JP2005156801A - Glare-proof antireflection film, polarizing plate and display device - Google Patents

Glare-proof antireflection film, polarizing plate and display device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glare-proof antireflection film which has excellent planarity and reduces glare and uneven unevenness of reflected light and to provide a polarizing plate and a display device having excellent visibility by using the same. <P>SOLUTION: In the glare-proof antireflection film, a highly refractive index active ray-curable resin layer and a low refractive index layer containing inorganic fine particles are formed on the uneven surface of a base film comprising thermoplastic resin. Therein, the inorganic fine particles included in the low refractive index layer are porous particles, composite particles having covering layer formed on the surface of the porous particles and hollow particles in which solvent, gas or porous material is filled. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は防眩性反射防止フィルム、偏光板及び表示装置に関し、より詳しくは平面性に優れ、ぎらつき、反射光むらを低減した防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び視認性に優れた表示装置に関する。   The present invention relates to an antiglare antireflection film, a polarizing plate and a display device. More specifically, the present invention relates to an antiglare antireflection film having excellent flatness, glare and reduced reflected light unevenness, and a polarizing plate and visibility using the antiglare antireflection film. The present invention relates to an excellent display device.

近年、ノートパソコン、携帯電話等のフルカラー化或いはディスプレイの高精細化等に伴って反射防止機能、帯電防止機能等の付与された高機能の光学フィルムが求められている。例えば、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また、写り込みを防いだり、ぎらつきの少ない表示性能を得るために表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータやワープロ等の液晶画像表示装置(液晶ディスプレイともいう)が求められている。   In recent years, high-performance optical films provided with an antireflection function, an antistatic function and the like have been demanded with full-color display of notebook personal computers, mobile phones and the like or with high definition of displays. For example, a computer provided with an anti-glare layer for improving visibility, or with an anti-glare layer that prevents reflections and scatters reflected light with an uneven surface to obtain display performance with less glare And liquid crystal image display devices (also referred to as liquid crystal displays) such as word processors are demanded.

反射防止層や防眩層は用途に応じて様々な種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々のフィルムを液晶ディスプレイの前面に配置することで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能または防眩機能等を付与する方法が用いられている。これら、前面板として用いられる光学用フィルムには、塗布または、スパッタリング等で形成した反射防止層または防眩層が設けられている。   The antireflection layer and antiglare layer are improved in various types and performances depending on the application, and various films having these functions are placed on the front of the liquid crystal display to reflect on the display for improved visibility. A method for imparting a prevention function or an antiglare function is used. These optical films used as the front plate are provided with an antireflection layer or an antiglare layer formed by coating or sputtering.

防眩層は、表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置などの使用時に反射像の写り込みが気にならないようにするものである。   The antiglare layer blurs the outline of the image reflected on the surface so that reflection of the reflected image does not matter when using an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, or a plasma display.

近年、表示装置の薄型化のため、使用するフィルムの膜厚もますます薄いものが求められており、或いは、大画面化のため、防眩性反射防止フィルムの幅も広いものが求められている。特に大画面においては平面性に優れた防眩性反射防止フィルムが求められているが、従来の防眩性反射防止フィルムでは特に広幅、薄膜では平面性に優れたものが得られにくかった。   In recent years, there has been a demand for thinner and thinner film for display devices, or a wider screen for anti-glare antireflection films for larger screens. Yes. In particular, an anti-glare antireflection film excellent in flatness is required for a large screen, but it has been difficult to obtain a wide anti-glare antireflection film and a thin film excellent in flatness.

従来防眩フィルムを得るには、無機または有機の比較的大きい粒子と微粒子を防眩層に添加し、表面に凹凸を設ける方法が知られているが、比較的大きい粒子によるぎらつきの問題があった。   Conventionally, in order to obtain an antiglare film, a method of adding relatively large inorganic or organic particles and fine particles to an antiglare layer and providing irregularities on the surface is known, but there is a problem of glare due to relatively large particles. It was.

一方、特別な防眩層を設けずに、基材自身に凹凸を付与しその上にハードコート層や反射防止層を設け防眩効果を有する防眩フイルムを得る方法が開示されている。セルロース系プラスチックを主とする保護基板を粘着してなる偏光板において、保護基板の表面にエンボス加工して微細凹凸面を形成し、その凹凸面を有機溶媒により一部溶解して無反射の偏光板を提供する技術が開示されている。(例えば、特許文献1参照。)また、トリアセチルセルロースフイルム製造時にドープを流延する支持体に凹凸面を設け、製膜と同時にフイルム面に凹凸を付与し防眩性トリアセチルセルロースフイルムを製造する技術が開示されている。(例えば、特許文献2参照。)しかしながら、特許文献1の方法では有機溶媒による凹凸面の溶解を伴うことから、凹凸面形成の再現性や基板自身の溶媒による平面性の劣化を生じ好ましくない。特許文献2の方法では流延装置に特別な流延支持体が必要であり、更に高い残留溶媒を含んだ状態で凹凸面を形成するため、凹凸面形成の制御が困難であり、剥離しにくくなり剥離時の故障が生じ易く、出来上がったフィルムの平面性に劣るという問題がある。また流延支持体の洗浄やメンテナンスにコストがかかり生産性に劣る。   On the other hand, a method for obtaining an antiglare film having an antiglare effect by providing irregularities on the substrate itself and providing a hard coat layer or an antireflection layer thereon without providing a special antiglare layer is disclosed. A polarizing plate made by adhering a protective substrate mainly composed of cellulosic plastic, embossed on the surface of the protective substrate to form a fine uneven surface, and the uneven surface is partially dissolved with an organic solvent to provide non-reflective polarized light. Techniques for providing plates are disclosed. (For example, refer to Patent Document 1.) Also, an uneven surface is provided on the support on which the dope is cast during the production of the triacetyl cellulose film, and an uneven surface is provided on the film surface simultaneously with the film formation to produce an antiglare triacetyl cellulose film. Techniques to do this are disclosed. (For example, refer to Patent Document 2.) However, since the method of Patent Document 1 involves dissolution of the uneven surface by an organic solvent, the reproducibility of forming the uneven surface and the flatness deterioration due to the solvent of the substrate itself are not preferable. In the method of Patent Document 2, a special casting support is required for the casting apparatus, and since the uneven surface is formed in a state containing a higher residual solvent, it is difficult to control the formation of the uneven surface and it is difficult to peel off. Therefore, there is a problem that failure at the time of peeling tends to occur and the flatness of the finished film is inferior. In addition, the cleaning and maintenance of the casting support is expensive and the productivity is poor.

更に、支持体上に反射防止層を設けた後に、エンボス加工して防眩性反射防止フイルムを得る方法が開示されている。(例えば、特許文献3参照。)しかしながらこの方法では、防眩性反射防止フイルムを偏光子と貼合した後の偏光板の劣化や、ハードコート層、反射防止層に微細なクラックが入って湿度の影響を受け易く、特に偏光板の裏面に光学補償フィルムを設ける場合に、リターデーション値が変動し易くなり視野角特性が変動するため好ましくない。   Furthermore, a method for obtaining an antiglare antireflection film by embossing after an antireflection layer is provided on a support is disclosed. (For example, refer to Patent Document 3.) However, in this method, the deterioration of the polarizing plate after the antiglare and antireflection film is bonded to the polarizer, and the hard coat layer and the antireflection layer have minute cracks and humidity. In particular, when an optical compensation film is provided on the back surface of the polarizing plate, the retardation value tends to fluctuate and the viewing angle characteristics fluctuate.

よって、広幅、若しくは薄膜の防眩フィルムを低コストで安定に製造出来、更に表面のぎらつきが生じにくく、平面性に優れた防眩フィルムの出現が待たれている状態にある。
特公平4−59605号公報 特開平10−119067号公報 特開2003−207602号公報
Therefore, a wide or thin anti-glare film can be stably produced at low cost, and the appearance of an anti-glare film excellent in flatness is awaited.
Japanese Examined Patent Publication No. 4-59605 Japanese Patent Laid-Open No. 10-119067 JP 2003-207602 A

従って本発明の目的は、平面性に優れ、ぎらつき、反射光むらを低減した防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び視認性に優れた表示装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an antiglare antireflection film having excellent flatness, glare and reduced reflected light unevenness, a polarizing plate using the same, and a display device having excellent visibility.

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
(請求項1)
熱可塑性樹脂を含有する基材フィルムの凹凸表面上に高屈折率活性線硬化樹脂層及び無機微粒子を含有する低屈折率層を有し、該低屈折率層に含有する無機微粒子が多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
(請求項2)
前記基材フィルムの凹凸が中心線平均粗さ(Ra)が0.03μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の防眩性反射防止フィルム。
(請求項3)
前記基材フィルムが微粒子を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の防眩性反射防止フィルム。
(請求項4)
前記基材フィルムが表層に微粒子を含有する熱可塑性樹脂層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
(請求項5)
前記基材フィルムの表面に基層よりもガラス転移温度がより低い表層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
(請求項6)
前記基材フィルムが共流延若しくは逐次流延によって形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。
(請求項7)
前記基材フィルムが紫外線吸収剤及び可塑剤、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80,000〜200,000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する延伸して製造されたセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に防眩性反射防止フィルム。
(請求項8)
請求項1〜7のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムを一方の面に、光学補償フィルムをもう一方の面に有することを特徴とする偏光板。
(請求項9)
請求項1〜7のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムを表面に設けたことを特徴とする表示装置。
(請求項10)
請求項8に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。
The above object of the present invention is achieved by the following configurations.
(Claim 1)
It has a high refractive index active ray curable resin layer and a low refractive index layer containing inorganic fine particles on the uneven surface of a substrate film containing a thermoplastic resin, and the inorganic fine particles contained in the low refractive index layer are porous particles. And a composite particle having a coating layer provided on the surface of the porous particle, and a hollow particle filled with a solvent, a gas, or a porous substance inside, and an antiglare antireflection film.
(Claim 2)
The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the unevenness of the base film has a center line average roughness (Ra) of 0.03 μm or more.
(Claim 3)
The anti-glare antireflection film according to claim 1, wherein the base film contains fine particles.
(Claim 4)
The anti-glare antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the base film has a thermoplastic resin layer containing fine particles in a surface layer.
(Claim 5)
The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 4, further comprising a surface layer having a glass transition temperature lower than that of the base layer on the surface of the base film.
(Claim 6)
The anti-glare antireflection film according to claim 1, wherein the base film is formed by co-casting or sequential casting.
(Claim 7)
The base film is composed of an ultraviolet absorber and a plasticizer, a total acyl group substitution degree of 2.6 to 2.9, a number average molecular weight (Mn) of 80,000 to 200,000, a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight ( The antiglare reflection according to any one of claims 1 to 6, which is a stretched cellulose ester film containing a cellulose ester having a value of Mn) of 1.4 to 3.0. Prevention film.
(Claim 8)
A polarizing plate comprising the antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 7 on one surface and an optical compensation film on the other surface.
(Claim 9)
A display device comprising the antiglare antireflection film according to claim 1 provided on a surface thereof.
(Claim 10)
A display device comprising the polarizing plate according to claim 8.

本発明により、平面性に優れ、ぎらつき、反射光むらや異物故障を低減した防眩性反射防止フィルム、それを用いた偏光板及び視認性に優れた表示装置を提供することが出来る。   According to the present invention, it is possible to provide an antiglare antireflection film excellent in flatness, glaring, reflected light unevenness and foreign matter failure, a polarizing plate using the same, and a display device having excellent visibility.

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   The best mode for carrying out the present invention will be described in detail below, but the present invention is not limited thereto.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、熱可塑性樹脂を含有する基材フィルムの凹凸表面上に高屈折率活性線硬化樹脂層(以下、単に活性線硬化樹脂層とも言う)及び無機微粒子を含有する低屈折率層を有し、該無機微粒子が多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子であることを特徴とする。   The antiglare antireflection film of the present invention contains a high refractive index active ray curable resin layer (hereinafter also simply referred to as an actinic ray curable resin layer) and inorganic fine particles on the uneven surface of a base film containing a thermoplastic resin. A composite particle having a low refractive index layer, the inorganic fine particle having a porous particle and a coating layer provided on the surface of the porous particle, and a hollow particle filled with a solvent, gas, or porous substance inside It is characterized by being.

活性線硬化樹脂層を設ける面の基材表面の凹凸は中心線平均粗さRa(JIS B0601)が0.03μm以上であることが好ましく、更に好ましくは0.03〜5μmであり、より好ましくは0.05〜1μmである。特に好ましくは0.05〜0.3μmである。また、表面の凹凸の平均間隔Smは100μm以下であることが好ましく、特に5〜50μmであることが好ましい。   The unevenness of the substrate surface on which the actinic radiation curable resin layer is provided preferably has a centerline average roughness Ra (JIS B0601) of 0.03 μm or more, more preferably 0.03 to 5 μm, and more preferably 0.05-1 μm. Especially preferably, it is 0.05-0.3 micrometer. Further, the average interval Sm between the surface irregularities is preferably 100 μm or less, and particularly preferably 5 to 50 μm.

熱可塑性樹脂を含有する基材フィルム表面に凹凸を形成する方法は特に限定されず、例えば微粒子と熱可塑性樹脂を有する層を設ける方法、基材を溶解するか膨潤させる溶媒を塗布等によって表面に0.1〜100質量%の溶媒を含有させて、鋳型を有するロールに押し当てて凹凸を形成させる方法などで形成してもよく、特に好ましくは微粒子と熱可塑性樹脂を有する表層を共流延法によって形成してもよい。   The method for forming irregularities on the surface of the substrate film containing the thermoplastic resin is not particularly limited. For example, a method of providing a layer having fine particles and a thermoplastic resin, a method for dissolving or swelling the substrate to the surface by coating or the like. It may be formed by a method of containing 0.1 to 100% by mass of a solvent and pressing it onto a roll having a mold to form irregularities, and particularly preferably co-casting a surface layer having fine particles and a thermoplastic resin. You may form by a method.

いずれにしても活性線硬化樹脂層を設ける側の表面には熱可塑性樹脂を有し、好ましくは該表面のガラス転移温度がフィルム内部のガラス転移温度よりも低いことが上記の方法で所望の凹凸を形成するのに適しており、この様にすることでより平面性に優れた防眩性反射防止フィルムを得ることが出来る。ガラス転移温度はフィルム内部よりも5℃以上低いことが好ましく、5〜100℃低いことが好ましい範囲である。活性線硬化樹脂層を設ける側の表面のガラス転移温度をフィルム内部のガラス転移温度よりも低くする方法としては、可塑剤の種類、添加比率、添加量を変更することが挙げられる。好ましくは可塑剤含有量を増やすことであり、内部に対して1.1倍から3倍の含有量とすることが好ましい。表層に用いられる樹脂は特に限定されないが、アクリル樹脂、セルロースエステル、ポリエステル等が挙げられる。別の方法としては、表層にガラス転移温度が低い熱可塑性樹脂層を設けることである。セルロースエステルフィルムの場合は、数平均分子量が基層より小さいもの、或いは総アシル基置換度が低いものを使用することが好ましい。特に、表層にセルロースの混合カルボン酸エステル若しくはジアセチルセルロースを有し、基層に総アシル基置換度2.7以上のトリアセチルセルロースを有することが好ましい。   In any case, the surface on the side where the actinic radiation curable resin layer is provided has a thermoplastic resin, and it is preferable that the glass transition temperature of the surface is lower than the glass transition temperature inside the film by the above method. In this way, an antiglare antireflection film having better flatness can be obtained. The glass transition temperature is preferably 5 ° C. or more lower than the inside of the film, and is preferably 5 to 100 ° C. lower. Examples of the method for lowering the glass transition temperature on the surface on which the actinic radiation curable resin layer is provided to be lower than the glass transition temperature inside the film include changing the kind of plasticizer, the addition ratio, and the addition amount. Preferably, the plasticizer content is increased, and the content is preferably 1.1 to 3 times the content of the inside. Although resin used for a surface layer is not specifically limited, Acrylic resin, a cellulose ester, polyester, etc. are mentioned. Another method is to provide a thermoplastic resin layer having a low glass transition temperature on the surface layer. In the case of a cellulose ester film, it is preferable to use a film having a number average molecular weight smaller than that of the base layer or a film having a low total acyl group substitution degree. In particular, it is preferable that the surface layer has a mixed carboxylic acid ester of cellulose or diacetyl cellulose, and the base layer has triacetyl cellulose having a total acyl group substitution degree of 2.7 or more.

本発明者は、以上のようにして得られた熱可塑性樹脂を含有する基材フィルムの凹凸表面上に高屈折率活性線硬化樹脂層及び特定の無機微粒子を含有する低屈折率層を塗設した防眩性反射防止フィルムによって、本発明の目的が達成出来ることを見出し、本発明を成すに至った次第である。   The present inventor coated a high refractive index active ray curable resin layer and a low refractive index layer containing specific inorganic fine particles on the uneven surface of the base film containing the thermoplastic resin obtained as described above. It has been found that the object of the present invention can be achieved by the antiglare and antireflection film, and the present invention has been achieved.

更に、本発明に係る防眩性反射防止フィルムは、以下の態様を取ることが好ましい。   Furthermore, the antiglare antireflection film according to the present invention preferably takes the following aspects.

(1)用いられるセルロースエステルフィルムの幅が、1.4m〜4mの範囲であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。   (1) The anti-glare antireflection film, wherein the cellulose ester film used has a width in the range of 1.4 m to 4 m.

(2)前記セルロースエステルフィルムの膜厚が10〜70μmで、かつ高屈折率活性線硬化樹脂層の膜厚が1〜10μmであることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。   (2) The antiglare antireflection film, wherein the cellulose ester film has a thickness of 10 to 70 μm and the high refractive index active ray curable resin layer has a thickness of 1 to 10 μm.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、熱可塑性樹脂を含有する基材フィルムが表面に凹凸面を有することが特徴である。   The antiglare antireflection film of the present invention is characterized in that a base film containing a thermoplastic resin has an uneven surface on the surface.

本発明の凹凸面を形成する方法として、例えば、下記の方法等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。   Examples of the method for forming an uneven surface according to the present invention include the following methods, but are not limited thereto.

1)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、エンボスにて形状を付与する方法。   1) A method in which a negative shape having a desired shape is formed on a roll or master, and the shape is given by embossing.

2)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、熱硬化性樹脂をネガ型に充填し、加熱硬化後ネガ型から剥離する方法。   2) A method in which a negative mold having a desired shape is formed on a roll or a master, a thermosetting resin is filled into the negative mold, and the film is peeled off from the negative mold after heat curing.

3)ロールや原盤に目的とする形状のネガ型を形成しておき、紫外線または電子線硬化樹脂を塗布し凹部に充填後、樹脂液を介して凹版上に透明基材フィルムを被覆したまま紫外線または電子線を照射し、硬化させた樹脂とそれが接着した基材フィルムとをネガ型から剥離する方法。   3) A negative shape having a desired shape is formed on a roll or a master, and after applying ultraviolet rays or an electron beam curable resin and filling the concave portions, the ultraviolet rays are applied while the transparent base film is coated on the intaglio via a resin liquid. Alternatively, a method in which the cured resin and the base film to which the resin is adhered are peeled from the negative mold by irradiation with an electron beam.

4)目的とする形状のネガ型を流延ベルトに形成しておき、キャスティング時に目的とする形状を付与する溶剤キャスト法。   4) A solvent casting method in which a negative shape having a desired shape is formed on a casting belt, and the desired shape is imparted during casting.

5)光または加熱により硬化する樹脂を透明基板に印刷し、光または加熱により硬化して凹凸を形成する方法。   5) A method in which a resin that is cured by light or heating is printed on a transparent substrate, and is cured by light or heating to form irregularities.

6)表面を工作機械等で切削加工する方法。   6) A method of cutting the surface with a machine tool or the like.

7)球、多角体など各種形状の粒子を、基材表面に半ば埋没する程度に押し込んで一体化し、基材表面を凹凸形状にする方法。   7) A method in which particles of various shapes such as spheres and polygons are pressed and integrated so as to be partially buried in the surface of the base material to make the base material surface uneven.

8)球、多角体など各種形状の粒子を少量のバインダーに分散したものを基材表面に塗布し、基材表面を凹凸形状にする方法。   8) A method in which particles of various shapes such as spheres and polygons are dispersed in a small amount of a binder and applied to the surface of the substrate to make the surface of the substrate uneven.

9)基材表面に、バインダーを塗布し、その上に球、多角体など各種形状の粒子を散布し、基材表面を凹凸形状にする方法。   9) A method in which a binder is applied to the surface of a substrate, and particles of various shapes such as spheres and polygons are dispersed thereon to make the surface of the substrate uneven.

10)球、多角体など各種形状の微粒子を含む熱可塑性樹脂層を設ける方法。   10) A method of providing a thermoplastic resin layer containing fine particles of various shapes such as spheres and polygons.

11)共流延法または逐次流延法により表層に球、多角体など各種形状の微粒子を含有する層を設ける方法。   11) A method of providing a layer containing fine particles of various shapes such as spheres and polygons on the surface layer by a co-casting method or a sequential casting method.

12)特願2002−319665号公報段落番号[0037]〜[0241]記載のインクジェット法を用いて凹凸を付与する方法。   12) A method for imparting irregularities using the inkjet method described in paragraph Nos. [0037] to [0241] of Japanese Patent Application No. 2002-319665.

この中では、微粒子と熱可塑性樹脂を有する層を設ける方法が好ましく、特に好ましくは微粒子と熱可塑性樹脂を有する表層を共流延法によって形成する方法である。   Among them, a method of providing a layer having fine particles and a thermoplastic resin is preferable, and a method of forming a surface layer having fine particles and a thermoplastic resin by a co-casting method is particularly preferable.

本発明に係る熱可塑性樹脂を含有する基材フィルム(以下、熱可塑性樹脂フィルムとも言う)について説明する。   The base film containing the thermoplastic resin according to the present invention (hereinafter also referred to as a thermoplastic resin film) will be described.

本発明に係る熱可塑性樹脂としては、特に限定はされないが、各種のポリマーを使用でき、例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルローストリアセテート、セルロースナイトレート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂あるいはポリアリレート樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂を混合して使用してもよく、熱可塑性樹脂フィルムの基層、表層で異なる樹脂を使用してもよい。この中で、セルロースエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリエステルなどが好ましい例として挙げられるがこれらのみに限定されるものではない
本発明の熱可塑性樹脂フィルムの種類は、光学フィルムの用途により適宜選ばれる。例えば、液晶表示装置等に用いられる偏光板用保護フィルムでは、セルローストリアセテートフィルム(TACフィルム)、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルフィルム、ポリカーボネート(以下PCと略すことがある)フィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、例えばアートン(JSR(株)製)、ゼオネックス、ゼオノア(以上日本ゼオン(株)製)及びポリスルホン系フィルムが透明性、機械的性質、光学的異方性がない点等好ましく用いられる。特に、セルロースエステルを主成分とするフィルムであることが好ましい。以下、熱可塑性樹脂の好ましい例としてセルロースエステルを代表として説明する。
The thermoplastic resin according to the present invention is not particularly limited, but various polymers can be used. For example, polyester, polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, cellulose triacetate, cellulose Nitrate, cellulose esters such as cellulose acetate propionate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, cycloolefin polymer, polyether ketone , Polyethersulfone, polysulfone, polyetherketoneimide, polyamide, fluororesin, nylon, polyester Methyl methacrylate, acrylic resin or polyarylate resin. These resins may be mixed and used, or different resins may be used for the base layer and the surface layer of the thermoplastic resin film. Among these, cellulose esters, polycarbonates, acrylic resins, cycloolefin polymers, polyesters and the like can be mentioned as preferred examples, but the invention is not limited thereto. It is chosen appropriately. For example, protective films for polarizing plates used in liquid crystal display devices, etc., cellulose ester films (TAC films), cellulose ester films such as cellulose acetate propionate, polycarbonate (hereinafter sometimes abbreviated as PC) films, syndiotactic Polystyrene film, polyarylate film, norbornene resin film such as Arton (manufactured by JSR Corporation), Zeonex, Zeonore (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) and polysulfone film are transparent, mechanical properties, optical It is preferably used because it has no anisotropy. In particular, a film containing cellulose ester as a main component is preferable. Hereinafter, cellulose ester will be described as a representative example of a preferred thermoplastic resin.

本発明におけるセルロースエステルの重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比Mw/Mnの値は、1.4〜3.0であることが好ましい。尚、本発明においては、セルロースエステルフィルムが、材料として、Mw/Mnの値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有すればよいが、フィルムに含まれるセルロースエステル(好ましくはセルローストリアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネート)全体のMw/Mnの値は1.4〜3.0の範囲であることがより好ましい。セルロースエステルの合成過程で1.4未満とすることは困難であり、ゲル濾過などによって分画することで分子量の揃ったセルロースエステルを得ることは出来る。しかしながらこの方法はコストが著しくかかる。また、3.0を超えると平面性の維持効果が低下するため好ましくない。尚、より好ましくは1.7〜2.2である。   The ratio Mw / Mn of the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) of the cellulose ester in the present invention is preferably 1.4 to 3.0. In the present invention, the cellulose ester film may contain, as a material, a cellulose ester having a Mw / Mn value of 1.4 to 3.0, but the cellulose ester contained in the film (preferably cellulose triacetate). Or the value of Mw / Mn of cellulose acetate propionate) is more preferably in the range of 1.4 to 3.0. In the synthesis process of cellulose ester, it is difficult to make it less than 1.4, and cellulose ester having a uniform molecular weight can be obtained by fractionation by gel filtration or the like. However, this method is very expensive. On the other hand, if it exceeds 3.0, the flatness maintaining effect is lowered, which is not preferable. In addition, More preferably, it is 1.7-2.2.

また、セルロースエステルの数平均分子量(Mn)が80000〜200000であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the number average molecular weights (Mn) of a cellulose ester are 80000-200000.

セルロースエステルの分子量が大きく、分子量の分布が少ないと、活性線硬化樹脂層を塗布する際に、添加されている可塑剤や紫外線吸収剤が溶出しにくくなるものと推測される。この効果は延伸によってセルロースエステル分子が面内方向に配向することで更に顕著になるものと推測している。セルロースエステルの総アシル基置換度が2.6〜2.9の範囲にあることも好ましく、適度な割合で未置換の水酸基がセルロース主鎖に残っていることも水素結合等によって可塑剤や紫外線吸収剤の溶出を防止し、平面性を維持するのに寄与しているものと考えられる。使用する可塑剤は特に限定はされないが、少なくとも2種の可塑剤を含有することが好ましい。その際に、従来、一般的に使用されているリン酸エステル系の可塑剤は実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、セルロースエステルフィルム中の固形分総量に対し、リン酸エステル系の可塑剤の含有量が1質量%未満であることであることを意味し、好ましくは0.1質量%未満であり、0質量%(検出限界以下)であることが特に好ましい。   When the molecular weight of the cellulose ester is large and the molecular weight distribution is small, it is presumed that the applied plasticizer and ultraviolet absorber are difficult to elute when the actinic radiation curable resin layer is applied. This effect is presumed to be more remarkable when the cellulose ester molecules are oriented in the in-plane direction by stretching. It is also preferable that the total acyl group substitution degree of the cellulose ester is in the range of 2.6 to 2.9, and that an unsubstituted hydroxyl group remains in the cellulose main chain at an appropriate ratio. It is considered that the elution of the absorbent is prevented and the flatness is maintained. The plasticizer to be used is not particularly limited, but preferably contains at least two plasticizers. In that case, it is preferable that the phosphate ester type plasticizer generally used conventionally is not contained substantially. “Substantially not contained” means that the content of the phosphate plasticizer is less than 1% by mass with respect to the total solid content in the cellulose ester film, preferably 0.1% by mass. % And particularly preferably 0% by mass (below the detection limit).

特に好ましくは、可塑剤の少なくとも1種が多価アルコールエステル系可塑剤であることが他の可塑剤の溶出も防止していると考えられ、単独で用いる場合よりも効果的である。   Particularly preferably, at least one of the plasticizers is a polyhydric alcohol ester plasticizer, which is considered to prevent the elution of other plasticizers, and is more effective than when used alone.

〈セルロースエステル〉
本発明に用いられるセルロースエステルの分子量は、数平均分子量(Mn)で80000〜200000のものを用いることが好ましい。100000〜200000のものが更に好ましく、150000〜200000が特に好ましい。
<Cellulose ester>
The molecular weight of the cellulose ester used in the present invention is preferably a number average molecular weight (Mn) of 80,000 to 200,000. More preferred are 100,000 to 200,000, particularly preferably 150,000 to 200,000.

本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)の比、Mw/Mnが、前記のように1.4〜3.0であるが、好ましくは1.7〜2.2の範囲である。   The cellulose ester used in the present invention has a weight average molecular weight (Mw) to number average molecular weight (Mn) ratio, Mw / Mn of 1.4 to 3.0 as described above, but preferably 1.7. It is the range of -2.2.

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用いて公知の方法で測定することが出来る。これを用いて数平均分子量、重量平均分子量を算出し、その比(Mw/Mn)を計算することが出来る。   The average molecular weight and molecular weight distribution of the cellulose ester can be measured by a known method using high performance liquid chromatography. Using this, the number average molecular weight and the weight average molecular weight can be calculated, and the ratio (Mw / Mn) can be calculated.

測定条件は以下の通りである。
溶媒: メチレンクロライド
カラム: Shodex K806,K805,K803G(昭和電工(株)製を3本接続して使用した)
カラム温度:25℃
試料濃度: 0.1質量%
検出器: RI Model 504(GLサイエンス社製)
ポンプ: L6000(日立製作所(株)製)
流量: 1.0ml/min
校正曲線: 標準ポリスチレンSTK standard ポリスチレン(東ソー(株)製)Mw=1000000〜500迄の13サンプルによる校正曲線を使用した。13サンプルは、ほぼ等間隔に得ることが好ましい。
The measurement conditions are as follows.
Solvent: Methylene chloride column: Shodex K806, K805, K803G (used by connecting 3 products manufactured by Showa Denko KK)
Column temperature: 25 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RI Model 504 (manufactured by GL Sciences)
Pump: L6000 (manufactured by Hitachi, Ltd.)
Flow rate: 1.0ml / min
Calibration curve: Standard polystyrene STK standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corp.) Mw = 100000-500 calibration curves with 13 samples were used. It is preferable to obtain 13 samples at approximately equal intervals.

本発明に用いられるセルロースエステルは、炭素数2〜22程度の脂肪族カルボン酸エステルまたは芳香族カルボン酸エステル或いは脂肪族カルボン酸エステルと芳香族カルボン酸エステルの混合エステルが好ましく用いられ、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。具体的には、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートフタレート等や、特開平10−45804号、同8−231761号、米国特許第2,319,052号等に記載されているようなセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルを用いることが出来る。上記記載の中でも、特に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネートである。これらのセルロースエステルは混合して用いることも出来る。   The cellulose ester used in the present invention is preferably an aliphatic carboxylic acid ester having about 2 to 22 carbon atoms, an aromatic carboxylic acid ester, or a mixed ester of an aliphatic carboxylic acid ester and an aromatic carboxylic acid ester. A lower fatty acid ester is preferred. The lower fatty acid in the lower fatty acid ester of cellulose means a fatty acid having 6 or less carbon atoms. Specifically, it is described in cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate phthalate and the like, JP-A-10-45804, 8-2311761, U.S. Pat. No. 2,319,052, and the like. Mixed fatty acid esters such as cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate can be used. Among the above descriptions, the lower fatty acid esters of cellulose particularly preferably used are cellulose triacetate and cellulose acetate propionate. These cellulose esters can be used as a mixture.

セルロースエステルの場合には、総アシル基置換度(アセチル基置換度)2.6から2.9のものが好ましく用いられる。   In the case of cellulose ester, those having a total acyl group substitution degree (acetyl group substitution degree) of 2.6 to 2.9 are preferably used.

セルローストリアセテート以外で好ましいセルロースエステルは、炭素原子数2〜22のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、炭素原子数3〜22のアシル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルである。   Preferred cellulose esters other than cellulose triacetate have an acyl group having 2 to 22 carbon atoms as a substituent, the substitution degree of the acetyl group is X, and the substitution degree of the acyl group of 3 to 22 carbon atoms is Y. Sometimes, it is a cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I) and (II).

式(I) 2.6≦X+Y≦2.9
式(II) 0≦X≦2.5
中でも1.9≦X≦2.5、0.1≦Y≦1.0のセルロースアセテートプロピオネート(総アシル基置換度=X+Y)が好ましい。アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在している。これらは公知の方法で合成することが出来る。
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 2.9
Formula (II) 0 ≦ X ≦ 2.5
Among them, cellulose acetate propionate (total acyl group substitution degree = X + Y) satisfying 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 1.0 is preferable. The portion not substituted with an acyl group usually exists as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

これらアシル基置換度は、ASTM−D817−96に規定の方法に準じて測定することが出来る。   These acyl group substitution degrees can be measured according to the method prescribed in ASTM-D817-96.

セルロースエステルは綿花リンター、木材パルプ、ケナフ等を原料として合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが出来る。特に綿花リンター(以下、単にリンターとすることがある)、木材パルプから合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることが好ましい。   As the cellulose ester, cellulose ester synthesized from cotton linter, wood pulp, kenaf or the like as a raw material can be used alone or in combination. In particular, it is preferable to use a cotton linter (hereinafter sometimes simply referred to as a linter) or a cellulose ester synthesized from wood pulp alone or in combination.

また、これらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することが出来る。これらのセルロースエステルは、セルロース原料をアシル化剤が酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて常法により反応させて得ることが出来る。   Moreover, the cellulose ester obtained from these can be mixed and used in arbitrary ratios, respectively. These cellulose esters are prepared by using an organic acid such as acetic acid or an organic solvent such as methylene chloride when sulfuric acid is used as the acylating agent (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). It can obtain by making it react by a conventional method using a protic catalyst like.

アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起り、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値で規定出来る。即ちセルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行わせしめるための反応度合いの一つの指標として用いられる重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値を用いることが出来る。   In the case of acetylcellulose, it is necessary to extend the time for the acetylation reaction in order to increase the acetylation rate. However, if the reaction time is too long, the decomposition proceeds at the same time, and the polymer chain is broken and the acetyl group is decomposed, resulting in undesirable results. Therefore, it is necessary to set the reaction time within a certain range in order to increase the degree of acetylation and suppress decomposition to some extent. It is not appropriate to define the reaction time because the reaction conditions are various and greatly change depending on the reaction apparatus, equipment and other conditions. As the decomposition of the polymer progresses, the molecular weight distribution becomes wider. Therefore, in the case of cellulose ester, the degree of decomposition can be defined by the value of weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn) that is usually used. That is, in the process of acetylation of cellulose triacetate, the weight average molecular weight is used as one index of the reaction degree for allowing the acetylation reaction to be carried out for a sufficient time for acetylation without being too long and being decomposed too much. The value of (Mw) / number average molecular weight (Mn) can be used.

セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター100質量部を解砕し、40質量部の酢酸を添加し、36℃で20分間前処理活性化をした。その後、硫酸8質量部、無水酢酸260質量部、酢酸350質量部を添加し、36℃で120分間エステル化を行った。24%酢酸マグネシウム水溶液11質量部で中和した後、63℃で35分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを10倍の酢酸水溶液(酢酸:水=1:1(質量比))を用いて、室温で160分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度2.75の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはMnが92000、Mwが156000、Mw/Mnは1.7であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整することによって置換度、Mw/Mn比の異なるセルロースエステルを合成することが出来る。   An example of a method for producing a cellulose ester is shown below: 100 parts by mass of a flocculent linter was crushed as a cellulose raw material, 40 parts by mass of acetic acid was added, and pretreatment activation was performed at 36 ° C. for 20 minutes. Thereafter, 8 parts by mass of sulfuric acid, 260 parts by mass of acetic anhydride and 350 parts by mass of acetic acid were added, and esterification was performed at 36 ° C. for 120 minutes. After neutralization with 11 parts by mass of a 24% magnesium acetate aqueous solution, saponification aging was carried out at 63 ° C. for 35 minutes to obtain acetylcellulose. This was stirred for 160 minutes at room temperature using a 10-fold acetic acid aqueous solution (acetic acid: water = 1: 1 (mass ratio)), then filtered and dried to obtain purified acetylcellulose having an acetyl substitution degree of 2.75. . This acetylcellulose had Mn of 92000, Mw of 156000, and Mw / Mn of 1.7. Similarly, cellulose esters having different degrees of substitution and Mw / Mn ratios can be synthesized by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester.

尚、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去したり、未酢化または低酢化度の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。   The synthesized cellulose ester is preferably purified to remove low molecular weight components or to remove unacetylated or low acetylated components by filtration.

また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平10−45804号公報に記載の方法で得ることが出来る。アシル基の置換度の測定方法はASTM−D817−96の規定に準じて測定することが出来る。   In the case of mixed acid cellulose ester, it can be obtained by the method described in JP-A-10-45804. The measuring method of the substitution degree of an acyl group can be measured according to the provisions of ASTM-D817-96.

また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ない方が好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成する事により不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄(Fe)成分については、1ppm以下であることが好ましい。カルシウム(Ca)成分については、地下水や河川の水等に多く含まれ、これが多いと硬水となり、飲料水としても不適当であるが、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成し易く、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム(不溶性の澱、濁り)を形成する。   Cellulose esters are also affected by trace metal components in cellulose esters. These are considered to be related to water used in the production process, but it is preferable that there are few components that can become insoluble nuclei, and metal ions such as iron, calcium, and magnesium contain organic acidic groups. Insoluble matter may be formed by salt formation with a polymer degradation product or the like that may be present, and it is preferable that the amount is small. The iron (Fe) component is preferably 1 ppm or less. About calcium (Ca) component, it is contained in a lot of ground water and river water, etc., and it becomes hard water, and it is unsuitable as drinking water. Coordination compounds with ligands, that is, complexes are easily formed, and scum (insoluble starch, turbidity) derived from many insoluble calcium is formed.

カルシウム(Ca)成分は60ppm以下、好ましくは0〜30ppmである。マグネシウム(Mg)成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、0〜70ppmであることが好ましく、特に0〜20ppmであることが好ましい。鉄(Fe)分の含量、カルシウム(Ca)分含量、マグネシウム(Mg)分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置(硫硝酸分解)、アルカリ溶融で前処理を行った後、ICP−AES(誘導結合プラズマ発光分光分析装置)を用いて分析を行うことによって求めることが出来る。   The calcium (Ca) component is 60 ppm or less, preferably 0 to 30 ppm. The magnesium (Mg) component is preferably in the range of 0 to 70 ppm, particularly preferably 0 to 20 ppm, since too much will cause insoluble matter. Metal components such as iron (Fe) content, calcium (Ca) content, magnesium (Mg) content, etc. are pre-processed by completely digesting cellulose ester with micro digest wet cracking equipment (sulfuric acid decomposition) and alkali melting. After performing, it can obtain | require by performing an analysis using ICP-AES (inductively coupled plasma emission spectroscopy analyzer).

本発明で用いられるセルロースエステルフィルムの屈折率は550nmで1.45〜1.60であるものが好ましく用いられる。フィルムの屈折率の測定方法は、アッベ屈折率計を使用し、日本工業規格JIS K 7105に基づき測定する。また後述する反射防止層の各層の屈折率は各層ごとに塗布した薄膜の5°正反射の反射スペクトルから算出する。   The cellulose ester film used in the present invention preferably has a refractive index of 1.45 to 1.60 at 550 nm. As a method for measuring the refractive index of the film, an Abbe refractometer is used, and measurement is performed based on Japanese Industrial Standard JIS K 7105. Further, the refractive index of each layer of the antireflection layer described later is calculated from the reflection spectrum of 5 ° regular reflection of the thin film applied to each layer.

〈可塑剤〉
本発明では、後述する多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、基材フィルムの表層側に可塑剤を多く含有させ、活性線硬化樹脂層を設ける側の表層のガラス転移温度をフィルム内部にある基層のガラス転移温度よりも低くすることが好ましい。
<Plasticizer>
In the present invention, in the case of a cellulose ester film having a multilayer structure to be described later, a base layer in which the glass transition temperature of the surface layer on the side on which the active ray curable resin layer is provided is contained in the surface layer side of the base film, and the glass transition temperature of the surface layer is provided inside the film. It is preferable to make it lower than the glass transition temperature.

本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは、少なくとも2種の可塑剤を含有することが好ましい。また、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル系可塑剤を実質的に含有しないことが好ましい。「実質的に含有しない」とはリン酸エステル系可塑剤の含有量が1質量%未満、好ましくは0.1質量%であり、特に好ましいのは添加していないことである。   The cellulose ester film used in the present invention preferably contains at least two kinds of plasticizers. Moreover, it is preferable not to contain phosphate ester plasticizers, such as a triphenyl phosphate, substantially. “Substantially not containing” means that the content of the phosphoric ester plasticizer is less than 1% by mass, preferably 0.1% by mass, particularly preferably not added.

2種以上の可塑剤を含有させることによって、可塑剤の溶出を少なくすることが出来る。その理由は明らかではないが、1種類当たりの添加量を減らすことが出来ることと、2種の可塑剤同志及びセルロースエステルとの相互作用によって溶出が抑制されるものと思われる。   By including two or more plasticizers, elution of the plasticizer can be reduced. The reason is not clear, but it seems that elution is suppressed by the ability to reduce the amount added per type and the interaction between the two plasticizers and the cellulose ester.

2種の可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル、クエン酸エステル、脂肪酸エステル、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル等から選択される。そのうち、少なくとも1種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。   The two kinds of plasticizers are not particularly limited, but are preferably selected from polyhydric alcohol ester plasticizers, phthalic acid esters, citric acid esters, fatty acid esters, glycolate plasticizers, polycarboxylic acid esters, and the like. Of these, at least one is preferably a polyhydric alcohol ester plasticizer.

多価アルコールエステル系可塑剤は2価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is a plasticizer comprising an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule. Preferably it is a 2-20 valent aliphatic polyhydric alcohol ester.

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式(1)で表される。   The polyhydric alcohol used in the present invention is represented by the following general formula (1).

一般式(1) R1−(OH)n
但し、R1はn価の有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
Formula (1) R 1- (OH) n
However, R 1 represents an n-valent organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and the OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。   Examples of preferred polyhydric alcohols include the following, but the present invention is not limited to these. Adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3- Butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, galactitol, mannitol, 3-methylpentane- Examples include 1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and xylitol. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester of this invention, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。   Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。   As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or a side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, the compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。   Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid, Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, olein Examples thereof include unsaturated fatty acids such as acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid.

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。   Examples of preferable alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and derivatives thereof.

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタレンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。特に安息香酸が好ましい。   Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。   The molecular weight of the polyhydric alcohol ester is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. A higher molecular weight is preferred because it is less likely to volatilize, and a smaller one is preferred in terms of moisture permeability and compatibility with cellulose ester.

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は1種類でもよいし、2種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のOH基は、全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The carboxylic acid used for the polyhydric alcohol ester may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are.

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を例示する。   Below, the specific compound of a polyhydric alcohol ester is illustrated.

Figure 2005156801
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グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることが出来る。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。   The glycolate plasticizer is not particularly limited, but alkylphthalylalkyl glycolates can be preferably used. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl Glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycol Butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalate Ethyl glycolate, and the like.

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。   Examples of the phthalate ester plasticizer include diethyl phthalate, dimethoxyethyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, di-2-ethylhexyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, and dicyclohexyl terephthalate.

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。   Examples of the citrate plasticizer include acetyl trimethyl citrate, acetyl triethyl citrate, and acetyl tributyl citrate.

脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。   Examples of fatty acid ester plasticizers include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, and dibutyl sebacate.

多価カルボン酸エステル系可塑剤も好ましく用いることが出来る。具体的には特開2002−265639号公報の段落番号[0015]〜[0020]記載の多価カルボン酸エステルを可塑剤の一つとして添加することが好ましい。   Polycarboxylic acid ester plasticizers can also be preferably used. Specifically, it is preferable to add the polyvalent carboxylic acid ester described in paragraphs [0015] to [0020] of JP-A No. 2002-265639 as one of the plasticizers.

リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。   Examples of the phosphate ester plasticizer include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate and the like.

セルロースエステルフィルム中の可塑剤の総含有量は、固形分総量に対し、5〜30質量%含有させることが好ましい。更に5〜20質量%が好ましく、6〜16質量%がより好ましく、特に好ましくは8〜13質量%である。また、2種の可塑剤の含有量は各々少なくとも1質量%以上であり、好ましくは各々2質量%以上含有することである。   The total content of the plasticizer in the cellulose ester film is preferably 5 to 30% by mass with respect to the total solid content. Furthermore, 5-20 mass% is preferable, 6-16 mass% is more preferable, Especially preferably, it is 8-13 mass%. The contents of the two kinds of plasticizers are each at least 1% by mass, preferably 2% by mass or more.

多価アルコールエステル系可塑剤は1〜12質量%含有することが好ましく、特に3〜11質量%含有することが好ましい。少ないと平面性の劣化が認められ、多過ぎるとブリードアウトがしやすい。多価アルコールエステル系可塑剤とその他の可塑剤との質量比率は1:4〜4:1の範囲であることが好ましく、1:3〜3:1であることが更に好ましい。可塑剤の添加量が多過ぎても、また少な過ぎてもフィルムが変形し易く好ましくない。   The polyhydric alcohol ester plasticizer is preferably contained in an amount of 1 to 12% by mass, particularly preferably 3 to 11% by mass. If the amount is too small, deterioration of the flatness is recognized, and if too much, bleeding out tends to occur. The mass ratio between the polyhydric alcohol ester plasticizer and the other plasticizer is preferably in the range of 1: 4 to 4: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. If the amount of the plasticizer added is too large or too small, the film is liable to be deformed, which is not preferable.

〈紫外線吸収剤〉
本発明に係るセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤は400nm以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長370nmでの透過率が10%以下となるように添加されていることが好ましく、より好ましくは5%以下、更に好ましくは2%以下である。
<Ultraviolet absorber>
The cellulose ester film according to the present invention preferably contains an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber is intended to improve durability by absorbing ultraviolet rays of 400 nm or less, and is particularly preferably added so that the transmittance at a wavelength of 370 nm is 10% or less. Is 5% or less, more preferably 2% or less.

本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。   Although the ultraviolet absorber used in the present invention is not particularly limited, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, triazine compounds, nickel complex compounds, inorganic powders Examples include the body.

例えば、5−クロロ−2−(3,5−ジ−sec−ブチル−2−ヒドロキシルフェニル)−2H−ベンゾトリアゾール、(2−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン、2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン109、チヌビン171、チヌビン234、チヌビン326、チヌビン327、チヌビン328等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり好ましく使用出来る。   For example, 5-chloro-2- (3,5-di-sec-butyl-2-hydroxylphenyl) -2H-benzotriazole, (2-2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side Chain dodecyl) -4-methylphenol, 2-hydroxy-4-benzyloxybenzophenone, 2,4-benzyloxybenzophenone, etc., and tinuvin 109, tinuvin 171, tinuvin 234, tinuvin 326, tinuvin 327, tinuvin 328, etc. These are commercially available products manufactured by Ciba Specialty Chemicals and can be preferably used.

例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては下記一般式(A)で示される化合物を用いることが出来る。   For example, as the benzotriazole ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (A) can be used.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

式中、R1、R2、R3、R4及びR5は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノ若しくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または5〜6員の複素環基を表し、R4とR5は閉環して5〜6員の炭素環を形成してもよい。 In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 may be the same or different, and are a hydrogen atom, halogen atom, nitro group, hydroxyl group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxyl group, acyloxy Represents a group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, mono- or dialkylamino group, acylamino group or 5- to 6-membered heterocyclic group, and R 4 and R 5 are closed to form a 5- to 6-membered carbocyclic ring May be.

また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。   Moreover, these groups described above may have an arbitrary substituent.

以下に本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the specific example of the ultraviolet absorber which concerns on this invention is given to the following, this invention is not limited to these.

UV−1:2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−2:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−3:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−4:2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−5:2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
UV−6:2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)
UV−7:2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
UV−8:2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール(TINUVIN171、Ciba製)
UV−9:オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物(TINUVIN109、Ciba製)
更に、本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤やトリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはトリアジン系紫外線吸収剤である。
UV-1: 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-2: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole UV-3 : 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole UV-4: 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl)- 5-Chlorobenzotriazole UV-5: 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole UV-6: 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol)
UV-7: 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole UV-8: 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6 (Linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol (TINUVIN171, manufactured by Ciba)
UV-9: Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl- 4-Hydroxy-5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate (TINUVIN109, manufactured by Ciba)
Furthermore, the ultraviolet absorber preferably used in the present invention is a benzophenone ultraviolet absorber or a triazine ultraviolet absorber, and particularly preferably a triazine ultraviolet absorber.

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては下記一般式(B)で表される化合物が好ましく用いられる。   As the benzophenone-based ultraviolet absorber, a compound represented by the following general formula (B) is preferably used.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

式中、Yは水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、及びフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Aは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−CO(NH)n1−D基を表し、Dはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。m及びnは1または2を表す。 In the formula, Y represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxyl group, and a phenyl group, and these alkyl group, alkenyl group, and phenyl group may have a substituent. A represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a phenyl group, a cycloalkyl group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group or a —CO (NH) n -1- D group, and D represents an alkyl group, an alkenyl group or a substituent. Represents a phenyl group which may have m and n represent 1 or 2.

上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数24までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数18までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数16までのアルケニル基でアリル基、2−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基(このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい)等が挙げられる。   In the above, the alkyl group represents, for example, a linear or branched aliphatic group having up to 24 carbon atoms, the alkoxyl group represents, for example, an alkoxyl group having up to 18 carbon atoms, and the alkenyl group has, for example, carbon number An alkenyl group up to 16 represents an allyl group, a 2-butenyl group, or the like. In addition, as substituents to alkyl groups, alkenyl groups, and phenyl groups, halogen atoms such as chlorine atoms, bromine atoms, fluorine atoms, etc., hydroxyl groups, phenyl groups (this phenyl group is substituted with alkyl groups or halogen atoms, etc.) May be used).

以下に一般式(B)で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。   Specific examples of the benzophenone compound represented by the general formula (B) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

UV−10:2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン
UV−11:2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン
UV−12:2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン
UV−13:ビス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフェニルメタン)
また、本発明の光学フィルムの紫外線吸収剤として、1,3,5−トリアジン環を有する化合物を好ましく用いることが出来る。
UV-10: 2,4-dihydroxybenzophenone UV-11: 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone UV-12: 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone UV-13: Bis (2-methoxy -4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane)
Moreover, the compound which has a 1,3,5-triazine ring can be used preferably as a ultraviolet absorber of the optical film of this invention.

1,3,5−トリアジン環を有する化合物は、中でも、下記一般式(I)で表される化合物が好ましい。   Among them, the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably a compound represented by the following general formula (I).

Figure 2005156801
Figure 2005156801

一般式(I)において、X1は、単結合、−NR4−、−O−または−S−であり;X2は単結合、−NR5−、−O−または−S−であり;X3は単結合、−NR6−、−O−または−S−であり;R1、R2及びR3はアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり;そして、R4、R5及びR6は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。一般式(I)で表される化合物は、メラミン化合物であることが特に好ましい。 In the general formula (I), X 1 is a single bond, —NR 4 —, —O— or —S—; X 2 is a single bond, —NR 5 —, —O— or —S—; X 3 is a single bond, —NR 6 —, —O— or —S—; R 1 , R 2 and R 3 are an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group; and R 4 , R 5 and R 6 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. The compound represented by the general formula (I) is particularly preferably a melamine compound.

メラミン化合物では、一般式(I)において、X1、X2及びX3が、それぞれ、−NR4−、−NR5−及び−NR6−であるか、或いは、X1、X2及びX3が単結合であり、かつ、R1、R2及びR3が窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基である。−X1−R1、−X2−R2及び−X3−R3は、同一の置換基であることが好ましい。R1、R2及びR3は、アリール基であることが特に好ましい。R4、R5及びR6は、水素原子であることが特に好ましい。 In the melamine compound, in the general formula (I), X 1 , X 2 and X 3 are —NR 4 —, —NR 5 — and —NR 6 —, respectively, or X 1 , X 2 and X 3 3 is a single bond, and R 1 , R 2 and R 3 are heterocyclic groups having a free valence on the nitrogen atom. -X 1 -R 1, -X 2 -R 2 and -X 3 -R 3 are preferably the same substituents. R 1 , R 2 and R 3 are particularly preferably aryl groups. R 4 , R 5 and R 6 are particularly preferably a hydrogen atom.

上記アルキル基は、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基の方が好ましい。   The alkyl group is preferably a chain alkyl group rather than a cyclic alkyl group. A linear alkyl group is preferred to a branched alkyl group.

アルキル基の炭素原子数は、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、1〜10であることが更に好ましく、1〜8であることが更にまた好ましく、1〜6であることが最も好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。   The number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-30, more preferably 1-20, still more preferably 1-10, still more preferably 1-8, 6 is most preferred. The alkyl group may have a substituent.

置換基の具体例としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)及びアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ)等が挙げられる。上記アルケニル基は、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基の方が好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、2〜30であることが好ましく、2〜20であることがより好ましく、2〜10であることが更に好ましく、2〜8であることが更にまた好ましく、2〜6であることが最も好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。   Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) and an acyloxy group (for example, acryloyloxy, methacryloyloxy). The alkenyl group is preferably a chain alkenyl group rather than a cyclic alkenyl group. A linear alkenyl group is preferable to a branched chain alkenyl group. The number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, still more preferably 2 to 10, still more preferably 2 to 8, 6 is most preferred. The alkenyl group may have a substituent.

置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基)またはアシルオキシ基(例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等の各基)が挙げられる。   Specific examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group (for example, each group such as methoxy, ethoxy, and epoxyethyloxy) or an acyloxy group (for example, each group such as acryloyloxy and methacryloyloxy).

上記アリール基は、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。   The aryl group is preferably a phenyl group or a naphthyl group, and particularly preferably a phenyl group. The aryl group may have a substituent.

置換基の具体例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。上記アルキル基は、前述したアルキル基と同義である。   Specific examples of the substituent include, for example, a halogen atom, hydroxyl, cyano, nitro, carboxyl, alkyl group, alkenyl group, aryl group, alkoxy group, alkenyloxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkenyloxy Carbonyl group, aryloxycarbonyl group, sulfamoyl, alkyl-substituted sulfamoyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, carbamoyl, alkyl-substituted carmoyl group, alkenyl-substituted carbamoyl group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio Groups, alkenylthio groups, arylthio groups and acyl groups are included. The said alkyl group is synonymous with the alkyl group mentioned above.

アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルキル置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基とアシル基のアルキル部分も、前述したアルキル基と同義である。   The alkyl group of the alkoxy group, acyloxy group, alkoxycarbonyl group, alkyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, alkyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkylthio group and acyl group is also synonymous with the alkyl group described above.

上記アルケニル基は、前述したアルケニル基と同義である。   The said alkenyl group is synonymous with the alkenyl group mentioned above.

アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、アルケニル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルケニル置換カルバモイル基、アミド基、アルケニルチオ基及びアシル基のアルケニル部分も、前述したアルケニル基と同義である。   The alkenyl part of the alkenyloxy group, acyloxy group, alkenyloxycarbonyl group, alkenyl-substituted sulfamoyl group, sulfonamide group, alkenyl-substituted carbamoyl group, amide group, alkenylthio group and acyl group is also synonymous with the alkenyl group described above.

上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、4−メトキシフェニル、3,4−ジエトキシフェニル、4−オクチルオキシフェニルまたは4−ドデシルオキシフェニル等の各基が挙げられる。   Specific examples of the aryl group include phenyl, α-naphthyl, β-naphthyl, 4-methoxyphenyl, 3,4-diethoxyphenyl, 4-octyloxyphenyl, and 4-dodecyloxyphenyl. Can be mentioned.

アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アリールチオ基及びアシル基の部分の例は、上記アリール基と同義である。   Examples of the aryloxy group, acyloxy group, aryloxycarbonyl group, aryl-substituted sulfamoyl group, sulfonamido group, aryl-substituted carbamoyl group, amide group, arylthio group, and acyl group are the same as the above aryl group.

1、X2またはX3が−NR−、−O−または−S−である場合の複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。 When X 1 , X 2 or X 3 is —NR—, —O— or —S—, the heterocyclic group preferably has aromaticity.

芳香族性を有する複素環基中の複素環としては、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることが更に好ましく、6員環であることが最も好ましい。   The heterocyclic ring in the heterocyclic group having aromaticity is generally an unsaturated heterocyclic ring, preferably a heterocyclic ring having the largest number of double bonds. The heterocyclic ring is preferably a 5-membered ring, a 6-membered ring or a 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and most preferably a 6-membered ring.

複素環中のヘテロ原子は、N、SまたはO等の各原子であることが好ましく、N原子であることが特に好ましい。   The hetero atom in the heterocyclic ring is preferably each atom such as N, S or O, and particularly preferably an N atom.

芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環(複素環基としては、例えば、2−ピリジルまたは4−ピリジル等の各基)が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。   As the heterocyclic ring having aromaticity, a pyridine ring (as the heterocyclic group, for example, each group such as 2-pyridyl or 4-pyridyl) is particularly preferable. The heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the examples of the substituent of the aryl moiety.

1、X2またはX3が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることが更に好ましく、5員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。 When X 1 , X 2 or X 3 is a single bond, the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom. The heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring, and a 5-membered ring. Is most preferred. The heterocyclic group may have a plurality of nitrogen atoms.

また、複素環基中のヘテロ原子は、窒素原子以外のヘテロ原子(例えば、O原子、S原子)を有していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の具体例は、上記アリール部分の置換基の具体例と同義である。   Moreover, the hetero atom in a heterocyclic group may have hetero atoms other than a nitrogen atom (for example, O atom, S atom). The heterocyclic group may have a substituent. Specific examples of the substituent of the heterocyclic group are the same as the specific examples of the substituent of the aryl moiety.

以下に、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基の具体例を示す。   Specific examples of the heterocyclic group having a free valence on the nitrogen atom are shown below.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

Figure 2005156801
Figure 2005156801

1,3,5−トリアジン環を有する化合物の分子量は、300〜2000であることが好ましい。該化合物の沸点は、260℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置(例えば、TG/DTA100、セイコー電子工業(株)製)を用いて測定出来る。   The molecular weight of the compound having a 1,3,5-triazine ring is preferably 300 to 2,000. The boiling point of the compound is preferably 260 ° C. or higher. The boiling point can be measured using a commercially available measuring device (for example, TG / DTA100, manufactured by Seiko Electronics Industry Co., Ltd.).

以下に、1,3,5−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。   Specific examples of the compound having a 1,3,5-triazine ring are shown below.

尚、以下に示す複数のRは同一の基を表す。   In addition, several R shown below represents the same group.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(1)ブチル
(2)2−メトキシ−2−エトキシエチル
(3)5−ウンデセニル
(4)フェニル
(5)4−エトキシカルボニルフェニル
(6)4−ブトキシフェニル
(7)p−ビフェニリル
(8)4−ピリジル
(9)2−ナフチル
(10)2−メチルフェニル
(11)3,4−ジメトキシフェニル
(12)2−フリル
(1) Butyl (2) 2-Methoxy-2-ethoxyethyl (3) 5-Undecenyl (4) Phenyl (5) 4-Ethoxycarbonylphenyl (6) 4-Butoxyphenyl (7) p-Biphenylyl (8) 4 -Pyridyl (9) 2-naphthyl (10) 2-methylphenyl (11) 3,4-dimethoxyphenyl (12) 2-furyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(14)フェニル
(15)3−エトキシカルボニルフェニル
(16)3−ブトキシフェニル
(17)m−ビフェニリル
(18)3−フェニルチオフェニル
(19)3−クロロフェニル
(20)3−ベンゾイルフェニル
(21)3−アセトキシフェニル
(22)3−ベンゾイルオキシフェニル
(23)3−フェノキシカルボニルフェニル
(24)3−メトキシフェニル
(25)3−アニリノフェニル
(26)3−イソブチリルアミノフェニル
(27)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(28)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(29)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(30)3−メチルフェニル
(31)3−フェノキシフェニル
(32)3−ヒドロキシフェニル
(33)4−エトキシカルボニルフェニル
(34)4−ブトキシフェニル
(35)p−ビフェニリル
(36)4−フェニルチオフェニル
(37)4−クロロフェニル
(38)4−ベンゾイルフェニル
(39)4−アセトキシフェニル
(40)4−ベンゾイルオキシフェニル
(41)4−フェノキシカルボニルフェニル
(42)4−メトキシフェニル
(43)4−アニリノフェニル
(44)4−イソブチリルアミノフェニル
(45)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(46)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(47)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(48)4−メチルフェニル
(49)4−フェノキシフェニル
(50)4−ヒドロキシフェニル
(51)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(52)3,4−ジブトキシフェニル
(53)3,4−ジフェニルフェニル
(54)3,4−ジフェニルチオフェニル
(55)3,4−ジクロロフェニル
(56)3,4−ジベンゾイルフェニル
(57)3,4−ジアセトキシフェニル
(58)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(59)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(60)3,4−ジメトキシフェニル
(61)3,4−ジアニリノフェニル
(62)3,4−ジメチルフェニル
(63)3,4−ジフェノキシフェニル
(64)3,4−ジヒドロキシフェニル
(65)2−ナフチル
(66)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(67)3,4,5−トリブトキシフェニル
(68)3,4,5−トリフェニルフェニル
(69)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(70)3,4,5−トリクロロフェニル
(71)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(72)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(73)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(74)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(75)3,4,5−トリメトキシフェニル
(76)3,4,5−トリアニリノフェニル
(77)3,4,5−トリメチルフェニル
(78)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(79)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(14) phenyl (15) 3-ethoxycarbonylphenyl (16) 3-butoxyphenyl (17) m-biphenylyl (18) 3-phenylthiophenyl (19) 3-chlorophenyl (20) 3-benzoylphenyl (21) 3 -Acetoxyphenyl (22) 3-benzoyloxyphenyl (23) 3-phenoxycarbonylphenyl (24) 3-methoxyphenyl (25) 3-anilinophenyl (26) 3-isobutyrylaminophenyl (27) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (28) 3- (3-ethylureido) phenyl (29) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (30) 3-methylphenyl (31) 3-phenoxyphenyl (32) 3-hydroxyphenyl (33) 4-Ethoxycarbonylphenyl (34) 4-butoxyphenyl (35) p-biphenylyl (36) 4-phenylthiophenyl (37) 4-chlorophenyl (38) 4-benzoylphenyl (39) 4-acetoxyphenyl (40) 4-benzoyloxyphenyl ( 41) 4-phenoxycarbonylphenyl (42) 4-methoxyphenyl (43) 4-anilinophenyl (44) 4-isobutyrylaminophenyl (45) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (46) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (47) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (48) 4-methylphenyl (49) 4-phenoxyphenyl (50) 4-hydroxyphenyl (51) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 52) 3,4-dibutoxyphenyl (53) 3 -Diphenylphenyl (54) 3,4-diphenylthiophenyl (55) 3,4-dichlorophenyl (56) 3,4-dibenzoylphenyl (57) 3,4-diacetoxyphenyl (58) 3,4-dibenzoyl Oxyphenyl (59) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (60) 3,4-dimethoxyphenyl (61) 3,4-dianilinophenyl (62) 3,4-dimethylphenyl (63) 3,4-diphenoxy Phenyl (64) 3,4-dihydroxyphenyl (65) 2-naphthyl (66) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (67) 3,4,5-tributoxyphenyl (68) 3,4,5- Triphenylphenyl (69) 3,4,5-triphenylthiophenyl (70) 3,4,5-trichlorophenyl (71) 3,4,5-tribenzoylphenyl (72) 3,4,5-triacetoxyphenyl (73) 3,4,5-tribenzoyloxyphenyl (74) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (75) 3,4,5-trimethoxyphenyl (76) 3,4,5-trianilinophenyl (77) 3,4,5-trimethylphenyl (78) 3,4,5-triphenoxyphenyl (79 ) 3,4,5-trihydroxyphenyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(80)フェニル
(81)3−エトキシカルボニルフェニル
(82)3−ブトキシフェニル
(83)m−ビフェニリル
(84)3−フェニルチオフェニル
(85)3−クロロフェニル
(86)3−ベンゾイルフェニル
(87)3−アセトキシフェニル
(88)3−ベンゾイルオキシフェニル
(89)3−フェノキシカルボニルフェニル
(90)3−メトキシフェニル
(91)3−アニリノフェニル
(92)3−イソブチリルアミノフェニル
(93)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(94)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(95)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(96)3−メチルフェニル
(97)3−フェノキシフェニル
(98)3−ヒドロキシフェニル
(99)4−エトキシカルボニルフェニル
(100)4−ブトキシフェニル
(101)p−ビフェニリル
(102)4−フェニルチオフェニル
(103)4−クロロフェニル
(104)4−ベンゾイルフェニル
(105)4−アセトキシフェニル
(106)4−ベンゾイルオキシフェニル
(107)4−フェノキシカルボニルフェニル
(108)4−メトキシフェニル
(109)4−アニリノフェニル
(110)4−イソブチリルアミノフェニル
(111)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(112)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(113)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(114)4−メチルフェニル
(115)4−フェノキシフェニル
(116)4−ヒドロキシフェニル
(117)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(118)3,4−ジブトキシフェニル
(119)3,4−ジフェニルフェニル
(120)3,4−ジフェニルチオフェニル
(121)3,4−ジクロロフェニル
(122)3,4−ジベンゾイルフェニル
(123)3,4−ジアセトキシフェニル
(124)3,4−ジベンゾイルオキシフェニル
(125)3,4−ジフェノキシカルボニルフェニル
(126)3,4−ジメトキシフェニル
(127)3,4−ジアニリノフェニル
(128)3,4−ジメチルフェニル
(129)3,4−ジフェノキシフェニル
(130)3,4−ジヒドロキシフェニル
(131)2−ナフチル
(132)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(133)3,4,5−トリブトキシフェニル
(134)3,4,5−トリフェニルフェニル
(135)3,4,5−トリフェニルチオフェニル
(136)3,4,5−トリクロロフェニル
(137)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(138)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(139)3,4,5−トリベンゾイルオキシフェニル
(140)3,4,5−トリフェノキシカルボニルフェニル
(141)3,4,5−トリメトキシフェニル
(142)3,4,5−トリアニリノフェニル
(143)3,4,5−トリメチルフェニル
(144)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(145)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(80) phenyl (81) 3-ethoxycarbonylphenyl (82) 3-butoxyphenyl (83) m-biphenylyl (84) 3-phenylthiophenyl (85) 3-chlorophenyl (86) 3-benzoylphenyl (87) 3 -Acetoxyphenyl (88) 3-benzoyloxyphenyl (89) 3-phenoxycarbonylphenyl (90) 3-methoxyphenyl (91) 3-anilinophenyl (92) 3-isobutyrylaminophenyl (93) 3-phenoxy Carbonylaminophenyl (94) 3- (3-ethylureido) phenyl (95) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (96) 3-methylphenyl (97) 3-phenoxyphenyl (98) 3-hydroxyphenyl (99) 4-Ethoxycarbonylphenyl (100) 4-butoxyphenyl (101) p-biphenylyl (102) 4-phenylthiophenyl (103) 4-chlorophenyl (104) 4-benzoylphenyl (105) 4-acetoxyphenyl (106) 4-benzoyloxyphenyl ( 107) 4-phenoxycarbonylphenyl (108) 4-methoxyphenyl (109) 4-anilinophenyl (110) 4-isobutyrylaminophenyl (111) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (112) 4- (3-ethyl (Ureido) phenyl (113) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (114) 4-methylphenyl (115) 4-phenoxyphenyl (116) 4-hydroxyphenyl (117) 3,4-diethoxycarbonylphenyl ( 118) 3 , 4-dibutoxyphenyl (119) 3,4-diphenylphenyl (120) 3,4-diphenylthiophenyl (121) 3,4-dichlorophenyl (122) 3,4-dibenzoylphenyl (123) 3,4- Diacetoxyphenyl (124) 3,4-dibenzoyloxyphenyl (125) 3,4-diphenoxycarbonylphenyl (126) 3,4-dimethoxyphenyl (127) 3,4-dianilinophenyl (128) 3,4 -Dimethylphenyl (129) 3,4-diphenoxyphenyl (130) 3,4-dihydroxyphenyl (131) 2-naphthyl (132) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (133) 3,4,5- Tributoxyphenyl (134) 3,4,5-triphenylphenyl (135) 3 4,5-triphenylthiophenyl (136) 3,4,5-trichlorophenyl (137) 3,4,5-tribenzoylphenyl (138) 3,4,5-triacetoxyphenyl (139) 3,4 5-tribenzoyloxyphenyl (140) 3,4,5-triphenoxycarbonylphenyl (141) 3,4,5-trimethoxyphenyl (142) 3,4,5-trianilinophenyl (143) 3,4 , 5-trimethylphenyl (144) 3,4,5-triphenoxyphenyl (145) 3,4,5-trihydroxyphenyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(146)フェニル
(147)4−エトキシカルボニルフェニル
(148)4−ブトキシフェニル
(149)p−ビフェニリル
(150)4−フェニルチオフェニル
(151)4−クロロフェニル
(152)4−ベンゾイルフェニル
(153)4−アセトキシフェニル
(154)4−ベンゾイルオキシフェニル
(155)4−フェノキシカルボニルフェニル
(156)4−メトキシフェニル
(157)4−アニリノフェニル
(158)4−イソブチリルアミノフェニル
(159)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(160)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(161)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(162)4−メチルフェニル
(163)4−フェノキシフェニル
(164)4−ヒドロキシフェニル
(146) phenyl (147) 4-ethoxycarbonylphenyl (148) 4-butoxyphenyl (149) p-biphenylyl (150) 4-phenylthiophenyl (151) 4-chlorophenyl (152) 4-benzoylphenyl (153) 4 -Acetoxyphenyl (154) 4-benzoyloxyphenyl (155) 4-phenoxycarbonylphenyl (156) 4-methoxyphenyl (157) 4-anilinophenyl (158) 4-isobutyrylaminophenyl (159) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (160) 4- (3-ethylureido) phenyl (161) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (162) 4-methylphenyl (163) 4-phenoxyphenyl (164) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(165)フェニル
(166)4−エトキシカルボニルフェニル
(167)4−ブトキシフェニル
(168)p−ビフェニリル
(169)4−フェニルチオフェニル
(170)4−クロロフェニル
(171)4−ベンゾイルフェニル
(172)4−アセトキシフェニル
(173)4−ベンゾイルオキシフェニル
(174)4−フェノキシカルボニルフェニル
(175)4−メトキシフェニル
(176)4−アニリノフェニル
(177)4−イソブチリルアミノフェニル
(178)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(179)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(180)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(181)4−メチルフェニル
(182)4−フェノキシフェニル
(183)4−ヒドロキシフェニル
(165) phenyl (166) 4-ethoxycarbonylphenyl (167) 4-butoxyphenyl (168) p-biphenylyl (169) 4-phenylthiophenyl (170) 4-chlorophenyl (171) 4-benzoylphenyl (172) 4 -Acetoxyphenyl (173) 4-benzoyloxyphenyl (174) 4-phenoxycarbonylphenyl (175) 4-methoxyphenyl (176) 4-anilinophenyl (177) 4-isobutyrylaminophenyl (178) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (179) 4- (3-ethylureido) phenyl (180) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (181) 4-methylphenyl (182) 4-phenoxyphenyl (183) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(184)フェニル
(185)4−エトキシカルボニルフェニル
(186)4−ブトキシフェニル
(187)p−ビフェニリル
(188)4−フェニルチオフェニル
(189)4−クロロフェニル
(190)4−ベンゾイルフェニル
(191)4−アセトキシフェニル
(192)4−ベンゾイルオキシフェニル
(193)4−フェノキシカルボニルフェニル
(194)4−メトキシフェニル
(195)4−アニリノフェニル
(196)4−イソブチリルアミノフェニル
(197)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(198)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(199)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(200)4−メチルフェニル
(201)4−フェノキシフェニル
(202)4−ヒドロキシフェニル
(184) phenyl (185) 4-ethoxycarbonylphenyl (186) 4-butoxyphenyl (187) p-biphenylyl (188) 4-phenylthiophenyl (189) 4-chlorophenyl (190) 4-benzoylphenyl (191) 4 -Acetoxyphenyl (192) 4-benzoyloxyphenyl (193) 4-phenoxycarbonylphenyl (194) 4-methoxyphenyl (195) 4-anilinophenyl (196) 4-isobutyrylaminophenyl (197) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (198) 4- (3-ethylureido) phenyl (199) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (200) 4-methylphenyl (201) 4-phenoxyphenyl (202) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(203)フェニル
(204)4−エトキシカルボニルフェニル
(205)4−ブトキシフェニル
(206)p−ビフェニリル
(207)4−フェニルチオフェニル
(208)4−クロロフェニル
(209)4−ベンゾイルフェニル
(210)4−アセトキシフェニル
(211)4−ベンゾイルオキシフェニル
(212)4−フェノキシカルボニルフェニル
(213)4−メトキシフェニル
(214)4−アニリノフェニル
(215)4−イソブチリルアミノフェニル
(216)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(217)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(218)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(219)4−メチルフェニル
(220)4−フェノキシフェニル
(221)4−ヒドロキシフェニル
(203) phenyl (204) 4-ethoxycarbonylphenyl (205) 4-butoxyphenyl (206) p-biphenylyl (207) 4-phenylthiophenyl (208) 4-chlorophenyl (209) 4-benzoylphenyl (210) 4 -Acetoxyphenyl (211) 4-benzoyloxyphenyl (212) 4-phenoxycarbonylphenyl (213) 4-methoxyphenyl (214) 4-anilinophenyl (215) 4-isobutyrylaminophenyl (216) 4-phenoxy Carbonylaminophenyl (217) 4- (3-ethylureido) phenyl (218) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (219) 4-methylphenyl (220) 4-phenoxyphenyl (221) 4-hydroxyphenyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(222)フェニル
(223)4−ブチルフェニル
(224)4−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(225)4−(5−ノネニル)フェニル
(226)p−ビフェニリル
(227)4−エトキシカルボニルフェニル
(228)4−ブトキシフェニル
(229)4−メチルフェニル
(230)4−クロロフェニル
(231)4−フェニルチオフェニル
(232)4−ベンゾイルフェニル
(233)4−アセトキシフェニル
(234)4−ベンゾイルオキシフェニル
(235)4−フェノキシカルボニルフェニル
(236)4−メトキシフェニル
(237)4−アニリノフェニル
(238)4−イソブチリルアミノフェニル
(239)4−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(240)4−(3−エチルウレイド)フェニル
(241)4−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(242)4−フェノキシフェニル
(243)4−ヒドロキシフェニル
(244)3−ブチルフェニル
(245)3−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(246)3−(5−ノネニル)フェニル
(247)m−ビフェニリル
(248)3−エトキシカルボニルフェニル
(249)3−ブトキシフェニル
(250)3−メチルフェニル
(251)3−クロロフェニル
(252)3−フェニルチオフェニル
(253)3−ベンゾイルフェニル
(254)3−アセトキシフェニル
(255)3−ベンゾイルオキシフェニル
(256)3−フェノキシカルボニルフェニル
(257)3−メトキシフェニル
(258)3−アニリノフェニル
(259)3−イソブチリルアミノフェニル
(260)3−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(261)3−(3−エチルウレイド)フェニル
(262)3−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(263)3−フェノキシフェニル
(264)3−ヒドロキシフェニル
(265)2−ブチルフェニル
(266)2−(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(267)2−(5−ノネニル)フェニル
(268)o−ビフェニリル
(269)2−エトキシカルボニルフェニル
(270)2−ブトキシフェニル
(271)2−メチルフェニル
(272)2−クロロフェニル
(273)2−フェニルチオフェニル
(274)2−ベンゾイルフェニル
(275)2−アセトキシフェニル
(276)2−ベンゾイルオキシフェニル
(277)2−フェノキシカルボニルフェニル
(278)2−メトキシフェニル
(279)2−アニリノフェニル
(280)2−イソブチリルアミノフェニル
(281)2−フェノキシカルボニルアミノフェニル
(282)2−(3−エチルウレイド)フェニル
(283)2−(3,3−ジエチルウレイド)フェニル
(284)2−フェノキシフェニル
(285)2−ヒドロキシフェニル
(286)3,4−ジブチルフェニル
(287)3,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(288)3,4−ジフェニルフェニル
(289)3,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(290)3,4−ジドデシルオキシフェニル
(291)3,4−ジメチルフェニル
(292)3,4−ジクロロフェニル
(293)3,4−ジベンゾイルフェニル
(294)3,4−ジアセトキシフェニル
(295)3,4−ジメトキシフェニル
(296)3,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(297)3,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(298)3,4−ジフェノキシフェニル
(299)3,4−ジヒドロキシフェニル
(300)3,5−ジブチルフェニル
(301)3,5−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(302)3,5−ジフェニルフェニル
(303)3,5−ジエトキシカルボニルフェニル
(304)3,5−ジドデシルオキシフェニル
(305)3,5−ジメチルフェニル
(306)3,5−ジクロロフェニル
(307)3,5−ジベンゾイルフェニル
(308)3,5−ジアセトキシフェニル
(309)3,5−ジメトキシフェニル
(310)3,5−ジ−N−メチルアミノフェニル
(311)3,5−ジイソブチリルアミノフェニル
(312)3,5−ジフェノキシフェニル
(313)3,5−ジヒドロキシフェニル
(314)2,4−ジブチルフェニル
(315)2,4−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(316)2,4−ジフェニルフェニル
(317)2,4−ジエトキシカルボニルフェニル
(318)2,4−ジドデシルオキシフェニル
(319)2,4−ジメチルフェニル
(320)2,4−ジクロロフェニル
(321)2,4−ジベンゾイルフェニル
(322)2,4−ジアセトキシフェニル
(323)2,4−ジメトキシフェニル
(324)2,4−ジ−N−メチルアミノフェニル
(325)2,4−ジイソブチリルアミノフェニル
(326)2,4−ジフェノキシフェニル
(327)2,4−ジヒドロキシフェニル
(328)2,3−ジブチルフェニル
(329)2,3−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(330)2,3−ジフェニルフェニル
(331)2,3−ジエトキシカルボニルフェニル
(332)2,3−ジドデシルオキシフェニル
(333)2,3−ジメチルフ ェニル
(334)2,3−ジクロロフェニル
(335)2,3−ジベンゾイルフェニル
(336)2,3−ジアセトキシフェニル
(337)2,3−ジメトキシフェニル
(338)2,3−ジ−N−メチルアミノフェニル
(339)2,3−ジイソブチリルアミノフェニル
(340)2,3−ジフェノキシフェニル
(341)2,3−ジヒドロキシフェニル
(342)2,6−ジブチルフェニル
(343)2,6−ジ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(344)2,6−ジフェニルフェニル
(345)2,6−ジエトキシカルボニルフェニル
(346)2,6−ジドデシルオキシフェニル
(347)2,6−ジメチルフェニル
(348)2,6−ジクロロフェニル
(349)2,6−ジベンゾイルフェニル
(350)2,6−ジアセトキシフェニル
(351)2,6−ジメトキシフェニル
(352)2,6−ジ−N−メチルアミノフェニル
(353)2,6−ジイソブチリルアミノフェニル
(354)2,6−ジフェノキシフェニル
(355)2,6−ジヒドロキシフェニル
(356)3,4,5−トリブチルフェニル
(357)3,4,5−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(358)3,4,5−トリフェニルフェニル
(359)3,4,5−トリエトキシカルボニルフェニル
(360)3,4,5−トリドデシルオキシフェニル
(361)3,4,5−トリメチルフェニル
(362)3,4,5−トリクロロフェニル
(363)3,4,5−トリベンゾイルフェニル
(364)3,4,5−トリアセトキシフェニル
(365)3,4,5−トリメトキシフェニル
(366)3,4,5−トリ−N−メチルアミノフェニル
(367)3,4,5−トリイソブチリルアミノフェニル
(368)3,4,5−トリフェノキシフェニル
(369)3,4,5−トリヒドロキシフェニル
(370)2,4,6−トリブチルフェニル
(371)2,4,6−トリ(2−メトキシ−2−エトキシエチル)フェニル
(372)2,4,6−トリフェニルフェニル
(373)2,4,6−トリエトキシカルボニルフェニル
(374)2,4,6−トリドデシルオキシフェニル
(375)2,4,6−トリメチルフェニル
(376)2,4,6−トリクロロフェニル
(377)2,4,6−トリベンゾイルフェニル
(378)2,4,6−トリアセトキシフェニル
(379)2,4,6−トリメトキシフェニル
(380)2,4,6−トリ−N−メチルアミノフェニル
(381)2,4,6−トリイソブチリルアミノフェニル
(382)2,4,6−トリフェノキシフェニル
(383)2,4,6−トリヒドロキシフェニル
(384)ペンタフルオロフェニル
(385)ペンタクロロフェニル
(386)ペンタメトキシフェニル
(387)6−N−メチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(388)5−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(389)6−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(390)5−エトキシ−7−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(391)3−メトキシ−2−ナフチル
(392)1−エトキシ−2−ナフチル
(393)6−N−フェニルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(394)5−メトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(395)1−(4−メチルフェニル)−2−ナフチル
(396)6,8−ジ−N−メチルスルファモイル−2−ナフチル
(397)6−N−2−アセトキシエチルスルファモイル−8−メトキシ−2−ナフチル
(398)5−アセトキシ−7−N−フェニルスルファモイル−2−ナフチル
(399)3−ベンゾイルオキシ−2−ナフチル
(400)5−アセチルアミノ−1−ナフチル
(401)2−メトキシ−1−ナフチル
(402)4−フェノキシ−1−ナフチル
(403)5−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(404)3−N−メチルカルバモイル−4−ヒドロキシ−1−ナフチル
(405)5−メトキシ−6−N−エチルスルファモイル−1−ナフチル
(406)7−テトラデシルオキシ−1−ナフチル
(407)4−(4−メチルフェノキシ)−1−ナフチル
(408)6−N−メチルスルファモイル−1−ナフチル
(409)3−N,N−ジメチルカルバモイル−4−メトキシ−1−ナフチル
(410)5−メトキシ−6−N−ベンジルスルファモイル−1−ナフチル
(411)3,6−ジ−N−フェニルスルファモイル−1−ナフチル
(412)メチル
(413)エチル
(414)ブチル
(415)オクチル
(416)ドデシル
(417)2−ブトキシ−2−エトキシエチル
(418)ベンジル
(419)4−メトキシベンジル
(222) phenyl (223) 4-butylphenyl (224) 4- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (225) 4- (5-nonenyl) phenyl (226) p-biphenylyl (227) 4-ethoxy Carbonylphenyl (228) 4-butoxyphenyl (229) 4-methylphenyl (230) 4-chlorophenyl (231) 4-phenylthiophenyl (232) 4-benzoylphenyl (233) 4-acetoxyphenyl (234) 4-benzoyl Oxyphenyl (235) 4-phenoxycarbonylphenyl (236) 4-methoxyphenyl (237) 4-anilinophenyl (238) 4-isobutyrylaminophenyl (239) 4-phenoxycarbonylaminophenyl (240) 4- ( 3-ethylureido Phenyl (241) 4- (3,3-diethylureido) phenyl (242) 4-phenoxyphenyl (243) 4-hydroxyphenyl (244) 3-butylphenyl (245) 3- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) ) Phenyl (246) 3- (5-nonenyl) phenyl (247) m-biphenylyl (248) 3-ethoxycarbonylphenyl (249) 3-butoxyphenyl (250) 3-methylphenyl (251) 3-chlorophenyl (252) 3-phenylthiophenyl (253) 3-benzoylphenyl (254) 3-acetoxyphenyl (255) 3-benzoyloxyphenyl (256) 3-phenoxycarbonylphenyl (257) 3-methoxyphenyl (258) 3-anilinophenyl (259) 3-I Butyrylaminophenyl (260) 3-phenoxycarbonylaminophenyl (261) 3- (3-ethylureido) phenyl (262) 3- (3,3-diethylureido) phenyl (263) 3-phenoxyphenyl (264) 3 -Hydroxyphenyl (265) 2-butylphenyl (266) 2- (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (267) 2- (5-nonenyl) phenyl (268) o-biphenylyl (269) 2-ethoxycarbonyl Phenyl (270) 2-Butoxyphenyl (271) 2-Methylphenyl (272) 2-Chlorophenyl (273) 2-Phenylthiophenyl (274) 2-Benzoylphenyl (275) 2-Acetoxyphenyl (276) 2-Benzoyloxy Phenyl (277) 2 Phenoxycarbonylphenyl (278) 2-methoxyphenyl (279) 2-anilinophenyl (280) 2-isobutyrylaminophenyl (281) 2-phenoxycarbonylaminophenyl (282) 2- (3-ethylureido) phenyl ( 283) 2- (3,3-diethylureido) phenyl (284) 2-phenoxyphenyl (285) 2-hydroxyphenyl (286) 3,4-dibutylphenyl (287) 3,4-di (2-methoxy-2) -Ethoxyethyl) phenyl (288) 3,4-diphenylphenyl (289) 3,4-diethoxycarbonylphenyl (290) 3,4-didodecyloxyphenyl (291) 3,4-dimethylphenyl (292) 3, 4-dichlorophenyl (293) 3,4-dibenzoyl Enyl (294) 3,4-diacetoxyphenyl (295) 3,4-dimethoxyphenyl (296) 3,4-di-N-methylaminophenyl (297) 3,4-diisobutyrylaminophenyl (298) 3 , 4-diphenoxyphenyl (299) 3,4-dihydroxyphenyl (300) 3,5-dibutylphenyl (301) 3,5-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (302) 3,5- Diphenylphenyl (303) 3,5-diethoxycarbonylphenyl (304) 3,5-didodecyloxyphenyl (305) 3,5-dimethylphenyl (306) 3,5-dichlorophenyl (307) 3,5-dibenzoyl Phenyl (308) 3,5-diacetoxyphenyl (309) 3,5-dimethoxyphenyl (3 0) 3,5-di-N-methylaminophenyl (311) 3,5-diisobutyrylaminophenyl (312) 3,5-diphenoxyphenyl (313) 3,5-dihydroxyphenyl (314) 2,4 -Dibutylphenyl (315) 2,4-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (316) 2,4-diphenylphenyl (317) 2,4-diethoxycarbonylphenyl (318) 2,4-di Dodecyloxyphenyl (319) 2,4-dimethylphenyl (320) 2,4-dichlorophenyl (321) 2,4-dibenzoylphenyl (322) 2,4-diacetoxyphenyl (323) 2,4-dimethoxyphenyl ( 324) 2,4-di-N-methylaminophenyl (325) 2,4-diisobutyrylaminopheny (326) 2,4-diphenoxyphenyl (327) 2,4-dihydroxyphenyl (328) 2,3-dibutylphenyl (329) 2,3-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (330) 2,3-diphenylphenyl (331) 2,3-diethoxycarbonylphenyl (332) 2,3-didodecyloxyphenyl (333) 2,3-dimethylphenyl (334) 2,3-dichlorophenyl (335) 2, 3-dibenzoylphenyl (336) 2,3-diacetoxyphenyl (337) 2,3-dimethoxyphenyl (338) 2,3-di-N-methylaminophenyl (339) 2,3-diisobutyrylaminophenyl (340) 2,3-diphenoxyphenyl (341) 2,3-dihydroxyphenyl (342 ) 2,6-dibutylphenyl (343) 2,6-di (2-methoxy-2-ethoxyethyl) phenyl (344) 2,6-diphenylphenyl (345) 2,6-diethoxycarbonylphenyl (346) 2 , 6-didodecyloxyphenyl (347) 2,6-dimethylphenyl (348) 2,6-dichlorophenyl (349) 2,6-dibenzoylphenyl (350) 2,6-diacetoxyphenyl (351) 2,6 -Dimethoxyphenyl (352) 2,6-di-N-methylaminophenyl (353) 2,6-diisobutyrylaminophenyl (354) 2,6-diphenoxyphenyl (355) 2,6-dihydroxyphenyl (356 ) 3,4,5-tributylphenyl (357) 3,4,5-tri (2-methoxy-2-ethoxy) Til) phenyl (358) 3,4,5-triphenylphenyl (359) 3,4,5-triethoxycarbonylphenyl (360) 3,4,5-tridodecyloxyphenyl (361) 3,4,5- Trimethylphenyl (362) 3,4,5-trichlorophenyl (363) 3,4,5-tribenzoylphenyl (364) 3,4,5-triacetoxyphenyl (365) 3,4,5-trimethoxyphenyl ( 366) 3,4,5-tri-N-methylaminophenyl (367) 3,4,5-triisobutyrylaminophenyl (368) 3,4,5-triphenoxyphenyl (369) 3,4,5 -Trihydroxyphenyl (370) 2,4,6-tributylphenyl (371) 2,4,6-tri (2-methoxy-2-ethoxyethyl) B) phenyl (372) 2,4,6-triphenylphenyl (373) 2,4,6-triethoxycarbonylphenyl (374) 2,4,6-tridodecyloxyphenyl (375) 2,4,6- Trimethylphenyl (376) 2,4,6-trichlorophenyl (377) 2,4,6-tribenzoylphenyl (378) 2,4,6-triacetoxyphenyl (379) 2,4,6-trimethoxyphenyl ( 380) 2,4,6-tri-N-methylaminophenyl (381) 2,4,6-triisobutyrylaminophenyl (382) 2,4,6-triphenoxyphenyl (383) 2,4,6 -Trihydroxyphenyl (384) Pentafluorophenyl (385) Pentachlorophenyl (386) Pentamethoxyphenyl (38 7) 6-N-methylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (388) 5-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (389) 6-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (390) ) 5-Ethoxy-7-N-methylsulfamoyl-2-naphthyl (391) 3-methoxy-2-naphthyl (392) 1-ethoxy-2-naphthyl (393) 6-N-phenylsulfamoyl-8 -Methoxy-2-naphthyl (394) 5-methoxy-7-N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (395) 1- (4-methylphenyl) -2-naphthyl (396) 6,8-di-N -Methylsulfamoyl-2-naphthyl (397) 6-N-2-acetoxyethylsulfamoyl-8-methoxy-2-naphthyl (398) 5-acetoxy-7 N-phenylsulfamoyl-2-naphthyl (399) 3-benzoyloxy-2-naphthyl (400) 5-acetylamino-1-naphthyl (401) 2-methoxy-1-naphthyl (402) 4-phenoxy-1 -Naphtyl (403) 5-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (404) 3-N-methylcarbamoyl-4-hydroxy-1-naphthyl (405) 5-methoxy-6-N-ethylsulfamoyl- 1-naphthyl (406) 7-tetradecyloxy-1-naphthyl (407) 4- (4-methylphenoxy) -1-naphthyl (408) 6-N-methylsulfamoyl-1-naphthyl (409) 3- N, N-dimethylcarbamoyl-4-methoxy-1-naphthyl (410) 5-methoxy-6-N-benzylsulfamoyl -1-naphthyl (411) 3,6-di-N-phenylsulfamoyl-1-naphthyl (412) methyl (413) ethyl (414) butyl (415) octyl (416) dodecyl (417) 2-butoxy- 2-Ethoxyethyl (418) benzyl (419) 4-methoxybenzyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(424)メチル
(425)フェニル
(426)ブチル
(424) Methyl (425) Phenyl (426) Butyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(430)メチル
(431)エチル
(432)ブチル
(433)オクチル
(434)ドデシル
(435)2−ブトキシ2−エトキシエチル
(436)ベンジル
(437)4−メトキシベンジル
(430) methyl (431) ethyl (432) butyl (433) octyl (434) dodecyl (435) 2-butoxy-2-ethoxyethyl (436) benzyl (437) 4-methoxybenzyl

Figure 2005156801
Figure 2005156801

Figure 2005156801
Figure 2005156801

本発明においては、1,3,5−トリアジン環を有する化合物として、メラミンポリマーを用いてもよい。メラミンポリマーは、下記一般式(II)で示すメラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応により合成することが好ましい。   In the present invention, a melamine polymer may be used as the compound having a 1,3,5-triazine ring. The melamine polymer is preferably synthesized by a polymerization reaction between a melamine compound represented by the following general formula (II) and a carbonyl compound.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

上記合成反応スキームにおいて、R11、R12、R13、R14、R15及びR16は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。 In the above synthetic reaction scheme, R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group.

上記アルキル基、アルケニル基、アリール基及び複素環基及びこれらの置換基は前記一般式(I)で説明した各基、それらの置換基と同義である。   The alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, and substituents thereof have the same meanings as the groups and substituents described in the general formula (I).

メラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応は、通常のメラミン樹脂(例えば、メラミンホルムアルデヒド樹脂等)の合成方法と同様である。また、市販のメラミンポリマー(メラミン樹脂)を用いてもよい。   The polymerization reaction between the melamine compound and the carbonyl compound is the same as the method for synthesizing a normal melamine resin (for example, melamine formaldehyde resin). Moreover, you may use a commercially available melamine polymer (melamine resin).

メラミンポリマーの分子量は、2千〜40万であることが好ましい。メラミンポリマーの繰り返し単位の具体例を以下に示す。   The molecular weight of the melamine polymer is preferably 2,000 to 400,000. Specific examples of the repeating unit of the melamine polymer are shown below.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

MP−1:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−2:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−3:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−4:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−5:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−6:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−7:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−8:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−9:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−10:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−11:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−12:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−13:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−14:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C49
MP−15:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
MP−16:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C49
MP−17:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−18:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−19:R13、R14、R16:CH2O−i−C49;R15:CH2OH
MP−20:R13、R16:CH2O−i−C49;R14、R15:CH2OH
MP−21:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−22:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−23:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−24:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49
MP−25:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−26:R13、R14、R16:CH2O−n−C49;R15:CH2OH
MP−27:R13、R16:CH2O−n−C49;R14、R15:CH2OH
MP−28:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−29:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−30:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−31:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−32:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−33:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−34:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−35:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−36:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−37:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−38:R13、R16:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−39:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−40:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−41:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C49;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−42:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−43:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−44:R13:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−45:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−46:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−47:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−48:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−49:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−50:R13:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-1: R 13 , R 14 , R 15 , R 16 : CH 2 OH
MP-2: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-3: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-4: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-5: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-6: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-7: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-8: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-9: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-10: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-11: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-12: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-13: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-14: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-15: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-16: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-17: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-18: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-19: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-20: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-21: R 13 , R 14 , R 15 : CH 2 OH; R 16 : CH 2 On -C 4 H 9
MP-22: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-23: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-24: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-25: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2O -n-C 4 H 9
MP-26: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-27: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-28: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-29: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-30: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-31: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-32: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-33: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-34: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-35: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-36: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-37: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-38: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-39: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-40: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-41: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-42: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-43: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-44: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-45: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-46: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-47: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-48: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-49: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-50: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2

Figure 2005156801
Figure 2005156801

MP−51:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−52:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−53:R13、R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−54:R13、R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−55:R13、R14、R15、R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−56:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−57:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2OCH3
MP−58:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−59:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−60:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−61:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−62:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−63:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
MP−64:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−i−C49
MP−65:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
MP−66:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C49
MP−67:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−68:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
MP−69:R13、R14、R16:CH 2O−i−C49;R15:CH2OH
MP−70:R13、R16:CH2O−i−C49;R14、R15:CH2OH
MP−71:R13、R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−72:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−73:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−74:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49
MP−75:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−n−C49
MP−76:R13、R14、R16:CH2O−n−C49;R15:CH2OH
MP−77:R13、R16:CH2O−n−C49;R14、R15:CH2OH
MP−78:R13、R14:CH2OH;R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−79:R13、R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−80:R13、R16:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−81:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
MP−82:R13:CH2OH;R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49
MP−83:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15、R16:CH2O−n−C49
MP−84:R13:CH2OH;R14、R15:CH2O−n−C49;R16:CH2OCH3
MP−85:R13、R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−86:R13、R16:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49
MP−87:R13:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH;R16:CH2O−n−C49
MP−88:R13、R16:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−89:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−90:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−91:R13:CH2OH;R14:CH2O−n−C49;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−92:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2O−n−C49;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−93:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2O−n−C49
MP−94:R13:CH2O−n−C49;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−95:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−96:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−97:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−98:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−99:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−100:R13:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP-51: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
MP-52: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-53: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-54: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-55: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-56: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-57: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-58: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-59: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-60: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-61: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-62: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-63: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-64: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-65: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-66: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-67: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-68: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-69: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-70: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-71: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-72: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-73: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-74: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-75: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-76: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-77: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
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MP-81: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-82: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-83: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
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MP-95: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
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MP-97: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-98: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-99: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
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Figure 2005156801
Figure 2005156801

MP−101:R13、R14、R15、R16:CH2OH
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MP−115:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
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MP−117:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−118:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
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MP-103: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-104: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-105: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-106: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-107: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-108: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-109: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-110: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-111: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-112: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-113: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
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MP-115: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-116: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-117: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-118: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-119: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
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MP-132: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
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MP-137: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-138: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
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MP-145: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-146: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-147: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-148: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-149: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-150: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2

Figure 2005156801
Figure 2005156801

MP−151:R13、R14、R15、R16:CH2OH
MP−152:R13、R14、R15、R16:CH2OCH3
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MP−156:R13、R14、R15、R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
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MP−158:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2OCH3
MP−159:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2OCH3
MP−160:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3
MP−161:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2OCH3
MP−162:R13、R14、R16:CH2OCH3;R15:CH2OH
MP−163:R13、R16:CH2OCH3;R14、R15:CH2OH
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MP−165:R13、R14、R16:CH2OH;R15:CH2O−i−C49
MP−166:R13、R14:CH2OH;R15、R16:CH2O−i−C49
MP−167:R13、R16:CH2OH;R14、R15:CH2O−i−C49
MP−168:R13:CH2OH;R14、R15、R16:CH2O−i−C49
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MP−181:R13:CH2OH;R14、R15:CH2OCH3;R16:CH2O−n−C49
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MP−195:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−196:R13:CH2OH;R14:CH2OCH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−197:R13:CH2OH;R14:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2OCH3
MP−198:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R16:CH2NHCOCH=CH2
MP−199:R13:CH2OCH3;R14:CH2OH;R15:CH2NHCOCH=CH2;R16:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3
MP−200:R13:CH2NHCO(CH27CH=CH(CH27CH3;R14:CH2OCH3;R15:CH2OH;R16:CH2NHCOCH=CH2
本発明においては、上記繰り返し単位を二種類以上組み合わせたコポリマーを用いてもよい。二種類以上のホモポリマーまたはコポリマーを併用してもよい。
MP-151: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OH
MP-152: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-153: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-154: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-155: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-156: R 13, R 14, R 15, R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-157: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 OCH 3
MP-158: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3
MP-159: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-160: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3
MP-161: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 OCH 3
MP-162: R 13, R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-163: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-164: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-165: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-166: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-167: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-168: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9
MP-169: R 13, R 14, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 15: CH 2 OH
MP-170: R 13, R 16: CH 2 O-i-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-171: R 13, R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-172: R 13, R 14, R 16: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-173: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-174: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-175: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-176: R 13 , R 14 , R 16 : CH 2 On -C 4 H 9 ; R 15 : CH 2 OH
MP-177: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14, R 15: CH 2 OH
MP-178: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-179: R 13, R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-180: R 13, R 16: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-181: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 OCH 3; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-182: R 13: CH 2 OH; R 14, R 16: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-183: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-184: R 13: CH 2 OH; R 14, R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 OCH 3
MP-185: R 13, R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2O -n-C 4 H 9
MP-186: R 13, R 16: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-187: R 13: CH 2 OCH 3; R 14, R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-188: R 13, R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH
MP-189: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-190: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-191: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-192: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-193: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 O-n-C 4 H 9
MP-194: R 13: CH 2 O-n-C 4 H 9; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-195: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-196: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-197: R 13: CH 2 OH; R 14: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 OCH 3
MP-198: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
MP-199: R 13: CH 2 OCH 3; R 14: CH 2 OH; R 15: CH 2 NHCOCH = CH 2; R 16: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3
MP-200: R 13: CH 2 NHCO (CH 2) 7 CH = CH (CH 2) 7 CH 3; R 14: CH 2 OCH 3; R 15: CH 2 OH; R 16: CH 2 NHCOCH = CH 2
In the present invention, a copolymer obtained by combining two or more of the above repeating units may be used. Two or more homopolymers or copolymers may be used in combination.

また、二種類以上の1,3,5−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物(例えば、1,3,5−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物)を併用してもよい。   Moreover, you may use together the compound which has a 2 or more types of 1,3,5- triazine ring. Two or more kinds of discotic compounds (for example, a compound having a 1,3,5-triazine ring and a compound having a porphyrin skeleton) may be used in combination.

これらの添加剤はセルロースエステルフィルムに対して0.2〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%含有することが好ましい。   These additives are preferably contained in an amount of 0.2 to 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass with respect to the cellulose ester film.

また、特開2001−235621の一般式(I)で示されているトリアジン系化合物も本発明に係るセルロースエステルフィルムに好ましく用いられる。   Moreover, the triazine type compound shown by the general formula (I) of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-235621 is also preferably used for the cellulose ester film which concerns on this invention.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは紫外線吸収剤を2種以上を含有することが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably contains two or more ultraviolet absorbers.

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることが出来、特に特開平6−148430号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。   As the UV absorber, a polymer UV absorber can be preferably used, and in particular, a polymer type UV absorber described in JP-A-6-148430 is preferably used.

紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。   The method of adding the UV absorber may be added to the dope after the UV absorber is dissolved in an alcohol such as methanol, ethanol or butanol, an organic solvent such as methylene chloride, methyl acetate, acetone or dioxolane, or a mixed solvent thereof. Or you may add directly in dope composition. For an inorganic powder that does not dissolve in an organic solvent, a dissolver or a sand mill is used in the organic solvent and cellulose ester to disperse and then added to the dope.

紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、セルロースエステルフィルムの乾燥膜厚が30〜200μmの場合は、セルロースエステルフィルムに対して0.5〜10質量%が好ましく、0.5〜4質量%が更に好ましく、0.6〜2質量%が特に好ましい。   The amount of the UV absorber used is not uniform depending on the type of UV absorber, the operating conditions, etc., but when the dry film thickness of the cellulose ester film is 30 to 200 μm, it is 0.5 to 10 with respect to the cellulose ester film. % By mass is preferred, 0.5-4% by mass is more preferred, and 0.6-2% by mass is particularly preferred.

〈微粒子〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムには、基材フィルム表面に凹凸面を形成するため、或いは内部散乱効果を持たせる為に微粒子を含有することが好ましい。
<Fine particles>
The cellulose ester film used in the present invention preferably contains fine particles in order to form an uneven surface on the substrate film surface or to have an internal scattering effect.

本発明に使用することの出来る無機粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム或いはこれらの複合酸化物等を挙げることが出来る。   Examples of inorganic particles that can be used in the present invention include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, antimony oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, Examples thereof include clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, calcium phosphate, and composite oxides thereof.

微粒子の一次粒子の平均径は5nm〜5μmが好ましく、更に好ましいのは5nm〜1μmである。これらは主に粒径0.05〜1μm好ましくは0.05〜0.3μmの2次凝集体を含有することが好ましい。セルロースエステルフィルム中のこれらの微粒子の含有量は0.05〜10質量%であることが好ましく、特に0.1〜1質量%が好ましい。共流延法による多層構成のセルロースエステルフィルムの場合は、表層にこの含有量でこれらの微粒子を含有することが好ましい。   The average primary particle diameter of the fine particles is preferably 5 nm to 5 μm, and more preferably 5 nm to 1 μm. These mainly contain secondary aggregates having a particle size of 0.05 to 1 μm, preferably 0.05 to 0.3 μm. The content of these fine particles in the cellulose ester film is preferably 0.05 to 10% by mass, particularly preferably 0.1 to 1% by mass. In the case of a cellulose ester film having a multilayer structure by a co-casting method, it is preferable that these fine particles are contained in the surface layer at this content.

有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等をセルロースエステルフィルムに加えることが出来る。   As organic particles, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, Polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, or polyfluoroethylene resin powder can be added to the cellulose ester film.

市販の有機粒子の具体例としては、架橋アクリル単分散粒子(MX−150、MX−180、MX−300、MX−500、MX−1000)、架橋アクリル粒子(MR−2HG、MR−7HG、MR−10HG、MR−3GSN、MR−5GSN、MR−2G、MR−7G、MR−10G)、アクリル単分散粒子(MP−1451、MP−2200、MP−1000、MP−2701、MP−5000、MP−5500、MP−1600、MP−1400)、架橋スチレン粒子(SX−130H、SX−200H、SX−350H、SH−130H、SH−350H)、ポリメチルメタクリレート系粒子(MX150、MX300、以上、綜研化学(株)製)などが挙げられる。   Specific examples of commercially available organic particles include crosslinked acrylic monodisperse particles (MX-150, MX-180, MX-300, MX-500, MX-1000), crosslinked acrylic particles (MR-2HG, MR-7HG, MR). -10HG, MR-3GSN, MR-5GSN, MR-2G, MR-7G, MR-10G), acrylic monodisperse particles (MP-1451, MP-2200, MP-1000, MP-2701, MP-5000, MP) -5500, MP-1600, MP-1400), cross-linked styrene particles (SX-130H, SX-200H, SX-350H, SH-130H, SH-350H), polymethyl methacrylate particles (MX150, MX300, above, Soken) Chemical Co., Ltd.).

これらの内でも、本発明の目的である防眩性を達成するには、シリカなどの酸化珪素粒子、架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、或いは酸化錫、ITO、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化インジウムを主成分とする導電性微粒子が特に好ましく用いられる。ここで好ましく用いられる酸化珪素粒子は、合成非晶質シリカのなかでも湿式法によって作られる超微粉含水珪酸が光沢度を下げる効果が大きく好ましい。湿式法とは珪酸ソーダと鉱酸及び塩類を水溶液中で反応させる方法で、例えば富士シリシア化学(株)製のサイリシア(310、350、430、431、435、540、450、702、704、770等)や日本シリカ(株)製のNipsil Eなどがある。   Among these, in order to achieve the antiglare property which is the object of the present invention, silicon oxide particles such as silica, crosslinked acrylic particles, crosslinked styrene particles, or tin oxide, ITO, antimony oxide, zinc oxide, and indium oxide are used. Conductive fine particles having a main component are particularly preferably used. As the silicon oxide particles preferably used here, ultrafine hydrated silicic acid produced by a wet method is preferred among synthetic amorphous silicas because of its great effect of reducing the glossiness. The wet method is a method in which sodium silicate, mineral acid and salts are reacted in an aqueous solution. For example, Silicia (310, 350, 430, 431, 435, 540, 450, 702, 704, 770) manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd. Etc.) and Nippon Sil E manufactured by Nippon Silica Co., Ltd.

〈染料〉
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムには、色味調整のため染料を添加することも出来る。例えば、フィルムの黄色味を抑えるために青色染料を添加してもよい。好ましい染料としてはアンスラキノン系染料が挙げられる。
<dye>
A dye may be added to the cellulose ester film used in the present invention to adjust the color. For example, a blue dye may be added to suppress the yellowness of the film. Preferred examples of the dye include anthraquinone dyes.

アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの1位から8位迄の任意の位置に任意の置換基を有することが出来る。好ましい置換基としてはアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、または水素原子が挙げられる。特に特開2001−154017号公報の段落番号[0034]〜[0037]記載の青色染料、特にアントラキノン系染料を含有することが好ましい。また、赤外吸収染料を含有することが好ましく、特に特開2001−154017号公報のチオピリリウムスクアリリウム染料、チオピリリウムクロコニウム染料、ピリリウムスクアリリウム染料、ピリリウムクロコニウム染料の内のいずれかであることが好ましい。具体的には該公報の一般式(1)若しくは一般式(2)で示されている赤外吸収染料を好ましく添加することが出来る。   The anthraquinone dye may have an arbitrary substituent at an arbitrary position from the 1st position to the 8th position of the anthraquinone. Preferred substituents include an anilino group, hydroxyl group, amino group, nitro group, or hydrogen atom. In particular, it is preferable to contain a blue dye described in paragraphs [0034] to [0037] of JP-A No. 2001-154017, particularly an anthraquinone dye. Further, it preferably contains an infrared absorbing dye, and in particular, any one of thiopyrylium squarylium dye, thiopyrylium croconium dye, pyrylium squarylium dye, and pyrylium croconium dye disclosed in JP-A-2001-154017. It is preferable that Specifically, an infrared absorbing dye represented by the general formula (1) or the general formula (2) of the publication can be preferably added.

各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。   Various additives may be batch-added to a dope that is a cellulose ester-containing solution before film formation, or an additive solution may be separately prepared and added in-line. In particular, it is preferable to add a part or all of the fine particles in-line in order to reduce the load on the filter medium.

添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤100質量部に対して1〜10質量部で、より好ましくは、3〜5質量部である。   When the additive solution is added in-line, it is preferable to dissolve a small amount of cellulose ester in order to improve mixing with the dope. The amount of the cellulose ester is preferably 1 to 10 parts by mass, more preferably 3 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the solvent.

本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー(東レエンジニアリング製)、SWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer)等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。   In order to perform in-line addition and mixing in the present invention, for example, an in-line mixer such as a static mixer (manufactured by Toray Engineering), SWJ (Toray static type in-tube mixer Hi-Mixer) or the like is preferably used.

〈セルロースエステルフィルムの製造方法〉
次に、本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
<Method for producing cellulose ester film>
Next, the manufacturing method of the cellulose ester film used for this invention is demonstrated.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。本発明では前述のように、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程のいずれかで鋳型を押し当て凹凸面を形成することが好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention was produced by dissolving a cellulose ester and an additive in a solvent to prepare a dope, casting a dope on a belt-shaped or drum-shaped metal support, and casting. It is carried out by a step of drying the dope as a web, a step of peeling from the metal support, a step of stretching or maintaining the width, a step of further drying, and a step of winding up the finished film. In the present invention, as described above, it is preferable to form a concavo-convex surface by pressing the mold in any of the step of peeling from the metal support, the step of stretching or maintaining the width, and the step of drying.

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃度が高い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減出来て好ましいが、セルロースエステルの濃度が高過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、10〜35質量%が好ましく、更に好ましくは、15〜25質量%である。   The process for preparing the dope will be described. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably higher because the drying load after casting on the metal support can be reduced. However, if the concentration of cellulose ester is too high, the load during filtration increases and the filtration accuracy increases. Becomes worse. As a density | concentration which makes these compatible, 10-35 mass% is preferable, More preferably, it is 15-25 mass%.

本発明のドープで用いられる溶剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が70〜98質量%であり、貧溶剤が2〜30質量%である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルのアシル基置換度によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースエステルの酢酸エステル(アセチル基置換度2.4)、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル(アセチル基置換度2.8)では貧溶剤となる。   The solvent used in the dope of the present invention may be used alone or in combination of two or more. However, it is preferable from the viewpoint of production efficiency that a good solvent and a poor solvent of cellulose ester are mixed and used. The more solvent is preferable from the viewpoint of solubility of the cellulose ester. The preferable range of the mixing ratio of the good solvent and the poor solvent is 70 to 98% by mass for the good solvent and 2 to 30% by mass for the poor solvent. With a good solvent and a poor solvent, what dissolve | melts the cellulose ester to be used independently is defined as a good solvent, and what poorly swells or does not melt | dissolve is defined as a poor solvent. Therefore, depending on the acyl group substitution degree of the cellulose ester, the good solvent and the poor solvent change. For example, when acetone is used as the solvent, the cellulose ester acetate ester (acetyl group substitution degree 2.4) and the cellulose acetate propionate are good. As a solvent, cellulose acetate (acetyl group substitution degree 2.8) is a poor solvent.

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。   Although the good solvent used for this invention is not specifically limited, Organic halogen compounds, such as a methylene chloride, dioxolanes, acetone, methyl acetate, methyl acetoacetate, etc. are mentioned. Particularly preferred is methylene chloride or methyl acetate.

また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、n−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が0.01〜2質量%含有していることが好ましい。   Moreover, although the poor solvent used for this invention is not specifically limited, For example, methanol, ethanol, n-butanol, cyclohexane, cyclohexanone, etc. are used preferably. Moreover, it is preferable that 0.01-2 mass% of water contains in dope.

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることが出来る。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱出来る。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。   A general method can be used as a method of dissolving the cellulose ester when preparing the dope described above. When heating and pressurization are combined, it is possible to heat above the boiling point at normal pressure. It is preferable to stir and dissolve while heating at a temperature that is equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal pressure and that the solvent does not boil under pressure, in order to prevent the generation of massive undissolved materials called gels and mamaco. Moreover, after mixing a cellulose ester with a poor solvent and making it wet or swell, the method of adding a good solvent and melt | dissolving is also used preferably.

加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。   The pressurization may be performed by a method of injecting an inert gas such as nitrogen gas or a method of increasing the vapor pressure of the solvent by heating. Heating is preferably performed from the outside. For example, a jacket type is preferable because temperature control is easy.

溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は45〜120℃であり、60〜110℃がより好ましく、70℃〜105℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。   The heating temperature with the addition of a solvent is preferably higher from the viewpoint of the solubility of the cellulose ester, but if the heating temperature is too high, the required pressure increases and the productivity deteriorates. A preferable heating temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 60 to 110 ° C, and still more preferably 70 ° C to 105 ° C. The pressure is adjusted so that the solvent does not boil at the set temperature.

若しくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることが出来る。   Alternatively, a cooling dissolution method is also preferably used, whereby the cellulose ester can be dissolved in a solvent such as methyl acetate.

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度0.008mm以下の濾材が好ましく、0.001〜0.008mmの濾材がより好ましく、0.003〜0.006mmの濾材が更に好ましい。   Next, this cellulose ester solution is filtered using a suitable filter medium such as filter paper. As the filter medium, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters and the like, but there is a problem that the filter medium is likely to be clogged if the absolute filtration accuracy is too small. For this reason, a filter medium with an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less is preferable, a filter medium with 0.001 to 0.008 mm is more preferable, and a filter medium with 0.003 to 0.006 mm is still more preferable.

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(R)等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。   The material of the filter medium is not particularly limited, and a normal filter medium can be used. However, a plastic filter medium such as polypropylene and Teflon (R) and a metal filter medium such as stainless steel are preferable because there is no loss of fibers. . It is preferable to remove and reduce impurities, particularly bright spot foreign matter, contained in the raw material cellulose ester by filtration.

輝点異物とは、2枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間にセルロースエステルフィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点(異物)のことであり、径が0.01mm以上である輝点数が200個/cm2以下であることが好ましい。より好ましくは100個/cm2以下であり、更に好ましくは50個/m2以下であり、更に好ましくは0〜10個/cm2以下である。また、0.01mm以下の輝点も少ない方が好ましい。 A bright spot foreign substance is when two polarizing plates are placed in a crossed Nicol state, a cellulose ester film is placed between them, light is applied from the side of one polarizing plate, and observed from the side of the other polarizing plate. It is a point (foreign matter) where light from the opposite side appears to leak, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more is preferably 200 / cm 2 or less. More preferably, it is 100 pieces / cm < 2 > or less, More preferably, it is 50 pieces / m < 2 > or less, More preferably, it is 0-10 pieces / cm < 2 > or less. Further, it is preferable that the number of bright spots of 0.01 mm or less is small.

ドープの濾過は通常の方法で行うことが出来るが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差(差圧という)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃であることが更に好ましい。   The dope can be filtered by an ordinary method, but the method of filtering while heating at a temperature not lower than the boiling point of the solvent at normal pressure and in a range where the solvent does not boil under pressure is the filtration pressure before and after filtration. The increase in the difference (referred to as differential pressure) is small and preferable. A preferred temperature is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C.

濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は1.6MPa以下であることが好ましく、1.2MPa以下であることがより好ましく、1.0MPa以下であることが更に好ましい。   A smaller filtration pressure is preferred. The filtration pressure is preferably 1.6 MPa or less, more preferably 1.2 MPa or less, and further preferably 1.0 MPa or less.

ここで、ドープの流延について説明する。   Here, the dope casting will be described.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mとすることが出来る。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The metal support in the casting (casting) step preferably has a mirror-finished surface, and a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used as the metal support. The cast width can be 1 to 4 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set to −50 ° C. to a temperature at which the solvent boils and does not foam. A higher temperature is preferable because the web can be dried faster, but if it is too high, the web may foam or flatness may deteriorate. The preferable support temperature is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method that the web is gelled by cooling and peeled from the drum in a state containing a large amount of residual solvent. The method for controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot air or cold air, and a method of contacting hot water with the back side of the metal support. It is preferable to use warm water because heat transfer is performed efficiently, so that the time until the temperature of the metal support becomes constant is short. When using warm air, considering the temperature drop of the web due to the latent heat of vaporization of the solvent, while using warm air above the boiling point of the solvent, there may be cases where wind at a temperature higher than the target temperature is used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to perform drying efficiently by changing the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from casting to peeling.

セルロースエステルフィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は10〜150質量%が好ましく、更に好ましくは20〜40質量%または60〜130質量%であり、特に好ましくは、20〜30質量%または70〜120質量%である。   In order for the cellulose ester film to exhibit good flatness, the residual solvent amount when peeling the web from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 20 to 40% by mass or 60 to 130% by mass. Especially preferably, it is 20-30 mass% or 70-120 mass%.

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。   In the present invention, the amount of residual solvent is defined by the following formula.

残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100
尚、Mはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、NはMを115℃で1時間の加熱後の質量である。
Residual solvent amount (% by mass) = {(MN) / N} × 100
M is the mass of a sample collected during or after the production of the web or film, and N is the mass after heating M at 115 ° C. for 1 hour.

フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式(上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式)やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。   In the film drying process, generally, a roll drying method (a method in which a plurality of rolls arranged on the upper and lower sides are alternately passed through and dried) or a method of drying while transporting the web by a tenter method is adopted.

本発明の防眩性反射防止フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが好ましい。縦方向、横方向ともに好ましい延伸倍率は1.05〜1.3倍であり、1.05〜1.15倍が更に好ましい。縦方向及び横方向延伸により面積が1.12倍〜1.44倍となっていることが好ましく、1.15倍〜1.32倍となっていることが好ましい。これは縦方向の延伸倍率×横方向の延伸倍率で求めることが出来る。   In order to produce the cellulose ester film for the antiglare and antireflection film of the present invention, the web is stretched in the conveying direction where the residual solvent amount of the web immediately after peeling from the metal support is large, and both ends of the web are clipped. It is preferable to perform stretching in the width direction by a tenter method gripped by. The preferred draw ratio in both the machine direction and the transverse direction is 1.05 to 1.3 times, and more preferably 1.05 to 1.15 times. It is preferable that the area is 1.12 times to 1.44 times, and preferably 1.15 times to 1.32 times due to longitudinal and lateral stretching. This can be determined by the draw ratio in the longitudinal direction × the draw ratio in the transverse direction.

剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力及びその後の搬送張力によって延伸することが好ましい。例えば剥離張力を210N/m以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは220〜300N/mである。   In order to stretch in the machine direction immediately after peeling, it is preferable to stretch by peeling tension and subsequent transport tension. For example, it is preferable to peel at a peeling tension of 210 N / m or more, and particularly preferably 220 to 300 N / m.

製膜工程で縦方向、横方向に延伸することによって、表層に添加した微粒子が露出し易くなり、その結果として良好な凹凸を形成する効果がある。   By stretching in the longitudinal direction and the lateral direction in the film forming step, the fine particles added to the surface layer are easily exposed, and as a result, there is an effect of forming favorable irregularities.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことが出来るが、簡便さの点で熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed with hot air, infrared rays, a heating roll, microwave, or the like, but it is preferably performed with hot air in terms of simplicity.

ウェブの乾燥工程における乾燥温度は30〜160℃で段階的に高くしていくことが好ましく、50〜140℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。   The drying temperature in the web drying step is preferably increased stepwise from 30 to 160 ° C., and more preferably from 50 to 140 ° C. in order to improve the dimensional stability.

セルロースエステルフィルムの膜厚は、特に限定はされないが10〜200μmが好ましく用いられる。特に10〜70μmの薄膜フィルムでは平面性と硬度に優れた防眩性反射防止フィルムを得ることが困難であったが、本発明によれば、平面性と硬度に優れた薄膜の防眩性反射防止フィルムが得られ、また生産性にも優れているため、セルロースエステルフィルムの膜厚は10〜70μmであることが特に好ましい。更に好ましくは20〜70μmである。最も好ましくは35〜70μmである。また、後述する共流延法によって多層構成としたセルロースエステルフィルムも好ましく用いることが出来る。セルロースエステルが多層構成の場合でも紫外線吸収剤と可塑剤を含有する層を有しており、それが基層、表層、若しくはその両方であってもよい。   Although the film thickness of a cellulose-ester film is not specifically limited, 10-200 micrometers is used preferably. In particular, it was difficult to obtain an antiglare antireflection film excellent in flatness and hardness with a thin film of 10 to 70 μm, but according to the present invention, the antiglare reflection of a thin film excellent in flatness and hardness was achieved. Since the prevention film is obtained and the productivity is also excellent, the film thickness of the cellulose ester film is particularly preferably 10 to 70 μm. More preferably, it is 20-70 micrometers. Most preferably, it is 35-70 micrometers. Moreover, the cellulose-ester film made into the multilayer structure by the co-casting method mentioned later can also be used preferably. Even when the cellulose ester has a multilayer structure, it has a layer containing an ultraviolet absorber and a plasticizer, and it may be a base layer, a surface layer, or both.

セルロースエステルフィルムの膜厚の変動は幅方向、長手方向とも±3%以内が好ましく、更に好ましくは±2%以内であり、特に好ましくは±0.5%以内である。   The variation of the film thickness of the cellulose ester film is preferably within ± 3% in both the width direction and the longitudinal direction, more preferably within ± 2%, and particularly preferably within ± 0.5%.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、幅1〜4mのものが好ましく用いられる。   The antiglare antireflection film of the present invention preferably has a width of 1 to 4 m.

〈物性〉
本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの透湿度は、40℃、90%RHで850g/m2・24h以下であり、好ましくは20〜800g/m2・24hであり、20〜750g/m2・24hであることが特に好ましい。透湿度はJIS Z 0208に記載の方法に従い測定することが出来る。
<Physical properties>
The moisture permeability of the cellulose ester film used in the present invention, 40 ° C., or less 850g / m 2 · 24h at 90% RH, preferably 20~800g / m 2 · 24h, 20~750g / m 2 · 24 h is particularly preferable. The moisture permeability can be measured according to the method described in JIS Z 0208.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムは下記測定による破断伸度は10〜80%であることが好ましく20〜50%であることが更に好ましい。   The cellulose ester film used in the present invention has a breaking elongation measured by the following measurement of preferably 10 to 80%, more preferably 20 to 50%.

(破断点伸度の測定)
任意の残留溶媒を含むフィルムを試料幅を10mm、長さ130mmに切り出し、23℃、55%RHで24時間保管した試料を、チャック間距離100mmにして引っ張り速度100mm/分で引っ張り試験を行い求めることが出来る。
(Measurement of elongation at break)
A film containing an arbitrary residual solvent is cut into a sample width of 10 mm and a length of 130 mm, and stored for 24 hours at 23 ° C. and 55% RH, and a tensile test is performed at a pulling speed of 100 mm / min with a chuck distance of 100 mm. I can do it.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの下記測定による可視光透過率は90%以上であることが好ましく、93%以上であることが更に好ましい。   The visible light transmittance of the cellulose ester film used in the present invention as measured by the following measurement is preferably 90% or more, and more preferably 93% or more.

(透過率の測定)
透過率Tは、分光高度計U−3400(日立製作所(株))を用い、各試料を350〜700nmの波長領域で10nmおきに求めた分光透過率τ(λ)から、380、400、500nmの透過率を算出することが出来る。
(Measurement of transmittance)
Transmittance T is 380, 400, 500 nm from spectral transmittance τ (λ) obtained every 10 nm in a wavelength region of 350-700 nm using a spectral altimeter U-3400 (Hitachi, Ltd.). Transmittance can be calculated.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの下記測定によるヘイズは1〜25%が好ましく、更に好ましくは2〜15%であり、特に好ましくは2〜10%である。可視光の透過率は90%以上が好ましく、より好ましく92%以上であり、更に94%以上であることが好ましい。   As for the haze by the following measurement of the cellulose-ester film used for this invention, 1-25% is preferable, More preferably, it is 2-15%, Most preferably, it is 2-10%. The visible light transmittance is preferably 90% or more, more preferably 92% or more, and further preferably 94% or more.

(ヘイズ値の測定)
JIS K−6714に従って、ヘイズメーター(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定し、透明性の指標とすることが出来る。
(Measurement of haze value)
According to JIS K-6714, it can be measured using a haze meter (1001DP type, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) and can be used as an index of transparency.

本発明に用いられるセルロースエステルフィルムの面内レターデーション値(Ro)が0〜70nm以下であることが好ましい。より好ましくは0〜30nm以下であリ、より好ましくは0〜10nm以下である。膜厚方向のレターデーション値(Rt)は、0〜400nmであることが好ましく、10〜200nmであることが好ましく、更に30〜150nmであることが好ましい。   The in-plane retardation value (Ro) of the cellulose ester film used in the present invention is preferably 0 to 70 nm or less. More preferably, it is 0-30 nm or less, More preferably, it is 0-10 nm or less. The retardation value (Rt) in the film thickness direction is preferably 0 to 400 nm, preferably 10 to 200 nm, and more preferably 30 to 150 nm.

レターデーション値(Ro)(Rt)は以下の式によって求めることが出来る。   The retardation value (Ro) (Rt) can be obtained by the following equation.

Ro=(nx−ny)×d
Rt=((nx+ny)/2−nz)×d
ここにおいて、dはフィルムの厚み(nm)、屈折率nx(フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう)、ny(フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率)、nz(厚み方向におけるフィルムの屈折率)である。
Ro = (nx−ny) × d
Rt = ((nx + ny) / 2−nz) × d
Here, d is the thickness (nm) of the film, the refractive index nx (also referred to as the maximum refractive index in the plane of the film, the refractive index in the slow axis direction), ny (in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane). ) (Refractive index of film in the thickness direction).

尚、レターデーション値(Ro)、(Rt)、遅相軸角度は自動複屈折率計を用いて測定することが出来る。例えば、KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、23℃、55%RHの環境下で、波長が590nmで求めることが出来る。   The retardation values (Ro) and (Rt) and the slow axis angle can be measured using an automatic birefringence meter. For example, the wavelength can be obtained at 590 nm in an environment of 23 ° C. and 55% RH using KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).

また、遅相軸はフィルムの幅手方向±1°若しくは長尺方向±1°にあることが好ましい。   The slow axis is preferably in the width direction ± 1 ° of the film or in the longitudinal direction ± 1 °.

本発明では、共流延または逐次流延若しくは塗布によって基材フィルムが複数の層(基層と表層)から構成され、表層に微粒子を含有して凹凸面を形成しその上に活性線硬化樹脂層を形成する際に、表層が基層よりもガラス転移温度の低い層であることが好ましい。   In the present invention, the base film is composed of a plurality of layers (base layer and surface layer) by co-casting or sequential casting or coating, and the surface layer contains fine particles to form an uneven surface, on which an active ray curable resin layer is formed. When forming the surface layer, the surface layer is preferably a layer having a glass transition temperature lower than that of the base layer.

熱可塑性樹脂が凹凸を有することで屈曲による微細なクラックが防止される。ガラス転移温度が低いとその効果に優れ、微粒子を含んでいる場合は更に効果的である。   Since the thermoplastic resin has irregularities, fine cracks due to bending are prevented. If the glass transition temperature is low, the effect is excellent, and it is more effective when it contains fine particles.

前記したように、表層のガラス転移温度を基層のガラス転移温度よりも低くする方法としては、可塑剤の種類、添加比率、添加量を変更することが挙げられる。好ましくは可塑剤含有量を増やすことであり、内部に対して1.1倍から3倍の含有量とすることが好ましい。また別の方法としては、表層にガラス転移温度が低い熱可塑性樹脂層を設けることである。セルロースエステルフィルムの場合は、数平均分子量が基層より小さいもの、或いは総アシル基置換度が低いものを使用することが好ましい。   As described above, the method for lowering the glass transition temperature of the surface layer to be lower than the glass transition temperature of the base layer includes changing the type, addition ratio, and addition amount of the plasticizer. Preferably, the plasticizer content is increased, and the content is preferably 1.1 to 3 times the content of the inside. As another method, a thermoplastic resin layer having a low glass transition temperature is provided on the surface layer. In the case of a cellulose ester film, it is preferable to use a film having a number average molecular weight smaller than that of the base layer or a film having a low total acyl group substitution degree.

本発明では多層構成の場合、上記説明のセルロースエステルを含む層を基層とし、以下説明する層を表層とすることが好ましい。表層に用いられる樹脂としては、特に限定されず、アクリル樹脂、ポリエステル、セルロースエステル等が好ましい例として挙げられる。   In the present invention, in the case of a multilayer structure, the layer containing the cellulose ester described above is preferably used as the base layer, and the layer described below is preferably used as the surface layer. It does not specifically limit as resin used for a surface layer, An acrylic resin, polyester, a cellulose ester etc. are mentioned as a preferable example.

〔表層〕
本発明に係るセルロースエステルを有する表層について説明する。
[Surface]
The surface layer having the cellulose ester according to the present invention will be described.

本発明に係るセルロースエステルフィルムは、膜厚が0.1〜15μmで、セルロースエステルフィルムの総アシル基置換度の平均よりも低い表層を設けることが好ましい。表層の総アシル基置換度に制限はないが、特に総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを有する少なくとも一層の表層を基層上に設け、多層構成のセルロースエステルフィルムにすることが好ましい。   The cellulose ester film according to the present invention preferably has a surface layer having a thickness of 0.1 to 15 μm and lower than the average of the total acyl group substitution degree of the cellulose ester film. Although there is no restriction | limiting in the total acyl group substitution degree of a surface layer, It is preferable to provide at least one surface layer which has a cellulose ester whose total acyl group substitution degree is 2.7 or less especially on a base layer, and to make a cellulose-ester film of a multilayer structure. .

本発明者は、総アシル基置換度が2.7以下のセルロースエステルを表層に用いることにより、より凹凸面形成が容易であることを見出したものである。   The present inventor has found that the formation of an uneven surface is easier by using a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 2.7 or less as a surface layer.

本発明では、表層に用いられるセルロースエステルの総アシル基置換度は2.7以下であることが好ましく、より好ましくは1.9〜2.7の範囲である。総アシル基置換度がこの範囲のセルロースエステルとしては、基層に用いられるセルロースエステルと同様のものが用いられるが、好ましくは、セルロースジアセテートまたはセルロースアセテートプロピオネートである。総アシル基置換度の調整は前記した通りセルロースエステルのエステル化条件(温度、時間、攪拌)、加水分解条件を調整することによって行える。   In this invention, it is preferable that the total acyl group substitution degree of the cellulose ester used for surface layer is 2.7 or less, More preferably, it is the range of 1.9-2.7. As the cellulose ester having a total acyl group substitution degree in this range, those similar to the cellulose ester used in the base layer are used, and cellulose diacetate or cellulose acetate propionate is preferable. The total acyl group substitution degree can be adjusted by adjusting the esterification conditions (temperature, time, stirring) and hydrolysis conditions of the cellulose ester as described above.

層構成は2層以上あればよく、表層または基層の中でも複数層あってもよい。好ましくは3層で表層2層と基層1層が好ましく、本発明の優れた防眩性反射防止フィルムを作製するに3層あれば十分効果を上げることが出来好ましい。   The layer configuration may be two or more, and a plurality of layers may be included in the surface layer or the base layer. Preferably, three layers are preferred, two surface layers and one base layer, and three layers are preferred because the effect can be sufficiently improved to produce an excellent antiglare antireflection film of the present invention.

表層の一層当たりの膜厚は0.1〜15μmの範囲であり、本発明の効果を得る上では0.5〜15μmの範囲であることが好ましく、1〜10μmの範囲であることがより好ましく、5〜10μmであることが特に好ましい。表層が複数層である場合は、層の膜厚は同一でも異なっていてもよい。   The film thickness per surface layer is in the range of 0.1 to 15 μm, and in order to obtain the effects of the present invention, it is preferably in the range of 0.5 to 15 μm, and more preferably in the range of 1 to 10 μm. It is especially preferable that it is 5-10 micrometers. When the surface layer is a plurality of layers, the thicknesses of the layers may be the same or different.

表層には、前述の微粒子を含むことが好ましい。特に、フィルム全体の平均微粒子含有量よりも表層に含まれる微粒子の含有量を多くすることが、本発明の効果を高める上で好ましい。微粒子としては、前記微粒子が好ましく用いられる。   The surface layer preferably contains the aforementioned fine particles. In particular, it is preferable to increase the content of fine particles contained in the surface layer rather than the average fine particle content of the entire film in order to enhance the effect of the present invention. The fine particles are preferably used as the fine particles.

本発明に係る表層は可塑剤を含有することが好ましい。可塑剤は前記基層に用いられる可塑剤を使用出来る。可塑剤の含有量は、多層構成のセルロースエステルフィルム中の平均可塑剤含有量よりも多く含まれていることが好ましい。   The surface layer according to the present invention preferably contains a plasticizer. As the plasticizer, a plasticizer used for the base layer can be used. The plasticizer content is preferably greater than the average plasticizer content in the multilayered cellulose ester film.

特に凹凸形成面の表層はガラス転移温度が低い組成であることが好ましく、可塑剤含有量が多い或いはガラス転移温度が低い樹脂を用いることが好ましい。   In particular, the surface layer on the uneven surface is preferably a composition having a low glass transition temperature, and a resin having a high plasticizer content or a low glass transition temperature is preferably used.

本発明のセルロースエステル類のガラス転移温度(Tg)の測定は、フィルムあるいはペレット(もしくは該当する層を削り採った破片)10mgを、毎分300cm3の窒素気流中、300℃で溶融し、直ちに液体窒素中で急冷する。この急冷サンプルを示差走査型熱量計(理学電器社製、DSC8230型)にセットし、毎分100ccの窒素気流中、毎分10℃の昇温速度で昇温し、TgおよびTmを検出する。Tgはベースラインが偏奇し始める温度と、新たにベースラインに戻る温度との平均値、Tmはその吸熱ピークのピーク温度とした。なお、測定開始温度は、測定されるTgより50℃以上低い温度とする。 The glass transition temperature (Tg) of the cellulose ester of the present invention is measured by melting 10 mg of a film or pellet (or a fragment obtained by scraping off the corresponding layer) at 300 ° C. in a nitrogen stream of 300 cm 3 / min. Quench in liquid nitrogen. The rapidly cooled sample is set in a differential scanning calorimeter (manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd., DSC8230 type), heated in a nitrogen stream of 100 cc per minute at a heating rate of 10 ° C., and Tg and Tm are detected. Tg is the average value of the temperature at which the baseline begins to deviate and the temperature at which the baseline returns to the baseline, and Tm is the peak temperature of the endothermic peak. Note that the measurement start temperature is 50 ° C. or more lower than the measured Tg.

表層をガラス転移温度が低い組成にするには、セルロースエステルの場合は総アシル基の置換度が低いことが好ましく、総アシル基置換度が0.1以上低いセルロースエステルを表層に用いることが望ましい。例えば、基層がセルローストリアセテートの場合、表層にセルロースジアセテートが好ましく用いられる。或いはセルロース混合カルボン酸エステルもガラス転移温度が低くなるため好ましく用いられ、例えば基層がセルローストリアセテートの場合、表層にセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等が好ましく用いられる。この他、セルロースエステル以外のガラス転移温度が低い熱可塑性樹脂、例えばアクリル樹脂等を表層に用いることも出来る。   In order to make the surface layer have a composition having a low glass transition temperature, in the case of a cellulose ester, it is preferable that the substitution degree of the total acyl group is low, and it is desirable to use a cellulose ester having a total acyl group substitution degree of 0.1 or more lower for the surface layer. . For example, when the base layer is cellulose triacetate, cellulose diacetate is preferably used for the surface layer. Alternatively, cellulose mixed carboxylic acid ester is also preferably used because of its low glass transition temperature. For example, when the base layer is cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate or the like is preferably used for the surface layer. In addition, a thermoplastic resin having a low glass transition temperature other than cellulose ester, such as an acrylic resin, can be used for the surface layer.

更に表層には、前記紫外線吸収剤、染料、有機溶媒等の添加剤を含有させてもよい。   Further, the surface layer may contain additives such as the ultraviolet absorber, dye, and organic solvent.

〔多層構成のセルロースエステルフィルム〕
本発明に係る多層構成のセルロースエステルフィルムは、表層用ドープと基層用ドープの組成(樹脂の種類、添加剤の組成、添加量等)を異にして共流延法または逐次流延法によって形成して得られるものであることが好ましい。共流延法は品質的に均一性に優れ、また逐次流延は製膜速度が速く生産性に優れている。本発明では、凹凸面の精度や平面性対して特に基材フィルムの平面性に精度が求められるため、共流延法で形成されることが好ましい。
[Multilayer cellulose ester film]
The cellulose ester film having a multilayer structure according to the present invention is formed by a co-casting method or a sequential casting method with different compositions of the surface layer dope and the base layer dope (type of resin, composition of additive, added amount, etc.). It is preferable that it is obtained. The co-casting method has excellent quality uniformity, and the sequential casting has a high film forming speed and excellent productivity. In the present invention, since accuracy is required particularly for the flatness of the base film in relation to the accuracy and flatness of the uneven surface, it is preferably formed by a co-casting method.

[多層構成のセルロースエステルフィルムの製造]
本発明の活性線硬化樹脂フィルムに有用な多層構成のセルロースエステルフィルムの層構成は、前述のように基層と少なくとも1層の表層を有する多層構成のフィルムであり、多層構成が3層以上とすることも出来るが、基層の両面に表層を1層ずつ有する3層構成がより好ましい。
[Manufacture of cellulose ester film of multilayer structure]
The layer structure of the cellulose ester film having a multilayer structure useful for the actinic radiation curable resin film of the present invention is a film having a multilayer structure having a base layer and at least one surface layer as described above, and the multilayer structure has three or more layers. However, a three-layer structure having one surface layer on each side of the base layer is more preferable.

以下、多層構成のセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the cellulose-ester film of a multilayer structure is demonstrated.

図1は3層構成のフィルムの断面を模式的に示したものであり、図中1と3は表層、また2は基層を示している。   FIG. 1 schematically shows a cross section of a film having a three-layer structure, in which 1 and 3 are surface layers, and 2 is a base layer.

〔共流延と逐次流延〕
本発明における多層構成のセルロースエステルフィルムは、好ましくは溶液流延製膜過程において、共流延または逐次流延によりドープを多層に積層して得られるものである。
[Co-casting and sequential casting]
The multilayered cellulose ester film in the present invention is preferably obtained by laminating a dope in multiple layers by co-casting or sequential casting in a solution casting film forming process.

図2は共流延ダイ及び流延して多層構成ウェブ(流延直後はウェブをドープ膜ともいうことがある)を形成したところを表した図である。共流延は図2に示しすように、共流延ダイ10の口金部分11に複数のスリット(図2では三つ、表層用スリット13と15、基層用スリット14)を有しており、金属支持体16の上に同時にそれぞれのスリットから表層用ドープ17、基層用ドープ18、及び表層用ドープ19を流延することにより、表層21/基層22/表層23の多層構成のウェブ20を形成する。   FIG. 2 is a diagram showing a co-casting die and cast to form a multi-layered web (the web may also be referred to as a dope film immediately after casting). As shown in FIG. 2, the co-casting has a plurality of slits (three in FIG. 2, surface slits 13 and 15, and base layer slit 14) in the die portion 11 of the co-casting die 10. A web 20 having a multilayer structure of surface layer 21 / base layer 22 / surface layer 23 is formed on the metal support 16 by casting the surface layer dope 17, the base layer dope 18, and the surface layer dope 19 simultaneously from the respective slits. To do.

図3は逐次流延ダイ及び流延された多層構成のウェブを表した図である。逐次流延は、図3に示すように、金属支持体16の上方に複数(図26では三つ)の表層用流延ダイ30、基層用ダイ31及び表層用流延ダイ32を異なった場所に順に設置し、最初に表層用ダイ30から片方の表層となる表層用ドープ33が流延されて表層ドープ膜36を金属支持体16上に形成し、次に基層用ドープ34が基層用ダイ31から表層ドープ膜36の上に基層ドープ膜37を形成し、更に次の表層用ダイ32から表層用ドープ35を流延して表層ドープ膜38を形成することにより、表層/基層/表層の多層構成ウェブ39を形成する。   FIG. 3 is a view showing a sequential casting die and a web having a multilayer structure. As shown in FIG. 3, the sequential casting is performed by placing a plurality of (three in FIG. 26) surface layer casting dies 30, base layer dies 31 and surface layer casting dies 32 above the metal support 16 at different locations. First, a surface layer dope 33 which is one surface layer is cast from the surface layer die 30 to form a surface layer doped film 36 on the metal support 16, and then the base layer dope 34 is formed on the base layer die. A base layer dope film 37 is formed on the surface layer dope film 36 from the surface layer 31, and a surface layer dope 35 is cast from the next surface layer die 32 to form a surface layer dope film 38, whereby the surface layer / base layer / surface layer A multilayer construction web 39 is formed.

図4は別のタイプの共流延ダイの断面を示した図である。本体中で3層が合流する共流延ダイ50は、基層用のスリット52、表層用のスリット51と53中にそれぞれ、基層用ドープ56、表層用ドープ55と57が導入されており、それが合流スリット58で合流し、層流をなしてスリット54を通過し、金属支持体16の上に3層揃って流延する様式のものである。   FIG. 4 is a view showing a cross section of another type of co-casting die. In the co-casting die 50 in which three layers are joined in the main body, the base layer dope 56 and the surface layer dopes 55 and 57 are introduced into the base layer slit 52 and the surface layer slits 51 and 53, respectively. Are merged at the merging slit 58, pass through the slit 54 in a laminar flow, and are cast in three layers on the metal support 16.

図2、3及び4で示したような多層構成ウェブの表層が基層より幅広く、基層ウェブを表層ウェブが包み込むように流延するのが好ましい。   It is preferred to cast the multi-layer web as shown in FIGS. 2, 3 and 4 so that the surface layer is wider than the base layer and the base web is wrapped by the surface web.

〔溶液流延製膜法〕
本発明のセルロースエステルフィルムは、溶液流延製膜法により好ましく製膜される。ここで、本発明に係わる溶液流延製膜方法について図を用いて説明する。
[Solution casting film forming method]
The cellulose ester film of the present invention is preferably formed by a solution casting film forming method. Here, the solution casting film forming method according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図5は本発明に係わる溶液流延製膜装置のドープ調製工程を模式的に示した図である。   FIG. 5 is a view schematically showing a dope preparation process of the solution casting film forming apparatus according to the present invention.

図6は、本発明に係わる溶液流延製膜装置の流延工程から乾燥工程までを模式的に示した図である。   FIG. 6 is a diagram schematically showing from the casting process to the drying process of the solution casting film forming apparatus according to the present invention.

以下の工程は3層共流延を例として、代表的な工程を説明する。   The following processes will be described with reference to the three-layer co-casting as an example.

(1)セルロースエステル溶液調製工程:
図5の紙面上側のドープ調製工程は基層用のものであり、紙面下側のドープ調製工程は表層用のものである。
(1) Cellulose ester solution preparation process:
The dope preparation step on the upper side of the paper in FIG. 5 is for the base layer, and the dope preparation step on the lower side of the paper is for the surface layer.

前述のセルロースエステルに対する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜101中でセルロースエステル、原料の一部として再利用するフィルムの破砕片や可塑剤等の添加剤を攪拌しながら溶解し、セルロースエステル溶液100を形成する工程である。溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う高温溶解方法、冷却して溶解する冷却溶解方法、かなりの高圧で行う高圧溶解方法等種々の溶解方法があるが、本発明においては、高温溶解方法が好ましく用いられる。溶解後セルロースエステル溶液100を送液ポンプ102で濾過器103(フィルタープレス型)で濾過し、ストックタンク104で静置して脱泡し、流延のために送液ポンプ105(加圧型定量ギヤポンプ等が多く用いられる)で溶液を移送し、濾過器106を経て紫外線吸収剤を含有するインライン添加液110と合流する合流管120で混合するために導管108で移送する。基層に使用するドープが、可塑剤及び紫外線吸収剤を含有しているセルロースエステル溶液100の場合には、濾過器106を経た後は流延ダイに直送してもよい。   Cellulose ester is dissolved in an organic solvent mainly composed of a good solvent for cellulose ester while stirring the cellulose ester and additives such as a crushed piece of a film to be reused as part of the raw material and a plasticizer in stirring vessel 101. In this step, the solution 100 is formed. For dissolution, a method performed at normal pressure, a method performed below the boiling point of the main solvent, a high-temperature dissolution method performed by pressurization above the boiling point of the main solvent, a cooling dissolution method performed by cooling and a high-pressure dissolution method performed at a considerably high pressure However, in the present invention, the high temperature dissolution method is preferably used. After dissolution, the cellulose ester solution 100 is filtered by a liquid feed pump 102 through a filter 103 (filter press type), left standing in a stock tank 104 and defoamed, and a liquid feed pump 105 (pressure type metering gear pump) for casting. Etc. are often used), and are transferred by a conduit 108 for mixing in a merge tube 120 that merges with an in-line additive solution 110 containing an ultraviolet absorber via a filter 106. When the dope used for the base layer is a cellulose ester solution 100 containing a plasticizer and an ultraviolet absorber, the dope may be sent directly to the casting die after passing through the filter 106.

紫外線吸収剤等の添加剤(マット剤以外)を含有するインライン添加液110を、用いる場合には、111〜117で示されるラインで調製し送液する。溶解釜111で添加剤とセルロースエステルを有機溶媒に溶解したインライン添加液をポンプ112で送り、フィルター113で濾過し、必要に応じて切り替え弁119を通して溶解釜111に戻して循環させてもよいが、そのままストックタンク114に貯蔵してもよい。ポンプ115、濾過器116を経て導管117を通して送液する。   When using the in-line additive liquid 110 containing additives (other than a matting agent) such as an ultraviolet absorber, the liquid is prepared and fed through lines indicated by 111 to 117. The in-line additive solution obtained by dissolving the additive and cellulose ester in the organic solvent in the dissolution vessel 111 may be sent by the pump 112, filtered by the filter 113, and returned to the dissolution vessel 111 through the switching valve 119 and circulated as necessary. Alternatively, it may be stored in the stock tank 114 as it is. The liquid is fed through the conduit 117 via the pump 115 and the filter 116.

ここで、濾過について説明する。このセルロースエステル溶液をフィルタープレス用の濾紙などの適当な濾材を用いて濾過する。本発明における濾過材としては、不溶物などを除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題点があり、絶対濾過精度8μm以下の濾材が好ましく、1〜8μmの範囲の濾材がより好ましく、3〜6μmの範囲の濾材が更に好ましい。濾紙としては、例えば市販品の安積濾紙(株)のNo.244や277などを挙げることが出来、好ましく用いられる。更に濾過の濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することが出来るが、ポリプロピレン、テフロン(R)等のプラスチック製の濾材やステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過は通常の方法で行うことが出来るが、加圧下で、使用有機溶媒の常圧での沸点以上で、かつ有機溶媒が沸騰しない範囲の温度で加熱または保温しながら濾過する方法が、濾過材前後の差圧(以下、濾圧とすることがある)の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度範囲は使用有機溶媒に依存するが、45〜120℃であり、45〜70℃がより好ましく、45〜55℃の範囲であることが更に好ましい。濾圧は小さい方が好ましく、0.3〜1.6MPaであることが好ましく、0.3〜1.2MPaであることがより好ましく、0.3〜1.0MPaであることが更に好ましい。尚、予め溶解釜101内で紫外線吸収剤をセルロースエステル溶液に添加してもよい。   Here, filtration will be described. The cellulose ester solution is filtered using an appropriate filter medium such as filter paper for filter press. As the filter medium in the present invention, it is preferable that the absolute filtration accuracy is small in order to remove insoluble matters, etc., but if the absolute filtration accuracy is too small, there is a problem that the filter medium is likely to be clogged. Filter media with an accuracy of 8 μm or less are preferred, filter media in the range of 1-8 μm are more preferred, and filter media in the range of 3-6 μm are even more preferred. Examples of filter paper include No. of Azumi Filter Paper Co., Ltd., a commercially available product. 244 and 277 can be mentioned and are preferably used. Further, the material of the filter medium for filtration is not particularly limited, and a normal filter medium can be used. However, a plastic filter medium such as polypropylene or Teflon (R) or a metal filter medium such as stainless steel may cause the fibers to fall off. Less preferred. Filtration can be performed by a normal method, but the method of filtering while heating or keeping the temperature at a temperature in a range not lower than the boiling point of the organic solvent used under normal pressure and in a range where the organic solvent does not boil is a filter medium. The increase in differential pressure before and after (hereinafter sometimes referred to as filtration pressure) is small and preferable. The preferred temperature range depends on the organic solvent used, but is 45 to 120 ° C, more preferably 45 to 70 ° C, and still more preferably 45 to 55 ° C. The filtration pressure is preferably as small as possible, preferably 0.3 to 1.6 MPa, more preferably 0.3 to 1.2 MPa, and still more preferably 0.3 to 1.0 MPa. In addition, you may add an ultraviolet absorber to a cellulose-ester solution in the dissolution pot 101 previously.

(2)微粒子を含有するインライン添加液の調製工程
ここでは、表層用のドープに使用する微粒子分散液を含有するインライン添加液について説明する。セルロースエステル溶液に使用する低級アルコール等の有機溶媒、後述の樹脂及び後述のマット剤微粒子を含有する微粒子分散液の調製方法は、十分に液中に均一に分散することが出来る方法であれば特に制限ないが、次の方法が好ましい。
(2) Preparation Step of Inline Additive Solution Containing Fine Particles Here, the inline additive solution containing the fine particle dispersion used for the surface layer dope will be described. The preparation method of the fine particle dispersion containing the organic solvent such as lower alcohol used for the cellulose ester solution, the resin described later and the matting agent fine particle described later is particularly suitable if it can be sufficiently uniformly dispersed in the liquid. Although there is no limitation, the following method is preferable.

図5(図5の紙面最も下側)において、微粒子を含有するインライン添加液110Aは、溶解・分散釜111A中で有機溶媒にセルロースエステルを攪拌溶解してセルロースエステル溶液とし、このセルロースエステル溶液に、別にマントンゴーリーン、サンドミル等の分散機(図示していない)で分散した微粒子分散液を加える。ここで、十分攪拌し分散を安定化させ微粒子を含有するインライン添加液110Aとする。このインライン添加液110Aを送液ポンプ112Aで濾過器113Aを通して、必要に応じて、切り替え弁119Aを経て、溶解・分散釜110Aに送って凝集物を除くために何回か同様な操作を繰り返し循環させてもよい。その後、切り替え弁119Aを切り替え、インライン添加液110Aをストックタンク114Aに一時移送して静置脱泡後、送液ポンプ115A(例えば加圧型定量ギヤポンプ)で移送し、濾過器116Aで濾過して導管117Aを経て移送する。また、ストックタンク114Aで静置することなく、送液ポンプ115A、濾過器116A、導管117Aを経て送液してもよい。また、表層が表側と裏側で異なる組成とする場合は、150Aで示したものと同様の調液工程を別に設けることが出来る。   In FIG. 5 (bottom of the paper surface of FIG. 5), the in-line additive liquid 110A containing fine particles is a cellulose ester solution obtained by stirring and dissolving a cellulose ester in an organic solvent in a dissolution / dispersion vessel 111A. Separately, a fine particle dispersion dispersed with a disperser (not shown) such as Menton Goleen or Sand Mill is added. Here, the in-line additive solution 110A containing fine particles is obtained by sufficiently stirring and stabilizing the dispersion. This in-line additive liquid 110A is circulated through a filter 113A with a liquid feed pump 112A, and if necessary, through a switching valve 119A and sent to the dissolution / dispersion kettle 110A to repeatedly remove the same operation several times. You may let them. Thereafter, the switching valve 119A is switched, the in-line additive liquid 110A is temporarily transferred to the stock tank 114A, and after stationary deaeration, transferred by a liquid feed pump 115A (for example, a pressurized metering gear pump), filtered by a filter 116A, and a conduit. Transfer via 117A. Further, the liquid may be fed through the liquid feed pump 115A, the filter 116A, and the conduit 117A without being left in the stock tank 114A. When the surface layer has different compositions on the front side and the back side, a liquid preparation step similar to that shown for 150A can be provided separately.

尚、図5の表層用のセルロースエステル溶液100Aを調製する工程は、101A〜108Aのラインで、上述のセルロースエステル溶液100の101〜108ラインと同様である。101A〜108Aは101〜108に対応している。セルロースエステル溶液100Aと微粒子インライン添加液110Aを合流点120Aで合流させる。   In addition, the process of preparing the cellulose ester solution 100A for surface layer of FIG. 5 is the same as the 101-108 line of the above-mentioned cellulose ester solution 100 in the 101A-108A line. 101A to 108A correspond to 101 to 108. The cellulose ester solution 100A and the fine particle in-line additive solution 110A are merged at the merge point 120A.

尚、101〜108のラインと101A〜108Aのラインを共通として、セルロースエステル100を基層用と表層用にそれぞれ送液して使用することも出来る。   Note that the cellulose ester 100 can be used for the base layer and the surface layer by using the 101-108 line and the 101A-108A line in common.

本発明に係る微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば以下に示すような3種類を挙げることが出来る。   Examples of the method for preparing the fine particle dispersion according to the present invention include the following three types.

(調製方法A)
有機溶媒と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行う。これを微粒子の分散液とする。
(Preparation method A)
After stirring and mixing the organic solvent and the fine particles, dispersion is performed with a disperser. This is a fine particle dispersion.

(調製方法B)
有機溶媒と微粒子を攪拌混合した後、分散機で分散を行い、微粒子の分散液とする。別に有機溶媒に少量の樹脂(微粒子に対して分散性がよく、液に適度に粘性を与えるもので、かつセルロースエステルと相溶性のある樹脂、またはセルロースエステル)を加え、攪拌溶解した樹脂溶液を用意する。これに前記微粒子分散液を加えて攪拌し、十分分散し、微粒子の分散液とする。
(Preparation method B)
After stirring and mixing the organic solvent and the fine particles, dispersion is performed with a disperser to obtain a fine particle dispersion. Separately, add a small amount of resin (resin with good dispersibility to fine particles and moderate viscosity to the liquid, and compatible with cellulose ester or cellulose ester) to an organic solvent, and stir and dissolve the resin solution. prepare. The fine particle dispersion is added to this, stirred and sufficiently dispersed to obtain a fine particle dispersion.

(調製方法C)
有機溶媒に少量の樹脂(微粒子に対して分散性がよく、かつセルロースエステルと相溶性のある樹脂、またはセルロースエステル)を加え、攪拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で十分に分散をし、微粒子の分散液とする。
(Preparation method C)
A small amount of resin (a resin having good dispersibility with respect to fine particles and compatible with cellulose ester or cellulose ester) is added to an organic solvent, and dissolved by stirring. Fine particles are added to this and sufficiently dispersed with a disperser to obtain a fine particle dispersion.

調製方法Aは二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Cは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点に優れている。調製方法Bは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい等、両方に優れている好ましい調製方法である。   Preparation method A is excellent in dispersibility of silicon dioxide fine particles, and preparation method C is excellent in that the silicon dioxide fine particles are difficult to reaggregate. The preparation method B is a preferable preparation method that is excellent in both dispersibility of the silicon dioxide fine particles and difficulty in reaggregation of the silicon dioxide fine particles.

調製方法A〜Cで分散調製した微粒子の分散液を含有するインライン添加液をセルロースエステル溶液に加えて攪拌しドープとするが、インライン添加液110Aとセルロースエステル溶液100Aをインラインミキサー121Aで合流させて十分混合して微粒子を含有するドープとするのが好ましい。この微粒子を含有するドープに紫外線吸収剤を含有させてもよく、この場合セルロースエステル溶液に添加するのが好ましい。   The in-line additive solution containing the fine particle dispersion prepared by the preparation methods A to C is added to the cellulose ester solution and stirred to form a dope, but the in-line additive solution 110A and the cellulose ester solution 100A are joined by the in-line mixer 121A. It is preferable to mix well to obtain a dope containing fine particles. The dope containing the fine particles may contain an ultraviolet absorber, and in this case, it is preferably added to the cellulose ester solution.

上記調製方法において、二酸化珪素微粒子を有機溶媒と混合して分散する時の二酸化珪素の濃度は5〜30質量%が好ましく、10〜25質量%がより好ましく、15〜20質量%が更に好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、得られるフィルムのヘイズが低く、凝集物がなく好ましい。   In the above preparation method, the concentration of silicon dioxide when the silicon dioxide fine particles are mixed with an organic solvent and dispersed is preferably 5 to 30% by mass, more preferably 10 to 25% by mass, and still more preferably 15 to 20% by mass. The higher the dispersion concentration, the lower the liquid turbidity with respect to the amount added, and the lower the haze of the film obtained, and there is no aggregate, which is preferable.

使用する有機溶媒は、ドープに使用する有機溶媒を用いることが好ましいが、特に限定はない。ドープに使用する低級アルコール類としては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等を挙げることが出来るが、特にエタノールが好ましい。   The organic solvent used is preferably the organic solvent used for the dope, but is not particularly limited. Examples of lower alcohols used for the dope include methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol and the like, and ethanol is particularly preferable.

微粒子の分散性を助け、分散性を良好にし、かつセルロースエステルと相溶性の良い樹脂としては、ドープに使用するセルロースエステルでもよいが、特開2003−12859に記載の樹脂が、分散液濾過の際、目詰まりしにくいので好ましく用いることが出来る。例えば、綜研化学(株)で市販しているアクトフロー・シリーズの樹脂等を好ましく用いることが出来る。   As a resin that helps dispersibility of fine particles, improves dispersibility, and is compatible with cellulose ester, cellulose ester used for dope may be used. However, the resin described in JP-A-2003-12859 is used for dispersion filtration. At this time, it can be preferably used because it is not easily clogged. For example, Actflow series resins commercially available from Soken Chemical Co., Ltd. can be preferably used.

(分散装置)
上記微粒子を分散する分散機は通常の分散機が使用出来る。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散にはメディアレス分散機がヘイズが低く好ましい。メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミルなどが挙げられる。メディアレス分散機としては超音波型、遠心型、高圧型などがあるが、本発明においては高圧分散装置が好ましい。高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作り出す装置である。
(Distributor)
As the disperser for dispersing the fine particles, a normal disperser can be used. Dispersers can be broadly divided into media dispersers and medialess dispersers. For dispersion of silicon dioxide fine particles, a medialess disperser is preferred because of low haze. Examples of the media disperser include a ball mill, a sand mill, and a dyno mill. Examples of the medialess disperser include an ultrasonic type, a centrifugal type, and a high pressure type. In the present invention, a high pressure disperser is preferable. A high-pressure dispersion device is a device that creates special conditions such as high shear and high pressure by passing a composition in which fine particles and a solvent are mixed at high speed through a narrow tube.

高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径1〜2000μmの細管中で装置内部の最大圧力条件が10MPa以上であることが好ましい。更に好ましくは20MPa以上である。またその際、最高到達速度が100m/秒以上に達するもの、伝熱速度が420kJ/時間以上に達するものが好ましい。上記のような高圧分散装置にはMicrofluidics Corporation社製超高圧ホモジナイザ(商品名マイクロフルイダイザ)或いはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械(株)社製UHN−01等を挙げることが出来る。   When processing with a high-pressure dispersion apparatus, for example, the maximum pressure condition inside the apparatus is preferably 10 MPa or more in a thin tube having a tube diameter of 1 to 2000 μm. More preferably, it is 20 MPa or more. Further, at that time, those having a maximum reaching speed of 100 m / second or more and those having a heat transfer speed of 420 kJ / hour or more are preferable. The high-pressure dispersing apparatus as described above includes an ultra-high pressure homogenizer (trade name: Microfluidizer) manufactured by Microfluidics Corporation or a nanomizer manufactured by Nanomizer, and other manton gorin type high-pressure dispersing apparatuses such as a homogenizer manufactured by Izumi Food Machinery Co., Ltd. Examples include UHN-01 manufactured by Wakki Co., Ltd.

インライン添加液110Aは、ストックタンク114Aでの停滞をなくし、出来たら送液ポンプ115Aも使用しないで、最終濾過器116Aで濾過後はすぐに導管117Aで移送するのが、停滞や送液ポンプによる新たな凝集物の発生を抑制することが出来るので望ましい。   The in-line additive liquid 110A eliminates the stagnation in the stock tank 114A, and if possible, does not use the liquid feed pump 115A, and is transferred by the pipe 117A immediately after filtration by the final filter 116A. This is desirable because generation of new aggregates can be suppressed.

微粒子を含有するインライン添加液の濾過器は、インラインミキサーの直前に配置するのが好ましく、例えば濾材交換等に伴い経路から発生する大きな凝集物を送液中の微粒子分散液から、一度の濾過で、比較的大きな異物を確実に除去するための濾材で、前記の絶対濾過精度を有する長期に亘り使用が可能な耐有機溶媒性を有する金属製の濾過器が好ましい。濾材としては、耐久性の観点から金属、特にステンレス鋼が好ましい。目詰まりの観点から60〜80%の空孔率を有していることが好ましい。従って、最も好ましくは、絶対濾過精度30〜60μmであって、かつ空孔率60〜80%の金属製濾材で濾過することであり、これにより、長期に亘り、確実に粗大な異物を除くことが出来好ましい。絶対濾過精度30〜60μmでかつ空孔率60〜80%の金属製濾材としては、例えば、日本精線(株)製ファインポアNFシリーズのNF−10、同NF−12、同NF−13などを挙げることが出来、いずれも好ましく用いられる。   The filter for the in-line additive liquid containing fine particles is preferably placed immediately before the in-line mixer.For example, large aggregates generated from the path due to filter medium exchange or the like can be filtered once from the fine particle dispersion in the liquid feed. It is preferable to use a filter made of metal having an organic solvent resistance that can be used for a long period of time and has the absolute filtration accuracy as a filter medium for reliably removing relatively large foreign substances. The filter medium is preferably a metal, particularly stainless steel, from the viewpoint of durability. From the viewpoint of clogging, it is preferable to have a porosity of 60 to 80%. Therefore, it is most preferable to filter with a metal filter medium having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm and a porosity of 60 to 80%, thereby reliably removing coarse foreign substances over a long period of time. Is preferable. Examples of metal filter media having an absolute filtration accuracy of 30 to 60 μm and a porosity of 60 to 80% include NF-10, NF-12, and NF-13 of Fine pore NF series manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. Any of these is preferably used.

(3)ドープ調製工程:
ここでいうドープ調製工程150及び150Aは、セルロースエステル溶液とインライン添加液をインラインミキサーのような混合機121及び121Aで十分混合しドープとする工程である。
(3) Dope preparation process:
The dope preparation steps 150 and 150A referred to here are steps in which the cellulose ester solution and the in-line additive solution are sufficiently mixed with mixers 121 and 121A such as an in-line mixer to form a dope.

150は基層用また150Aは微粒子を含有する表層用のドープの調製工程である。   150 is a step for preparing a base layer and 150A is a dope for a surface layer containing fine particles.

セルロースエステル溶液100または100A及びインライン添加液110または110Aを合流管120または120Aでそれぞれの両液を合流させ、インラインミキサーのような混合機121または121Aで十分に混合して基層用または表層用のドープとする。また。本発明で好ましく使用出来るインラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーSWJ(東レ静止型管内混合器 Hi−Mixer、東レエンジニアリング製)を挙げることが出来、好ましく用いることが出来る。   The cellulose ester solution 100 or 100A and the in-line additive solution 110 or 110A are combined with each other by a merging tube 120 or 120A, and sufficiently mixed by a mixer 121 or 121A such as an in-line mixer to be used for a base layer or a surface layer. Dope. Also. As an in-line mixer that can be preferably used in the present invention, for example, a static mixer SWJ (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, manufactured by Toray Engineering) can be exemplified and preferably used.

後述の共流延ダイには、それぞれの目的に応じて成分を変更し調製したドープを各スリットに供給することになる。基層に用いられるドープの粘度は50〜10,000Pa・s(35℃にて)であることが好ましく、特に50〜1,000Pa・sであることが好ましい。表層に用いられるドープの粘度は0.1〜5,000Pa・sであることが好ましく、5〜1,000Pa・sであることがより好ましく、更に好ましくは10〜500Pa・s、特に好ましくは10〜50Pa・sである。本発明において、表層用ドープの粘度は基層用のそれより低いことが好ましい。   In the later-described co-casting die, the dope prepared by changing the components according to the respective purposes is supplied to each slit. The viscosity of the dope used for the base layer is preferably 50 to 10,000 Pa · s (at 35 ° C.), particularly preferably 50 to 1,000 Pa · s. The viscosity of the dope used for the surface layer is preferably 0.1 to 5,000 Pa · s, more preferably 5 to 1,000 Pa · s, still more preferably 10 to 500 Pa · s, and particularly preferably 10 ~ 50 Pa · s. In the present invention, the viscosity of the surface layer dope is preferably lower than that of the base layer.

以下、本発明に係わるセルロースエステルフィルムの作製の一例を図6を用いて説明する。   Hereinafter, an example of production of the cellulose ester film according to the present invention will be described with reference to FIG.

(4)共流延工程:
基層用のドープは共流延ダイ200の202のドープ供給口に導入し、微粒子を含有する表層用ドープは201及び/または203の表層用供給口に導入して共流延するものである。
(4) Co-casting process:
The base layer dope is introduced into the dope supply port 202 of the co-casting die 200, and the surface layer dope containing fine particles is introduced into the surface layer supply port 201 and / or 203 and co-cast.

図6は、無限に移送する無端の金属支持体204、例えばステンレススティールベルト、或いは回転する金属ドラム等の金属支持体204上の流延位置に、共流延ダイ200から例えば3層のドープを共流延する工程である。金属支持体204の表面は鏡面となっていることが望ましい。共流延ダイ200(例えば加圧型共流延ダイ)は口金部分の三つのスリット形状を調製出来、膜厚を均一にし易いため好ましい。共流延ダイとしては前述の図2または図4に示したようなものが好ましく使用されるが、これらに限定されない。共流延ダイ200には、コートハンガーダイやTダイ等があるが、いずれも好ましく用いられる。   FIG. 6 shows, for example, three layers of dope from a co-casting die 200 at a casting position on an endless metal support 204 that moves indefinitely, such as a stainless steel belt or a rotating metal drum 204. It is a process of co-casting. The surface of the metal support 204 is preferably a mirror surface. A co-casting die 200 (for example, a pressure-type co-casting die) is preferable because it can prepare three slit shapes in the die portion and easily make the film thickness uniform. As the co-casting die, those shown in FIG. 2 or FIG. 4 are preferably used, but are not limited thereto. The co-casting die 200 includes a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used.

逐次流延の場合には、金属支持体204上に単層用のダイを2基以上ずらせて設け、2種類以上のドープ量を供給して多層ドープ膜を形成する。   In the case of sequential casting, two or more single-layer dies are shifted on the metal support 204 and two or more types of dope amounts are supplied to form a multilayer doped film.

(5)溶媒蒸発工程:
例えば3層構成のウェブ(金属支持体上にドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする)206を金属支持体204上で加熱或いは冷却して金属支持体204からウェブ206が剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ206に風を当てる方法及び/または金属支持体204の裏面から液体または気体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、金属支持体上のウェブ温度がドープで使用されている有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。流延用の金属支持体の表面温度は10〜55℃、溶液の温度は25〜60℃、更に溶液の温度を支持体の温度と同じまたはそれ以上の温度にすることが好ましく、5℃以上の温度に設定することが更に好ましい。溶液温度、支持体温度は、高いほど溶媒の乾燥速度が速く出来るので好ましいが、余り高過ぎると発泡したり、平面性が劣化する場合がある。支持体の温度の更に好ましい範囲は、使用する有機溶媒に依存するが、20〜55℃、溶液温度の更に好ましい範囲は、35〜45℃である。
(5) Solvent evaporation step:
For example, a web 206 having a three-layer structure (referred to as a dope film after casting a dope on a metal support) is heated or cooled on the metal support 204 so that the web 206 is transferred from the metal support 204 to the web 206. This is a step of evaporating the solvent until it can be peeled off. In order to evaporate the solvent, there are a method of applying air to the web 206 and / or a method of transferring heat from the back surface of the metal support 204 by liquid or gas, a method of transferring heat from the front and back by radiant heat, and the like. This method is preferable because of good drying efficiency. A method of combining them is also preferable. In the case of backside liquid heat transfer, it is preferable to heat the web temperature on the metal support below the boiling point of the main solvent of the organic solvent used in the dope or the organic solvent having the lowest boiling point. The surface temperature of the metal support for casting is 10 to 55 ° C., the temperature of the solution is 25 to 60 ° C., and the temperature of the solution is preferably equal to or higher than the temperature of the support. More preferably, the temperature is set to a temperature of The higher the solution temperature and the support temperature, the faster the solvent can be dried. However, if the temperature is too high, foaming or flatness may be deteriorated. Although the more preferable range of the temperature of a support body is dependent on the organic solvent to be used, it is 20-55 degreeC, and the more preferable range of solution temperature is 35-45 degreeC.

(6)剥離工程:
金属支持体204上で溶媒が蒸発したウェブ206を、剥離位置205で剥離する工程である。剥離されたウェブ206は次の(7)の乾燥工程(後述)に送られる。剥離する時点でのウェブ206の残留溶媒量(後述の式)が余り大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体204上で乾燥させ過ぎて剥離すると、剥離しにくくなったり、途中でウェブ206の一部が剥がれたりする。本発明において、薄手のウェブを金属支持体から剥離する際、剥離張力として剥離出来る最低張力から300N/m以内の力で剥離することが好ましい。
(6) Peeling process:
In this step, the web 206 having the solvent evaporated on the metal support 204 is peeled off at the peeling position 205. The peeled web 206 is sent to the next (7) drying step (described later). If the amount of residual solvent (explained later) of the web 206 at the time of peeling is too large, it will be difficult to peel off, or conversely if it is dried too much on the metal support 204, it will be difficult to peel off, Part of 206 is peeled off. In the present invention, when the thin web is peeled from the metal support, it is preferable to peel the thin web with a force within 300 N / m from the minimum tension that can be peeled off.

製膜速度を上げる方法(残留溶媒量が出来るだけ多い内に剥離する為製膜速度を上げることが出来る)としてゲル流延法(ゲルキャスティング)がある。それは、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。金属支持体204上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来るのである。金属支持体204上でのウェブ206の乾燥条件の設定、金属支持体204の長さ等により5〜150質量%の範囲で剥離することが好ましく、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブ206が柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。従って、本発明においては、該金属支持体204上の剥離位置における温度を好ましくは0〜40℃、更に好ましくは10〜30℃である。   There is a gel casting method (gel casting) as a method for increasing the film-forming speed (the film-forming speed can be increased because peeling occurs while the amount of residual solvent is as large as possible). For example, a poor solvent for the cellulose ester is added to the dope, and the dope is cast and then gelled, and the temperature of the metal support is lowered to gel. By gelling on the metal support 204 and increasing the strength of the film at the time of peeling, peeling can be accelerated and the film forming speed can be increased. It is preferable to peel in the range of 5 to 150% by mass depending on the setting of the drying conditions of the web 206 on the metal support 204, the length of the metal support 204, etc. If the web 206 is too soft, the flatness at the time of peeling is impaired, or slippage or vertical streaks due to peeling tension are likely to occur, and the amount of residual solvent to be peeled can be determined based on the balance between economic speed and quality. Accordingly, in the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support 204 is preferably 0 to 40 ° C, more preferably 10 to 30 ° C.

製造時のセルロースエステルフィルムが良好な平面性を維持するために、金属支持体から剥離する際の残留溶媒量を10〜150質量%とすることが好ましく、より好ましくは80〜150質量%であり、更に好ましくは100〜130質量%である。剥離時のウェブの残留有機溶媒中に含まれる良溶媒の比率は30〜90%が好ましく、更に好ましくは、50〜85%であり、特に好ましくは、60〜80%である。   In order to maintain good flatness of the cellulose ester film during production, the amount of residual solvent when peeling from the metal support is preferably 10 to 150% by mass, more preferably 80 to 150% by mass. More preferably, it is 100-130 mass%. The ratio of the good solvent contained in the residual organic solvent of the web at the time of peeling is preferably 30 to 90%, more preferably 50 to 85%, and particularly preferably 60 to 80%.

本発明において、ドープの流延から剥離までのウェブの金属支持体上での乾燥時間は、剥離可能な時間で、かつ120秒以内であることが好ましく、更に30〜120秒が好ましく、更に30〜90秒であることが好ましい。この範囲で剥離したウェブの表面性は良好で、乾燥後のセルロースエステルフィルムに後述の金属化合物薄膜を施した際、平面性に優れ、かつ高温高湿条件下に繰り返し曝した際のクラックもなく優れた光学フィルムを得ることが出来る。   In the present invention, the drying time on the metal support of the web from dope casting to peeling is preferably a peelable time and within 120 seconds, more preferably 30 to 120 seconds, and further 30 -90 seconds are preferred. The surface property of the web peeled in this range is good. When the metal compound thin film described below is applied to the cellulose ester film after drying, it has excellent flatness and no cracks when repeatedly exposed to high temperature and high humidity conditions. An excellent optical film can be obtained.

(7)乾燥工程:
剥離後、一般には、ウェブ206を上下に配置したロール209に交互に通して搬送するロール乾燥装置208及び/またはクリップ等でウェブ206の両端を把持して搬送するテンター装置207を用いてウェブ206を乾燥する。図29では、テンター装置207の後にロール乾燥装置208が配置されている。乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。全体を通して、通常乾燥温度は40〜250℃の範囲で行われ、好ましくは110〜160℃で乾燥させることである。使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組み合わせに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。210は出来上がったセルロースエステルフィルムの巻き取りである。セルロースエステルフィルムの乾燥工程において、残留溶媒量を1質量%以下にすることが好ましく、0.1質量%以下にして巻き取ることがより好ましい。
(7) Drying process:
After peeling, generally, the web 206 is used by using a roll drying device 208 that alternately conveys the web 206 through vertically arranged rolls 209 and / or a tenter device 207 that grips and conveys both ends of the web 206 with a clip or the like. To dry. In FIG. 29, a roll drying device 208 is disposed after the tenter device 207. As a drying means, hot air is generally blown on both sides of the web, but there is also a means for heating by applying a microwave instead of the wind. Too rapid drying tends to impair the flatness of the finished film. Throughout, the drying temperature is usually in the range of 40 to 250 ° C., preferably 110 to 160 ° C. The drying temperature, the amount of drying air, and the drying time differ depending on the solvent used, and the drying conditions may be appropriately selected according to the type and combination of the solvents used. 210 is winding of the completed cellulose ester film. In the step of drying the cellulose ester film, the amount of residual solvent is preferably 1% by mass or less, and more preferably 0.1% by mass or less.

本発明の防眩フィルム用のセルロースエステルフィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後のウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向に延伸を行うことが特に好ましい。好ましい延伸倍率は前述の通りである。   In order to produce the cellulose ester film for an antiglare film of the present invention, the web is stretched in the conveying direction immediately after peeling from the metal support where the residual solvent amount is large, and both ends of the web are gripped with clips or the like. It is particularly preferable to perform stretching in the width direction by a tenter method. The preferred draw ratio is as described above.

〈活性線硬化樹脂層〉
本発明に係る活性線硬化樹脂層は、活性線硬化樹脂及び微粒子を含有する高屈折率活性線硬化樹脂層である。これにより十分な防眩効果を発揮し、かつ優れた透過鮮明度を示す防眩性反射防止フィルムを作製することが出来る。
<Actinic radiation curable resin layer>
The actinic radiation curable resin layer according to the present invention is a high refractive index actinic radiation curable resin layer containing an actinic radiation curable resin and fine particles. Thereby, it is possible to produce an antiglare antireflection film which exhibits a sufficient antiglare effect and exhibits excellent transmission clarity.

一般に、活性線硬化樹脂層の平均膜厚よりも粒径が大きな微粒子が含有されていると、活性線硬化樹脂層を設ける際に塗布むらが起り易くなり、大きな粒子の屈折率の関係からぎらつきが生じ易い。特にセルロースエステルフィルムの幅が1.4m以上の広幅となったり、膜厚が10〜70μm薄膜フィルムとなると塗布性の問題が顕著になった。   In general, if fine particles having a particle size larger than the average film thickness of the actinic radiation curable resin layer are contained, uneven coating tends to occur when the actinic radiation curable resin layer is provided, and the relationship between the refractive indexes of the large particles is difficult. Prone to occur. In particular, when the width of the cellulose ester film is 1.4 m or more, or the film thickness is a thin film of 10 to 70 μm, the problem of applicability becomes remarkable.

また、本発明の防眩性反射防止フィルムは基材表面の熱可塑性樹脂部分に凹凸があるため、この上に高屈折率活性線硬化樹脂層を塗設する際に、塗布溶媒が下地である熱可塑性樹脂側に浸透するため、塗膜が流動しにくくなり、基材フィルムの凹凸に沿って凹凸を有する高屈折率活性線硬化樹脂層を形成することが出来る点が好ましい。   Moreover, since the anti-glare antireflection film of the present invention has irregularities in the thermoplastic resin portion on the surface of the substrate, the coating solvent is the base when a high refractive index active ray curable resin layer is applied thereon. Since it penetrates into the thermoplastic resin side, the coating film is difficult to flow, and it is preferable that a high refractive index active ray-curable resin layer having irregularities along the irregularities of the base film can be formed.

活性線硬化樹脂層に用いられる微粒子としては無機粒子及び有機粒子が挙げられる。   Examples of the fine particles used in the actinic radiation curable resin layer include inorganic particles and organic particles.

本発明に使用することが出来る無機微粒子としては酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム或いはこれらの複合酸化物等を挙げることが出来る。   Examples of inorganic fine particles that can be used in the present invention include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, antimony oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, and clay. , Calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate, or a composite oxide thereof.

これらの内で、防眩性及び高屈折率化のためには、酸化珪素、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン或いはこれらの複合酸化物等が好ましく用いられる。   Among these, silicon oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zirconium oxide, antimony oxide, or complex oxides thereof are preferably used for antiglare property and high refractive index.

有機微粒子としては、ポリ(メタ)アクリレート系樹脂、シリコン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリルスチレン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、更にポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ弗化エチレン系樹脂等が使用出来る。特に好ましくは導電性微粒子を含有することである。   Organic fine particles include poly (meth) acrylate resins, silicon resins, polystyrene resins, polycarbonate resins, acrylic styrene resins, benzoguanamine resins, melamine resins, polyolefin resins, polyester resins, polyamide resins. Polyimide resin, polyfluorinated ethylene resin, etc. can be used. It is particularly preferable to contain conductive fine particles.

粒径は5nm〜10μmの微粒子が用いられるが、特に5nm〜5μmの粒子が好ましい。特に活性線硬化樹脂層の平均膜厚よりも直径の大きな粒子はぎらつきを増加させることがあり、添加量を少なくするか、全く含有しないことが好ましい。特に好ましくは5nm〜1μmの粒子を含有することである。異なる組成、粒径、屈折率の微粒子を組み合わせて用いることも出来る。例えば、酸化珪素と酸化ジルコニウム或いは酸化珪素とITO微粒子を組み合わせて用いることが出来る。   Fine particles having a particle diameter of 5 nm to 10 μm are used, and particles of 5 nm to 5 μm are particularly preferable. In particular, particles having a diameter larger than the average film thickness of the actinic radiation curable resin layer may increase glare, and it is preferable that the amount added is reduced or not contained at all. Particularly preferably, it contains particles of 5 nm to 1 μm. A combination of fine particles having different compositions, particle sizes, and refractive indexes can also be used. For example, silicon oxide and zirconium oxide or silicon oxide and ITO fine particles can be used in combination.

活性線硬化樹脂とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。例えば、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて活性線硬化樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。   The actinic radiation curable resin refers to a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with actinic rays such as ultraviolet rays or electron beams. For example, a component containing a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used and cured by irradiating an active ray such as an ultraviolet ray or an electron beam to form an active ray curable resin layer. Typical examples of the actinic radiation curable resin include an ultraviolet curable resin and an electron beam curable resin, and a resin curable by ultraviolet irradiation is preferable.

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。   As the ultraviolet curable resin, for example, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, or an ultraviolet curable epoxy resin is preferable. Used.

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭59−151110号に記載のものを用いることが出来る。   UV curable acrylic urethane resins generally include 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter referred to as acrylates) in products obtained by reacting polyester polyols with isocyanate monomers or prepolymers. It can be easily obtained by reacting an acrylate monomer having a hydroxyl group such as 2-hydroxypropyl acrylate. For example, those described in JP-A-59-151110 can be used.

例えば、ユニディック17−806(大日本インキ(株)製)100部とコロネートL(日本ポリウレタン(株)製)1部との混合物等が好ましく用いられる。   For example, a mixture of 100 parts Unidic 17-806 (Dainippon Ink Co., Ltd.) and 1 part Coronate L (Nihon Polyurethane Co., Ltd.) is preferably used.

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭59−151112号に記載のものを用いることが出来る。   Examples of UV curable polyester acrylate resins include those that are easily formed when 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxy acrylate monomers are generally reacted with polyester polyols. JP-A-59-151112 Can be used.

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平1−105738号に記載のものを用いることが出来る。   Specific examples of the ultraviolet curable epoxy acrylate resin include an epoxy acrylate as an oligomer, a reactive diluent and a photoreaction initiator added thereto, and reacted to form an oligomer. The thing as described in 105738 can be used.

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of UV curable polyol acrylate resins include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, etc. I can list them.

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。例えば、イルガキュア184、イルガキュア907(チバスペシャルティケミカルズ社製)などの市販品が好ましく用いられる。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物100質量部に対して0.1〜15質量部であり、好ましくは1〜10質量部である。   Specific examples of the photoreaction initiator of these ultraviolet curable resins include benzoin and its derivatives, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof. You may use with a photosensitizer. The photoinitiator can also be used as a photosensitizer. In addition, when using an epoxy acrylate photoinitiator, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine, or tri-n-butylphosphine can be used. For example, commercially available products such as Irgacure 184 and Irgacure 907 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) are preferably used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the ultraviolet curable resin composition is 0.1 to 15 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the composition.

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、1,4−シクロヘキシルジメチルジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。   Examples of the resin monomer include general monomers such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, vinyl acetate, and styrene as monomers having one unsaturated double bond. As monomers having two or more unsaturated double bonds, ethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, divinylbenzene, 1,4-cyclohexane diacrylate, 1,4-cyclohexyl dimethyl diacrylate, the above-mentioned trimethylolpropane Examples thereof include triacrylate and pentaerythritol tetraacryl ester.

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−400、KR−410、KR−550、KR−566、KR−567、BY−320B(旭電化(株)製);コーエイハードA−101−KK、A−101−WS、C−302、C−401−N、C−501、M−101、M−102、T−102、D−102、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−P20、AG−106、M−101−C(広栄化学(株)製);セイカビームPHC2210(S)、PHC X−9(K−3)、PHC2213、DP−10、DP−20、DP−30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工業(株)製);KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(ダイセル・ユーシービー(株)製);RC−5015、RC−5016、RC−5020、RC−5031、RC−5100、RC−5102、RC−5120、RC−5122、RC−5152、RC−5171、RC−5180、RC−5181(大日本インキ化学工業(株)製);オーレックスNo.340クリヤ(中国塗料(株)製);サンラッドH−601、RC−750、RC−700、RC−600、RC−500、RC−611、RC−612(三洋化成工業(株)製);SP−1509、SP−1507(昭和高分子(株)製);RCC−15C(グレース・ジャパン(株)製)、アロニックスM−6100、M−8030、M−8060(東亞合成(株)製)、DPHA(日本化薬(株)製)等を適宜選択して利用出来る。   Examples of commercially available ultraviolet curable resins that can be used in the present invention include ADEKA OPTMER KR / BY series: KR-400, KR-410, KR-550, KR-566, KR-567, BY-320B (Asahi Denka ( Co., Ltd.); Koeihard A-101-KK, A-101-WS, C-302, C-401-N, C-501, M-101, M-102, T-102, D-102, NS -101, FT-102Q8, MAG-1-P20, AG-106, M-101-C (manufactured by Guangei Chemical Co., Ltd.); Seika Beam PHC2210 (S), PHC X-9 (K-3), PHC2213, DP -10, DP-20, DP-30, P1000, P1100, P1200, P1300, P1400, P1500, P1600, SCR900 (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) KRM7033, KRM7039, KRM7130, KRM7131, UVECRYL29201, UVECRYL29202 (manufactured by Daicel UCB Corporation); RC-5015, RC-5016, RC-5020, RC-5031, RC-5100, RC-5102, RC-5120 RC-5122, RC-5152, RC-5171, RC-5180, RC-5181 (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.); 340 clear (manufactured by China Paint Co., Ltd.); Sunrad H-601, RC-750, RC-700, RC-600, RC-500, RC-611, RC-612 (manufactured by Sanyo Chemical Industries); SP -1509, SP-1507 (manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.); RCC-15C (manufactured by Grace Japan Co., Ltd.), Aronix M-6100, M-8030, M-8060 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) or the like can be appropriately selected and used.

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。   Specific examples of compounds include trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaacrylate, and the like. .

この他、屈折率調整のため、酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有させたハードコート塗布液 デソライトZ−7041、デソライトZ−7042(JSR(株)製)なども単独で若しくは他の紫外線硬化樹脂などに添加混合して使用することが出来る。   In addition, for adjusting the refractive index, hard coat coating solutions containing zirconium oxide ultrafine particle dispersions Desolite Z-7041 and Desolite Z-7042 (manufactured by JSR Co., Ltd.) can be used alone or in other ultraviolet curable resins. It can be added and mixed.

本発明に用いられる活性線硬化性樹脂の硬化は、電子線または紫外線のような活性線照射によって硬化することが出来る。例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000KeV、好ましくは100〜300KeVのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用出来る。   The actinic radiation curable resin used in the present invention can be cured by irradiation with actinic rays such as electron beams or ultraviolet rays. For example, in the case of electron beam curing, 50 to 1000 KeV emitted from various electron beam accelerators such as a Cockloft Walton type, a bandegraph type, a resonant transformation type, an insulating core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type, Preferably, an electron beam or the like having an energy of 100 to 300 KeV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light beams such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used. .

活性線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物100質量部に対して、0.1〜40質量部となるように配合することが望ましい。   The proportion of the actinic radiation curable resin composition and the fine particles is desirably blended so as to be 0.1 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin composition.

(活性線硬化樹脂層の屈折率)
本発明に係る活性線硬化樹脂層の屈折率は、1.5〜2.0であり、好ましくは1.55〜2.0であり、より好ましくは1.6〜1.8である。透明支持体として用いられるセルロースエステルフィルムの屈折率は約1.5である。活性線硬化樹脂層の屈折率が小さ過ぎると反射防止性が低下する。更に、これが大き過ぎると、防眩性反射防止フィルムの反射光の色味が強くなり、好ましくない。本発明に係る活性線硬化樹脂層の屈折率は、低反射性フィルムを得るための光学設計上から屈折率が1.60〜1.70の範囲にあることが特に好ましい。活性線硬化樹脂層の屈折率は前記添加する微粒子の屈折率や含有量によって調製することが出来る。
(Refractive index of actinic radiation curable resin layer)
The refractive index of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention is 1.5 to 2.0, preferably 1.55 to 2.0, and more preferably 1.6 to 1.8. The refractive index of the cellulose ester film used as the transparent support is about 1.5. When the refractive index of the actinic radiation curable resin layer is too small, the antireflection property is lowered. Furthermore, when this is too large, the color of the reflected light of the antiglare antireflection film becomes strong, which is not preferable. The refractive index of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention is particularly preferably in the range of 1.60 to 1.70 from the viewpoint of optical design for obtaining a low reflective film. The refractive index of the actinic radiation curable resin layer can be adjusted by the refractive index and content of the fine particles to be added.

(活性線硬化樹脂層の膜厚)
本発明に係る活性線硬化樹脂層の膜厚とは、断層電子顕微鏡写真で観察した時の活性線硬化樹脂層の樹脂部分の膜厚10ケ所の平均を本発明の膜厚としており、十分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、活性線硬化樹脂層の膜厚は0.5μm〜10.0μmの範囲が好ましく、更に好ましくは、1.0μm〜5.0μmである。また活性線硬化樹脂層は2層以上から構成されていてもよい。
(Film thickness of actinic radiation curable resin layer)
The film thickness of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention is the average of 10 film thicknesses of the resin portion of the actinic radiation curable resin layer when observed with a tomographic electron micrograph, and the film thickness of the present invention is sufficient. From the viewpoint of imparting durability and impact resistance, the thickness of the actinic radiation curable resin layer is preferably in the range of 0.5 μm to 10.0 μm, and more preferably 1.0 μm to 5.0 μm. The actinic radiation curable resin layer may be composed of two or more layers.

(活性線硬化樹脂層の微細な凹凸)
本発明に係る活性線硬化樹脂層表面の微細な凹凸は、本発明に係る表面に凹凸面を有する熱可塑性樹脂フィルムの凹凸面、及び上記記載の微粒子の添加量、粒径、膜厚等を調整することにより、より好ましい凹凸を有する活性線硬化樹脂層を得ることが出来る。また、本発明に係る活性線硬化樹脂層表面の微細な凹凸は、表面の平均水準を基準とした高さが0.1μm〜2μmである凸部若しくは深さが0.1〜2μmの凹部を100μm2当たり1〜100個有する微細構造として形成されていることが好ましい。
(Fine irregularities on the actinic radiation curable resin layer)
The fine irregularities on the surface of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention include the irregular surface of the thermoplastic resin film having an irregular surface on the surface according to the present invention, and the addition amount, particle size, film thickness, etc. of the fine particles described above. By adjusting, an active ray curable resin layer having more preferable unevenness can be obtained. Further, the fine irregularities on the surface of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention include a convex portion having a height of 0.1 μm to 2 μm or a concave portion having a depth of 0.1 to 2 μm based on the average level of the surface. It is preferably formed as a fine structure having 1 to 100 per 100 μm 2 .

活性線硬化樹脂層表面の微細な凹凸は市販の触針式表面粗さ測定機或いは市販の光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定することが出来る。例えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、約4000μm2の範囲(55μm×75μm)について凹凸を測定し、凹凸を底部側より等高線のごとく色分けして2次元的に表示する。 Fine irregularities on the surface of the actinic radiation curable resin layer can be measured by a commercially available stylus type surface roughness measuring machine or a commercially available optical interference type surface roughness measuring machine. For example, the unevenness is measured in the range of about 4000 μm 2 (55 μm × 75 μm) by an optical interference type surface roughness measuring device, and the unevenness is color-coded like contour lines from the bottom side and displayed two-dimensionally.

ここで表面の平均水準を基準とした高さが0.1μm〜2μmである凸部または凹部の数をカウントし、100μm2の面積当たりの数で示すことが出来る。測定は防眩性低反射フィルム1m2当たり任意の10点を測定してその平均値として求められる。 Here, the number of convex portions or concave portions having a height of 0.1 μm to 2 μm based on the average level of the surface can be counted and represented by the number per 100 μm 2 area. The measurement is obtained as an average value by measuring 10 arbitrary points per 1 m 2 of the antiglare low reflection film.

(活性線硬化樹脂層表面の微細な凹凸の平均山谷間隔)
本発明に係る活性線硬化樹脂層は、表面の微細な凹凸の平均山谷間隔が1μm〜80μmであることが好ましく、更に好ましくは、10μm〜40μmである。
(Average crest and valley spacing of fine irregularities on the surface of the active ray curable resin layer)
The active ray curable resin layer according to the present invention preferably has an average crest / valley spacing of 1 μm to 80 μm, more preferably 10 μm to 40 μm.

ここで、微細凹凸構造の形状は、触針式表面粗さ測定機などにより測定出来、例えばダイヤモンドからなる先端部を頂角55度の円錐形とした直径1mmの測定針を介して微細凹凸構造面上を一定方向に3mmの長さで走査し、その場合の測定針の上下方向の移動変化を測定してそれを記録した表面粗さ曲線として知見を得ることが出きる。或いは前述のごとく光学干渉式表面粗さ測定機によっても測定することが出来る。   Here, the shape of the fine concavo-convex structure can be measured by a stylus type surface roughness measuring machine or the like. For example, the fine concavo-convex structure is formed via a measuring needle having a diameter of 1 mm with a tip portion made of diamond having a conical shape with an apex angle of 55 degrees. It is possible to obtain knowledge as a surface roughness curve obtained by scanning the surface with a length of 3 mm in a certain direction and measuring the movement change in the vertical direction of the measuring needle in that case. Alternatively, it can be measured by an optical interference type surface roughness measuring machine as described above.

ここで、平均山谷間隔とは、前記の表面粗さ曲線における凹凸変化が微小な部分(平坦に近い部分)に基づいて表面粗さ曲線の凹凸変化が凸部として評価出来る基準線を想定し、その基準線からの当該凸部の高さの平均を中心線として、表面粗さ曲線がその中心線を下から上(または上から下)に通過する際の交点に基づきその交点間の距離の平均として定義することが出来る。   Here, the average peak-and-valley interval is assumed to be a reference line on which the unevenness change of the surface roughness curve can be evaluated as a protrusion based on a portion where the unevenness change in the surface roughness curve is minute (portion close to flat), Based on the intersection of the surface roughness curve passing from the bottom to the top (or from the top to the bottom) of the surface roughness curve with the average height of the convex part from the reference line as the center line, the distance between the intersections Can be defined as average.

(活性線硬化樹脂層のヘイズ)
活性線硬化樹脂層のヘイズ値は、好ましくは1〜30%であり、特に3〜15%が好ましい。ヘイズが小さいと写り込み防止効果が不足し、ヘイズ値が大きいと表面、内部における散乱が強過ぎるため、画像の鮮明性の低下、白化等の問題を引き起こし、好ましくない。
(Haze of actinic radiation curable resin layer)
The haze value of the actinic radiation curable resin layer is preferably 1 to 30%, and particularly preferably 3 to 15%. If the haze is small, the effect of preventing reflection is insufficient, and if the haze value is large, scattering on the surface and inside is too strong, which causes problems such as a decrease in image sharpness and whitening, which is not preferable.

ここで、ヘイズの測定は、ASTM−D1003−52に準じて測定出来る。   Here, the haze can be measured according to ASTM-D1003-52.

本発明に係る活性線硬化樹脂層のヘイズ値を好ましい範囲に調整するための手段としては、上記記載の粒子、または微粒子、或いは溶媒可溶性樹脂(例えば、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、アクリル樹脂などが好ましい例として挙げられる。)これらを例えば1〜10%含有させるなどの方法が挙げられる。   As means for adjusting the haze value of the actinic radiation curable resin layer according to the present invention to a preferable range, the above-described particles, fine particles, or solvent-soluble resins (for example, cellulose diacetate, cellulose acetate propionate, cellulose) Acetate butyrate, an acrylic resin, etc. are mentioned as a preferable example.) The method of making these contain 1 to 10%, for example is mentioned.

これらの活性線硬化樹脂層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。   These actinic ray curable resin layers can be coated by a known method such as a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die coater, or an ink jet method.

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は、0.5J/cm2以下であり、好ましくは0.1J/cm2以下である。 As a light source for curing an ultraviolet curable resin by a photocuring reaction to form a cured film layer, any light source that generates ultraviolet rays can be used without any limitation. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The irradiation conditions vary depending on individual lamps, the dose of active ray is a 0.5 J / cm 2 or less, preferably 0.1 J / cm 2 or less.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、従来と比較して低い照射量で硬化させることが出来、平面性に優れる防眩性反射防止フィルムを得ることが出来る。硬度がそれほど要求されない防眩性反射防止フィルムの場合は、照射量を更に少なく出来るため、紫外線照射部の能力によって制限されていた塗布速度をはるかに上回る速度で防眩性反射防止フィルムを製造することが出来、生産性が著しく改善される。   The anti-glare antireflection film of the present invention can be cured at a lower dose than in the past, and an anti-glare antireflection film having excellent flatness can be obtained. In the case of an antiglare antireflection film that does not require much hardness, the amount of irradiation can be further reduced, and thus an antiglare antireflection film is produced at a speed far exceeding the coating speed limited by the ability of the ultraviolet irradiation section. And productivity is significantly improved.

活性線の照射量を得るための照射時間としては、0.1秒〜1分程度がよく、硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から0.1〜10秒がより好ましい。また、これら活性線照射部の照度は50〜150mW/m2であることが好ましい。 The irradiation time for obtaining the irradiation amount of active rays is preferably about 0.1 second to 1 minute, and more preferably 0.1 to 10 seconds from the viewpoint of curing efficiency or work efficiency of the curable resin. Moreover, it is preferable that the illuminance of these active ray irradiation parts is 50-150 mW / m < 2 >.

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は30〜300N/mが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは2軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることが出来る。   Moreover, when irradiating actinic radiation, it is preferable to carry out while applying tension | tensile_strength in the conveyance direction of a film, More preferably, it is performing applying tension | tensile_strength also in the width direction. The tension to be applied is preferably 30 to 300 N / m. The method for applying the tension is not particularly limited, and the tension may be applied in the conveying direction on the back roll, or the tension may be applied in the width direction or the biaxial direction by a tenter. This makes it possible to obtain a film having further excellent flatness.

活性線硬化樹脂層の塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類(トルエン、キシレン、)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル)、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル(アルキル基の炭素原子数として1〜4)等を5質量%以上、より好ましくは5〜80質量%以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。   Examples of the organic solvent of the coating solution for the actinic radiation curable resin layer include hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl). Ketone), esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, other organic solvents, or a mixture thereof. Propylene glycol monoalkyl ether (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) or propylene glycol monoalkyl ether acetate ester (1 to 4 carbon atoms of the alkyl group) is 5% by mass or more, more preferably 5 to 80%. It is preferable to use the organic solvent containing at least mass%.

また、活性線硬化樹脂層の塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、1000〜100000、好ましくは、2000〜50000が適当であり、数平均分子量が1000未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が100000を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。   Further, it is particularly preferable to add a silicon compound to the coating solution for the actinic radiation curable resin layer. For example, polyether-modified silicone oil is preferably added. The number average molecular weight of the polyether-modified silicone oil is, for example, 1000 to 100000, preferably 2000 to 50000. If the number average molecular weight is less than 1000, the drying property of the coating film decreases, and conversely, the number average When the molecular weight exceeds 100,000, it tends to be difficult to bleed out to the coating surface.

シリコン化合物の市販品としては、DKQ8−779(ダウコーニング社製商品名)、SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SF8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16−034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY−16−837、BY−16−839、BY−16−869、BY−16−870、BY−16−004、BY−16−891、BY−16−872、BY−16−874、BY22−008M、BY22−012M、FS−1265(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名)、KF−101、KF−100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、シリコーンX−22−945、X22−160AS(以上、信越化学工業社製商品名)、XF3940、XF3949(以上、東芝シリコーン社製商品名)、ディスパロンLS−009(楠本化成社製)、グラノール410(共栄社油脂化学工業(株)製)、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE東芝シリコーン製)、BYK−306、BYK−330、BYK−307、BYK−341、BYK−344、BYK−361(ビックケミ−ジャパン社製)日本ユニカー(株)製のLシリーズ(例えばL7001、L−7006、L−7604、L−9000)、Yシリーズ、FZシリーズ(FZ−2203、FZ−2206、FZ−2207)等が挙げられ、好ましく用いられる。   Commercially available silicon compounds include DKQ8-779 (trade name, manufactured by Dow Corning), SF3771, SF8410, SF8411, SF8419, SF8421, SF8428, SH200, SH510, SH1107, SH3749, SH3771, BX16-034, SH3746, SH3749, SH8400, SH3771M, SH3772M, SH3773M, SH3775M, BY-16-837, BY-16-839, BY-16-869, BY-16-870, BY-16-004, BY-16-891, BY-16 872, BY-16-874, BY22-008M, BY22-012M, FS-1265 (above, product names manufactured by Toray Dow Corning Silicone), KF-101, KF-100T, KF351, KF3 2, KF353, KF354, KF355, KF615, KF618, KF945, KF6004, Silicone X-22-945, X22-160AS (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), XF3940, XF3949 (trade name, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ), Disparon LS-009 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.), Granol 410 (manufactured by Kyoeisha Yushi Chemical Co., Ltd.), TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (manufactured by GE Toshiba Silicone), BYK-306, BYK- 330, BYK-307, BYK-341, BYK-344, BYK-361 (manufactured by BYK-Japan) L series (for example, L7001, L-7006, L-7604, L-9000) manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd. Y Over's, FZ series (FZ-2203, FZ-2206, FZ-2207) and the like, are preferably used.

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、0.01〜3質量%の範囲で添加することが好ましい。   These components enhance the applicability to the substrate and the lower layer. When added to the outermost surface layer of the laminate, it not only improves the water repellency, oil repellency and antifouling properties of the coating film, but also exhibits an effect on the scratch resistance of the surface. These components are preferably added in a range of 0.01 to 3% by mass with respect to the solid component in the coating solution.

活性線硬化樹脂層の塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として0.1〜30μmが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。   As a method for applying the coating solution for the actinic radiation curable resin layer, the above-described methods can be used. The coating amount is suitably 0.1 to 30 μm, preferably 0.5 to 15 μm, as the wet film thickness.

〈バックコート層〉
本発明の防眩性反射防止フィルムの活性線硬化樹脂層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、凹凸面の形成や活性線硬化樹脂層、その他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。或いはバックコート層はブロッキング防止層として塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。
<Back coat layer>
It is preferable to provide a back coat layer on the surface opposite to the side on which the active ray curable resin layer of the antiglare antireflection film of the present invention is provided. The back coat layer is provided to correct curling caused by forming an uneven surface, providing an actinic radiation curable resin layer, and other layers. That is, the degree of curling can be balanced by imparting the property of being rounded with the surface on which the backcoat layer is provided facing inward. Alternatively, the back coat layer is coated as an anti-blocking layer, and in that case, it is preferable that fine particles are added to the back coat layer coating composition in order to provide an anti-blocking function.

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。   As fine particles added to the back coat layer, examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, and oxidation. Mention may be made of indium, zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Fine particles containing silicon are preferable in terms of low haze, and silicon dioxide is particularly preferable.

これらの微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120及び同240(以上東芝シリコーン(株)製)の商品名で市販されており、使用することが出来る。   These fine particles are commercially available under the trade names of, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, and TT600 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.). . Zirconium oxide fine particles are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and can be used. Examples of the polymer include silicone resin, fluorine resin, and acrylic resin. Silicone resins are preferable, and those having a three-dimensional network structure are particularly preferable. For example, Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) It is marketed by name and can be used.

これらの中でもでアエロジル200V、アエロジルR972Vがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる防眩性反射防止フィルムは、活性線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が0.9以下、特に0.1〜0.9であることが好ましい。   Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are particularly preferably used because they have a large anti-blocking effect while keeping haze low. In the antiglare antireflection film used in the present invention, the dynamic friction coefficient on the back side of the actinic radiation curable resin layer is preferably 0.9 or less, particularly preferably 0.1 to 0.9.

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%含有することが好ましく、0.1〜10質量%であることがより好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は1%以下であることが好ましく0.5%以下であることが好ましく、特に0.0〜0.1%であることが好ましい。   The fine particles contained in the backcoat layer are preferably contained in an amount of 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass with respect to the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.0 to 0.1%.

バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。   Specifically, the back coat layer is formed by applying a composition containing a solvent for dissolving or swelling a cellulose ester film. The solvent used may include a solvent to be dissolved and / or a solvent to be swollen in addition to a solvent to be swelled, a composition in which these are mixed at an appropriate ratio depending on the degree of curling of the transparent resin film and the type of resin, and This is done using the coating amount.

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは(溶解させる溶媒及び/または膨潤させる溶媒):(溶解させない溶媒)=10:0〜1:9で用いられる。この様な混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、N,N−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、n−ブタノール、シクロヘキサノール或いは炭化水素類(トルエン、キシレン)などがある。   In order to enhance the curl prevention function, it is effective to increase the mixing ratio of the solvent for dissolving the solvent composition to be used and / or the solvent for swelling, and to decrease the ratio of the solvent not to be dissolved. This mixing ratio is preferably (solvent to be dissolved and / or solvent to be swollen) :( solvent to be dissolved) = 10: 0 to 1: 9. Examples of the solvent for dissolving or swelling the transparent resin film contained in such a mixed composition include dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, methyl acetate, ethyl acetate, trichloroethylene, methylene chloride, and ethylene chloride. , Tetrachloroethane, trichloroethane, chloroform and the like. Examples of the solvent that does not dissolve include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butanol, cyclohexanol, and hydrocarbons (toluene, xylene).

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、或いはスプレー塗布、インクジェット塗布等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚1〜100μmで塗布するのが好ましいが、特に5〜30μmであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート(好ましくはアセチル基置換度1.8〜2.3、プロピオニル基置換度0.1〜1.0)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び/またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットMD、VH、MF、V(三菱レーヨン(株)製)、ハイパールM−4003、M−4005、M−4006、M−4202、M−5000、M−5001、M−4501(根上工業株式会社製)、ダイヤナールBR−50、BR−52、BR−53、BR−60、BR−64、BR−73、BR−75、BR−77、BR−79、BR−80、BR−82、BR−83、BR−85、BR−87、BR−88、BR−90、BR−93、BR−95、BR−100、BR−101、BR−102、BR−105、BR−106、BR−107、BR−108、BR−112、BR−113、BR−115、BR−116、BR−117、BR−118等(三菱レーヨン(株)製)のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することも出来る。   These coating compositions are preferably applied to the surface of the transparent resin film with a wet film thickness of 1 to 100 μm using a gravure coater, dip coater, reverse coater, wire bar coater, die coater, spray coating, ink jet coating or the like. Is particularly preferably 5 to 30 μm. Examples of the resin used as the binder of the backcoat layer include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, partially hydrolyzed vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. Polymer, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride-acrylonitrile copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, chlorinated polyvinyl chloride, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, etc. Vinyl polymer or copolymer, nitrocellulose, cellulose acetate propionate (preferably acetyl group substitution degree 1.8-2.3, propionyl group substitution degree 0.1-1.0), diacetyl cellulose, cellulose Cellulose derivatives such as acetate butyrate resin, maleic acid and / or Or acrylic acid copolymer, acrylic ester copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, chlorinated polyethylene, acrylonitrile-chlorinated polyethylene-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin Rubber resins such as polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, polyester polyurethane resin, polyether polyurethane resin, polycarbonate polyurethane resin, polyester resin, polyether resin, polyamide resin, amino resin, styrene-butadiene resin, butadiene-acrylonitrile resin, Examples thereof include, but are not limited to, silicone resins and fluorine resins. For example, as an acrylic resin, Acrypet MD, VH, MF, V (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Hyperl M-4003, M-4005, M-4006, M-4202, M-5000, M-5001, M-4501 (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), Dialnal BR-50, BR-52, BR-53, BR-60, BR-64, BR-73, BR-75, BR-77, BR-79, BR -80, BR-82, BR-83, BR-85, BR-87, BR-88, BR-90, BR-93, BR-95, BR-100, BR-101, BR-102, BR-105 BR-106, BR-107, BR-108, BR-112, BR-113, BR-115, BR-116, BR-117, BR-118, etc. (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) acrylic and The methacrylic monomers such as various homopolymers and copolymers were prepared as raw materials are commercially available, can also be selected preferred mono from this appropriate.

特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。   Particularly preferred are cellulose resin layers such as diacetylcellulose and cellulose acetate propionate.

バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの活性線硬化樹脂層を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは2回以上に分けてバックコート層を塗布することも出来る。   The order of applying the backcoat layer may be before or after applying the actinic radiation curable resin layer of the cellulose ester film. However, when the backcoat layer also serves as an antiblocking layer, it is preferably applied first. Alternatively, the backcoat layer can be applied in two or more steps.

(反射防止層)
本発明に係る防眩性反射防止フィルムは活性線硬化樹脂層上に、少なくとも含フッ素樹脂若しくは無機微粒子を含有する低屈折率層を有し、該無機微粒子が多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子であることが好ましい。
(Antireflection layer)
The antiglare antireflection film according to the present invention has a low refractive index layer containing at least a fluorine-containing resin or inorganic fine particles on an active ray curable resin layer, and the inorganic fine particles are porous particles and the surface of the porous particles. It is preferable to be a composite particle having a coating layer provided on or a hollow particle filled with a solvent, gas, or porous substance.

本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されず、スパッタ、大気圧プラズマ処理、塗布などが挙げられるが、塗布により形成することが好ましい。   In the present invention, the method for providing the antireflection layer is not particularly limited, and examples thereof include sputtering, atmospheric pressure plasma treatment, coating, and the like.

反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。   As a method of forming the antireflection layer by coating, a method of dispersing metal oxide powder in a binder resin dissolved in a solvent, coating and drying, a method of using a polymer having a crosslinked structure as a binder resin, ethylenic unsaturated Examples of the method include a method of forming a layer by containing a monomer and a photopolymerization initiator and irradiating with actinic radiation.

本発明においては、活性線硬化樹脂層を付与したセルロースエステルフィルムの上に反射防止層を設け、該反射防止層の少なくとも一層が低屈折率層である。   In the present invention, an antireflection layer is provided on a cellulose ester film provided with an actinic radiation curable resin layer, and at least one of the antireflection layers is a low refractive index layer.

好ましい防眩性反射防止フィルムの構成を下記に示すが、これらに限定されるものではない。   Although the structure of a preferable anti-glare antireflection film is shown below, it is not limited to these.

ここでハードコート層とは、前述の活性線硬化樹脂層を意味する。   Here, the hard coat layer means the actinic radiation curable resin layer described above.

セルロースエステルフィルム/ハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/熱可塑性樹脂層/ハードコート層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/熱可塑性樹脂層/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースエステルフィルム/熱可塑性樹脂層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
いずれもセルロースエステルフィルムのハードコート層を塗設した側と反対面には、前述のバックコート層を設けることが好ましい。
Cellulose ester film / hard coat layer / low refractive index layer Cellulose ester film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer Cellulose ester film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index Layer Cellulose ester film / thermoplastic resin layer / hard coat layer / low refractive index layer Cellulose ester film / thermoplastic resin layer / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer Cellulose ester film / thermoplastic resin layer / hard Coat layer / Medium refractive index layer / High refractive index layer / Low refractive index layer In any case, the back coat layer described above is preferably provided on the side opposite to the side on which the hard coat layer of the cellulose ester film is applied.

また、中屈折率層若しくは高屈折率層が帯電防止層を兼ねてもよい。   Further, the middle refractive index layer or the high refractive index layer may also serve as the antistatic layer.

前記防眩性反射防止フィルムでは、最上層に低屈折率層を形成し、活性線硬化樹脂層との間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更に活性線硬化樹脂層と高屈折率層との間に中屈折率層(金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層)を設けることは、反射率の低減のために好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率(約1.5)と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、1.3〜1.44、より好ましくは1.35〜1.41であることが好ましい。各層の厚さは、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度で3H以上であることが好ましく、4H以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。   In the antiglare antireflection film, a low refractive index layer is formed as the uppermost layer, a metal oxide layer of a high refractive index layer is formed between the active ray curable resin layer, and an active ray curable resin layer. Providing an intermediate refractive index layer (metal oxide content or ratio with resin binder, metal oxide layer with the refractive index adjusted by changing the type of metal) between the high refractive index layer and the reflectance It is preferable for the reduction of. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted so as to be an intermediate value between the refractive index (about 1.5) of the cellulose ester film as the substrate and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.3 to 1.44, more preferably 1.35 to 1.41. The thickness of each layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm. The haze of the metal oxide layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the metal oxide layer is preferably 3H or more, and most preferably 4H or more, with a pencil hardness of 1 kg. When the metal oxide layer is formed by coating, it is preferable to include inorganic fine particles and a binder polymer.

本発明の低屈折率層に好ましく含有される、多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、或いは内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子について説明する。   Composite particles having porous particles and a coating layer provided on the surface of the porous particles, preferably contained in the low refractive index layer of the present invention, or hollow particles filled with a solvent, gas, or porous substance inside Will be described.

無機微粒子は、(I)多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層とからなる複合粒子、または(II)内部に空洞を有し、かつ内容物が溶媒、気体または多孔質物質で充填された空洞粒子である。尚、低屈折率層には(I)複合粒子または(II)空洞粒子のいずれかが含まれていればよく、また双方が含まれていてもよい。   The inorganic fine particle is (I) a composite particle comprising a porous particle and a coating layer provided on the surface of the porous particle, or (II) a cavity inside, and the content is a solvent, a gas or a porous substance It is a hollow particle filled with. The low refractive index layer may contain either (I) composite particles or (II) hollow particles, or may contain both.

尚、空洞粒子は、内部に空洞を有する粒子であり、空洞は粒子壁で囲まれている。空洞内には、調製時に使用した溶媒、気体または多孔質物質などの内容物で充填されている。この様な無機微粒子の平均粒子径が5〜300nm、好ましくは10〜200nmの範囲にあることが望ましい。使用される無機微粒子の平均粒径は、形成される透明被膜の厚さに応じて適宜選択され、形成される低屈折率層などの透明被膜の膜厚の2/3〜1/10の範囲にあることが望ましい。これらの無機微粒子は、低屈折率層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール)及びケトン(例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン)、ケトンアルコール(例えばジアセトンアルコール)が好ましい。   The hollow particles are particles having cavities inside, and the cavities are surrounded by particle walls. The cavity is filled with a content such as a solvent, a gas, or a porous material used at the time of preparation. It is desirable that the average particle diameter of such inorganic fine particles is in the range of 5 to 300 nm, preferably 10 to 200 nm. The average particle diameter of the inorganic fine particles used is appropriately selected according to the thickness of the transparent film to be formed, and is in the range of 2/3 to 1/10 of the film thickness of the transparent film such as the low refractive index layer to be formed. It is desirable to be in These inorganic fine particles are preferably used in a state of being dispersed in an appropriate medium in order to form a low refractive index layer. As the dispersion medium, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol), ketone (for example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone), and ketone alcohol (for example, diacetone alcohol) are preferable.

複合粒子の被覆層の厚さまたは空洞粒子の粒子壁の厚さは、1〜20nm、好ましくは2〜15nmの範囲にあることが望ましい。複合粒子の場合、被覆層の厚さが1nm未満の場合は、粒子を完全に被覆することが出来ないことがあり、後述する塗布液成分である重合度の低いケイ酸モノマー、オリゴマーなどが容易に複合粒子の内部に内部に進入して内部の多孔性が減少し、低屈折率の効果が十分得られないことがある。また、被覆層の厚さが20nmを越えると、前記ケイ酸モノマー、オリゴマーが内部に進入することはないが、複合粒子の多孔性(細孔容積)が低下し低屈折率の効果が十分得られなくなることがある。また空洞粒子の場合、粒子壁の厚さが1nm未満の場合は、粒子形状を維持出来ないことがあり、また厚さが20nmを越えても、低屈折率の効果が十分に現れないことがある。   The thickness of the coating layer of the composite particles or the thickness of the particle walls of the hollow particles is desirably in the range of 1 to 20 nm, preferably 2 to 15 nm. In the case of composite particles, if the thickness of the coating layer is less than 1 nm, the particles may not be completely covered, and silicate monomers and oligomers with a low degree of polymerization, which are coating liquid components described later, are easy. In some cases, the inside of the composite particle enters the inside and the porosity of the inside is reduced, so that the effect of the low refractive index cannot be sufficiently obtained. When the thickness of the coating layer exceeds 20 nm, the silicic acid monomer and oligomer do not enter the inside, but the porosity (pore volume) of the composite particles is lowered and the effect of low refractive index is sufficiently obtained. It may not be possible. In the case of hollow particles, if the particle wall thickness is less than 1 nm, the particle shape may not be maintained, and even if the thickness exceeds 20 nm, the effect of low refractive index may not be sufficiently exhibited. is there.

前記複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁は、シリカを主成分とすることが好ましい。また複合粒子の被覆層または空洞粒子の粒子壁には、シリカ以外の成分が含まれていてもよく、具体的には、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3などが挙げられる。複合粒子を構成する多孔質粒子としては、シリカからなるもの、シリカとシリカ以外の無機化合物とからなるもの、CaF2、NaF、NaAlF6、MgFなどからなるものが挙げられる。この内特にシリカとシリカ以外の無機化合物との複合酸化物からなる多孔質粒子が好適である。シリカ以外の無機化合物としては、Al23、B23、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P23、Sb23、MoO3、ZnO2、WO3等との1種または2種以上を挙げることが出来る。この様な多孔質粒子では、シリカをSiO2で表し、シリカ以外の無機化合物を酸化物換算(MOX)で表したときのモル比MOX/SiO2が、0.0001〜1.0、好ましくは0.001〜0.3の範囲にあることが望ましい。多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が0.0001未満のものは得ることが困難であり、得られたとしても更に屈折率が低いものを得ることはない。また、多孔質粒子のモル比MOX/SiO2が、1.0を越えると、シリカの比率が少なくなるので、細孔容積が小さく、かつ屈折率の低い粒子を得られないことがある。 The coating layer of the composite particles or the particle wall of the hollow particles is preferably composed mainly of silica. The coating layer of the composite particle or the particle wall of the hollow particle may contain a component other than silica, specifically, Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2. and CeO 2, P 2 O 3, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO 3 and the like. Examples of the porous particles constituting the composite particles include those made of silica, those made of silica and an inorganic compound other than silica, and those made of CaF 2 , NaF, NaAlF 6 , MgF, and the like. Of these, porous particles made of a composite oxide of silica and an inorganic compound other than silica are particularly suitable. Examples of inorganic compounds other than silica include Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , CeO 2 , P 2 O 3 , Sb 2 O 3 , MoO 3 , ZnO 2 , WO 3 and the like. 1 type or 2 types or more can be mentioned. In such porous particles, the molar ratio MOX / SiO 2 when the silica is represented by SiO 2 and the inorganic compound other than silica is represented by oxide (MOX) is 0.0001 to 1.0, preferably It is desirable to be in the range of 0.001 to 0.3. It is difficult to obtain porous particles having a molar ratio MOX / SiO 2 of less than 0.0001, and even if obtained, those having a lower refractive index are not obtained. On the other hand, if the molar ratio MOX / SiO 2 of the porous particles exceeds 1.0, the silica ratio decreases, so that particles having a small pore volume and a low refractive index may not be obtained.

この様な多孔質粒子の細孔容積は、0.1〜1.5ml/g、好ましくは0.2〜1.5ml/gの範囲であることが望ましい。細孔容積が0.1ml/g未満では、十分に屈折率の低下した粒子が得られず、1.5ml/gを越えると微粒子の強度が低下し、得られる被膜の強度が低下することがある。   The pore volume of such porous particles is desirably in the range of 0.1 to 1.5 ml / g, preferably 0.2 to 1.5 ml / g. If the pore volume is less than 0.1 ml / g, particles having a sufficiently reduced refractive index cannot be obtained. If the pore volume exceeds 1.5 ml / g, the strength of the fine particles is lowered, and the strength of the resulting coating may be lowered. is there.

尚、この様な多孔質粒子の細孔容積は水銀圧入法によって求めることが出来る。また、空洞粒子の内容物としては、粒子調製時に使用した溶媒、気体、多孔質物質などが挙げられる。溶媒中には空洞粒子調製する際に使用される粒子前駆体の未反応物、使用した触媒などが含まれていてもよい。また多孔質物質としては、前記多孔質粒子で例示した化合物からなるものが挙げられる。これらの内容物は、単一の成分からなるものであってもよいが、複数成分の混合物であってもよい。   Incidentally, the pore volume of such porous particles can be obtained by a mercury intrusion method. Examples of the contents of the hollow particles include a solvent, a gas, and a porous material used at the time of preparing the particles. The solvent may contain an unreacted particle precursor used in preparing the hollow particles, the catalyst used, and the like. Moreover, what consists of the compound illustrated by the said porous particle as a porous substance is mentioned. These contents may be composed of a single component or may be a mixture of a plurality of components.

この様な無機微粒子の製造方法としては、例えば特開平7−133105号公報の段落番号[0010]〜[0033]に開示された複合酸化物コロイド粒子の調製方法が好適に採用される。具体的に、複合粒子が、シリカ、シリカ以外の無機化合物とからなる場合、以下の第1〜第3工程から無機化合物粒子は製造される。   As a method for producing such inorganic fine particles, for example, the method for preparing composite oxide colloidal particles disclosed in paragraphs [0010] to [0033] of JP-A-7-133105 is suitably employed. Specifically, when the composite particles are composed of silica and an inorganic compound other than silica, the inorganic compound particles are produced from the following first to third steps.

第1工程:多孔質粒子前駆体の調製
第1工程では、予め、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料のアルカリ水溶液を個別に調製するか、または、シリカ原料とシリカ以外の無機化合物原料との混合水溶液を調製しておき、この水溶液を目的とする複合酸化物の複合割合に応じて、pH10以上のアルカリ水溶液中に攪拌しながら徐々に添加して多孔質粒子前駆体を調製する。
First Step: Preparation of Porous Particle Precursor In the first step, an alkali aqueous solution of a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica is separately prepared in advance, or a silica raw material and an inorganic compound raw material other than silica are prepared in advance. A mixed aqueous solution is prepared, and this aqueous solution is gradually added to an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more while stirring according to the composite ratio of the target composite oxide to prepare a porous particle precursor.

シリカ原料としては、アルカリ金属、アンモニウムまたは有機塩基のケイ酸塩を用いる。アルカリ金属のケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム(水ガラス)やケイ酸カリウムが用いられる。有機塩基としては、テトラエチルアンモニウム塩などの第4級アンモニウム塩、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアミン類を挙げることが出来る。尚、アンモニウムのケイ酸塩または有機塩基のケイ酸塩には、ケイ酸液にアンモニア、第4級アンモニウム水酸化物、アミン化合物などを添加したアルカリ性溶液も含まれる。   As the silica raw material, alkali metal, ammonium or organic base silicate is used. Sodium silicate (water glass) or potassium silicate is used as the alkali metal silicate. Examples of the organic base include quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium salt, and amines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine. The ammonium silicate or the organic base silicate includes an alkaline solution obtained by adding ammonia, a quaternary ammonium hydroxide, an amine compound or the like to a silicic acid solution.

また、シリカ以外の無機化合物の原料としては、アルカリ可溶の無機化合物を用いられる。具体的には、Al、B、Ti、Zr、Sn、Ce、P、Sb、Mo、Zn、Wなどから選ばれる元素のオキソ酸、該オキソ酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、第4級アンモニウム塩を挙げることが出来る。より具体的には、アルミン酸ナトリウム、四硼酸ナトリウム、炭酸ジルコニルアンモニウム、アンチモン酸カリウム、錫酸カリウム、アルミノケイ酸ナトリウム、モリブデン酸ナトリウム、硝酸セリウムアンモニウム、燐酸ナトリウムが適当である。   In addition, alkali-soluble inorganic compounds are used as raw materials for inorganic compounds other than silica. Specifically, an oxo acid of an element selected from Al, B, Ti, Zr, Sn, Ce, P, Sb, Mo, Zn, W, etc., an alkali metal salt or alkaline earth metal salt of the oxo acid, ammonium Salts and quaternary ammonium salts. More specifically, sodium aluminate, sodium tetraborate, zirconyl ammonium carbonate, potassium antimonate, potassium stannate, sodium aluminosilicate, sodium molybdate, cerium ammonium nitrate, and sodium phosphate are suitable.

これらの水溶液の添加と同時に混合水溶液のpH値は変化するが、このpH値を所定の範囲に制御するような操作は特に必要ない。水溶液は、最終的に、無機酸化物の種類及びその混合割合によって定まるpH値となる。このときの水溶液の添加速度にはとくに制限はない。また、複合酸化物粒子の製造に際して、シード粒子の分散液を出発原料と使用することも可能である。当該シード粒子としては、特に制限はないが、SiO2、Al23、TiO2またはZrO2等の無機酸化物またはこれらの複合酸化物の微粒子が用いられ、通常、これらのゾルを用いることが出来る。更に前記の製造方法によって得られた多孔質粒子前駆体分散液をシード粒子分散液としてもよい。シード粒子分散液を使用する場合、シード粒子分散液のpHを10以上に調整したのち、該シード粒子分散液中に前記化合物の水溶液を、上記したアルカリ水溶液中に攪拌しながら添加する。この場合も、必ずしも分散液のpH制御を行う必要はない。この様にして、シード粒子を用いると、調製する多孔質粒子の粒径コントロールが容易であり、粒度の揃ったものを得ることが出来る。 Although the pH value of the mixed aqueous solution changes simultaneously with the addition of these aqueous solutions, an operation for controlling the pH value within a predetermined range is not particularly required. The aqueous solution finally has a pH value determined by the type of inorganic oxide and the mixing ratio thereof. There is no restriction | limiting in particular in the addition rate of the aqueous solution at this time. Further, in the production of composite oxide particles, a dispersion of seed particles can be used as a starting material. The seed particles are not particularly limited, but inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 or ZrO 2 or fine particles of these composite oxides are used. Usually, these sols are used. I can do it. Furthermore, the porous particle precursor dispersion obtained by the above production method may be used as a seed particle dispersion. When the seed particle dispersion is used, the pH of the seed particle dispersion is adjusted to 10 or more, and then the aqueous solution of the compound is added to the above-described alkaline aqueous solution while stirring. Also in this case, it is not always necessary to control the pH of the dispersion. In this way, when seed particles are used, it is easy to control the particle size of the porous particles to be prepared, and particles having a uniform particle size can be obtained.

上記したシリカ原料及び無機化合物原料はアルカリ側で高い溶解度を有する。しかしながら、この溶解度の大きいpH領域で両者を混合すると、ケイ酸イオン及びアルミン酸イオンなどのオキソ酸イオンの溶解度が低下し、これらの複合物が析出して微粒子に成長したり、或いは、シード粒子上に析出して粒子成長が起る。従って、微粒子の析出、成長に際して、従来法のようなpH制御は必ずしも行う必要がない。   The silica raw material and the inorganic compound raw material described above have high solubility on the alkali side. However, when both are mixed in this highly soluble pH region, the solubility of oxo acid ions such as silicate ions and aluminate ions decreases, and these composites precipitate and grow into fine particles, or seed particles. It grows on the top and particle growth occurs. Therefore, it is not always necessary to perform pH control as in the conventional method for precipitation and growth of fine particles.

第1工程におけるシリカとシリカ以外の無機化合物との複合割合は、シリカに対する無機化合物を酸化物(MOx)に換算し、MOx/SiO2のモル比が、0.05〜2.0、好ましくは0.2〜2.0の範囲内にあることが望ましい。この範囲内において、シリカの割合が少なくなる程、多孔質粒子の細孔容積が増大する。しかしながら、モル比が2.0を越えても、多孔質粒子の細孔の容積は殆ど増加しない。他方、モル比が0.05未満の場合は、細孔容積が小さくなる。空洞粒子を調製する場合、MOx/SiO2のモル比は、0.25〜2.0の範囲内にあることが望ましい。 The composite ratio of silica and inorganic compound other than silica in the first step is that the inorganic compound relative to silica is converted to oxide (MOx), and the molar ratio of MOx / SiO 2 is 0.05 to 2.0, preferably It is desirable to be within the range of 0.2 to 2.0. Within this range, the pore volume of the porous particles increases as the proportion of silica decreases. However, even when the molar ratio exceeds 2.0, the pore volume of the porous particles hardly increases. On the other hand, when the molar ratio is less than 0.05, the pore volume becomes small. When preparing hollow particles, the molar ratio of MOx / SiO 2 is preferably in the range of 0.25 to 2.0.

第2工程:多孔質粒子からのシリカ以外の無機化合物の除去
第2工程では、前記第1工程で得られた多孔質粒子前駆体から、シリカ以外の無機化合物(珪素と酸素以外の元素)の少なくとも一部を選択的に除去する。具体的な除去方法としては、多孔質粒子前駆体中の無機化合物を鉱酸や有機酸を用いて溶解除去したり、或いは、陽イオン交換樹脂と接触させてイオン交換除去する。
Second step: Removal of inorganic compound other than silica from porous particles In the second step, inorganic compounds other than silica (elements other than silicon and oxygen) are obtained from the porous particle precursor obtained in the first step. At least a portion is selectively removed. As a specific removal method, the inorganic compound in the porous particle precursor is dissolved and removed using a mineral acid or an organic acid, or is contacted with a cation exchange resin for ion exchange removal.

尚、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体は、珪素と無機化合物構成元素が酸素を介して結合した網目構造の粒子である。この様に多孔質粒子前駆体から無機化合物(珪素と酸素以外の元素)を除去することにより、一層多孔質で細孔容積の大きい多孔質粒子が得られる。また、多孔質粒子前駆体から無機酸化物(珪素と酸素以外の元素)を除去する量を多くすれば、空洞粒子を調製することが出来る。   The porous particle precursor obtained in the first step is a particle having a network structure in which silicon and an inorganic compound constituent element are bonded via oxygen. By removing the inorganic compound (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor in this way, porous particles having a larger porosity and a larger pore volume can be obtained. Further, if the amount of removing the inorganic oxide (elements other than silicon and oxygen) from the porous particle precursor is increased, the hollow particles can be prepared.

また、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去するに先立って、第1工程で得られる多孔質粒子前駆体分散液に、シリカのアルカリ金属塩を脱アルカリして得られるケイ酸液或いは加水分解性の有機珪素化合物を添加してシリカ保護膜を形成することが好ましい。シリカ保護膜の厚さは0.5〜15nmの厚さであればよい。尚シリカ保護膜を形成しても、この工程での保護膜は多孔質であり厚さが薄いので、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することは可能である。   In addition, prior to removing inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor, a silicic acid solution obtained by removing the alkali metal salt of silica from the porous particle precursor dispersion obtained in the first step. Alternatively, it is preferable to form a silica protective film by adding a hydrolyzable organosilicon compound. The thickness of the silica protective film may be 0.5 to 15 nm. Even if the silica protective film is formed, the protective film in this step is porous and thin, so that it is possible to remove inorganic compounds other than silica described above from the porous particle precursor.

この様なシリカ保護膜を形成することによって、粒子形状を保持したまま、前記したシリカ以外の無機化合物を、多孔質粒子前駆体から除去することが出来る。また、後述するシリカ被覆層を形成する際に、多孔質粒子の細孔が被覆層によって閉塞されてしまうことがなく、このため細孔容積を低下させることなく後述するシリカ被覆層を形成することが出来る。尚、除去する無機化合物の量が少ない場合は粒子が壊れることがないので必ずしも保護膜を形成する必要はない。   By forming such a silica protective film, inorganic compounds other than the silica described above can be removed from the porous particle precursor while maintaining the particle shape. Further, when forming the silica coating layer described later, the pores of the porous particles are not blocked by the coating layer, and therefore the silica coating layer described later is formed without reducing the pore volume. I can do it. Note that when the amount of the inorganic compound to be removed is small, the particles are not broken, and thus it is not always necessary to form a protective film.

また空洞粒子を調製する場合は、このシリカ保護膜を形成しておくことが望ましい。空洞粒子を調製する際には、無機化合物を除去すると、シリカ保護膜と、該シリカ保護膜内の溶媒、未溶解の多孔質固形分とからなる空洞粒子の前駆体が得られ、該空洞粒子の前駆体に後述の被覆層を形成すると、形成された被覆層が、粒子壁となり空洞粒子が形成される。   When preparing hollow particles, it is desirable to form this silica protective film. When preparing the hollow particles, the inorganic compound is removed to obtain a hollow particle precursor composed of a silica protective film, a solvent in the silica protective film, and an undissolved porous solid content. When a coating layer to be described later is formed on the precursor, the formed coating layer becomes a particle wall to form hollow particles.

上記シリカ保護膜形成のために添加するシリカ源の量は、粒子形状を保持出来る範囲で少ないことが好ましい。シリカ源の量が多過ぎると、シリカ保護膜が厚くなり過ぎるので、多孔質粒子前駆体からシリカ以外の無機化合物を除去することが困難となることがある。シリカ保護膜形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、一般式RnSi(OR’)4−n〔R、R’:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。   The amount of the silica source added for forming the silica protective film is preferably small as long as the particle shape can be maintained. If the amount of the silica source is too large, the silica protective film becomes too thick, and it may be difficult to remove inorganic compounds other than silica from the porous particle precursor. The hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica protective film includes a general formula RnSi (OR ′) 4-n [R, R ′: hydrocarbon such as alkyl group, aryl group, vinyl group, acrylic group, etc. An alkoxysilane represented by the group, n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子の分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を無機酸化物粒子の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is added to the dispersion of the porous particles, and the alkoxysilane is hydrolyzed. The produced silicic acid polymer is deposited on the surface of the inorganic oxide particles. At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子前駆体の分散媒が、水単独、または有機溶媒に対する水の比率が高い場合には、ケイ酸液を用いてシリカ保護膜を形成することも可能である。ケイ酸液を用いる場合には、分散液中にケイ酸液を所定量添加し、同時にアルカリを加えてケイ酸液を多孔質粒子表面に沈着させる。尚、ケイ酸液と上記アルコキシシランを併用してシリカ保護膜を作製してもよい。   When the dispersion medium of the porous particle precursor is water alone or when the ratio of water to the organic solvent is high, a silica protective film can be formed using a silicic acid solution. When a silicic acid solution is used, a predetermined amount of the silicic acid solution is added to the dispersion, and at the same time an alkali is added to deposit the silicic acid solution on the surface of the porous particles. In addition, you may produce a silica protective film together using a silicic acid liquid and the said alkoxysilane.

第3工程:シリカ被覆層の形成
第3工程では、第2工程で調製した多孔質粒子分散液(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体分散液)に加水分解性の有機珪素化合物またはケイ酸液等を加えることにより、粒子の表面を加水分解性有機珪素化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆してシリカ被覆層を形成する。
Third Step: Formation of Silica Coating Layer In the third step, a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution is added to the porous particle dispersion prepared in the second step (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor dispersion). Etc. is added to coat the surface of the particles with a polymer such as a hydrolyzable organosilicon compound or silicic acid solution to form a silica coating layer.

シリカ被覆層形成用に使用される加水分解性の有機珪素化合物としては、前記したような一般式RnSi(OR’)4−n〔R、R’:アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基等の炭化水素基、n=0、1、2または3〕で表されるアルコキシシランを用いることが出来る。特に、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等のテトラアルコキシシランが好ましく用いられる。   Examples of the hydrolyzable organosilicon compound used for forming the silica coating layer include the general formula RnSi (OR ′) 4-n [R, R ′: alkyl group, aryl group, vinyl group, acrylic group as described above. Etc., and alkoxysilanes represented by n = 0, 1, 2, or 3] can be used. In particular, tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropoxysilane are preferably used.

添加方法としては、これらのアルコキシシラン、純水、及びアルコールの混合溶液に触媒としての少量のアルカリまたは酸を添加した溶液を、前記多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液に加え、アルコキシシランを加水分解して生成したケイ酸重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の表面に沈着させる。このとき、アルコキシシラン、アルコール、触媒を同時に分散液中に添加してもよい。アルカリ触媒としては、アンモニア、アルカリ金属の水酸化物、アミン類を用いることが出来る。また、酸触媒としては、各種の無機酸と有機酸を用いることが出来る。   As an addition method, a solution obtained by adding a small amount of alkali or acid as a catalyst to a mixed solution of these alkoxysilane, pure water, and alcohol is used as a dispersion of the porous particles (in the case of hollow particles, a hollow particle precursor). In addition, the silicic acid polymer produced by hydrolyzing alkoxysilane is deposited on the surface of the porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). At this time, alkoxysilane, alcohol, and catalyst may be simultaneously added to the dispersion. As the alkali catalyst, ammonia, an alkali metal hydroxide, or an amine can be used. As the acid catalyst, various inorganic acids and organic acids can be used.

多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)の分散媒が水単独、または有機溶媒との混合溶媒であって、有機溶媒に対する水の比率が高い混合溶媒の場合には、ケイ酸液を用いて被覆層を形成してもよい。ケイ酸液とは、水ガラス等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液をイオン交換処理して脱アルカリしたケイ酸の低重合物の水溶液である。   When the dispersion medium of porous particles (in the case of hollow particles, the hollow particle precursor) is water alone or a mixed solvent with an organic solvent and the mixed solvent has a high ratio of water to the organic solvent, a silicate solution You may form a coating layer using. The silicic acid solution is an aqueous solution of a low silicic acid polymer obtained by dealkalizing an aqueous solution of an alkali metal silicate such as water glass by ion exchange treatment.

ケイ酸液は、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中に添加され、同時にアルカリを加えてケイ酸低重合物を多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)表面に沈着させる。尚、ケイ酸液を上記アルコキシシランと併用して被覆層形成用に使用してもよい。被覆層形成用に使用される有機珪素化合物またはケイ酸液の添加量は、コロイド粒子の表面を十分被覆出来る程度であればよく、最終的に得られるシリカ被覆層の厚さが1〜20nmとなるように量で、多孔質粒子(空洞粒子の場合は空洞粒子前駆体)分散液中で添加される。また前記シリカ保護膜を形成した場合はシリカ保護膜とシリカ被覆層の合計の厚さが1〜20nmの範囲となるような量で、有機珪素化合物またはケイ酸液は添加される。   The silicic acid solution is added to the dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors), and at the same time, alkali is added to make the low-silicic acid polymer into porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursors). ) Deposit on the surface. A silicic acid solution may be used in combination with the alkoxysilane for forming a coating layer. The addition amount of the organosilicon compound or silicic acid solution used for forming the coating layer only needs to be sufficient to cover the surface of the colloidal particles, and the finally obtained silica coating layer has a thickness of 1 to 20 nm. In such an amount, it is added in a dispersion of porous particles (in the case of hollow particles, hollow particle precursor) in a dispersion. When the silica protective film is formed, the organosilicon compound or the silicate solution is added in such an amount that the total thickness of the silica protective film and the silica coating layer is in the range of 1 to 20 nm.

次いで、被覆層が形成された粒子の分散液を加熱処理する。加熱処理によって、多孔質粒子の場合は、多孔質粒子表面を被覆したシリカ被覆層が緻密化し、多孔質粒子がシリカ被覆層によって被覆された複合粒子の分散液が得られる。また空洞粒子前駆体の場合、形成された被覆層が緻密化して空洞粒子壁となり、内部が溶媒、気体または多孔質固形分で充填された空洞を有する空洞粒子の分散液が得られる。   Next, the dispersion liquid of the particles on which the coating layer is formed is heat-treated. By the heat treatment, in the case of porous particles, the silica coating layer covering the surface of the porous particles is densified, and a dispersion of composite particles in which the porous particles are coated with the silica coating layer is obtained. In the case of a hollow particle precursor, the formed coating layer is densified to form hollow particle walls, and a dispersion of hollow particles having cavities filled with a solvent, gas, or porous solid content is obtained.

このときの加熱処理温度は、シリカ被覆層の微細孔を閉塞出来る程度であれば特に制限はなく、80〜300℃の範囲が好ましい。加熱処理温度が80℃未満ではシリカ被覆層の微細孔を完全に閉塞して緻密化出来ないことがあり、また処理時間に長時間を要してしまうことがある。また加熱処理温度が300℃を越えて長時間処理すると緻密な粒子となることがあり、低屈折率の効果が得られないことがある。   The heat treatment temperature at this time is not particularly limited as long as it can close the fine pores of the silica coating layer, and is preferably in the range of 80 to 300 ° C. When the heat treatment temperature is less than 80 ° C., the fine pores of the silica coating layer may not be completely closed and densified, and the treatment time may take a long time. Further, when the heat treatment temperature exceeds 300 ° C. for a long time, fine particles may be formed, and the effect of low refractive index may not be obtained.

この様にして得られた無機微粒子の屈折率は、1.44未満と低い。この様な無機微粒子は、多孔質粒子内部の多孔性が保持されているか、内部が空洞であるので、屈折率が低くなるものと推察される。   The refractive index of the inorganic fine particles thus obtained is as low as less than 1.44. Such inorganic fine particles are presumed to have a low refractive index because the porosity inside the porous particles is maintained or the inside is hollow.

低屈折率層のバインダーマトリックスとしては、熱または電離放射線により架橋する含フッ素樹脂(以下、「架橋前の含フッ素樹脂」ともいう)も好ましく用いられる。   As the binder matrix of the low refractive index layer, a fluorine-containing resin that is crosslinked by heat or ionizing radiation (hereinafter, also referred to as “fluorine-containing resin before crosslinking”) is preferably used.

架橋前の含フッ素樹脂としては、含フッ素ビニルモノマーと架橋性基付与のためのモノマーから形成される含フッ素共重合体を好ましく挙げることが出来る。上記含フッ素ビニルモノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えば、ビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。架橋性基付与のためのモノマーとしては、グリシジルメタクリレートや、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルグリシジルエーテル等のように分子内に予め架橋性官能基を有するビニルモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有するビニルモノマー(例えば、(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシアルキルビニルエーテル、ヒドロキシアルキルアリルエーテル等)が挙げられる。後者は共重合の後、ポリマー中の官能基と反応する基ともう1つ以上の反応性基を持つ化合物を加えることにより、架橋構造を導入出来ることが特開平10−25388号、同10−147739号に記載されている。架橋性基の例には、アクリロイル、メタクリロイル、イソシアナート、エポキシ、アジリジン、オキサゾリン、アルデヒド、カルボニル、ヒドラジン、カルボキシル、メチロール及び活性メチレン基等が挙げられる。含フッ素共重合体が、加熱により反応する架橋基、若しくは、エチレン性不飽和基と熱ラジカル発生剤若しくはエポキシ基と熱酸発生剤等の組み合わせにより、加熱により架橋する場合、熱硬化型であり、エチレン性不飽和基と光ラジカル発生剤若しくは、エポキシ基と光酸発生剤等の組み合わせにより、光(好ましくは紫外線、電子ビーム等)の照射により架橋する場合、電離放射線硬化型である。   Preferred examples of the fluorine-containing resin before crosslinking include a fluorine-containing copolymer formed from a fluorine-containing vinyl monomer and a monomer for imparting a crosslinkable group. Specific examples of the fluorine-containing vinyl monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3 -Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (produced by Osaka Organic Chemicals) or M-2020 (produced by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. Is mentioned. As monomers for imparting a crosslinkable group, glycidyl methacrylate, vinyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyl glycidyl ether, and other vinyl monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule. , Vinyl monomers having a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, sulfonic acid group, etc. (for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyalkyl vinyl ether, hydroxyalkyl allyl) Ether, etc.). The latter can introduce a crosslinked structure after copolymerization by adding a compound that reacts with a functional group in the polymer and one or more reactive groups. No. 147739. Examples of the crosslinkable group include acryloyl, methacryloyl, isocyanate, epoxy, aziridine, oxazoline, aldehyde, carbonyl, hydrazine, carboxyl, methylol, and active methylene group. When the fluorine-containing copolymer is crosslinked by heating with a crosslinking group that reacts by heating, or a combination of an ethylenically unsaturated group and a thermal radical generator or an epoxy group and a thermal acid generator, it is a thermosetting type. In the case of crosslinking by irradiation with light (preferably ultraviolet rays, electron beams, etc.) by a combination of an ethylenically unsaturated group and a photo radical generator, or an epoxy group and a photo acid generator, the ionizing radiation curable type is used.

また上記モノマーに加えて、含フッ素ビニルモノマー及び架橋性基付与のためのモノマー以外のモノマーを併用して形成された含フッ素共重合体を架橋前の含フッ素樹脂として用いてもよい。併用可能なモノマーには特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等を挙げることが出来る。また、含フッ素共重合体中に、滑り性、防汚性付与のため、ポリオルガノシロキサン骨格や、パーフルオロポリエーテル骨格を導入することも好ましい。これは、例えば末端にアクリル基、メタクリル基、ビニルエーテル基、スチリル基等を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと上記のモノマーとの重合、末端にラジカル発生基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルによる上記モノマーの重合、官能基を持つポリオルガノシロキサンやパーフルオロポリエーテルと、含フッ素共重合体との反応等によって得られる。   In addition to the above monomers, a fluorine-containing copolymer formed by using a monomer other than the fluorine-containing vinyl monomer and the monomer for imparting a crosslinkable group may be used as the fluorine-containing resin before crosslinking. The monomer that can be used in combination is not particularly limited. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, 2-acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl vinyl ether) Etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, etc.), methacrylamides, Ronitoriru derivatives and the like can be mentioned. In addition, it is also preferable to introduce a polyorganosiloxane skeleton or a perfluoropolyether skeleton into the fluorinated copolymer in order to impart slipperiness and antifouling properties. For example, polyorganosiloxane or perfluoropolyether having an acrylic group, methacrylic group, vinyl ether group, styryl group or the like at the terminal is polymerized with the above monomer, and polyorganosiloxane or perfluoropolyester having a radical generating group at the terminal. It can be obtained by polymerization of the above monomers with ether, reaction of a polyorganosiloxane or perfluoropolyether having a functional group with a fluorine-containing copolymer, or the like.

架橋前の含フッ素共重合体を形成するために用いられる上記各モノマーの使用割合は、含フッ素ビニルモノマーが好ましくは20〜70モル%、より好ましくは40〜70モル%、架橋性基付与のためのモノマーが好ましくは1〜20モル%、より好ましくは5〜20モル%、併用されるその他のモノマーが好ましくは10〜70モル%、より好ましくは10〜50モル%の割合である。   The proportion of each of the above monomers used to form the fluorinated copolymer before crosslinking is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol%, more preferably 40 to 70 mol% of the fluorinated vinyl monomer. The amount of the monomer is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 5 to 20 mol%, and the other monomer used in combination is preferably 10 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%.

含フッ素共重合体は、これらモノマーをラジカル重合開始剤の存在下で、溶液重合、塊状重合、乳化重合、懸濁重合法等の手段により重合することにより得ることが出来る。   The fluorine-containing copolymer can be obtained by polymerizing these monomers in the presence of a radical polymerization initiator by means such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, suspension polymerization.

架橋前の含フッ素樹脂は、市販されており使用することが出来る。市販されている架橋前の含フッ素樹脂の例としては、サイトップ(旭硝子製)、テフロン(R)AF(デュポン製)、ポリフッ化ビニリデン、ルミフロン(旭硝子製)、オプスター(JSR製)等が挙げられる。   The fluorine-containing resin before crosslinking is commercially available and can be used. Examples of commercially available fluorine-containing resins before cross-linking include Cytop (Asahi Glass), Teflon (R) AF (DuPont), polyvinylidene fluoride, Lumiflon (Asahi Glass), Opstar (JSR) and the like. It is done.

架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は、動摩擦係数が0.03〜0.15の範囲、水に対する接触角が90〜120度の範囲にあることが好ましい。   The low refractive index layer containing a cross-linked fluororesin as a constituent component preferably has a dynamic friction coefficient in the range of 0.03 to 0.15 and a contact angle with water in the range of 90 to 120 degrees.

架橋した含フッ素樹脂を構成成分とする低屈折率層は前述の無機粒子を含有する。   The low refractive index layer containing a cross-linked fluorine-containing resin as a constituent component contains the aforementioned inorganic particles.

また、他の低屈折率層用のバインダーマトリックスとして、各種ゾルゲル素材を用いることも出来る。この様なゾルゲル素材としては、金属アルコレート(シラン、チタン、アルミニウム、ジルコニウム等のアルコレート)、オルガノアルコキシ金属化合物及びその加水分解物を用いることが出来る。特に、アルコキシシラン、オルガノアルコキシシラン及びその加水分解物が好ましい。これらの例としては、テトラアルコキシシラン(テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等)、アルキルトリアルコキシシラン(メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン等)、アリールトリアルコキシシラン(フェニルトリメトキシシラン等)、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリールジアルコキシシラン等が挙げられる。また、各種の官能基を有するオルガノアルコキシシラン(ビニルトリアルコキシシラン、メチルビニルジアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジアルコキシシラン、β−(3,4−エポキジシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン等)、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等)、フルオロアルキルエーテル基含有シラン化合物を用いることも好ましい。特にフッ素含有のシラン化合物を用いることは、層の低屈折率化及び撥水・撥油性付与の点で好ましい。   Various sol-gel materials can also be used as a binder matrix for other low refractive index layers. As such a sol-gel material, metal alcoholates (alcohols such as silane, titanium, aluminum, and zirconium), organoalkoxy metal compounds, and hydrolysates thereof can be used. In particular, alkoxysilane, organoalkoxysilane and its hydrolyzate are preferable. Examples of these include tetraalkoxysilane (tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, etc.), alkyltrialkoxysilane (methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, etc.), aryltrialkoxysilane (phenyltrimethoxysilane, etc.), dialkyl. Examples thereof include dialkoxysilane and diaryl dialkoxysilane. In addition, organoalkoxysilanes having various functional groups (vinyl trialkoxysilane, methylvinyl dialkoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrialkoxysilane, γ-glycidyloxypropylmethyl dialkoxysilane, β- (3,4-epoxy) Dicyclohexyl) ethyltrialkoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrialkoxysilane, γ-aminopropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, etc.), perfluoroalkyl group-containing silane compounds ( For example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, etc.), containing fluoroalkyl ether group It is also preferable to use a run-compound. In particular, the use of a fluorine-containing silane compound is preferable in terms of lowering the refractive index of the layer and imparting water and oil repellency.

低屈折率層は、5〜50質量%の量のポリマーを含むことが好ましい。ポリマーは、微粒子を接着し、空隙を含む低屈折率層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、空隙を充填することなく低屈折率層の強度を維持出来るように調整する。ポリマーの量は、低屈折率層の全量の10〜30質量%であることが好ましい。ポリマーで微粒子を接着するためには、(1)微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、(2)微粒子をコアとして、その周囲にポリマーシェルを形成するか、或いは(3)微粒子間のバインダーとして、ポリマーを使用することが好ましい。(1)の表面処理剤に結合させるポリマーは、(2)のシェルポリマーまたは(3)のバインダーポリマーであることが好ましい。(2)のポリマーは、低屈折率層の塗布液の調製前に、微粒子の周囲に重合反応により形成することが好ましい。(3)のポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に、重合反応により形成することが好ましい。上記(1)〜(3)の内の二つまたは全てを組み合わせて実施することが好ましく、(1)と(3)の組み合わせ、または(1)〜(3)全ての組み合わせで実施することが特に好ましい。(1)表面処理、(2)シェル及び(3)バインダーについて順次説明する。   The low refractive index layer preferably contains the polymer in an amount of 5 to 50% by mass. The polymer has a function of adhering fine particles and maintaining the structure of a low refractive index layer including voids. The amount of the polymer used is adjusted so that the strength of the low refractive index layer can be maintained without filling the voids. The amount of the polymer is preferably 10 to 30% by mass of the total amount of the low refractive index layer. In order to adhere the fine particles with the polymer, (1) the polymer is bonded to the surface treatment agent of the fine particles, (2) the fine particles are used as a core, and a polymer shell is formed around the fine particles. It is preferable to use a polymer as the binder. The polymer to be bonded to the surface treatment agent (1) is preferably the shell polymer (2) or the binder polymer (3). The polymer (2) is preferably formed around the fine particles by a polymerization reaction before preparing the coating solution for the low refractive index layer. The polymer (3) is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer and performing a polymerization reaction simultaneously with or after the coating of the low refractive index layer. It is preferable to carry out in combination of two or all of the above (1) to (3), and to carry out in combination of (1) and (3) or (1) to (3) all combinations. Particularly preferred. (1) Surface treatment, (2) shell, and (3) binder will be described sequentially.

(1)表面処理
微粒子(特に無機微粒子)には、表面処理を実施して、ポリマーとの親和性を改善することが好ましい。表面処理は、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理と、カップリング剤を使用する化学的表面処理に分類出来る。化学的表面処理のみ、または物理的表面処理と化学的表面処理の組み合わせで実施することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。微粒子がSiO2からなる場合は、シランカップリング剤による表面処理が特に有効に実施出来る。具体的なシランカップリング剤の例としては、後述するシランカップリング剤が好ましく用いられる。
(1) Surface treatment It is preferable that the fine particles (particularly inorganic fine particles) are subjected to a surface treatment to improve the affinity with the polymer. The surface treatment can be classified into physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent. It is preferable to carry out only chemical surface treatment or a combination of physical surface treatment and chemical surface treatment. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Particles when made of SiO 2, surface treatment with a silane coupling agent can be particularly effectively conducted. As a specific example of the silane coupling agent, a silane coupling agent described later is preferably used.

カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and allowing the dispersion to stand at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

(2)シェル
シェルを形成するポリマーは、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが好ましい。フッ素原子を主鎖または側鎖に含むポリマーが好ましく、フッ素原子を側鎖に含むポリマーが更に好ましい。ポリアクリル酸エステルまたはポリメタクリル酸エステルが好ましく、フッ素置換アルコールとポリアクリル酸またはポリメタクリル酸とのエステルが最も好ましい。シェルポリマーの屈折率は、ポリマー中のフッ素原子の含有量の増加に伴い低下する。低屈折率層の屈折率を低下させるため、シェルポリマーは35〜80質量%のフッ素原子を含むことが好ましく、45〜75質量%のフッ素原子を含むことが更に好ましい。フッ素原子を含むポリマーは、フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの重合反応により合成することが好ましい。フッ素原子を含むエチレン性不飽和モノマーの例としては、フルオロオレフィン(例えば、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、フッ素化ビニルエーテル及びフッ素置換アルコールとアクリル酸またはメタクリル酸とのエステルが挙げられる。
(2) Shell The polymer forming the shell is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. A polymer containing a fluorine atom in the main chain or side chain is preferred, and a polymer containing a fluorine atom in the side chain is more preferred. Polyacrylic acid esters or polymethacrylic acid esters are preferred, and esters of fluorine-substituted alcohols with polyacrylic acid or polymethacrylic acid are most preferred. The refractive index of the shell polymer decreases as the content of fluorine atoms in the polymer increases. In order to lower the refractive index of the low refractive index layer, the shell polymer preferably contains 35 to 80% by mass of fluorine atoms, and more preferably contains 45 to 75% by mass of fluorine atoms. The polymer containing a fluorine atom is preferably synthesized by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers containing fluorine atoms include fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole), Mention may be made of esters of fluorinated vinyl ethers and fluorine-substituted alcohols with acrylic acid or methacrylic acid.

シェルを形成するポリマーは、フッ素原子を含む繰り返し単位とフッ素原子を含まない繰り返し単位からなるコポリマーであってもよい。フッ素原子を含まない繰り返し単位は、フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。フッ素原子を含まないエチレン性不飽和モノマーの例としては、オレフィン(例えば、エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン)、アクリル酸エステル(例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル(例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート)、スチレン及びその誘導体(例えば、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン)、ビニルエーテル(例えば、メチルビニルエーテル)、ビニルエステル(例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル)、アクリルアミド(例えば、N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド)、メタクリルアミド及びアクリロニトリルが挙げられる。   The polymer forming the shell may be a copolymer composed of a repeating unit containing a fluorine atom and a repeating unit not containing a fluorine atom. The repeating unit containing no fluorine atom is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer containing no fluorine atom. Examples of ethylenically unsaturated monomers that do not contain fluorine atoms include olefins (eg, ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride), acrylic acid esters (eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2- Ethyl hexyl), methacrylic acid esters (for example, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate), styrene and its derivatives (for example, styrene, divinylbenzene, vinyltoluene, α-methylstyrene), vinyl ether ( For example, methyl vinyl ether), vinyl esters (for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate), acrylamide (for example, N-tertbutylacrylamide, N-cyclohexylacrylic) Amides), methacrylamide and acrylonitrile.

後述する(3)のバインダーポリマーを併用する場合は、シェルポリマーに架橋性官能基を導入して、シェルポリマーとバインダーポリマーとを架橋により化学的に結合させてもよい。シェルポリマーは、結晶性を有していてもよい。シェルポリマーのガラス転移温度(Tg)が低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、低屈折率層内のミクロボイドの維持が容易である。但し、Tgが低屈折率層の形成時の温度よりも高いと、微粒子が融着せず、低屈折率層が連続層として形成されない(その結果、強度が低下する)場合がある。その場合は、後述する(3)のバインダーポリマーを併用し、バインダーポリマーにより低屈折率層を連続層として形成することが望ましい。微粒子の周囲にポリマーシェルを形成して、コアシェル微粒子が得られる。コアシェル微粒子中に無機微粒子からなるコアが5〜90体積%含まれていることが好ましく、15〜80体積%含まれていることが更に好ましい。二種類以上のコアシェル微粒子を併用してもよい。また、シェルのない無機微粒子とコアシェル粒子とを併用してもよい。   When the binder polymer (3) described later is used in combination, a crosslinkable functional group may be introduced into the shell polymer to chemically bond the shell polymer and the binder polymer by crosslinking. The shell polymer may have crystallinity. When the glass transition temperature (Tg) of the shell polymer is higher than the temperature at the time of forming the low refractive index layer, it is easy to maintain microvoids in the low refractive index layer. However, if Tg is higher than the temperature at which the low refractive index layer is formed, the fine particles are not fused, and the low refractive index layer may not be formed as a continuous layer (resulting in a decrease in strength). In that case, it is desirable to use a binder polymer (3) described later in combination, and form the low refractive index layer as a continuous layer with the binder polymer. By forming a polymer shell around the fine particles, core-shell fine particles are obtained. The core-shell fine particles preferably contain 5 to 90% by volume of a core composed of inorganic fine particles, and more preferably 15 to 80% by volume. Two or more kinds of core-shell fine particles may be used in combination. Further, inorganic fine particles having no shell and core-shell particles may be used in combination.

(3)バインダー
バインダーポリマーは、飽和炭化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーであることが更に好ましい。バインダーポリマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマーの重合反応により得ることが好ましい。架橋しているバインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例えば、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例えば、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例えば、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミドが挙げられる。ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合成することが好ましい。2以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。架橋性官能基の例としては、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が挙げられる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタンも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用出来る。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。また、架橋基は、上記化合物に限らず上記官能基が分解した結果反応性を示すものであってもよい。バインダーポリマーの重合反応及び架橋反応に使用する重合開始剤は、熱重合開始剤や、光重合開始剤が用いられるが、光重合開始剤の方がより好ましい。光重合開始剤の例としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類がある。アセトフェノン類の例としては、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン及び2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが挙げられる。ベンゾイン類の例としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。ベンゾフェノン類の例としては、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン及びp−クロロベンゾフェノンが挙げられる。ホスフィンオキシド類の例としては、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが挙げられる。
(3) Binder The binder polymer is preferably a polymer having a saturated hydrocarbon or polyether as the main chain, and more preferably a polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain. The binder polymer is preferably crosslinked. The polymer having a saturated hydrocarbon as the main chain is preferably obtained by a polymerization reaction of an ethylenically unsaturated monomer. In order to obtain a crosslinked binder polymer, it is preferable to use a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups. Examples of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid (for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-dichlorohexane diacrylate, pentaerythritol). Tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate), vinylbenzene and its derivatives For example, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylene bisacrylamide) and methacrylamide Can be mentioned. The polymer having a polyether as the main chain is preferably synthesized by a ring-opening polymerization reaction of a polyfunctional epoxy compound. Instead of or in addition to the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a crosslinked structure may be introduced into the binder polymer by the reaction of a crosslinkable group. Examples of crosslinkable functional groups include isocyanate groups, epoxy groups, aziridine groups, oxazoline groups, aldehyde groups, carbonyl groups, hydrazine groups, carboxyl groups, methylol groups, and active methylene groups. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. The cross-linking group is not limited to the above compound, and may be one that exhibits reactivity as a result of decomposition of the functional group. As the polymerization initiator used for the polymerization reaction and the crosslinking reaction of the binder polymer, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator is used, and the photopolymerization initiator is more preferable. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. Examples of benzoins include benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

バインダーポリマーは、低屈折率層の塗布液にモノマーを添加し、低屈折率層の塗布と同時または塗布後に重合反応(必要ならば更に架橋反応)により形成することが好ましい。低屈折率層の塗布液に、少量のポリマー(例えば、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、ニトロセルロース、ポリエステル、アルキド樹脂)を添加してもよい。   The binder polymer is preferably formed by adding a monomer to the coating solution for the low refractive index layer, and at the same time as or after the coating of the low refractive index layer, by a polymerization reaction (further crosslinking reaction if necessary). Even if a small amount of polymer (for example, polyvinyl alcohol, polyoxyethylene, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, nitrocellulose, polyester, alkyd resin) is added to the coating solution for the low refractive index layer Good.

また、本発明の低屈折率層或いは他の屈折率層には滑り剤を添加することが好ましく、滑り性を付与することによって耐傷性を改善することが出来る。滑り剤としては、シリコンオイルまたはワックス状物質が好ましく用いられる。例えば、下記一般式で表される化合物が好ましい。   Moreover, it is preferable to add a slipping agent to the low refractive index layer or other refractive index layers of the present invention, and scratch resistance can be improved by imparting slipperiness. As the slip agent, silicon oil or a wax-like substance is preferably used. For example, a compound represented by the following general formula is preferable.

一般式 R1COR2
式中、R1は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基を表す。アルキル基またはアルケニル基が好ましく、更に炭素原子数が16以上のアルキル基またはアルケニル基が好ましい。R2は−OM1基(M1はNa、K等のアルカリ金属を表す)、−OH基、−NH2基、または−OR3基(R3は炭素原子数が12以上の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基、好ましくはアルキル基またはアルケニル基を表す)を表し、R2としては−OH基、−NH2基または−OR3基が好ましい。具体的には、ベヘン酸、ステアリン酸アミド、ペンタコ酸等の高級脂肪酸またはその誘導体、天然物としてこれらの成分を多く含んでいるカルナバワックス、蜜蝋、モンタンワックスも好ましく使用出来る。特公昭53−292号公報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米国特許第4,275,146号明細書に開示されているような高級脂肪酸アミド、特公昭58−33541号公報、英国特許第927,446号明細書または特開昭55−126238号公報及び同58−90633号公報に開示されているような高級脂肪酸エステル(炭素数が10〜24の脂肪酸と炭素数が10〜24のアルコールのエステル)、そして米国特許第3,933,516号明細書に開示されているような高級脂肪酸金属塩、特開昭51−37217号公報に開示されているような炭素数10までのジカルボン酸と脂肪族または環式脂肪族ジオールからなるポリエステル化合物、特開平7−13292号公報に開示されているジカルボン酸とジオールからのオリゴポリエステル等を挙げることが出来る。
General formula R 1 COR 2
In the formula, R 1 represents a saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group having 12 or more carbon atoms. An alkyl group or an alkenyl group is preferable, and an alkyl group or alkenyl group having 16 or more carbon atoms is more preferable. R 2 represents —OM 1 group (M 1 represents an alkali metal such as Na or K), —OH group, —NH 2 group, or —OR 3 group (R 3 represents a saturated or unsaturated group having 12 or more carbon atoms. R 2 represents a saturated aliphatic hydrocarbon group, preferably an alkyl group or an alkenyl group, and R 2 is preferably an —OH group, —NH 2 group, or —OR 3 group. Specifically, higher fatty acids such as behenic acid, stearamide, and pentacoic acid, or derivatives thereof, and carnauba wax, beeswax, and montan wax containing many of these components as natural products can also be preferably used. Polyorganosiloxane as disclosed in JP-B-53-292, higher fatty acid amide as disclosed in US Pat. No. 4,275,146, JP-B 58-33541, British patent No. 927,446 or JP-A-55-126238 and 58-90633, higher fatty acid esters (fatty acids having 10 to 24 carbon atoms and 10 to 24 carbon atoms). Esters of alcohols), and higher fatty acid metal salts as disclosed in U.S. Pat. No. 3,933,516, dicarboxylic acids having up to 10 carbon atoms as disclosed in JP-A-51-37217 A polyester compound comprising an acid and an aliphatic or cycloaliphatic diol, a dicarboxylic acid disclosed in JP-A-7-13292, It can be mentioned oligo polyester or the like from the Le.

特に好ましく用いられるシリコンオイルは表1に記載の化合物である。   Particularly preferred silicone oils are the compounds listed in Table 1.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

例えば、低屈折率層に使用する滑り剤の添加量は0.01mg/m2〜10mg/m2が好ましい。 For example, the amount of slip agent to be used in the low refractive index layer is preferably 0.01mg / m 2 ~10mg / m 2 .

本発明においては、反射率の低減のために、活性線硬化樹脂層を付与した透明支持体と低屈折率層との間に、高屈折率層を設けることも好ましい。また、透明支持体と高屈折率層との間に中屈折率層を設けることは、反射率の低減のために更に好ましい。高屈折率層の屈折率は、1.55〜2.30であることが好ましく、1.57〜2.20であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、透明支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.55〜1.80であることが好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の厚さは、5nm〜1μmであることが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層のヘイズは、5%以下であることが好ましく、3%以下であることが更に好ましく、1%以下であることが最も好ましい。高屈折率層及び中屈折率層の強度は、1kg荷重の鉛筆硬度でH以上であることが好ましく、2H以上であることが更に好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   In the present invention, in order to reduce the reflectance, it is also preferable to provide a high refractive index layer between the transparent support provided with the active ray curable resin layer and the low refractive index layer. In addition, it is more preferable to provide a middle refractive index layer between the transparent support and the high refractive index layer in order to reduce the reflectance. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.30, and more preferably 1.57 to 2.20. The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to be an intermediate value between the refractive index of the transparent support and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.55-1.80. The thickness of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm. The haze of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and most preferably 1% or less. The strength of the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher, with a pencil hardness of 1 kg.

本発明に用いられる中、高屈折率層は下記一般式で表される有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物を含有する塗布液を塗布し乾燥させて形成させた屈折率1.55〜2.5の層であることが好ましい。   Among the refractive index layers used in the present invention, the high refractive index layer was formed by applying and drying a coating solution containing a monomer, oligomer or hydrolyzate of an organic titanium compound represented by the following general formula. A layer of 55 to 2.5 is preferred.

一般式 Ti(OR14
式中、R1としては炭素数1〜8の脂肪族炭化水素基がよいが、好ましくは炭素数1〜4の脂肪族炭化水素基である。また、有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、アルコキシド基が加水分解を受けて−Ti−O−Ti−のように反応して架橋構造を作り、硬化した層を形成する。
General formula Ti (OR 1 ) 4
In the formula, R 1 is preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, the monomer, oligomer, or hydrolyzate thereof of an organic titanium compound reacts like -Ti-O-Ti- when an alkoxide group is hydrolyzed to form a crosslinked structure, thereby forming a cured layer.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーとしては、Ti(OCH34、Ti(OC254、Ti(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−i−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体等が好ましい例として挙げられる。これらは単独で、または2種以上組み合わせて用いることが出来る。中でもTi(O−n−C374、Ti(O−i−C374、Ti(O−n−C494、Ti(O−n−C374の2〜10量体、Ti(O−n−C494の2〜10量体が特に好ましい。 Examples of the monomer or oligomer of the organic titanium compound used in the present invention include Ti (OCH 3 ) 4 , Ti (OC 2 H 5 ) 4 , Ti (On-C 3 H 7 ) 4 , Ti (O-i- C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7) 4 2-10 mer, Ti (O-i-C 3 H 7) Preferred examples include 4 to 10 mer of 4 and 2 to 10 mer of Ti (On-C 4 H 9 ) 4 . These may be used alone or in combination of two or more. Of these Ti (O-n-C 3 H 7) 4, Ti (O-i-C 3 H 7) 4, Ti (O-n-C 4 H 9) 4, Ti (O-n-C 3 H 7 ) 4 to 10-mer and Ti (On-C 4 H 9 ) 4 to 10-mer are particularly preferable.

本発明に用いられる中、高屈折率層用塗布液は、水と後述する有機溶媒が順次添加された溶液中に上記有機チタン化合物を添加することが好ましい。水を後から添加した場合は、加水分解/重合が均一に進行せず、白濁が発生したり、膜強度が低下する。水と有機溶媒は添加された後、良く混合させるために攪拌し混合溶解されていることが好ましい。   Among the coating solutions for the high refractive index layer used in the present invention, it is preferable to add the organic titanium compound to a solution in which water and an organic solvent described later are sequentially added. When water is added later, hydrolysis / polymerization does not proceed uniformly, and white turbidity occurs or film strength decreases. After the water and the organic solvent are added, it is preferable that they are stirred and mixed and dissolved in order to mix well.

また、別法として有機チタン化合物と有機溶媒を混合させておき、この混合溶液を、上記水と有機溶媒の混合攪拌された溶液中に添加することも好ましい態様である。   Further, as another method, it is also a preferred embodiment that an organic titanium compound and an organic solvent are mixed and this mixed solution is added to the mixed and stirred solution of water and the organic solvent.

また、水の量は有機チタン化合物1モルに対して、0.25〜3モルの範囲であることが好ましい。0.25モル未満であると、加水分解、重合の進行が不十分で膜強度が低下する。3モルを超えると加水分解、重合が進行し過ぎて、TiO2の粗大粒子が発生し白濁するため好ましくない。従って水の量は上記範囲で調整する必要がある。 Moreover, it is preferable that the quantity of water is the range of 0.25-3 mol with respect to 1 mol of organic titanium compounds. When the amount is less than 0.25 mol, hydrolysis and polymerization are not sufficiently progressed and the film strength is lowered. If it exceeds 3 moles, hydrolysis and polymerization will proceed excessively, resulting in generation of coarse TiO 2 particles and white turbidity. Therefore, the amount of water needs to be adjusted within the above range.

また、水の含有率は塗布液総量に対して10質量%未満であることが好ましい。水の含有率を塗布液総量に対して10質量%以上にすると、塗布液の経時安定が劣り白濁を生じたりするため好ましくない。   Moreover, it is preferable that the content rate of water is less than 10 mass% with respect to the coating liquid total amount. If the water content is 10% by mass or more with respect to the total amount of the coating solution, it is not preferable because the stability of the coating solution with time deteriorates and white turbidity occurs.

本発明に用いられる有機溶媒としては、水混和性の有機溶媒であることが好ましい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、アルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等)、多価アルコール類(例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等)、多価アルコールエーテル類(例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等)、アミン類(例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチルジエタノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、モルホリン、N−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等)、アミド類(例えば、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、複素環類(例えば、2−ピロリドン、N−メチル−2−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、2−オキサゾリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例えば、ジメチルスルホキシド等)、スルホン類(例えば、スルホラン等)、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられるが、特に、アルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類が好ましい。これらの有機溶媒の使用量は、前述したように、水の含有率が塗布液総量に対して10質量%未満であるように、水と有機溶媒のトータルの使用量を調整すればよい。   The organic solvent used in the present invention is preferably a water-miscible organic solvent. Examples of the water-miscible organic solvent include alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, secondary butanol, tertiary butanol, pentanol, hexanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, etc.), many Monohydric alcohols (for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, butylene glycol, hexanediol, pentanediol, glycerin, hexanetriol, thiodiglycol, etc.), polyvalent Alcohol ethers (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether) , Ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono Phenyl ether, propylene glycol monophenyl ether, etc.), amines (eg, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyldiethanolamine, N-ethyldiethanolamine, morpholine, N-ethylmorpholine, ethylenediamine, diethylenediamine) , Triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, polyethyleneimine, pentamethyldiethylenetriamine, tetramethylpropylenediamine, etc.), amides (eg, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), heterocyclic rings (For example, 2-pyrrolidone, N-methyl-2-pyrrolidone, cyclohexyl pyrrolidone, 2-oxazolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, etc.), sulfoxides (for example, dimethyl sulfoxide, etc.), sulfones (for example, , Sulfolane and the like), urea, acetonitrile, acetone and the like, and alcohols, polyhydric alcohols, and polyhydric alcohol ethers are particularly preferable. The amount of these organic solvents used may be adjusted as described above so that the water content is less than 10% by mass with respect to the total amount of the coating solution.

本発明に用いられる有機チタン化合物のモノマー、オリゴマーまたはそれらの加水分解物は、塗布液に含まれる固形分中の50.0質量%〜98.0質量%を占めていることが望ましい。固形分比率は50質量%〜90質量%がより好ましく、55質量%〜90質量%が更に好ましい。この他、塗布組成物には有機チタン化合物のポリマー(予め有機チタン化合物の加水分解を行って架橋したもの)或いは酸化チタン微粒子を添加することも好ましい。   The monomer, oligomer or hydrolyzate of the organic titanium compound used in the present invention preferably occupies 50.0% by mass to 98.0% by mass in the solid content contained in the coating solution. The solid content ratio is more preferably 50% by mass to 90% by mass, and further preferably 55% by mass to 90% by mass. In addition, it is also preferable to add to the coating composition a polymer of an organic titanium compound (a product obtained by crosslinking the organic titanium compound in advance by hydrolysis) or titanium oxide fine particles.

本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、微粒子として金属酸化物粒子を含み、更にバインダーポリマーを含むものも好ましく用いられる。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably include those containing metal oxide particles as fine particles and further containing a binder polymer.

或いは、上記塗布液調製法で加水分解/重合した有機チタン化合物と金属酸化物粒子を組み合わせると、金属酸化物粒子と加水分解/重合した有機チタン化合物とが強固に接着し、粒子のもつ硬さと均一膜の柔軟性を兼ね備えた強い塗膜を得ることが出来る。   Alternatively, when the organic titanium compound hydrolyzed / polymerized by the coating liquid preparation method and the metal oxide particles are combined, the metal oxide particles and the hydrolyzed / polymerized organic titanium compound are firmly bonded, and the hardness of the particles A strong coating film having the flexibility of a uniform film can be obtained.

高屈折率層及び中屈折率層に用いる金属酸化物粒子は、屈折率が1.80〜2.80であることが好ましく、1.90〜2.80であることが更に好ましい。金属酸化物粒子の1次粒子の重量平均径は、1〜150nmであることが好ましく、1〜100nmであることが更に好ましく、1〜80nmであることが最も好ましい。層中での金属酸化物粒子の重量平均径は、1〜200nmであることが好ましく、5〜150nmであることがより好ましく、10〜100nmであることが更に好ましく、10〜80nmであることが最も好ましい。金属酸化物粒子の平均粒径は、20〜30nm以上であれば光散乱法により、20〜30nm以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。金属酸化物粒子の比表面積は、BET法で測定された値として、10〜400m2/gであることが好ましく、20〜200m2/gであることが更に好ましく、30〜150m2/gであることが最も好ましい。 The metal oxide particles used for the high refractive index layer and the medium refractive index layer preferably have a refractive index of 1.80 to 2.80, and more preferably 1.90 to 2.80. The weight average diameter of the primary particles of the metal oxide particles is preferably 1 to 150 nm, more preferably 1 to 100 nm, and most preferably 1 to 80 nm. The weight average diameter of the metal oxide particles in the layer is preferably 1 to 200 nm, more preferably 5 to 150 nm, still more preferably 10 to 100 nm, and more preferably 10 to 80 nm. Most preferred. The average particle diameter of the metal oxide particles is measured by a light scattering method if it is 20-30 nm or more, and by an electron micrograph if it is 20-30 nm or less. The specific surface area of metal oxide particles, as measured values by the BET method is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, with 30 to 150 m 2 / g Most preferably it is.

金属酸化物粒子の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びSから選択される少なくとも一種の元素を有する金属酸化物であり、具体的には二酸化チタン(例、ルチル、ルチル/アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造)、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムが挙げられる。中でも、酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。金属酸化物粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来、導電性を付与した微粒子も好ましく用いられる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量(質量%)が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ti、Zr、Sn、Sb、Cu、Fe、Mn、Pb、Cd、As、Cr、Hg、Zn、Al、Mg、Si、P及びS等が挙げられる。   Examples of the metal oxide particles include at least one selected from Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S. Specific examples of the metal oxide include titanium dioxide (eg, rutile, rutile / anatase mixed crystal, anatase, amorphous structure), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide. Of these, titanium oxide, tin oxide, and indium oxide are particularly preferable. The metal oxide particles are mainly composed of oxides of these metals, can further contain other elements, and fine particles imparted with conductivity are also preferably used. The main component means a component having the largest content (mass%) among the components constituting the particles. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, and S.

金属酸化物粒子は表面処理されていることが好ましい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。   The metal oxide particles are preferably surface-treated. The surface treatment can be performed using an inorganic compound or an organic compound. Examples of inorganic compounds used for the surface treatment include alumina, silica, zirconium oxide and iron oxide. Of these, alumina and silica are preferable. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents, and titanate coupling agents. Of these, a silane coupling agent is most preferable.

具体的なシランカップリング剤の例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシジルオキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポシシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びβ−シアノエチルトリエトキシシランが挙げられる。   Specific examples of the silane coupling agent include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltrimethoxyethoxysilane, methyltriacetoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, vinyltriethoxysilane. Methoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriacetoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, γ-chloropropyltriacetoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidyloxy Propyltriethoxysilane, γ- (β-glycidyloxyethoxy) propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, Examples include N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and β-cyanoethyltriethoxysilane.

また、珪素に対して2置換のアルキル基を持つシランカップリング剤の例として、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシジルオキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが挙げられる。   Examples of silane coupling agents having a disubstituted alkyl group with respect to silicon include dimethyldimethoxysilane, phenylmethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane, and γ-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane. Γ-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidyloxypropylphenyldiethoxysilane, γ-chloropropylmethyldiethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldi Ethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimeth Shishiran, .gamma.-mercaptopropyl methyl diethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl dimethoxy silane, .gamma.-aminopropyl methyl diethoxy silane, methyl vinyl dimethoxy silane, and methyl vinyl diethoxy silane.

これらの内、分子内に二重結合を有するビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、珪素に対して2置換のアルキル基を持つものとしてγ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン及びメチルビニルジエトキシシランが好ましく、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシランが特に好ましい。   Of these, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrimethoxyethoxysilane, γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane having a double bond in the molecule. Γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxy having a disubstituted alkyl group with respect to silicon Silane, methylvinyldimethoxysilane and methylvinyldiethoxysilane are preferred, and γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane and γ-methacryloyloxypro Pyrtrimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloyloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane and γ-methacryloyloxypropylmethyldiethoxysilane are particularly preferred.

2種類以上のカップリング剤を併用してもよい。上記に示されるシランカップリング剤に加えて、他のシランカップリング剤を用いてもよい。他のシランカップリング剤には、オルトケイ酸のアルキルエステル(例えば、オルトケイ酸メチル、オルトケイ酸エチル、オルトケイ酸n−プロピル、オルトケイ酸i−プロピル、オルトケイ酸n−ブチル、オルトケイ酸sec−ブチル、オルトケイ酸t−ブチル)及びその加水分解物が挙げられる。   Two or more coupling agents may be used in combination. In addition to the silane coupling agents shown above, other silane coupling agents may be used. Other silane coupling agents include alkyl esters of orthosilicate (eg, methyl orthosilicate, ethyl orthosilicate, n-propyl orthosilicate, i-propyl orthosilicate, n-butyl orthosilicate, sec-butyl orthosilicate, orthosilicate). Acid t-butyl) and its hydrolyzate.

カップリング剤による表面処理は、微粒子の分散物に、カップリング剤を加え、室温から60℃までの温度で、数時間から10日間分散物を放置することにより実施出来る。表面処理反応を促進するため、無機酸(例えば、硫酸、塩酸、硝酸、クロム酸、次亜塩素酸、ホウ酸、オルトケイ酸、リン酸、炭酸)、有機酸(例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、フェノール、ポリグルタミン酸)、またはこれらの塩(例えば、金属塩、アンモニウム塩)を、分散物に添加してもよい。   The surface treatment with the coupling agent can be carried out by adding the coupling agent to the fine particle dispersion and allowing the dispersion to stand at a temperature from room temperature to 60 ° C. for several hours to 10 days. In order to accelerate the surface treatment reaction, inorganic acids (for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, chromic acid, hypochlorous acid, boric acid, orthosilicic acid, phosphoric acid, carbonic acid), organic acids (for example, acetic acid, polyacrylic acid, Benzenesulfonic acid, phenol, polyglutamic acid), or salts thereof (eg, metal salts, ammonium salts) may be added to the dispersion.

これらシランカップリング剤は予め必要量の水で加水分解されていることが好ましい。シランカップリング剤が加水分解されていると、前述の有機チタン化合物及び金属酸化物粒子の表面が反応し易く、より強固な膜が形成される。また、加水分解されたシランカップリング剤を予め塗布液中に加えることも好ましい。この加水分解に用いた水も有機チタン化合物の加水分解/重合に用いることが出来る。   These silane coupling agents are preferably hydrolyzed with a necessary amount of water in advance. When the silane coupling agent is hydrolyzed, the surfaces of the organic titanium compound and the metal oxide particles described above are easy to react and a stronger film is formed. It is also preferable to add a hydrolyzed silane coupling agent to the coating solution in advance. The water used for this hydrolysis can also be used for the hydrolysis / polymerization of the organic titanium compound.

本発明では2種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。金属酸化物粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。2種類以上の金属酸化物粒子を高屈折率層或いは中屈折率層に用いてもよい。   In the present invention, the treatment may be performed by combining two or more kinds of surface treatments. The shape of the metal oxide particles is preferably a rice grain shape, a spherical shape, a cubic shape, a spindle shape or an indefinite shape. Two or more kinds of metal oxide particles may be used in the high refractive index layer or the middle refractive index layer.

高屈折率層及び中屈折率層中の金属酸化物粒子の割合は、5〜65体積%であることが好ましく、より好ましくは10〜60体積%であり、更に好ましくは20〜55体積%である。   The ratio of the metal oxide particles in the high refractive index layer and the medium refractive index layer is preferably 5 to 65% by volume, more preferably 10 to 60% by volume, and still more preferably 20 to 55% by volume. is there.

上記金属酸化物粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、高屈折率層及び中屈折率層を形成するための塗布液に供される。金属酸化物粒子の分散媒体としては、沸点が60〜170℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン)、ケトンアルコール(例、ジアセトンアルコール)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n−メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。   The metal oxide particles are supplied to a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer in a dispersion state dispersed in a medium. As a dispersion medium for metal oxide particles, it is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C. Specific examples of the dispersion solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, benzyl alcohol), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone), ketone alcohol (eg, diacetone alcohol). , Esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene) Chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n-methylpyrrolidone), ethers (eg, diethyl ether, dioxane, Tiger hydrofuran), ether alcohols (e.g., 1-methoxy-2-propanol). Of these, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferable.

また金属酸化物粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。   The metal oxide particles can be dispersed in the medium using a disperser. Examples of the disperser include a sand grinder mill (eg, a bead mill with pins), a high-speed impeller mill, a pebble mill, a roller mill, an attritor, and a colloid mill. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.

本発明に用いられる高屈折率層及び中屈折率層は、架橋構造を有するポリマー(以下、架橋ポリマーともいう)をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー(以下、ポリオレフィンと総称する)、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーがアニオン性基を有することは更に好ましい。アニオン性基は無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造はポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。   The high refractive index layer and medium refractive index layer used in the present invention preferably use a polymer having a crosslinked structure (hereinafter also referred to as a crosslinked polymer) as a binder polymer. Examples of the crosslinked polymer include polymers having a saturated hydrocarbon chain such as polyolefin (hereinafter collectively referred to as polyolefin), and crosslinked products such as polyether, polyurea, polyurethane, polyester, polyamine, polyamide, and melamine resin. Among them, a crosslinked product of polyolefin, polyether and polyurethane is preferred, a crosslinked product of polyolefin and polyether is more preferred, and a crosslinked product of polyolefin is most preferred. Further, it is further preferable that the crosslinked polymer has an anionic group. The anionic group has a function of maintaining the dispersion state of the inorganic fine particles, and the crosslinked structure has a function of imparting a film forming ability to the polymer and strengthening the film. The anionic group may be directly bonded to the polymer chain or may be bonded to the polymer chain via a linking group, but is bonded to the main chain as a side chain via the linking group. Is preferred.

アニオン性基の例としては、カルボン酸基(カルボキシル)、スルホン酸基(スルホ)及びリン酸基(ホスホノ)が挙げられる。中でも、スルホン酸基及びリン酸基が好ましい。ここで、アニオン性基は、塩の状態であってもよい。アニオン性基と塩を形成するカチオンは、アルカリ金属イオンであることが好ましい。また、アニオン性基のプロトンは、解離していてもよい。アニオン性基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。好ましいバインダーポリマーである架橋ポリマーは、アニオン性基を有する繰り返し単位と、架橋構造を有する繰り返し単位とを有するコポリマーであることが好ましい。この場合、コポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、2〜96質量%であることが好ましく、4〜94質量%であることが更に好ましく、6〜92質量%であることが最も好ましい。繰り返し単位は、2以上のアニオン性基を有していてもよい。   Examples of the anionic group include a carboxylic acid group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono). Of these, sulfonic acid groups and phosphoric acid groups are preferred. Here, the anionic group may be in a salt state. The cation that forms a salt with the anionic group is preferably an alkali metal ion. Moreover, the proton of the anionic group may be dissociated. The linking group that binds the anionic group and the polymer chain is preferably a divalent group selected from —CO—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. The crosslinked polymer which is a preferable binder polymer is preferably a copolymer having a repeating unit having an anionic group and a repeating unit having a crosslinked structure. In this case, the ratio of the repeating unit having an anionic group in the copolymer is preferably 2 to 96% by mass, more preferably 4 to 94% by mass, and most preferably 6 to 92% by mass. preferable. The repeating unit may have two or more anionic groups.

アニオン性基を有する架橋ポリマーには、その他の繰り返し単位(アニオン性基も架橋構造も有しない繰り返し単位)が含まれていてもよい。その他の繰り返し単位としては、アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位及びベンゼン環を有する繰り返し単位が好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基は、アニオン性基と同様に、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有する。ベンゼン環は、高屈折率層の屈折率を高くする機能を有する。尚、アミノ基、4級アンモニウム基及びベンゼン環は、アニオン性基を有する繰り返し単位或いは架橋構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。   The crosslinked polymer having an anionic group may contain other repeating units (a repeating unit having neither an anionic group nor a crosslinked structure). Other repeating units are preferably a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group and a repeating unit having a benzene ring. The amino group or quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic fine particles, like the anionic group. The benzene ring has a function of increasing the refractive index of the high refractive index layer. The amino group, the quaternary ammonium group, and the benzene ring can obtain the same effect even if they are contained in a repeating unit having an anionic group or a repeating unit having a crosslinked structure.

上記アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を構成単位として含有する架橋ポリマーにおいて、アミノ基または4級アンモニウム基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、或いは連結基を介し側鎖としてポリマー鎖に結合していてもよいが、後者がより好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基は、2級アミノ基、3級アミノ基または4級アンモニウム基であることが好ましく、3級アミノ基または4級アンモニウム基であることが更に好ましい。2級アミノ基、3級アミノ基または4級アンモニウム基の窒素原子に結合している基としては、アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜12のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数1〜6のアルキル基である。4級アンモニウム基の対イオンは、ハライドイオンであることが好ましい。アミノ基または4級アンモニウム基とポリマー鎖とを結合する連結基は、−CO−、−NH−、−O−、アルキレン基、アリーレン基、及びこれらの組み合わせから選ばれる2価の基であることが好ましい。架橋ポリマーが、アミノ基または4級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、0.06〜32質量%であることが好ましく、0.08〜30質量%であることが更に好ましく、0.1〜28質量%であることが最も好ましい。   In the crosslinked polymer containing a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group as a constituent unit, the amino group or quaternary ammonium group may be directly bonded to the polymer chain, or may be a side chain via a linking group. May be bonded to the polymer chain, but the latter is more preferred. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, a tertiary amino group or a quaternary ammonium group, more preferably a tertiary amino group or a quaternary ammonium group. The group bonded to the nitrogen atom of the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, still more preferably carbon number. 1 to 6 alkyl groups. The counter ion of the quaternary ammonium group is preferably a halide ion. The linking group that connects the amino group or quaternary ammonium group to the polymer chain is a divalent group selected from —CO—, —NH—, —O—, an alkylene group, an arylene group, and combinations thereof. Is preferred. When the crosslinked polymer includes a repeating unit having an amino group or a quaternary ammonium group, the ratio is preferably 0.06 to 32% by mass, more preferably 0.08 to 30% by mass, Most preferably, it is 0.1-28 mass%.

架橋ポリマーは、架橋ポリマーを生成するためのモノマーを配合して高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布液を調製し、塗布液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって生成させることが好ましい。架橋ポリマーの生成と共に、各層が形成される。アニオン性基を有するモノマーは、塗布液中で無機微粒子の分散剤として機能する。アニオン性基を有するモノマーは、無機微粒子に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%使用される。また、アミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは、塗布液中で分散助剤として機能する。アミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは、アニオン性基を有するモノマーに対して、好ましくは3〜33質量%使用される。塗布液の塗布と同時または塗布後に、重合反応によって架橋ポリマーを生成する方法により、塗布液の塗布前にこれらのモノマーを有効に機能させることが出来る。   The cross-linked polymer is prepared by blending a monomer for generating a cross-linked polymer to prepare a coating solution for forming a high refractive index layer and a medium refractive index layer, and is generated by a polymerization reaction simultaneously with or after coating of the coating solution. Is preferred. Each layer is formed with the production of the crosslinked polymer. The monomer having an anionic group functions as a dispersant for inorganic fine particles in the coating solution. The monomer having an anionic group is preferably used in an amount of 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 30% by mass with respect to the inorganic fine particles. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group functions as a dispersion aid in the coating solution. The monomer having an amino group or a quaternary ammonium group is preferably used in an amount of 3 to 33% by mass based on the monomer having an anionic group. These monomers can be made to function effectively before application of the coating liquid by a method of forming a crosslinked polymer by a polymerization reaction simultaneously with or after application of the coating liquid.

本発明に用いられるモノマーとしては、2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーが最も好ましいが、その例としては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼン及びその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)及びメタクリルアミド等が挙げられる。アニオン性基を有するモノマー、及びアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーは市販のモノマーを用いてもよい。好ましく用いられる市販のアニオン性基を有するモノマーとしては、KAYAMARPM−21、PM−2(日本化薬(株)製)、AntoxMS−60、MS−2N、MS−NH4(日本乳化剤(株)製)、アロニックスM−5000、M−6000、M−8000シリーズ(東亞合成化学工業(株)製)、ビスコート#2000シリーズ(大阪有機化学工業(株)製)、ニューフロンティアGX−8289(第一工業製薬(株)製)、NKエステルCB−1、A−SA(新中村化学工業(株)製)、AR−100、MR−100、MR−200(第八化学工業(株)製)等が挙げられる。また、好ましく用いられる市販のアミノ基または4級アンモニウム基を有するモノマーとしてはDMAA(大阪有機化学工業(株)製)、DMAEA,DMAPAA(興人(株)製)、ブレンマーQA(日本油脂(株)製)、ニューフロンティアC−1615(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   As the monomer used in the present invention, a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups is most preferable, and examples thereof include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di ( (Meth) acrylate, 1,4-dichlorohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester Terpolyacrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (E.g., methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Commercially available monomers may be used as the monomer having an anionic group and the monomer having an amino group or a quaternary ammonium group. As a commercially available monomer having a commercially available anionic group, KAYAMAPMPM-21, PM-2 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Antox MS-60, MS-2N, MS-NH4 (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) , Aronix M-5000, M-6000, M-8000 series (manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), Biscote # 2000 series (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), New Frontier GX-8289 (Daiichi Kogyo Seiyaku) NK ester CB-1, A-SA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), AR-100, MR-100, MR-200 (manufactured by Eighth Chemical Industry Co., Ltd.), and the like. It is done. Examples of commercially available monomers having a commercially available amino group or quaternary ammonium group include DMAA (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), DMAEA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.), and Bremer QA (Nippon Yushi Co., Ltd.). ) And New Frontier C-1615 (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

ポリマーの重合反応は、光重合反応または熱重合反応を用いることが出来る。特に光重合反応が好ましい。重合反応のため、重合開始剤を使用することが好ましい。例えば、活性線硬化樹脂層のバインダーポリマーを形成するために用いられる後述する熱重合開始剤、及び光重合開始剤が挙げられる。   For the polymerization reaction of the polymer, a photopolymerization reaction or a thermal polymerization reaction can be used. A photopolymerization reaction is particularly preferable. A polymerization initiator is preferably used for the polymerization reaction. For example, the thermal polymerization initiator mentioned later used in order to form the binder polymer of an actinic radiation curable resin layer, and a photoinitiator are mentioned.

重合開始剤として市販の重合開始剤を使用してもよい。重合開始剤に加えて、重合促進剤を使用してもよい。重合開始剤と重合促進剤の添加量は、モノマーの全量の0.2〜10質量%の範囲であることが好ましい。塗布液(モノマーを含む無機微粒子の分散液)を加熱して、モノマー(またはオリゴマー)の重合を促進してもよい。また、塗布後の光重合反応の後に加熱して、形成されたポリマーの熱硬化反応を追加処理してもよい。   A commercially available polymerization initiator may be used as the polymerization initiator. In addition to the polymerization initiator, a polymerization accelerator may be used. The addition amount of the polymerization initiator and the polymerization accelerator is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass of the total amount of monomers. The coating liquid (dispersion of inorganic fine particles containing monomer) may be heated to promote polymerization of the monomer (or oligomer). Moreover, it may heat after the photopolymerization reaction after application | coating, and may additionally process the thermosetting reaction of the formed polymer.

中屈折率層及び高屈折率層には、比較的屈折率が高いポリマーを用いることが好ましい。屈折率が高いポリマーの例としては、ポリスチレン、スチレン共重合体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及び環状(脂環式または芳香族)イソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレタンが挙げられる。その他の環状(芳香族、複素環式、脂環式)基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高く用いることが出来る。   For the medium refractive index layer and the high refractive index layer, it is preferable to use a polymer having a relatively high refractive index. Examples of the polymer having a high refractive index include polystyrene, styrene copolymer, polycarbonate, melamine resin, phenol resin, epoxy resin, and polyurethane obtained by reaction of cyclic (alicyclic or aromatic) isocyanate and polyol. . Polymers having other cyclic (aromatic, heterocyclic, alicyclic) groups and polymers having halogen atoms other than fluorine as substituents can also be used with a high refractive index.

反射防止層の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法、スプレーコート法、インクジェット法により、塗布により形成することが出来る。   Each layer of the antireflection layer is formed by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, micro gravure coating, extrusion coating, spray coating, and inkjet. It can be formed by coating.

図7には本発明に係る防眩性反射防止フィルムの断面を示した模式図である。   FIG. 7 is a schematic view showing a cross section of the antiglare antireflection film according to the present invention.

多層構成とした熱可塑性フィルム(表層102、基層101、表層103)から構成され、表層102或いは表層103に微粒子が添加され凹凸が形成されている。その上に活性線硬化樹脂層104及び反射防止層105が積層されている。特に表層102に添加する微粒子は内部散乱効果を与えることによって、優れた防眩効果を与えることが出来る。   It is composed of a thermoplastic film (surface layer 102, base layer 101, surface layer 103) having a multilayer structure, and fine particles are added to the surface layer 102 or surface layer 103 to form irregularities. An active ray curable resin layer 104 and an antireflection layer 105 are laminated thereon. In particular, the fine particles added to the surface layer 102 can give an excellent antiglare effect by giving an internal scattering effect.

〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。
<Polarizer>
The polarizing plate of the present invention will be described.

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の防眩性反射防止フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した防眩性反射防止フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該防眩性反射防止フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。本発明の防眩性反射防止フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションRoが590nmで、20〜70nm、Rtが100〜400nmの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開2002−71957号公報段落番号[0014]〜[0078]、特開2003−170492号公報段落番号[0064]〜[0252]記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開2003−98348号公報段落番号[0033]〜[0053]記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の防眩性反射防止フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。   The polarizing plate can be produced by a general method. The back side of the antiglare antireflection film of the present invention is subjected to alkali saponification treatment, and the antiglare antireflection film thus treated is immersed and stretched in an iodine solution. It is preferable to bond using an aqueous polyvinyl alcohol solution. The antiglare antireflection film may be used on the other surface, or another polarizing plate protective film may be used. With respect to the antiglare antireflection film of the present invention, the polarizing plate protective film used on the other surface has an in-plane retardation Ro of 590 nm, a phase difference of 20 to 70 nm, and Rt of 100 to 400 nm. Preferably it is. These can be produced, for example, by the methods described in JP-A-2002-71957, paragraph numbers [0014] to [0078] and JP-A-2003-170492, paragraphs [0064] to [0252]. Alternatively, it is preferable to use a polarizing plate protective film that also serves as an optical compensation film having an optically anisotropic layer formed by aligning a liquid crystal compound such as a discotic liquid crystal. For example, the optically anisotropic layer can be formed by the method described in paragraph numbers [0033] to [0053] of JP-A-2003-98348. By using it in combination with the antiglare antireflection film of the present invention, a polarizing plate having excellent flatness and a stable viewing angle expansion effect can be obtained.

裏面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルムとして、KC8UX2MW、KC4UX、KC5UX、KC4UY、KC8UY、KC12UR、KC8UCR−3(コニカミノルタオプト(株)製)等が好ましく用いられる。   As the polarizing plate protective film used on the back side, KC8UX2MW, KC4UX, KC5UX, KC4UY, KC8UY, KC12UR, KC8UCR-3 (manufactured by Konica Minolta Opto Co., Ltd.) and the like are preferably used as commercially available cellulose ester films.

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の防眩性反射防止フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。   The polarizing film, which is the main component of the polarizing plate, is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction. A typical polarizing film known at present is a polyvinyl alcohol polarizing film, which is a polyvinyl alcohol film. There are one in which iodine is dyed on a system film and one in which dichroic dye is dyed. As the polarizing film, a polyvinyl alcohol aqueous solution is formed and dyed by uniaxially stretching or dyed, or uniaxially stretched after dyeing, and then preferably subjected to a durability treatment with a boron compound. On the surface of the polarizing film, one side of the antiglare antireflection film of the present invention is bonded to form a polarizing plate. It is preferably bonded with an aqueous adhesive mainly composed of completely saponified polyvinyl alcohol or the like.

従来の防眩性反射防止フィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のむらが認められ、またぎらつきも見られた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験により、波打ち状のむらが増大したが、これに対して本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板は、平面性に優れ、ぎらつきも少なく、更に鉛筆硬度も優れていた。また、60℃、90%RHの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板であっても、耐久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視認性を提供することが出来た。   A conventional polarizing plate using an antiglare antireflection film is inferior in flatness, and when the reflected image is seen, fine wavy irregularities are observed and glare is also observed. In addition, as a result of the durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness increased. On the other hand, the polarizing plate using the antiglare antireflection film of the present invention has excellent flatness, There was little glare and the pencil hardness was excellent. In addition, even in a durability test under the conditions of 60 ° C. and 90% RH, the wavy unevenness does not increase, and even with a polarizing plate having an optical compensation film on the back surface side, the viewing angle characteristics after the durability test are It was possible to provide good visibility without fluctuation.

〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の防眩性反射防止フィルムは反射型、透過型、半透過型LCD或いはTN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等の各種駆動方式のLCDで好ましく用いられる。また、本発明の防眩性反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色むらやぎらつきが著しく少なく、また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ELディスプレイ、無機ELディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が30型以上、特に30型〜54型の大画面の表示装置では、色むら、ぎらつきや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。
<Display device>
By incorporating the polarizing plate of the present invention into a display device, the display device of the present invention having various visibility can be manufactured. The anti-glare anti-reflection film of the present invention is a reflection type, transmission type, transflective LCD or TN type, STN type, OCB type, HAN type, VA type (PVA type, MVA type), IPS type, etc. It is preferably used in LCDs. Further, the antiglare antireflection film of the present invention has remarkably little color unevenness and glaring of the reflected light of the antireflection layer, and is excellent in flatness, plasma display, field emission display, organic EL display, inorganic EL display, It is also preferably used for various display devices such as electronic paper. In particular, a large-screen display device with a screen of 30 or more types, particularly 30 to 54 types, has less color unevenness, glare and wavy unevenness, and has an effect that eyes are not tired even during long-time viewing.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。尚、ここでは熱可塑性樹脂としてセルロースエステルを使用した。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. However, the embodiments of the present invention are not limited to these examples. Here, cellulose ester was used as the thermoplastic resin.

実施例1
〔セルロースエステルフィルムの作製〕
表2記載のセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子、溶剤を用いて表3に示すようなドープ組成となるようセルロースエステル溶液を調製した。
Example 1
[Production of cellulose ester film]
A cellulose ester solution was prepared using the cellulose ester, plasticizer, ultraviolet absorber, fine particles, and solvent described in Table 2 so as to have a dope composition as shown in Table 3.

Figure 2005156801
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Figure 2005156801
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Figure 2005156801
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即ち、溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素材を順に投入し、加熱、攪拌しながら完全に溶解し、混合した。微粒子は溶剤の一部で分散して添加した。溶液を流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡操作を施した後、溶液を安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、セルロースエステル溶液をそれぞれ得た。   That is, the solvent was put into an airtight container, the remaining materials were put in order while stirring, and completely dissolved and mixed while heating and stirring. The fine particles were added dispersed in a part of the solvent. After the temperature was lowered to the temperature at which the solution was cast and allowed to stand overnight, a defoaming operation was performed, and then the solution was produced by Azumi Filter Paper No. Filtration using 244 gave each cellulose ester solution.

上記で調製したドープA〜Vを二つの表層用ドープラインと基層用ドープラインから、それぞれの表層用ダイまたは基層用ダイに各ドープを表4に示したような組み合わせで、かつ乾燥後の層膜厚が表4記載のようになるように導入し、2m幅の無限走行する無端のステンレススティールベルト上に共流延を行った(表層は基層より若干広目に流延した)。ステンレススティールベルトの温度を35℃とし、ベルト面(この面をB面とする)側に表層1、空気側の面(この面をA面とする)に表層2となるようにした。ステンレススティールベルト上で溶媒を蒸発させ、ステンレススティールベルト上からウェブを剥離した。剥離直後からテンターまでの間の搬送方向の延伸倍率が1.1倍となるように張力を調整した。更に、剥離したウェブを1.5m幅に両端をスリッターで裁ち落とし、このウェブをテンター乾燥機に導入し、両端をクリップで把持して幅方向に1.1倍延伸しながら90℃で乾燥させ、次いで125℃の各乾燥ゾーンを有するロール乾燥機内に上下に配置された多数のロールを交互に通して搬送させながら乾燥を終了させ多層構成のセルロースエステルフィルムを作製した。更にこのセルロースエステルフィルムの両端を裁ち落とし1.4m幅フィルムとし、このフィルムの両端に幅10mm、高さ8μmのナーリング加工を施して、巻長は3000mの多層構成のセルロースエステルフィルム1〜24を得た。   The dopes A to V prepared above are combined from the two surface layer dope lines and the base layer dope line to the respective surface layer die or base layer die as shown in Table 4, and the layer after drying The film was introduced so that the film thickness was as described in Table 4, and co-casting was performed on an endless stainless steel belt having an infinite traveling length of 2 m (the surface layer was cast slightly wider than the base layer). The temperature of the stainless steel belt was set to 35 ° C. so that the surface layer 1 was on the belt surface (this surface was designated as B surface) and the surface layer 2 was on the air side surface (this surface was designated as A surface). The solvent was evaporated on the stainless steel belt, and the web was peeled off from the stainless steel belt. The tension was adjusted so that the draw ratio in the conveyance direction from immediately after peeling to the tenter was 1.1 times. Furthermore, the peeled web was cut to 1.5 m width with a slitter, the web was introduced into a tenter dryer, and both ends were gripped with clips and dried at 90 ° C. while stretching 1.1 times in the width direction. Then, drying was terminated while a large number of rolls arranged vertically were passed through a roll dryer having each drying zone at 125 ° C. alternately, and drying was completed to produce a multilayer cellulose ester film. Further, both ends of this cellulose ester film are cut off to form a 1.4 m wide film, and both ends of this film are subjected to a knurling process having a width of 10 mm and a height of 8 μm. Obtained.

基層、表層1のガラス転移温度は前記測定法により測定した結果、表層が基層より5℃低かった。   As a result of measuring the glass transition temperature of the base layer and the surface layer 1 by the measurement method, the surface layer was 5 ° C. lower than the base layer.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

《活性線硬化樹脂層の塗設(防眩性ハードコートフィルムの作製)》
塗布液として下記組成の活性線硬化樹脂層用塗布液1を調製し、前記セルロースエステルフィルム1〜24のB面上に、硬化後の膜厚が3μmとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布し溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて0.2J/cm2の紫外線照射により硬化させ活性線硬化樹脂層を形成し、防眩性ハードコートフィルム1〜24を作製した。
<< Coating of actinic radiation curable resin layer (production of antiglare hard coat film) >>
A coating solution 1 for actinic radiation curable resin layer having the following composition was prepared as a coating solution, and applied on the B surface of the cellulose ester films 1 to 24 using a microgravure coater so that the film thickness after curing was 3 μm. After evaporating and drying the solvent, an actinic radiation curable resin layer was formed by curing with 0.2 J / cm 2 ultraviolet irradiation using a high pressure mercury lamp, and antiglare hard coat films 1 to 24 were produced.

〈活性線硬化樹脂層用塗布液1〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 70質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート 30質量部
光反応開始剤 4質量部
(イルガキュア184(チバスペシャルティケミカルズ(株)製))
酢酸エチル 150質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 150質量部
シリコン化合物 0.4質量部
(BYK−307(ビックケミージャパン社製))
上記組成物に形成した膜の屈折率が1.6となるように酸化錫を主成分とする導電性微粒子(平均粒径10nm)を添加した。酸化錫は塗布液に添加する溶媒の一部を用いて予め分散したものを使用した。更に架橋ポリスチレン粒子(綜研化学製SH−130H 粒径1.3μm)5質量部を添加して均一に混合分散した。
<Coating liquid 1 for active ray curable resin layer>
Dipentaerythritol hexaacrylate 70 parts by weight Trimethylolpropane triacrylate 30 parts by weight Photoinitiator 4 parts by weight (Irgacure 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals))
Ethyl acetate 150 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 150 parts by mass Silicon compound 0.4 parts by mass (BYK-307 (by Big Chemie Japan))
Conductive fine particles (average particle diameter: 10 nm) containing tin oxide as a main component were added so that the refractive index of the film formed on the composition was 1.6. The tin oxide used was dispersed in advance using a part of the solvent added to the coating solution. Furthermore, 5 parts by mass of crosslinked polystyrene particles (SH-130H particle size 1.3 μm, manufactured by Soken Chemical) were added and uniformly mixed and dispersed.

《バックコート層の塗設》
更に、下記のバックコート層用塗布組成物を、3μmの粒子捕捉効率が99%以上で0.5μm以下の粒子捕捉効率が10%以下のフィルターで濾過して調製した。このバックコート層用塗布組成物を上記の防眩性ハードコートフィルムの活性線硬化樹脂層を塗設した面の反対側の面に、エクストルージョンコーターにてウェット膜厚が15μmになるように塗布し、90℃で30秒間乾燥させた。
《Coating back coat layer》
Furthermore, the following coating composition for a back coat layer was prepared by filtering with a filter having a particle capture efficiency of 3 μm of 99% or more and 0.5 μm or less and a particle capture efficiency of 10% or less. This back coat layer coating composition was applied to the surface opposite to the surface coated with the active ray curable resin layer of the antiglare hard coat film so that the wet film thickness was 15 μm using an extrusion coater. And dried at 90 ° C. for 30 seconds.

〈バックコート層用塗布液〉
ジアセチルセルロース(アセチル基置換度2.4) 0.5質量部
アセトン 70質量部
メタノール 20質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部
超微粒子シリカ アエロジル200V(日本アエロジル(株)製)
0.003質量部
(シリカ微粒子は添加するメタノール中に分散して添加した。)
《表面処理及び低屈折率層の塗設》
《反射防止層(低屈折率層1)の作製》
最初に、複合粒子の調製を行った。
<Coating liquid for back coat layer>
Diacetyl cellulose (acetyl group substitution degree 2.4) 0.5 parts by mass Acetone 70 parts by mass Methanol 20 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass Ultrafine silica AEROSIL 200V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
0.003 parts by mass (Silica fine particles were added dispersed in methanol to be added.)
<Surface treatment and coating of low refractive index layer>
<< Preparation of antireflection layer (low refractive index layer 1) >>
First, composite particles were prepared.

(複合粒子P−1の調製)
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gとを混合して反応母液を調製し、80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として1.5質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として0.5質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは、ケイ酸ナトリウムとアルミン酸ナトリウムの添加直後、12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23多孔質粒子前駆体の分散液(A)を調製した。(第1工程)
上記で得られた多孔質粒子前駆体の分散液(A)100gに純水1900gを加えて95℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液(SiO2として1.5g質量%)27000g及びアルミン酸ナトリウム水溶液(Al23として0.5質量%)27000gを同時に徐々に添加し、多孔質粒子前駆体の分散液(A)の粒子をシード粒子として粒子成長を行った。添加終了後、室温まで冷却した後、限外濾過膜で洗浄、濃縮して、固形分濃度20質量%のSiO2・Al23多孔質粒子前駆体の分散液(B)を得た。(第1工程)
この多孔質粒子前駆体の分散液(B)500gを採り、次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、一部のアルミニウムが除去されたSiO2・Al23多孔質粒子の分散液(C)を調製した。(第2工程)
上記多孔質粒子の分散液(C)1500gと、純水500g、エタノール1750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆した。次いで、エバポレーターで固形分濃度5質量%まで濃縮した後、濃度15質量%のアンモニア水を加えてpH10とし、オートクレーブで180℃、2時間加熱処理し、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%の複合粒子(P−1)の分散液を調製した。(第3工程)
この複合粒子(P−1)の平均粒径、SiO2/MOx(モル比)、及び屈折率を表5に示す。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定し、屈折率は標準屈折液としてCARGILL製のSeriesA、AAを用い、以下の方法で測定した。
(Preparation of composite particles P-1)
A reaction mother liquor was prepared by mixing 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water, and heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor is 10.5, and 9000 g of a 1.5 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of a 0.5 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 are simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition of sodium silicate and sodium aluminate, and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a dispersion (A) of SiO 2 .Al 2 O 3 porous particle precursor having a solid content concentration of 20% by mass. (First step)
1900 g of pure water was added to 100 g of the dispersion (A) of the porous particle precursor obtained above and heated to 95 ° C., and while maintaining this temperature, an aqueous sodium silicate solution (1.5 g in mass as SiO 2). %) And 27000 g of an aqueous sodium aluminate solution (0.5% by mass as Al 2 O 3 ) were gradually added at the same time, and particle growth was performed using the particles of the dispersion liquid (A) of the porous particle precursor as seed particles. . After completion of the addition, the mixture was cooled to room temperature, washed with an ultrafiltration membrane and concentrated to obtain a dispersion (B) of a SiO 2 · Al 2 O 3 porous particle precursor having a solid content concentration of 20% by mass. (First step)
500 g of this porous particle precursor dispersion (B) is taken, and then the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane is separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and a part of aluminum is removed. A dispersion (C) of SiO 2 .Al 2 O 3 porous particles was prepared. (Second step)
A mixture of 1500 g of the porous particle dispersion (C), 500 g of pure water, 1750 g of ethanol and 626 g of 28% ammonia water was heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) was added. Then, the surface of the porous particles was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate. Next, after concentration to a solid content concentration of 5% by mass with an evaporator, ammonia water with a concentration of 15% by mass was added to adjust the pH to 10, and heat treatment was performed at 180 ° C. for 2 hours in an autoclave. A dispersion of the substituted composite particles (P-1) having a solid content concentration of 20% by mass was prepared. (Third step)
Table 5 shows the average particle diameter, SiO 2 / MOx (molar ratio), and refractive index of the composite particles (P-1). Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method, and the refractive index was measured by the following method using Series A, AA made by CARGILL as a standard refractive liquid.

〈粒子の屈折率の測定方法〉
(1)粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。
<Measuring method of particle refractive index>
(1) The particle dispersion is taken in an evaporator and the dispersion medium is evaporated.

(2)これを120℃で乾燥し、粉末とする。   (2) This is dried at 120 ° C. to obtain a powder.

(3)屈折率が既知の標準屈折液を2、3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。   (3) A standard refraction liquid having a known refractive index is dropped on a glass plate of a few drops, and the above powder is mixed therewith.

(4)上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率をコロイド粒子の屈折率とする。   (4) The operation of (3) above is performed with various standard refractive liquids, and the refractive index of the standard refractive liquid when the mixed liquid becomes transparent is used as the refractive index of the colloidal particles.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

(表面処理)
上記の活性線硬化樹脂フィルム1〜24を、50℃に加熱した1.5N−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5質量%−H2SO4水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥を行った。
(surface treatment)
The actinic radiation curable resin films 1 to 24 are immersed in a 1.5N-NaOH aqueous solution heated to 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then washed with a 0.5 mass% -H 2 SO 4 aqueous solution at room temperature. It was immersed for 30 seconds to neutralize, washed with water and dried.

(低屈折率層1の作製)
Si(OC254を95mol%、CF3(CF27(CH22Si(OCH33を5mol%で混合したマトリックスに対して、平均粒径60nm、屈折率1.38の複合粒子(P−1)を50質量%添加し、1.0N−HClを触媒に用いて、更に溶媒で希釈した低屈折率コーティング剤を作製した。上記表面処理を行った防眩性ハードコートフィルム上にマイクログラビア法を用いてコーティング溶液を膜厚0.1μmで塗布し、120℃で1分間乾燥し、紫外線照射して、屈折率1.41の低屈折率層1を形成した。
(Preparation of low refractive index layer 1)
The average particle size is 60 nm and the refractive index is 1. with respect to a matrix in which Si (OC 2 H 5 ) 4 is mixed at 95 mol% and CF 3 (CF 2 ) 7 (CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 3 is mixed at 5 mol%. A low refractive index coating agent was prepared by adding 50% by mass of 38 composite particles (P-1), using 1.0N-HCl as a catalyst, and further diluting with a solvent. A coating solution is applied with a film thickness of 0.1 μm on the antiglare hard coat film subjected to the above surface treatment using a micro gravure method, dried at 120 ° C. for 1 minute, and irradiated with ultraviolet rays to have a refractive index of 1.41. The low refractive index layer 1 was formed.

以上の様にして、防眩性反射防止フィルム1〜24を作製した。   As described above, antiglare antireflection films 1 to 24 were produced.

次いで、各々の防眩性反射防止フィルム1〜24を用いて下記に示す方法で、偏光板1〜24及び液晶表示装置1〜24を作製した。   Subsequently, the polarizing plates 1-24 and the liquid crystal display devices 1-24 were produced by the method shown below using each anti-glare antireflection film 1-24.

《偏光板の作製》
厚さ、120μmのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸(温度110℃、延伸倍率5倍)した。これをヨウ素0.075g、ヨウ化カリウム5g、水100gからなる水溶液に60秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム6g、ホウ酸7.5g、水100gからなる68℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
<Production of polarizing plate>
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 120 μm was uniaxially stretched (temperature: 110 ° C., stretch ratio: 5 times). This was immersed in an aqueous solution composed of 0.075 g of iodine, 5 g of potassium iodide and 100 g of water for 60 seconds, and then immersed in an aqueous solution of 68 ° C. composed of 6 g of potassium iodide, 7.5 g of boric acid and 100 g of water. This was washed with water and dried to obtain a polarizing film.

次いで、下記工程1〜5に従って偏光膜と前記防眩性反射防止フィルム、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには下記の方法で作製した位相差を有するセルロースエステルフィルムR(Ro=43nm、Rt=132nm)を用いてそれぞれ偏光板とした。   Subsequently, according to the following processes 1-5, the polarizing film, the said glare-proof antireflection film, and the cellulose ester film on the back side were bonded together, and the polarizing plate was produced. As the polarizing plate protective film on the back side, a cellulose ester film R (Ro = 43 nm, Rt = 132 nm) having a retardation produced by the following method was used as a polarizing plate.

工程1:50℃の1モル/Lの水酸化ナトリウム溶液に60秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。   Step 1: Soaked in a 1 mol / L sodium hydroxide solution at 50 ° C. for 60 seconds, then washed with water and dried to obtain a saponified cellulose ester film bonded to the polarizer.

工程2:前記偏光膜を固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤槽中に1〜2秒浸漬した。   Step 2: The polarizing film was immersed in a polyvinyl alcohol adhesive tank having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

工程3:工程2で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程1で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。   Step 3: Lightly wipe off the excess adhesive adhering to the polarizing film in Step 2, place it on the cellulose ester film treated in Step 1, and then stack and arrange so that the antireflection layer is on the outside did.

工程4:工程3で積層した防眩性反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力20〜30N/cm2、搬送スピードは約2m/分で貼合した。 Step 4: The antiglare antireflection film, the polarizing film, and the cellulose ester film sample laminated in Step 3 were bonded at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a conveyance speed of about 2 m / min.

工程5:80℃の乾燥機中に工程4で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと防眩性反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を2分間乾燥し、偏光板を作製した。防眩性反射防止フィルム1〜24をそれぞれ用いて、偏光板1〜24を作製した。   Process 5: The sample which bonded together the polarizing film produced in the process 4, the cellulose-ester film, and the glare-proof antireflection film in the 80 degreeC dryer was dried for 2 minutes, and the polarizing plate was produced. Polarizing plates 1 to 24 were produced using the antiglare and antireflection films 1 to 24, respectively.

〈セルロースエステルフィルムRの作製〉
(ドープ液Eの調製)
セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8) 100質量部
(Mn=70000、Mw=220000、Mw/Mn=3.14)
トリフェニルフォスフェート 8質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 2質量部
メチレンクロライド 300質量部
エタノール 60質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の 安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液Eを調製した。
(二酸化珪素分散液E)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 10質量部
エタノール 75質量部
以上をディゾルバーで30分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。二酸化珪素分散液に75質量部のメチレンクロライドを攪拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液Eを作製した。
(インライン添加液Eの作製)
メチレンクロライド 100質量部
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 4質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 4質量部
チヌビン326(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 2質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、濾過した。
<Preparation of cellulose ester film R>
(Preparation of dope solution E)
Cellulose ester (cellulose acetate propionate acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8) 100 parts by mass (Mn = 70000, Mw = 220,000, Mw / Mn = 3.14)
Triphenyl phosphate 8 parts by weight Ethylphthalyl ethyl glycolate 2 parts by weight Methylene chloride 300 parts by weight Ethanol 60 parts by weight The above is put into a sealed container, heated and stirred, and completely dissolved. Azumi Filter Paper Co., Ltd. Azumi filter paper No. No. 24 was filtered to prepare a dope solution E.
(Silicon dioxide dispersion E)
Aerosil 972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 10 parts by mass Ethanol 75 parts by mass The above was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. 75 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed for 30 minutes with a dissolver to prepare a silicon dioxide dispersion dilution E.
(Preparation of inline additive solution E)
Methylene chloride 100 parts by mass Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 parts by mass Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 4 parts by mass Tinuvin 326 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 2 parts by mass The solution was put into a container, heated, stirred and completely dissolved and filtered.

これに二酸化珪素分散希釈液Eを20質量部、攪拌しながら加えて、更に30分間攪拌した後、セルロースエステル(セルロースアセテートプロピオネート アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)5質量部を攪拌しながら加えて、更に60分間攪拌した後、アドバンテック東洋(株)のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1Nで濾過し、インライン添加液Eを調製した。   To this, 20 parts by mass of silicon dioxide dispersion diluent E was added with stirring, and further stirred for 30 minutes, and then cellulose ester (cellulose acetate propionate acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8). 5 parts by mass was added with stirring, and the mixture was further stirred for 60 minutes, and then filtered through a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare an in-line additive solution E.

濾過したドープ液Eを100質量部に対し、濾過したインライン添加液Eを4質量部加えて、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度35℃、1800mm幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルフィルムのウェブを55℃で溶媒を蒸発させ、1650mm幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に130℃で1.3倍に延伸した。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は18%であった。その後、120℃、110℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1400mm幅にスリットし、フィルム両端に幅15mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施し、巻き取り、セルロースエステルフィルムRを得た。残留溶剤量は0.1%であり、平均膜厚は80μm、巻数は4000mであった。このセルロースエステルフィルムのRo=43nm、Rt=132nmであり、幅方向に遅相軸を有し、幅方向に対する遅相軸のズレ角は±0.6度以内であった。   Add 4 parts by mass of the filtered inline additive E to 100 parts by mass of the filtered dope solution E, mix thoroughly with an inline mixer (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, SWJ), and then belt cast Using the apparatus, it was cast uniformly on a stainless steel band support at a temperature of 35 ° C. and a width of 1800 mm. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the amount of residual solvent reached 100%, and then peeled off from the stainless steel band support. The web of the peeled cellulose ester film was evaporated at 55 ° C., slit to 1650 mm width, and then stretched 1.3 times at 130 ° C. in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 18%. Thereafter, drying is completed while transporting the drying zone at 120 ° C. and 110 ° C. with a number of rolls, slitting to a width of 1400 mm, a knurling process with a width of 15 mm and an average height of 10 μm is applied to both ends of the film, winding, cellulose ester Film R was obtained. The amount of residual solvent was 0.1%, the average film thickness was 80 μm, and the number of turns was 4000 m. This cellulose ester film had Ro = 43 nm and Rt = 132 nm, had a slow axis in the width direction, and the deviation angle of the slow axis with respect to the width direction was within ± 0.6 degrees.

《液晶表示装置の作製》
液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
<Production of liquid crystal display device>
A liquid crystal panel was produced as follows, and the characteristics as a liquid crystal display device were evaluated.

富士通製15型ディスプレイVL−150SDの予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板1〜8をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。   The both-sided polarizing plates of the 15-inch display VL-150SD manufactured by Fujitsu were peeled off, and the prepared polarizing plates 1 to 8 were each bonded to the glass surface of the liquid crystal cell.

その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム(位相差フィルム)の面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置1〜24を各々作製した。また、使用した偏光板は、性能がばらつき易い長尺の防眩性反射防止フィルムの端の部分から切り出したものを使用した。   At that time, the direction of bonding of the polarizing plate is such that the surface of the optical compensation film (retardation film) is on the liquid crystal cell side and the absorption axis is in the same direction as the polarizing plate previously bonded. The liquid crystal display devices 1 to 24 were respectively produced. The polarizing plate used was cut out from the end of a long anti-glare antireflection film whose performance tends to vary.

得られた防眩性反射防止フィルム、液晶表示装置について以下の評価を行った。   The following evaluation was performed about the obtained anti-glare antireflection film and the liquid crystal display device.

〔評価〕
得られた防眩性反射防止フィルム及び液晶表示装置について下記の評価を行った。
[Evaluation]
The following evaluation was performed about the obtained anti-glare antireflection film and the liquid crystal display device.

《写り込み防止性》
試料を平坦で水平な台に置き、40W蛍光灯(松下電器製FLR40S−EX−D/M)を5本並べて試料台に斜めから照らせるように高さ1.5mの高さに固定し、その写り込みを目視にて判定した。
<Prevention of reflection>
Place the sample on a flat and flat table, and arrange 40W fluorescent lamps (FLR40S-EX-D / M, manufactured by Matsushita Electric) with a height of 1.5m so that the sample table can be illuminated obliquely. Reflection was judged visually.

◎:蛍光灯の輪郭がぼけて写り込みが全く気にならない
○:蛍光灯の輪郭がぼけて写り込みが気にならない
△:蛍光灯の輪郭が僅かに認められる
×:蛍光灯の輪郭が分かり写り込みが気になる
《ぎらつき》
作製した表示装置について、目視にてぎらつきを判定した。
◎: The outline of the fluorescent lamp is blurred and I don't care about the reflection at all ○: The outline of the fluorescent lamp is blurred and I don't care about the reflection △: The outline of the fluorescent lamp is slightly recognized ×: The outline of the fluorescent lamp is understood I'm worried about the reflection.
About the produced display apparatus, the glare was determined visually.

◎:ぎらつきが全く分からない
○:ぎらつきが極僅かに分かる
△:ややぎらつきが分かる
×:ぎらつきがかなり気になる
《平面性》
レーザー変位計:キーエンス(株)、型式:LT−8100、分解能:0.2μmを用いて、幅手方向にレーザー変位計で走査して、表面の細かい起伏を測定し、防眩性反射防止フィルムの平面性を評価した。
◎: Glitter is not known at all ○: Glitter is slightly understood △: Slight glaring is known ×: Glitter is quite worrisome << Flatness >>
Laser displacement meter: Keyence Corporation, Model: LT-8100, Resolution: 0.2 μm, Scan with laser displacement meter in width direction to measure fine undulations on surface, anti-glare antireflection film The flatness of was evaluated.

測定方法は、フィルムを平坦で水平の台の上に載せ、テープで幅手の両端を台に固定し、測定カメラを台と平行にセットしたシグマ光機社製の移動レールに、カメラレンズと試料フィルムの間隔が25mmとなるようにセットし、移動速度5cm/分で走査し測定した。測定はフィルム自身のうねり等の変形を観察するため、反射防止層を設けた裏面側より行った。測定で得られる値はフィルムの微少な凹凸の状態と大きさである。フィルムの変形による凹凸が小さいほど平面性に優れる。   The measuring method is to place the film on a flat and horizontal table, fix both ends of the width to the table with tape, and set the measuring camera parallel to the table. It set so that the space | interval of a sample film might be set to 25 mm, and it scanned and measured with the moving speed of 5 cm / min. The measurement was performed from the back side provided with an antireflection layer in order to observe deformation such as undulation of the film itself. The value obtained by the measurement is the state and size of minute irregularities on the film. The smaller the unevenness due to deformation of the film, the better the flatness.

◎:フィルムの変形による凹凸が1.0未満
○:フィルムの変形による凹凸が1.0〜2.0μm未満
△:フィルムの変形による凹凸が2.0〜4.0μm未満
×:フィルムの変形による凹凸が4.0μm以上
《視認性の評価》
上記作製した各液晶表示装置について、60℃、90%RHの条件で100時間放置した後、23℃、55%RHに戻した。その結果、表示装置の表面を観察すると本発明の防眩性反射防止フィルムを用いたものは、平面性に優れていたのに対し、比較の表示装置は細かい波打ち状のむらが認められ、長時間見ていると目が疲れ易かった。
◎: Unevenness due to film deformation is less than 1.0 ○: Unevenness due to film deformation is less than 1.0 to 2.0 μm Δ: Unevenness due to film deformation is less than 2.0 to 4.0 μm ×: Due to film deformation Unevenness is 4.0 μm or more << Evaluation of visibility >>
About each produced said liquid crystal display device, after leaving for 100 hours on 60 degreeC and 90% RH conditions, it returned to 23 degreeC and 55% RH. As a result, when the surface of the display device was observed, the one using the antiglare antireflection film of the present invention was excellent in flatness, whereas the comparative display device showed fine wavy unevenness, My eyes were easy to get tired when I was watching.

◎:表面に波打ち状のむらは全く認められない
○:表面にわずかに波打ち状のむらが認められる
△:表面に細かい波打ち状のむらがやや認められる
×:表面に細かい波打ち状のむらが認められる
《反射光色むらの評価》
各液晶表示装置について、画面を黒表示として、表面の反射むらを目視で評価した。
◎: No wavy unevenness is observed on the surface ○: Slight wavy unevenness is recognized on the surface △: Small wavy unevenness is slightly recognized on the surface ×: Fine wavy unevenness is recognized on the surface << Reflected light Evaluation of uneven color >>
For each liquid crystal display device, the screen was displayed in black, and the reflection unevenness of the surface was visually evaluated.

◎:反射光の色むらはわからず、黒がしまって見える
○:わずかに反射光の色むらが認識される
△:反射光の色むらが認識されるが実用上問題ないレベル
×:反射光の色むらがかなり気になる。
◎: Color unevenness of reflected light is not known, black appears to be blurred ○: Color unevenness of reflected light is slightly recognized △: Color unevenness of reflected light is recognized, but there is no practical problem ×: Reflected light I'm worried about the uneven color.

以上の評価結果を下記表に纏めた。   The above evaluation results are summarized in the following table.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

その結果、本発明の防眩性反射防止フィルム1〜20は写りこみ防止性に優れ、かつぎらつきが著しく少なかった。また本発明の液晶表示装置1〜20は視認性に優れ、反射光の色むらも少なかった。これに対して、比較の防眩性反射防止フィルム21〜24、液晶表示装置21〜24は防眩効果に劣っていた。視認性も劣り、反射光の色むらが認められ、均一な反射防止層を設けることが困難であった。   As a result, the antiglare and antireflection films 1 to 20 of the present invention were excellent in the anti-reflection effect, and the fogging was remarkably small. Moreover, the liquid crystal display devices 1-20 of this invention were excellent in visibility, and there were also few color irregularities of reflected light. On the other hand, the comparative anti-glare antireflection films 21 to 24 and the liquid crystal display devices 21 to 24 were inferior in the anti-glare effect. The visibility was also inferior, uneven color of reflected light was recognized, and it was difficult to provide a uniform antireflection layer.

実施例2
以下の方法でセルロースエステルフィルムを作製した。
Example 2
A cellulose ester film was produced by the following method.

〈セルロースエステルフィルム〉
(二酸化珪素分散液A)
アエロジル972V(日本アエロジル(株)製) 12質量部
(一次粒子の平均径16nm、見掛け比重90g/リットル)
エタノール 88質量部
以上をディゾルバーで30分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。分散後の液濁度は200ppmであった。二酸化珪素分散液に88質量部のメチレンクロライドを攪拌しながら投入し、ディゾルバーで30分間攪拌混合し、二酸化珪素分散希釈液Aを作製した。
(インライン添加液Aの作製)
チヌビン109(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 11質量部
チヌビン171(チバスペシャルティケミカルズ(株)製) 5質量部
メチレンクロライド 100質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、濾過した。
<Cellulose ester film>
(Silicon dioxide dispersion A)
Aerosil 972V (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 12 parts by mass (average primary particle diameter 16 nm, apparent specific gravity 90 g / liter)
88 parts by mass of ethanol or more was stirred and mixed with a dissolver for 30 minutes, and then dispersed with Manton Gorin. The liquid turbidity after dispersion was 200 ppm. 88 parts by mass of methylene chloride was added to the silicon dioxide dispersion while stirring, and the mixture was stirred and mixed for 30 minutes with a dissolver to prepare silicon dioxide dispersion dilution A.
(Preparation of inline additive solution A)
Tinuvin 109 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 11 parts by mass Tinuvin 171 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5 parts by weight 100 parts by weight of methylene chloride Dissolved and filtered.

これに二酸化珪素分散希釈液Aを36質量部、攪拌しながら加えて、更に30分間攪拌した後、セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8)6質量部を攪拌しながら加えて、更に60分間攪拌した後、アドバンテック東洋(株)のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターTCW−PPS−1Nで濾過し、インライン添加液Aを調製した。   To this, 36 parts by mass of silicon dioxide dispersion diluent A was added with stirring, and after further stirring for 30 minutes, cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8) 6 masses. The mixture was added with stirring, and further stirred for 60 minutes, and then filtered through a polypropylene wind cartridge filter TCW-PPS-1N manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd. to prepare an in-line additive solution A.

(ドープ液Aの調製)
セルロースエステル(リンター綿から合成されたセルローストリアセテート)
100質量部
(Mn=148000、Mw=310000、Mw/Mn=2.1、アセチル基置換度2.92)
トリメチロールプロパントリベンゾエート(下記化合物) 5.0質量部
エチルフタリルエチルグリコレート 5.5質量部
メチレンクロライド 440質量部
エタノール 40質量部
(Preparation of dope solution A)
Cellulose ester (cellulose triacetate synthesized from linter cotton)
100 parts by mass (Mn = 148000, Mw = 310000, Mw / Mn = 2.1, acetyl group substitution degree 2.92)
Trimethylolpropane tribenzoate (the following compound) 5.0 parts by mass Ethylphthalyl ethyl glycolate 5.5 parts by mass Methylene chloride 440 parts by mass Ethanol 40 parts by mass

Figure 2005156801
Figure 2005156801

以上を密閉容器に投入し、加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、ドープ液Aを調製した。   The above was put into a closed container, heated and stirred, and completely dissolved. Azumi filter paper No. 24, and the dope liquid A was prepared.

製膜ライン中で日本精線(株)製のファインメットNFでドープ液Aを濾過した。インライン添加液ライン中で、日本精線(株)製のファインメットNFでインライン添加液Aを濾過した。濾過したドープ液Aを100質量部に対し、濾過したインライン添加液Aを2質量部加えて、インラインミキサー(東レ静止型管内混合機 Hi−Mixer、SWJ)で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度35℃、1800mm幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が120%になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルロースエステルのウェブを35℃で溶媒を蒸発させ、1650mm幅にスリットし、その後、テンターでTD方向(フィルムの搬送方向と直交する方向)に1.1倍に延伸しながら、135℃の乾燥温度で、乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は30%であった。   The dope solution A was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. in the film production line. In-line additive solution line was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. Add 2 parts by mass of the filtered in-line additive A to 100 parts by mass of the filtered dope liquid A, mix well with an in-line mixer (Toray static type in-pipe mixer Hi-Mixer, SWJ), and then cast the belt. Using the apparatus, it was cast uniformly on a stainless steel band support at a temperature of 35 ° C. and a width of 1800 mm. With the stainless steel band support, the solvent was evaporated until the residual solvent amount became 120%, and then peeled off from the stainless steel band support. The peeled cellulose ester web was evaporated at 35 ° C., slit to 1650 mm width, and then stretched 1.1 times in the TD direction (direction perpendicular to the film transport direction) with a tenter, Dried at the drying temperature. At this time, the residual solvent amount when starting stretching with a tenter was 30%.

その後、110℃、120℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、1400mm幅にスリットし、フィルム両端に幅15mm、平均高さ10μmのナーリング加工を施し、巻き取り初期張力220N/m、終張力110N/mで内径6インチコアに巻き取り、セルロースエステルフィルムを得た。ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出される剥離直後のMD方向(フィルムの搬送方向と同一方向)の延伸倍率は1.07倍であった。セルロースエステルフィルムの残留溶剤量は0.2%であり、平均膜厚は80μm、巻数は3000mであった。   Thereafter, drying is completed while transporting the drying zone of 110 ° C. and 120 ° C. with a number of rolls, slitting to a width of 1400 mm, a knurling process having a width of 15 mm and an average height of 10 μm is applied to both ends of the film, and an initial winding tension of 220 N / M and a final tension of 110 N / m were wound around a 6-inch inner diameter core to obtain a cellulose ester film. The draw ratio in the MD direction (same direction as the film transport direction) immediately after peeling calculated from the rotational speed of the stainless steel band support and the operating speed of the tenter was 1.07. The residual solvent amount of the cellulose ester film was 0.2%, the average film thickness was 80 μm, and the winding number was 3000 m.

得られたセルロースエステルフィルムに、図8に示した工程で下記の塗布組成物をダイコーターで1μmの膜厚で塗設し、90℃で乾燥させ、そのまま鋳型を設けた熱ロールとバックロール間を通して、前記塗布層に中心線平均粗さRa0.3μmの凹凸面を有するセルロースエステルフィルム25を作製した。   In the process shown in FIG. 8, the following coating composition was applied to the obtained cellulose ester film with a film thickness of 1 μm with a die coater, dried at 90 ° C., and between the hot roll and back roll provided with the mold as it was. Then, a cellulose ester film 25 having an uneven surface with a center line average roughness Ra of 0.3 μm was produced on the coating layer.

〈塗布組成物〉
セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.8) 10質量部
(Mn=70000、Mw=220000、Mw/Mn=3.14)
酸化珪素微粒子(平均1次粒子径12nm アエロジル200V 日本アエロジル(株)製) 1質量部
酢酸メチル 70質量部
エタノール 30質量部
酸化珪素微粒子は予め溶媒として添加するエタノール10質量部で0.1〜0.5μm程度の2次粒子となるように分散して使用した。
<Coating composition>
Cellulose acetate propionate (acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.8) 10 parts by mass (Mn = 70000, Mw = 220,000, Mw / Mn = 3.14)
Silicon oxide fine particles (average primary particle size 12 nm Aerosil 200V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1 part by mass Methyl acetate 70 parts by mass Ethanol 30 parts by mass It was used by dispersing so as to obtain secondary particles of about 5 μm.

得られた凹凸面を有するセルロースエステルフィルム上に実施例1と同様に活性線硬化樹脂層を設けた。更にその上に下記低屈折率層2を形成し、活性線硬化樹脂層の裏面側には実施例1と同様にしてバックコート層を設けて防眩性反射防止フィルム25を得た。   An actinic radiation curable resin layer was provided in the same manner as in Example 1 on the obtained cellulose ester film having an uneven surface. Further, the following low refractive index layer 2 was formed thereon, and a back coat layer was provided on the back side of the actinic radiation curable resin layer in the same manner as in Example 1 to obtain an antiglare antireflection film 25.

《低屈折率層2の作製》
以下に示すようにしてシリカ系微粒子(空洞粒子)の調製を行った。
<< Production of Low Refractive Index Layer 2 >>
Silica-based fine particles (cavity particles) were prepared as described below.

(シリカ系微粒子P−2の調製)
平均粒径5nm、SiO2濃度20質量%のシリカゾル100gと純水1900gの混合物を80℃に加温した。この反応母液のpHは10.5であり、同母液にSiO2として0.98質量%のケイ酸ナトリウム水溶液9000gとAl23として1.02質量%のアルミン酸ナトリウム水溶液9000gとを同時に添加した。その間、反応液の温度を80℃に保持した。反応液のpHは添加直後、12.5に上昇し、その後、殆ど変化しなかった。添加終了後、反応液を室温まで冷却し、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度20質量%のSiO2・Al23核粒子分散液を調製した。(工程(a))
この核粒子分散液500gに純水1700gを加えて98℃に加温し、この温度を保持しながら、ケイ酸ナトリウム水溶液を陽イオン交換樹脂で脱アルカリして得られたケイ酸液(SiO2濃度3.5質量%)3000gを添加して第1シリカ被覆層を形成した核粒子の分散液を得た。(工程(b))
次いで、限外濾過膜で洗浄して固形分濃度13質量%になった第1シリカ被覆層を形成した核粒子分散液500gに純水1125gを加え、更に濃塩酸(35.5%)を滴下してpH1.0とし、脱アルミニウム処理を行った。次いで、pH3の塩酸水溶液10Lと純水5Lを加えながら限外濾過膜で溶解したアルミニウム塩を分離し、第1シリカ被覆層を形成した核粒子の構成成分の一部を除去したSiO2・Al23多孔質粒子の分散液を調製した(工程(c))。上記多孔質粒子分散液1500gと、純水500g、エタノール1,750g及び28%アンモニア水626gとの混合液を35℃に加温した後、エチルシリケート(SiO228質量%)104gを添加し、第1シリカ被覆層を形成した多孔質粒子の表面をエチルシリケートの加水分解重縮合物で被覆して第2シリカ被覆層を形成した。次いで、限外濾過膜を用いて溶媒をエタノールに置換した固形分濃度20質量%のシリカ系微粒子(P−2)の分散液を調製した。
(Preparation of silica-based fine particles P-2)
A mixture of 100 g of silica sol having an average particle diameter of 5 nm and a SiO 2 concentration of 20% by mass and 1900 g of pure water was heated to 80 ° C. The pH of this reaction mother liquor was 10.5, and 9000 g of 0.98 mass% sodium silicate aqueous solution as SiO 2 and 9000 g of 1.02 mass% sodium aluminate aqueous solution as Al 2 O 3 were simultaneously added to the mother liquor. did. Meanwhile, the temperature of the reaction solution was kept at 80 ° C. The pH of the reaction solution rose to 12.5 immediately after the addition, and hardly changed thereafter. After completion of the addition, the reaction solution was cooled to room temperature and washed with an ultrafiltration membrane to prepare a SiO 2 .Al 2 O 3 core particle dispersion having a solid content concentration of 20% by mass. (Process (a))
1700 g of pure water is added to 500 g of this core particle dispersion and heated to 98 ° C., and while maintaining this temperature, a silicic acid solution (SiO 2) obtained by dealkalizing a sodium silicate aqueous solution with a cation exchange resin. A dispersion of core particles in which 3000 g (concentration of 3.5% by mass) was added to form a first silica coating layer was obtained. (Process (b))
Next, 1125 g of pure water is added to 500 g of the core particle dispersion liquid that has been washed with an ultrafiltration membrane to form a first silica coating layer having a solid content concentration of 13% by mass, and concentrated hydrochloric acid (35.5%) is further added dropwise. The pH was adjusted to 1.0 and dealumination was performed. Next, the aluminum salt dissolved in the ultrafiltration membrane was separated while adding 10 L of hydrochloric acid aqueous solution of pH 3 and 5 L of pure water, and SiO 2 · Al from which some of the constituent components of the core particles forming the first silica coating layer were removed. A dispersion of 2 O 3 porous particles was prepared (step (c)). A mixture of 1500 g of the above porous particle dispersion, 500 g of pure water, 1,750 g of ethanol, and 626 g of 28% ammonia water is heated to 35 ° C., and then 104 g of ethyl silicate (SiO 2 28 mass%) is added. The surface of the porous particles on which the first silica coating layer was formed was coated with a hydrolyzed polycondensate of ethyl silicate to form a second silica coating layer. Next, a dispersion of silica-based fine particles (P-2) having a solid content concentration of 20% by mass, in which the solvent was replaced with ethanol using an ultrafiltration membrane, was prepared.

このシリカ系微粒子(P−2)の第1シリカ被覆層の厚さ、平均粒径、MOx/SiO2(モル比)、及び屈折率を表8に示す。ここで、平均粒径は動的光散乱法により測定し、屈折率は上記方法と同様にして測定した。 Table 8 shows the thickness, average particle diameter, MOx / SiO 2 (molar ratio), and refractive index of the first silica coating layer of the silica-based fine particles (P-2). Here, the average particle diameter was measured by a dynamic light scattering method, and the refractive index was measured in the same manner as described above.

Figure 2005156801
Figure 2005156801

《表面処理及び低屈折率層の塗設》
(表面処理)
上記の活性線硬化樹脂フィルム25を、50℃に加熱した1.5N−NaOH水溶液に2分間浸漬しアルカリ処理を行い、水洗後、0.5質量%−H2SO4水溶液に室温で30秒間浸漬し中和させ、水洗、乾燥を行った。
<Surface treatment and coating of low refractive index layer>
(surface treatment)
The actinic radiation curable resin film 25 is immersed in a 1.5N-NaOH aqueous solution heated to 50 ° C. for 2 minutes for alkali treatment, washed with water, and then washed in a 0.5 mass% -H 2 SO 4 aqueous solution at room temperature for 30 seconds. It was immersed and neutralized, washed with water and dried.

(低屈折率層2の作製)
Si(OC254を95mol%、C37−(OC3624−O−(CF22−C24−O−CH2Si(OCH33を5mol%で混合したマトリックスに対して、平均粒径60nmのシリカ系微粒子(P−2)を50質量%添加し、1.0N−HClを触媒に用いて、更に溶媒で希釈した低屈折率コーティング剤を作製した。上記表面処理を行った活性線硬化樹脂層を形成したセルロースエステルフィルム上にダイコーター法を用いてコーティング溶液を膜厚0.1μmで塗布し、120℃で1分間乾燥した後、0.2J/cm2の紫外線照射を行うことにより、屈折率1.37の低屈折率層2を形成した。
(Preparation of low refractive index layer 2)
Si (OC 2 H 5) 4 to 95mol%, C 3 F 7 - (OC 3 F 6) 24 -O- (CF 2) 2 -C 2 H 4 -O-CH 2 Si (OCH 3) 3 to 5mol 50% by mass of silica-based fine particles (P-2) having an average particle diameter of 60 nm are added to a matrix mixed at a ratio of 1.0%, and a low refractive index coating agent further diluted with a solvent using 1.0N HCl as a catalyst. Was made. The coating solution was applied in a film thickness of 0.1 μm using a die coater method on the cellulose ester film on which the surface-treated actinic radiation curable resin layer was formed, dried at 120 ° C. for 1 minute, and then 0.2 J / A low refractive index layer 2 having a refractive index of 1.37 was formed by performing ultraviolet irradiation of cm 2 .

以上の様にして作製した防眩性反射防止フィルム25を用いて実施例1と同様にして偏光板25、表示装置25を作製し同様な評価を行った。   A polarizing plate 25 and a display device 25 were produced in the same manner as in Example 1 using the antiglare antireflection film 25 produced as described above, and the same evaluation was performed.

その結果実施例1を再現し、平面性、写りこみ防止性に優れ、かつぎらつきが著しく少ない防眩性反射防止フィルムを得ることが出来た。更に反射光の色むらのない視野角170°の広視野角でかつ視認性に優れた表示装置を得ることが出来た。   As a result, Example 1 was reproduced, and an antiglare antireflection film having excellent flatness and anti-reflection properties and having extremely little blurring could be obtained. Furthermore, it was possible to obtain a display device having a wide viewing angle with a viewing angle of 170 ° with no uneven color of reflected light and excellent visibility.

3層構成のフィルムの断面を模式的に示したものである。The cross section of the film of 3 layer structure is shown typically. 共流延ダイ及び流延して多層構成ウェブを形成したところを表した図である。It is the figure showing the place which formed the multilayer casting web by casting and a co-casting die. 逐次流延ダイ及び流延された多層構成のウェブを表した図である。It is a figure showing the web of the sequential casting die and the casted multilayer structure. 別のタイプの共流延ダイの断面を示した図である。It is the figure which showed the cross section of another type co-casting die. 本発明に係わる溶液流延製膜装置のドープ調製工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the dope preparation process of the solution casting film forming apparatus concerning this invention. 本発明に係わる溶液流延製膜装置の流延工程から乾燥工程までを模式的に示した図である。It is the figure which showed typically from the casting process to the drying process of the solution casting film forming apparatus concerning this invention. 本発明に係る防眩性反射防止フィルムの断面を示した模式図である。It is the schematic diagram which showed the cross section of the anti-glare antireflection film which concerns on this invention. 塗布及び鋳型ロールを用いた凹凸形成部を有する工程の模式図である。It is a schematic diagram of the process which has an uneven | corrugated formation part using application | coating and a mold roll.

符号の説明Explanation of symbols

101 基層
102 表層
103 表層
104 活性線硬化樹脂層
105 反射防止層
106 バックコート層
101 Base layer 102 Surface layer 103 Surface layer 104 Actinic radiation curable resin layer 105 Antireflection layer 106 Backcoat layer

Claims (10)

熱可塑性樹脂を含有する基材フィルムの凹凸表面上に高屈折率活性線硬化樹脂層及び無機微粒子を含有する低屈折率層を有し、該低屈折率層に含有する無機微粒子が多孔質粒子と該多孔質粒子表面に設けられた被覆層を有する複合粒子、内部に溶媒、気体、または多孔質物質で充填された空洞粒子であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 It has a high refractive index active ray curable resin layer and a low refractive index layer containing inorganic fine particles on the uneven surface of a substrate film containing a thermoplastic resin, and the inorganic fine particles contained in the low refractive index layer are porous particles. And a composite particle having a coating layer provided on the surface of the porous particle, and a hollow particle filled with a solvent, a gas, or a porous substance inside, and an antiglare antireflection film. 前記基材フィルムの凹凸が中心線平均粗さ(Ra)が0.03μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the unevenness of the base film has a center line average roughness (Ra) of 0.03 μm or more. 前記基材フィルムが微粒子を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection film according to claim 1, wherein the base film contains fine particles. 前記基材フィルムが表層に微粒子を含有する熱可塑性樹脂層を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection film according to any one of claims 1 to 3, wherein the base film has a thermoplastic resin layer containing fine particles in a surface layer. 前記基材フィルムの表面に基層よりもガラス転移温度がより低い表層を有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 4, further comprising a surface layer having a glass transition temperature lower than that of the base layer on the surface of the base film. 前記基材フィルムが共流延若しくは逐次流延によって形成されたことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection film according to claim 1, wherein the base film is formed by co-casting or sequential casting. 前記基材フィルムが紫外線吸収剤及び可塑剤、総アシル基置換度2.6〜2.9、数平均分子量(Mn)80,000〜200,000、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)の値が1.4〜3.0であるセルロースエステルを含有する延伸して製造されたセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に防眩性反射防止フィルム。 The base film is composed of an ultraviolet absorber and a plasticizer, a total acyl group substitution degree of 2.6 to 2.9, a number average molecular weight (Mn) of 80,000 to 200,000, a weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight ( The antiglare reflection according to any one of claims 1 to 6, which is a stretched cellulose ester film containing a cellulose ester having a value of Mn) of 1.4 to 3.0. Prevention film. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムを一方の面に、光学補償フィルムをもう一方の面に有することを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising the antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 7 on one surface and an optical compensation film on the other surface. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の防眩性反射防止フィルムを表面に設けたことを特徴とする表示装置。 A display device comprising the antiglare antireflection film according to claim 1 provided on a surface thereof. 請求項8に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。 A display device comprising the polarizing plate according to claim 8.
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