JP3406338B2 - Disk recording medium manufacturing equipment - Google Patents

Disk recording medium manufacturing equipment

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JP3406338B2
JP3406338B2 JP00702193A JP702193A JP3406338B2 JP 3406338 B2 JP3406338 B2 JP 3406338B2 JP 00702193 A JP00702193 A JP 00702193A JP 702193 A JP702193 A JP 702193A JP 3406338 B2 JP3406338 B2 JP 3406338B2
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diameter
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、円形基板上に形成され
たレジスト膜に記録データに基づいて変調された光ビー
ムを照射して、光変調器に入力された記録データに基づ
いたデータパターンを露光記録することにより、円盤状
記録媒体の原盤を作製する円盤状記録媒体の製造装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention irradiates a resist film formed on a circular substrate with a light beam which is modulated based on recording data to form a data pattern based on the recording data input to an optical modulator. The present invention relates to a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus for manufacturing a master of a disk-shaped recording medium by exposing and recording.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、近時、光記録媒体(光ディスク
や光磁気ディスク等)の原盤作製などにおいて、レーザ
光を用いた光学記録装置、いわゆるレーザカッティング
装置が使用されている。
2. Description of the Related Art Recently, an optical recording device using laser light, that is, a so-called laser cutting device is generally used in manufacturing a master of an optical recording medium (optical disk, magneto-optical disk, etc.).

【0003】従来のレーザカッティング装置は、例えば
光ディスクの原盤作製を主体にして説明すると、例えば
図13に示すように、気体を増幅媒質とするガスレーザ
光源51と、このガスレーザ光源51から出射されたレ
ーザ光Lを、後段の光学系に導くミラー52と、このミ
ラー52を介して導かれたレーザ光Lを、記録信号に応
じて強度変調する光変調器と、この光変調器にて強度変
調されたレーザ光Lを、対物レンズ54に導くミラー5
5及び56とから構成されている。対物レンズ54及び
ミラー56は、円形基板57上に形成されたフォトレジ
スト膜58上に所定間隔をもって対向して配され、既知
の移動機構によって、円形基板57の径方向に移動す
る。
A conventional laser cutting device will be described, for example, mainly for producing a master of an optical disk. For example, as shown in FIG. 13, a gas laser light source 51 using a gas as an amplifying medium and a laser emitted from the gas laser light source 51. A mirror 52 that guides the light L to an optical system in the subsequent stage, an optical modulator that modulates the intensity of the laser light L guided through the mirror 52 according to a recording signal, and an intensity modulator that modulates the intensity of the laser light L. The mirror 5 that guides the laser light L to the objective lens 54
5 and 56. The objective lens 54 and the mirror 56 are arranged on the photoresist film 58 formed on the circular substrate 57 so as to face each other at a predetermined interval, and are moved in the radial direction of the circular substrate 57 by a known moving mechanism.

【0004】そして、上記光変調器として音響光学変調
器(Acousto Optic Modulator ;以下、単にAOMと記
す)60を用いた場合は、図に示すように、このAOM
60の前段にビーム縮小レンズ61が配置され、AOM
60の後段にビーム拡大レンズ62が配置される。
When an acousto-optical modulator (Acousto Optic Modulator; hereinafter simply referred to as AOM) 60 is used as the optical modulator, as shown in FIG.
The beam reduction lens 61 is arranged in front of the AOM 60.
A beam expanding lens 62 is arranged in the subsequent stage of 60.

【0005】レーザ光源51から出射された平行光束の
レーザ光Lは、ビーム縮小レンズ61によって、そのビ
ーム径が縮小されてAOM60に入射され、このAOM
60において、供給される超音波(記録信号に基づいて
変調されている)に応じてその光強度が変調される。こ
のAOM60にて強度変調されたレーザ光Lは、後段の
ビーム拡大レンズ62によって、そのビーム径が復元さ
れて平行光となり、その後、ミラー55及び56並びに
対物レンズ54を介してフォトレジスト膜58に照射さ
れる。
A laser beam L of a parallel light flux emitted from a laser light source 51 is reduced in beam diameter by a beam reduction lens 61 and is incident on an AOM 60.
At 60, the light intensity is modulated according to the supplied ultrasonic wave (which is modulated based on the recording signal). The laser beam L intensity-modulated by the AOM 60 has its beam diameter restored by the beam expanding lens 62 in the subsequent stage to become parallel light, and thereafter is reflected on the photoresist film 58 via the mirrors 55 and 56 and the objective lens 54. Is irradiated.

【0006】上記円形基板は、例えば図示しない回転駆
動系にてCAV方式で回転駆動されており、記録信号に
基づいて強度変調されたレーザ光Lがフォトレジスト膜
58に照射されることにより、フォトレジスト膜58に
は、円形基板57の同心円に沿って、あるいは螺旋形に
沿って上記記録信号に応じた記録パターンが描画される
ことになる。
The circular substrate is rotatively driven by a CAV system, for example, by a rotary drive system (not shown), and the photoresist film 58 is irradiated with the laser light L whose intensity is modulated based on a recording signal. A recording pattern corresponding to the recording signal is drawn on the resist film 58 along the concentric circles of the circular substrate 57 or along the spiral shape.

【0007】即ち、フォトレジスト膜58は、その描画
された記録パターンに沿って感光され、その感光された
部分が次の現像工程における現像液にて溶解することに
なる。従って、その後の現像処理において、その感光さ
れた部分が除去され、フォトレジスト膜58によるマス
クが形成される。その後、無電解めっき、ニッケルめっ
き並びに洗浄工程等が行われることにより、光ディスク
用の原盤が作製される。
That is, the photoresist film 58 is exposed along the drawn recording pattern, and the exposed portion is dissolved by the developing solution in the next developing step. Therefore, in the subsequent developing process, the exposed portion is removed and a mask made of the photoresist film 58 is formed. After that, electroless plating, nickel plating, a cleaning process, and the like are performed, so that a master for an optical disk is manufactured.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
は、その仕様(例えばサイズや用途)に応じてピットや
グルーブの大きさが異なる。従来においては、例えばピ
ットに関してみると、その形状設定のために、ビーム縮
小レンズ61及びビーム拡大レンズ62で構成されるビ
ームエキスパンダにより、レーザ光Lの光束径を変化さ
せられ、ミラー55及び56間に設置されたレンズ素子
63にて対物レンズ54の入射瞳径に対してその有効瞳
径を変化させて対物レンズ射出側のNAを変化させるよ
うにして、各種仕様に応じたピットの形状を決定させる
ようにしている。
By the way, the size of pits and grooves of an optical disc varies depending on its specifications (for example, size and purpose). Conventionally, regarding the pit, for example, in order to set its shape, the beam diameter of the laser light L is changed by a beam expander composed of a beam reduction lens 61 and a beam expansion lens 62, and the mirrors 55 and 56. By changing the effective pupil diameter with respect to the entrance pupil diameter of the objective lens 54 by the lens element 63 installed between them to change the NA on the exit side of the objective lens, the pit shape according to various specifications can be obtained. I'm trying to make a decision.

【0009】これは、レンズ素子63の焦点距離を変化
させることによっても実現されている。即ち、このレン
ズ素子63は、図14に示すように、対物レンズ54の
光学特性上の最適集光位置Pfにレーザ光Lを集光し、
その集光能力によるビーム形状と、集光位置Pf通過後
の対物レンズ54の瞳面を満たす面積比率の変化によっ
て、対物レンズ集光面PB でのビーム形状を決定するも
のである。
This is also realized by changing the focal length of the lens element 63. That is, as shown in FIG. 14, the lens element 63 condenses the laser light L at the optimum condensing position Pf on the optical characteristics of the objective lens 54,
The beam shape at the objective lens condensing surface PB is determined by the beam shape due to the condensing ability and the change in the area ratio that fills the pupil surface of the objective lens 54 after passing the condensing position Pf.

【0010】実際には、ビーム縮小レンズ61及びビー
ム拡大レンズ62並びにレンズ素子63自体を、各種仕
様に応じて変更・交換し、それによって、各種仕様に応
じたピット形状、即ち光束径を実現させるようにしてい
る。
In practice, the beam reduction lens 61, the beam expansion lens 62, and the lens element 63 themselves are changed / replaced according to various specifications, thereby realizing a pit shape, that is, a light beam diameter according to various specifications. I am trying.

【0011】しかし、それぞれ単体の光学素子であるビ
ーム縮小レンズ61及びビーム拡大レンズ62並びにレ
ンズ素子63の変更・交換は容易ではなく、変更のたび
に光学系全体を初期状態から再設定する必要があり、こ
の再設定に伴う微調整も複雑になり非常に煩わしいとい
う不都合がある。
However, it is not easy to change or replace the beam reducing lens 61, the beam expanding lens 62, and the lens element 63, which are individual optical elements, and it is necessary to reset the entire optical system from the initial state each time it is changed. However, there is an inconvenience that the fine adjustment accompanying this resetting becomes complicated and very troublesome.

【0012】また、各種仕様に応じて信号特性(ピット
変調度、グルーブコンディション等)も異なってくる
が、信号特性の最適化を行うためには、上記再設定を数
回行いながら条件設定を行わなければならないという煩
わしさがある。しかも、単体の光学素子の変更・交換に
よってピット形状を変化させる範囲、即ち単体の光学素
子のピット形状に対する自由度には限界があるため、実
際には、各種仕様に応じた信号特性の最適化が実現でき
ないのが現状である。
Further, although the signal characteristics (pit modulation degree, groove condition, etc.) differ according to various specifications, in order to optimize the signal characteristics, the above-mentioned resetting is performed several times while setting the conditions. There is the hassle of having to do it. Moreover, there is a limit to the range in which the pit shape can be changed by changing or replacing the single optical element, that is, the degree of freedom with respect to the pit shape of the single optical element is limited. The current situation is that

【0013】このように、従来のレーザカッティング装
置においては、光ディスクの各種仕様に応じて光学系の
再設定や条件の最適化のために、多くの時間を費やすこ
とになり、効率的な光ディスクの原盤の作製を行うこと
ができない。
As described above, in the conventional laser cutting apparatus, much time is spent for resetting the optical system and optimizing the conditions in accordance with various specifications of the optical disc, so that an efficient optical disc The master cannot be made.

【0014】これは、現行技術として、レーザ光Lのビ
ーム形状を変化させるのに、単体の光学素子を用いた設
定方法を行っているためであり、ビーム形状を変えるた
めに、その単体の光学素子の交換とセッティング調整が
その都度必要になるからである。また、単体の光学素子
は、その焦点距離を任意に選択することは事実上不可能
であり、信号特性の最適化には、困難性を伴うという問
題がある。
This is because, as the current technology, a setting method using a single optical element is used to change the beam shape of the laser beam L. In order to change the beam shape, the single optical element is used. This is because element replacement and setting adjustment are required each time. In addition, it is virtually impossible to arbitrarily select the focal length of a single optical element, and there is a problem in that optimization of signal characteristics is difficult.

【0015】本発明は、上記の課題に鑑みてなされたも
ので、その目的とするところは、円盤状記録媒体の各種
仕様に応じて、任意に、かつ簡単に光ビームの光束径を
変えることができ、各種仕様に応じた円盤状記録媒体の
原盤を容易に作製することができる円盤状記録媒体の製
造装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to arbitrarily and easily change the luminous flux diameter of a light beam according to various specifications of a disk-shaped recording medium. It is therefore an object of the present invention to provide a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus capable of easily manufacturing a master of a disk-shaped recording medium according to various specifications.

【0016】また、本発明は、各種仕様に応じた信号特
性の最適化や製造に必要な条件設定が非常に簡単に行う
ことができ、円盤状記録媒体の開発を効率的に行うこと
ができる円盤状記録媒体の製造装置を提供することにあ
る。
Further, according to the present invention, the optimization of signal characteristics according to various specifications and the setting of conditions necessary for manufacturing can be performed very easily, and the disc-shaped recording medium can be efficiently developed. An object is to provide an apparatus for manufacturing a disc-shaped recording medium.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上述のような目的を達成
するための提案される本発明は、円形基板上に形成され
たレジスト膜に記録データに基づいて変調された光ビー
ムを照射して、上記記録データに基づいたデータパター
ンを露光記録することにより、円盤状記録媒体の原盤を
作製する円盤状記録媒体の製造装置において、上記光ビ
ームを記録信号にて変調する光学系と、上記光ビームの
径を可変する光束径変換光学系と、偏光ビームスプリッ
タから入射されるレーザ光の焦点距離を可変する収束レ
ンズ素子備える。ここで、光ビームを記録信号にて変調
する光学系は、ハーフミラーを介してレーザ光のビーム
を絞るビーム縮小レンズと、記録信号にて変調された超
音波に基づいて上記ビーム縮小レンズからのレーザ光を
強度変調する音響光学変調器と、上記音響光学変調器か
らの強度変調されたレーザ光を平行光束に変換して元の
ビーム径に戻すビーム拡大レンズで構成されている。
The present invention proposed to achieve the above object is to irradiate a resist film formed on a circular substrate with a light beam modulated based on recording data. In a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus for producing a master of a disk-shaped recording medium by exposing and recording a data pattern based on the recording data, an optical system for modulating the light beam with a recording signal, and the optical system A beam diameter conversion optical system that changes the diameter of the beam, and a converging lens element that changes the focal length of the laser light incident from the polarization beam splitter are provided. Here, the optical system that modulates the light beam with the recording signal includes a beam reducing lens that narrows the beam of the laser light through a half mirror, and a beam reducing lens based on the ultrasonic wave that is modulated with the recording signal. It is composed of an acousto-optic modulator that intensity-modulates the laser light, and a beam expansion lens that converts the intensity-modulated laser light from the acousto-optic modulator into a parallel light beam and restores the original beam diameter.

【0018】この場合、上記光束径変換光学系を、上記
光ビームの進行方向に沿って、少なくとも第1の収束レ
ンズ、発散レンズ及び第2の収束レンズの順に配置され
たレンズ群にて構成し、このレンズ群に入射される光ビ
ームの光束径を、上記第1の収束レンズと上記発散レン
ズ間の第1の距離と上記発散レンズと上記第2の収束レ
ンズ間の第2の距離の変化に応じて可変させる構造にす
る。
In this case, the light beam diameter converting optical system is constructed by a lens group in which at least a first converging lens, a diverging lens and a second converging lens are arranged in this order along the traveling direction of the light beam. , The change in the luminous flux diameter of the light beam incident on this lens group between the first distance between the first converging lens and the diverging lens and the second distance between the diverging lens and the second converging lens. The structure is made variable according to.

【0019】この場合、上記光束径変換光学系を、上記
光ビームの進行方向に沿って、少なくとも第1の収束レ
ンズ、発散レンズ及び第2の収束レンズの順に配置され
たレンズ群にて構成し、このレンズ群に入射される光ビ
ームの光束径を、固定された上記第1の収束レンズと
動可能とされた上記発散レンズ間の第1の距離と上記発
散レンズと移動可能とされた上記第2の収束レンズ間の
第2の距離の変化に応じて可変させる構造にする。
In this case, the beam diameter converting optical system is composed of a lens group in which at least a first converging lens, a diverging lens and a second converging lens are arranged in this order along the traveling direction of the light beam. , The beam diameter of the light beam incident on this lens group is transferred to the fixed first converging lens.
A structure for varying in response to changes in a second distance between the rotatably and has been first distance and the diverging lens movable and have been the second converging lens between the diverging lens.

【0020】あるいは、上記光束径変換光学系を、光ビ
ームが平行光束となっている対物レンズの直前に設置
し、そして、上記光ビームの進行方向に沿って、少なく
とも第1の収束レンズ、発散レンズ及び第2の収束レン
ズの順に配置されたレンズ群にて構成し、このレンズ群
に入射される光ビームの光束径を、移動可能とされた
記第1の収束レンズと移動可能とされた上記発散レンズ
間の第1の距離と上記発散レンズと固定された上記第2
の収束レンズ間の第2の距離の変化に応じて可変させ、
同一焦点に異なった焦点距離の集光を行う構造にする。
Alternatively, the light beam diameter converting optical system is installed immediately before the objective lens in which the light beam is a parallel light beam, and at least a first converging lens and a diverging lens are provided along the traveling direction of the light beam. The first converging lens is composed of a lens group in which a lens and a second converging lens are arranged in this order, and the luminous flux diameter of a light beam incident on the lens group is movable. A first distance between the divergent lenses that is movable and a second distance fixed to the divergent lenses.
Variable according to the change of the second distance between the converging lenses of
The structure is such that the same focal point has different focal lengths.

【0021】[0021]

【作用】本発明に係る円盤状記録媒体の製造装置におい
ては、光束径変換光学系にて光ビームの径が可変され
て、レジスト膜に照射される。従って、光束径変換光学
系によるビーム径の可変量を、各種仕様に応じて設定す
ることにより、各種仕様に応じた円盤状記録媒体の原盤
を容易に作製することができる。
In the disk-shaped recording medium manufacturing apparatus according to the present invention, the diameter of the light beam is changed by the light beam diameter converting optical system and the resist film is irradiated with the light beam. Therefore, by setting the variable amount of the beam diameter by the light beam diameter conversion optical system according to various specifications, it is possible to easily manufacture a master of a disk-shaped recording medium according to various specifications.

【0022】具体的には、まず1つの発明に関しては、
上記光ビームの進行方向に沿って、少なくとも第1の収
束レンズ、発散レンズ及び第2の収束レンズの順に配置
されたレンズ群にて上記光束径変換光学系が構成されて
いることから、第1の収束レンズと発散レンズ間の第1
の距離と、発散レンズと第2の収束レンズ間の第2の距
離を、各種仕様に基づいて変えることにより、レンズ群
に入射される光ビームの光束径が各種仕様に応じて変わ
ることとなる。
Specifically, regarding one invention,
Since the light beam diameter converting optical system is configured by the lens group in which at least the first converging lens, the diverging lens and the second converging lens are arranged in this order along the traveling direction of the light beam, Between the converging and diverging lenses of
And the second distance between the diverging lens and the second converging lens based on various specifications, the light beam diameter of the light beam incident on the lens group changes according to various specifications. .

【0023】また、別の発明に関しては、上記光ビーム
を記録データに基づいて変調させる光変調器におけるそ
の直後の非平行光束中に上記光束径変換光学系を設置
し、そして、この光束径変換光学系が、上記光ビームの
進行方向に沿って、少なくとも第1の収束レンズ、発散
レンズ及び第2の収束レンズの順に配置されたレンズ群
と、この第2の収束レンズの後方に設置された光軸補正
用のシフターにて構成されていることから、第1の収束
レンズと発散レンズ間の第1の距離と、発散レンズと第
2の収束レンズ間の第2の距離を、各種仕様に基づいて
変えることにより、レンズ群に入射される光ビームの光
束径が各種仕様に応じて変わることとなる。特に、上記
第2の収束レンズを透過した光ビームは、その光軸がず
れることとなるが、後段の光軸補正用のシフターにて光
軸が補正されるため、この光束径変換光学系から出射す
る光ビームに光軸のずれは生じない。
Further, according to another invention, the light beam diameter converting optical system is installed in the non-parallel light beam immediately after the light beam in the optical modulator for modulating the light beam based on the recording data, and the light beam diameter conversion is performed. An optical system is arranged at the rear of the second converging lens, and a lens group in which at least a first converging lens, a diverging lens and a second converging lens are arranged in this order along the traveling direction of the light beam. Since it is composed of a shifter for optical axis correction, the first distance between the first converging lens and the diverging lens and the second distance between the diverging lens and the second converging lens can be set to various specifications. By changing based on this, the luminous flux diameter of the light beam incident on the lens group changes according to various specifications. In particular, the optical axis of the light beam that has passed through the second converging lens is displaced, but the optical axis is corrected by the shifter for correcting the optical axis in the subsequent stage. No deviation of the optical axis occurs in the emitted light beam.

【0024】また、更に別の発明に関しては、光ビーム
が平行光束となっている対物レンズ直前に上記光束径変
換光学系を設置し、そして、この光束径変換光学系が、
上記光ビームの進行方向に沿って、少なくとも第1の収
束レンズ、発散レンズ及び第2の収束レンズの順に配置
されたレンズ群にて構成されていることから、このレン
ズ群に入射される光ビームの光束径は、上記第1の収束
レンズと上記発散レンズ間の第1の距離と上記発散レン
ズと上記第2の収束レンズ間の第2の距離の変化に応じ
て可変され、更に同一焦点に異なった焦点距離の集光が
行われる。これによって、レンズ群に入射される光ビー
ムの光束径が各種仕様に応じて変わることとなる。
Further, regarding still another invention, the light beam diameter converting optical system is installed immediately before the objective lens in which the light beam is a parallel light beam, and the light beam diameter converting optical system is
Since the lens group is composed of at least a first converging lens, a diverging lens, and a second converging lens arranged in this order along the traveling direction of the light beam, the light beam incident on this lens group Is changed in accordance with a change in a first distance between the first converging lens and the diverging lens and a second distance between the diverging lens and the second converging lens, and further the same focus is achieved. Focusing with different focal lengths is performed. As a result, the light beam diameter of the light beam incident on the lens group changes according to various specifications.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明に係る円盤状記録媒体の製造装
置を光ディスクの原盤を作製する際に用いられるレーザ
カッティング装置に適用した実施例(以下、単に実施例
に係るレーザカッティング装置と記す)のいくつかを図
1〜図12を参照しながら説明する。
EXAMPLE An example in which the disk-shaped recording medium manufacturing apparatus according to the present invention is applied to a laser cutting apparatus used in manufacturing an optical disk master (hereinafter, simply referred to as a laser cutting apparatus according to the example) Some of these will be described with reference to FIGS.

【0026】まず、第1実施例に係るレーザカッティン
グ装置は、図1に示すように、気体を増幅媒質とするガ
スレーザ光源1と、このガスレーザ光源1から出射され
たレーザ光Lを、2つの光成分に分けるハーフミラーH
Mと、このハーフミラーHMにて反射された1つの光成
分L1 が入射されるグルーブ描画用の光学系(以下、グ
ルーブ光学系と記す)Gと、上記ハーフミラーHMを透
過した他方の光成分L2 がミラーM1 を介して入射され
るピット描画用の光学系(以下、ピット光学系と記す)
Pと、これらグルーブ光学系G及びピット光学系Pから
のレーザ光L1及びL2 がそれぞれ入射されて各レーザ
光L1 及びL2 を1つの光路に導く偏光ビームスプリッ
タPBSと、この偏光ビームスプリッタPBSからのレ
ーザ光(L1 ,L2 )を対物レンズOBに導くミラーM
2 とから構成されている。
First, in the laser cutting apparatus according to the first embodiment, as shown in FIG. 1, a gas laser light source 1 using a gas as an amplification medium and a laser light L emitted from the gas laser light source 1 are divided into two light beams. Half mirror H divided into components
M, an optical system for drawing a groove (hereinafter referred to as a groove optical system) G on which one light component L1 reflected by the half mirror HM is incident, and the other light component transmitted through the half mirror HM. Optical system for pit drawing in which L2 is incident through the mirror M1 (hereinafter referred to as pit optical system)
P, a polarization beam splitter PBS from which the laser beams L1 and L2 from the groove optical system G and the pit optical system P are respectively incident to guide the laser beams L1 and L2 to one optical path, and the polarization beam splitter PBS from this polarization beam splitter PBS. Mirror M for guiding laser light (L1, L2) to objective lens OB
It consists of 2 and.

【0027】また、上記グルーブ光学系Gと偏光ビーム
スプリッタPBS間には、グルーブ光学系Gからのレー
ザ光L1 を偏光ビームスプリッタPBSに導く2枚のミ
ラーM3 及びM4 が配置されており、また、上記ピット
光学系Pと偏光ビームスプリッタPBS間には、ピット
光学系Pからのレーザ光L2 を偏光ビームスプリッタP
BSに導く1枚のミラーM5 が配置されている。
Two mirrors M3 and M4 for guiding the laser beam L1 from the groove optical system G to the polarizing beam splitter PBS are arranged between the groove optical system G and the polarizing beam splitter PBS, and The laser beam L2 from the pit optical system P is polarized beam splitter P between the pit optical system P and the polarization beam splitter PBS.
One mirror M5 leading to the BS is arranged.

【0028】上記対物レンズOBとミラーM2 は、円形
基板2上に形成されたフォトレジスト膜3上に所定間隔
をもって対向して配され、既知の移動機構によって、円
形基板2の径方向に移動する。ここで、フォトレジスト
膜3の感光材料がポジ型の場合、上記レーザ光Lとして
は、Arレーザでは458nm、He−Cdレーザでは
442nmの発振波長のものが選定される。なお、最近
では、400nm付近の発振波長を有するKrレーザも
使用される場合がある。また、これらのガスレーザは、
ブリュースター窓により直線偏光のレーザ光Lとして出
射される。
The objective lens OB and the mirror M2 are arranged on the photoresist film 3 formed on the circular substrate 2 so as to face each other with a predetermined gap, and are moved in the radial direction of the circular substrate 2 by a known moving mechanism. . Here, when the photosensitive material of the photoresist film 3 is a positive type, the laser light L having an oscillation wavelength of 458 nm for Ar laser and 442 nm for He-Cd laser is selected. Incidentally, recently, a Kr laser having an oscillation wavelength near 400 nm may also be used. Also, these gas lasers
It is emitted as linearly polarized laser light L through the Brewster window.

【0029】そして、上記グルーブ光学系Gは、ハーフ
ミラーHMにて反射したレーザ光(平行光束)L1 のビ
ーム径を絞るビーム縮小レンズGB1 と、グルーブ記録
信号にて変調された超音波に基づいて、上記ビーム縮小
レンズGB1 からのレーザ光L1 を強度変調する音響光
学変調器(Acousto Optic Modulator ;以下、単にAO
Mと記す)GAと、このAOM(GA)からの強度変調
されたレーザ光(拡散光束)を平行光束に変換して元の
ビーム径に戻すビーム拡大レンズGB2 とで構成されて
いる。
The groove optical system G is based on a beam reduction lens GB1 for narrowing the beam diameter of the laser light (parallel light flux) L1 reflected by the half mirror HM, and an ultrasonic wave modulated by the groove recording signal. , An acousto-optical modulator (Acousto Optic Modulator) for intensity-modulating the laser beam L1 from the beam reduction lens GB1;
GA) and a beam expanding lens GB2 for converting the intensity-modulated laser beam (diffused beam) from the AOM (GA) into a parallel beam and returning it to the original beam diameter.

【0030】また、上記ピット光学系Pは、ミラーM1
にて反射したレーザ光(平行光束)L2 のビーム径を絞
るビーム縮小レンズPB1 と、ピット記録信号にて変調
された超音波に基づいて、上記ビーム縮小レンズPB1
からのレーザ光L2 を強度変調するAOM(PA)と、
このAOM(PA)からの強度変調されたレーザ光(拡
散光束)を平行光束に変換して元のビーム径に戻すビー
ム拡大レンズPB2 とで構成されている。
Further, the pit optical system P has a mirror M1.
The beam reducing lens PB1 for narrowing the beam diameter of the laser beam (parallel light beam) L2 reflected by the beam reducing lens PB1 is based on the ultrasonic wave modulated by the pit recording signal.
AOM (PA) for intensity-modulating the laser beam L2 from
It is composed of a beam expanding lens PB2 for converting the intensity-modulated laser beam (diffused beam) from the AOM (PA) into a parallel beam and returning it to the original beam diameter.

【0031】また、上記偏光ビームスプリッタPBSと
ミラーM2 間には、偏光ビームスプリッタPBSから入
射されるレーザ光(L1 ,L2 )の焦点距離を可変にす
る収束レンズ素子LEが配置されている。即ち、この収
束レンズ素子LEは、図2に示すように、対物レンズO
Bの光学特性上の最適集光位置Pfにレーザ光(L1,
L2 )を集光し、その集光能力によるビーム形状と、集
光位置Pf通過後の対物レンズOBの瞳面を満たす面積
比率の変化によって、対物レンズ集光面PB でのビーム
形状を決定するものである。
Further, a converging lens element LE for varying the focal length of the laser beams (L1, L2) incident from the polarization beam splitter PBS is arranged between the polarization beam splitter PBS and the mirror M2. That is, this converging lens element LE, as shown in FIG.
A laser beam (L1, L1,
L2) is condensed, and the beam shape at the objective lens condensing surface PB is determined by the beam shape due to the condensing ability and the change in the area ratio that fills the pupil surface of the objective lens OB after passing the condensing position Pf. It is a thing.

【0032】AOM(GA,PA)は、例えばTeO2
結晶から構成されており、超音波発生回路からの超音波
供給によりその結晶中に生じた屈折率変化による位相回
折格子を用いて、そのブラッグ回折の1次回折光を信号
記録に使用するものである。回折光の強度は、超音波パ
ワーで決まり、回折方向はキャリア周波数で決まる。
AOM (GA, PA) is, for example, TeO 2
It is composed of a crystal and uses the phase diffraction grating due to the change in the refractive index generated in the crystal by the supply of ultrasonic waves from the ultrasonic wave generation circuit, and uses the first-order diffracted light of the Bragg diffraction for signal recording. . The intensity of the diffracted light is determined by the ultrasonic power, and the diffraction direction is determined by the carrier frequency.

【0033】そして、第1実施例に係るレーザカッティ
ング装置においては、グルーブ光学系GとミラーM3 と
の間、及びピット光学系PとミラーM5 との間に、それ
ぞれ光束径変換光学系GPO及PPOを配置して構成さ
れている。
In the laser cutting apparatus according to the first embodiment, the beam diameter converting optical systems GPO and PPO are respectively provided between the groove optical system G and the mirror M3 and between the pit optical system P and the mirror M5. Are arranged.

【0034】各光束径変換光学系GPO及びPPOは、
3群3枚構成とされており、例えば図3に示すように、
レーザ光L1 (L2 )の進行方向に沿って、第1の収束
レンズLa、発散レンズLb及び第2の収束レンズLc
の順に配置されたレンズ群11にて構成され、このレン
ズ群11に入射されるレーザ光L1 (L2 )の光束径φ
Dを、第1の収束レンズLaと発散レンズLb間の第1
の距離S1と、発散レンズLbと第2の収束レンズLc
間の第2の距離S2の変化に応じて可変させる構造とな
っている。即ち、対物レンズ射出側の実効NAを任意に
可変できる光学系となっている。
The respective light beam diameter conversion optical systems GPO and PPO are
It is composed of 3 elements in 3 groups. For example, as shown in FIG.
The first converging lens La, the diverging lens Lb, and the second converging lens Lc are arranged along the traveling direction of the laser light L1 (L2).
And the luminous flux diameter φ of the laser light L1 (L2) that is made incident on this lens group 11.
D is the first between the first converging lens La and the diverging lens Lb.
Distance S1, the diverging lens Lb and the second converging lens Lc
The structure is variable according to the change of the second distance S2 between them. That is, the optical system is capable of arbitrarily changing the effective NA on the exit side of the objective lens.

【0035】ビーム拡大レンズGB2 (PB2 )から出
射されたレーザ光(平行光束)L1(L2 )は、まず、
第1の収束レンズLaにて収束光束に変換されて次段の
発散レンズLbに入射される。この発散レンズLbに入
射される収束光束は、上記第1の距離S1に応じてその
光束径φDが縮小される。発散レンズLbに入射したレ
ーザ光L1 (L2 )は発散光束に変換されて、次段の第
2の収束レンズLcに入射され、平行光束に変換され
る。即ち、この第2の収束レンズLcから出射されるレ
ーザ光L1 (L2 )は、この第2の収束レンズLcに入
射したときの光束径と同じ径を有する平行光束に変換さ
れる。この場合、第1の収束レンズLaは固定とされ、
発散レンズLb及び第2の収束レンズLcを移動させる
ことにより、上記第1及び第2の距離S1及びS2をそ
れぞれ変更する。
First, the laser beam (parallel light flux) L1 (L2) emitted from the beam expanding lens GB2 (PB2) is
It is converted into a convergent light beam by the first converging lens La and is incident on the diverging lens Lb at the next stage. The convergent light beam incident on the diverging lens Lb has its light beam diameter φD reduced according to the first distance S1. The laser light L1 (L2) that has entered the diverging lens Lb is converted into a divergent light beam, and then enters the second converging lens Lc in the next stage and converted into a parallel light beam. That is, the laser beam L1 (L2) emitted from the second converging lens Lc is converted into a parallel light beam having the same diameter as the light beam diameter when entering the second converging lens Lc. In this case, the first converging lens La is fixed,
The first and second distances S1 and S2 are changed by moving the diverging lens Lb and the second converging lens Lc.

【0036】このレンズ群11における平行光束の径φ
Dの変化率(倍率)を、図4及び図5の特性図、並びに
表1〜表7に示す。例えば、図3に示すように、出射さ
れる平行光束の径を入射される平行光束の径φDの0.
8倍、即ち倍率を0.8とする場合は、第1の距離S1
を27.36140mmとし、第2の距離S2を53.
55102mmにする。また、倍率を1.0とする場合
は、第1の距離S1を25.35423mmとし、第2
の距離S2を71.39696mmにする。また、倍率
を1.6とする場合は、第1の距離S1を19.332
70mmとし、第2の距離S2を98.16587mm
にする。また、倍率を2.1とする場合は、第1の距離
S1を14.31477mmとし、第2の距離S2を1
08.78846mmにする。
Diameter φ of the parallel light flux in this lens group 11
The rate of change (magnification) of D is shown in the characteristic diagrams of FIGS. 4 and 5 and Tables 1 to 7. For example, as shown in FIG. 3, the diameter of the emitted parallel light flux is 0.
8 times, that is, when the magnification is 0.8, the first distance S1
Is 27.36140 mm, and the second distance S2 is 53.
55102 mm. When the magnification is 1.0, the first distance S1 is 25.35423 mm and the second distance S1 is
The distance S2 is set to 71.39696 mm. When the magnification is 1.6, the first distance S1 is 19.332.
70 mm and the second distance S2 is 98.16587 mm
To When the magnification is 2.1, the first distance S1 is 14.31477 mm and the second distance S2 is 1.
It is set to 08.788846 mm.

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】[0039]

【表3】 [Table 3]

【0040】[0040]

【表4】 [Table 4]

【0041】[0041]

【表5】 [Table 5]

【0042】[0042]

【表6】 [Table 6]

【0043】[0043]

【表7】 [Table 7]

【0044】なお、上記レンズ群11は、各倍率におい
ても、レーザ光L1 ,L2 の波面収差の発生を極力抑え
込むための光学設計を施してある。以下に、レンズ群1
1を構成する第1の収束レンズLa、発散レンズLb及
び第2の収束レンズLcの具体的構成例を示す。
The lens group 11 has an optical design for suppressing the occurrence of the wavefront aberration of the laser beams L1 and L2 at each magnification. Below, lens group 1
A specific configuration example of the first converging lens La, the diverging lens Lb, and the second converging lens Lc that configure No. 1 will be described.

【0045】上記第1の収束レンズLaは、図6Aに示
すように、入射側曲率半径Raiが79.594mm、出
射側曲率半径Raoが57.591mm、直径φMaが2
0mm(有効瞳径φda =15mm)、最大厚みta が
3.0mmの凸レンズであり、その属性は、以下の通り
である。
As shown in FIG. 6A, the first converging lens La has an entrance side curvature radius Rai of 79.594 mm, an exit side curvature radius Rao of 57.591 mm, and a diameter φMa of 2.
The convex lens has a diameter of 0 mm (effective pupil diameter φda = 15 mm) and a maximum thickness ta of 3.0 mm, and its attributes are as follows.

【0046】・NR:R1 =3 R2 =3 ・AS:R1 =0.5 R2 =0.5 ・偏心量δ=30″ ・材質 BK7 (nd =1.51680) ・MgF2 コーティング (λ=441.6nmにてR
<0.2%) ・f=63.99 (λ=441.6nm)
NR: R1 = 3 R2 = 3 ・ AS: R1 = 0.5 R2 = 0.5 ・ Eccentricity δ = 30 "・ Material BK7 (nd = 1.51680) ・ MgF 2 coating (λ = 441) R at 0.6 nm
<0.2%) f = 63.99 (λ = 441.6 nm)

【0047】上記発散レンズLbは、図6Bに示すよう
に、入射側曲率半径Rbiが40.561mm、出射側曲
率半径Rboが30.282mm、直径φMbが20mm
(有効瞳径φdb =15mm)、最小厚みtb が2.0
mmの凹レンズであり、その属性は、以下の通りであ
る。
As shown in FIG. 6B, the diverging lens Lb has an entrance side curvature radius Rbi of 40.561 mm, an exit side curvature radius Rbo of 30.282 mm, and a diameter φMb of 20 mm.
(Effective pupil diameter φdb = 15 mm), minimum thickness tb is 2.0
It is a concave lens of mm, and its attributes are as follows.

【0048】・NR:R1 =3 R2 =3 ・AS:R1 =0.5 R2 =0.5 ・偏心量δ=30″ ・材質 F2 (nd =1.62004) ・MgF2 コーティング (λ=441.6nmにてR
<0.2%) ・f=−26.76 (λ=441.6nm)
NR: R1 = 3 R2 = 3 AS: R1 = 0.5 R2 = 0.5 eccentricity δ = 30 ″ Material F2 (nd = 1.62004) MgF 2 coating (λ = 441) R at 0.6 nm
<0.2%) f = −26.76 (λ = 441.6 nm)

【0049】上記第2の収束レンズLcは、図6Cに示
すように、入射側曲率半径Rciが287.826mm、
出射側曲率半径Rcoが130.036mm、直径φMc
が20mm(有効瞳径φdc =15mm)、最大厚みt
c が3.0mmの凸レンズであり、その属性は、以下の
通りである。
As shown in FIG. 6C, the second converging lens Lc has an incident side radius of curvature Rci of 287.826 mm,
Radius of curvature Rco is 130.036 mm, diameter φMc
Is 20 mm (effective pupil diameter φdc = 15 mm), maximum thickness t
c is a 3.0 mm convex lens, and its attributes are as follows.

【0050】・NR:R1 =3 R2 =3 ・AS:R1 =0.5 R2 =0.5 ・偏心量δ=30″ ・材質 BK7 (nd =1.51680) ・MgF2 コーティング (λ=441.6nmにてR
<0.2%) ・f=170.67 (λ=441.6nm)
NR: R1 = 3 R2 = 3 AS: R1 = 0.5 R2 = 0.5 eccentricity δ = 30 ″ Material BK7 (nd = 1.51680) MgF 2 coating (λ = 441) R at 0.6 nm
<0.2%) f = 170.67 (λ = 441.6 nm)

【0051】このように、上記第2の収束レンズLcか
ら出射されるレーザ光(平行光束)の光束径は、レンズ
群11の倍率を上げるに従って連続的に拡大され、その
ビーム形状は、例えば図7Aに示すように、幅広形状と
なり、対物レンズOBの瞳面OBaを満たす比率も連続
的に大きくなる(図7B参照)。上記比率の増加に伴っ
て、対物レンズOBによる集光能力が向上し、フォトレ
ジスト膜3に照射される集光ビーム形状は、連続的に幅
細になっていく(図7C参照)。
As described above, the beam diameter of the laser beam (parallel beam) emitted from the second converging lens Lc is continuously expanded as the magnification of the lens group 11 is increased, and the beam shape is, for example, as shown in FIG. As shown in FIG. 7A, the shape becomes wide, and the ratio of filling the pupil plane OBa of the objective lens OB continuously increases (see FIG. 7B). With the increase of the ratio, the condensing ability by the objective lens OB is improved, and the shape of the condensed beam with which the photoresist film 3 is irradiated is continuously narrowed (see FIG. 7C).

【0052】従って、各種仕様に応じて、上記レンズ群
11における第1の距離S1及び第2の距離S2を適宜
選択することにより、各種仕様に応じたピット形状及び
グルーブ形状を得ることができる。即ち、図8に示すよ
うに、通常は、曲線aに示すように、一つの変化曲線上
の信号特性しか設定できなかったが、この第1実施例に
おいては、曲線aと曲線bで示す範囲(斜線で示す)内
の信号特性を自由に設定することができ、各種仕様に応
じた信号特性の最適化検討を簡単に行うことができる。
Therefore, by appropriately selecting the first distance S1 and the second distance S2 in the lens group 11 according to various specifications, it is possible to obtain pit shapes and groove shapes according to various specifications. That is, as shown in FIG. 8, normally, only the signal characteristic on one change curve can be set as shown by the curve a, but in the first embodiment, the range shown by the curve a and the curve b is set. It is possible to freely set the signal characteristics within (indicated by diagonal lines), and it is possible to easily perform optimization study of the signal characteristics according to various specifications.

【0053】上記のようにして、グルーブ光学系Gにお
けるAOM(GA)及びピット光学系PにおけるAOM
(PA)にてそれぞれ強度変調されたレーザ光L1 及び
L2は、後段の光束径変換光学系GPO及びPPOにて
それぞれ光束径が仕様に合わせて変換されて後段の偏光
ビームスプリッタPBSに入射することになる。グルー
ブ光学系Gからのレーザ光L1 は、偏光ビームスプリッ
タPBSの偏光面にて反射されて対物レンズOB側に誘
導され、ピット光学系Pからのレーザ光L2 は、偏光ビ
ームスプリッタPBSの偏光面をそのまま透過して対物
レンズOB側に誘導される。各レーザ光L1 及びL2
は、最終的にこの対物レンズOBによって集光されて、
フォトレジスト膜3上に照射される。
As described above, the AOM (GA) in the groove optical system G and the AOM in the pit optical system P are set.
The laser beams L1 and L2 each intensity-modulated by (PA) are converted into light beam diameters in accordance with the specifications in the light beam diameter conversion optical systems GPO and PPO in the subsequent stage, and are incident on the polarization beam splitter PBS in the subsequent stage. become. The laser light L1 from the groove optical system G is reflected by the polarization plane of the polarization beam splitter PBS and guided to the objective lens OB side, and the laser light L2 from the pit optical system P changes the polarization plane of the polarization beam splitter PBS. It is transmitted as it is and guided to the objective lens OB side. Each laser beam L1 and L2
Is finally collected by this objective lens OB,
The photoresist film 3 is irradiated.

【0054】円形基板2は、図示しないスピンドルモー
タによって一方向に例えばCAV方式で回転制御されて
おり、また、ミラーM2 及び対物レンズOBが既知の移
動機構によって、円形基板2の径方向に移動することか
ら、例えば各AOM(GA)及び(PA)における超音
波発生回路の入力端子に、光ディスク用のグルーブ記録
信号及びピット記録信号を供給することによって、円形
基板2上のフォトレジスト膜3にその信号に基づいた記
録パターンが円形基板2の同心円に沿って、あるいは螺
旋形に沿って描画される。
The circular substrate 2 is rotationally controlled in one direction by, for example, a CAV method by a spindle motor (not shown), and the mirror M2 and the objective lens OB are moved in the radial direction of the circular substrate 2 by a known moving mechanism. Therefore, for example, by supplying the groove recording signal and the pit recording signal for the optical disk to the input terminals of the ultrasonic wave generation circuits in each AOM (GA) and (PA), the photoresist film 3 on the circular substrate 2 is supplied with the groove recording signal and the pit recording signal. A recording pattern based on the signal is drawn along the concentric circles of the circular substrate 2 or along the spiral shape.

【0055】フォトレジスト膜3は、その描画された記
録パターンに沿って感光され、その感光された部分が次
の現像工程における現像液にて溶解することになる。従
って、その後の現像処理において、その感光された部分
が除去され、フォトレジスト膜3によるマスクが形成さ
れる。その後は、通常の原盤作製工程に基づいて、無電
解めっき、ニッケルめっき並びに洗浄工程等が行われる
ことにより、光ディスク用の原盤が作製される。
The photoresist film 3 is exposed along the drawn recording pattern, and the exposed portion is dissolved by the developing solution in the next developing step. Therefore, in the subsequent developing process, the exposed portion is removed and a mask made of the photoresist film 3 is formed. After that, electroless plating, nickel plating, a cleaning step, and the like are performed on the basis of a normal master manufacturing process to manufacture a master for an optical disc.

【0056】このように、上記第1実施例に係るレーザ
カッティング装置においては、光束径変換光学系GPO
及びPPOにてレーザ光L1 及びL2 の径が可変され
て、フォトレジスト膜3に照射されるため、光束径変換
光学系GPO及びPPOによるビーム径の可変量を、各
種仕様に応じて設定することにより、各種仕様に応じた
光ディスクの原盤を容易に作製することができる。
As described above, in the laser cutting apparatus according to the first embodiment, the light beam diameter conversion optical system GPO is used.
Since the diameters of the laser beams L1 and L2 are changed by PPO and PPO and irradiated on the photoresist film 3, the variable amount of the beam diameter by the light beam diameter conversion optical systems GPO and PPO should be set according to various specifications. Thus, it is possible to easily manufacture a master disc of an optical disc according to various specifications.

【0057】即ち、上記例においては、レーザ光L1
(L2 )の進行方向に沿って、第1の収束レンズLa、
発散レンズLb及び第2の収束レンズLcの順に配置さ
れたレンズ群11にて光束径変換光学系GPO(PP
O)を構成していることから、第1の収束レンズLaと
発散レンズLb間の第1の距離S1と、発散レンズLb
と第2の収束レンズLc間の第2の距離S2を、各種仕
様に基づいて変えることにより、レンズ群11に入射さ
れるレーザ光L1 (L2 )の光束径φDが各種仕様に応
じて変わることとなる。
That is, in the above example, the laser beam L1
Along the traveling direction of (L2), the first converging lens La,
In the lens group 11 arranged in order of the diverging lens Lb and the second converging lens Lc, the light beam diameter conversion optical system GPO (PP
O), the first distance S1 between the first converging lens La and the diverging lens Lb and the diverging lens Lb.
By changing the second distance S2 between the second converging lens Lc and the second converging lens Lc based on various specifications, the luminous flux diameter φD of the laser light L1 (L2) incident on the lens group 11 changes according to various specifications. Becomes

【0058】従って、各種仕様に応じた光ディスクの原
盤を容易に作製することができ、しかも、各種仕様に応
じた信号特性の最適化や製造に必要な条件設定が非常に
簡単に行うことができ、光ディスクの開発を効率的に行
うことができる。
Therefore, it is possible to easily manufacture a master disk of an optical disk according to various specifications, and it is possible to very easily perform optimization of signal characteristics according to various specifications and setting of conditions necessary for manufacturing. Therefore, the optical disc can be efficiently developed.

【0059】ここで、上記第1実施例に係るレーザカッ
ティング装置の変形例としては、図9に示すように、A
OM(GA)及び(PA)にて光強度変調されたレーザ
光L1 及びL2 をそれぞれビーム拡大レンズGB2 及び
PB2 を通さず直接光束径変換光学系GPO及びPPO
に入射させるようにしてもよい。この場合、AOM(G
A)及び(PA)による回折光を露光ビームとして利用
するため、図9に示すように、この光束径変換光学系G
PO(PPO)から出射されるレーザ光L1 (L2 )の
光軸が僅かにずれることになる。従って、例えば、上記
光束径変換光学系GPO(PPO)の後段に、上記光軸
のずれを補正するシフターSを配置することにより、上
記光軸のずれを補正することができる。
Here, as a modification of the laser cutting apparatus according to the first embodiment, as shown in FIG.
The laser beams L1 and L2 whose light intensity is modulated by the OM (GA) and (PA) do not pass through the beam expanding lenses GB2 and PB2, respectively, but the light beam diameter converting optical systems GPO and PPO directly.
You may make it inject into. In this case, AOM (G
Since the light diffracted by A) and (PA) is used as an exposure beam, as shown in FIG.
The optical axis of the laser beam L1 (L2) emitted from PO (PPO) is slightly deviated. Therefore, for example, the shift of the optical axis can be corrected by disposing the shifter S that corrects the shift of the optical axis in the subsequent stage of the light beam diameter conversion optical system GPO (PPO).

【0060】この変形例によれば、ビーム拡大レンズG
B2 及びPB2 を省略することができるため、レーザカ
ッティング装置の光学系全体の構造を簡略化することが
できる。
According to this modification, the beam expanding lens G
Since B2 and PB2 can be omitted, the structure of the entire optical system of the laser cutting device can be simplified.

【0061】次に、第2実施例に係るレーザカッティン
グ装置を図10〜図12に基づいて順次説明する。な
お、図1〜図3と対応するものについては同符号を記
す。
Next, the laser cutting apparatus according to the second embodiment will be sequentially described with reference to FIGS. The same reference numerals are given to those corresponding to those in FIGS.

【0062】この第2実施例に係るレーザカッティング
装置は、図10及び図11に示すように、上記第1実施
例の場合とほぼ同じ構成を有するが、偏光ビームスプリ
ッタPBSとミラーM2 間に配置される光学部品が、上
記収束レンズ素子LEではなく、光束径変換光学系ZP
Oであることで異なる。
As shown in FIGS. 10 and 11, the laser cutting apparatus according to the second embodiment has substantially the same structure as that of the first embodiment, but is arranged between the polarization beam splitter PBS and the mirror M2. The optical component to be converted is not the convergent lens element LE but the light beam diameter conversion optical system ZP.
O is different.

【0063】この位置に配置される光束径変換光学系Z
POとしては、そのズーム倍率が変化したときでも、そ
の光学系ZPOから出射されるレーザ光L1 ,L2 を集
光位置Pfに集光させる必要がある。つまり、焦点位置
Pfを変えずに焦点距離fを変化させるズーム機能が必
要となる。また、全倍率に対し、波面収差が良好に補正
された光学系を必要とする。
A light beam diameter converting optical system Z arranged at this position
As the PO, it is necessary to focus the laser beams L1 and L2 emitted from the optical system ZPO at the focusing position Pf even when the zoom magnification changes. That is, a zoom function that changes the focal length f without changing the focal position Pf is required. Further, an optical system in which wavefront aberration is favorably corrected for all magnifications is required.

【0064】そのため、この第2実施例では、上記条件
を満足する光束径変換光学系ZPOとして、図12に示
すように、レーザ光L1 (L2 )の進行方向に沿って、
第1の収束レンズLa、発散レンズLb及び第2の収束
レンズLcの順に配置されたレンズ群12にて構成し、
このレンズ群12に入射されるレーザ光L1 (L2 )の
光束径φDを、第1の収束レンズLaと発散レンズLb
間の第1の距離S1と、発散レンズLbと第2の収束レ
ンズLc間の第2の距離S2の変化に応じて可変させ
て、同一焦点Pfに異なった焦点距離fの集光を行う構
造としている。即ち、第2の収束レンズLcを固定に
し、第1の収束レンズLa及び発散レンズLbを移動さ
せることにより、上記第1及び第2の距離S1及びS2
を変更するようになっている。
Therefore, in the second embodiment, as the light beam diameter converting optical system ZPO satisfying the above conditions, as shown in FIG. 12, along the traveling direction of the laser beam L1 (L2),
The first converging lens La, the diverging lens Lb, and the second converging lens Lc are arranged in this order in the lens group 12,
The light beam diameter φD of the laser light L1 (L2) incident on the lens group 12 is converted to the first converging lens La and the diverging lens Lb.
A structure for varying the first distance S1 between them and the second distance S2 between the diverging lens Lb and the second converging lens Lc to condense different focal lengths f on the same focal point Pf. I am trying. That is, by fixing the second converging lens Lc and moving the first converging lens La and the diverging lens Lb, the first and second distances S1 and S2 are obtained.
Is to be changed.

【0065】このことから、偏光ビームスプリッタPB
Sからのレーザ光(平行光束)L1(L2 )は、まず、
第1の収束レンズLaにて収束光束に変換されて次段の
発散レンズLbに入射される。この発散レンズLbに入
射される収束光束は、上記第1の距離S1に応じてその
光束径が縮小される。発散レンズLbに入射したレーザ
光L1 (L2 )は発散光束に変換されて、次段の第2の
収束レンズLcに入射され、収束光束に変換される。こ
の場合、第2の収束レンズLcは固定となっているた
め、入射された拡散光束は収束光束に変換されて、対物
レンズOBの光学特性上の最適集光位置Pfに集光され
ることとなる。
From this, the polarization beam splitter PB
The laser light (parallel light flux) L1 (L2) from S is
It is converted into a convergent light beam by the first converging lens La and is incident on the diverging lens Lb at the next stage. The convergent light flux incident on the diverging lens Lb has its diameter reduced according to the first distance S1. The laser beam L1 (L2) incident on the diverging lens Lb is converted into a divergent light beam, is then incident on the second converging lens Lc in the next stage, and is converted into a convergent light beam. In this case, since the second converging lens Lc is fixed, the incident diffused light flux is converted into a convergent light flux and is condensed at the optimum condensing position Pf on the optical characteristics of the objective lens OB. Become.

【0066】図12は、焦点距離fをそれぞれ80mm
(図12A参照)、100mm(図12B参照)、12
0mm(図12C参照)及び140mm(図12D参
照)とした場合を示したもので、焦点距離fを短くする
と、最適集光位置Pfでの集光ビーム形状は幅細くな
り、更に対物レンズOBの瞳面を満たす光束の径は大き
くなる。それに伴って、最終的に対物レンズ集光面PB
での集光ビーム形状は幅細になっていく。
FIG. 12 shows that the focal length f is 80 mm.
(See FIG. 12A), 100 mm (see FIG. 12B), 12
The figures show the cases of 0 mm (see FIG. 12C) and 140 mm (see FIG. 12D). When the focal length f is shortened, the focused beam shape at the optimum focusing position Pf becomes narrower, and the objective lens OB The diameter of the light beam that fills the pupil surface increases. Along with that, finally the objective lens focusing surface PB
The shape of the focused beam at becomes narrower.

【0067】従って、この光束径変換光学系ZPOにお
いては、最適集光位置Pfでの集光能力と集光位置Pf
通過後の対物レンズOBの瞳面を満たす光束量を任意
に、かつ連続的に変化させ、対物レンズ集光面PB での
ビーム形状を自由に設定することができる。
Therefore, in the light beam diameter converting optical system ZPO, the light collecting ability and the light collecting position Pf at the optimum light collecting position Pf.
The amount of light flux that fills the pupil plane of the objective lens OB after passing can be changed arbitrarily and continuously to freely set the beam shape on the objective lens condensing surface PB.

【0068】このように、上記第2実施例に係るレーザ
カッティング装置においても、レーザ光L1 (L2 )の
進行方向に沿って、第1の収束レンズLa、発散レンズ
Lb及び第2の収束レンズLcの順に配置されたレンズ
群12にて光束径変換光学系ZPOを構成していること
から、第1の収束レンズLaと発散レンズLb間の第1
の距離S1と、発散レンズLbと第2の収束レンズLc
間の第2の距離S2を、各種仕様に基づいて変えること
により、レンズ群12に入射されるレーザ光L1 (L2
)の光束径が各種仕様に応じて変わることとなる。
As described above, also in the laser cutting apparatus according to the second embodiment, the first converging lens La, the diverging lens Lb and the second converging lens Lc are arranged along the traveling direction of the laser beam L1 (L2). Since the lens group 12 arranged in this order constitutes the light beam diameter conversion optical system ZPO, it is the first lens between the first converging lens La and the diverging lens Lb.
Distance S1, the diverging lens Lb and the second converging lens Lc
By changing the second distance S2 between them based on various specifications, the laser light L1 (L2
) The light flux diameter will change according to various specifications.

【0069】従って、上記実施例と同様に、光束径変換
光学系ZPOにてレーザ光L1 (L2 )の径が可変され
て、フォトレジスト膜3に照射されるため、光束径変換
光学系ZPOによるビーム径の可変量を、各種仕様に応
じて設定することにより、各種仕様に応じた光ディスク
の原盤を容易に作製することができる。しかも、各種仕
様に応じた信号特性の最適化や製造に必要な条件設定が
非常に簡単に行うことができ、光ディスクの開発を効率
的に行うことができる。
Therefore, as in the above-described embodiment, the diameter of the laser beam L1 (L2) is changed by the light beam diameter conversion optical system ZPO and the photoresist film 3 is irradiated with the light beam diameter conversion optical system ZPO. By setting the variable amount of the beam diameter according to various specifications, it is possible to easily manufacture a master disc of an optical disk according to various specifications. Moreover, the optimization of signal characteristics according to various specifications and the setting of conditions necessary for manufacturing can be performed very easily, and the development of an optical disk can be efficiently performed.

【0070】上記第2実施例においては、ビーム拡大レ
ンズGB2 及びPB2 とミラーM3及びM5 間、並びに
偏光ビームスプリッタPBSとミラーM2 間にそれぞれ
光束径変換光学系GPO及びPPO、並びにZPOを設
置するようにしたが、ビーム拡大レンズGB2 及びPB
2 とミラーM3 及びM5 間の各光束径変換光学系GPO
及びPPOを省略するようにしてもよい。
In the second embodiment, the beam diameter converting optical systems GPO and PPO and ZPO are installed between the beam expanding lenses GB2 and PB2 and the mirrors M3 and M5 and between the polarizing beam splitter PBS and the mirror M2, respectively. However, the beam expanding lenses GB2 and PB
Optical system GPO for converting the light beam diameter between the mirror 2 and the mirrors M3 and M5
And PPO may be omitted.

【0071】なお、上記第1実施例及び第2実施例に係
る光束径変換光学系GPO(PPO)並びにZPOは、
光ディスクに対して情報信号の記録及び/又は再生を行
う記録及び/又は再生装置の光学ヘッドに搭載するよう
にしてもよい。この場合、各種仕様に応じた信号特性の
最適化や製造に必要な条件設定が非常に簡単に行うこと
ができ、光ディスクの開発を効率的に行うことができ
る。また、1つの記録及び/再生装置にて多種類の光デ
ィスクあるいは光磁気ディスクに対して情報信号の記録
及び/又は再生を行うことが可能となる。
The light beam diameter converting optical systems GPO (PPO) and ZPO according to the first and second examples are as follows.
It may be mounted on an optical head of a recording and / or reproducing apparatus for recording and / or reproducing information signals on the optical disc. In this case, the optimization of the signal characteristics according to various specifications and the setting of the conditions necessary for manufacturing can be performed very easily, and the optical disc can be efficiently developed. In addition, it is possible to record and / or reproduce information signals on various types of optical disks or magneto-optical disks with one recording and / or reproducing apparatus.

【0072】また、上記第1実施例及び第2実施例にお
いては、円盤状記録媒体として光ディスクを主体に説明
したが、その他、光磁気ディスクや、記録領域と非記録
領域との間に段差が形成された、いわゆるディスクリー
ト形磁気ディスクにも適用させることができる。
In the first and second embodiments described above, the optical disk is mainly used as the disk-shaped recording medium. However, in addition to this, a step is formed between the magneto-optical disk and the recording area and the non-recording area. It can also be applied to the formed so-called discrete type magnetic disk.

【0073】[0073]

【発明の効果】上述のように、本発明に係る円盤状記録
媒体の製造装置によれば、円形基板上に形成されたレジ
スト膜に記録データに基づいて変調された光ビームを照
射して、上記記録データに基づいたデータパターンを露
光記録することにより、円盤状記録媒体の原盤を作製す
る円盤状記録媒体の製造装置において、上記光ビームの
径を可変にする光束径変換光学系を設けるようにしたの
で、円盤状記録媒体の各種仕様に応じて、任意に、かつ
簡単に光ビームの光束径を変えることができ、各種仕様
に応じた円盤状記録媒体の原盤を容易に作製することが
できる。また、各種仕様に応じた信号特性の最適化や製
造に必要な条件設定が非常に簡単に行うことができ、円
盤状記録媒体の開発を効率的に行うことができる。
As described above, according to the disk-shaped recording medium manufacturing apparatus of the present invention, the resist film formed on the circular substrate is irradiated with the light beam modulated based on the recording data, In a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus for manufacturing a disk-shaped recording medium master by exposing and recording a data pattern based on the recording data, a light beam diameter conversion optical system for varying the diameter of the light beam is provided. Therefore, it is possible to arbitrarily and easily change the light beam diameter of the light beam according to various specifications of the disk-shaped recording medium, and it is possible to easily manufacture the master disk of the disk-shaped recording medium according to the various specifications. it can. Further, it is possible to very easily optimize the signal characteristics according to various specifications and set the conditions necessary for manufacturing, and it is possible to efficiently develop the disk-shaped recording medium.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る円盤状記録媒体の製造装置を光デ
ィスクの原盤を作製する際に用いられるレーザカッティ
ング装置に適用した第1の実施例(以下、単に第1実施
例に係るレーザカッティング装置と記す)を示す構成図
である。
FIG. 1 is a first embodiment in which a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus according to the present invention is applied to a laser cutting apparatus used in manufacturing an optical disk master (hereinafter, simply referred to as a laser cutting apparatus according to the first embodiment). It is a block diagram showing).

【図2】第1実施例に係るレーザカッティング装置の要
部の構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram of a main part of the laser cutting apparatus according to the first embodiment.

【図3】第1実施例に係るレーザカッティング装置のグ
ルーブ光学系及びピット光学系の後段に配置される光束
径変換光学系の構成及び作用を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a configuration and an operation of a light beam diameter conversion optical system arranged in a subsequent stage of the groove optical system and the pit optical system of the laser cutting apparatus according to the first example.

【図4】第1実施例に係る光束径変換光学系の光束径変
換特性、特に第1の収束レンズと発散レンズ間の第1の
距離に応じた光束径の倍率の変換特性を示す特性図であ
る。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing a light beam diameter conversion characteristic of the light beam diameter conversion optical system according to the first example, in particular, a conversion characteristic of a light beam diameter magnification according to a first distance between a first converging lens and a diverging lens. Is.

【図5】第1実施例に係る光束径変換光学系の光束径変
換特性、特に発散レンズと第2の収束レンズ間の第2の
距離に応じた光束径の倍率の変換特性を示す特性図であ
る。
FIG. 5 is a characteristic diagram showing a light beam diameter conversion characteristic of the light beam diameter conversion optical system according to the first example, in particular, a conversion characteristic of a light beam diameter magnification according to a second distance between a diverging lens and a second converging lens. Is.

【図6】光束径変換光学系を構成するレンズ群の構成を
示す側面図であり、同図Aは第1の収束レンズの構成を
示し、同図Bは発散レンズの構成を示し、同図Cは第2
の収束レンズの構成を示す。
FIG. 6 is a side view showing a configuration of a lens group constituting a light beam diameter conversion optical system, FIG. 6A shows a configuration of a first converging lens, FIG. 6B shows a configuration of a diverging lens, and FIG. C is second
The structure of the converging lens of is shown.

【図7】光束径変換光学系から出射されるレーザ光束径
の各光学系での変化の状態を示す説明図であり、同図A
は光束径変換光学系から出射されるレーザ光のビーム形
状の強度分布を示し、同図Bは対物レンズの瞳面を満た
す比率を示し、同図Cはフォトレジスト膜に照射される
集光ビーム形状の強度分布を示す。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a change state of a laser beam diameter emitted from the beam diameter converting optical system in each optical system.
Shows the intensity distribution of the beam shape of the laser beam emitted from the beam diameter conversion optical system, B in the figure shows the ratio that fills the pupil plane of the objective lens, and C in the figure shows the focused beam with which the photoresist film is irradiated. The intensity distribution of the shape is shown.

【図8】第1実施例に係るレーザカッティング装置にお
ける信号特性の設定範囲を示す特性図である。
FIG. 8 is a characteristic diagram showing a setting range of signal characteristics in the laser cutting apparatus according to the first embodiment.

【図9】第1実施例の変形例に係るレーザカッティング
装置の要部を示す構成図である。
FIG. 9 is a configuration diagram showing a main part of a laser cutting device according to a modification of the first embodiment.

【図10】本発明に係る円盤状記録媒体の製造装置を光
ディスクの原盤を作製する際に用いられるレーザカッテ
ィング装置に適用した第2の実施例(以下、単に第2実
施例に係るレーザカッティング装置と記す)を示す構成
図である。
FIG. 10 is a second example in which the disk-shaped recording medium manufacturing apparatus according to the present invention is applied to a laser cutting apparatus used when manufacturing a master for an optical disc (hereinafter, simply referred to as a laser cutting apparatus according to the second example. It is a block diagram showing).

【図11】第2実施例に係るレーザカッティング装置の
要部を示す構成図である。
FIG. 11 is a configuration diagram showing a main part of a laser cutting device according to a second embodiment.

【図12】第2実施例に係るレーザカッティング装置の
対物レンズの前段に配置される光束径変換光学系の構成
及び作用を示す説明図である。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a configuration and an action of a light beam diameter conversion optical system arranged in front of an objective lens of a laser cutting apparatus according to a second example.

【図13】従来例に係るレーザカッティング装置を示す
構成図である。
FIG. 13 is a configuration diagram showing a laser cutting device according to a conventional example.

【図14】従来例に係るレーザカッティング装置の要部
を示す構成図である。
FIG. 14 is a configuration diagram showing a main part of a laser cutting device according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レーザ光源 2 円形基板 3 フォトレジスト膜 L(L1 ,L2 ) レーザ光 HM ハーフミラー M1 〜M5 ミラー G グルーブ光学系 P ピット光学系 GB1 ,PB1 ビーム縮小レンズ GB2 ,PB2 ビーム拡大レンズ GA,PA AOM GPO,PPO,ZPO 光束径変換光学系 PBS 偏光ビームスプリッタ LE 収束レンズ素子 OB 対物レンズ La 第1の収束レンズ Lb 発散レンズ Lc 第2の収束レンズ S1 第1の距離 S2 第2の距離 11,12 レンズ群 S シフター 1 laser light source 2 circular substrate 3 Photoresist film L (L1, L2) laser light HM half mirror M1 to M5 mirror G groove optical system P-pit optical system GB1, PB1 beam reduction lens GB2, PB2 beam expansion lens GA, PA AOM GPO, PPO, ZPO Luminous flux diameter conversion optical system PBS polarization beam splitter LE convergent lens element OB objective lens La first converging lens Lb divergent lens Lc Second converging lens S1 first distance S2 second distance 11,12 lens group S shifter

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 円形基板上に形成されたレジスト膜に記
録データに基づいて変調された光ビームを照射して、上
記記録データに基づいたデータパターンを露光記録する
ことにより、円盤状記録媒体の原盤を作製する円盤状記
録媒体の製造装置において、 上記光ビームを記録信号にて変調する光学系と、 上記光ビームの径を可変する光束径変換光学系と、 偏光ビームスプリッタから入射されるレーザ光の焦点距
離を可変する収束レンズ素子を有し、 上記光ビームを記録信号にて変調する光学系は、ハーフ
ミラーを介してレーザ光のビームを絞るビーム縮小レン
ズと、記録信号にて変調された超音波に基づいて上記ビ
ーム縮小レンズからのレーザ光を強度変調する音響光学
変調器と、上記音響光学変調器からの強度変調されたレ
ーザ光を平行光束に変換して元のビーム径に戻すビーム
拡大レンズで構成され、 上記光ビームの径を可変する光束径変換光学系は、上記
光ビームの進行方向に沿って、少なくとも第1の収束レ
ンズ、発散レンズ及び第2の収束レンズの順に配置され
たレンズ群を有し、このレンズ群に入射される光ビーム
の光束径を、固定された上記第1の収束レンズと移動可
能とされた上記発散レンズ間の第1の距離と上記発散レ
ンズと移動可能とされた上記第2の収束レンズ間の第2
の距離の変化に応じて可変させる構造であることを特徴
とする円盤状記録媒体の製造装置。
1. A disc-shaped recording medium is formed by exposing a resist film formed on a circular substrate with a light beam modulated based on recording data to expose and record a data pattern based on the recording data. In a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus for producing a master, an optical system for modulating the light beam with a recording signal, a beam diameter conversion optical system for changing the diameter of the light beam, and a laser beam incident from a polarization beam splitter. An optical system that has a converging lens element that changes the focal length of light and that modulates the above-mentioned light beam with a recording signal is a beam reduction lens that narrows the beam of the laser light through a half mirror, and is modulated with the recording signal. An acousto-optic modulator that intensity-modulates the laser light from the beam reduction lens based on the ultrasonic wave, and a parallel-light intensity-modulated laser light from the acousto-optic modulator. The beam diameter conversion optical system, which is composed of a beam expanding lens that converts the light beam to the original beam diameter and changes the diameter of the light beam, includes at least a first converging lens and a diverging lens along the traveling direction of the light beam. It has a lens and a second lens group arranged in this order of the convergent lens, movably to the beam diameter of the light beam incident on the lens group, a fixed said first converging lens
And a second distance between the diverging lens and the movable second converging lens.
An apparatus for manufacturing a disk-shaped recording medium, which has a structure that can be changed in accordance with a change in the distance.
【請求項2】 上記光束径変換光学系は、上記光ビーム
を記録データに基づいて変調させる光変調器におけるそ
の直後の非平行光束中に設置され、上記光ビームの進行
方向に沿って、少なくとも第1の収束レンズ、発散レン
ズ及び第2の収束レンズの順に配置されたレンズ群を有
し、このレンズ群に入射される光ビームの光束径を、上
記第1の収束レンズと上記発散レンズ間の第1の距離と
上記発散レンズと上記第2の収束レンズ間の第2の距離
の変化に応じて可変させ、かつ、上記第2の収束レンズ
の後方に光軸補正用のシフターを設置した構造であるこ
とを特徴とする請求項1記載の円盤状記録媒体の製造装
置。
2. The light beam diameter conversion optical system is installed in a non-parallel light beam immediately after it in an optical modulator that modulates the light beam based on recording data, and at least along the traveling direction of the light beam. There is a lens group in which a first converging lens, a diverging lens, and a second converging lens are arranged in this order, and the luminous flux diameter of the light beam incident on this lens group is set between the first converging lens and the diverging lens. Of the first divergence lens and the second distance between the diverging lens and the second converging lens, and a shifter for correcting the optical axis is installed behind the second converging lens. The disk-shaped recording medium manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the manufacturing apparatus has a structure.
【請求項3】 円形基板上に形成されたレジスト膜に記
録データに基づいて変調された光ビームを照射して、上
記記録データに基づいたデータパターンを露光記録する
ことにより、円盤状記録媒体の原盤を作製する円盤状記
録媒体の製造装置において、 上記光ビームを記録信号にて変調する光学系と、 上記光ビームの径を可変する光束径変換光学系と、 偏光ビームスプリッタから入射されるレーザ光の焦点距
離を可変する光束径変換光学系を有し、 上記光ビームを記録信号にて変調する光学系は、ハーフ
ミラーを介してレーザ光のビームを絞るビーム縮小レン
ズと、記録信号にて変調された超音波に基づいて上記ビ
ーム縮小レンズからのレーザ光を強度変調する音響光学
変調器と、上記音響光学変調器からの強度変調されたレ
ーザ光を平行光束に変換して元のビーム径に戻すビーム
拡大レンズで構成され、 上記光ビームの径を可変する光束径変換光学系は、光ビ
ームが平行光束となっている対物レンズの直前に設置さ
れ、上記光ビームの進行方向に沿って、少なくとも第1
の収束レンズ、発散レンズ及び第2の収束レンズの順に
配置されたレンズ群を有し、このレンズ群に入射される
光ビームの光束径を、移動可能とされた上記第1の収束
レンズと移動可能とされた上記発散レンズ間の第1の距
離と上記発散レンズと固定された上記第2の収束レンズ
間の第2の距離の変化に応じて可変させ、同一焦点に異
なった焦点距離の集光を行う構造であることを特徴とす
る円盤状記録媒体の製造装置。
3. A resist film formed on a circular substrate is irradiated with a light beam modulated based on recording data, and a data pattern based on the recording data is exposed and recorded, whereby a disc-shaped recording medium is formed. In a disk-shaped recording medium manufacturing apparatus for producing a master, an optical system for modulating the light beam with a recording signal, a beam diameter conversion optical system for changing the diameter of the light beam, and a laser beam incident from a polarization beam splitter. An optical system that has a beam diameter conversion optical system that changes the focal length of light and that modulates the above-mentioned light beam with a recording signal includes a beam reduction lens that narrows the beam of laser light through a half mirror and a recording signal. The acousto-optic modulator that intensity-modulates the laser light from the beam reduction lens based on the modulated ultrasonic wave and the intensity-modulated laser light from the acousto-optic modulator are parallel to each other. The beam diameter conversion optical system, which is composed of a beam expanding lens that converts the beam into a bundle and returns it to the original beam diameter, and that changes the diameter of the light beam is installed immediately before the objective lens in which the light beam is a parallel light beam, Along the traveling direction of the light beam, at least the first
The convergent lens has a sequentially arranged a lens group of the diverging lens and the second converging lens, move the beam diameter of the light beam incident on the lens group, and movable and have been the first converging lens The first distance between the divergent lenses enabled and the second distance between the divergent lens and the second convergent lens fixed to the divergent lens are made variable, and a set of different focal lengths are formed at the same focal point. An apparatus for manufacturing a disk-shaped recording medium having a structure for emitting light.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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