JP2005158852A - マイクロ波導入装置および表面波励起プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 マイクロ波導入部10は、マイクロ波発生部1からマイクロ波を導入する導入口3aと終端部3bとを有し、複数のスロットアンテナが所定間隔で形成された底板を内側面とする環状波導波管3と、筒状の外側面が環状導波管3の底板に接して配設され、環状導波管3内を伝搬するマイクロ波をスロットアンテナを通して導入する誘電体チューブ4とを備える。SWP処理装置100は、マイクロ波導入部10により導入されたマイクロ波により気密空間に表面波励起プラズマを生成し、該表面波励起プラズマにより被処理物を処理する処理室とを備える。
【選択図】 図1
Description
〈第1の実施の形態〉
図1は、本発明の第1の実施の形態によるSWP処理装置を模式的に示す全体構成図である。図2は、第1の実施の形態によるSWP処理装置の主要部の概略構成図である。図3は、図2のI−I断面図であり、マイクロ波導入部の構成を示す平面図である。
以下、簡単のために、環状導波管3および誘電体チューブ4は円形状とし、両者の中心位置をOとする。また、スロットアンテナ51〜58は、中心位置Oから中心線CL1に投影された51a〜58aの位置にあるものとする。
図5は、Z方向のプラズマ電位分布を定性的に示すグラフ、図6は、Z方向の筺体内の雰囲気温度分布を定性的に示すグラフ、図7は、被処理基板Sの直上での電子密度分布を定性的に示すグラフである。
再び図3を参照すると、環状導波管3の中心線CL1の長さL1は、導波管内を伝搬するマイクロ波Mの波長をλgとし、0.95λgからλgの範囲を定数kとしたとき、定数kの整数倍に設定されている。ここで、定数kは、実験的に得られた数値である。nを正の整数とするとき、L1=n×kに設定することにより、環状導波管3内ではマイクロ波Mの定在波が形成される。定在波の形成により、常に環状導波管3の一定の位置から同位相のマイクロ波Mを強く放射させることができる。
図10(a)では、始点Aに近接するスロットアンテナの位置a1で定在波のピーク位置との位置ズレs1が生じており、位置a2からa5へとマイクロ波Mの伝搬に連れて位置ズレは大きくなっていく。図10(b)では、位置ズレs1が零となるように、終端整合器3cにより終端位置をE1からE1´へ移動させた場合である。スロットアンテナの位置a1と定在波のピーク位置とは合致しているとともに、他のスロットアンテナでも位置ズレはほとんど生じていない。すなわち、終端位置を調整すれば、各スロットアンテナでマイクロ波Mの放射が効果的に行われる。
図11は、本発明の第2の実施の形態によるSWP処理装置を模式的に示す全体構成図である。図12は、第2の実施の形態によるSWP処理装置のマイクロ波導入部の構成を示す平面図である。図13,14は、第2の実施の形態による環状導波管を展開し、スロットアンテナの形状、配置を模式的に示す図である。本実施の形態では、第1の実施の形態と同じ構成要素には同一符号を付し、説明を省略する。
図11、12を参照すると、環状導波管30は、中央導波管31と、中央導波管31から分岐したスロット導波管32,33とを有する。スロット導波管32,33は、誘電体チューブ4の外側面に接してこれを取り囲むように配設されている。スロット導波管32には、スロットアンテナ71〜74が設けられるとともに、スロット導波管32の終端部32bには、終端整合器32cが設けられている。同様に、スロット導波管33には、スロットアンテナ75〜78が設けられるとともに、スロット導波管33の終端部33bには、終端整合器33cが設けられている。本実施の形態でも、第1の実施の形態と同様に、環状導波管30の中心線CL2,CL3を基準に各スロットアンテナの位置(71a〜78a)を表わすものとする。
2:筺体
3,30:環状導波管
3a:導入口
3b,32b,33b:終端部
3c,32c,33c:終端整合器
4:誘電体チューブ
5:スロットアンテナ
6:上面ガス導入管
7:側面ガス導入管
10:マイクロ波導入部
100,200:SWP処理装置
A:始点
B,D,E:終点
C:分岐点
E1〜E3:終端
M:マイクロ波
Claims (8)
- マイクロ波発生装置からマイクロ波を導入する導入口と終端部とを有し、複数のスロットアンテナが所定間隔で形成された底板を内側面とする環状のマイクロ波導波管と、
筒状を呈し、その筒の外側面が前記環状のマイクロ波導波管の底板に接して配設され、前記環状のマイクロ波導波管内を伝搬するマイクロ波を前記スロットアンテナを通して導入する筒状誘電体部材とを備えることを特徴とするマイクロ波導入装置。 - 請求項1に記載のマイクロ波導入装置において、
前記環状のマイクロ波導波管は、前記導入口が前記マイクロ波導波管のほぼ中央にあって、前記導入口から導入したマイクロ波を2つに分岐して両終端部へ伝搬させることを特徴とするマイクロ波導入装置。 - 請求項1に記載のマイクロ波導入装置において、
前記マイクロ波伝搬方向に沿って前記筒状誘電体部材を取り囲むマイクロ波導波管の中心線の長さを、前記マイクロ波の管内波長をλgとし、0.95λgからλgの範囲を定数kとしたとき、定数kの整数倍に設定することを特徴とするマイクロ波導入装置。 - 請求項2に記載のマイクロ波導入装置において、
分岐した一方のマイクロ波伝搬方向に沿って前記筒状誘電体部材を取り囲むマイクロ波導波管の中心線の長さ、および分岐した他方のマイクロ波伝搬方向に沿って前記筒状誘電体部材を取り囲むマイクロ波導波管の中心線の長さを、前記マイクロ波の管内波長をλgとし、0.95λgからλgの範囲を定数kとしたとき、それぞれ定数kの整数倍に設定することを特徴とするマイクロ波導入装置。 - 請求項3または4に記載のマイクロ波導入装置において、
前記複数のスロットアンテナの所定間隔を、前記定数kの整数倍に設定することを特徴とするマイクロ波導入装置。 - 請求項3〜5のいずれかに記載のマイクロ波導入装置において、
前記複数のスロットアンテナは、前記マイクロ波導波管の中心線を基準に、前記マイクロ波導波管の底板の中央付近に形成された第1のスロットアンテナ群と前記マイクロ波導波管の底板の周辺付近に形成された第2のスロットアンテナ群とを有し、
前記第1のスロットアンテナ群と第2のスロットアンテナ群とを、前記マイクロ波導波管の中心線方向にk/4の整数倍だけ位置をずらして並行配置することを特徴とするマイクロ波導入装置。 - 請求項1〜6のいずれかに記載のマイクロ波導入装置において、
前記マイクロ波導波管の各終端部に終端整合器をそれぞれ設けることを特徴とするマイクロ波導入装置。 - マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置と、
請求項1〜7のいずれかに記載のマイクロ波導入装置と、
前記筒状誘電体部材を保持して気密空間を形成し、前記筒状誘電体部材を介して導入されたマイクロ波により前記気密空間に表面波励起プラズマを生成し、該表面波励起プラズマにより被処理物を処理する処理室とを備えることを特徴とする表面波励起プラズマ処理装置。
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