JP2005182923A - Optical axis correction apparatus and optical disk master disk exposure apparatus - Google Patents

Optical axis correction apparatus and optical disk master disk exposure apparatus Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical disk master disk exposure apparatus where the optical image of laser beams condensed on an optical disk master disk is kept to be optimal, and micronized pits or grooves are formed. <P>SOLUTION: In the optical disk master disk exposure apparatus 300 having an optical axis correction apparatus 100 for correcting the deviation of the optical axis of a laser beams emitted from a laser generator 1, the optical axis correction apparatus 100 is provided with a movable mirror 2, a first optical detector 6 (near point sensor) for detecting the deviation of a movable beam splitter 4 and the optical axis, a convex lens 32 arranged between the movable beam splitter 4 and the first optical detector 6, and a second optical detector 9 (far point sensor) for detecting the deviation of the optical axis at downstream side of the movable beam splitter 4. When the intersection of the movable beam splitter 4 and the optical axis of a branched laser beam is set to be an object point to the convex lens 32, the movable mirror 2 and the movable beam splitter 4 are driven by a moving amount and a moving direction by which the positional deviation of the optical axis is eliminated so as to arrange the image point of the convex lens 32 on the first optical detector 6 (near point sensor). Thus, the deviation of the optical axis of the laser beam is corrected. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光ディスク用原盤露光装置等に関し、より詳しくは、上流の光軸の変動を吸収し下流の光軸を一定に保つ光ディスク用原盤露光装置等に関する。   The present invention relates to an optical disk master exposure apparatus and the like, and more particularly to an optical disk master exposure apparatus that absorbs fluctuations in the upstream optical axis and keeps the downstream optical axis constant.

近年、光ディスクの高密度化に伴い、記録再生用レーザ光の発振波長の更なる短波長化が進められ、現在のＤＶＤに用いられている波長６４０ｎｍ〜６８０ｎｍの半導体レーザ光に代えて、４０５ｎｍのレーザ光を用いて記録再生可能な光記録媒体へと開発が進められている。このような光ディスクの高密度化に伴い、光ディスク用原盤を形成するマスタリング工程において、ビーム径が絞られた露光レーザビームを、ガラス原盤上に塗布されたフォトレジストに照射し、ピットやグルーブを微細化する技術が行われている。露光レーザビームのビーム径を絞るには、レーザ光波長（λ）を短波長化し、集光レンズの開口数（ＮＡ）を増大させる方法が採用されている。   In recent years, with the increase in the density of optical discs, the oscillation wavelength of recording / reproducing laser light has been further shortened. Instead of the semiconductor laser light having a wavelength of 640 nm to 680 nm used in current DVDs, Development is progressing to an optical recording medium capable of recording / reproducing using laser light. Along with the increase in the density of optical discs, in the mastering process for forming an optical disc master, an exposure laser beam with a reduced beam diameter is irradiated onto the photoresist coated on the glass master to finely form pits and grooves. Technology is being developed. In order to reduce the beam diameter of the exposure laser beam, a method of shortening the laser light wavelength (λ) and increasing the numerical aperture (NA) of the condenser lens is employed.

光ディスク用原盤のマスタリング工程においては、ガラス原盤に塗布されたフォトレジストに照射される露光レーザ光の露光量が厳密に管理されることにより、光ディスク用原盤上に形成されるピットやグルーブの溝幅が制御されている。特に、高密度記録を可能にした光ディスクでは、ピットやグルーブの微細化が進行し、信号のノイズを低減させる目的で溝幅を厳密に制御する必要性が高まっている。さらに、予め記録される情報量が飛躍的に増大されたことにより、露光時間の延長が免れられるものとなり、長時間に亘って、レーザ出力を一定に保つ必要性が増している。このため、レーザ光の光軸のわずかな変動に起因して、集光レンズを通過する光量が変動すると、高密度記録を目的とした光ディスクの製造には大きな障害となる。このようなレーザ光の光軸のずれを補正する方法としては、例えば、光軸上に可動部を有するミラーを設けた原盤露光装置が報告されている（特許文献１及び特許文献２参照）。   In the mastering process of the optical disc master, the exposure laser beam exposure to the photoresist applied to the glass master is strictly controlled, so that the groove width of the pits and grooves formed on the optical disc master Is controlled. In particular, in an optical disc that enables high-density recording, pits and grooves have become finer, and the need to strictly control the groove width is increasing for the purpose of reducing signal noise. Furthermore, since the amount of information recorded in advance is drastically increased, the extension of the exposure time is avoided, and the need to keep the laser output constant for a long time is increasing. For this reason, if the amount of light passing through the condenser lens fluctuates due to slight fluctuations in the optical axis of the laser beam, it becomes a major obstacle to the manufacture of an optical disc for high-density recording. As a method for correcting such a deviation of the optical axis of the laser beam, for example, a master exposure apparatus provided with a mirror having a movable part on the optical axis has been reported (see Patent Document 1 and Patent Document 2).

特開平９−６３０７９号公報（段落００１９〜段落００２５参照）JP-A-9-63079 (see paragraphs 0019 to 0025) 特開平４−４９５２７号公報（実施例の欄参照）Japanese Patent Laid-Open No. 4-49527 (refer to the column of Examples)

ところで、最近は、露光レーザビームのビーム径を絞る方法において、集光レンズのＮＡ（開口数）が０．９程度に高められ、これ以上の高ＮＡ（開口数）化が困難であることから、レーザ光源の短波長化がさらに加速されている。特に、波長が４０５ｎｍの青色レーザ光を使用する高密度記録を可能にした光ディスクの原盤を作成するには、例えば、アルゴンレーザの発振線の一つである波長５１４ｎｍのレーザ光を、ＢＢＯ（ＢａＢ２Ｏ４）等の非線形光学素子に通して、波長が２５７ｎｍの第２高調波を発生させ、これを露光レーザビームとして使用する方法が行われている。 Recently, in the method of reducing the beam diameter of the exposure laser beam, the NA (numerical aperture) of the condenser lens is increased to about 0.9, and it is difficult to increase the NA (numerical aperture) beyond this. The shortening of the wavelength of the laser light source is further accelerated. In particular, in order to produce an optical disc master capable of high-density recording using a blue laser beam having a wavelength of 405 nm, for example, a laser beam having a wavelength of 514 nm, which is one of the oscillation lines of an argon laser, is used as BBO (BaB A method of generating a second harmonic having a wavelength of 257 nm through a nonlinear optical element such as 2 O 4 ) and using the second harmonic as an exposure laser beam has been performed.

このような第２高調波の発生を利用する短波長レーザ（ＳＨＧレーザ）は、非線形光学結晶が温度変化等の種々の条件により、出射角度や位置が経時的に変化するため、光学系の下流に設けられた光学素子や開口部における透過率を一定に保つことが難しいとされている。例えば、出射角度や位置が変化することにより、下流に設けた露光レンズの透過量は５％〜２０％程度低下する。また、非線形光学素子は、他の光学素子と比較して寿命が短い傾向があるため、アルゴンレーザ等の基本波を結像させる表面上のポイントを頻繁に移動する必要がある。その結果、発生する第２高調波の出射角度や位置が変動し、光学系の下流に設けられた光学素子の配置を調整しないと、露光レンズの透過量は２０％〜６０％程度低下する。   Such a short wavelength laser (SHG laser) using the generation of the second harmonic causes the nonlinear optical crystal to change with time due to various conditions such as temperature change, so that the downstream of the optical system. It is difficult to keep the transmittance at the optical element and the opening provided in the aperture constant. For example, when the emission angle and position change, the transmission amount of the exposure lens provided downstream is reduced by about 5% to 20%. In addition, since nonlinear optical elements tend to have a shorter lifetime than other optical elements, it is necessary to frequently move points on the surface on which a fundamental wave such as an argon laser is imaged. As a result, the emission angle and position of the generated second harmonic change, and unless the arrangement of the optical element provided downstream of the optical system is adjusted, the transmission amount of the exposure lens decreases by about 20% to 60%.

ところが、特許文献１等で報告されているような、光軸上に設けた可動部を有するミラーを備えた原盤露光装置では、レーザ発振器からの出射角度や位置が変動するＳＨＧレーザを使用する場合は、レーザ光の光軸のずれを十分に補正できないことが判明した。
図４は、従来の可動部を有するミラーを備えた原盤露光装置を説明する図である。図４に示した原盤露光装置４００は、露光用のレーザ光を射出するレーザ発生装置１と、レーザ光軸上に設けられミラー駆動部３を備えた可動式ミラー２と、ビームスプリッター駆動部５を備えた可動式ビームスプリッター４と、可動式ビームスプリッター４により分岐されたレーザ光の照射位置の変動を検出する第１光検出器６と、ビームスプリッター７により分岐されミラー８を経てレーザ光の照射角度の変動を検出する第２光検出器９と、第１光検出器６及び第２光検出器９の出力信号から所定の演算を実行する演算部１０と、レーザ光の光束を２つに分離するビームスプリッター１１と、ガラス原盤２３への照射タイミングを調整する第１音響光学（ＡＯ）変調器１３及び第２音響光学（ＡＯ）変調器１４と、グルーブに所定のウォブル情報を付与する第１音響光学（ＡＯ）偏向器１７及び第２音響光学（ＡＯ）偏向器１８と、１／２波長板３５と、ビームスプリッター１１により２つに分離された光束を１つにまとめる偏光ビームスプリッター２０と、ガラス原盤２３に照射されるレーザ光を集光する露光レンズ２２と、ガラス原盤２３を回転するターンテーブル２４と、ターンテーブル２４の回転機構部２５と、を有する。 However, in the master exposure apparatus provided with a mirror having a movable part provided on the optical axis as reported in Patent Document 1 or the like, when an SHG laser whose emission angle and position from the laser oscillator vary is used. It has been found that the deviation of the optical axis of the laser beam cannot be corrected sufficiently.
FIG. 4 is a diagram for explaining a master exposure apparatus provided with a conventional mirror having a movable part. A master exposure apparatus 400 shown in FIG. 4 includes a laser generator 1 that emits a laser beam for exposure, a movable mirror 2 that is provided on the laser optical axis and includes a mirror drive unit 3, and a beam splitter drive unit 5. , A movable beam splitter 4, a first photodetector 6 that detects a change in the irradiation position of the laser beam branched by the movable beam splitter 4, and a beam splitter 7 that is branched by the beam splitter 7 to pass the laser beam. A second light detector 9 that detects a change in the irradiation angle, a calculation unit 10 that executes a predetermined calculation from the output signals of the first light detector 6 and the second light detector 9, and two light beams of laser light. A beam splitter 11 that divides into two, a first acousto-optic (AO) modulator 13 and a second acousto-optic (AO) modulator 14 that adjust the irradiation timing to the glass master 23, and a predetermined wall in the groove. The first acousto-optic (AO) deflector 17 and the second acousto-optic (AO) deflector 18 that give the optical information, the half-wave plate 35, and one beam separated by the beam splitter 11. The polarizing beam splitter 20, the exposure lens 22 that condenses the laser light irradiated on the glass master 23, the turntable 24 that rotates the glass master 23, and the rotation mechanism 25 of the turntable 24.

図４に示すように、レーザ発生装置１から射出されたレーザ光束は、可動式ミラー２及び可動式ビームスプリッター４とビームスプリッター７を経てビームスプリッター１１により２つの光束に分けられ、それぞれ第１音響光学（ＡＯ）変調器１３と第２音響光学（ＡＯ）変調器１４に入射して、記録すべき信号のタイミングに応じたパルス光に変調される。第１音響光学（ＡＯ）変調器１３もしくは第２音響光学（ＡＯ）変調器１４で変調されたパルス光は、それぞれミラー１５とミラー１６とを経て、第１音響光学（ＡＯ）偏向器１７と第２音響光学（ＡＯ）偏向器１８とにそれぞれ入射してグルーブに所定のウォブル情報を付与するように偏向され、続いて、レーザ光は露光レンズ２２を経て、回転機構部２５により回転されるターンテーブル２４に載置されたガラス原盤２３の表面の所定位置に集光される。
図５は、従来のレーザ光の位置及び角度の補正方法を説明する図である。図５に示すように、可動式ビームスプリッター４近傍に配置された第１光検出器６（近点センサ）と光軸から離れた位置に配置された第２光検出器９（遠点センサ）とから、それぞれ光軸位置ずれ検出信号が演算部１０に供給され、さらに、演算部１０から出力される光軸位置ずれ補正信号がミラー駆動部３とビームスプリッター駆動部５とにそれぞれ供給される。そして、レーザ光の最良の光軸位置のときに、第１光検出器６と第２光検出器９の中心位置にモニタ光が照射されるように、光軸上に設けられた可動式ミラー２と可動式ビームスプリッター４とが補正され、レーザ光の位置及び角度の補正が行われる。 As shown in FIG. 4, the laser light beam emitted from the laser generator 1 is divided into two light beams by the beam splitter 11 through the movable mirror 2, the movable beam splitter 4 and the beam splitter 7, and each of the first acoustic waves. The light enters the optical (AO) modulator 13 and the second acousto-optic (AO) modulator 14 and is modulated into pulsed light according to the timing of the signal to be recorded. The pulse light modulated by the first acousto-optic (AO) modulator 13 or the second acousto-optic (AO) modulator 14 passes through the mirror 15 and the mirror 16, respectively, and passes through the first acousto-optic (AO) deflector 17 and the like. The light is incident on the second acousto-optic (AO) deflector 18 and deflected so as to give predetermined wobble information to the groove. Subsequently, the laser light passes through the exposure lens 22 and is rotated by the rotation mechanism unit 25. The light is condensed at a predetermined position on the surface of the glass master 23 placed on the turntable 24.
FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional method for correcting the position and angle of laser light. As shown in FIG. 5, the first photodetector 6 (near point sensor) disposed in the vicinity of the movable beam splitter 4 and the second photodetector 9 (far point sensor) disposed at a position away from the optical axis. The optical axis position deviation detection signal is supplied to the calculation unit 10, and the optical axis position deviation correction signal output from the calculation unit 10 is supplied to the mirror driving unit 3 and the beam splitter driving unit 5, respectively. . Then, a movable mirror provided on the optical axis so that the monitor light is irradiated to the center position of the first photodetector 6 and the second photodetector 9 when the laser beam is at the best optical axis position. 2 and the movable beam splitter 4 are corrected, and the position and angle of the laser beam are corrected.

しかし、このように、第１光検出器６の中心位置にモニタ光が常に照射されるようにレーザ光の位置及び角度の補正が行われる従来の方法では、厳密な意味では光軸上の一点に基づく補正が行われているわけではない。即ち、図６に示すように、光軸の補正は、第１光検出器６の中心に対して、可動式ビームスプリッター４の表面上に一定の面積を有する円Ｓの誤差が生じてしまう。このため、露光レンズ２２に集光されるレーザ光の光軸が厳密に再現されず、また、レーザ光の出射位置や角度が変動すると、露光レンズ２２を通過するレーザ光の光量が変動し、高密度記録を目的とした光ディスクの製造用のガラス原盤の形成には大きな障害となる。また、下流の光学系に電気光学（ＥＯ）変調器、音響光学（ＡＯ）変調器、音響光学（ＡＯ）偏向器、あるいはピンホールが配置されている場合、レーザ光の出射位置や角度の変動したときの通過するレーザ光の光量の変動はさらに大きくなる。   However, in this manner, in the conventional method in which the position and angle of the laser beam are corrected so that the monitor light is always irradiated to the center position of the first photodetector 6, in the strict sense, one point on the optical axis. The correction based on is not necessarily done. That is, as shown in FIG. 6, the correction of the optical axis causes an error of a circle S having a certain area on the surface of the movable beam splitter 4 with respect to the center of the first photodetector 6. For this reason, the optical axis of the laser beam condensed on the exposure lens 22 is not accurately reproduced, and when the emission position or angle of the laser beam varies, the amount of laser beam passing through the exposure lens 22 varies, This is a major obstacle to the formation of a glass master for producing an optical disk for high-density recording. Further, when an electro-optic (EO) modulator, an acousto-optic (AO) modulator, an acousto-optic (AO) deflector, or a pinhole is arranged in the downstream optical system, the emission position and angle of the laser beam vary. In this case, the variation in the amount of laser light passing therethrough is further increased.

本発明は、かかる技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、レーザ光源から発せられるレーザ光の光軸の変動を吸収し、下流の光軸が一定に保たれるレーザ光軸修正装置を提供することにある。
また本発明の他の目的は、光ディスク用原盤の製造過程において、光ディスク用原盤上に集光されるレーザ光の光学像が最適に保たれ、微細化されたピットやグルーブが形成される光ディスク用原盤露光装置を提供することにある。 The present invention has been made to solve such a technical problem, and an object of the present invention is to absorb fluctuations in the optical axis of laser light emitted from a laser light source and to make the downstream optical axis constant. An object of the present invention is to provide a laser optical axis correcting device that is maintained.
Another object of the present invention is for an optical disc in which an optical image of a laser beam focused on the optical disc master is optimally maintained in the manufacturing process of the optical disc master and fine pits and grooves are formed. It is to provide a master exposure apparatus.

かかる目的のもと、本発明によれば、光源から出射されたレーザ光が作用点に導かれる第１の光軸上に配置される可動式ミラーと、レーザ光の一部が第２の光軸へと分岐される可動式ビームスプリッターと、第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、可動式ビームスプリッターと第１の光検出器との間に配置される集光手段と、可動式ビームスプリッターと分岐されたレーザ光の光軸との交点を集光手段に対する物点としたとき、集光手段により形成される像点が第１の光検出器上に配置され、第１の光検出器で検出される光軸のずれ量に基づいて、可動式ミラーの角度が調整される駆動部と、可動式ビームスプリッターより下流において、レーザ光の一部がさらに第３の光軸へと分岐されるビームスプリッターと、第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、第２の光検出器にて測定される光軸のずれ量に基づいて可動式ビームスプリッターの角度が調整される駆動部と、を備えることを特徴とする光軸修正装置が提供される。
かかる光軸修正装置を備えることにより、可動式ビームスプリッターと第１の光軸とが交差する点が厳密に一点に固定され、さらに第２の光検出器にて測定される光軸のずれ量に基づいて可動式ビームスプリッターの角度を調整することで光源から出射されたレーザ光の光軸の変動を吸収し、可動式ビームスプリッターから作用点へと向かう光軸を一定に保つことが可能となる。 For this purpose, according to the present invention, the movable mirror disposed on the first optical axis where the laser light emitted from the light source is guided to the action point, and a part of the laser light is the second light. A movable beam splitter branched to an axis, a first photodetector for measuring a laser beam irradiation position of the second optical axis, and detecting a shift amount of the first optical axis, and a movable beam When the intersecting point between the condensing means disposed between the splitter and the first photodetector and the movable beam splitter and the optical axis of the branched laser light is an object point with respect to the condensing means, the condensing means A drive unit in which the image point formed by is arranged on the first photodetector and the angle of the movable mirror is adjusted based on the amount of deviation of the optical axis detected by the first photodetector; Downstream of the movable beam splitter, part of the laser light is further split into the third optical axis. Measured by a beam splitter, a second optical detector that measures the irradiation position of the laser beam of the third optical axis, and detects the shift amount of the first optical axis, and the second optical detector. And an optical axis correction device comprising: a drive unit that adjusts the angle of the movable beam splitter based on the amount of optical axis deviation.
By providing such an optical axis correcting device, the point where the movable beam splitter and the first optical axis intersect is fixed exactly at one point, and the optical axis deviation measured by the second photodetector is further fixed. By adjusting the angle of the movable beam splitter based on the above, it is possible to absorb the fluctuation of the optical axis of the laser light emitted from the light source and keep the optical axis from the movable beam splitter to the working point constant. Become.

本発明が適用される光軸修正装置において、可動式ミラー及び可動式ビームスプリッターは、少なくとも２軸方向に独立に駆動可能であることが好ましい。また、集光手段は、焦点距離ｆを有する凸レンズであり、可動式ビームスプリッターと第１の光検出器との間に、それぞれ焦点距離ｆの２倍の間隔にて配置されることが好ましい。また、第１の光検出器及び第２の光検出器は、４分割された受光部から構成される４分割光検出器であることが好ましい。また、第２の光検出器は、第１の光軸とビームスプリッターとの交点との光軸上の距離がレーザ光のビーム径の少なくとも１００倍である位置に配置されることが好ましく、光軸のずれ量の検出精度が向上する。また、レーザ光は、非線形光学素子を用いて発生される第２高調波であることが好ましい。   In the optical axis correcting apparatus to which the present invention is applied, it is preferable that the movable mirror and the movable beam splitter can be independently driven in at least two axial directions. Further, the condensing means is a convex lens having a focal length f, and is preferably disposed between the movable beam splitter and the first photodetector at intervals of twice the focal length f. Moreover, it is preferable that the first photodetector and the second photodetector are four-divided photodetectors each including a four-divided light receiving unit. The second photodetector is preferably disposed at a position where the distance on the optical axis between the intersection of the first optical axis and the beam splitter is at least 100 times the beam diameter of the laser beam. The accuracy of detecting the amount of axis deviation is improved. The laser beam is preferably a second harmonic generated using a nonlinear optical element.

かかる光軸修正装置を備えることにより、本発明は、レーザ光が出射されるレーザ発生装置と、レーザ発生装置から出射されたレーザ光の光軸のずれが補正される光軸修正装置と、レーザ光が照射されるフォトレジスト層が表面に塗布されたガラス原盤と、フォトレジスト層に照射されるレーザ光を透過させる露光集光手段と、ガラス原盤を回転させる回転機構部と、を有する光ディスク用原盤露光装置において、光軸修正装置は、レーザ光が露光集光手段に導かれる第１の光軸上に配置される可動式ミラーと、レーザ光の一部が第２の光軸へと分岐される可動式ビームスプリッターと、第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、可動式ビームスプリッターと第１の光検出器との間に配置される集光手段と、可動式ビームスプリッターより下流において、レーザ光の一部がさらに第３の光軸へと分岐されるビームスプリッターと、第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、光検出器の検出信号に基づいて光軸のずれ量が計算される演算部と、を備え、可動式ビームスプリッターと第１の光軸との交点を集光手段に対する物点としたとき、集光手段により形成される像点が第１の光検出器上に配置され、第１の光検出器で検出される第１の光軸のずれ量に基づいて可動式ミラーの角度が調整され、第２の光検出器で検出される第１の光軸のずれ量に基づいて可動式ビームスプリッターの角度が調整されることを特徴とする光ディスク用原盤露光装置が提供される。
かかる光軸修正装置を備えた光ディスク用原盤露光装置では、可動式ビームスプリッターと第１の光軸とが交差する点が厳密に一点に固定され、さらに第２の光検出器にて測定される光軸のずれ量に基づいて可動式ビームスプリッターの角度を調整することでレーザ発生装置から出射されたレーザ光の光軸の変動を吸収し、可動式ビームスプリッターから露光集光手段へと向かう光軸が一定に保たれ、露光集光手段を透過するレーザ光の光量を一定に保つことが可能となる。 By providing such an optical axis correction device, the present invention provides a laser generator that emits laser light, an optical axis correction device that corrects a deviation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator, and a laser. For an optical disc having a glass master having a photoresist layer irradiated with light applied on its surface, an exposure condensing means for transmitting the laser light irradiated to the photoresist layer, and a rotating mechanism for rotating the glass master In the master exposure apparatus, the optical axis correcting device includes a movable mirror disposed on the first optical axis through which the laser light is guided to the exposure condensing means, and a part of the laser light branches to the second optical axis. A movable beam splitter, a first photodetector for measuring the irradiation position of the laser beam of the second optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis, the movable beam splitter, and the first Between the light detector The focusing means to be placed, the beam splitter where a part of the laser beam is further branched to the third optical axis downstream from the movable beam splitter, and the irradiation position of the laser beam on the third optical axis are measured A second optical detector that detects the amount of deviation of the first optical axis, and an arithmetic unit that calculates the amount of deviation of the optical axis based on the detection signal of the photodetector, and includes a movable beam. When the intersection of the splitter and the first optical axis is an object point with respect to the light collecting means, the image point formed by the light collecting means is arranged on the first light detector and detected by the first light detector. The angle of the movable mirror is adjusted based on the amount of deviation of the first optical axis, and the angle of the movable beam splitter is adjusted based on the amount of deviation of the first optical axis detected by the second photodetector. An optical disc master exposure apparatus characterized by being adjusted is provided.
In an optical disc master exposure apparatus provided with such an optical axis correcting device, the point where the movable beam splitter and the first optical axis intersect is fixed exactly at one point, and further measured by the second photodetector. By adjusting the angle of the movable beam splitter based on the deviation amount of the optical axis, the fluctuation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator is absorbed, and the light traveling from the movable beam splitter to the exposure condensing means The axis can be kept constant, and the amount of laser light transmitted through the exposure condensing means can be kept constant.

次に本発明は、光源から出射されたレーザ光が作用点に導かれる第１の光軸上に配置される第１の可動式ミラー及び第２の可動式ミラーと、第２の可動式ミラーより下流において、レーザ光の一部が第２の光軸へと分岐される第１のビームスプリッターと、第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、第１のビームスプリッターと第１光検出器との間に配置される集光手段と、第２の可動式ミラーと第１の光軸との交点を集光手段に対する物点としたとき、集光手段により形成される像点が第１の光検出器上に配置され、第１の光検出器で検出される第１の光軸のずれ量に基づいて、第１の可動式ミラーの角度が調整される駆動部と、第１のビームスプリッターより下流において、レーザ光の一部がさらに第３の光軸へと分岐される第２のビームスプリッターと、第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、第２の光検出器にて測定された第１の光軸のずれ量に基づいて第２の可動式ミラーの角度が調整される駆動部と、を備えることを特徴とする光軸修正装置が提供される。
かかる光軸修正装置を備えることにより、第２の可動式ミラーと第１の光軸とが交差する点が厳密に一点に固定され、さらに第２光検出器にて測定される光軸のずれ量に基づいて第２の可動式ミラーの角度を調整することで光源から出射されたレーザ光の光軸の変動を吸収し、第２の可動式ミラーから作用点へと向かう光軸を一定に保つことが可能となる。 Next, the present invention provides a first movable mirror and a second movable mirror disposed on a first optical axis through which laser light emitted from a light source is guided to an action point, and a second movable mirror. Further downstream, the first beam splitter in which a part of the laser light is branched to the second optical axis, and the irradiation position of the laser light on the second optical axis are measured, and the amount of deviation of the first optical axis A first photodetector for detecting the light, a condensing means disposed between the first beam splitter and the first photodetector, an intersection of the second movable mirror and the first optical axis Is an object point with respect to the condensing means, the image point formed by the condensing means is arranged on the first photodetector, and the amount of deviation of the first optical axis detected by the first photodetector And a drive unit for adjusting the angle of the first movable mirror, and a downstream of the first beam splitter. The second beam splitter in which a part of the light is further branched to the third optical axis, and the irradiation position of the laser beam on the third optical axis are measured, and the shift amount of the first optical axis is detected. A second light detector; and a drive unit that adjusts the angle of the second movable mirror based on the shift amount of the first optical axis measured by the second light detector. An optical axis correcting device is provided.
By providing such an optical axis correcting device, the point at which the second movable mirror and the first optical axis intersect is fixed exactly at one point, and the optical axis deviation measured by the second optical detector is further fixed. By adjusting the angle of the second movable mirror based on the amount, the fluctuation of the optical axis of the laser light emitted from the light source is absorbed, and the optical axis from the second movable mirror to the working point is made constant. It becomes possible to keep.

また、本発明が適用される光軸修正装置において、第１及び第２の可動式ミラーは、少なくとも２軸方向に独立に駆動可能であることが好ましい。また、集光手段は、焦点距離ｆを有する凸レンズであり、第２の可動式ミラーと光検出器との間に、それぞれ焦点距離ｆの２倍の間隔にて配置されることが好ましい。また、光検出器は、４分割された受光部から構成される４分割光検出器であることが好ましい。また、第２の光検出器は、第１の光軸と第２のビームスプリッターとの交点との光軸上の距離がレーザ光のビーム径の少なくとも１００倍である位置に配置されることが好ましく、光軸のずれ量の検出精度が向上する。また、レーザ光は、非線形光学素子を用いて発生される第２高調波であることが好ましい。   In the optical axis correcting apparatus to which the present invention is applied, it is preferable that the first and second movable mirrors can be driven independently in at least two axial directions. The condensing means is a convex lens having a focal length f, and is preferably disposed between the second movable mirror and the photodetector at intervals of twice the focal length f. Moreover, it is preferable that a photodetector is a 4-part dividing photodetector comprised from the light-receiving part divided into four. The second photodetector may be disposed at a position where the distance on the optical axis between the first optical axis and the intersection of the second beam splitter is at least 100 times the beam diameter of the laser light. Preferably, the detection accuracy of the amount of deviation of the optical axis is improved. The laser beam is preferably a second harmonic generated using a nonlinear optical element.

さらに、本発明によれば、レーザ光が出射されるレーザ発生装置と、レーザ発生装置から出射されたレーザ光の光軸のずれが補正される光軸修正装置と、レーザ光が照射されるフォトレジスト層が表面に塗布されたガラス原盤と、フォトレジスト層に照射されるレーザ光を透過させる露光集光手段と、ガラス原盤を回転させる回転機構部と、を有する光ディスク用原盤露光装置において、光軸修正装置は、レーザ光が露光集光手段に導かれる第１の光軸上に配置される第１の可動式ミラー及び第２の可動式ミラーと、可動式ミラーより下流において、レーザ光の一部が第２の光軸へ分岐される第１のビームスプリッターと、第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、第１のビームスプリッターと第１の光検出器との間に配置される集光手段と、第１のビームスプリッターより下流において、レーザ光の一部がさらに第３の光軸へ分岐される第２のビームスプリッターと、第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、第１の光検出器及び第２の光検出器の検出信号に基づいて第１の光軸のずれ量が計算される演算部と、を備え、第２の可動式ミラーと第１の光軸との交点を集光手段に対する物点としたとき、集光手段により形成される像点が第１の光検出器上に配置され、第１の光検出器で検出される第１の光軸のずれ量に基づいて第１の可動式ミラーの角度が調整され、第２の光検出器で検出される第１の光軸のずれ量に基づいて第２の可動式ミラーの角度が調整されることを特徴とする光ディスク用原盤露光装置が提供される。
かかる光軸修正装置を備えた光ディスク用原盤露光装置では、第２の可動式ミラーと第１の光軸とが交差する点が厳密に一点に固定され、さらに第２の光検出器にて測定される光軸のずれ量に基づいて第２の可動式ミラーの角度を調整することでレーザ発生装置から出射されたレーザ光の光軸の変動を吸収を吸収し、第２の可動式ミラーから露光集光手段へと向かう光軸が一定に保たれ、露光集光手段を透過するレーザ光の光量を一定に保つことが可能となる。 Furthermore, according to the present invention, a laser generator that emits laser light, an optical axis correction device that corrects a deviation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator, and a photo that is irradiated with laser light. In a master exposure apparatus for optical discs, comprising: a glass master having a resist layer coated on its surface; an exposure condensing means that transmits laser light applied to the photoresist layer; and a rotating mechanism that rotates the glass master. The axis correcting device includes a first movable mirror and a second movable mirror disposed on a first optical axis through which the laser light is guided to the exposure condensing unit, and a laser beam downstream of the movable mirror. A first beam splitter, a part of which is branched to the second optical axis, and a first light in which the irradiation position of the laser light on the second optical axis is measured and the amount of deviation of the first optical axis is detected A detector and a first beam sp And a second beam splitter in which a part of the laser light is further branched to the third optical axis downstream from the first beam splitter. A second optical detector for measuring the irradiation position of the laser beam on the third optical axis and detecting the shift amount of the first optical axis, the first optical detector and the second optical detector And a calculation unit that calculates the amount of deviation of the first optical axis based on the detection signal of the second, when the intersection of the second movable mirror and the first optical axis is an object point with respect to the light condensing means The image point formed by the condensing means is arranged on the first photodetector, and based on the amount of deviation of the first optical axis detected by the first photodetector, the first movable mirror The angle is adjusted, and the angle of the second movable mirror is adjusted based on the shift amount of the first optical axis detected by the second photodetector. Optical disc master exposure apparatus is provided, characterized in that.
In the optical disk master exposure apparatus provided with such an optical axis correcting device, the point where the second movable mirror and the first optical axis intersect is fixed exactly at one point, and further measured by the second photodetector. By adjusting the angle of the second movable mirror based on the amount of deviation of the optical axis, the absorption of the fluctuation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator is absorbed, and the second movable mirror The optical axis toward the exposure condensing means is kept constant, and the amount of laser light transmitted through the exposure condensing means can be kept constant.

さらに本発明が適用される光ディスク用原盤露光装置において、光軸修正装置と露光集光手段との間の光軸上に、レーザ光の波面を整えるピンホールが空けられたビーム整形用空間フィルタをさらに備えることが好ましい。また、光軸修正装置と露光集光手段との間の光軸上に、電気光学（ＥＯ）変調器、音響光学（ＡＯ）変調器、音響光学（ＡＯ）偏向器のいずれかを備えることが好ましい。   Further, in the master exposure apparatus for an optical disk to which the present invention is applied, a beam shaping spatial filter in which a pinhole for adjusting the wavefront of the laser beam is formed on the optical axis between the optical axis correction device and the exposure condensing means. It is preferable to further provide. Further, any one of an electro-optic (EO) modulator, an acousto-optic (AO) modulator, and an acousto-optic (AO) deflector is provided on the optical axis between the optical axis correcting device and the exposure condensing unit. preferable.

本発明によれば、レーザ光源から発せられるレーザ光の光軸の変動を吸収し、下流の光軸が一定に保たれるレーザ光軸修正装置を備えた原盤露光装置が提供される。   According to the present invention, there is provided a master exposure apparatus provided with a laser optical axis correcting device that absorbs fluctuations in the optical axis of laser light emitted from a laser light source and keeps the downstream optical axis constant.

以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態と記す。）について説明する。
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態が適用される光軸修正装置を説明する図である。
図１に示された光軸修正装置１００は、レーザ光の光軸上に配置されたミラー駆動部３により２軸方向に角度が調整可能な２軸可動式の可動式ミラー２と、可動式ミラー２により全反射されたレーザ光の照射光量の一部を透過し、一部を第２の光軸に分離する２軸可動式の可動式ビームスプリッター４と、可動式ビームスプリッター４により分離された第２の光軸上に配置され、第１光検出器６と、可動式ビームスプリッター４と第１光検出器６との間に配置された凸レンズ３２と、可動式ビームスプリッター４を経たレーザ光の照射光量の一部を透過し一部を第３の光軸に分離するビームスプリッター７と、ビームスプリッター７により分離された第３の光軸上に配置され、光軸から離れた位置に配置された第２光検出器９と、第１光検出器６及び第２光検出器９の出力信号から所定の演算を実行する演算部１０と、を備えている。 The best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as an embodiment) will be described below with reference to the accompanying drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 is a diagram for explaining an optical axis correcting apparatus to which the first embodiment of the present invention is applied.
An optical axis correcting device 100 shown in FIG. 1 includes a movable movable mirror 2 having a movable axis 2 that can adjust the angle in two axial directions by a mirror driving unit 3 disposed on the optical axis of the laser beam, and a movable type. A two-axis movable movable beam splitter 4 that transmits a part of the irradiation light amount of the laser light totally reflected by the mirror 2 and separates a part of the irradiation light into a second optical axis, and the movable beam splitter 4 separates the two beams. The first optical detector 6, the convex lens 32 arranged between the movable beam splitter 4 and the first optical detector 6, and the laser that has passed through the movable beam splitter 4. A beam splitter 7 that transmits a part of the light irradiation amount and separates a part of the light into a third optical axis, and a third optical axis that is separated by the beam splitter 7, and is located away from the optical axis. Arranged second light detector 9 and first light detection An operation unit 10 for executing a predetermined operation from the 6 and the output signal of the second light detector 9, and a.

本実施の形態においては、凸レンズ３２は、ビームスプリッター４と光軸の交点及び第１光検出器６から、それぞれ、凸レンズ３２の焦点距離ｆの２倍の長さ（２ｆ）の間隔を有するように配置されている。即ち、このとき、可動式ビームスプリッター４と光軸の交点を凸レンズ３２に対する物点としたとき、第２の光軸上に配置された第１光検出器６が像点になるように配置されている。Ｆ１及びＦ２は凸レンズ３２の焦点である。尚、本実施の形態においては、可動式ビームスプリッター４と第１光検出器６の間に凸レンズ３２が配置されているが、図２に示すように、レーザ光の光軸と可動式ビームスプリッター４との交点に物点が形成され、且つ、第２の光軸上に配置された第１光検出器６上に像点が配置されるものであれば、集光手段の種類及び個数は限定されない。例えば、凸レンズと凹レンズとの組み合わせ、凹面鏡等が考えられる。   In the present embodiment, the convex lens 32 has a distance (2f) that is twice the focal length f of the convex lens 32 from the intersection of the beam splitter 4 and the optical axis and the first photodetector 6. Is arranged. That is, at this time, when the intersection of the movable beam splitter 4 and the optical axis is an object point with respect to the convex lens 32, the first photodetector 6 disposed on the second optical axis is disposed to be an image point. ing. F 1 and F 2 are the focal points of the convex lens 32. In the present embodiment, the convex lens 32 is disposed between the movable beam splitter 4 and the first photodetector 6. However, as shown in FIG. 2, the optical axis of the laser beam and the movable beam splitter are arranged. If the object point is formed at the intersection with 4 and the image point is arranged on the first photodetector 6 arranged on the second optical axis, the kind and number of the condensing means are It is not limited. For example, a combination of a convex lens and a concave lens, a concave mirror, etc. can be considered.

第１光検出器６及び第２光検出器９には、４分割された受光部からなる４分割光検出器が使用されている。図７は、４分割光検出器を説明する図である。図７に示すように、４分割光検出器は、例えば、４つの受光部でそれぞれ光電変換して得られた電気信号のレベルをＡ、Ｂ、Ｃ及びＤで示すものとすると、垂直方向は（Ａ＋Ｂ）−（Ｃ＋Ｄ）、水平方向は（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ＋Ｄ）の電圧変化を電圧信号である光軸位置ずれ検出信号としてモニタする。一方、演算部１０は、第１光検出器６の光軸位置ずれによる光量変位を電圧変位に変換した光軸位置ずれ検出信号に基づいて、光軸位置ずれ量と光軸補正量とを計算し、光軸補正量の水平方向分に対応した補正信号と光軸補正量の垂直方向分に対応した補正信号とをそれぞれ生成出力する。ここで、第１光検出器６は、主としてレーザ光の位置を検出し、第２光検出器９は、主としてレーザ光の出射角度を検出する。第２光検出器９の配置される位置は特に限定されないが、通常、可動式ビームスプリッター４と第２光検出器９との間隔が、レーザ光のビーム径（通常、約１ｍｍ程度）の少なくとも１００倍以上、但し、通常３０００倍以下になる位置に配置されている。   For the first photodetector 6 and the second photodetector 9, a four-divided photodetector comprising a light-receiving unit divided into four is used. FIG. 7 is a diagram for explaining the quadrant photodetector. As shown in FIG. 7, when the four-divided photodetector is, for example, indicated by A, B, C, and D as levels of electric signals obtained by photoelectric conversion in four light receiving units, the vertical direction is In the horizontal direction, the voltage change of (A + C)-(B + D) is monitored as an optical axis positional deviation detection signal which is a voltage signal. On the other hand, the calculation unit 10 calculates the optical axis positional deviation amount and the optical axis correction amount based on the optical axis positional deviation detection signal obtained by converting the light amount displacement due to the optical axis positional deviation of the first photodetector 6 into the voltage displacement. Then, a correction signal corresponding to the horizontal direction of the optical axis correction amount and a correction signal corresponding to the vertical direction of the optical axis correction amount are respectively generated and output. Here, the first photodetector 6 mainly detects the position of the laser beam, and the second photodetector 9 mainly detects the emission angle of the laser beam. The position where the second photodetector 9 is arranged is not particularly limited, but usually, the distance between the movable beam splitter 4 and the second photodetector 9 is at least the beam diameter of the laser beam (usually about 1 mm). It is arranged at a position of 100 times or more, but usually 3000 times or less.

次に、光軸修正装置１００の作用を説明する。図１に示すように、レーザ発生装置１（図示せず）から発振されたレーザ光の位置及び角度が変動し、レーザ光の光軸がずれた場合は、第１光検出器６と第２光検出器９とから、それぞれ光軸位置ずれ検出信号が演算部１０に供給され、さらに、演算部１０から出力される光軸位置ずれ補正信号が２軸可動式のミラー駆動部３と２軸可動式のスプリッター駆動部５とにそれぞれ供給される。そして、可動式ミラー２及び可動式ビームスプリッター４が補正信号に対応した角度に駆動され、レーザ光の光軸のずれが補正される。   Next, the operation of the optical axis correcting device 100 will be described. As shown in FIG. 1, when the position and angle of the laser light oscillated from the laser generator 1 (not shown) fluctuates and the optical axis of the laser light shifts, the first photodetector 6 and the second light detector 6 An optical axis position deviation detection signal is supplied from the photodetector 9 to the calculation unit 10, and an optical axis position deviation correction signal output from the calculation unit 10 is a two-axis movable mirror driving unit 3 and two axes. Each is supplied to a movable splitter driving unit 5. Then, the movable mirror 2 and the movable beam splitter 4 are driven at an angle corresponding to the correction signal, and the deviation of the optical axis of the laser light is corrected.

（第２の実施の形態）
図２は、光軸修正装置の第２の実施形態を説明する図である。第１の実施形態の光軸修正装置１００（図１）において使用する部品と同じものについては同じ符号を用い、説明は省略する。図２に示された光軸修正装置２００は、レーザ光の第１の光軸上に配置された第１の可動式ミラー４２及び第２の可動式ミラー４４と、第２の可動式ミラー４４により全反射されたレーザ光の照射光量の一部が透過し、一部が第２の光軸に分離されるビームスプリッター４６と、ビームスプリッター４６により分離された第２の光軸上に配置される第１光検出器６と、ビームスプリッター４６と第１光検出器６との間に配置される凸レンズ４７と、ビームスプリッター４６を経たレーザ光の照射光量の一部が透過し、一部が第３の光軸に分離されるビームスプリッター４８と、ビームスプリッター４８により分離された第３の光軸上に配置され、光軸から離れた位置に配置される第２光検出器９と、第１光検出器６及び第２光検出器９の出力信号から所定の演算が実行される演算部１０と、を備えている。 (Second Embodiment)
FIG. 2 is a diagram for explaining a second embodiment of the optical axis correcting device. The same components as those used in the optical axis correcting apparatus 100 (FIG. 1) of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. The optical axis correcting device 200 shown in FIG. 2 includes a first movable mirror 42 and a second movable mirror 44 arranged on the first optical axis of the laser beam, and a second movable mirror 44. A part of the irradiation light amount of the laser beam totally reflected by the beam is transmitted, and a part is separated on the second optical axis. The beam splitter 46 is arranged on the second optical axis separated by the beam splitter 46. The first light detector 6, the convex lens 47 disposed between the beam splitter 46 and the first light detector 6, and a part of the irradiation amount of the laser light that has passed through the beam splitter 46 are transmitted, and a part thereof A beam splitter 48 separated into a third optical axis, a second photodetector 9 arranged on the third optical axis separated by the beam splitter 48 and located away from the optical axis, Outputs of the first photodetector 6 and the second photodetector 9 Predetermined operation comprises an operation unit 10 to be executed, from No..

図２において、第２の可動式ミラー４４と光軸との交点からビームスプリッター４６を経て凸レンズ４７に至る長さが凸レンズ４７の焦点距離ｆの２倍の長さ（２ｆ）であり、凸レンズ４７と第１光検出器６との間隔が、凸レンズ４７の焦点距離ｆの２倍の長さ（２ｆ）を有するように配置されている。即ち、このとき、第２の可動式ミラー４４と光軸との交点を物点としたとき、第２の光軸上に配置された第１光検出器６が像点になるように配置されている。   In FIG. 2, the length from the intersection of the second movable mirror 44 and the optical axis to the convex lens 47 via the beam splitter 46 is twice the focal length f of the convex lens 47 (2f). And the first photodetector 6 are arranged so as to have a length (2f) that is twice the focal length f of the convex lens 47. That is, at this time, when the intersection of the second movable mirror 44 and the optical axis is taken as an object point, the first photodetector 6 arranged on the second optical axis is arranged to be an image point. ing.

次に、光軸修正装置２００の作用を説明する。図２に示すように、レーザ発生装置１（図示せず）から発振されたレーザ光の位置及び角度が変動し、レーザ光の光軸がずれた場合は、第１光検出器６と第２光検出器９とから、それぞれ光軸位置ずれ検出信号が演算部１０に供給され、さらに、演算部１０から出力される光軸位置ずれ補正信号が第１の可動式ミラーのミラー駆動部４３と第２の可動式ミラーのミラー駆動部４５とにそれぞれ供給される。そして、第１の可動式ミラー４２及び第２の可動式ミラー４４が補正信号に対応した角度に駆動され、レーザ光の光軸のずれが補正される。   Next, the operation of the optical axis correcting device 200 will be described. As shown in FIG. 2, when the position and angle of the laser beam oscillated from the laser generator 1 (not shown) fluctuates and the optical axis of the laser beam is deviated, the first photodetector 6 and the second detector 6 Each of the optical axis position deviation detection signals is supplied to the calculation unit 10 from the light detector 9, and the optical axis position deviation correction signal output from the calculation unit 10 is further transmitted to the mirror driving unit 43 of the first movable mirror. Supplied to the mirror drive unit 45 of the second movable mirror. Then, the first movable mirror 42 and the second movable mirror 44 are driven at an angle corresponding to the correction signal, and the deviation of the optical axis of the laser light is corrected.

次に、光ディスク用原盤露光装置について説明する。図３は、本発明の実施形態が適用される光ディスク用原盤露光装置を説明する図である。図３に示した光ディスク用原盤露光装置３００は、レーザ発生装置１と、レーザ発生装置１から発振されたレーザ光の光軸のずれを修正する装置として、可動式ミラー２と、可動式ビームスプリッター４と、第１光検出器６と、集光手段である凸レンズ３２と、ビームスプリッター７と、第２光検出器９と、第１光検出器６及び第２光検出器９の出力信号から所定の演算を実行する演算部１０と、から構成される光軸修正装置１００を備える。さらに、ビームスプリッター７を経たレーザ光の光束を２つに分離するビームスプリッター１１と、ガラス原盤２３への照射タイミングを調整する第１ノイズイーター（電気光学（ＥＯ）変調器）２６及び第１音響光学（ＡＯ）変調器１３と、第２ノイズイーター（電気光学（ＥＯ）変調器）２７及び第２音響光学（ＡＯ）変調器１４と、レーザ光束の波面を整えるピンホールが空けられた第１アパーチャ２８０と第１アパーチャ２８０を互いに焦点とする一対の凸レンズ２８１及び凸レンズ２８２とから構成されるビーム整形用空間フィルタ２８と、同様に、ピンホールが空けられた第２アパーチャ２９０と一対の凸レンズ２９１及び凸レンズ２９２とから構成されるビーム整形用空間フィルタ２９と、ガラス原盤２３への照射位置を調整する第１音響光学（ＡＯ）偏向器１７及び第１ビームエクスパンダー３０と、第２音響光学（ＡＯ）偏向器１８及び第２ビームエクスパンダー３１と、１／２波長板３５と、ビームスプリッター１１により２つに分離された光束を１つにまとめる偏光ビームスプリッター２０と、ガラス原盤２３に照射されるレーザ光を集光する露光レンズ２２と、ガラス原盤２３を回転するターンテーブル２４と、ターンテーブル２４の回転機構部２５と、を有する。   Next, an optical disk master exposure apparatus will be described. FIG. 3 is a diagram for explaining an optical disc master exposure apparatus to which an embodiment of the present invention is applied. An optical disk master exposure apparatus 300 shown in FIG. 3 includes a laser generator 1, a movable mirror 2, and a movable beam splitter as a device for correcting the deviation of the optical axis of the laser light oscillated from the laser generator 1. 4, the first light detector 6, the convex lens 32 that is a condensing means, the beam splitter 7, the second light detector 9, and the output signals of the first light detector 6 and the second light detector 9. An optical axis correcting device 100 including a calculation unit 10 that executes a predetermined calculation is provided. Furthermore, the beam splitter 11 that separates the light beam of the laser light that has passed through the beam splitter 7, the first noise eater (electro-optic (EO) modulator) 26 that adjusts the irradiation timing to the glass master 23, and the first sound. An optical (AO) modulator 13, a second noise eater (electro-optic (EO) modulator) 27, a second acousto-optic (AO) modulator 14, and a first pinhole for adjusting the wavefront of the laser beam. A beam shaping spatial filter 28 including a pair of convex lenses 281 and convex lenses 282 that focus on the aperture 280 and the first aperture 280, and similarly, a second aperture 290 having a pinhole and a pair of convex lenses 291. And a beam shaping spatial filter 29 composed of a convex lens 292 and an irradiation position on the glass master 23 are adjusted. First acousto-optic (AO) deflector 17 and first beam expander 30, second acousto-optic (AO) deflector 18 and second beam expander 31, half-wave plate 35, and beam splitter 11 A polarizing beam splitter 20 that combines the light beams separated into two by the above, an exposure lens 22 that condenses the laser light irradiated on the glass master 23, a turntable 24 that rotates the glass master 23, and a turntable 24 rotation mechanism sections 25.

レーザ発生装置１は、安定な単一周波数出力を発するレーザ光源を有することが好ましく、レーザ光源としては、アルゴンレーザ等のガスレーザが好適である。また、このレーザ光源から発せられるレーザ光を基本波として非線形光学素子を通して第２高調波（ＳＨＧ：Ｓｅｃｏｎｄ Ｈａｒｍｏｎｉｃ Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ）を発生させることが好ましい。非線形光学素子としては、例えば、ＫＤＰ（ＫＨ２ＰＯ４）、ＬＢＯ（ＬｉＢ３Ｏ５）、ＢＢＯ（ＢａＢ２Ｏ４）、ＹＣＯＢ（ＹＣａ４Ｏ（ＢＯ３）３）、ＣＬＢＯ（ＣｓＬｉＢ６Ｏ１０）、ＳＢＢＯ（Ｓｒ２Ｂｅ２ＢＯ７）、ＢＩＢＯ（ＢｉＢ３Ｏ６）、ＬＮＯ（ＬｉＮｂＯ３）等が挙げられる。これらの中でもＢＢＯ（ＢａＢ２Ｏ４）が好ましい。 The laser generator 1 preferably has a laser light source that emits a stable single frequency output, and a gas laser such as an argon laser is suitable as the laser light source. In addition, it is preferable to generate second harmonic generation (SHG) through a nonlinear optical element using the laser light emitted from the laser light source as a fundamental wave. Examples of the nonlinear optical element include KDP (KH 2 PO 4 ), LBO (LiB 3 O 5 ), BBO (BaB 2 O 4 ), YCOB (YCa 4 O (BO 3 ) 3 ), CLBO (CsLiB 6 O 10). ), SBBO (Sr 2 Be 2 BO 7 ), BIBO (BiB 3 O 6 ), LNO (LiNbO 3 ) and the like. Among these, BBO (BaB 2 O 4 ) is preferable.

ビームスプリッター１１により２つに分離された光軸上にそれぞれ配置されたノイズイーター（電気光学（ＥＯ）変調器）（第１ノイズイーター２６及び第２ノイズイーター２７）、音響光学（ＡＯ）変調器（第１ＡＯ変調器１３及び第２ＡＯ変調器１４）及び音響光学（ＡＯ）偏向器（第１ＡＯ偏向器１７及び第２ＡＯ偏向器１８）は、特に限定されない。電気光学（ＥＯ）結晶としては、例えば、ＫＨ２ＰＯ４、ＬｉＴａＯ３が挙げられる。音響光学結晶としては、例えば、ＰｂＭｏＯ４、ＴｅＯ２、ＬｉＮｂＯ３、テルライトガラス、フリントガラス、石英ガラス等が挙げられる。これらの中でも石英ガラスが好ましい。また、第１アパーチャ２８０と第２アパーチャ２９０とは、径約１００ミクロンのピンホールが空けられた金属製のビーム整形用フィルタであり、それぞれ、第１ＡＯ偏向器１７と第２ＡＯ偏向器１８との直前に設けられ、レーザ光の波面を整えている。 Noise eaters (electro-optic (EO) modulators) (first noise eater 26 and second noise eater 27) and acousto-optic (AO) modulators arranged on the optical axis separated into two by the beam splitter 11 The (first AO modulator 13 and second AO modulator 14) and the acousto-optic (AO) deflector (first AO deflector 17 and second AO deflector 18) are not particularly limited. Examples of the electro-optic (EO) crystal include KH 2 PO 4 and LiTaO 3 . Examples of the acoustooptic crystal include PbMoO 4 , TeO 2 , LiNbO 3 , tellurite glass, flint glass, and quartz glass. Among these, quartz glass is preferable. The first aperture 280 and the second aperture 290 are metal beam shaping filters with a pinhole having a diameter of about 100 microns. The first AO deflector 17 and the second AO deflector 18, respectively. It is provided immediately before and the wavefront of the laser beam is adjusted.

次に、光ディスク用原盤露光装置３００の作用を説明する。図３に示すように、レーザ発生装置１から射出されたレーザー光束は、可動式ミラー２及び可動式ビームスプリッター４とビームスプリッター７を経てビームスプリッター１１により２つの光束に分けられ、それぞれ第１ノイズイーター（電気光学（ＥＯ）変調器）２６と、ミラー１２を経て第１音響光学（ＡＯ）変調器１３と、第２ノイズイーター（電気光学（ＥＯ）変調器）２７及び第２音響光学（ＡＯ）変調器１４とに入射し、記録すべきレーザ光の強度及び信号のタイミングに応じたパルス光に変調される。変調されたパルス光は、それぞれミラー１５とミラー１６とを経て、第１音響光学（ＡＯ）偏向器１７と第２音響光学（ＡＯ）偏向器１８とにそれぞれ入射し、グルーブに所定のウォルブ情報を付与するように偏向され、続いて、第１ビームエクスパンダー３０と１／２波長板、また、第２ビームエクスパンダー３１とミラー１９とをそれぞれ経て、偏光ビームスプリッター２０により２つの光束が１つにまとめられ、その後、レーザ光は露光レンズ２２に到達して、回転機構部２５により回転されるターンテーブル２４に載置されたガラス原盤２３の表面のフォトレジスト膜に集光される。   Next, the operation of the optical disc master exposure apparatus 300 will be described. As shown in FIG. 3, the laser light beam emitted from the laser generator 1 is divided into two light beams by the beam splitter 11 through the movable mirror 2, the movable beam splitter 4 and the beam splitter 7, and each of the first noises. Eater (electro-optic (EO) modulator) 26, first acousto-optic (AO) modulator 13 via mirror 12, second noise eater (electro-optic (EO) modulator) 27 and second acousto-optic (AO) ) The light enters the modulator 14 and is modulated into pulsed light according to the intensity of the laser light to be recorded and the signal timing. The modulated pulse light passes through the mirror 15 and the mirror 16, respectively, and enters the first acousto-optic (AO) deflector 17 and the second acousto-optic (AO) deflector 18, respectively. Then, the first beam expander 30 and the half-wave plate, and the second beam expander 31 and the mirror 19 are respectively passed through the first beam expander 30 and the half-wave plate. After that, the laser light reaches the exposure lens 22 and is focused on the photoresist film on the surface of the glass master 23 placed on the turntable 24 rotated by the rotation mechanism unit 25.

偏光ビームスプリッター２０を透過したレーザビームは、ミラー３４、ミラー３３及びミラー２１により垂直方向に向きが変えられ、露光レンズ２２により、図示しない光源よりのフォーカス用レーザビームと共に、ターンテーブル２４上に固定されたガラス原盤２３の表面の塗布されたフォトレジスト層の表面に集光される。フォトレジスト層の表面で反射されたフォーカス用レーザビームは、図示しないフォーカスサーボアクチュエータにより、常に、ガラス原盤２３と露光レンズ２２とが等距離に保たれる。ガラス原盤２３を固定したターンテーブル２４は回転機構部２５により回転されており、レーザビームの照射された部分が露光される。このフォトレジスト層が塗布されたガラス原盤２３はその後現像等された後、スタンパ盤作成の基となる。   The direction of the laser beam transmitted through the polarization beam splitter 20 is changed in the vertical direction by the mirror 34, the mirror 33, and the mirror 21, and is fixed on the turntable 24 together with the focusing laser beam from a light source (not shown) by the exposure lens 22. The light is condensed on the surface of the applied photoresist layer on the surface of the glass master 23 thus prepared. The focus laser beam reflected by the surface of the photoresist layer is always kept at an equal distance between the glass master 23 and the exposure lens 22 by a focus servo actuator (not shown). The turntable 24 to which the glass master 23 is fixed is rotated by a rotation mechanism unit 25, and the portion irradiated with the laser beam is exposed. The glass master 23 coated with the photoresist layer is developed and then used as a basis for preparing a stamper disk.

本実施の形態が適用される光ディスク用原盤露光装置３００が光軸修正装置１００を備えることにより、露光レンズ２２へ向かうレーザ光の光軸と可動式ビームスプリッター４の交差する点が厳密に一点に固定され、さらに第２光検出器９にて測定される光軸のずれ量に基づいて可動式ビームスプリッター４の角度を調整することでレーザ発生装置１から出射されたレーザ光の光軸の変動を吸収し、可動式ビームスプリッター４から露光レンズ２２へと向かう光軸を一定に保つことが可能となる。この結果、出射角度や位置の変動が生じやすい、非線形光学素子を用いて第２高調波（ＳＨＧ）を発生させるレーザ発生装置１の場合にも、下流に設けられた露光レンズ２２を通過する光量の変動を抑制することができる。具体的には、例えば、波長が５１４ｎｍのアルゴンレーザをＢＢＯ等の非線形光学素子に通して、波長が２５７ｎｍの第２高調波を発生させ、これを露光レーザビームとして６時間の照射を行った場合、露光レンズ２２の透過量の変動は１％以内に低減する。また、アルゴンレーザの基本波を結像させるＢＢＯの表面上のポイントを移動させることにより第２高調波の出射角度や位置が大きく変動した場合にも、光学系の下流に設けられた露光レンズの透過量の変動は５％以内に低減する。
このように、本実施の形態が適用される光ディスク用原盤露光装置３００では、レーザ発生装置１から出射されたレーザ光の光軸の変動を吸収し、露光レンズ２２へと向かう光軸が一定に保たれ、露光レンズ２２を通過するのレーザ光の光量を一定に保つことができる。これにより、ガラス原盤２３上に塗布されたフォトレジスト層に集光されたレーザビームの強度が一定になり、所望の案内溝やピット形状が安定、かつ、正確に得られる。 Since the optical disk master exposure apparatus 300 to which the present embodiment is applied includes the optical axis correcting apparatus 100, the point where the optical axis of the laser beam toward the exposure lens 22 and the movable beam splitter 4 intersect is exactly one point. The fluctuation of the optical axis of the laser beam emitted from the laser generator 1 is adjusted by adjusting the angle of the movable beam splitter 4 based on the amount of deviation of the optical axis fixed and further measured by the second photodetector 9. The optical axis from the movable beam splitter 4 to the exposure lens 22 can be kept constant. As a result, even in the case of the laser generator 1 that generates the second harmonic (SHG) using a nonlinear optical element, in which the emission angle and the position are likely to vary, the amount of light that passes through the exposure lens 22 provided downstream. Fluctuations can be suppressed. Specifically, for example, when an argon laser having a wavelength of 514 nm is passed through a nonlinear optical element such as BBO, a second harmonic having a wavelength of 257 nm is generated, and this is used as an exposure laser beam for 6 hours of irradiation. The variation in the transmission amount of the exposure lens 22 is reduced to within 1%. In addition, even when the emission angle and position of the second harmonic change greatly by moving the point on the surface of the BBO that forms an image of the fundamental wave of the argon laser, the exposure lens provided downstream of the optical system The variation of the transmission amount is reduced within 5%.
As described above, in the optical disc master exposure apparatus 300 to which the present embodiment is applied, the fluctuation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator 1 is absorbed, and the optical axis toward the exposure lens 22 is constant. Thus, the amount of laser light passing through the exposure lens 22 can be kept constant. As a result, the intensity of the laser beam focused on the photoresist layer coated on the glass master 23 becomes constant, and a desired guide groove and pit shape can be obtained stably and accurately.

光軸修正装置の第１の実施の形態を説明する図である。It is a figure explaining 1st Embodiment of an optical axis correction apparatus. 光軸修正装置の第２の実施の形態を説明する図である。It is a figure explaining 2nd Embodiment of an optical axis correction apparatus. 光ディスク用原盤露光装置を説明する図である。It is a figure explaining the original disc exposure apparatus for optical discs. 従来の可動部を有するミラーを備えた原盤露光装置を説明する図である。It is a figure explaining the master exposure apparatus provided with the mirror which has the conventional movable part. 従来のレーザ光の位置及び角度の補正方法を説明する図である。It is a figure explaining the correction method of the position and angle of the conventional laser beam. 光軸の補正の誤差を説明する図である。It is a figure explaining the error of amendment of an optical axis. ４分割光検出器を説明する図である。It is a figure explaining a 4-part dividing photodetector.

符号の説明Explanation of symbols

１…レーザ発生装置、２，４２…可動式ミラー、３，４３，４５…ミラー駆動部、４…可動式ビームスプリッター、５…ビームスプリッター駆動部、６…第１光検出器、７，１１，４６，４８…ビームスプリッター、８…ミラー、９…第２光検出器、１０…演算部、１２，１５，１６，１９，２１，３３，３４…ミラー、１３…第１ＡＯ変調器、１４…第２ＡＯ変調器、１７…第１ＡＯ偏向器、１８…第２ＡＯ偏向器、２０…偏光ビームスプリッター、２２…露光レンズ、２３…ガラス原盤、２４…ターンテーブル、２５…回転機構部、２６…第１ノイズイータ、２７…第２ノイズイータ、２８，２９…ビーム整形用空間フィルタ、３０…第１ビームエクスパンダー、３１…第２ビームエクスパンダー、３２，４７，２８１，２８２，２９１，２９２…凸レンズ、３５…１／２波長板、４４…第２の可動式ミラー、２８０…第１アパーチャ、２９０…第２アパーチャ、１００，２００…光軸修正装置、３００，４００…原盤露光装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laser generator, 2, 42 ... Movable mirror, 3, 43, 45 ... Mirror drive part, 4 ... Movable beam splitter, 5 ... Beam splitter drive part, 6 ... 1st photodetector, 7, 11, 46, 48 ... Beam splitter, 8 ... Mirror, 9 ... Second photodetector, 10 ... Operation unit, 12, 15, 16, 19, 21, 33, 34 ... Mirror, 13 ... First AO modulator, 14 ... First 2 ... AA modulator, 17 ... 1st AO deflector, 18 ... 2nd AO deflector, 20 ... polarizing beam splitter, 22 ... exposure lens, 23 ... glass master, 24 ... turntable, 25 ... rotating mechanism, 26 ... first noise eater , 27 ... second noise eater, 28, 29 ... beam shaping spatial filter, 30 ... first beam expander, 31 ... second beam expander, 32, 47, 281, 282, 291 292 ... lens, 35 ... 1/2-wave plate, 44 ... second movable mirror, 280 ... first aperture, 290 ... second aperture, 100, 200 ... optical axis adjustment device 300, 400 ... master exposure apparatus

Claims (16)

光源から出射されたレーザ光が作用点に導かれる第１の光軸上に配置される可動式ミラーと、
前記レーザ光の一部が第２の光軸へと分岐される可動式ビームスプリッターと、
前記第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、
前記可動式ビームスプリッターと前記第１の光検出器との間に配置される集光手段と、
前記可動式ビームスプリッターと前記第１の光軸との交点を前記集光手段に対する物点としたとき、当該集光手段により形成される像点が前記第１の光検出器上に配置され、当該第１の光検出器で検出される光軸のずれ量に基づいて、前記可動式ミラーの角度が調整される駆動部と、
前記可動式ビームスプリッターより下流において、前記レーザ光の一部がさらに第３の光軸へと分岐されるビームスプリッターと、
前記第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、
前記第２の光検出器にて測定される前記光軸のずれ量に基づいて前記可動式ビームスプリッターの角度が調整される駆動部と、
を備えることを特徴とする光軸修正装置。 A movable mirror disposed on a first optical axis to which laser light emitted from a light source is guided to an action point;
A movable beam splitter in which a part of the laser beam is branched to a second optical axis;
A first photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the second optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
Condensing means disposed between the movable beam splitter and the first photodetector;
When an intersection point of the movable beam splitter and the first optical axis is an object point with respect to the light condensing means, an image point formed by the light converging means is disposed on the first photodetector, A drive unit that adjusts the angle of the movable mirror based on the amount of deviation of the optical axis detected by the first photodetector;
A beam splitter in which a part of the laser beam is further branched to a third optical axis downstream from the movable beam splitter;
A second photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the third optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
A drive unit that adjusts an angle of the movable beam splitter based on an amount of deviation of the optical axis measured by the second photodetector;
An optical axis correcting device comprising: 前記可動式ミラー及び可動式ビームスプリッターは、少なくとも２軸方向に独立に駆動可能であることを特徴とする請求項１記載の光軸修正装置。   2. The optical axis correcting device according to claim 1, wherein the movable mirror and the movable beam splitter can be independently driven in at least two axial directions. 前記集光手段は、焦点距離ｆを有する凸レンズであり、前記可動式ビームスプリッターと前記第１の光検出器との間に、それぞれ当該焦点距離ｆの２倍の間隔にて配置されることを特徴とする請求項１記載の光軸修正装置。   The condensing means is a convex lens having a focal length f, and is disposed between the movable beam splitter and the first photodetector at intervals of twice the focal length f. 2. The optical axis correcting device according to claim 1, wherein 前記光検出器は、４分割された受光部から構成される４分割光検出器であることを特徴とする請求項１記載の光軸修正装置。   The optical axis correcting device according to claim 1, wherein the photodetector is a four-divided photodetector composed of a light-receiving unit divided into four. 前記第２の光検出器は、前記第１の光軸とビームスプリッターとの交点との光軸上の距離が前記レーザ光のビーム径の少なくとも１００倍である位置に配置されることを特徴とする請求項１記載の光軸修正装置。   The second photodetector is disposed at a position where the distance on the optical axis between the intersection of the first optical axis and a beam splitter is at least 100 times the beam diameter of the laser light. The optical axis correcting device according to claim 1. 前記レーザ光は、非線形光学素子を用いて発生される第２高調波であることを特徴とする請求項１記載の光軸修正装置。   2. The optical axis correcting apparatus according to claim 1, wherein the laser beam is a second harmonic generated using a nonlinear optical element. 光源から出射されたレーザ光が作用点に導かれる第１の光軸上に配置される第１の可動式ミラー及び第２の可動式ミラーと、
前記可動式ミラーより下流において、前記レーザ光の一部が第２の光軸へと分岐される第１のビームスプリッターと、
前記第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、
前記第１のビームスプリッターと前記第１の光検出器との間に配置される集光手段と、
前記第２の可動式ミラーと前記第１の光軸との交点を前記集光手段に対する物点としたとき、当該集光手段により形成される像点が前記第１の光検出器上に配置され、当該第１の光検出器で検出される前記第１の光軸のずれ量に基づいて、前記第１の可動式ミラーの角度が調整される駆動部と、
前記第１のビームスプリッターより下流において、前記レーザ光の一部がさらに第３の光軸へと分岐される第２のビームスプリッターと、
前記第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、
前記第２の光検出器にて測定された前記第１の光軸のずれ量に基づいて前記第２の可動式ミラーの角度が調整される駆動部と、
を備えることを特徴とする光軸修正装置。 A first movable mirror and a second movable mirror disposed on a first optical axis in which laser light emitted from a light source is guided to an action point;
A first beam splitter in which a part of the laser beam is branched to a second optical axis downstream from the movable mirror;
A first photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the second optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
Condensing means disposed between the first beam splitter and the first photodetector;
When the intersection of the second movable mirror and the first optical axis is an object point with respect to the light collecting means, the image point formed by the light collecting means is arranged on the first photodetector. A drive unit that adjusts the angle of the first movable mirror based on the amount of deviation of the first optical axis detected by the first photodetector;
A second beam splitter in which a part of the laser beam is further branched to a third optical axis downstream from the first beam splitter;
A second photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the third optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
A drive unit that adjusts an angle of the second movable mirror based on a shift amount of the first optical axis measured by the second photodetector;
An optical axis correcting device comprising: 前記可動式ミラーは、少なくとも２軸方向に独立に駆動可能であることを特徴とする請求項７記載の光軸修正装置。   The optical axis correcting device according to claim 7, wherein the movable mirror can be driven independently in at least two axial directions. 前記集光手段は、焦点距離ｆを有する凸レンズであり、前記第２の可動式ミラーと前記第１の光検出器との間に、それぞれ当該焦点距離ｆの２倍の間隔にて配置されることを特徴とする請求項７記載の光軸修正装置。   The condensing means is a convex lens having a focal length f, and is disposed between the second movable mirror and the first photodetector at intervals of twice the focal length f. The optical axis correcting device according to claim 7. 前記光検出器は、４分割された受光部から構成される４分割光検出器であることを特徴とする請求項７記載の光軸修正装置。   The optical axis correcting device according to claim 7, wherein the photodetector is a four-divided photodetector including a light receiving unit divided into four. 前記第２の光検出器は、前記第１の光軸と第２のビームスプリッターとの交点との光軸上の距離が前記レーザ光のビーム径の少なくとも１００倍である位置に配置されることを特徴とする請求項７記載の光軸修正装置。   The second photodetector is arranged at a position where the distance on the optical axis between the intersection of the first optical axis and the second beam splitter is at least 100 times the beam diameter of the laser light. The optical axis correcting device according to claim 7. 前記レーザ光は、非線形光学素子を用いて発生される第２高調波であることを特徴とする請求項７記載の光軸修正装置。   8. The optical axis correcting device according to claim 7, wherein the laser beam is a second harmonic generated using a nonlinear optical element. レーザ光が出射されるレーザ発生装置と、前記レーザ発生装置から出射された前記レーザ光の光軸のずれが補正される光軸修正装置と、前記レーザ光が照射されるフォトレジスト層が表面に塗布されたガラス原盤と、前記フォトレジスト層に照射される前記レーザ光を透過させる露光集光手段と、前記ガラス原盤を回転させる回転機構部と、を有し、
前記光軸修正装置は、
前記レーザ光が前記露光集光手段に導かれる第１の光軸上に配置される可動式ミラーと、
前記レーザ光の一部が第２の光軸へと分岐される可動式ビームスプリッターと、
前記第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、
前記可動式ビームスプリッターと前記第１の光検出器との間に配置される集光手段と、
前記可動式ビームスプリッターより下流において、前記レーザ光の一部がさらに第３の光軸へと分岐されるビームスプリッターと、
前記第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、
前記光検出器の検出信号に基づいて前記光軸ずれ量が計算される演算部と、
を備え、
前記可動式ビームスプリッターと前記第１の光軸との交点を前記集光手段に対する物点としたとき、当該集光手段により形成される像点が前記第１の光検出器上に配置され、当該第１の光検出器で検出される前記第１の光軸のずれ量に基づいて前記可動式ミラーの角度が調整され、前記第２の光検出器で検出される前記第１の光軸のずれ量に基づいて前記可動式ビームスプリッターの角度が調整されることを特徴とする光ディスク用原盤露光装置。 A laser generator that emits laser light, an optical axis correction device that corrects a deviation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator, and a photoresist layer irradiated with the laser light on the surface A coated glass master, exposure condensing means for transmitting the laser light applied to the photoresist layer, and a rotating mechanism for rotating the glass master,
The optical axis correcting device is
A movable mirror disposed on a first optical axis through which the laser beam is guided to the exposure condensing means;
A movable beam splitter in which a part of the laser beam is branched to a second optical axis;
A first photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the second optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
Condensing means disposed between the movable beam splitter and the first photodetector;
A beam splitter in which a part of the laser beam is further branched to a third optical axis downstream from the movable beam splitter;
A second photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the third optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
A calculation unit that calculates the amount of optical axis deviation based on a detection signal of the photodetector;
With
When an intersection point of the movable beam splitter and the first optical axis is an object point with respect to the light condensing means, an image point formed by the light converging means is disposed on the first photodetector, The angle of the movable mirror is adjusted based on the shift amount of the first optical axis detected by the first photodetector, and the first optical axis detected by the second photodetector. An optical disk master exposure apparatus, wherein the angle of the movable beam splitter is adjusted based on the amount of deviation. レーザ光が出射されるレーザ発生装置と、前記レーザ発生装置から出射された前記レーザ光の光軸のずれが補正される光軸修正装置と、前記レーザ光が照射されるフォトレジスト層が表面に塗布されたガラス原盤と、前記フォトレジスト層に照射される前記レーザ光を透過させる露光集光手段と、前記ガラス原盤を回転させる回転機構部と、を有し、
前記光軸修正装置は、
前記レーザ光が前記露光集光手段に導かれる第１の光軸上に配置される第１の可動式ミラー及び第２の可動式ミラーと、
前記可動式ミラーより下流において、前記レーザ光の一部が第２の光軸へ分岐される第１のビームスプリッターと、
前記第２の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第１の光検出器と、
前記第１のビームスプリッターと前記第１の光検出器との間に配置される集光手段と、
前記第１のビームスプリッターより下流において、前記レーザ光の一部がさらに第３の光軸へ分岐される第２のスプリッターと、
前記第３の光軸のレーザ光の照射位置が測定され、前記第１の光軸のずれ量が検出される第２の光検出器と、
前記第１の光検出器及び前記第２の光検出器の検出信号に基づいて前記第１の光軸のずれ量が計算される演算部と、を備え、
前記第２の可動式ミラーと前記第１の光軸との交点を前記集光手段に対する物点としたとき、当該集光手段により形成される像点が前記第１の光検出器上に配置され、当該第１の光検出器で検出される前記第１の光軸のずれ量に基づいて前記第１の可動式ミラーの角度が調整され、前記第２の光検出器で検出される前記第１の光軸のずれ量に基づいて前記第２の可動式ミラーの角度が調整されることを特徴とする光ディスク用原盤露光装置。 A laser generator that emits laser light, an optical axis correction device that corrects a deviation of the optical axis of the laser light emitted from the laser generator, and a photoresist layer irradiated with the laser light on the surface A coated glass master, exposure condensing means for transmitting the laser light applied to the photoresist layer, and a rotating mechanism for rotating the glass master,
The optical axis correcting device is
A first movable mirror and a second movable mirror disposed on a first optical axis through which the laser light is guided to the exposure condensing means;
A first beam splitter in which a part of the laser beam is branched to a second optical axis downstream from the movable mirror;
A first photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the second optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
Condensing means disposed between the first beam splitter and the first photodetector;
A second splitter in which a part of the laser beam is further branched to a third optical axis downstream from the first beam splitter;
A second photodetector for measuring an irradiation position of the laser beam on the third optical axis and detecting a shift amount of the first optical axis;
An arithmetic unit that calculates a shift amount of the first optical axis based on detection signals of the first photodetector and the second photodetector;
When the intersection of the second movable mirror and the first optical axis is an object point with respect to the light collecting means, the image point formed by the light collecting means is arranged on the first photodetector. The angle of the first movable mirror is adjusted based on the shift amount of the first optical axis detected by the first photodetector, and the angle detected by the second photodetector is detected. An optical disc master exposure apparatus, wherein an angle of the second movable mirror is adjusted based on a shift amount of the first optical axis. 前記光軸修正装置と前記露光集光手段との間の光軸上に、前記レーザ光の波面を整えるピンホールが空けられたビーム整形用空間フィルタをさらに備えることを特徴とする請求項１３乃至請求項１４いずれか１項記載の光ディスク用原盤露光装置。   14. A beam shaping spatial filter in which a pinhole for adjusting a wavefront of the laser beam is formed on an optical axis between the optical axis correcting device and the exposure condensing unit. The master exposure apparatus for optical discs according to claim 14. 前記光軸修正装置と前記露光集光手段との間の光軸上に、電気光学変調器、音響光学変調器、音響光学偏向器のいずれかを備えることを特徴とする請求項１３乃至請求項１４いずれか１項記載の光ディスク用原盤露光装置。   14. An electro-optic modulator, an acousto-optic modulator, or an acousto-optic deflector is provided on the optical axis between the optical axis correcting device and the exposure / condensing means. 14. A master exposure apparatus for optical discs according to any one of 14 above.
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