塗布時にマイクロカプセルの表面もしくはマイクロカプセル外に滲み出したもの、又は、マイクロカプセル壁に侵入したものが、熱により化学反応を起せばよい。また、添加された親水性樹脂または添加された低分子化合物と反応してもよい。さらにまた、2種類以上のマイクロカプセルに、それぞれ異なる官能基で互いに熱反応するような官能基をもたせることによって、マイクロカプセル同士を反応させてもよい。したがって、熱によってマイクロカプセル同士が、熱で溶融合体することは画像形成上好ましいことであるが、必須ではない。
マイクロカプセルの画像記録層(画像形成層)への添加量は、固形分換算で、画像記録層固形分の50質量%以上が好ましく、60〜95質量%がより好ましい。この範囲内で、良好な現像性と同時に、良好な感度及び良好な耐刷性が得られる。
Such microcapsules may be combined with each other by heat or may not be combined. In short, among the microcapsule inclusions, the one that exudes to the surface of the microcapsule or the outside of the microcapsule at the time of application, or the one that enters the microcapsule wall may cause a chemical reaction by heat. Moreover, you may react with the added hydrophilic resin or the added low molecular weight compound. Furthermore, two or more types of microcapsules may be reacted with each other by providing functional groups that react with each other with different functional groups. Therefore, it is preferable for image formation that the microcapsules are fused and united with heat, but it is not essential.
The addition amount of the microcapsules to the image recording layer (image forming layer) is preferably 50% by mass or more, and more preferably 60 to 95% by mass in terms of solid content in terms of solid content. Within this range, good sensitivity and good printing durability can be obtained simultaneously with good developability.

上記のマイクロカプセルの平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the microcapsules is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

本発明の画像記録層にマイクロカプセルを含有させる場合には、内包物が溶解し、かつ壁材が膨潤する溶剤をマイクロカプセル分散媒中に添加することができる。このような溶剤によって、内包された熱反応性官能基を有する化合物の、マイクロカプセル外への拡散が促進される。このような溶剤としては、マイクロカプセル分散媒、マイクロカプセル壁の材質、壁厚及び内包物等に依存するが、市販されている多くの溶剤から容易に選択することができる。たとえば、架橋ポリウレア、ポリウレタン壁からなる水分散性マイクロカプセルの場合、アルコール類、エーテル類、アセタール類、エステル類、ケトン類、多価アルコール類、アミド類、アミン類、脂肪酸類などが好ましい。   When the microcapsules are contained in the image recording layer of the present invention, a solvent capable of dissolving the inclusion and swelling the wall material can be added to the microcapsule dispersion medium. By such a solvent, diffusion of the encapsulated compound having a heat-reactive functional group to the outside of the microcapsule is promoted. Such a solvent depends on the microcapsule dispersion medium, the material of the microcapsule wall, the wall thickness, the inclusion, and the like, but can be easily selected from many commercially available solvents. For example, in the case of a water-dispersible microcapsule comprising a crosslinked polyurea or polyurethane wall, alcohols, ethers, acetals, esters, ketones, polyhydric alcohols, amides, amines, fatty acids and the like are preferable.

上記溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール、第3ブタノール、n−プロパノール、テトラヒドロフラン、乳酸メチル、乳酸エチル、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、γーブチロラクトン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどがあるが、これらに限定されない。またこれらの溶剤を2種以上用いてもよい。マイクロカプセル分散液には溶解しないが、前記溶剤を混合すれば溶解する溶剤も用いることができる。   Specific examples of the solvent include methanol, ethanol, tertiary butanol, n-propanol, tetrahydrofuran, methyl lactate, ethyl lactate, methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, γ-butyrolactone, N , N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like. Two or more of these solvents may be used. A solvent that does not dissolve in the microcapsule dispersion but dissolves when the solvent is mixed can also be used.

このような溶剤の添加量は、素材の組み合わせにより決まるものであるが、通常、塗布液の5〜95質量%が有効であり好ましい範囲は10〜90質量%、より好ましい範囲は15〜85質量%である。   The amount of the solvent added is determined by the combination of materials, but usually 5 to 95% by mass of the coating solution is effective, and a preferable range is 10 to 90% by mass, and a more preferable range is 15 to 85% by mass. %.

本発明における画像記録層は、必要な構成成分を上記の態様のいずれかを用いて溶剤に分散、又は溶かして塗布液を調製し、塗布して形成される。ここで使用する溶剤としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、水等を挙げることができるが、これに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独又は混合して使用される。塗布液の固形分濃度は、好ましくは1〜50質量%である。
本発明の画像記録層は、同一又は異なる上記各成分を同一又は異なる溶剤に分散、又は溶かした塗布液を複数調製し、複数回の塗布、乾燥を繰り返して形成することも可能である。
The image recording layer in the present invention is formed by preparing and applying a coating solution by dispersing or dissolving necessary constituents in a solvent using any of the above-described embodiments. Solvents used here include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, 1-methoxy-2-propyl acetate, dimethoxy Examples include ethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyrolactone, toluene, water and the like. However, the present invention is not limited to this. These solvents are used alone or in combination. The solid content concentration of the coating solution is preferably 1 to 50% by mass.
The image recording layer of the present invention can be formed by preparing a plurality of coating solutions in which the same or different components are dispersed or dissolved in the same or different solvents, and repeating a plurality of coatings and dryings.

画像記録層塗布量(固形分)は、0.3〜1.5g/m2が好ましく、0.5〜1.5g/m2がより好ましい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げられる。
Image recording layer coating weight (solids) is preferably from 0.3~1.5g / m 2, 0.5~1.5g / m 2 is more preferable.
Various methods can be used as a coating method. Examples thereof include bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, blade coating, and roll coating.

〔オーバーコート層〕
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層における傷等の発生防止、酸素遮断、高照度レーザー露光時のアブレーション防止などの目的のために、印刷インキ、湿し水またはこれらの両方により除去可能なオーバーコート層(保護層)を画像記録層上に設けることができる。
本発明においては、通常、露光を大気中で行うが、オーバーコート層は、画像記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素、塩基性物質等の低分子化合物の画像記録層への混入を防止し、大気中での露光による画像形成反応の阻害を防
止する。従って、オーバーコート層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いられる光の透過性が良好で、画像記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の機上現像処理工程で容易に除去することができるものであるのが好ましい。このような特性を有するオーバーコート層については、以前より種々検討がなされており、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特開昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
[Overcoat layer]
The planographic printing plate precursor of the present invention can be removed with printing ink, fountain solution or both for purposes such as preventing scratches in the image recording layer, blocking oxygen, and preventing ablation during high-intensity laser exposure. An overcoat layer (protective layer) can be provided on the image recording layer.
In the present invention, the exposure is usually carried out in the atmosphere, but the overcoat layer is made up of low molecular compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that inhibit the image forming reaction caused by exposure in the image recording layer. It prevents mixing into the image recording layer and prevents an image formation reaction from being hindered by exposure in the atmosphere. Therefore, the properties desired for the overcoat layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, and excellent adhesion to the image recording layer, And it is preferable that it can be easily removed in the on-press development process after exposure. Various studies have been made on overcoat layers having such characteristics, and are described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729. .

オーバーコート層に用いられる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れる水溶性高分子化合物が挙げられる。具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸等の水溶性ポリマーが挙げられる。中でも、ポリビニルアルコール(PVA)を主成分として用いると、酸素遮断性、現像除去性等の基本的な特性に対して最も良好な結果を与える。ポリビニルアルコールは、オーバーコート層に必要な酸素遮断性と水溶性を与えるための未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテルまたはアセタールで置換されていてもよく、一部が他の共重合成分を有していてもよい。
ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解された重合度300〜2400の範囲のものが好適に挙げられる。具体的には、例えば、(株)クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8が挙げられる。
Examples of the material used for the overcoat layer include water-soluble polymer compounds that are relatively excellent in crystallinity. Specific examples include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, and polyacrylic acid. Among these, when polyvinyl alcohol (PVA) is used as a main component, the best results are obtained for basic characteristics such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol may be partially substituted with an ester, ether or acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for providing the oxygen barrier property and water solubility necessary for the overcoat layer, and part of the polyvinyl alcohol The copolymer component may be included.
Specific examples of the polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis degree of 71 to 100% and a degree of polymerization of 300 to 2400. Specifically, for example, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA manufactured by Kuraray Co., Ltd. -HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405 , PVA-420, PVA-613, and L-8.

オーバーコート層の成分(PVAの選択、添加剤の使用等)、塗布量等は、酸素遮断性および現像除去性のほか、カブリ性、密着性、耐傷性等を考慮して適宜選択される。一般には、PVAの加水分解率が高いほど(即ち、オーバーコート層中の未置換ビニルアルコール単位含有率が高いほど)、また、膜厚が厚いほど、酸素遮断性が高くなり、感度の点で好ましい。また、製造時および保存時の不要な重合反応の発生、画像露光時の不要なカブリ、画線の太り等を防止するためには、酸素透過性が高くなりすぎないことが好ましい。従って、25℃、1気圧下における酸素透過性Aが0.2≦A≦20(cc/m2・day)であることが好ましい。 The components of the overcoat layer (selection of PVA, use of additives, etc.), coating amount, and the like are appropriately selected in consideration of fogging, adhesion, scratch resistance, etc. in addition to oxygen barrier properties and development removability. In general, the higher the hydrolysis rate of PVA (that is, the higher the content of unsubstituted vinyl alcohol units in the overcoat layer), and the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property. preferable. Further, in order to prevent unnecessary polymerization reaction during production and storage, unnecessary fogging during image exposure, image line thickening, and the like, it is preferable that the oxygen permeability is not excessively high. Accordingly, the oxygen permeability A at 25 ° C. and 1 atm is preferably 0.2 ≦ A ≦ 20 (cc / m 2 · day).

オーバーコート層の他の組成物として、グリセリン、ジプロピレングリコール等を(共)重合体に対して数質量%相当量添加して可撓性を付与することができ、また、アルキル硫酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウム等のアニオン界面活性剤;アルキルアミノカルボン酸塩、アルキルアミノジカルボン酸塩等の両性界面活性剤;ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等の非イオン界面活性剤を(共)重合体に対して数質量%添加することができる。   As another composition of the overcoat layer, glycerin, dipropylene glycol and the like can be added in an amount corresponding to several mass% with respect to the (co) polymer to give flexibility. Anionic surfactants such as sodium sulfonate; amphoteric surfactants such as alkylaminocarboxylates and alkylaminodicarboxylates; nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkylphenyl ethers to (co) polymers Several mass% can be added.

また、オーバーコート層の画像記録層との密着性、耐傷性等も平版印刷版原版の取り扱い上、極めて重要である。即ち、水溶性高分子化合物を含有するため親水性であるオーバーコート層を、親油性である画像記録層に積層すると、接着力不足によるオーバーコート層のはく離が生じやすく、はく離部分において、酸素による重合阻害に起因する膜硬化不良等の欠陥を引き起こすことがある。   In addition, adhesion of the overcoat layer to the image recording layer, scratch resistance, and the like are extremely important in handling the lithographic printing plate precursor. That is, when an overcoat layer that is hydrophilic because it contains a water-soluble polymer compound is laminated on an image recording layer that is oleophilic, the overcoat layer is easily peeled off due to insufficient adhesion, and oxygen is removed in the peeled portion. It may cause defects such as poor film hardening due to polymerization inhibition.

これに対して、画像記録層とオーバーコート層との間の接着性を改良すべく、種々の提案がなされている。例えば、特開昭49−70702号公報および英国特許出願公開第1303578号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルション、水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体等を20〜60質量%混合させ、画像記録層上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明においては、これらの公知の技術をいずれも用いることができる。オーバーコート層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書および特開昭55−49729号公報に詳細に記載されている。
更に、オーバーコート層には、他の機能を付与することもできる。例えば、露光に用いられる赤外線の透過性に優れ、かつ、それ以外の波長の光を効率よく吸収しうる、着色剤(例えば、水溶性染料)の添加により、感度低下を引き起こすことなく、セーフライト適性を向上させることができる。
On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between the image recording layer and the overcoat layer. For example, JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1303578 disclose an acrylic emulsion, a water-insoluble vinylpyrrolidone-vinyl acetate copolymer, etc. in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass and laminating on an image recording layer. Any of these known techniques can be used in the present invention. The method for applying the overcoat layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-A-55-49729.
Furthermore, other functions can be imparted to the overcoat layer. For example, by adding a colorant (for example, a water-soluble dye) that is excellent in the transparency of infrared rays used for exposure and that can efficiently absorb light of other wavelengths, it is safe light without causing a decrease in sensitivity. Suitability can be improved.

上記オーバーコート層の膜厚は、0.1〜5μmが適当であり、特に0.2〜2μmが好適である。   The thickness of the overcoat layer is suitably from 0.1 to 5 μm, particularly preferably from 0.2 to 2 μm.

次に、本発明に使用される親水性支持体について説明する。
<金属基体>
本発明の支持体に用いられる金属基体は、特に限定されず、例えば、鉄、ステンレス、アルミニウムが挙げられる。中でも、アルミニウムが好ましい。アルミニウム基体として用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。 純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、アルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートされまたは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を用いることもできる。更に、特公昭48−18327号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを用いることもできる。
Next, the hydrophilic support used in the present invention will be described.
<Metal base>
The metal substrate used for the support of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include iron, stainless steel, and aluminum. Among these, aluminum is preferable. An aluminum plate used as an aluminum substrate is a metal whose main component is dimensionally stable aluminum, and is made of aluminum or an aluminum alloy. In addition to a pure aluminum plate, an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of foreign elements, or a plastic film or paper on which aluminum or an aluminum alloy is laminated or vapor-deposited can also be used. Furthermore, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 48-18327 can also be used.

本発明に用いられるアルミニウム板は、特に限定されないが、純アルミニウム板を用いるのが好適である。完全に純粋なアルミニウムは精練技術上、製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものを用いてもよい。例えば、アルミニウムハンドブック第4版(軽金属協会(1990))に記載の公知の素材のもの、具体的には、JIS1050材、JIS1100材、JIS3003材、JIS3103材、JIS3005材等を用いることができる。また、アルミニウム(Al)の含有率が99.4〜95質量%であって、鉄(Fe)、ケイ素(Si)、銅(Cu)、マグネシウム(Mg)、マンガン(Mn)、亜鉛(Zn)、クロム(Cr)、およびチタン(Ti)のうち少なくとも5種以上を後述する範囲内で含む、アルミニウム合金、スクラップアルミ材または二次地金を使用したアルミニウム板を使用することもできる。   The aluminum plate used in the present invention is not particularly limited, but a pure aluminum plate is preferably used. Since completely pure aluminum is difficult to manufacture in terms of scouring techniques, it may be used that contains slightly different elements. For example, known materials described in Aluminum Handbook 4th Edition (Light Metals Association (1990)), specifically, JIS1050 material, JIS1100 material, JIS3003 material, JIS3103 material, JIS3005 material, etc. can be used. Further, the content of aluminum (Al) is 99.4 to 95% by mass, and iron (Fe), silicon (Si), copper (Cu), magnesium (Mg), manganese (Mn), zinc (Zn) Further, an aluminum plate using an aluminum alloy, a scrap aluminum material, or a secondary metal containing at least five of chromium (Cr) and titanium (Ti) within a range described later can also be used.

また、本発明においては、コスト削減効果のある、Alの含有率が95〜99.4質量%のアルミニウム板を用いることもできる。Alの含有率が99.4質量%を超えると、不純物の許容量が少なくなるため、コスト削減効果が減少してしまう場合がある。また、Alの含有率が95質量%未満であると不純物を多く含むこととなり圧延中に割れ等の不具合が発生してしまう場合がある。より好ましいAlの含有率は95〜99質量%であり、特に好ましくは95〜97質量%である。   In the present invention, an aluminum plate having an Al content of 95 to 99.4% by mass, which is cost-effective, can also be used. If the Al content exceeds 99.4% by mass, the allowable amount of impurities decreases, which may reduce the cost reduction effect. Further, if the Al content is less than 95% by mass, it contains a large amount of impurities, which may cause defects such as cracks during rolling. The Al content is more preferably 95 to 99% by mass, and particularly preferably 95 to 97% by mass.

Feの含有率は0.3〜1.0質量%であるのが好ましい。Feは新地金においても0.1〜0.2質量%前後含有される元素で、Al中に固溶する量は少なく、ほとんどが金属間化合物として残存する。Feの含有率が1.0質量%を超えると圧延途中に割れが発生しやすくなり、0.3質量%未満であるとコスト削減効果が減少するため好ましくない。より好ましいFeの含有率は0.5〜1.0質量%である。   The content of Fe is preferably 0.3 to 1.0% by mass. Fe is an element contained in the new metal in the range of about 0.1 to 0.2% by mass, and the amount dissolved in Al is small, and most remains as an intermetallic compound. If the Fe content exceeds 1.0% by mass, cracks are likely to occur during rolling, and if it is less than 0.3% by mass, the cost reduction effect decreases, which is not preferable. A more preferable Fe content is 0.5 to 1.0 mass%.

Siの含有率は0.15〜1.0質量%であるのが好ましい。SiはJIS2000系、4000系、6000系材料のスクラップに多く含まれる元素である。また、Siは新地金においても0.03〜0.1質量%前後含有される元素であり、Al中に固溶した状態で、または、金属間化合物として存在する。アルミニウム板が支持体の製造過程で加熱されると、固溶していたSiが単体Siとして析出することがある。単体SiとFeSi系の金属間化合物は耐苛酷インキ汚れ性に悪影響を与えることが知られている。ここで、「苛酷インキ汚れ」とは、印刷を何度も中断しつつ行った場合に、平版印刷版の非画像部表面部分にインキが付着しやすくなった結果、印刷された紙等に表れる点状または円環状の汚れをいう。Siの含有率が1.0質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理(デスマット処理)でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.15質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいSiの含有率は0.3〜1.0質量%である。   The Si content is preferably 0.15 to 1.0 mass%. Si is an element contained in a large amount in scrap of JIS 2000, 4000, and 6000 materials. Further, Si is an element contained in the new metal in the range of about 0.03 to 0.1% by mass and exists in a solid solution state in Al or as an intermetallic compound. When the aluminum plate is heated during the manufacturing process of the support, Si that has been dissolved may precipitate as elemental Si. It is known that simple Si and FeSi-based intermetallic compounds adversely affect the resistance to severe ink stains. Here, “severe ink stains” appear on printed paper as a result of the ink becoming more likely to adhere to the non-image area surface of the planographic printing plate when printing is interrupted many times. This refers to dot-like or annular dirt. If the Si content exceeds 1.0% by mass, for example, this may not be completely removed by a treatment with sulfuric acid (desmut treatment) described later, and if it is less than 0.15% by mass, there is a cost reduction effect. It will decrease. A more preferable Si content is 0.3 to 1.0 mass%.

Cuの含有率は0.1〜1.0質量%であるのが好ましい。CuはJIS2000系、4000系材料のスクラップに多く含まれる元素である。Cuは比較的Alに中に固溶しやすい。Cuの含有率が1.0質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.1質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいCuの含有率は0.3〜1.0質量%である。   The content of Cu is preferably 0.1 to 1.0% by mass. Cu is an element contained in a lot of scraps of JIS 2000 and 4000 materials. Cu is relatively easily dissolved in Al. If the Cu content exceeds 1.0% by mass, for example, it may be impossible to completely remove this by treatment with sulfuric acid described later. If the Cu content is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect decreases. . A more preferable Cu content is 0.3 to 1.0 mass%.

Mgの含有率は0.1〜1.5質量%であるのが好ましい。MgはJIS2000系、3000系、5000系、7000系材料のスクラップに多く含まれる元素である。特にcan end材に多く含まれるため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の一つである。Mgは比較的Al中に固溶しやすく、Siと金属間化合物を形成する。Mgの含有率が1.5質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.1質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいMgの含有率は0.5〜1.5質量%であり、更に好ましくは1.0〜1.5質量%である。   The content of Mg is preferably 0.1 to 1.5% by mass. Mg is an element contained in a large amount in scraps of JIS 2000, 3000, 5000, and 7000 materials. In particular, it is one of the main impurity metals contained in scrap materials because it is contained in a large amount in can end materials. Mg is relatively easy to dissolve in Al and forms an intermetallic compound with Si. If the Mg content exceeds 1.5% by mass, for example, it may not be possible to remove this by treatment with sulfuric acid described later, and if it is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect will decrease. . A more preferable Mg content is 0.5 to 1.5 mass%, and further preferably 1.0 to 1.5 mass%.

Mnの含有率は0.1〜1.5質量%であるのが好ましい。MnはJIS3000系材料のスクラップに多く含まれる元素である。Mnは特にcan body材に多く含まれるため、スクラップ材に含まれる主要な不純物金属の一つである。Mnは比較的Al中に固溶しやすく、Al、FeおよびSiと金属間化合物を形成する。Mnの含有率が1.5質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.1質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいMnの含有率は0.5〜1.5質量%であり、更に好ましくは1.0〜1.5質量%である。   The Mn content is preferably 0.1 to 1.5% by mass. Mn is an element contained in a large amount in scrap of JIS 3000 series materials. Mn is one of the main impurity metals contained in the scrap material because it is contained in the can body material. Mn is relatively easily dissolved in Al and forms an intermetallic compound with Al, Fe, and Si. If the content of Mn exceeds 1.5% by mass, for example, this may not be completely removed by the treatment with sulfuric acid described later, and if it is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect is reduced. . A more preferable Mn content is 0.5 to 1.5% by mass, and further preferably 1.0 to 1.5% by mass.

Znの含有率は0.1〜0.5質量%であるのが好ましい。Znは特にJIS7000系のスクラップに多く含まれる元素である。Znは比較的Al中に固溶しやすい。Znの含有率が0.5質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.1質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいZnの含有率は0.3〜0.5質量%である。   The Zn content is preferably 0.1 to 0.5% by mass. Zn is an element that is particularly abundant in JIS7000 series scrap. Zn is relatively easily dissolved in Al. If the Zn content exceeds 0.5% by mass, for example, it may not be possible to completely remove this by treatment with sulfuric acid described later, and if it is less than 0.1% by mass, the cost reduction effect will decrease. . A more preferable Zn content is 0.3 to 0.5 mass%.

Crの含有率は0.01〜0.1質量%であるのが好ましい。CrはJISA5000系、同6000系、同7000系のスクラップに少量含まれる不純物金属である。Crの含有率が0.1質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.01質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいCrの含有率は0.05〜0.1質量%である。   The content of Cr is preferably 0.01 to 0.1% by mass. Cr is an impurity metal contained in a small amount in JIS 5000, 6000 and 7000 scraps. If the Cr content exceeds 0.1% by mass, for example, it may not be possible to remove this by treatment with sulfuric acid described later, and if it is less than 0.01% by mass, the cost reduction effect will be reduced. . A more preferable Cr content is 0.05 to 0.1% by mass.

Tiの含有率は0.03〜0.5質量%であるのが好ましい。Tiは通常結晶微細化材として0.01〜0.04質量%添加される元素である。JIS5000系、6000系、7000系のスクラップには不純物金属として比較的多めに含まれる。Tiの含有率が0.5質量%を超えると、例えば、後述する硫酸による処理でこれを除去し切れなくなる場合があり、0.03質量%未満であると、コスト削減効果が減少してしまう。より好ましいTiの含有率は0.05〜0.5質量%である。   The Ti content is preferably 0.03 to 0.5% by mass. Ti is an element usually added in an amount of 0.01 to 0.04% by mass as a crystal refining material. JIS 5000 series, 6000 series, and 7000 series scraps contain relatively large amounts of impurity metals. If the Ti content exceeds 0.5% by mass, for example, it may not be possible to remove this by treatment with sulfuric acid, which will be described later, and if it is less than 0.03% by mass, the cost reduction effect will decrease. . A more preferable Ti content is 0.05 to 0.5 mass%.

本発明に用いられるアルミニウム板は、上記原材料を用いて常法で鋳造したものに、適宜圧延処理や熱処理を施し、厚さを例えば、0.1〜0.7mmとし、必要に応じて平面性矯正処理を施して製造される。この厚さは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさおよびユーザーの希望により、適宜変更することができる。なお、上記アルミニウム板の製造方法としては、例えば、DC鋳造法、DC鋳造法から均熱処理および/または焼鈍処理を省略した方法、ならびに、連続鋳造法を用いることができる。   The aluminum plate used in the present invention is subjected to a rolling treatment or a heat treatment as appropriate, which is cast by a conventional method using the above raw materials, and has a thickness of, for example, 0.1 to 0.7 mm. Manufactured with straightening treatment. This thickness can be appropriately changed according to the size of the printing press, the size of the printing plate, and the user's desire. In addition, as a manufacturing method of the said aluminum plate, the method which abbreviate | omitted soaking and / or annealing treatment from DC casting method, DC casting method, and the continuous casting method can be used, for example.

本発明の支持体は、上記金属基体に粗面化処理および陽極酸化処理を施し、更に、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液で処理して得ることができるが、本発明の支持体の製造工程には、粗面化処理、陽極酸化処理および前記水溶液での処理以外の各種の工程が含まれていてもよい。以下、金属基体としてアルミニウム板を用いる場合を例に挙げて、本発明の支持体について説明する。   The support of the present invention can be obtained by subjecting the metal substrate to a surface roughening treatment and an anodizing treatment, and further treating with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound. The body manufacturing process may include various processes other than the roughening process, the anodizing process, and the treatment with the aqueous solution. Hereinafter, the support of the present invention will be described with reference to an example in which an aluminum plate is used as the metal substrate.

上記アルミニウム板は、付着している圧延油を除く脱脂工程、アルミニウム板の表面のスマットを溶解するデスマット処理工程、アルミニウム板の表面を粗面化する粗面化処理工程、アルミニウム板の表面を酸化皮膜で覆う陽極酸化処理工程、ポアワイド処理(酸処理またはアルカリ処理)工程等を経るのが好ましい。本発明の支持体の製造工程は、酸性水溶液中で交流電流を用いてアルミニウム板を電気化学的に粗面化する粗面化処理(電気化学的粗面化処理)を含むのが好ましい。また、本発明の支持体の製造工程は、上記電気化学的粗面化処理の他に、機械的粗面化処理、酸またはアルカリ水溶液中での化学的エッチング処理等を組み合わせたアルミニウム板の表面処理工程を含んでもよい。本発明の支持体の粗面化処理等の製造工程は、連続法でも断続法でもよいが、工業的には連続法を用いるのが好ましい。本発明においては、更に、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含む水溶液で処理され、必要に応じて、親水性表面処理を経て、支持体が形成される。更に、必要に応じて支持体形成後に、下塗層を設けてもよい。   The above aluminum plate is a degreasing process for removing the adhering rolling oil, a desmutting process for dissolving the smut on the surface of the aluminum plate, a roughening process for roughening the surface of the aluminum plate, and oxidizing the surface of the aluminum plate. It is preferable to go through an anodizing process step covered with a film, a pore wide treatment (acid treatment or alkali treatment) step, and the like. The production process of the support of the present invention preferably includes a roughening treatment (electrochemical roughening treatment) for electrochemically roughening the aluminum plate using an alternating current in an acidic aqueous solution. Moreover, the manufacturing process of the support of the present invention includes a surface of an aluminum plate in which mechanical roughening treatment, chemical etching treatment in an acid or alkaline aqueous solution, etc. are combined in addition to the electrochemical roughening treatment. A processing step may be included. The production process such as the surface roughening treatment of the support of the present invention may be a continuous process or an intermittent process, but it is preferable to use a continuous process industrially. In the present invention, the substrate is further treated with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound, and if necessary, a support is formed through a hydrophilic surface treatment. Furthermore, an undercoat layer may be provided after forming the support, if necessary.

<粗面化処理(砂目立て処理)>
まず、粗面化処理について説明する。上記アルミニウム板は、より好ましい形状に砂目立て処理される。砂目立て処理方法は、特開昭56−28893号公報に記載されているような機械的砂目立て(機械的粗面化処理)、化学的エッチング、電解グレイン等がある。更に、塩酸電解液中または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て法(電気化学的粗面化処理、電解粗面化処理)や、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法等の機械的砂目立て法(機械的粗面化処理)を用いることができる。これらの砂目立て法は、単独でまたは組み合わせて用いることができる。例えば、ナイロンブラシと研磨剤とによる機械的粗面化処理と、塩酸電解液または硝酸電解液による電解粗面化処理との組み合わせや、複数の電解粗面化処理の組み合わせが挙げられる。中でも、電気化学的粗面化処理が好ましい。また、機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせて行うのも好ましく、特に、機械的粗面化処理の後に電気化学的粗面化処理を行うのが好ましい。
<Roughening treatment (graining treatment)>
First, the roughening process will be described. The aluminum plate is grained to a more preferable shape. Examples of the graining method include mechanical graining (mechanical surface roughening), chemical etching, and electrolytic grain as described in JP-A-56-28893. In addition, electrochemical graining (electrochemical roughening, electrolytic graining), which is electrochemically grained in hydrochloric acid electrolyte or nitric acid electrolyte, or the aluminum surface is scratched with metal wire Mechanical graining methods (mechanical roughening treatment) such as brush grain method, ball grain method to grain the aluminum surface with abrasive balls and abrasives, brush grain method to grain the surface with nylon brush and abrasives, etc. Can be used. These graining methods can be used alone or in combination. For example, a combination of a mechanical surface roughening treatment with a nylon brush and an abrasive and an electrolytic surface roughening treatment with a hydrochloric acid electrolytic solution or a nitric acid electrolytic solution, or a combination of a plurality of electrolytic surface roughening treatments may be mentioned. Of these, electrochemical surface roughening is preferred. Moreover, it is also preferable to perform a mechanical surface roughening process and an electrochemical surface roughening process in combination, and it is particularly preferable to perform an electrochemical surface roughening process after the mechanical surface roughening process.

機械的粗面化処理は、ブラシ等を使用してアルミニウム板表面を機械的に粗面化する処理であり、上述した電気化学的粗面化処理の前に行われるのが好ましい。好適な機械的粗面化処理においては、毛径が0.07〜0.57mmである回転するナイロンブラシロールと、アルミニウム板表面に供給される研磨剤のスラリー液とで処理する。   The mechanical roughening treatment is a treatment for mechanically roughening the surface of the aluminum plate using a brush or the like, and is preferably performed before the electrochemical roughening treatment described above. In a suitable mechanical surface roughening treatment, the treatment is performed with a rotating nylon brush roll having a bristle diameter of 0.07 to 0.57 mm and a slurry of an abrasive supplied to the aluminum plate surface.

ナイロンブラシは吸水率が低いものが好ましく、例えば、東レ社製のナイロンブリッスル200T(6,10−ナイロン、軟化点:180℃、融点:212〜214℃、比重:
1.08〜1.09、水分率:20℃・相対湿度65%において1.4〜1.8、20℃・相対湿度100%において2.2〜2.8、乾引っ張り強度:4.5〜6g/d、乾引っ張り伸度:20〜35%、沸騰水収縮率:1〜4%、乾引っ張り抵抗度:39〜45g/d、ヤング率(乾):380〜440kg/mm2 )が好ましい。
The nylon brush preferably has a low water absorption rate. For example, nylon bristle 200T manufactured by Toray Industries, Inc. (6,10-nylon, softening point: 180 ° C., melting point: 212 to 214 ° C., specific gravity:
1.08 to 1.09, moisture content: 1.4 to 1.8 at 20 ° C. and relative humidity 65%, 2.2 to 2.8 at 20 ° C. and relative humidity 100%, dry tensile strength: 4.5 -6 g / d, dry tensile elongation: 20-35%, boiling water shrinkage: 1-4%, dry tensile resistance: 39-45 g / d, Young's modulus (dry): 380-440 kg / mm 2 ) preferable.

研磨剤としては公知のものを用いることができるが、特開平6−135175号公報および特公昭50−40047号公報に記載されているケイ砂、石英、水酸化アルミニウム、またはこれらの混合物を用いるのが好ましい。   As the abrasive, known ones can be used, but silica sand, quartz, aluminum hydroxide, or a mixture thereof described in JP-A-6-135175 and JP-B-50-40047 is used. Is preferred.

スラリー液としては、比重が1.05〜1.3の範囲内にあるものが好ましい。スラリー液をアルミニウム板表面に供給する方法としては、例えば、スラリー液を吹き付ける方法、ワイヤーブラシを用いる方法、凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方法が挙げられる。また、特開昭55−074898号公報、同61−162351号公報、同63−104889号公報に記載されている方法を用いてもよい。更に、特表平9−509108号公報に記載されているように、アルミナおよび石英からなる粒子の混合物を95:5〜5:95の範囲の質量比で含んでなる水性スラリー中で、アルミニウム板表面をブラシ研磨する方法を用いることもできる。このときの上記混合物の平均粒子径は、1〜40μm、特に1〜20μmの範囲内であるのが好ましい。   As a slurry liquid, what has a specific gravity in the range of 1.05-1.3 is preferable. Examples of the method of supplying the slurry liquid to the aluminum plate surface include a method of spraying the slurry liquid, a method of using a wire brush, and a method of transferring the surface shape of the uneven roll to the aluminum plate. Moreover, you may use the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 55-074898, 61-162351, 63-104889. Furthermore, as described in JP-A-9-509108, an aluminum plate in an aqueous slurry comprising a mixture of particles made of alumina and quartz at a mass ratio in the range of 95: 5 to 5:95. A method of brush polishing the surface can also be used. The average particle size of the mixture at this time is preferably in the range of 1 to 40 μm, particularly 1 to 20 μm.

電気化学的粗面化処理は、酸性水溶液中で、アルミニウム板を電極として交流電流を通じ、該アルミニウム板の表面を電気化学的に粗面化する工程であり、後述の機械的粗面化処理とは異なる。本発明においては、上記電気化学的粗面化処理において、アルミニウム板が陰極となるときにおける電気量、即ち、陰極時電気量QC と、陽極となるときにおける電気量、即ち、陽極時電気量QA との比QC /QA を、例えば、0.5〜2.0の範囲内とすることで、アルミニウム板の表面に均一なハニカムピットを生成することができる。QC /QA が0.50未満であると、不均一なハニカムピットとなりやすく、また、2.0を超えても、不均一なハニカムピットとなりやすい。QC /QA は、0.8〜1.5の範囲内とするのが好ましい。 The electrochemical surface roughening treatment is a step of electrochemically roughening the surface of the aluminum plate in an acidic aqueous solution through an alternating current using the aluminum plate as an electrode. Is different. In the present invention, in the electrochemical surface roughening treatment, the amount of electricity when the aluminum plate becomes a cathode, that is, the amount of electricity at cathode Q C, and the amount of electricity when it becomes an anode, ie, amount of electricity at the time of anode the ratio Q C / Q a and Q a, for example, by in the range of 0.5 to 2.0, it is possible to produce a uniform honeycomb pits on the surface of the aluminum plate. If Q C / Q A is less than 0.50, non-uniform honeycomb pits are likely to be formed, and even if it exceeds 2.0, non-uniform honeycomb pits are likely to be formed. Q C / Q A is preferably in the range of 0.8 to 1.5.

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電流の波形としては、正弦波(サイン波)、矩形波、三角波、台形波等が挙げられる。中でも、矩形波または台形波が好ましい。また、交流電流の周波数は、電源装置を製作するコストの観点から、30〜200Hzであるのが好ましく、40〜120Hzであるのがより好ましい。本発明に好適に用いられる台形波の一例を図1に示す。図1において、縦軸は電流値、横軸は時間を示す。また、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流値がゼロからカソードサイクル側のピークに達するまでの時間、tp´は電流値がゼロからアノードサイクル側のピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流を示す。交流電流の波形として台形波を用いる場合、電流がゼロからピークに達するまでの時間tpおよびtp´はそれぞれ0.1〜2msecであるのが好ましく、0.3〜1.5msecであるのがより好ましい。tpおよびtp´が0.1msec未満であると、電源回路のインピーダンスが影響し、電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設備コストが高くなる場合がある。また、tpおよびtp´が2msecを超えると、酸性水溶液中の微量成分の影響が大きくなり、均一な粗面化処理が行われにくくなる場合がある。   Examples of the alternating current waveform used for the electrochemical surface roughening treatment include a sine wave, a rectangular wave, a triangular wave, and a trapezoidal wave. Among these, a rectangular wave or a trapezoidal wave is preferable. In addition, the frequency of the alternating current is preferably 30 to 200 Hz, more preferably 40 to 120 Hz, from the viewpoint of the cost of manufacturing the power supply device. An example of a trapezoidal wave suitably used in the present invention is shown in FIG. In FIG. 1, the vertical axis indicates the current value, and the horizontal axis indicates time. Further, ta is the anode reaction time, tc is the cathode reaction time, tp is the time until the current value reaches the peak on the cathode cycle side from zero, and tp ′ is the time until the current value reaches the peak on the anode cycle side from zero. , Ia represents the peak current on the anode cycle side, and Ic represents the peak current on the cathode cycle side. When a trapezoidal wave is used as the waveform of the alternating current, the times tp and tp ′ until the current reaches a peak from zero are preferably 0.1 to 2 msec, and more preferably 0.3 to 1.5 msec. preferable. If tp and tp ′ are less than 0.1 msec, the impedance of the power supply circuit is affected, and a large power supply voltage is required at the rising of the current waveform, which may increase the equipment cost of the power supply. Moreover, when tp and tp 'exceed 2 msec, the influence of the trace component in acidic aqueous solution will become large, and it may become difficult to perform a uniform roughening process.

また、電気化学的粗面化処理に用いられる交流電流のdutyは、アルミニウム板表面を均一に粗面化する点から0.25〜0.5の範囲内とするのが好ましく、0.3〜0.4の範囲内とするのがより好ましい。本発明でいうdutyとは、交流電流の周期Tにおいて、アルミニウム板の陽極反応が持続している時間(アノード反応時間)をtaとしたときのta/Tをいう。特に、カソード反応時のアルミニウム板表面には、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の生成に加え、酸化皮膜の溶解や破壊が発生し、次のアルミニウム板のアノード反応時におけるピッティング反応の開始点となるため、交流電流のdutyの選択は均一な粗面化に与える効果が大きい。   Further, the duty of the alternating current used for the electrochemical surface roughening treatment is preferably in the range of 0.25 to 0.5 from the point of uniformly roughening the aluminum plate surface, 0.3 to More preferably, it is within the range of 0.4. The duty in the present invention refers to ta / T, where ta is the time during which the anode reaction of the aluminum plate continues in the period T of the alternating current (anode reaction time). In particular, on the surface of the aluminum plate during the cathode reaction, in addition to the formation of smut components mainly composed of aluminum hydroxide, dissolution and destruction of the oxide film occurred, and the start of the pitting reaction during the anode reaction of the next aluminum plate Therefore, the selection of the duty of the alternating current has a great effect on uniform roughening.

交流電流の電流密度は、台形波または矩形波の場合、アノードサイクル側のピーク時の電流密度Iapおよびカソードサイクル側のピーク時の電流密度Icpがそれぞれ10〜200A/dm2 となるのが好ましい。また、Icp/Iapは、0.9〜1.5の範囲内にあるのが好ましい。電気化学的粗面化処理において、電気化学的粗面化処理が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応に用いた電気量の総和は、50〜1000C/dm2 であるのが好ましい。電気化学的粗面化処理の時間は、1秒〜30分であるのが好ましい。 In the case of a trapezoidal wave or a rectangular wave, the alternating current current density is preferably such that the peak current density Iap on the anode cycle side and the peak current density Icp on the cathode cycle side are 10 to 200 A / dm 2 , respectively. Icp / Iap is preferably in the range of 0.9 to 1.5. In electrochemical graining treatment, total amount of electricity used in the anode reaction of the aluminum plate at the time electrochemical graining treatment has been completed is preferably from 50~1000C / dm 2. The electrochemical surface roughening treatment time is preferably 1 second to 30 minutes.

電気化学的粗面化処理に用いられる酸性水溶液としては、通常の直流電流または交流電流を用いた電機化学的粗面化処理に用いるものを用いることができ、その中でも硝酸を主体とする酸性水溶液または塩酸を主体とする酸性水溶液を用いることが好ましい。ここで、「主体とする」とは、水溶液中に主体となる成分が、成分全体に対して、30質量%以上、好ましくは50質量%以上含まれていることをいう。以下、他の成分においても同様である。   As the acidic aqueous solution used for the electrochemical surface roughening treatment, those used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal direct current or alternating current can be used, and among them, the acidic aqueous solution mainly composed of nitric acid. Alternatively, it is preferable to use an acidic aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid. Here, “mainly” means that the main component is contained in the aqueous solution in an amount of 30% by mass or more, preferably 50% by mass or more based on the total components. Hereinafter, the same applies to other components.

硝酸を主体とする酸性水溶液としては、上述したように、通常の直流電流または交流電流を用いた電気化学的粗面化処理に用いるものを用いることができる。例えば、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸化合物のうち一つ以上を、0.01g/Lから飽和に達するまでの濃度で、硝酸濃度5〜15g/Lの硝酸水溶液に添加して使用することができる。硝酸を主体とする酸性水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等のアルミニウム合金中に含まれる金属等が溶解されていてもよい。   As the acidic aqueous solution mainly composed of nitric acid, as described above, those used for the electrochemical surface roughening treatment using a normal direct current or alternating current can be used. For example, one or more of nitric acid compounds such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate are added to a nitric acid aqueous solution having a nitric acid concentration of 5 to 15 g / L at a concentration from 0.01 g / L to saturation. be able to. In the acidic aqueous solution mainly composed of nitric acid, a metal contained in an aluminum alloy such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, or silicon may be dissolved.

硝酸を主体とする酸性水溶液としては、中でも、硝酸と、アルミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、かつ、アルミニウムイオンが1〜15g/L、好ましくは1〜10g/L、アンモニウムイオンが10〜300ppmとなるように、硝酸濃度5〜15g/Lの硝酸水溶液中に硝酸アルミニウムおよび硝酸アンモニウムを添加して得られたものを用いることが好ましい。なお、上記アルミニウムイオンおよびアンモニウムイオンは、電気化学的粗面化処理を行っている間に自然発生的に増加していくものである。また、この際の液温は10〜95℃であるのが好ましく、20〜90℃であるのがより好ましく、40〜80℃であるのが特に好ましい。   As the acidic aqueous solution mainly composed of nitric acid, nitric acid, aluminum salt, and nitrate are contained, and aluminum ion is 1 to 15 g / L, preferably 1 to 10 g / L, and ammonium ion is 10 to 300 ppm. Thus, it is preferable to use a solution obtained by adding aluminum nitrate and ammonium nitrate to an aqueous nitric acid solution having a nitric acid concentration of 5 to 15 g / L. The aluminum ions and ammonium ions increase spontaneously during the electrochemical surface roughening treatment. Moreover, it is preferable that the liquid temperature in this case is 10-95 degreeC, It is more preferable that it is 20-90 degreeC, It is especially preferable that it is 40-80 degreeC.

電気化学的粗面化処理においては、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の電解装置を用いることができるが、特開平5−195300号公報に記載されているようなラジアル型電解装置が特に好ましい。図2は、本発明に好適に用いられるラジアル型電解装置の概略図である。図2において、ラジアル型電解装置は、アルミニウム板11が主電解槽21中に配置されたラジアルドラムローラ12に巻装され、搬送過程で交流電源20に接続された主極13aおよび13bによって電解処理される。酸性水溶液14は、溶液供給口15からスリット16を通じてラジアルドラムローラ12と主極13aおよび13bとの間にある溶液通路17に供給される。ついで、主電解槽21で処理されたアルミニウム板11は、補助陽極槽22で電解処理される。この補助陽極槽22には補助陽極18がアルミニウム板11と対向配置されており、酸性水溶液14は、補助陽極18とアルミニウム板11との間を流れるように供給される。なお、補助電極に流す電流は、サイリスタ19aおよび19bにより制御される。   In the electrochemical surface roughening treatment, a known electrolytic device such as a vertical type, a flat type, or a radial type can be used, but a radial type electrolytic device as described in JP-A-5-195300 is used. Particularly preferred. FIG. 2 is a schematic view of a radial type electrolyzer suitably used in the present invention. In FIG. 2, the radial electrolysis apparatus has an aluminum plate 11 wound around a radial drum roller 12 disposed in a main electrolytic cell 21 and electrolyzed by main poles 13 a and 13 b connected to an AC power source 20 in the course of conveyance. Is done. The acidic aqueous solution 14 is supplied from the solution supply port 15 through the slit 16 to the solution passage 17 between the radial drum roller 12 and the main poles 13a and 13b. Next, the aluminum plate 11 treated in the main electrolytic cell 21 is subjected to electrolytic treatment in the auxiliary anode cell 22. An auxiliary anode 18 is disposed opposite to the aluminum plate 11 in the auxiliary anode tank 22, and the acidic aqueous solution 14 is supplied so as to flow between the auxiliary anode 18 and the aluminum plate 11. Note that the current flowing through the auxiliary electrode is controlled by the thyristors 19a and 19b.

主極13aおよび13bは、カーボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、ステン
レス、燃料電池用陰極に用いる電極等から選定することができるが、カーボンが特に好ましい。カーボンとしては、一般に市販されている化学装置用不浸透性黒鉛や、樹脂含芯黒鉛等を用いることができる。補助陽極18は、フェライト、酸化イリジウム、白金、または、白金をチタン、ニオブ、ジルコニウム等のバルブ金属にクラッドもしくはメッキしたもの等公知の酸素発生用電極から選定することができる。
The main electrodes 13a and 13b can be selected from carbon, platinum, titanium, niobium, zirconium, stainless steel, electrodes used for cathodes for fuel cells, etc., and carbon is particularly preferable. As the carbon, commercially available impervious graphite for chemical devices, resin cored graphite, and the like can be used. The auxiliary anode 18 can be selected from known oxygen generating electrodes such as ferrite, iridium oxide, platinum, or platinum clad or plated with a valve metal such as titanium, niobium or zirconium.

主電解槽21および補助陽極槽22内を通過する酸性水溶液の供給方向はアルミニウム板11の進行とパラレルでもカウンターでもよい。アルミニウム板に対する酸性水溶液の相対流速は、10〜1000cm/secであるのが好ましい。一つの電解装置には1個以上の交流電源を接続することができる。また、2個以上の電解装置を使用してもよく、各装置における電解条件は同一であってもよいし異なっていてもよい。また、電解処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップローラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが好ましい。   The supply direction of the acidic aqueous solution passing through the main electrolytic cell 21 and the auxiliary anode cell 22 may be parallel to the progress of the aluminum plate 11 or a counter. The relative flow rate of the acidic aqueous solution with respect to the aluminum plate is preferably 10 to 1000 cm / sec. One electrolysis apparatus can be connected to one or more AC power supplies. Two or more electrolysis devices may be used, and electrolysis conditions in each device may be the same or different. In addition, after the electrolytic treatment is completed, it is preferable to perform liquid drainage by a nip roller and water washing by spraying so that the treatment liquid is not taken out to the next process.

上記電解装置を用いる場合においては、電解装置中のアルミニウム板がアノード反応する酸性水溶液の通電量に比例して、例えば、(i)酸性水溶液の導電率と(ii)超音波の伝搬速度と(iii)温度とから求めた硝酸およびアルミニウムイオン濃度をもとに、硝酸と水の添加量を調節しながら添加し、硝酸と水の添加容積と同量の酸性水溶液を逐次電解装置からオーバーフローさせて排出することで、上記酸性水溶液の濃度を一定に保つのが好ましい。   In the case of using the above electrolyzer, for example, (i) the conductivity of the acid aqueous solution and (ii) the ultrasonic wave propagation velocity ( iii) Based on the nitric acid and aluminum ion concentrations determined from the temperature, add while adjusting the addition amount of nitric acid and water, and sequentially overflow the acidic aqueous solution with the same volume as the addition volume of nitric acid and water from the electrolyzer. It is preferable to keep the concentration of the acidic aqueous solution constant by discharging.

つぎに、酸性水溶液中またはアルカリ水溶液中での化学的エッチング処理、デスマット処理等の表面処理について順を追って説明する。上記表面処理は、それぞれ上記電気化学的粗面化処理の前、または、上記電気化学的粗面化処理の後であって後述する陽極酸化処理の前において行われる。ただし、以下の各表面処理の説明は例示であり、本発明は、以下の各表面処理の内容に限定されるものではない。また、上記表面処理を初めとする以下の各処理は任意で施される。   Next, the surface treatments such as chemical etching treatment and desmut treatment in acidic aqueous solution or alkaline aqueous solution will be described in order. The surface treatment is performed before the electrochemical roughening treatment or after the electrochemical roughening treatment and before an anodic oxidation treatment described later. However, the description of each surface treatment below is an exemplification, and the present invention is not limited to the contents of each surface treatment below. In addition, the following treatments including the surface treatment are optionally performed.

<アルカリエッチング処理>
アルカリエッチング処理は、アルカリ水溶液中でアルミニウム板表面を化学的にエッチングする処理であり、上記電気化学的粗面化処理の前と後のそれぞれにおいて行うのが好ましい。また、電気化学的粗面化処理の前に機械的粗面化処理を行う場合には、機械的粗面化処理の後に行うのが好ましい。アルカリエッチング処理は、短時間で微細構造を破壊することができるので、後述する酸性エッチング処理よりも有利である。アルカリエッチング処理に用いられるアルカリ水溶液としては、カセイソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の1種または2種以上を含有する水溶液が挙げられる。特に、水酸化ナトリウム(カセイソーダ)を主体とする水溶液が好ましい。アルカリ水溶液は、アルミニウムはもちろん、アルミニウム板中に含有される合金成分を0.5〜10質量%を含有していてもよい。アルカリ水溶液の濃度は、1〜50質量%であるのが好ましく、1〜30質量%であるのがより好ましい。
<Alkaline etching treatment>
The alkali etching treatment is a treatment for chemically etching the surface of the aluminum plate in an alkaline aqueous solution, and is preferably performed before and after the electrochemical roughening treatment. Moreover, when performing a mechanical surface roughening process before an electrochemical surface roughening process, it is preferable to carry out after a mechanical surface roughening process. The alkali etching treatment is more advantageous than the acid etching treatment described later because the fine structure can be destroyed in a short time. Examples of the alkaline aqueous solution used for the alkali etching treatment include an aqueous solution containing one or more of caustic soda, sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium hydroxide, lithium hydroxide and the like. . In particular, an aqueous solution mainly composed of sodium hydroxide (caustic soda) is preferable. The alkaline aqueous solution may contain 0.5 to 10% by mass of alloy components contained in the aluminum plate as well as aluminum. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 50% by mass, and more preferably 1 to 30% by mass.

アルカリエッチング処理は、アルカリ水溶液の液温を20〜100℃、好ましくは40〜80℃の間とし、1〜120秒間、好ましくは2〜60秒間処理することにより行うのが好ましい。アルミニウムの溶解量は、機械的粗面化処理の後に行う場合は5〜20g/m2 であるのが好ましく、電気化学的粗面化処理の後に行う場合は0.01〜20g/m2 であるのが好ましい。最初にアルカリ水溶液中で化学的なエッチング液をミキシングするときには、液体水酸化ナトリウム(カセイソーダ)とアルミン酸ナトリウム(アルミン酸ソーダ)とを用いて処理液を調製することが好ましい。また、アルカリエッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないために、ニップローラによる液切りと
スプレーによる水洗とを行うのが好ましい。
The alkaline etching treatment is preferably carried out by treating the alkaline aqueous solution at a temperature of 20 to 100 ° C., preferably 40 to 80 ° C., and treating for 1 to 120 seconds, preferably 2 to 60 seconds. Dissolution amount of aluminum, if carried out after mechanical graining treatment is preferably from 5 to 20 g / m 2, if carried out after the electrochemical graining treatment is 0.01 to 20 g / m 2 Preferably there is. When mixing a chemical etching solution in an alkaline aqueous solution first, it is preferable to prepare a treatment solution using liquid sodium hydroxide (caustic soda) and sodium aluminate (sodium aluminate). In addition, after the alkali etching process is completed, it is preferable to perform liquid drainage with a nip roller and water washing with a spray so that the processing liquid is not taken out to the next process.

アルカリエッチング処理を電気化学的粗面化処理の後に行う場合、電気化学的粗面化処理により生じたスマットを除去することができる。このようなアルカリエッチング処理としては、例えば、特開昭53−12739号公報に記載されているような50〜90℃の温度の15〜65質量%の硫酸と接触させる方法および特公昭48−28123号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が好適に挙げられる。   When the alkali etching treatment is performed after the electrochemical surface roughening treatment, smut generated by the electrochemical surface roughening treatment can be removed. As such an alkali etching treatment, for example, a method of contacting with 15 to 65 mass% sulfuric acid at a temperature of 50 to 90 ° C. as described in JP-A-53-12739 and JP-B-48-28123. A method for performing alkali etching described in Japanese Patent Publication No. JP-A-2000-133 is preferred.

<酸性エッチング処理>
酸性エッチング処理は、酸性水溶液中でアルミニウム板を化学的にエッチングする処理であり、上記電気化学的粗面化処理の後に行うのが好ましい。また、上記電気化学的粗面化処理の前および/または後に上記アルカリエッチング処理を行う場合は、アルカリエッチング処理の後に酸性エッチング処理を行うのも好ましい。アルミニウム板に上記アルカリエッチング処理を施した後に、上記酸性エッチング処理を施すと、アルミニウム板表面のシリカを含む金属間化合物または単体Siを除去することができ、その後の陽極酸化処理において生成する陽極酸化皮膜の欠陥をなくすことができる。その結果、印刷時にチリ状汚れと称される非画像部に点状のインクが付着するトラブルを防止することができる。
<Acid etching process>
The acidic etching treatment is a treatment for chemically etching the aluminum plate in an acidic aqueous solution, and is preferably performed after the electrochemical surface roughening treatment. Moreover, when performing the said alkali etching process before and / or after the said electrochemical roughening process, it is also preferable to perform an acidic etching process after an alkali etching process. When the above-mentioned alkaline etching treatment is performed on the aluminum plate and then the above-mentioned acidic etching treatment is performed, the intermetallic compound containing silica or simple substance Si on the surface of the aluminum plate can be removed, and the anodic oxidation generated in the subsequent anodizing treatment Film defects can be eliminated. As a result, it is possible to prevent the trouble that the dot-like ink adheres to the non-image portion called “dirty stain” during printing.

酸性エッチング処理に用いられる酸性水溶液としては、リン酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの2種以上の混酸を含有する水溶液が挙げられる。中でも、硫酸水溶液が好ましい。酸性水溶液の濃度は、50〜500g/Lであるのが好ましい。酸性水溶液は、アルミニウムはもちろん、アルミニウム板中に含有される合金成分を含有していてもよい。   Examples of the acidic aqueous solution used for the acidic etching treatment include an aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid of two or more of these. Of these, a sulfuric acid aqueous solution is preferable. The concentration of the acidic aqueous solution is preferably 50 to 500 g / L. The acidic aqueous solution may contain an alloy component contained in the aluminum plate as well as aluminum.

酸性エッチング処理は、液温を60〜90℃、好ましくは70〜80℃とし、1〜10秒間処理することにより行うのが好ましい。このときのアルミニウム板の溶解量は0.001〜0.2g/m2 であるのが好ましい。また、酸濃度、例えば、硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度は、常温で晶出しない範囲から選択することが好ましい。好ましいアルミニウムイオン濃度は0.1〜50g/Lであり、特に好ましくは5〜15g/Lである。また、酸性エッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないために、ニップローラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが好ましい。 The acidic etching treatment is preferably performed by treating the liquid temperature at 60 to 90 ° C., preferably 70 to 80 ° C., for 1 to 10 seconds. The amount of dissolution of the aluminum plate at this time is preferably 0.001 to 0.2 g / m 2 . The acid concentration, for example, the sulfuric acid concentration and the aluminum ion concentration are preferably selected from a range that does not crystallize at room temperature. A preferable aluminum ion concentration is 0.1 to 50 g / L, and particularly preferably 5 to 15 g / L. In addition, after the acidic etching process is completed, in order not to take out the processing liquid to the next process, it is preferable to perform liquid drainage by a nip roller and water washing by spraying.

<デスマット処理>
上記電気化学的粗面化処理の前および/または後に上記アルカリエッチング処理を行う場合は、アルカリエッチング処理により、一般にアルミニウム板の表面にスマットが生成するので、リン酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸、またはこれらの2種以上の混酸を含有する酸性溶液中で上記スマットを溶解する、いわゆるデスマット処理をアルカリエッチング処理の後に行うのが好ましい。なお、アルカリエッチング処理の後には、酸性エッチング処理およびデスマット処理のうち、いずれか一方を行えば十分である。
<Desmut treatment>
When performing the alkali etching treatment before and / or after the electrochemical surface roughening treatment, smut is generally generated on the surface of the aluminum plate by the alkali etching treatment, so that phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, The so-called desmut treatment, in which the smut is dissolved in an acidic solution containing hydrochloric acid, hydrofluoric acid, borofluoric acid, or a mixed acid of two or more of these, is preferably performed after the alkali etching treatment. In addition, after an alkali etching process, it is enough to perform any one of an acidic etching process and a desmut process.

酸性溶液の濃度は、1〜500g/Lであるのが好ましい。酸性溶液中にはアルミニウムはもちろん、アルミニウム板中に含有される合金成分が0.001〜50g/L溶解していてもよい。酸性溶液の液温は、20℃〜95℃であるのが好ましく、30〜70℃であるのがより好ましい。また、処理時間は1〜120秒であるのが好ましく、2〜60秒であるのがより好ましい。また、デスマット処理液(酸性溶液)としては、上記電気化学的粗面化処理で用いた酸性水溶液の廃液を用いるのが、廃液量削減の上で好ましい。デスマット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップローラによる液切りとスプレーによる水洗とを行うのが好ましい。   The concentration of the acidic solution is preferably 1 to 500 g / L. 0.001 to 50 g / L of the alloy component contained in the aluminum plate as well as aluminum may be dissolved in the acidic solution. The liquid temperature of the acidic solution is preferably 20 ° C to 95 ° C, more preferably 30 to 70 ° C. Moreover, it is preferable that processing time is 1-120 second, and it is more preferable that it is 2-60 second. Further, as the desmut treatment liquid (acid solution), it is preferable to use the waste liquid of the acidic aqueous solution used in the electrochemical surface roughening treatment in terms of reducing the amount of waste liquid. After the desmutting process is completed, it is preferable to perform liquid drainage by a nip roller and water washing by spraying so that the processing liquid is not taken out to the next process.

これらの表面処理の組み合わせとして、好ましい態様を以下に示す。まず、機械的粗面化処理および/またはアルカリエッチング処理を行い、その後、デスマット処理を行う。 つぎに、電気化学的粗面化処理を行い、その後、酸性エッチング処理、アルカリエッチング処理およびそれに引き続くデスマット処理、アルカリエッチング処理およびそれに引き続く酸性エッチング処理のいずれかを行う。   As a combination of these surface treatments, preferred embodiments are shown below. First, a mechanical surface roughening treatment and / or an alkali etching treatment is performed, and then a desmut treatment is performed. Next, an electrochemical surface roughening process is performed, and then an acid etching process, an alkali etching process and a subsequent desmut process, an alkali etching process and a subsequent acidic etching process are performed.

<陽極酸化処理>
以上のようにして粗面化処理および必要に応じて他の処理を施されたアルミニウム板に、陽極酸化処理を施すことができる。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等の単独のまたは2種以上を組み合わせた水溶液または非水溶液の中で、アルミニウム板に直流または交流を流すと、アルミニウム板の表面に、陽極酸化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度1〜80質量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60A/dm2 、電圧1〜200V、電解時間1〜1000秒であるのが適当である。これらの陽極酸化処理の中でも、英国特許第1,412,768号明細書に記載されている、硫酸電解液中で高電流密度で陽極酸化処理する方法、および、米国特許第3,511,661号明細書に記載されている、リン酸を電解浴として陽極酸化処理する方法が好ましい。また、硫酸中で陽極酸化処理し、更にリン酸中で陽極酸化処理するなどの多段陽極酸化処理を施すこともできる。
<Anodizing treatment>
As described above, the anodizing treatment can be performed on the aluminum plate that has been subjected to the roughening treatment and, if necessary, other treatments. The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when direct current or alternating current is applied to an aluminum plate in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., alone or in combination of two or more. An anodized film can be formed on the surface of the aluminum plate. The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be determined in general. In general, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ˜60 A / dm 2 , voltage 1 to 200 V, electrolysis time 1 to 1000 seconds are appropriate. Among these anodizing treatments, a method for anodizing at a high current density in a sulfuric acid electrolyte solution described in British Patent 1,412,768, and US Pat. No. 3,511,661. A method of anodizing treatment using phosphoric acid as an electrolytic bath is preferable. Further, multi-stage anodizing treatment such as anodizing treatment in sulfuric acid and further anodizing treatment in phosphoric acid can be performed.

本発明においては、陽極酸化皮膜は、傷付きにくさおよび耐刷性の点で、1.0g/m2 以上であるのが好ましく、3.0g/m2 以上であるのがより好ましく、4.0g/m2 以上であるのが特に好ましく、また、厚い皮膜を設けるためには多大なエネルギーを必要とすることを鑑みると、100g/m2 以下であるのが好ましく、40g/m2 以下であるのがより好ましく、20g/m2 以下であるのが特に好ましい。 In the present invention, the anodized film is preferably 1.0 g / m 2 or more, more preferably 3.0 g / m 2 or more, in terms of scratch resistance and printing durability. particularly preferably at .0g / m 2 or more, in view that it requires a large amount of energy in order to provide a thicker coating is preferably at 100 g / m 2 or less, 40 g / m 2 or less More preferably, it is particularly preferably 20 g / m 2 or less.

陽極酸化皮膜には、その表面にマイクロポアと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成されている。陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの密度は、処理条件を適宜選択することによって調整することができる。   On the surface of the anodized film, fine recesses called micropores are uniformly distributed. The density of the micropores present in the anodized film can be adjusted by appropriately selecting the treatment conditions.

<ポアワイド処理>
本発明においては、熱伝導率を下げる目的で、陽極酸化処理の後、マイクロポアのポア径を拡げるポアワイド処理を行うことが好ましい。このポアワイド処理は、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム基板を酸水溶液またはアルカリ水溶液に浸せきすることにより、陽極酸化皮膜を溶解し、マイクロポアのポア径を拡大するものである。ポアワイド処理は、陽極酸化皮膜の溶解量が、好ましくは0.01〜20g/m2 、より好ましくは0.1〜5g/m2 、特に好ましくは0.2〜4g/m2 となる範囲で行われる。
<Pore wide processing>
In the present invention, for the purpose of lowering the thermal conductivity, it is preferable to perform a pore wide treatment for expanding the pore diameter of the micropore after the anodizing treatment. In this pore wide treatment, an aluminum substrate on which an anodized film is formed is immersed in an acid aqueous solution or an alkali aqueous solution to dissolve the anodized film and enlarge the pore diameter of the micropore. In the pore wide treatment, the dissolution amount of the anodized film is preferably 0.01 to 20 g / m 2 , more preferably 0.1 to 5 g / m 2 , and particularly preferably 0.2 to 4 g / m 2. Done.

ポアワイド処理に酸水溶液を用いる場合は、硫酸、リン酸、硝酸、塩酸等の無機酸またはこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましい。酸水溶液の濃度は10〜1000g/Lであるのが好ましく、20〜500g/Lであるのがより好ましい。酸水溶液の温度は、10〜90℃であるのが好ましく、30〜70℃であるのがより好ましい。酸水溶液への浸せき時間は、1〜300秒であるのが好ましく、2〜100秒であるのがより好ましい。一方、ポアワイド処理にアルカリ水溶液を用いる場合は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムからなる群から選ばれる少なくとも一つのアルカリの水溶液を用いることが好ましい。アルカリ水溶液のpHは、10〜13であるのが好ましく、11.5〜13.0であるのがより好ましい。アルカリ水溶液の温度は、10〜90℃であるのが好ましく、30〜50℃であるのがより好ましい。アルカリ水溶液への浸せき時間は、1〜500秒であるのが好ましく、2〜100秒であるのがより好ましい。又、アルカリ処理の後に酸水溶液での処理を行っても良い。   When an aqueous acid solution is used for the pore wide treatment, it is preferable to use an aqueous solution of an inorganic acid such as sulfuric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrochloric acid, or a mixture thereof. The concentration of the acid aqueous solution is preferably 10 to 1000 g / L, and more preferably 20 to 500 g / L. The temperature of the acid aqueous solution is preferably 10 to 90 ° C, and more preferably 30 to 70 ° C. The immersion time in the acid aqueous solution is preferably 1 to 300 seconds, and more preferably 2 to 100 seconds. On the other hand, when an alkaline aqueous solution is used for pore wide treatment, it is preferable to use an aqueous solution of at least one alkali selected from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. The pH of the alkaline aqueous solution is preferably 10 to 13, and more preferably 11.5 to 13.0. The temperature of the aqueous alkali solution is preferably 10 to 90 ° C, and more preferably 30 to 50 ° C. The immersion time in the alkaline aqueous solution is preferably 1 to 500 seconds, and more preferably 2 to 100 seconds. Further, the treatment with an acid aqueous solution may be performed after the alkali treatment.

<無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液での処理>
本発明においては、上述したようにして陽極酸化皮膜を設けた後、更に、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液で処理するのがよい。これにより、平版印刷版としたときに、感度、耐刷性および耐汚れ性のいずれにも優れる支持体が得られる。本発明に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に挙げられる。具体的には、例えば、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、ヘキサフルオロジルコニウムナトリウム、ヘキサフルオロジルコニウムカリウム、ヘキサフルオロチタン酸ナトリウム、ヘキサフルオロチタン酸カリウム、ヘキサフルオロジルコニウム水素酸、ヘキサフルオロチタン水素酸、ヘキサフルオロジルコニウムアンモニウム、ヘキサフルオロチタン酸アンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウムが挙げられる。
<Treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound>
In this invention, after providing an anodic oxide film as mentioned above, it is good to process with the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound further. Thereby, when it is set as a lithographic printing plate, a support excellent in all of sensitivity, printing durability and stain resistance can be obtained. As the inorganic fluorine compound used in the present invention, a metal fluoride is preferably exemplified. Specifically, for example, sodium fluoride, potassium fluoride, calcium fluoride, magnesium fluoride, sodium hexafluorozirconium, hexafluorozirconium potassium, sodium hexafluorotitanate, potassium hexafluorotitanate, hexafluorozirconium hydrogen acid , Hexafluorotitanium hydrogen acid, hexafluorozirconium ammonium, ammonium hexafluorotitanate, hexafluorosilicic acid, nickel fluoride, iron fluoride, phosphorous phosphate, ammonium fluoride phosphate.

また、本発明に用いられるケイ酸化合物としては、ケイ酸、ケイ酸塩が挙げられるが、中でもアルカリ金属ケイ酸塩が好適に挙げられる。具体的には、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。中でも、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムが好ましい。ケイ酸ナトリウムは、例えば、3号ケイ酸ナトリウム、2号ケイ酸ナトリウム、1号ケイ酸ナトリウム、オルソケイ酸ナトリウム、セスキケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムが挙げられる。ケイ酸カリウムは、例えば1号ケイ酸カリウムが挙げられる。又、アルミニウムを含むアルミノケイ酸塩、ホウ素を含むホウケイ酸塩を用いることもできる。ケイ酸は、オルトケイ酸、メタケイ酸、メタ二ケイ酸、メタ三ケイ酸、メタ四ケイ酸が挙げられる。   Moreover, as a silicate compound used for this invention, a silicic acid and a silicate are mentioned, Among these, an alkali metal silicate is mentioned suitably. Specific examples include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. Of these, sodium silicate and potassium silicate are preferable. Examples of sodium silicate include No. 3 sodium silicate, No. 2 sodium silicate, No. 1 sodium silicate, sodium orthosilicate, sodium sesquisilicate, and sodium metasilicate. Examples of potassium silicate include No. 1 potassium silicate. Alternatively, an aluminosilicate containing aluminum or a borosilicate containing boron can be used. Examples of the silicic acid include orthosilicic acid, metasilicic acid, metadisilicic acid, metatrisilicic acid, and metatetrasilicic acid.

水溶液中の各化合物の濃度は、無機フッ素化合物については、陽極酸化皮膜の封孔の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.05質量%以上であるのがより好ましく、0.1質量%以上であるのが特に好ましく、また、汚れ性の点で、10質量%以下であるのが好ましく、1質量%以下であるのがより好ましく、0.5質量%以下であるのが特に好ましい。また、ケイ酸化合物については、汚れ性の点で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.1質量%以上であるのがより好ましく、1質量%以上であるのが特に好ましく、また、耐刷性の点で、10質量%以下であるのが好ましく、7質量%以下であるのがより好ましく、5質量%以下であるのが特に好ましい。水溶液中の各化合物との割合は、特に限定されないが、無機フッ素化合物とケイ酸化合物の質量比が、5:95〜95:5であるのが好ましく、20:80〜80:20であるのがより好ましい。   The concentration of each compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.05% by mass or more, in terms of the sealing of the anodized film for the inorganic fluorine compound, It is particularly preferably 0.1% by mass or more, and in terms of dirtiness, it is preferably 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, and 0.5% by mass or less. Is particularly preferred. In addition, the silicic acid compound is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more, and particularly preferably 1% by mass or more in terms of dirtiness. Further, in terms of printing durability, the content is preferably 10% by mass or less, more preferably 7% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less. Although the ratio with each compound in aqueous solution is not specifically limited, It is preferable that mass ratio of an inorganic fluorine compound and a silicic acid compound is 5: 95-95: 5, and it is 20: 80-80: 20. Is more preferable.

また、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液は、pHを高くするために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物を適当量含有してもよい。中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVB族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩等の水溶性塩が挙げられる。4族(第IVB族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および4族(第IVB族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。   Further, the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound and the silicate compound may contain an appropriate amount of hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide in order to increase the pH. Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. Moreover, the aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVB) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Is mentioned. Examples of Group 4 (Group IVB) metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium oxalate potassium, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride oxide, zirconium dioxide, zirconium oxychloride. And zirconium tetrachloride. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVB) metal salts are used alone or in combination of two or more.

また、水溶液の温度は、10℃以上であるのが好ましく、20℃以上であるのがより好ましく、また、100℃以下であるのが好ましく、80℃以下であるのがより好ましい。
また、水溶液は、pH8以上であるのが好ましく、pH10以上であるのがより好ましく、また、pH13以下であるのが好ましく、pH12以下であるのがより好ましい。
The temperature of the aqueous solution is preferably 10 ° C or higher, more preferably 20 ° C or higher, preferably 100 ° C or lower, and more preferably 80 ° C or lower.
The aqueous solution preferably has a pH of 8 or more, more preferably has a pH of 10 or more, preferably has a pH of 13 or less, and more preferably has a pH of 12 or less.

無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液での処理の方法は、特に限定されず、例えば、浸せき法、スプレー法が挙げられる。これらは単独で1回または複数回用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、浸せき法が好ましい。浸せき法を用いて処理する場合、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、3秒以上であるのがより好ましく、また、600秒以下であるのが好ましく、120秒以下であるのがより好ましい。   The method of treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound is not particularly limited, and examples thereof include a dipping method and a spray method. These may be used alone or in combination, or may be used in combination of two or more. Of these, the dipping method is preferred. When processing using the immersion method, the processing time is preferably 1 second or longer, more preferably 3 seconds or longer, more preferably 600 seconds or shorter, and 120 seconds or shorter. More preferred.

<親水性表面処理>
本発明においては、上述したようにして無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液で処理して得られた本発明の支持体を、更に1種以上の親水性化合物を含有する水溶液へ浸せきすることにより、親水性表面処理を行うのがよい。親水性化合物としては、例えば、ポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を有する化合物、糖類化合物、ケイ酸塩化合物が好適に挙げられる。
<Hydrophilic surface treatment>
In the present invention, the support of the present invention obtained by treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound as described above is further immersed in an aqueous solution containing one or more hydrophilic compounds. By doing so, it is preferable to perform a hydrophilic surface treatment. Preferred examples of the hydrophilic compound include polyvinyl phosphonic acid, a compound having a sulfonic acid group, a saccharide compound, and a silicate compound.

スルホン酸基を有する化合物には、芳香族スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それらの誘導体、およびそれらの塩が含まれる。芳香族スルホン酸としては、例えば、フェノールスルホン酸、カテコールスルホン酸、レゾルシノールスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、リグニンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アセナフテン−5−スルホン酸、フェナントレン−2−スルホン酸、ベンズアルデヒド−2(または3)−スルホン酸、ベンズアルデヒド−2,4(または3,5)−ジスルホン酸、オキシベンジルスルホン酸類、スルホ安息香酸、スルファニル酸、ナフチオン酸、タウリンが挙げられる。中でも、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン酸が好ましい。また、ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物も好ましい。更に、これらは、スルホン酸塩として使用してもよい。例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩が挙げられる。中でも、ナトリウム塩、カリウム塩が好ましい。スルホン酸基を有する化合物を含有する水溶液のpHは、4〜6.5であるのが好ましく、硫酸、水酸化ナトリウム、アンモニア等を用いて上記pH範囲に調整することができる。   The compound having a sulfonic acid group includes an aromatic sulfonic acid, a formaldehyde condensate thereof, a derivative thereof, and a salt thereof. Examples of the aromatic sulfonic acid include phenol sulfonic acid, catechol sulfonic acid, resorcinol sulfonic acid, benzene sulfonic acid, toluene sulfonic acid, lignin sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid, acenaphthene-5-sulfonic acid, phenanthrene-2-sulfonic acid. Benzaldehyde-2 (or 3) -sulfonic acid, benzaldehyde-2,4 (or 3,5) -disulfonic acid, oxybenzylsulfonic acids, sulfobenzoic acid, sulfanilic acid, naphthionic acid, and taurine. Of these, benzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, and ligninsulfonic acid are preferable. Also preferred are formaldehyde condensates of benzene sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid, and lignin sulfonic acid. Furthermore, these may be used as sulfonates. For example, sodium salt, potassium salt, lithium salt, calcium salt, magnesium salt can be mentioned. Of these, sodium salts and potassium salts are preferred. The pH of the aqueous solution containing the compound having a sulfonic acid group is preferably 4 to 6.5, and can be adjusted to the above pH range using sulfuric acid, sodium hydroxide, ammonia or the like.

糖類化合物には、単糖類およびその糖アルコール、オリゴ糖類、多糖類、ならびに、配糖体が含まれる。単糖類およびその糖アルコールとしては、例えば、グリセロール等のトリオース類およびその糖アルコール類;トレオース、エリトリトール等のテトロースおよびその糖アルコール類;アラビノース、アラビトール等のペントースおよびその糖アルコール類;グルコース、ソルビトール等のヘキソースおよびその糖アルコール類;D−グリセロ−D−ガラクトヘプトース、D−グリセロ−D−ガラクトヘプチトール等のヘプトースおよびその糖アルコール類;D−エリトロ−D−ガラクトオクチトール等のオクトースおよびその糖アルコール類;D−エリトロ−L−グルコ−ノヌロース等のノノースおよびその糖アルコール類が挙げられる。オリゴ糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース、ラクトース等の二糖類;ラフィノース等の三糖類が挙げられる。多糖類としては、例えば、アミロース、アラビナン、シクロデキストリン、アルギン酸セルロースが挙げられる。   The saccharide compounds include monosaccharides and their sugar alcohols, oligosaccharides, polysaccharides, and glycosides. Monosaccharides and sugar alcohols thereof include, for example, trioses such as glycerol and sugar alcohols thereof; tetroses such as treose and erythritol and sugar alcohols thereof; pentoses such as arabinose and arabitol and sugar alcohols thereof; glucose, sorbitol and the like Hexoses and sugar alcohols thereof; heptoses and sugar alcohols such as D-glycero-D-galactoheptose and D-glycero-D-galactoheptitol; octoses such as D-erythro-D-galactoctitol and Examples thereof include sugar alcohols; nonoses such as D-erythro-L-gluco-nonulose and sugar alcohols thereof. Examples of oligosaccharides include disaccharides such as saccharose, trehalose, and lactose; and trisaccharides such as raffinose. Examples of the polysaccharide include amylose, arabinan, cyclodextrin, and cellulose alginate.

本発明において、「配糖体」とは、糖部分と非糖部分がエーテル結合等を介して結合している化合物をいう。配糖体は非糖部分により分類することができる。例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、クマリン配糖体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド配糖体、アントラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、ステロイド配糖体、からし油配糖体が挙げられる。糖部分としては、上述した単糖類およびその糖アルコール;オリゴ糖類;多
糖類が挙げられる。中でも、単糖類、オリゴ糖類が好ましく、単糖類、二糖類がより好ましい。好ましい配糖体の例として、下記式(I)で表される化合物が挙げられる。
In the present invention, the “glycoside” refers to a compound in which a sugar moiety and a non-sugar moiety are bonded through an ether bond or the like. Glycosides can be classified by non-sugar moieties. For example, alkyl glycoside, phenol glycoside, coumarin glycoside, oxycoumarin glycoside, flavonoid glycoside, anthraquinone glycoside, triterpene glycoside, steroid glycoside, mustard oil glycoside Can be mentioned. Examples of the sugar moiety include the above-described monosaccharides and sugar alcohols thereof; oligosaccharides; polysaccharides. Among these, monosaccharides and oligosaccharides are preferable, and monosaccharides and disaccharides are more preferable. Examples of preferable glycosides include compounds represented by the following formula (I).

Figure 2005186504
Figure 2005186504

上記式(I)中、Rは、炭素原子数1〜20の直鎖のまたは分枝を有する、アルキル基、アルケニル基またはアルキニル基を表す。炭素原子数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシル基が挙げられ、これらは直鎖であっても、分枝を有していてもよく、また、環状アルキル基であってもよい。炭素原子数1〜20のアルケニル基としては、例えば、アリル、2−ブテニル基が挙げられ、これらは直鎖であっても、分枝を有していてもよく、また、環状アルケニル基であってもよい。炭素原子数1〜20のアルキニル基としては、例えば、1−ペンチニル基が挙げられ、これらは直鎖であっても、分枝を有していてもよく、また、環状アルキニル基であってもよい。   In the above formula (I), R represents an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group having a straight chain or a branched chain having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, Nonadecyl and eicosyl groups may be mentioned, and these may be linear or branched, and may be cyclic alkyl groups. Examples of the alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms include allyl and 2-butenyl groups, which may be linear or branched, and are cyclic alkenyl groups. May be. Examples of the alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms include a 1-pentynyl group, which may be linear or branched, and may be a cyclic alkynyl group. Good.

上記式(I)で表される具体的な化合物としては、例えば、メチルグルコシド、エチルグルコシド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブチルグルコシド、イソブチルグルコシド、n−ヘキシルグルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシド、デシルグルコシド、2−エチルヘキシルグルコシド、2−ペンチルノニルグルコシド、2−ヘキシルデシルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコシド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシド、2−ブチニルグルコシドが挙げられる。これらの化合物は、配糖体の一種であるグルコシドで、ブドウ糖のヘミアセタールヒドロキシル基が他の化合物をエーテル状に結合したものであり、例えば、グルコースとアルコール類とを反応させる公知の方法により得ることができる。これらのアルキルグルコシドの一部は、ドイツHenkel社により商品名グルコポン(GLUCOPON)として市販されており、本発明ではそれを用いることができる。   Specific examples of the compound represented by the above formula (I) include, for example, methyl glucoside, ethyl glucoside, propyl glucoside, isopropyl glucoside, butyl glucoside, isobutyl glucoside, n-hexyl glucoside, octyl glucoside, capryl glucoside, decyl glucoside, Examples include 2-ethylhexyl glucoside, 2-pentylnonyl glucoside, 2-hexyl decyl glucoside, lauryl glucoside, myristyl glucoside, stearyl glucoside, cyclohexyl glucoside, and 2-butynyl glucoside. These compounds are glucosides, which are a type of glycoside, in which the hemiacetal hydroxyl group of glucose is linked to other compounds in the form of an ether, and are obtained, for example, by a known method of reacting glucose with alcohols. be able to. Some of these alkyl glucosides are marketed under the trade name GLUCOPON by Henkel, Germany, and can be used in the present invention.

好ましい配糖体の別の例としては、サポニン類、ルチントリハイドレート、ヘスペリジンメチルカルコン、ヘスペリジン、ナリジンハイドレート、フェノール−β−D−グルコピラノシド、サリシン、3´,5,7−メトキシ−7−ルチノシドが挙げられる。   Other examples of preferred glycosides include saponins, rutin trihydrate, hesperidin methyl chalcone, hesperidin, nalidine hydrate, phenol-β-D-glucopyranoside, salicin, 3 ′, 5,7-methoxy-7. -Rutinosides are mentioned.

糖類化合物を含有する水溶液のpHは、8〜11であるのが好ましく、水酸化カリウム、硫酸、炭酸、炭酸ナトリウム、リン酸、リン酸ナトリウム等を用いて上記pH範囲に調整することができる。   The pH of the aqueous solution containing the saccharide compound is preferably 8 to 11, and can be adjusted to the above pH range using potassium hydroxide, sulfuric acid, carbonic acid, sodium carbonate, phosphoric acid, sodium phosphate or the like.

ポリビニルホスホン酸の水溶液は、濃度が0.1〜5質量%であるのが好ましく、0.2〜2.5%であるのがより好ましい。浸せき温度は10〜70℃であるのが好ましく、30〜60℃であるのがより好ましい。浸せき時間は1〜20秒であるのが好ましい。また、スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、濃度が0.02〜0.2質量%であるのが好ましい。浸せき温度は60〜100℃であるのが好ましい。浸せき時間は1〜300秒であるのが好ましく、10〜100秒であるのがより好ましい。更に、糖類化合物の水溶液は、濃度が0.5〜10質量%であるのが好ましい。浸せき温度は40〜70℃であるのが好ましい。浸せき時間は2〜300秒であるのが好ましく、5〜30秒であるのがより好ましい。   The concentration of the aqueous solution of polyvinylphosphonic acid is preferably 0.1 to 5% by mass, and more preferably 0.2 to 2.5%. The immersion temperature is preferably 10 to 70 ° C, and more preferably 30 to 60 ° C. The immersion time is preferably 1 to 20 seconds. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the aqueous solution of the compound which has a sulfonic acid group is 0.02-0.2 mass%. The immersion temperature is preferably 60 to 100 ° C. The immersion time is preferably 1 to 300 seconds, and more preferably 10 to 100 seconds. Further, the aqueous solution of the saccharide compound preferably has a concentration of 0.5 to 10% by mass. The immersion temperature is preferably 40 to 70 ° C. The immersion time is preferably 2 to 300 seconds, and more preferably 5 to 30 seconds.

本発明では、親水性化合物を含有する水溶液として、上述したような有機化合物の水溶液のほかに、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液、フッ化ジルコニウムカリウム(K2 ZrF6 )水溶液、リン酸塩/無機フッ素化合物を含む水溶液等の無機化合物水溶液も好適に用いられる。 In the present invention, as the aqueous solution containing the hydrophilic compound, in addition to the organic compound aqueous solution as described above, an alkali metal silicate aqueous solution, potassium zirconium fluoride (K 2 ZrF 6 ) aqueous solution, phosphate / inorganic fluorine. An inorganic compound aqueous solution such as an aqueous solution containing the compound is also preferably used.

アルカリ金属ケイ酸塩水溶液処理は、好ましくは濃度が0.01〜30質量%、より好ましくは0.1〜10質量%であり、25℃でのpHが好ましくは10〜13であるアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に、支持体を、好ましくは30〜100℃、より好ましくは50〜90℃で、好ましくは0.5〜40秒間、より好ましくは1〜20秒間浸せきすることにより行う。   The alkali metal silicate treatment is preferably an alkali metal silicate having a concentration of 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, and a pH at 25 ° C. of preferably 10 to 13. It is carried out by immersing the support in an aqueous acid salt solution at 30 to 100 ° C., more preferably 50 to 90 ° C., preferably 0.5 to 40 seconds, more preferably 1 to 20 seconds.

親水性表面処理に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩は、例えば、上述した無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩として列挙したものが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、pHを高くするために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物を適当量含有してもよい。中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVB族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、上述した無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液が含有してもよいアルカリ土類金属塩として列挙したものが挙げられる。アルカリ土類金属塩および4族(第IVB族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。   Examples of the alkali metal silicate used for the hydrophilic surface treatment include those listed as alkali metal silicates used in the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound and the silicate compound described above. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of a hydroxide such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, or lithium hydroxide in order to increase the pH. Of these, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferable. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVB) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salts include those listed as the alkaline earth metal salts that may be contained in the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound and the silicate compound described above. Alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVB) metal salts are used alone or in combination of two or more.

フッ化ジルコニウムカリウム水溶液処理は、好ましくは濃度が0.1〜10質量%、より好ましくは0.5〜2質量%のフッ化ジルコニウムカリウムの水溶液に、支持体を、好ましくは30〜80℃で、好ましくは60〜180秒間浸せきすることにより行う。   Zirconium potassium fluoride aqueous solution treatment is preferably carried out at an aqueous solution of potassium zirconium fluoride having a concentration of 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 2% by mass, preferably at 30 to 80 ° C. It is preferably performed by dipping for 60 to 180 seconds.

リン酸塩/無機フッ素化合物処理は、好ましくはリン酸塩化合物濃度が5〜20質量%、無機フッ素化合物濃度が0.01〜1質量%であり、好ましくはpHが3〜5の水溶液に、支持体を、好ましくは20〜100℃、より好ましくは40〜80℃で、好ましくは2〜300秒間、より好ましくは5〜30秒間浸せきすることにより行う。   The phosphate / inorganic fluorine compound treatment is preferably an aqueous solution having a phosphate compound concentration of 5 to 20% by mass and an inorganic fluorine compound concentration of 0.01 to 1% by mass, preferably a pH of 3 to 5. The support is preferably immersed in at 20 to 100 ° C., more preferably at 40 to 80 ° C., preferably for 2 to 300 seconds, more preferably for 5 to 30 seconds.

本発明に用いられるリン酸塩としては、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の金属のリン酸塩が挙げられる。具体的には、例えば、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウム;亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムが挙げられる。中でも、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムが好ましい。   Examples of the phosphate used in the present invention include phosphates of metals such as alkali metals and alkaline earth metals. Specifically, for example, zinc phosphate, aluminum phosphate, ammonium phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, monoammonium phosphate, monopotassium phosphate, monosodium phosphate, dihydrogen phosphate Potassium, dipotassium hydrogen phosphate, calcium phosphate, sodium ammonium hydrogen phosphate, magnesium hydrogen phosphate, magnesium phosphate, ferrous phosphate, ferric phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, hydrogen phosphate Disodium, lead phosphate, diammonium phosphate, calcium dihydrogen phosphate, lithium phosphate, phosphotungstic acid, ammonium phosphotungstate, sodium phosphotungstate, ammonium phosphomolybdate, sodium phosphomolybdate; sodium phosphite , Tripolyphosphate Potassium, and sodium pyrophosphate. Among these, sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, and dipotassium hydrogen phosphate are preferable.

また、親水性表面処理に用いられる無機フッ素化合物としては、金属フッ化物が好適に
挙げられる。具体的には、例えば、上述した無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液に用いられる無機フッ素化合物として列挙したものが挙げられる。
Moreover, a metal fluoride is mentioned suitably as an inorganic fluorine compound used for hydrophilic surface treatment. Specific examples include those listed as inorganic fluorine compounds used in an aqueous solution containing the above-described inorganic fluorine compound and silicic acid compound.

リン酸塩/無機フッ素化合物処理に用いられる水溶液は、リン酸塩および無機フッ素化合物をそれぞれ1種または2種以上含有することができる。   The aqueous solution used for the phosphate / inorganic fluorine compound treatment may contain one or more phosphates and inorganic fluorine compounds, respectively.

支持体は、これらの親水性化合物を含有する水溶液へ浸せきした後には、水等によって洗浄され、乾燥される。   After immersing the support in an aqueous solution containing these hydrophilic compounds, the support is washed with water or the like and dried.

上述した親水性表面処理により、陽極酸化処理後のポアワイド処理により向上した感度(ネガタイプの感光層の場合は耐刷性の向上)と引き替えに発生する耐放置汚れ性(インキ払い性)劣化等の印刷汚れの問題が解消される。即ち、ポア径が拡大したことにより、印刷時、特に印刷機が停止し、平版印刷版が印刷機上で放置された後の印刷再スタート時に、インキが取れにくくなる現象(耐放置汚れ性(インキ払い性)劣化)が起こりやすくなる問題があるが、親水性表面処理が施されていると、上記問題が軽減される。   Due to the hydrophilic surface treatment described above, the sensitivity (improvement of printing durability in the case of a negative type photosensitive layer) improved by the pore-wide treatment after the anodizing treatment, and deterioration of the resistance to leaving stains (ink repellency) that occurs in exchange. The problem of printing smear is solved. That is, the phenomenon that the ink is difficult to remove when printing, particularly when the printing machine is stopped, and when the printing is restarted after the lithographic printing plate is left on the printing machine due to the enlargement of the pore diameter (residual stain resistance ( Although there is a problem that ink repellency (deterioration) is likely to occur, if the hydrophilic surface treatment is applied, the above problem is reduced.

このようにして得られる本発明の支持体は、表面が下記式(1)を満たすのが好ましい。
0.30≦(A+B)/(A+B+C)≦0.90 (1)
A:X線光電子分光法を用いて測定して得られるフッ素(1S)のピーク面積(counts・eV/sec)
B:X線光電子分光法を用いて測定して得られるケイ素(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
C:X線光電子分光法を用いて測定して得られるアルミニウム(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
The thus obtained support of the present invention preferably has a surface satisfying the following formula (1).
0.30 ≦ (A + B) / (A + B + C) ≦ 0.90 (1)
A: Peak area of fluorine (1S) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
B: Peak area of silicon (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
C: Peak area of aluminum (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)

上記式(1)において、「(A+B)/(A+B+C)」は、例えば、陽極酸化皮膜において、無機フッ素化合物およびケイ酸化合物が被覆している程度を表しており、「(A+B)/(A+B+C)」の値が大きいほど被覆率が高く、小さいほど被覆率が低い。ここで、「(A+B)/(A+B+C)」の値が0.30以上であると、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液による処理の効果が大きくなり、耐汚れ性(耐地汚れ性および耐放置汚れ性)がより優れたものとなる。よって、「(A+B)/(A+B+C)」の値は、0.30以上であるのが好ましく、0.40以上であるのがより好ましい。一方、「(A+B)/(A+B+C)」の値が0.90以下であると、無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液による処理の効果が適度となり、耐刷性がより優れたものとなる。よって、「(A+B)/(A+B+C)」の値は、0.90以下であるのが好ましく、0.70以下であるのがより好ましい。   In the above formula (1), “(A + B) / (A + B + C)” represents, for example, the degree of coating of the inorganic fluorine compound and silicic acid compound in the anodized film, and “(A + B) / (A + B + C)” The larger the value of “)”, the higher the coverage, and the smaller the value, the lower the coverage. Here, when the value of “(A + B) / (A + B + C)” is 0.30 or more, the effect of the treatment with the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound and the silicate compound is increased, and the stain resistance (soil resistance) Properties and stain resistance). Therefore, the value of “(A + B) / (A + B + C)” is preferably 0.30 or more, and more preferably 0.40 or more. On the other hand, when the value of “(A + B) / (A + B + C)” is 0.90 or less, the effect of treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound becomes moderate, and the printing durability is more excellent It becomes. Therefore, the value of “(A + B) / (A + B + C)” is preferably 0.90 or less, and more preferably 0.70 or less.

<下塗層>
本発明においては、このようにして得られたアルミニウム支持体上に、赤外線レーザー露光により書き込み可能な記録層を設ける前に、必要に応じて、例えば、ホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩のような無機下塗層や、有機下塗層を設けてもよい。なお、特定共重合体を下塗層に含ませ得ることは前述のとおりである。
<Undercoat layer>
In the present invention, before providing a writable recording layer by infrared laser exposure on the aluminum support thus obtained, if necessary, for example, a water-soluble metal salt such as zinc borate is used. An inorganic undercoat layer or an organic undercoat layer may be provided. As described above, the specific copolymer can be included in the undercoat layer.

有機下塗層に用いられる有機化合物としては、例えば、カルボキシメチルセルロース;デキストリン;アラビアガム;スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体;ポリアクリル酸;2−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類;置換基を有していてもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸、エチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸;置換基を有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸、グリセロリ
ン酸等の有機リン酸;置換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸、グリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸;グリシン、β−アラニン等のアミノ酸類;トリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩;黄色染料が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include carboxymethyl cellulose; dextrin; gum arabic; polymers and copolymers having a sulfonic acid group in the side chain; polyacrylic acid; amino such as 2-aminoethylphosphonic acid Phosphonic acids having a group; organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid, and ethylenediphosphonic acid, which may have a substituent; Organic phosphoric acid such as phenylphosphonic acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid, glycerophosphoric acid, which may be substituted; phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid, glycerophosphinic acid, etc., which may have a substituent Organic phosphinic acids; amino acids such as glycine and β-alanine Amine hydrochloride having a hydroxyl group such as triethanolamine hydrochloride; and the yellow dye. These may be used alone or in combination of two or more.

有機下塗層は、水もしくはメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶媒、またはそれらの混合溶剤に、上記有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布し乾燥することにより設けられる。上記有機化合物を溶解させた溶液の濃度は、0.005〜10質量%であるのが好ましい。塗布の方法は、特に限定されず、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等のいずれの方法も用いることができる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2 であるのが好ましく、5〜100mg/m2 であるのがより好ましい。上記範囲であると、耐刷性がより良好になる。 The organic undercoat layer is provided by applying a solution obtained by dissolving the above organic compound in water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof on an aluminum plate and drying it. The concentration of the solution in which the organic compound is dissolved is preferably 0.005 to 10% by mass. The coating method is not particularly limited, and any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, curtain coating and the like can be used. The coating amount after drying of the organic undercoat layer is preferably 2 to 200 mg / m 2 , and more preferably 5 to 100 mg / m 2 . When it is in the above range, the printing durability becomes better.

<バックコート層>
上述したようにして得られる支持体には、平版印刷版原版としたときに、重ねても記録層が傷付かないように、裏面(記録層が設けられない側の面)に、有機高分子化合物からなる被覆層(以下「バックコート層」ともいう。)を必要に応じて設けてもよい。バックコート層の主成分としては、ガラス転移点が20℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共重合樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を用いるのが好ましい。
<Back coat layer>
The support obtained as described above has an organic polymer on the back surface (the surface on which the recording layer is not provided) so that the recording layer is not damaged even when it is stacked when the planographic printing plate precursor is used. A coating layer made of a compound (hereinafter also referred to as “backcoat layer”) may be provided as necessary. As a main component of the back coat layer, at least one resin selected from the group consisting of a saturated copolymerized polyester resin, a phenoxy resin, a polyvinyl acetal resin, and a vinylidene chloride copolymer resin having a glass transition point of 20 ° C. or higher is used. Is preferred.

飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットとからなる。ジカルボン酸ユニットとしては、例えば、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸等の芳香族ジカルボン酸;アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、シュウ酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸等の飽和脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。   The saturated copolyester resin is composed of a dicarboxylic acid unit and a diol unit. Examples of the dicarboxylic acid unit include aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, tetrabromophthalic acid, and tetrachlorophthalic acid; adipic acid, azelaic acid, succinic acid, oxalic acid, suberic acid, and sebacic acid , Saturated aliphatic dicarboxylic acids such as malonic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid.

バックコート層は、更に、着色のための染料や顔料、支持体との密着性を向上させるためのシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸、カチオン性ポリマー、滑り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜含有することができる。   The backcoat layer further comprises a dye or pigment for coloring, a silane coupling agent for improving the adhesion to the support, a diazo resin comprising a diazonium salt, an organic phosphonic acid, an organic phosphoric acid, a cationic polymer, Wax, higher fatty acids, higher fatty acid amides, silicone compounds composed of dimethylsiloxane, modified dimethylsiloxane, polyethylene powder and the like that are usually used as slipping agents can be appropriately contained.

バックコート層の厚さは、基本的には合紙がなくても、後述する記録層を傷付けにくい程度であればよく、0.01〜8μmであるのが好ましい。厚さが0.01μm未満であると、平版印刷版原版を重ねて取り扱った場合の記録層の擦れ傷を防ぐことが困難である。また、厚さが8μmを超えると、印刷中、平版印刷版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させることがある。   The thickness of the backcoat layer may basically be such that even if no interleaf is present, the recording layer to be described later is hardly damaged, and is preferably 0.01 to 8 μm. When the thickness is less than 0.01 μm, it is difficult to prevent the recording layer from being scratched when the planographic printing plate precursors are handled in layers. On the other hand, when the thickness exceeds 8 μm, the backcoat layer swells due to chemicals used around the lithographic printing plate during printing, the thickness varies, and the printing pressure may change to deteriorate the printing characteristics.

バックコート層を支持体の裏面に設ける方法としては、種々の方法を用いることができる。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布し、乾燥する方法;あらかじめフィルム状に成形したものを接着剤や熱での支持体に貼り合わせる方法;溶融押出機で溶融被膜を形成し、支持体に貼り合わせる方法が挙げられる。好適な厚さを確保するうえで最も好ましいのは、バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶液にして塗布し、乾燥する方法である。この方法においては、特開昭62−251739号公報に記載されているような有機溶剤を単独でまたは混合して、溶媒として用いることができる。   Various methods can be used as a method of providing the back coat layer on the back surface of the support. For example, a method in which the above components for the back coat layer are dissolved in an appropriate solvent and applied as a solution, or an emulsified dispersion is applied and dried; a previously formed film is supported with an adhesive or heat. The method of bonding to a body; The method of forming a molten film with a melt extruder and bonding to a support body is mentioned. The most preferable method for securing a suitable thickness is a method in which the components for the backcoat layer are dissolved in a suitable solvent, applied as a solution, and dried. In this method, an organic solvent as described in JP-A-62-251739 can be used alone or in combination as a solvent.

平版印刷版原版の製造においては、裏面のバックコート層と表面の記録層のどちらを先に支持体上に設けてもよく、また、両者を同時に設けてもよい。   In the production of a lithographic printing plate precursor, either the back coat layer on the back surface or the recording layer on the front surface may be provided on the support first, or both may be provided simultaneously.

以下、本発明に用いられる支持体の製造装置について、アルミニウム板を例にとり説明する。本発明に用いられるアルミニウム支持体の製造過程としては、(1)圧延され、コイル状に巻き取られたアルミニウム板を多軸ターレットからなる送り出し装置から送り出し、(2)上記各処理(機械的粗面化処理、電気化学的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸性エッチング処理、デスマット処理、陽極酸化処理、ポアワイド処理(酸処理またはアルカリ処理)、封孔処理、親水性表面処理等)の後、アルミニウム板を乾燥処理し、(3)アルミニウム板を上記多軸ターレットからなる巻き取り装置にてコイル状に巻き取り、または、アルミニウム板の平面性を矯正し、その後、所定の長さにカットして集積するのが好ましい。また、必要に応じ、上記過程において、下塗層や記録層を形成して乾燥処理する工程を設け、平版印刷版原版としてから上記巻取り装置によりコイル状に巻き取ってもよい。   Hereinafter, the support manufacturing apparatus used in the present invention will be described taking an aluminum plate as an example. The manufacturing process of the aluminum support used in the present invention is as follows: (1) An aluminum plate that has been rolled and wound in a coil shape is sent out from a feeding device composed of a multi-axis turret; Surface treatment, electrochemical roughening treatment, alkali etching treatment, acid etching treatment, desmut treatment, anodizing treatment, pore wide treatment (acid treatment or alkali treatment), sealing treatment, hydrophilic surface treatment, etc.) The aluminum plate is dried, and (3) the aluminum plate is wound into a coil by the winding device comprising the multi-axis turret, or the flatness of the aluminum plate is corrected, and then cut to a predetermined length. Are preferably accumulated. Further, if necessary, a step of forming an undercoat layer or a recording layer and drying it may be provided in the above process, and the planographic printing plate precursor may be wound into a coil by the winding device.

また、アルミニウム支持体の製造においては、アルミニウム板の表面の欠陥を検査する装置を用いて、該欠陥を連続的に検査し、発見した欠陥部のエッジ部分に目印のラベルを貼る工程を、1工程以上有するのが好ましい。更に、本発明の平版印刷版原版の製造においては、アルミニウム板の送り出し工程および巻き取り工程において、アルミコイルの交換の際に、該アルミニウム板の走行を停止しても、上記各工程におけるアルミニウム板の走行速度を一定に保つようなリザーバ装置を設けることが好ましく、上記アルミコイルの送り出し工程の後には、アルミニウム板を超音波またはアーク溶接にて接合する工程を設けるのが好ましい。   Further, in the production of the aluminum support, a process of continuously inspecting the defects using an apparatus for inspecting defects on the surface of the aluminum plate, and attaching a mark label to the edge portion of the found defect portion is as follows: It is preferable to have more steps. Furthermore, in the production of the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the aluminum plate in each of the above steps can be stopped even if the aluminum plate is stopped during the aluminum coil exchange process in the aluminum plate feeding step and the winding step. It is preferable to provide a reservoir device that keeps the traveling speed constant, and after the aluminum coil feeding step, it is preferable to provide a step of joining the aluminum plates by ultrasonic waves or arc welding.

アルミニウム支持体の製造に用いられる装置は、アルミニウム板の走行位置を検出し、走行位置を矯正する装置を1個以上有するのが好ましく、また、アルミニウム板の張力カットおよび走行速度制御を目的とした駆動装置と、張力制御を目的としたダンサロール装置とをそれぞれ1個以上有するのが好ましい。また、トラッキング装置にて各工程の状態が所望の条件か否かを記録し、アルミニウムコイルが巻き取られる前に、アルミニウムウェブのエッジ部にラベルを貼り、そのラベルよりも後が所望の条件か否かをのちに判別できるようにするのも好ましい。   The apparatus used for manufacturing the aluminum support preferably has at least one apparatus for detecting the traveling position of the aluminum plate and correcting the traveling position, and for the purpose of cutting the tension of the aluminum plate and controlling the traveling speed. It is preferable to have at least one drive device and at least one dancer roll device for tension control. In addition, it is recorded whether or not the state of each process is a desired condition with a tracking device, and before the aluminum coil is wound, a label is attached to the edge of the aluminum web, and the condition after the label is the desired condition. It is also preferable to be able to determine later whether or not.

本発明においては、アルミニウム板は、合紙とともに帯電させて互いに吸着させ、その後所定の長さにカット、および/または、スリットすることが好ましい。また、アルミニウム板のエッジ部分に貼られたラベルの情報をもとに、所定の長さに裁断した後または裁断する前に、そのラベルを目印として良品部分と欠陥部分とを分別し、良品部分のみを集積するのが好ましい。   In the present invention, the aluminum plate is preferably charged together with the interleaving paper and adsorbed to each other, and then cut and / or slit to a predetermined length. Also, based on the information on the label affixed to the edge part of the aluminum plate, after cutting to a predetermined length or before cutting, the non-defective part is separated from the defective part using the label as a mark. It is preferable to accumulate only

上記送り出し工程等を含む各工程では、アルミニウム板のサイズ(厚さおよび幅)、アルミニウムの材質またはアルミニウムウェブの走行速度によって、それぞれの条件で最適な張力を設定することが重要である。そこで、張力カットと走行速度制御を目的とした駆動装置と、張力制御を目的としたダンサーロールとを利用し、張力感知装置からの信号をフィードバック制御する張力制御装置を複数設けるのが好ましい。駆動装置は、直流モーターと主駆動ローラを組み合わせた制御方法を用いるのが一般的である。主駆動ローラは一般的なゴムを材質とするが、アルミニウムウェブがwetな状態にある工程では不織布を積層して作製されたローラを用いることができる。また、各パスローラとしては、ゴムまたは金属が一般的に用いられるが、アルミニウムウェブとスリップを起こしやすい箇所ではこのスリップを防止するために、各パスローラにモーターや減速機を接続し、主駆動装置からの信号によって一定速度で回転制御するなど補助的な駆動装置を設けることもできる。   In each process including the above-mentioned delivery process etc., it is important to set an optimum tension under each condition depending on the size (thickness and width) of the aluminum plate, the material of the aluminum, or the traveling speed of the aluminum web. Therefore, it is preferable to provide a plurality of tension control devices that feedback control signals from the tension sensing device using a drive device for tension cut and travel speed control and a dancer roll for tension control. Generally, the driving device uses a control method in which a DC motor and a main driving roller are combined. The main drive roller is made of general rubber, but in the process where the aluminum web is in a wet state, a roller made by laminating non-woven fabric can be used. Also, as each pass roller, rubber or metal is generally used, but in order to prevent this slip from occurring in a place where the slip is likely to occur with the aluminum web, a motor or a speed reducer is connected to each pass roller, It is also possible to provide an auxiliary drive device, such as controlling rotation at a constant speed by the above signal.

本発明に用いられるアルミニウム支持体は、特開平10−114046号公報に記載されているように、圧延方向の算術平均粗さ(Ra )をR1 とし、幅方向の算術平均粗さ(Ra )をR2 とした場合に、R1 −R2 が、R1 の30%以内であるのが好ましく、また、圧延方向の平均曲率が1.5×10-3mm-1以下、幅方向の平均曲率が1.5×10-3mm-1以下、圧延方向と垂直な方向の平均曲率が1.0×10-3mm-1以下であるのが好ましい。また、上記粗面化処理等を施して製造されたアルミニウム支持体は、ロール直径20〜80mm、ゴム硬度50〜95度の矯正ロールを用いて矯正するのが好ましい。これにより、平版感光印刷機の自動搬送工程においても、平版印刷版原版の露光ズレが起きないフラットネスのアルミニウムコイル状素板を供給することができる。特開平9−194093号公報には、ウェブのカール測定方法および装置、カール修正方法および装置、ならびにウェブ切断装置が記載されており、本発明においてもこれらを用いることができる。 As described in JP-A-10-114046, the aluminum support used in the present invention has an arithmetic average roughness (R a ) in the rolling direction as R 1 and an arithmetic average roughness (R in the width direction). a ) is R 2 , R 1 -R 2 is preferably within 30% of R 1 , and the average curvature in the rolling direction is 1.5 × 10 −3 mm −1 or less, width The average curvature in the direction is preferably 1.5 × 10 −3 mm −1 or less, and the average curvature in the direction perpendicular to the rolling direction is preferably 1.0 × 10 −3 mm −1 or less. Moreover, it is preferable that the aluminum support manufactured by performing the roughening treatment or the like is corrected using a correction roll having a roll diameter of 20 to 80 mm and a rubber hardness of 50 to 95 degrees. Thereby, it is possible to supply a flatness aluminum coil-shaped base plate that does not cause exposure deviation of the lithographic printing plate precursor even in the automatic conveying process of the lithographic photosensitive printing machine. Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-194093 discloses a web curl measuring method and apparatus, a curl correcting method and apparatus, and a web cutting apparatus, and these can also be used in the present invention.

また、連続的にアルミニウム支持体を製造するにあたり、各工程が適切な条件で稼働しているかを電気的に監視し、トラッキング装置にて各工程の状態が所望の条件か否かを記録し、アルミニウムコイルが巻き取られる前に、アルミニウムウェブのエッジ部にラベルを貼り、そのラベルよりも後が所望の条件か否かを、後から判別できるようにすることで、裁断時、集積時にその部分の良否を判定することができる。   In addition, when continuously manufacturing an aluminum support, it is electrically monitored whether each process is operating under appropriate conditions, and a tracking device records whether the state of each process is a desired condition, Before the aluminum coil is wound, a label is attached to the edge of the aluminum web so that it can be determined later whether the desired condition is after the label. Can be judged.

上述の粗面化処理に用いられるアルミニウム板の処理装置は、液の温度、比重、電導度、超音波の伝搬速度のうち、一つ以上を測定し、液の組成を求め、フィードバック制御、および/または、フィードフォワード制御して液濃度を一定にコントロールするのが好ましい。上記処理装置中の酸性水溶液にはアルミニウムイオンを初めとするアルミニウム板中に含まれる成分がアルミニウム板の表面処理の進行に伴って溶解する。そこで、アルミニウムイオン濃度と酸またはアルカリの濃度を一定にするために、水と酸、または、水とアルカリを間欠的に添加して液組成を一定に保つのが好ましい。ここで添加する酸またはアルカリの濃度は、10〜98質量%であるのが好ましい。   The aluminum plate processing apparatus used for the surface roughening treatment described above measures one or more of the temperature, specific gravity, electrical conductivity, and propagation speed of ultrasonic waves to determine the composition of the liquid, feedback control, and It is preferable that the liquid concentration is controlled to be constant by feedforward control. In the acidic aqueous solution in the processing apparatus, components contained in the aluminum plate such as aluminum ions are dissolved as the surface treatment of the aluminum plate proceeds. Therefore, in order to keep the aluminum ion concentration and the acid or alkali concentration constant, it is preferable to keep the liquid composition constant by intermittently adding water and acid or water and alkali. The concentration of the acid or alkali added here is preferably 10 to 98% by mass.

上記酸またはアルカリの濃度を制御するには、例えば、以下の方法が好ましい。まず、あらかじめ使用が予定されている濃度範囲の成分液ごとの導電率、比重または超音波の伝搬速度を各温度毎に測定してデータテーブルを作成する。そして、被測定液の導電率、比重または超音波の伝搬速度と温度データをあらかじめ作成した非測定液のデータテーブルを参照して濃度を測定する。上記超音波の伝搬時間を高精度・高安定に測定する方法は、特開平6−235721号公報に記載されている。また、上記超音波の伝搬速度を利用した濃度測定システムについては、特開昭58−77656号公報に記載されている。また、複数の物理量データを液成分ごとに相関を示すデータテーブルを作成しておき、そのデータテーブルを参照して多成分液の濃度を測定する方法は、特開平4−19559号公報に記載されている。   In order to control the concentration of the acid or alkali, for example, the following method is preferable. First, a data table is created by measuring the conductivity, specific gravity, or ultrasonic wave propagation speed for each component liquid in a concentration range that is planned to be used in advance for each temperature. Then, the concentration is measured by referring to the data table of the non-measurement liquid in which the conductivity, specific gravity or ultrasonic wave propagation speed and temperature data of the liquid to be measured are created in advance. A method for measuring the propagation time of the ultrasonic wave with high accuracy and high stability is described in JP-A-6-235721. A concentration measurement system using the ultrasonic wave propagation speed is described in Japanese Patent Laid-Open No. 58-77656. Further, a method for preparing a data table showing a correlation between a plurality of physical quantity data for each liquid component and measuring the concentration of the multi-component liquid with reference to the data table is described in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 4-19559. ing.

上記超音波の伝搬速度を用いた濃度測定方法を被測定液の導電率と温度の値と組み合わせて、アルミニウム支持体の粗面化工程に応用すると、プロセスの管理がリアルタイムで正確に行えるため、一定品質の製品が製造できるようになり、得率の向上につながる。また、温度と超音波の伝搬速度と導電率との組み合わせだけでなく、温度と比重、温度と導電率、温度と導電率と比重等、それぞれの物理量で濃度および温度ごとにデータテーブルを作成しておき、そのデータテーブルを参照して多成分液の濃度測定する方法をアルミニウム支持体の粗面化処理工程に応用すると、前記と同様な効果が得られる。また、比重と温度とを測定し、あらかじめ作成しておいたデータテーブルを参照して被測定物のスラリー濃度を求めることによって、スラリー濃度の測定も迅速にかつ正確に行えるようになる。   When the concentration measurement method using the ultrasonic wave propagation velocity is combined with the conductivity and temperature values of the liquid to be measured and applied to the roughening process of the aluminum support, the process can be managed accurately in real time. Products of a certain quality can be manufactured, leading to an improvement in yield. In addition to the combination of temperature, ultrasonic wave propagation speed and conductivity, a data table is created for each concentration and temperature with physical quantities such as temperature and specific gravity, temperature and conductivity, temperature and conductivity and specific gravity, etc. If the method of measuring the concentration of the multi-component liquid with reference to the data table is applied to the roughening treatment step of the aluminum support, the same effect as described above can be obtained. In addition, by measuring the specific gravity and temperature and referring to a data table prepared in advance to obtain the slurry concentration of the object to be measured, the slurry concentration can be measured quickly and accurately.

上記超音波の伝搬速度測定は液中の気泡の影響を受けやすいため、垂直に配置され、かつ、下方から上方に向かう流速のある配管中で行われるのがより好ましい。上記超音波の伝搬速度測定は、配管内の圧力が1〜10kg/cm2 の圧力範囲内で行うことが好ましく、超音波の周波数は0.5〜3MHzであるのが好ましい。また、上記比重、導電率、超音波の伝搬速度の測定は温度の影響を受けやすいため、保温状態にあり、かつ温度変動が±0.3℃以内に制御された配管内で測定するのが好ましい。更に、導電率および比重、または、導電率と超音波の伝搬速度とは同一温度で測定するのが好ましいので、同一の配管内または同一の配管フロー内で測定するのが特に好ましい。測定の際の圧力変動は温度の変動につながるので可能な限り低い方が好ましい。また、測定する配管内の流速分布もできるだけ少ない方が好ましい。更に、上記測定はスラリー、ゴミ、および気泡の影響を受けやすいので、フィルターや脱気装置等を通した液を測定するのが好ましい。 Since the ultrasonic wave propagation velocity is easily affected by bubbles in the liquid, it is more preferable to perform the measurement in a pipe that is arranged vertically and has a flow velocity from below to above. The ultrasonic propagation velocity is preferably measured within a pressure range of 1 to 10 kg / cm 2 in the pipe, and the frequency of the ultrasonic wave is preferably 0.5 to 3 MHz. In addition, the measurement of the specific gravity, electrical conductivity, and ultrasonic wave propagation velocity is easily affected by temperature, so it is necessary to measure in a pipe that is in a heat-retaining state and the temperature fluctuation is controlled within ± 0.3 ° C. preferable. Furthermore, since it is preferable to measure the electrical conductivity and specific gravity, or the electrical conductivity and the propagation speed of ultrasonic waves at the same temperature, it is particularly preferable to measure in the same pipe or the same pipe flow. The pressure fluctuation at the time of measurement leads to the fluctuation of temperature, so it is preferable that the pressure fluctuation is as low as possible. Further, it is preferable that the flow velocity distribution in the pipe to be measured is as small as possible. Furthermore, since the measurement is easily influenced by slurry, dust, and bubbles, it is preferable to measure a liquid that has passed through a filter, a deaerator, or the like.

〔製版、印刷〕
本発明の平版印刷方法においては、上述した本発明の平版印刷版原版を、赤外線レーザーで画像様に露光する。
本発明に用いられる赤外線レーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適に挙げられる。赤外線レーザーの出力は、100mW以上であるのが好ましい。また、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
1画素あたりの露光時間は、20μ秒以内であるのが好ましい。また、照射エネルギー量は、10〜300mJ/cm2 であるのが好ましい。
[Plate making, printing]
In the planographic printing method of the present invention, the above-described planographic printing plate precursor of the present invention is exposed imagewise with an infrared laser.
Although the infrared laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser which radiate | emit infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm are mentioned suitably. The output of the infrared laser is preferably 100 mW or more. In order to shorten the exposure time, it is preferable to use a multi-beam laser device.
The exposure time per pixel is preferably within 20 μsec. Moreover, it is preferable that irradiation energy amount is 10-300 mJ / cm < 2 >.

本発明の平版印刷方法においては、上述したように、本発明の平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、なんらの現像処理工程を経ることなく油性インキと水性成分とを供給して印刷する。
具体的には、平版印刷版原版を赤外線レーザーで露光した後、現像処理工程を経ることなく印刷機に装着して印刷する方法、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上において赤外線レーザーで露光し、現像処理工程を経ることなく印刷する方法等が挙げられる。
In the lithographic printing method of the present invention, as described above, after exposing the lithographic printing plate precursor of the present invention imagewise with an infrared laser, an oil-based ink and an aqueous component are supplied without any development processing steps. Print.
Specifically, after exposing the lithographic printing plate precursor with an infrared laser, mounting it on a printing machine without passing through the development process, printing the lithographic printing plate precursor on the printing machine, Examples include a method of printing with an infrared laser and printing without going through a development process.

平版印刷版原版を赤外線レーザーで画像様に露光した後、湿式現像処理工程等の現像処理工程を経ることなく水性成分と油性インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された水性成分及び/又は油性インキによって、未硬化の画像記録層が溶解し又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。
その結果、水性成分は露出した親水性の表面に付着し、油性インキは露光領域の画像記録層に着肉し、印刷が開始される。ここで、最初に版面に供給されるのは、水性成分でもよく、油性インキでもよいが、水性成分が未露光部の画像記録層により汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給するのが好ましい。水性成分及び油性インキとしては、通常の平版印刷用の湿し水と印刷インキが用いられる。
このようにして、平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
〔実施例〕
After exposing the lithographic printing plate precursor imagewise with an infrared laser and supplying it with an aqueous component and oil-based ink without passing through a development process such as a wet development process, in the exposed part of the image recording layer, The image recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving portion having an oleophilic surface. On the other hand, in the unexposed portion, the uncured image recording layer is dissolved or dispersed and removed by the supplied aqueous component and / or oil-based ink, and a hydrophilic surface is exposed in that portion.
As a result, the aqueous component adheres to the exposed hydrophilic surface, and the oil-based ink is deposited on the image recording layer in the exposed area, and printing is started. Here, the water-based component or the oil-based ink may be supplied to the printing plate first, but the oil-based ink is first used to prevent the water-based component from being contaminated by the image recording layer in the unexposed area. It is preferable to supply. As the aqueous component and the oil-based ink, a dampening water for normal lithographic printing and a printing ink are used.
In this way, the lithographic printing plate precursor is subjected to on-press development on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.
〔Example〕

以下、実施例および比較例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although an example and a comparative example explain the present invention in detail, the present invention is not limited to these.

1.平版印刷版用支持体(アルミニウム支持体)の製造(支持体製造例1)
表1に示す組成Aの合金成分を含有するアルミニウム合金溶湯から本発明の実施例および比較例に用いるアルミニウム板を以下のようにして作製した。まず、アルミニウム合金溶湯に、脱ガスおよびろ過からなる溶湯処理を施し、DC鋳造法で厚さ500mmの鋳塊を作製した。得られた鋳塊の表面を10mm面削した後、鋳塊を加熱し、均熱化処理を行わずに400℃で熱間圧延を開始し、板厚4mmになるまで圧延した。つぎに、冷間圧延で厚さ1.5mmにし、中間焼鈍を行った後、再度冷間圧延で0.24mmに仕上げ、平面性を矯正して、アルミニウム板を得た。
1. Production of lithographic printing plate support (aluminum support) (support production example 1)
Aluminum plates used in Examples and Comparative Examples of the present invention were produced as follows from a molten aluminum alloy containing an alloy component of composition A shown in Table 1. First, a molten aluminum treatment including degassing and filtration was performed on the molten aluminum alloy, and an ingot having a thickness of 500 mm was produced by a DC casting method. After chamfering the surface of the obtained ingot by 10 mm, the ingot was heated, hot rolling was started at 400 ° C. without performing a soaking treatment, and rolling was performed until the plate thickness reached 4 mm. Next, after cold rolling to a thickness of 1.5 mm and intermediate annealing, it was finished again by cold rolling to 0.24 mm, flatness was corrected, and an aluminum plate was obtained.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

得られた組成Aのアルミニウム板について、下記に示す(1)〜(10)の手順で表面処理を行った。なお、各表面処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。水洗は、スプレー管から水を吹き付けて行った。   About the aluminum plate of the obtained composition A, surface treatment was performed in the procedure of (1)-(10) shown below. In addition, after each surface treatment and water washing, the liquid was removed with a nip roller. Water washing was performed by spraying water from a spray tube.

(1)機械的粗面化処理
比重1.12のケイ砂(研磨剤、平均粒径25μm)と水との懸濁液を研磨スラリー液として、スプレー管によってアルミニウム板の表面に供給しながら、ナイロンブラシが回転するブラシローラを用いて機械的粗面化処理を行った。使用したナイロンブラシの材質は6,10−ナイロンであり、毛長は50mmであり、毛の直径は0.48mmであった。このナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛されたものである。また、ブラシローラには、ナイロンブラシが3本使用されており、ブラシ下部に備えられた2本の支持ローラ(φ200mm)間の距離は300mmであった。上記ブラシローラは、ブラシを回転させる駆動モータの負荷を、ナイロンブラシがアルミニウム板に押さえつけられる前の負荷に対して管理し、粗面化後のアルミニウム板の平均算術粗さ(Ra )が0.45μmになるように押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。その後、水洗を行った。また、研磨剤の濃度は、あらかじめ研磨剤濃度と温度と比重との関係から作成したテーブルを参照し、温度および比重から研磨剤濃度を求め、フィードバック制御によって水と研磨剤とを添加し、上記研磨剤の濃度を一定に保った。また、研磨剤が粉砕して粒度が小さくなると粗面化されたアルミニウム板の表面形状が変化するので、サイクロンによって粒度の小さな研磨剤は系外に逐次排出した。研磨剤の粒径は1〜35μmの範囲であった。
(1) Mechanical surface roughening treatment While supplying a suspension of silica sand having a specific gravity of 1.12 (abrasive, average particle size 25 μm) and water as a polishing slurry liquid to the surface of the aluminum plate by a spray tube, A mechanical roughening treatment was performed using a brush roller with a rotating nylon brush. The material of the nylon brush used was 6,10-nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.48 mm. This nylon brush is formed by making a hole in a stainless steel tube of φ300 mm so as to be dense. Also, three nylon brushes were used for the brush roller, and the distance between the two support rollers (φ200 mm) provided at the lower part of the brush was 300 mm. The brush roller manages the load of the drive motor that rotates the brush with respect to the load before the nylon brush is pressed against the aluminum plate, and the average arithmetic roughness (R a ) of the aluminum plate after roughening is 0. It was pressed down to 45 μm. The rotating direction of the brush was the same as the moving direction of the aluminum plate. Then, it washed with water. In addition, the concentration of the abrasive is referred to a table prepared in advance from the relationship between the abrasive concentration, temperature and specific gravity, the abrasive concentration is obtained from the temperature and specific gravity, water and abrasive are added by feedback control, The concentration of the abrasive was kept constant. Moreover, since the surface shape of the roughened aluminum plate changes when the abrasive is pulverized to reduce the particle size, the abrasive having a small particle size is sequentially discharged out of the system by the cyclone. The particle size of the abrasive was in the range of 1 to 35 μm.

(2)アルカリエッチング処理
NaOH27質量%およびアルミニウムイオン6.5質量%を含有する液温70℃の水溶液をスプレー管によってアルミニウム板に吹き付けて、アルカリエッチング処理を行った。アルミニウム板の、後に電気化学的粗面化処理を行う面の溶解量は8g/m2 であり、その裏面の溶解量は2g/m2 であった。アルカリエッチング処理に用いたエッチング液の濃度は、あらかじめNaOH濃度と、アルミニウムイオン濃度と、温度と、比重と、液の導電率との関係から作成したテーブルを参照し、温度、比重、および導電率からエッチング液濃度を求め、フィードバック制御によって水と48質量%NaOH水溶液とを添加することにより一定に保った。その後、水洗を行った。
(2) Alkali etching treatment An aqueous solution containing 70% by weight NaOH and 6.5% by weight aluminum ion at a liquid temperature of 70 ° C. was sprayed onto the aluminum plate with a spray tube to perform an alkali etching process. The amount of dissolution of the surface of the aluminum plate to be subjected to subsequent electrochemical roughening treatment was 8 g / m 2 , and the amount of dissolution on the back surface was 2 g / m 2 . The concentration of the etching solution used for the alkali etching treatment is determined in advance by referring to a table created from the relationship between the NaOH concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the specific gravity, and the conductivity of the solution. Then, the concentration of the etching solution was obtained and kept constant by adding water and a 48 mass% NaOH aqueous solution by feedback control. Then, it washed with water.

(3)デスマット処理液温
35℃の硝酸水溶液をスプレーを用いてアルミニウム板に吹き付けて、10秒間デスマット処理を行った。硝酸水溶液は、次の工程で用いる電解装置からのオーバーフロー廃液を使用した。ついで、デスマット処理液を吹き付けるスプレー管を数カ所設置して、次の工程までアルミニウム板の表面が乾かないようにした。
(3) Desmutting solution temperature A 35 ° C. nitric acid aqueous solution was sprayed onto an aluminum plate using a spray to perform desmutting treatment for 10 seconds. As the nitric acid aqueous solution, the overflow waste liquid from the electrolyzer used in the next step was used. Next, several spray tubes for spraying the desmut treatment liquid were installed so that the surface of the aluminum plate was not dried until the next step.

(4)電気化学的粗面化処理
図1に示した台形波の交流電流と図2に示した電解装置2槽とを用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。酸性水溶液としては、硝酸1質量%の硝酸水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%およびアンモニウムイオン0.007質量%を含む。)を用いた。液温は50℃であった。また、交流電流は、電流値がゼロからカソードサイクル側およびアノードサイクル側のピークに達するまでの時間tpおよびtp´が1msecであり、カーボン電極を対極とした。交流電流のピーク時の電流密度は、アルミニウム板が陽極時および陰極時ともに50A/dm2 であり、交流電流の陰極時電気量(QC )と陽極時電気量(QA )との比(QC /QA )は0.95であり、duty比は0.50であり、周波数は60Hzであり、陽極時の電気量の総和は180C/dm2 であった。その後、スプレーによって水洗を行った。硝酸水溶液の濃度コントロールは、67質量%の硝酸原液と水とを、通電量に比例して添加し、硝酸と水との添加容積と同量の酸性水溶液(硝酸水溶液)を逐次電解装置からオーバーフローさせて電解装置系外に排出して行った。また、これとともに、あらかじめ硝酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と液の導電率と液の超音波伝搬速度との関係から作成したテーブルを参照し、硝酸水溶液の温度、導電率、超音波伝搬速度から該硝酸水溶液の濃度を求め、硝酸原液と水との添加量を逐次調整する制御を行って濃度を一定に保った。
(4) Electrochemical surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using the trapezoidal wave alternating current shown in FIG. 1 and the electrolyzer 2 tank shown in FIG. As the acidic aqueous solution, a nitric acid aqueous solution containing 1% by mass of nitric acid (including 0.5% by mass of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) was used. The liquid temperature was 50 ° C. The alternating current had a time tp and tp ′ of 1 msec from the current value reaching zero on the cathode cycle side and the anode cycle side, and the carbon electrode was the counter electrode. The current density at the peak of the alternating current is 50 A / dm 2 for both the anode and the cathode of the aluminum plate, and the ratio of the amount of electricity (Q C ) of the alternating current to the amount of electricity (Q C ) at the time of cathode (Q A ) Q C / Q A ) was 0.95, the duty ratio was 0.50, the frequency was 60 Hz, and the total amount of electricity at the time of anode was 180 C / dm 2 . Thereafter, washing with water was performed by spraying. Concentration control of nitric acid aqueous solution is done by adding 67% by mass of nitric acid stock solution and water in proportion to the amount of energization. And discharged outside the electrolyzer system. Along with this, referring to a table created in advance from the relationship between nitric acid concentration, aluminum ion concentration, temperature, liquid conductivity, and liquid ultrasonic propagation speed, the temperature, conductivity, and ultrasonic propagation speed of the aqueous nitric acid solution The concentration of the aqueous nitric acid solution was determined, and the concentration was kept constant by controlling the addition amount of the nitric acid stock solution and water sequentially.

(5)アルカリエッチング処理
NaOH26質量%およびアルミニウムイオン6.5質量%を含有する液温45℃の水溶液を、アルミニウム板にスプレーを用いて吹き付けて、アルカリエッチング処理を行った。アルミニウム板の溶解量は1g/m2 であった。エッチング液の濃度はあらかじめNaOH濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との関係から作成したテーブルを参照し、温度、比重および導電率からエッチング液濃度を求め、フィードバック制御によって水と48質量%NaOH水溶液とを添加して、一定に保った。その後、水洗を行った。
(5) Alkali Etching Treatment An aqueous solution containing 45% by weight NaOH and 6.5% by weight aluminum ion at a liquid temperature of 45 ° C. was sprayed onto the aluminum plate using a spray to perform alkali etching treatment. The dissolution amount of the aluminum plate was 1 g / m 2 . The concentration of the etching solution is determined in advance by referring to a table created from the relationship between the NaOH concentration, the aluminum ion concentration, the temperature, the specific gravity, and the conductivity of the solution. The concentration of the etching solution is obtained from the temperature, the specific gravity, and the conductivity. A 48% by weight aqueous NaOH solution was added to keep it constant. Then, it washed with water.

(6)酸性エッチング処理
硫酸(硫酸濃度300g/L、アルミニウムイオン濃度15g/L)を酸性エッチング液とし、これをスプレー管から80℃で7秒間アルミニウム板に吹き付けて、酸性エッチング処理を行った。酸性エッチング液の濃度は、あらかじめ硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との関係から作成したテーブルを参照して、温度、比重および導電率から酸性エッチング液濃度を求め、フィードバック制御によって水と50質量%硫酸とを添加して、一定に保った。その後、水洗を行った。
(6) Acidic etching treatment Acidic etching treatment was performed by using sulfuric acid (sulfuric acid concentration 300 g / L, aluminum ion concentration 15 g / L) as an acidic etching solution, and spraying this onto an aluminum plate at 80 ° C. for 7 seconds. The acid etchant concentration is determined by referring to a table created in advance from the relationship between sulfuric acid concentration, aluminum ion concentration, temperature, specific gravity, and liquid conductivity. Water and 50% by weight sulfuric acid were added under control to keep constant. Then, it washed with water.

(7)陽極酸化処理
シュウ酸濃度50g/Lの水溶液(アルミニウムイオン0.5質量%を含む。)を陽極酸化溶液として用いて、直流電圧を用い、電流密度12A/dm2 、温度50℃、30秒の条件でアルミニウム板の陽極酸化処理を行い、陽極酸化皮膜を形成した。陽極酸化処理液の濃度は、あらかじめシュウ酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との関係から作成したテーブルを参照して、温度、比重および導電率から液濃度を求め、フィードバック制御によって水と50質量%シュウ酸とを添加して、一定に保った。 その後、スプレーによって水洗を行った。
(7) Anodizing treatment An aqueous solution (containing 0.5% by mass of aluminum ions) having an oxalic acid concentration of 50 g / L was used as an anodizing solution, a direct current voltage was used, a current density of 12 A / dm 2 , a temperature of 50 ° C., Anodization of the aluminum plate was performed under the condition of 30 seconds to form an anodized film. As for the concentration of the anodizing solution, refer to the table created in advance from the relationship between the oxalic acid concentration, aluminum ion concentration, temperature, specific gravity, and liquid conductivity, obtain the liquid concentration from the temperature, specific gravity, and conductivity, and feed back Water and 50% by mass oxalic acid were added under control to keep constant. Thereafter, washing with water was performed by spraying.

(8)ポアワイド処理陽極酸化処理後のアルミニウム板をpH13のNaOH水溶液に
50℃で1分間浸せきして、ポアワイド処理を行った。その後、水洗を行った。
(8) Pore wide treatment The aluminum plate after the anodic oxidation treatment was immersed in a pH 13 NaOH aqueous solution at 50 ° C. for 1 minute to perform pore wide treatment. Then, it washed with water.

(9)無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液での処理
ポアワイド処理後のアルミニウム板を、フッ化ナトリウムおよび3号ケイ酸ナトリウムを濃度がそれぞれ0.1質量%および2.5質量%になるように純水を用いて調製した水溶液を用いて、100℃で10秒間浸せきした。その後、水洗を行った。
(9) Treatment with an aqueous solution containing an inorganic fluorine compound and a silicate compound The aluminum plate after the pore-wide treatment was treated with sodium fluoride and No. 3 sodium silicate at concentrations of 0.1% by mass and 2.5% by mass, respectively. Then, using an aqueous solution prepared using pure water, the sample was immersed at 100 ° C. for 10 seconds. Then, it washed with water.

(10)親水性表面処理
3号ケイ酸ナトリウム濃度2.5質量%の水溶液で70℃で12秒間処理して、親水性表面処理を行った。
その後、水洗し、乾燥して、アルミニウム支持体1を得た。
(10) Hydrophilic surface treatment No. 3 sodium silicate was treated with an aqueous solution having a concentration of 2.5% by mass at 70 ° C. for 12 seconds to carry out a hydrophilic surface treatment.
Thereafter, it was washed with water and dried to obtain an aluminum support 1.

(支持体製造例2〜3)
上記(9)無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液での処理における諸条件を表2のように変更したこと以外は、支持体製造例1と同様の方法により、アルミニウム支持体2〜3を得た。
(Support Production Examples 2-3)
(9) Except that the conditions in the treatment with the aqueous solution containing the inorganic fluorine compound and the silicate compound were changed as shown in Table 2, the same procedure as in Support Production Example 1 was followed. 3 was obtained.

Figure 2005186504
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(比較例用支持体製造例1)
上記(9)無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液での処理の代わりに、下記(R1)を行なった以外は、支持体製造例1と同様の方法により、比較例用支持体1を得た。
(R1)ポワワイド処理後のアルミニウム板を、3号ケイ酸ナトリウムを濃度が5.0質量%になるように純水を用いて調整した水溶液を用いて、100℃で10秒間浸漬した。その後、水洗を行なった。
(Comparative Example Support Production Example 1)
Support for Comparative Example 1 in the same manner as in Support Production Example 1 except that the following (R1) was performed instead of the treatment with the aqueous solution containing (9) inorganic fluorine compound and silicate compound. Got.
(R1) The aluminum plate after the Poi wide treatment was immersed for 10 seconds at 100 ° C. using an aqueous solution prepared by using No. 3 sodium silicate with pure water so that the concentration was 5.0% by mass. Then, it washed with water.

(比較例用支持体製造例2)
上記(9)無機フッ素化合物とケイ酸化合物とを含有する水溶液での処理の代わりに、下記(R2)を行なった以外は、支持体製造例1と同様の方法により、比較例用支持体2を得た。
(R2)ポワワイド処理後のアルミニウム板を、フッ化ナトリウムを濃度が0.1質量%になるように純水を用いて調整した水溶液を用いて、50℃で10秒間浸漬した。その後、水洗を行なった。
(Comparative Example Support Production Example 2)
Support for Comparative Example 2 in the same manner as in Support Production Example 1 except that the following (R2) was performed instead of the treatment with the aqueous solution containing (9) inorganic fluorine compound and silicate compound. Got.
(R2) The aluminum plate after the Poiwide treatment was immersed for 10 seconds at 50 ° C. using an aqueous solution prepared by using pure water so that the concentration of sodium fluoride was 0.1% by mass. Then, it washed with water.

2.X線光電子分光法による測定
上記で得られた支持体1〜3ならびに比較例用支持体1〜2について、X線光電子分光法(ESCA、Electron Spectroscopy Chemical Analysis)を行なった。ESCAの条件を以下に示す。
装置:ESCA PHI−5400MC、アルバック・ファイ社製
X線源:Mg−Kα(400W)
パルスエネルギー:71.55eV/178.95eV
take off angle:45度
2. Measurement by X-ray photoelectron spectroscopy The supports 1 to 3 and the supports 1 to 2 for comparative examples obtained above were subjected to X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA, Electron Spectroscopic Chemical Analysis). The conditions of ESCA are shown below.
Apparatus: ESCA PHI-5400MC, ULVAC-PHI, Inc. X-ray source: Mg-Kα (400 W)
Pulse energy: 71.55 eV / 178.95 eV
take off angle: 45 degrees

得られたフッ素(1S)、ケイ素(2P)およびアルミニウム(2P)のピーク面積から、上記(1)式における(A+B)/(A+B+C)の値を算出した。結果を表2に示した。   From the peak areas of the obtained fluorine (1S), silicon (2P) and aluminum (2P), the value of (A + B) / (A + B + C) in the above formula (1) was calculated. The results are shown in Table 2.

3.平版印刷版原版の作製
(実施例1)
上記で得られたアルミニウム支持体1に、特定共重合体の具体例No.2で示される共重合体(x/y=80/20、質量平均分子量15000)のメタノール溶液をと塗布した後、70℃60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量5mg/m2の下塗り層を形成した。
引き続いて、下記組成の画像記録層塗布液(1)を塗布し、オーブンにて70℃で60秒間乾燥して、乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版原版を得た。
3. Preparation of planographic printing plate precursor (Example 1)
The specific example No. of the specific copolymer was added to the aluminum support 1 obtained above. 2 and a methanol solution of the copolymer (x / y = 80/20, mass average molecular weight 15000), and then oven-dried at 70 ° C. for 60 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 5 mg / m 2. Formed.
Subsequently, an image recording layer coating solution (1) having the following composition was applied and dried in an oven at 70 ° C. for 60 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor having a dry coating amount of 0.8 g / m 2 .

画像記録層塗布液(1)
・水 100g
・下記のマイクロカプセル(1)(固形分換算で) 5g
・下記の重合開始剤(1) 0.5g
・下記のフッ素系界面活性剤(1) 0.2g
Image recording layer coating solution (1)
・ Water 100g
・ The following microcapsule (1) (in terms of solid content) 5 g
-0.5 g of the following polymerization initiator (1)
・ 0.2 g of the following fluorosurfactant (1)

Figure 2005186504
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(マイクロカプセル(1)の合成)
油相成分として、トリメチロールプロパンとキシレンジイソシアナート付加体(三井武田ケミカル(株)製、タケネートD−110N)10g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、SR444)3.15g、下記の赤外線吸収剤(1)0.35g、及びパイオニンA−41C(竹本油脂(株)製) 0.1gを酢酸エチル17gに溶解した。水相成分としてPVA−205の4質量%水溶液40gを調製した。油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を、蒸留水25gに添加し、室温で30分攪拌後、40℃で3時間攪拌した。このようにして得られたマイクロカプセル液の固形分濃度を、20質量%になるように蒸留水を用いて希釈した。平均粒径はいずれも0.3μmであった。
(Synthesis of microcapsule (1))
As an oil phase component, trimethylolpropane and xylene diisocyanate adduct (Mitsui Takeda Chemical Co., Ltd., Takenate D-110N) 10 g, pentaerythritol triacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd., SR444) 3.15 g, The following infrared absorber (1) 0.35 g and Pionein A-41C (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) 0.1 g were dissolved in 17 g of ethyl acetate. As an aqueous phase component, 40 g of a 4% by mass aqueous solution of PVA-205 was prepared. The oil phase component and the aqueous phase component were mixed and emulsified for 10 minutes at 12000 rpm using a homogenizer. The obtained emulsion was added to 25 g of distilled water, stirred at room temperature for 30 minutes, and then stirred at 40 ° C. for 3 hours. The microcapsule solution thus obtained was diluted with distilled water so that the solid content concentration became 20% by mass. All of the average particle diameters were 0.3 μm.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

(実施例2〜10、比較例1〜4)
実施例1において、アルミニウム支持体1および特定共重合体の具体例No.2で表される化合物を表3のように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、平版印刷版用原版を得た。
(Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 4)
In Example 1, specific examples of the aluminum support 1 and the specific copolymer No. A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the compound represented by 2 was changed as shown in Table 3.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

(実施例11)
上記で作成したアルミニウム支持体1上に、特定共重合体の具体例No.43で表される化合物(x/y=80/20、重量平均分子量25000)のメタノール溶液を塗布した後、70℃、30秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量5mg/m2の下塗層を形成した。
引き続いて、下記組成の画像記録層塗布液(2)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成して平版印刷版用原板を得た。
(Example 11)
On the aluminum support 1 prepared above, specific examples No. After applying a methanol solution of the compound represented by No. 43 (x / y = 80/20, weight average molecular weight 25000), it was oven-dried at 70 ° C. for 30 seconds to form an undercoat layer having a dry coating amount of 5 mg / m 2. Formed.
Subsequently, an image recording layer coating solution (2) having the following composition was applied to the bar and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 1.0 g / m 2. An original plate was obtained.

画像記録層塗布液(2)
・下記の赤外線吸収剤(2) 0.05g
・上記の重合開始剤(1) 0.2g
・下記のバインダーポリマー(1) 0.5g
(平均分子量8万)
・重合性化合物 1.0g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・上記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 18.0g
Image recording layer coating solution (2)
・ The following infrared absorber (2) 0.05 g
・ 0.2 g of the above polymerization initiator (1)
・ The following binder polymer (1) 0.5 g
(Average molecular weight 80,000)
・ Polymerizable compound 1.0g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
・ 0.1 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 18.0g

Figure 2005186504
Figure 2005186504

(実施例12〜20、比較例5〜8)
実施例11において、アルミニウム支持体1、及び特定共重合体の具体例No.43で表される化合物を、表4のように変更したこと以外は、実施例11と同様にして、平版印刷版用原版を得た。
(Examples 12-20, Comparative Examples 5-8)
In Example 11, specific examples of the aluminum support 1 and the specific copolymer No. A lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 11 except that the compound represented by 43 was changed as shown in Table 4.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

(実施例21)
上記で得られたアルミニウム支持体1に、下記組成の画像記録層塗布液(3)を塗布し、オーブンにて70℃で60秒間乾燥して、乾燥塗布量0.8g/m2の平版印刷版原版を得た。
(Example 21)
An image recording layer coating solution (3) having the following composition is applied to the aluminum support 1 obtained as described above, and dried in an oven at 70 ° C. for 60 seconds to provide a lithographic printing with a dry coating amount of 0.8 g / m 2 . I got the original version.

画像記録層塗布液(3)
・水 100g
・前記のマイクロカプセル(1)(固形分換算で) 5g
・特定共重合体の具体例No.65で示される共重合体
(x/y/z=40/30/30、質量平均分子量9000) 0.06g
・前記の重合開始剤(1) 0.5g
・前記のフッ素系界面活性剤(1) 0.2g
Image recording layer coating solution (3)
・ Water 100g
・ The above microcapsule (1) (in terms of solid content) 5 g
-Specific examples of specific copolymers No. A copolymer represented by 65 (x / y / z = 40/30/30, weight average molecular weight 9000) 0.06 g
・ 0.5 g of the above polymerization initiator (1)
・ 0.2 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)

(実施例22)
上記で作成したアルミニウム支持体2上に、下記組成の画像記録層塗布液(4)をバー塗布した後、100℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量1.0g/m2の画像記録層を形成して平版印刷版用原板を得た。
(Example 22)
An image recording layer coating solution (4) having the following composition is bar-coated on the aluminum support 2 prepared above, and then oven-dried at 100 ° C. for 60 seconds to obtain an image recording with a dry coating amount of 1.0 g / m 2 . A layer was formed to obtain an original plate for a lithographic printing plate.

画像記録層塗布液(4)
・前記の赤外線吸収剤(2) 0.05g
・前記の重合開始剤(1) 0.2g
・前記のバインダーポリマー(1) 0.5g
(平均分子量8万)
・重合性化合物 1.0g
イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート
(新中村化学工業(株)製、NKエステルM−315)
・特定共重合体の具体例No.68で示される共重合体
(x/y/z=40/30/30、質量平均分子量9000) 0.025g
・前記のフッ素系界面活性剤(1) 0.1g
・メチルエチルケトン 18.0g
Image recording layer coating solution (4)
・ 0.05 g of the above infrared absorber (2)
・ 0.2 g of the above polymerization initiator (1)
・ Binder polymer (1) 0.5g
(Average molecular weight 80,000)
・ Polymerizable compound 1.0g
Isocyanuric acid EO-modified triacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester M-315)
-Specific examples of specific copolymers No. 68 (x / y / z = 40/30/30, weight average molecular weight 9000) 0.025 g
・ 0.1 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)
・ Methyl ethyl ketone 18.0g

(実施例23)
上記で作成した支持体2上に、特定共重合体の具体例No.66で表される化合物(x/y/z=30/40/30、重量平均分子量15000)のメタノール溶液を塗布した後、70℃、30秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量5mg/m2の下塗層を形成した。
引き続いて、下記組成の画像記録層塗布液(5)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.8g/m2の画像記録層を形成して平版印刷版用原板を得た。
(Example 23)
On the support 2 prepared above, specific examples No. of specific copolymers are listed. After applying a methanol solution of the compound represented by No. 66 (x / y / z = 30/40/30, weight average molecular weight 15000), oven-dried at 70 ° C. for 30 seconds and under a dry coating amount of 5 mg / m 2 A coating layer was formed.
Subsequently, an image recording layer coating solution (5) having the following composition was bar coated, followed by oven drying at 70 ° C. for 60 seconds to form an image recording layer having a dry coating amount of 0.8 g / m 2. An original plate was obtained.

画像記録層塗布液(5)
・水 40g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 50g
・メチルエチルケトン 10g
・下記の赤外線吸収剤(3) 0.15g
・下記の親油性バインダーポリマー(2) 0.5g
(平均分子量8万)
・前記のマイクロカプセル(1)(固形分換算で) 5g
・前記の重合開始剤(1) 0.5g
・前記のフッソ系界面活性剤(1) 0.1g
Image recording layer coating solution (5)
・ Water 40g
・ Propylene glycol monomethyl ether 50g
・ Methyl ethyl ketone 10g
・ The following infrared absorber (3) 0.15 g
・ The following lipophilic binder polymer (2) 0.5 g
(Average molecular weight 80,000)
・ The above microcapsule (1) (in terms of solid content) 5 g
・ 0.5 g of the above polymerization initiator (1)
・ 0.1 g of the above-mentioned fluorosurfactant (1)

Figure 2005186504
Figure 2005186504

4.露光および印刷
得られた平版印刷版原版を水冷式40W赤外線半導体レーザ搭載のCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像には細線チャートを含むようにした。得られた露光済み原版を現像処理することなく、ハイデルベルグ社製印刷機SOR−Mのシリンダーに取り付けた。湿し水(EU−3(富士写真フイルム(株)製エッチ液)/水/イソプロピルアルコール=1/89/10(容量比))とTRANS−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、湿し水とインクを供給した後、毎時6000枚の印刷速度で印刷を100枚行った。
画像記録層の未露光部の印刷機上での機上現像が完了し、印刷用紙にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測したところ、いずれの平版印刷版原版を用いた場合も、100枚以内で非画像部の汚れのない印刷物が得られた。
4). Exposure and Printing The obtained lithographic printing plate precursor was exposed with a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 9 W, an outer drum rotating speed of 210 rpm, and a resolution of 2400 dpi. The exposure image includes a thin line chart. The exposed exposed original plate was attached to a cylinder of a printing machine SOR-M manufactured by Heidelberg without developing. Dampening solution (EU-3 (Etch solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) / Water / isopropyl alcohol = 1/89/10 (volume ratio)) and TRANS-G (N) black ink (Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) After supplying dampening water and ink, 100 sheets were printed at a printing speed of 6000 sheets per hour.
When the on-press development of the unexposed part of the image recording layer was completed on the printing press and the number of printing papers required until the ink was not transferred to the printing paper was measured as on-press developability, Even when the planographic printing plate precursor was used, a printed matter having no stain on the non-image area was obtained within 100 sheets.

5.評価
上記印刷試験においては、地汚れ、細線再現性および耐刷性を以下の方法により評価した。それぞれの結果を表5に示した。
(1)地汚れ
印刷試験において、印刷機の水目盛りを調整し、地汚れの生じる水目盛りにより地汚れを評価した。地汚れの生じる水目盛りが2未満である場合を○、2以上3未満である場合を△、3以上4未満である場合を△×、4以上である場合を×とした。
5). Evaluation In the above printing test, background stain, fine line reproducibility and printing durability were evaluated by the following methods. The respective results are shown in Table 5.
(1) Soil stain In the printing test, the water scale of the printing press was adjusted, and the soil stain was evaluated based on the water scale where the soil stain occurred. The case where the water scale where soiling occurs is less than 2, ◯, the case where it is 2 or more and 3 or less, Δ, the case where it is 3 or more and less than 4, Δ, or the case where it is 4 or more.

(2)細線再現性
一般に、ネガ型平版印刷版原版の場合、露光量が少ないと画像記録層(感光層)の硬化度が低くなり、露光量が多いと硬化度が高くなる。画像記録層の硬化度が低すぎる場合には、平版印刷版の耐刷性が低くなり、また、小点や細線の再現性が不良となる。一方、画像記録層の硬化度が高い場合には、耐刷性が高くなり、また、小点や細線の再現性が良好となる。
本実施例では、以下に示すように、上記で得られたネガ型平版印刷版原版を、上述した同一の露光量条件で耐刷性および細線再現性を評価することにより、平版印刷版原版の感度の指標とした。即ち、耐刷性における印刷枚数が高いほど、また、細線再現性における細線幅が細いほど、平版印刷版原版の感度が高いと言える。
(2) Fine line reproducibility Generally, in the case of a negative lithographic printing plate precursor, when the exposure amount is small, the degree of cure of the image recording layer (photosensitive layer) is low, and when the amount of exposure is large, the degree of cure is high. When the image recording layer has a too low degree of curing, the printing durability of the lithographic printing plate becomes low, and the reproducibility of small dots and fine lines becomes poor. On the other hand, when the degree of cure of the image recording layer is high, the printing durability is high, and the reproducibility of small dots and fine lines is good.
In this example, as shown below, the negative lithographic printing plate precursor obtained as described above was evaluated for printing durability and fine line reproducibility under the same exposure amount conditions described above. It was used as an index of sensitivity. That is, it can be said that the sensitivity of the lithographic printing plate precursor is higher as the number of printed sheets in printing durability is higher and the fine line width in fine line reproducibility is thinner.

上述したように、100枚印刷して非画像部にインキ汚れがない印刷物が得られたことを確認した後、続けて500枚の印刷を行った。合計600枚目の印刷物の細線チャート(10、12、14、16、18、20、25、30、35、40、60、80、100および200μmの細線を露光したチャート)を25倍のルーペで観察し、途切れることなくインキで再現された細線幅により、細線再現性を評価した。結果を表5に示す。   As described above, after 100 sheets were printed and it was confirmed that a printed matter having no ink stains in the non-image area was obtained, 500 sheets were continuously printed. A thin line chart (10, 12, 14, 16, 18, 20, 25, 30, 35, 40, 60, 80, 100 and 200 μm fine line exposed charts) of a total of 600 printed sheets with a 25X magnifier The fine line reproducibility was evaluated by observing and the fine line width reproduced with ink without interruption. The results are shown in Table 5.

(3)耐刷性
上述したように、細線再現性の評価において印刷を行った後、更に印刷を続けた。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗しインキ受容性が低下するため、印刷用紙におけるインキ濃度が低下した。インキ濃度(反射濃度)が印刷開始時よりも0.1低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。結果を表5に示す。
(3) Printing durability As described above, after printing was performed in the evaluation of fine line reproducibility, printing was further continued. As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out and the ink acceptability was lowered, so that the ink density in the printing paper was lowered. Printing durability was evaluated by the number of printed sheets when the ink density (reflection density) was reduced by 0.1 from the start of printing. The results are shown in Table 5.

Figure 2005186504
Figure 2005186504

表5から、本発明の平版印刷版原版(実施例1〜23)は、地汚れが発生しにくく、機上現像性、細線再現性および耐刷性に優れることが分かる。   From Table 5, it can be seen that the lithographic printing plate precursors (Examples 1 to 23) of the present invention are less likely to cause background stains and are excellent in on-press developability, fine line reproducibility and printing durability.

本発明に好適に用いられる交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いる台形波の一例を示す波形図である。It is a wave form diagram which shows an example of the trapezoid wave used for the electrochemical roughening process using the alternating current used suitably for this invention. 本発明に好適に用いられる電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process suitably used for this invention.

符号の説明Explanation of symbols

11 アルミニウム板
12 ラジアルドラムローラ
13a、13b 主極
14 酸性水溶液
15 溶液供給口
16 スリット
17 溶液通路
18 補助陽極
19a、19b サイリスタ
20 交流電源
21 主電解槽
22 補助陽極槽
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Aluminum plate 12 Radial drum roller 13a, 13b Main electrode 14 Acidic aqueous solution 15 Solution supply port 16 Slit 17 Solution path 18 Auxiliary anode 19a, 19b Thyristor 20 AC power source 21 Main electrolytic cell 22 Auxiliary anode cell

Claims (6)

表面が下記式(1)を満たす親水性支持体上に、画像記録層を有し、該画像記録層またはその他の層に少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位とを有する共重合体を含む平版印刷版原版。
0.30≦(A+B)/(A+B+C)≦0.90 (1)
A:X線光電子分光法を用いて測定して得られるフッ素(1S)のピーク面積(counts・eV/sec)
B:X線光電子分光法を用いて測定して得られるケイ素(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
C:X線光電子分光法を用いて測定して得られるアルミニウム(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
A repeating unit having an image recording layer on a hydrophilic support whose surface satisfies the following formula (1), and containing at least one (a1) ethylenically unsaturated bond in the image recording layer or other layer; (A2) A lithographic printing plate precursor comprising a copolymer having a repeating unit containing at least one functional group that interacts with the support surface.
0.30 ≦ (A + B) / (A + B + C) ≦ 0.90 (1)
A: Peak area of fluorine (1S) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
B: Peak area of silicon (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
C: Peak area of aluminum (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
前記共重合体が親水性部分を有する共重合体である請求項1に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the copolymer is a copolymer having a hydrophilic portion. 前記共重合体が、前記親水性支持体と画像記録層との間に設けられた下塗層に含まれる請求項1または2に記載の平版印刷版原版。   The lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the copolymer is contained in an undercoat layer provided between the hydrophilic support and the image recording layer. 表面が下記式(1)を満たす親水性支持体上に、画像記録層を有し、該画像記録層またはその他の層に少なくとも(a1)エチレン性不飽和結合を少なくとも1つ含有する繰り返し単位と(a2)支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも1つ含有する繰り返し単位とを有する共重合体を含む平版印刷版原版を、印刷機に装着し、赤外線レーザーで画像様に露光した後、又は、赤外線レーザーで画像様に露光した後、印刷機に装着し、該平版印刷版原版に、印刷インキと湿し水とを供給して、該画像記録層の赤外線未露光部分を除去し、印刷する平版印刷方法。
0.30≦(A+B)/(A+B+C)≦0.90 (1)
A:X線光電子分光法を用いて測定して得られるフッ素(1S)のピーク面積(counts・eV/sec)
B:X線光電子分光法を用いて測定して得られるケイ素(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
C:X線光電子分光法を用いて測定して得られるアルミニウム(2P)のピーク面積(counts・eV/sec)
A repeating unit having an image recording layer on a hydrophilic support whose surface satisfies the following formula (1), and containing at least one (a1) ethylenically unsaturated bond in the image recording layer or other layer; (A2) A lithographic printing plate precursor comprising a copolymer having a repeating unit containing at least one functional group that interacts with the support surface is mounted on a printing press and imagewise exposed with an infrared laser. Alternatively, after imagewise exposure with an infrared laser, it is attached to a printing machine, and the lithographic printing plate precursor is supplied with printing ink and fountain solution to remove the infrared unexposed portion of the image recording layer, A planographic printing method for printing.
0.30 ≦ (A + B) / (A + B + C) ≦ 0.90 (1)
A: Peak area of fluorine (1S) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
B: Peak area of silicon (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
C: Peak area of aluminum (2P) obtained by measurement using X-ray photoelectron spectroscopy (counts · eV / sec)
前記共重合体が親水性部分を有する共重合体である請求項4に記載の平版印刷方法。   The lithographic printing method according to claim 4, wherein the copolymer is a copolymer having a hydrophilic portion. 前記共重合体が、前記親水性支持体と画像記録層との間に設けられた下塗層に含まれる請求項4または5に記載の平版印刷方法。   The lithographic printing method according to claim 4 or 5, wherein the copolymer is contained in an undercoat layer provided between the hydrophilic support and the image recording layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2018123984A1 (en) * 2016-12-28 2018-07-05 株式会社Uacj Heat exchanger and manufacturing method therefor

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