JP2005173239A - 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ - Google Patents
遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005173239A JP2005173239A JP2003413446A JP2003413446A JP2005173239A JP 2005173239 A JP2005173239 A JP 2005173239A JP 2003413446 A JP2003413446 A JP 2003413446A JP 2003413446 A JP2003413446 A JP 2003413446A JP 2005173239 A JP2005173239 A JP 2005173239A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light shielding
- shielding layer
- layer
- transfer
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【課題】良好なコントラスト及び高い解像度を発揮でき、表示品位のより高い遮光層付き光学シートとカラーフィルタを提供する。
【解決手段】遮光層付き光学シート20は、遮光層13Bの光学基材21との接触面が粗面13bになっている。この粗面13bは、転写シート10の光熱変換転写層13に含まれる粒子を適宜調整することにより、転写工程で形成することができる。この粗面13aは、遮光層13Bと光学基材21との接触面に、空気層22を存在させることになる。
【選択図】図3
【解決手段】遮光層付き光学シート20は、遮光層13Bの光学基材21との接触面が粗面13bになっている。この粗面13bは、転写シート10の光熱変換転写層13に含まれる粒子を適宜調整することにより、転写工程で形成することができる。この粗面13aは、遮光層13Bと光学基材21との接触面に、空気層22を存在させることになる。
【選択図】図3
Description
本発明は、レーザー光熱転写法などにより転写される遮光層付き光学シート及びそれを用いたカラーフィルタに関するものである。
特許文献1は、フッ素系撥水・撥油剤を含有する遮光層(ブラックマトリックス)の間隙に、カラーパターンを印刷する方法として、特定の表面張力を有するインクを用いてインクジェット記録方式で印刷を行うことを開示している。
特許文献2は、レーザー光熱転写法を使用したカラーフィルタ要素の作製方法であって、レーザー光による熱転写を利用して、フッ素系界面活性剤を含有した黒色ドナーシートから着色剤をカラーフィルタ要素の基板上に転写して、所望とするパターンでブラックマトリックス(遮光層)を形成することを開示している。
一方、特許文献3は、所望の光学基板(ここでは、TFTが設けられたTFT基板に対向する対向基板)上に、ストライプ状の遮光層を形成することを開示している。
本件出願人は、遮光層をレーザー光熱転写法で形成し、その遮光層の間にインクジェット記録方式で複数色の画素部を形成するカラーフィルタを開発しようとしている。
ところが、上述した従来の技術では、レーザー光熱転写法によって、ブラックマトリックス(遮光層)を形成したカラーフィルタを用いた液晶表示装置を、観察した場合に、ブラックマトリックス部分で外光が反射して、映像のコントラストが低下する、という問題があった。
ところが、上述した従来の技術では、レーザー光熱転写法によって、ブラックマトリックス(遮光層)を形成したカラーフィルタを用いた液晶表示装置を、観察した場合に、ブラックマトリックス部分で外光が反射して、映像のコントラストが低下する、という問題があった。
本発明の課題は、良好なコントラスト及び高い解像度を発揮でき、表示品位のより高い遮光層付き光学シート及びカラーフィルタを提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施例に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項1の発明は、透明又は半透明の光学基材(21)と、前記光学基材上に形成された遮光層(13B)とを備え、前記遮光層と前記光学基材との接触面は、粗面(13b)であること、を特徴とする遮光層付き光学シートである。
請求項1の発明は、透明又は半透明の光学基材(21)と、前記光学基材上に形成された遮光層(13B)とを備え、前記遮光層と前記光学基材との接触面は、粗面(13b)であること、を特徴とする遮光層付き光学シートである。
請求項2の発明は、請求項1に記載の遮光層付き光学シートにおいて、前記遮光層と前記光学基材との接触面は、空気層(22)が存在すること、を特徴とする遮光層付き光学シートである。
請求項3の発明は、請求項1又は請求項2に記載の遮光層付き光学シートと、前記遮光層付き光学シート上に形成された濡れ性変化層と、前記濡れ性変化層上に形成された複数色の画素部と、を備えたカラーフィルタである。
以上説明したように、本発明によれば、遮光層と光学基材との接触面が粗面となるので、遮光層が外光反射の防止作用をするために、容易に反射率を低減することができ、カラーフィルタなどに使用した場合に、良好なコントラスト及び高い解像度を発揮でき、表示品位のより高い表示装置が実現される。
本発明は、外光反射を防止するという目的を、遮光層と光学基材との接触面を粗面にすることによって実現する。
以下、図面等を参照して、本発明の実施例をあげて、さらに詳しく説明する。
図1は、本発明の実施例による遮光層付き光学シートを作製するための転写シート10を示す図である。
図1は、本発明の実施例による遮光層付き光学シートを作製するための転写シート10を示す図である。
転写シート10は、レーザー光熱転写法により、所定のパターンを、光学基材21に転写するためのシート(ドナーシート)であって、転写基材11と、離型層12と、光熱変換転写層13などとを備えている。
転写基材11は、光熱変換転写層13の担体となるものであって、遮光層の転写のために、レーザー光を照射して加熱が行われるので、レーザー光の透過性、耐熱性などが必要であると共に、後述する光学基材21(図2)に貼り合わせて使用されかつ使用後には剥離されるので、適度の柔軟性、軽さ、取り扱い性、機械的強度などが必要である。
この転写基材11は、ポリエステル樹脂などの各種のプラスチック材料を挙げることができ、その厚さは、通常、約25〜100μmの範囲が好適であり、この実施例では、100μmのPETフィルムを用いた。
この転写基材11は、ポリエステル樹脂などの各種のプラスチック材料を挙げることができ、その厚さは、通常、約25〜100μmの範囲が好適であり、この実施例では、100μmのPETフィルムを用いた。
離型層12は、転写基材11から光熱変換転写層13を剥離するための層である。この離型層12は、所定の剥離成分を有するUV硬化性のアクリレート樹脂組成物を、例えば、スピンコート法、グラビア印刷法、ダイコーティング法等の常用の塗布方法に従って、転写基材11の表面に塗布し、UV硬化させることによって形成することができる。この離型層12の厚さは、通常、約0.5〜2μmの範囲が好適であり、この実施例では、1μmとした。
光熱変換転写層13は、レーザー光の照射を受けて、その光エネルギーを熱エネルギーに変換し、遮光層に転写される画像成分を溶融させ、光学基材21の表面に転写及び固着させるための層である。
この光熱変換転写層13は、光熱変換性を付与するために、カーボンブラック等の光吸収性材料、又は、そのような光吸収性材料を分散して含有する必要があり、硬化目的のため、熱硬化性の成分を含有しているのが好ましく、例えば、カーボンブラック、熱硬化性モノマー又はオリゴマー、硬化剤等をバインダ樹脂中に分散させた層とすることができる。
この光熱変換転写層13は、光熱変換性を付与するために、カーボンブラック等の光吸収性材料、又は、そのような光吸収性材料を分散して含有する必要があり、硬化目的のため、熱硬化性の成分を含有しているのが好ましく、例えば、カーボンブラック、熱硬化性モノマー又はオリゴマー、硬化剤等をバインダ樹脂中に分散させた層とすることができる。
また、光熱変換転写層13は、転写性を付与するために、光熱変換作用により加熱されて溶融し、光学基材21にパターン状に転写される画像成分を含む必要があり、その画像成分をレーザー光熱転写法に従って、光学基材21の表面に高コントラストで転写し、転写された画像パターンとして固着させることができ、使用後の転写シート10を光学基材21から剥離する際に剥離残渣を生じることがない限り、任意の組成で形成することができる。
光熱変換転写層13の画像成分は、例えば、液晶表示装置のブラックマトリックス上でセパレーションリブとして、又は、ブラックマトリックス兼セパレーションリブとして使用されるので、遮光性と転写性とを考慮に入れた組成にする。ここで、遮光性の向上のためには、一般的に、黒色顔料(カーボンブラック等)やその他の有色顔料を高められた量で添加することや、金属粉などを添加することが挙げられる。
この実施例では、以下の組成のものを使用した。
カーボンブラック 12部
変成アクリル樹脂 10部
エポキシ樹脂 4部
硬化剤 5部
メチルエチルケトン/トルエン 70部
カーボンブラック 12部
変成アクリル樹脂 10部
エポキシ樹脂 4部
硬化剤 5部
メチルエチルケトン/トルエン 70部
この光熱変換転写層13は、通常、所定の組成を有する樹脂組成物を、例えばスピンコート法、グラビア印刷法、ダイコーティング法等の常用の塗布方法に従って、離型層12の表面に塗布し、乾燥させることによって形成することができる。光熱変換転写層13の厚さは、通常、0.1〜2μmの範囲が好ましく、この実施例では、1.3μmとした。
なお、転写シート10としては、光熱変換転写層13の光熱変換作用により発生する熱が不足する場合には、転写基材11と光熱変換転写層13との間に、レーザー光を吸収して熱に変換する光熱変換層をさらに設けてもよい。
図2は、図1の転写シート10の遮光層の光学基材への転写工程を示した断面図である。
図2(a)に示すように、図1に示した転写シート10を用意し、これを、その光熱変換転写層13が光学基材21に密着するようにして重ね合わせる。この光学基材11は、この実施例では、無アルカリガラス(厚さ:0.7mm)とした。
次いで、得られた積層体の転写シート10に対して、転写基材11の側から、レーザー光Lを所定のパターンで照射する。ここで、レーザー光Lのパターンは、光学基材21に転写しようとしている遮光層に対応する。
図2(a)に示すように、図1に示した転写シート10を用意し、これを、その光熱変換転写層13が光学基材21に密着するようにして重ね合わせる。この光学基材11は、この実施例では、無アルカリガラス(厚さ:0.7mm)とした。
次いで、得られた積層体の転写シート10に対して、転写基材11の側から、レーザー光Lを所定のパターンで照射する。ここで、レーザー光Lのパターンは、光学基材21に転写しようとしている遮光層に対応する。
レーザー光Lのパターン照射の結果、転写シート10の光熱変換転写層13の光熱変換作用により、光エネルギーが熱エネルギーに変換され、図2(b)に示すように、光熱変換転写層13の内部に含まれる画像成分13Aがパターン状に加熱されて溶融し、光学基材21に転写され、これに固着される。
なお、画像成分13Aが光学基材21に転写された後、転写シート10が光学基材21から剥離される。この剥離条件は、この実施例では、ロール径100mm、圧力0として、このロールを100mm/secで駆動した。
さらに、転写シート10が剥離された光学基材21の画像成分13Aを熱硬化させるために、この実施例では、250℃雰囲気中に30分間さらすベーク工程に通した。
なお、画像成分13Aが光学基材21に転写された後、転写シート10が光学基材21から剥離される。この剥離条件は、この実施例では、ロール径100mm、圧力0として、このロールを100mm/secで駆動した。
さらに、転写シート10が剥離された光学基材21の画像成分13Aを熱硬化させるために、この実施例では、250℃雰囲気中に30分間さらすベーク工程に通した。
図2(c)は、上述したようにして、光学基材21の上に転写された遮光層13Bを示しており、本実施例による遮光層付き光学シート20は、例えば、この遮光層13Bと、光学基材21とを備えている。この遮光層13Bは、上述したベーク工程を経て、光学基材21に対して強い力で密着している。
ここで、レーザー光Lによる転写条件について説明する。
遮光層13Bが、例えば、ライン状に形成されたストライプ部と、このストライプ部の片側に所定間隔で形成された突状部とからなる場合には、ストライプ部に照射されるレーザー光Lは、YAGレーザー(波長1084nm、スポット径20μm、出力30mW)であって、ストライプ部13ca上を100mm/secで移動させる。
また、突状部に照射されるレーザー光Lは、ストライプ部13caに照射する場合に比べると、レーザー光Lをパルス発振する点が異なる。さらに、遮光層13Bの枠線に照射するレーザー光Lは、ラインビーム(20μm×5mm)とした。
ここで、レーザー光Lによる転写条件について説明する。
遮光層13Bが、例えば、ライン状に形成されたストライプ部と、このストライプ部の片側に所定間隔で形成された突状部とからなる場合には、ストライプ部に照射されるレーザー光Lは、YAGレーザー(波長1084nm、スポット径20μm、出力30mW)であって、ストライプ部13ca上を100mm/secで移動させる。
また、突状部に照射されるレーザー光Lは、ストライプ部13caに照射する場合に比べると、レーザー光Lをパルス発振する点が異なる。さらに、遮光層13Bの枠線に照射するレーザー光Lは、ラインビーム(20μm×5mm)とした。
図3は、本実施例のよる遮光層付き光学シートを拡大して模式的に示した断面図である。
この実施例では、遮光層付き光学シート20は、遮光層13Bの光学基材21との接触面が粗面(散乱面)13bになっている。
この粗面13bは、転写シート10の光熱変換転写層13に含まれる粒子を適宜調整することにより、転写工程で形成することができる。この粒子は、遮光層13Bの厚さtの約1/10程度が好ましく、例えば、光熱変換転写層13の厚さが1μmの場合には、平均粒径0.1μm程度のものを使用すればよい。
また、この粗面13aの隙間は、図2で説明した転写工程の温度を、通常よりも低温に調整することにより、形成することができる。
この粗面13aは、遮光層13Bと光学基材21との接触面に、空気層22を存在させることになる。
この実施例では、遮光層付き光学シート20は、遮光層13Bの光学基材21との接触面が粗面(散乱面)13bになっている。
この粗面13bは、転写シート10の光熱変換転写層13に含まれる粒子を適宜調整することにより、転写工程で形成することができる。この粒子は、遮光層13Bの厚さtの約1/10程度が好ましく、例えば、光熱変換転写層13の厚さが1μmの場合には、平均粒径0.1μm程度のものを使用すればよい。
また、この粗面13aの隙間は、図2で説明した転写工程の温度を、通常よりも低温に調整することにより、形成することができる。
この粗面13aは、遮光層13Bと光学基材21との接触面に、空気層22を存在させることになる。
本実施例の遮光層付き光学シート20は、空気層22が存在することにより、観察側(図3の下側)からの入射する光(外光)を散乱させるので、遮光層13Bが、より黒く観察される。
したがって、後述するカラーフィルタ30に使用した場合に、コントラストの良好な鮮明な画像を得ることができる。
したがって、後述するカラーフィルタ30に使用した場合に、コントラストの良好な鮮明な画像を得ることができる。
このように、本実施例によれば、遮光層13Bの光学基材21との接触面が粗面13aになっているので、カラーフィルタ30に使用した場合に、良好なコントラスト及び高い解像度を発揮できる。しかも、転写シート10の光熱変換転写層13を調整するだけで、特殊な工程を加えることなく、製造でき生産コストを上昇させることもない。また、遮光層13Bが反射防止作用をするので、容易に反射率を大きく低減することができ、この遮光層13Bを用いたカラーフィルタであると、表示品位のより高い表示装置が実現される。
図4は、本実施例によるカラーフィルタを模式的に示した断面図である。なお、以下では、カラーフィルタの製造方法の説明に従い、各部材等についても説明する。
まず、カラーフィルタ30に用いられる遮光層付き光学シートは、光学基材31と、この光学基材31上に転写された遮光層13Cとを備えている。この遮光層13Cは、上述した転写工程(ここでは、転写フィルムを光学基材31から剥離するまでの工程となる:図2参照)と、上述したベーク工程とにより、光学基材31上に転写される。
まず、カラーフィルタ30に用いられる遮光層付き光学シートは、光学基材31と、この光学基材31上に転写された遮光層13Cとを備えている。この遮光層13Cは、上述した転写工程(ここでは、転写フィルムを光学基材31から剥離するまでの工程となる:図2参照)と、上述したベーク工程とにより、光学基材31上に転写される。
図5は、本実施例による遮光層付き光学シート20上に、濡れ性変化層を塗布する濡れ性変化層塗布工程を示す図である。
図6は、光学基材31側からエネルギーを照射するバック露光工程を示す図である。
次に、この遮光層付き光学シート20上に、濡れ性変化層32を塗布した後(図5参照)、光学基材31側からエネルギー35を照射する(図6参照)。
この濡れ性変化層32は、エネルギー35の照射により、濡れ性が変化する層であって、例えば、光触媒作用を有する二酸化チタン等を含む。
ここで、濡れ性とは、濡れ性変化層32表面における水との接触角をいい、この実施例による濡れ性変化層32では、エネルギー35の照射により水との接触角が小さい親水性領域32Aを形成する。また、エネルギー35の照射前は、濡れ性変化層32は、水との接触角が大きい疎水性領域32Bを形成している。なお、後述するインクR,G,Bは、水性インクであるために、親水性領域32Aは親インク性となり、同じく、疎水性領域32Bは撥インク性となる。
図6は、光学基材31側からエネルギーを照射するバック露光工程を示す図である。
次に、この遮光層付き光学シート20上に、濡れ性変化層32を塗布した後(図5参照)、光学基材31側からエネルギー35を照射する(図6参照)。
この濡れ性変化層32は、エネルギー35の照射により、濡れ性が変化する層であって、例えば、光触媒作用を有する二酸化チタン等を含む。
ここで、濡れ性とは、濡れ性変化層32表面における水との接触角をいい、この実施例による濡れ性変化層32では、エネルギー35の照射により水との接触角が小さい親水性領域32Aを形成する。また、エネルギー35の照射前は、濡れ性変化層32は、水との接触角が大きい疎水性領域32Bを形成している。なお、後述するインクR,G,Bは、水性インクであるために、親水性領域32Aは親インク性となり、同じく、疎水性領域32Bは撥インク性となる。
また、遮光層13Cの凸部上面の両端部は、上述したように、遮光層13Cの長手方向に沿って土手状に形成した土手部を備えているので、光学基材31側から照射されたエネルギー35は、土手部により、遮光層13Cの凸部上面に回り込まないので、この遮光層13Cの凸部上面を精度よく疎水性領域32Bにすることができる。
したがって、遮光層13Cの凸部上面には、エネルギー35が照射されないので、この凸部上面に塗布された濡れ性変化層32は、疎水性領域32Bとなっている。これに対して、遮光層13Cの凸部上面以外(すなわち、遮光層13Cの間であって、以下、開口部という)には、エネルギー35が照射されるので、この開口部に塗布された濡れ性変化層32は、親水性領域32Aとなっている。
図7は、遮光層13Cの間に、インクR,G,Bを吐出する着色工程を示す図である。
次に、赤色、緑色、青色を示すインクR,G,Bをインクジェット記録方式により、遮光層13Cの間に形成されたストライプ状の開口部に吐出して、開口部を着色した。これにより、複数色(ここでは、R、G、B)の画素部33R,33G,33Bを開口部に形成することにより(図中(a)参照)、カラーフィルタ30を製造する。
次に、赤色、緑色、青色を示すインクR,G,Bをインクジェット記録方式により、遮光層13Cの間に形成されたストライプ状の開口部に吐出して、開口部を着色した。これにより、複数色(ここでは、R、G、B)の画素部33R,33G,33Bを開口部に形成することにより(図中(a)参照)、カラーフィルタ30を製造する。
さらに、遮光層13C上に、所望の層(例えば、保護層であるオーバーコート層34:図4参照)を形成する場合には、画素部33R,33G,33B側からエネルギー35Aを照射することにより(図中(b)参照)、濡れ性変化層32の疎水性領域32Bを親水性領域32Aに変化させる。
これにより、カラーフィルタ30の表面にオーバーコート層34等の所望の層を形成する場合に、このオーバーコート層34との密着性を高めることができる(図6参照)。
これにより、カラーフィルタ30の表面にオーバーコート層34等の所望の層を形成する場合に、このオーバーコート層34との密着性を高めることができる(図6参照)。
このように、遮光層13Bの光学基材21との接触面が粗面13aになっている光学シート20を用いるので、上述したカラーフィルタ30に使用した場合に、良好なコントラスト及び高い解像度を発揮でき、表示品位のより高い表示装置が実現される。
(変形例)
以上説明した実施例に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
例えば、本実施例の遮光層付き光学シート20の遮光層13B,13Cは、カラーフィルタのセパレーションリブや、液晶表示装置のブラックマトリックス(又はブラックストライプ)を例に説明したが、有機EL素子の隔壁(バンク)に利用してもよい。
以上説明した実施例に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
例えば、本実施例の遮光層付き光学シート20の遮光層13B,13Cは、カラーフィルタのセパレーションリブや、液晶表示装置のブラックマトリックス(又はブラックストライプ)を例に説明したが、有機EL素子の隔壁(バンク)に利用してもよい。
10 転写シート
11 転写基材
12 離型層
13 光熱変換転写層
20 遮光層付き光学シート
21 光学基材
22 空気層
13B,13C 遮光層
12b 粗面
30 カラーフィルタ
32 濡れ性変化層
33R,33G,33B 画素部
L レーザー光
11 転写基材
12 離型層
13 光熱変換転写層
20 遮光層付き光学シート
21 光学基材
22 空気層
13B,13C 遮光層
12b 粗面
30 カラーフィルタ
32 濡れ性変化層
33R,33G,33B 画素部
L レーザー光
Claims (3)
- 透明又は半透明の光学基材と、
前記光学基材上に形成された遮光層とを備え、
前記遮光層と前記光学基材との接触面は、粗面であること、
を特徴とする遮光層付き光学シート。 - 請求項1に記載の遮光層付き光学シートにおいて、
前記遮光層と前記光学基材との接触面は、空気層が存在すること、
を特徴とする遮光層付き光学シート。 - 請求項1又は請求項2に記載の遮光層付き光学シートと、
前記遮光層付き光学シート上に形成された濡れ性変化層と、
前記濡れ性変化層上に形成された複数色の画素部と、
を備えたカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003413446A JP2005173239A (ja) | 2003-12-11 | 2003-12-11 | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003413446A JP2005173239A (ja) | 2003-12-11 | 2003-12-11 | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005173239A true JP2005173239A (ja) | 2005-06-30 |
Family
ID=34733583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003413446A Pending JP2005173239A (ja) | 2003-12-11 | 2003-12-11 | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005173239A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009069362A1 (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | カラーフィルタ基板、液晶表示パネル、液晶表示装置、及び、カラーフィルタ基板の製造方法 |
WO2012008443A1 (ja) * | 2010-07-15 | 2012-01-19 | 東レ株式会社 | 転写用ドナー基板およびこれを用いたデバイスの製造方法、ならびに有機el素子 |
CN113253381A (zh) * | 2021-05-24 | 2021-08-13 | 佘晓峰 | 一种可控发光位置的导光结构 |
-
2003
- 2003-12-11 JP JP2003413446A patent/JP2005173239A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009069362A1 (ja) * | 2007-11-29 | 2009-06-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | カラーフィルタ基板、液晶表示パネル、液晶表示装置、及び、カラーフィルタ基板の製造方法 |
CN101861533A (zh) * | 2007-11-29 | 2010-10-13 | 夏普株式会社 | 彩色滤光片基板、液晶显示面板、液晶显示装置和彩色滤光片基板的制造方法 |
CN101861533B (zh) * | 2007-11-29 | 2012-11-07 | 夏普株式会社 | 彩色滤光片基板、液晶显示面板、液晶显示装置和彩色滤光片基板的制造方法 |
WO2012008443A1 (ja) * | 2010-07-15 | 2012-01-19 | 東レ株式会社 | 転写用ドナー基板およびこれを用いたデバイスの製造方法、ならびに有機el素子 |
CN103004291A (zh) * | 2010-07-15 | 2013-03-27 | 东丽株式会社 | 转印用施主基板及使用其的器件的制造方法、及有机el元件 |
CN113253381A (zh) * | 2021-05-24 | 2021-08-13 | 佘晓峰 | 一种可控发光位置的导光结构 |
CN113253381B (zh) * | 2021-05-24 | 2023-08-25 | 佘晓峰 | 一种可控发光位置的导光结构 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6376133B1 (en) | Color filters for displays | |
JP2007112139A (ja) | 中間層を備えたレーザーアドレス可能な熱転写像形成要素 | |
JP2002514140A (ja) | レーザ誘起フィルム転写系 | |
JP3581047B2 (ja) | 熱可逆性多色記録媒体 | |
US6361905B2 (en) | Color filters for displays | |
CN100390573C (zh) | 光量调节装置、其制造方法以及摄影装置 | |
KR102521208B1 (ko) | 시온물질을 포함하는 휴대폰 데코레이션 필름의 제조 방법 및 이를 통해 제조된 휴대폰 데코레이션 필름 | |
JP2005173239A (ja) | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ | |
JP2005173107A (ja) | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ | |
JP6239647B2 (ja) | 3次元構造の金属パターンの製造方法 | |
JP2014065299A (ja) | レーザーによって艶出しをするシステムおよび方法のためのマーキング材料 | |
JPS63104881A (ja) | 感熱記録材料およびそれを使用した感熱記録方法 | |
JP2005173218A (ja) | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ | |
JP2005173219A (ja) | 遮光層付き光学シート及びカラーフィルタ | |
EP1336872B1 (en) | Production process of light amount adjustment member, light amount adjustment member, light amount adjustment device and photographing apparatus | |
JP2005181617A (ja) | 転写シート | |
EP0790138A1 (en) | Laser-induced thermal transfer imaging process | |
KR100475223B1 (ko) | 중간층을갖는레이저어드레서블열전사이미지소자 | |
JP2005181618A (ja) | 転写シート | |
WO2003086773A1 (fr) | Materiau de formation d'image multicolore | |
JP2005181619A (ja) | 転写シート | |
KR20240001274A (ko) | 유기층을 포함하는 다층 물품 | |
JP3383769B2 (ja) | 画像記録方法 | |
JP4715033B2 (ja) | 反射率変調積層体およびその製造方法 | |
JPH02160556A (ja) | コンパクトディスクの転写絵つけ方法および転写シート |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20061117 |