JP2005162501A - スピンナーホィール及びロックウールの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 冷却液を循環させるための空洞21を備えたスピンナーホィール20において、外周面の、溶融材料2が注がれるべき領域に隣接し且つロックウールが吹き飛ばされる側に位置する摩耗最多発生領域17の内側内周面にテーパ面27を形成しておき、空洞21内を通過する冷却液内のスケール等が遠心力で空洞内周面に移動した際にテーパ面27に沿って更に移動してゆくことでテーパ面上にはスケール等による熱伝達の悪い堆積層が形成されないようにし、そのテーパ面を通して摩耗最多発生領域17を良好に冷却し、摩耗発生を抑制する構成とする。
【選択図】 図1
Description
図1は本実施形態に係るスピンナーホィール20の概略側面図である。スピンナーホィール20は、ロックウールとなる原材料が溶解された溶融材料2を繊維化してロックウールを製造するためのもので、炭素鋼やステンレス鋼などの金属から構成されており、端壁20a、20bと周壁20cとを備え、内部に空洞21を形成した円柱状の中空体である。空洞21は、スピンナーホィールを冷却するための冷却水などの冷却液を循環させるためのものである。スピンナーホィール20の一方の端壁20aの中心には中空の回転軸23が固定されており、該回転軸23によって軸線X−Xの回りに高速回転する構成となっている。回転軸23の中には、冷却液供給管24が回転軸23との間に排出通路25を形成するように配置されており、冷却液供給管24から空洞21内に冷却液が供給され、排出通路25を通って排出される構成となっている。
図4は本実施形態に係るスピンナーホィール20Aの一部の概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Aは、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料2が注がれるべき領域16の両側に隣接する領域17、18(摩耗が多く生じる恐れのある領域)の内側の内周面に、内径dが、端壁20a、20bに近づくにつれて小さくなる形状のテーパ面27、29を形成し、その間の領域の内周面は内径が一定の円筒面28としている。その他の構成は図1の実施形態に係るスピンナーホィール20と同様である。
図5は本実施形態に係るスピンナーホィール20Bの一部の概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Bは、周壁20cの内周面のほぼ全域に、一端の端壁20aから他端の端壁20bに近づくにつれて内径dが小さくなる形態のテーパ面31を形成している。この他の構成は図1に示す実施形態のスピンナーホィール20と同様である。このスピンナーホィール20Bを用いたロックウールの製造方法も第1の実施形態と同様である。そしてロックウール製造中、スピンナーホィール20B内には冷却液が循環してスピンナーホィール20Bを冷却しているが、その際、テーパ面31にはスケール等の堆積がほとんどなく、テーパ面31を通した周壁20cの効果的な冷却が維持され、特に、ショットの衝突が多く摩耗しがちな領域17、18が良好に冷却される。これにより、スピンナーホィール20B外周面の摩耗を効果的に防止でき、スピンナーホィール20Bの使用時間を長くできる。
図6は本実施形態に係るスピンナーホィール20Cの、一部を断面で示す概略側面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Cは、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域16の全周に、円周方向に延びる複数の凸条を備えた起伏部33が形成されている。この他の構成は図1に示す実施形態のスピンナーホィール20と同様である。
図7(a)は本実施形態に係るスピンナーホィール20Dの概略側面図、図7(b)はその一部を示す概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Dは、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域16の全周に、円周方向に延びる複数の凸条を備えた起伏部33を形成し、更に、その両側に隣接した摩耗を生じやすい領域17、18に、サーメットをプラズマ溶射法などの方法でらせん状に緊密に被覆してサーメット被覆層35を形成している。ここで用いられるサーメットは、金属化合物(炭化物、ホウ化物、酸化物)と金属の共焼体であれば、特に制限はないが、特に、ニッケル、クロム、モリブデンを主成分とする合金:炭化クロム(Cr3 C2 )=70:30のものが、好ましく用いられる。らせん状に溶射被覆して行く際の被覆幅(帯状に形成される被覆層35aの幅)wは、5〜20mm程度、厚さは2mm程度として、その幅にあわせたピッチで被覆してゆけばよい。この場合、溶射法によりサーメットでスピンナーホィール外周面を被覆する際、外周面を1周する毎に溶射、形成された被覆層35aは、スピンナーホィールの幅方向(X−X方向)に幅w分だけずれている。そのため、外周面を1周した時に幅方向の同じ位置でサーメット同士が接触するということがない。これにより、サーメットの被覆開始部と被覆終了部が接触して熱間割れが生じるということがなく、割れなどの欠陥のない、高品質のサーメット被覆層35が形成される。周壁20cの内周面は全体が一定内径dの円筒面28となっている。その他の構成は図1に示す実施形態のスピンナーホィール20と同様であり、空洞21内には冷却液が循環するようになっている。
図8(a)は本実施形態に係るスピンナーホィール20Eの概略側面図、図8(b)はその一部を示す概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Eは、その外周面のほぼ全域に、サーメットをプラズマ溶射法などの方法でらせん状に緊密に被覆した構成のサーメット被覆層35が形成されている。その他の構成は図7に示すスピンナーホィール20Dと同様である。このスピンナーホィール20Eを用いたロックウールの製造方法も第1の実施形態と同様に行われる。そしてロックウール製造中、溶融材料2はサーメット被覆層35の上に注がれるので、高温(約1400℃以上)の溶融材料がスピンナーホィールに接触しても周壁20cの昇温が抑制され、更にスピンナーホィール20Eの外周面の摩耗の発生しやすい領域17、18にもサーメット被覆層35が形成されているので、サーメット被覆層35による優れた耐熱、耐摩耗性により、領域17、18の摩耗を抑制でき、一層スピンナーホィール20Eの使用時間を長くできる。なお、図7、図8に示すスピンナーホィール20D、20Eにおいても、スピンナーホィール内に冷却液を供給して冷却しているが、必要なければ冷却を省略してもよい。
図9(a)は本実施形態に係るスピンナーホィール20Fの概略側面図、図9(b)はその一部を示す概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Fは、周壁20cの内周面に、図1に示すスピンナーホィール20と同様に、テーパ面27と円筒面28を形成している。そしてその他の構成は、図7に示すスピンナーホィール20Dと同様である。このスピンナーホィール20Fを用いたロックウールの製造方法も第1の実施形態と同様である。そしてロックウール製造中、スピンナーホィール20F内には冷却液が循環してスピンナーホィール20Fを冷却しており、その際、テーパ面27にはスケール等の堆積がほとんどなく、テーパ面27を通した周壁20cの効果的な冷却が維持され、ショットの衝突が多く摩耗しがちな領域17が良好に冷却される。また、領域17、18にはサーメット被覆層35があって摩耗を防止している。かくして、スピンナーホィール20F外周面の領域17、18の摩耗をきわめて良好に防止でき、スピンナーホィール20Fの使用時間を一層長くできる。
図10(a)は本実施形態に係るスピンナーホィール20Gの概略側面図、図10(b)はその一部を示す概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Gは、周壁20cの内周面に、図4に示すスピンナーホィール20Aと同様に、テーパ面27、29と円筒面28を形成している。そしてその他の構成は、図7に示すスピンナーホィール20Dと同様である。このスピンナーホィール20Gを用いたロックウールの製造方法も第1の実施形態と同様である。そしてロックウール製造中、スピンナーホィール20G内には冷却液が循環してスピンナーホィール20Gを冷却しており、その際、テーパ面27、29にはスケール等の堆積がほとんどなく、テーパ面27、29を通した周壁20cの効果的な冷却が維持され、ショットの衝突が多く摩耗しがちな領域17、18が良好に冷却される。また、スピンナーホィール20Gの外周面にはサーメット被覆層35があって摩耗を防止している。かくして、スピンナーホィール20G外周面の領域17、18の摩耗をきわめて良好に防止でき、スピンナーホィール20Gの使用時間を一層長くできる。
図11(a)は本実施形態に係るスピンナーホィール20Hの概略側面図、図11(b)はその一部を示す概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Hは、周壁20cの内周面に、図1に示すスピンナーホィール20と同様に、テーパ面27と円筒面28を形成している。そしてその他の構成は、図8に示すスピンナーホィール20Eと同様である。このスピンナーホィール20Hを用いたロックウールの製造方法も第1の実施形態と同様である。そしてロックウール製造中、スピンナーホィール20H内には冷却液が循環してスピンナーホィール20Hを冷却しており、その際、テーパ面27にはスケール等の堆積がほとんどなく、テーパ面27を通した周壁20cの効果的な冷却が維持され、ショットの衝突が多く摩耗しがちな領域17が良好に冷却される。また、溶融材料2はサーメット被覆層35の上に注がれるので、高温(約1400℃以上)の溶融材料がスピンナーホィールに接触しても周壁20cの昇温が抑制され、更にスピンナーホィール20Hの外周面の摩耗の発生しやすい領域17、18にもサーメット被覆層35があって摩耗を防止している。かくして、スピンナーホィール20H外周面の領域17、18の摩耗をきわめて良好に防止でき、スピンナーホィール20Hの使用時間を一層長くできる。
図12(a)は本実施形態に係るスピンナーホィール20Iの概略側面図、図12(b)はその一部を示す概略断面図である。この実施形態のスピンナーホィール20Iは、周壁20cの内周面に、図4に示すスピンナーホィール20Aと同様に、テーパ面27、29と円筒面28を形成している。そしてその他の構成は、図8に示すスピンナーホィール20Eと同様である。このスピンナーホィール20Iを用いたロックウールの製造方法も第1の実施形態と同様である。そしてロックウール製造中、スピンナーホィール20I内には冷却液が循環してスピンナーホィール20Iを冷却しており、その際、テーパ面27、29にはスケール等の堆積がほとんどなく、テーパ面27、29を通した周壁20cの効果的な冷却が維持され、ショットの衝突が多く摩耗しがちな領域17、18が良好に冷却される。また、溶融材料2はサーメット被覆層35の上に注がれるので、高温(約1400℃以上)の溶融材料がスピンナーホィールに接触しても周壁20cの昇温が抑制され、更にスピンナーホィール20Iの外周面の摩耗の発生しやすい領域17、18にもサーメット被覆層35があって摩耗を防止している。かくして、スピンナーホィール20I外周面の領域17、18の摩耗をきわめて良好に防止でき、スピンナーホィール20Iの使用時間を一層長くできる。
図1に示す第一の実施形態に係るスピンナーホィール20を用いてロックウールを製造し、スピンナーホィール20の耐用時間を試験した。図13はこの実施例に用いたロックウール製造装置のスピンナーホィール配列を示す概略正面図であり、溶解炉1側から順に、スピンナーホィール51、52、20、53を配置した。
比較のために、図13に示すロックウール製造装置のスピンナーホィール20を、内周面にテーパ面の無い通常のスピンナーホィールに代えて試験を行った。内周面にテーパ面を形成していない点以外の条件は、実施例1と同様とした。その結果、スピンナーホィール20に代えて用いたスピンナーホィールの耐用時間は、約60時間であった。
図8に示す第6の本実施形態に係るスピンナーホィール20Eを用いてロックウールを製造し、スピンナーホィール20Eの耐用時間を試験した。図14はこの実施例に用いたロックウール製造装置のスピンナーホィール配列を示す概略正面図であり、溶解炉1側から順に、スピンナーホィール51、52、20E、53を配置した。なお、スピンナーホィール51、52、53は実施例1で用いたものと同一である。
次に、実施例2のスピンナーホィール20Eを、図11に示すスピンナーホィール20Hに代えて実施例2と同一条件で試験をした。この試験に用いたスピンナーホィール20H(図11参照)は、内周面にテーパ面27を有している。スピンナーホィール20Hの幅W1 は約155mm、テーパ面27の形成領域の幅W2 は約70mm、溶融材料2が注がれる領域16の幅W3 は約40mm、テーパ面27の中心軸線X−Xに対する傾斜角は約10°とした。外周面に形成しているサーメット被覆層35は、実施例2に用いたスピンナーホィール20Eのサーメット被覆層35と同一とした。この実施例におけるスピンナーホィール20Hの耐用時間は約350時間であった。
2、2a、2b、2c 溶融材料
6 噴射口
7 ロックウール
8 集綿機
16 溶融材料が注がれるべき領域
17、18 領域16に隣接した領域
20、20A、20B、20C、20D、20E スピンナーホィール
20F、20G、20H、20I スピンナーホィール
20a、20b 端壁
20c 周壁
21 空洞
23 回転軸
24 冷却液供給管
25 排出通路
27、29 テーパ面
28 円筒面
31 テーパ面
33 起伏部
35 サーメット被覆層
Claims (12)
- ロックウールを製造するために用いられ、冷却液を循環させるための空洞を内部に有する円柱状又は円錐台状のスピンナーホィールであって、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域に隣接し且つロックウールが吹き飛ばされる側に位置する領域の内側の内周面にテーパ面が形成されていることを特徴とするスピンナーホィール。
- ロックウールを製造するために用いられ、冷却液を循環させるための空洞を内部に有する円柱状又は円錐台状のスピンナーホィールであって、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域の両側にそれぞれ隣接する領域の内側の内周面にテーパ面が形成されていることを特徴とするスピンナーホィール。
- 前記外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域の内側の内周面が円筒面であり、その円筒面に隣接して形成されたテーパ面が、その円筒面から離れるにつれて内径が小さくなる形状であることを特徴とする請求項1又は2記載のスピンナーホィール。
- 前記スピンナーホィールの内周面のほぼ全域に一端から他端に向かって内径が小さくなる形状のテーパ面が形成されていることを特徴とする請求項2記載のスピンナーホィール。
- 前記外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域に隣接し且つロックウールが吹き飛ばされる側に位置する領域にサーメットがらせん状に被覆されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のスピンナーホィール。
- 前記外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域の両側にそれぞれ隣接する領域にサーメットがらせん状に被覆されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のスピンナーホィール。
- 前記外周面のほぼ全域にサーメットがらせん状に被覆されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のスピンナーホィール。
- ロックウールを製造するために用いられる円柱状又は円錐台状のスピンナーホィールであって、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域に隣接し且つロックウールが吹き飛ばされる側に位置する領域にサーメットがらせん状に被覆されていることを特徴とするスピンナーホィール。
- ロックウールを製造するために用いられる円柱状又は円錐台状のスピンナーホィールであって、その外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域の両側にそれぞれ隣接する領域にサーメットがらせん状に被覆されていることを特徴とするスピンナーホィール。
- ロックウールを製造するために用いられる円柱状又は円錐台状のスピンナーホィールであって、その外周面のほぼ全域にサーメットがらせん状に被覆されていることを特徴とするスピンナーホィール。
- 前記外周面の、ロックウールとなるべき溶融材料が注がれるべき領域に、円周方向に延びる複数の凸条を備えた起伏部が形成されていることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項記載のスピンナーホィール。
- 請求項1から11のいずれか1項記載のスピンナーホィールを回転させ、その外周面にロックウールとなるべき溶融材料を注いでロックウールを得ることを特徴とするロックウールの製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003399675A JP2005162501A (ja) | 2003-11-28 | 2003-11-28 | スピンナーホィール及びロックウールの製造方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101441088B1 (ko) * | 2012-09-26 | 2014-09-23 | 주식회사 케이씨씨 | 미네랄울 제섬용 스피너휠 |
WO2018111198A1 (en) | 2016-12-12 | 2018-06-21 | Izoteh D.O.O. | Coated rotating wheel for mineral melt fiberization and method for coating of a rotating wheel for mineral melt fiberization |
-
2003
- 2003-11-28 JP JP2003399675A patent/JP2005162501A/ja active Pending
Cited By (2)
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WO2018111198A1 (en) | 2016-12-12 | 2018-06-21 | Izoteh D.O.O. | Coated rotating wheel for mineral melt fiberization and method for coating of a rotating wheel for mineral melt fiberization |
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