JP2005148354A - Photomask, aligner, liquid crystal panel member, device and method for manufacturing liquid crystal panel member - Google Patents

Photomask, aligner, liquid crystal panel member, device and method for manufacturing liquid crystal panel member Download PDF

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JP2005148354A JP2003384800A JP2003384800A JP2005148354A JP 2005148354 A JP2005148354 A JP 2005148354A JP 2003384800 A JP2003384800 A JP 2003384800A JP 2003384800 A JP2003384800 A JP 2003384800A JP 2005148354 A JP2005148354 A JP 2005148354A
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拓也 山崎
達見 ▲高▼橋
Tatsumi Takahashi
Akio Sonehara
章夫 曽根原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal panel member with which a throughput, quality, an yield etc. related to manufacture of a web shaped liquid crystal panel member etc. are improved, a device and a method for manufacturing the same, or the like. <P>SOLUTION: An aligner 101 carries out ultraviolet rays irradiation via a photomask 104 and forms a pattern on a web substrate 107. In this case, the pattern is formed so as to form an angle of 45° with a conveyance direction 108 of the web substrate 107 based on a mask pattern of the photomask 104. A liquid crystal dropping device 1208 drops a liquid crystal 1301 from directly above a laminate nip roller 1204. The laminate nip roller 1204 encloses the liquid crystal 1301 dropped between a color filter substrate 1107 and a TFT substrate 1210 and conveys a liquid crystal panel substrate 1501 (a color filter substrate 1211 on which the TFT substrate has been laminated) in a vertical downward direction. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、カラーフィルタ等に係る液晶パネル部材、カラーフィルタ等に係る液晶パネル部材の製造装置及び製造方法等に関する。より詳細には、ウェブ状の液晶パネル部材、その製造装置、その製造方法等に関する。   The present invention relates to a liquid crystal panel member related to a color filter and the like, a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a liquid crystal panel member related to a color filter and the like. More specifically, the present invention relates to a web-like liquid crystal panel member, a manufacturing apparatus thereof, a manufacturing method thereof, and the like.

従来、プラスチック基板上にカラーフィルタパターンを形成する方法として、フォトリソ法、印刷法、電着法、インクジェット法、転写法、等の各種方法がある。その中で現在多く用いられている方法として、フォトマスクを用いて製造されるフォトリソ法がある(例えば、[特許文献1]参照。)。   Conventionally, as a method for forming a color filter pattern on a plastic substrate, there are various methods such as a photolithography method, a printing method, an electrodeposition method, an ink jet method, and a transfer method. Among these methods, a photolithographic method manufactured using a photomask is currently widely used (see, for example, [Patent Document 1]).

特開2000−284303号公報JP 2000-284303 A

しかしながら、従来の製造方法では、偏光フィルムを積層する際、カラーフィルタパターン方向と偏光方向とを所定の角度(例えば、45度)にするため、枚葉にて貼合する必要があり、処理速度に限界があるという問題点がある。   However, in the conventional manufacturing method, when laminating the polarizing film, the color filter pattern direction and the polarization direction are set to a predetermined angle (for example, 45 degrees), and therefore, it is necessary to bond with a single wafer, and the processing speed There is a problem that there is a limit.

また、液晶封入時に発生したエア(気泡)を逃がすことができず、液晶パネル内に残存する場合、液晶パネルの表示不良等を引き起こすという問題点がある。
このため一般的にはセルを減圧下に置き、減圧を徐々に解除する時に液晶をセルの中に吸引する方法が採られている。液晶ディスプレイパネルが大型になると、真空チャンバーの減圧時間がプロセス時間の律速になる。
In addition, when air (bubbles) generated at the time of liquid crystal sealing cannot be released and remains in the liquid crystal panel, there is a problem in that a display defect of the liquid crystal panel is caused.
For this reason, generally, a method is adopted in which the cell is placed under reduced pressure and the liquid crystal is sucked into the cell when the reduced pressure is gradually released. When the liquid crystal display panel becomes large, the decompression time of the vacuum chamber becomes the rate-determining process time.

本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、ウェブ状の液晶パネル部材等の製造に係る処理能力、品質、歩留まり等の向上を可能とする、液晶パネル部材、その製造装置、その製造方法等を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, a liquid crystal panel member capable of improving processing capacity, quality, yield, and the like related to the production of a web-like liquid crystal panel member, a manufacturing apparatus thereof, It aims at providing the manufacturing method etc.

前述した目的を達成するために第1の発明は、ウェブ基材上にカラーフィルタパターンが形成された液晶パネル部材であって、前記ウェブ基材の長尺方向とカラーフィルタパターン方向とが交差していることを特徴とする液晶パネル部材である。   In order to achieve the above-mentioned object, a first invention is a liquid crystal panel member in which a color filter pattern is formed on a web substrate, wherein the longitudinal direction of the web substrate intersects with the color filter pattern direction. It is the liquid crystal panel member characterized by the above-mentioned.

また、上記液晶パネル部材は、さらに、ウェブ基材にウェブ状の偏光フィルム、ウェブ状のTFT基材等が貼合されたものであってもよい。
この場合、ウェブ状の偏光フィルムは、その偏光方向がウェブ基材の長尺方向(搬送方向)と垂直あるいは平行であるものをそのまま用いることができる。
また、ウェブ状のTFT基材は、カラーフィルタパターンと対応し、ウェブ基材の長尺方向(搬送方向)とTFTパターン方向とが交差しているものを用いることができる。
In addition, the liquid crystal panel member may be obtained by further bonding a web-shaped polarizing film, a web-shaped TFT substrate, or the like to a web substrate.
In this case, the web-like polarizing film can be used as it is with a polarizing direction perpendicular or parallel to the longitudinal direction (conveying direction) of the web substrate.
Moreover, the web-shaped TFT substrate can be used in correspondence with the color filter pattern, in which the longitudinal direction (conveying direction) of the web substrate and the TFT pattern direction intersect.

第2の発明は、フォトマスクのエッジ方向とマスクパターン方向とが交差していることを特徴とするフォトマスク及び当該フォトマスクを具備する露光装置である。   The second invention is a photomask characterized in that the edge direction of the photomask and the mask pattern direction intersect, and an exposure apparatus comprising the photomask.

第2の発明は、第1の発明の液晶パネル部材に係るカラーフィルタパターンを形成する露光装置、フォトマスクに関する発明である。   The second invention relates to an exposure apparatus and a photomask for forming a color filter pattern according to the liquid crystal panel member of the first invention.

「ウェブ基材」は、ウェブ状の巻取、巻出可能な基材であり、例えば、可撓性(フレキシブル)を有する帯状のプラスチック基材である。
「液晶パネル部材」は、液晶パネル及び液晶パネルを構成する各種部材、材料等であって、例えば、プラスチック基板上にパターン形成されたカラーフィルタ基材、TFT基材、偏光フィルム、あるいは、これらのうち少なくともいずれかが貼合された液晶パネル基材等である。
The “web substrate” is a substrate that can be wound and unwound in the form of a web, and is, for example, a strip-shaped plastic substrate having flexibility.
“Liquid crystal panel member” refers to a liquid crystal panel and various members and materials constituting the liquid crystal panel. For example, a color filter base material, a TFT base material, a polarizing film, It is a liquid crystal panel base material in which at least one of them is bonded.

「カラーフィルタパターン方向」とは、ウェブ基材におけるカラーフィルタパターン領域の画素行あるいは画素列の方向を示し、通常、カラーフィルタパターン領域の外周の各辺方向と一致する。
「TFTパターン方向」とは、ウェブ基材におけるTFT領域の画素行あるいは画素列の方向を示し、通常、TFT領域の外周の各辺方向と一致する。
「マスクパターン方向」とは、フォトマスクにおけるマスクパターン領域の画素行あるいは画素列の方向を示す。
The “color filter pattern direction” indicates the direction of the pixel row or pixel column of the color filter pattern region on the web substrate, and usually coincides with the direction of each side of the outer periphery of the color filter pattern region.
The “TFT pattern direction” indicates the direction of the pixel row or pixel column of the TFT region on the web substrate, and usually coincides with the direction of each side of the outer periphery of the TFT region.
The “mask pattern direction” indicates the direction of a pixel row or a pixel column in a mask pattern area in a photomask.

第1の発明及び第2の発明では、ウェブ基材の長尺方向(搬送方向)とマスクパターン方向とが交差している(例えば、45度の角度で交差している)フォトマスクを用いて、ウェブ基材上にカラーフィルタパターンを形成することにより、カラーフィルタ基材、偏光フィルム、TFT基材を全てウェブ状のまま貼合することができるので、処理能力が飛躍的に向上する。   In the first invention and the second invention, a photomask in which the longitudinal direction (conveying direction) of the web substrate intersects the mask pattern direction (for example, intersects at an angle of 45 degrees) is used. By forming the color filter pattern on the web substrate, the color filter substrate, the polarizing film, and the TFT substrate can all be bonded in the form of a web, so that the processing ability is dramatically improved.

第3の発明は、ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出手段と、ウェブ状の偏光フィルムを巻出す第2巻出手段と、前記カラーフィルタ基材と前記偏光フィルムとを積層する積層手段と、前記偏光フィルムが積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取手段と、を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造装置である。   3rd invention laminates | stacks the 1st unwinding means which unwinds a web-like color filter base material, the 2nd unwinding means which unwinds a web-like polarizing film, and the said color filter base material and the said polarizing film. A liquid crystal panel member manufacturing apparatus comprising: a stacking unit that winds up and a winding unit that winds up the color filter substrate on which the polarizing film is stacked.

第3の発明は、第1の発明のカラーフィルタ基材に偏光フィルムが貼合された液晶パネル部材の製造装置である。
積層手段は、例えば、ラミネートニップロール等を用いることができる。
第3の発明では、上記のように、カラーフィルタ基材、偏光フィルムをウェブ状のまま貼合することができるので、処理能力が飛躍的に向上する。
3rd invention is a manufacturing apparatus of the liquid crystal panel member by which the polarizing film was bonded to the color filter base material of 1st invention.
As the laminating means, for example, a laminate nip roll or the like can be used.
In 3rd invention, since a color filter base material and a polarizing film can be bonded with a web form as mentioned above, processing capacity improves dramatically.

第4の発明は、ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出手段と、ウェブ状のTFT基材を巻出す第2巻出手段と、前記カラーフィルタ基材と前記TFT基材とを積層する積層手段と、前記積層手段の直上から液晶を滴下する液晶滴下手段と、前記TFT基材が積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取手段と、を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造装置である。   4th invention is the 1st unwinding means which unwinds a web-like color filter base material, the 2nd unwinding means which unwinds a web-like TFT base material, the said color filter base material, and the said TFT base material, Laminating means for laminating the liquid crystal, liquid crystal dropping means for dripping liquid crystal directly above the laminating means, and winding means for winding the color filter substrate on which the TFT substrate is laminated. It is a liquid crystal panel member manufacturing apparatus.

また、前記積層手段は、上方の左右から搬送された前記TFT基材と前記カラーフィルタ基材との間に前記液晶を封入し、両基材を積層して下方に搬送する。
また、シール剤を塗布するシール剤塗布手段と、前記シール剤を乾燥する乾燥手段と、前記シール剤を硬化する硬化手段と、を具備する。
The stacking means encloses the liquid crystal between the TFT base material and the color filter base material transported from the upper left and right, and stacks both base materials and transports them downward.
In addition, a sealing agent application unit that applies the sealing agent, a drying unit that dries the sealing agent, and a curing unit that cures the sealing agent are provided.

第4の発明は、第1の発明のカラーフィルタ基材にTFT基材が貼合された液晶パネル部材の製造装置である。
積層手段は、第3の発明と同様に、例えば、ラミネートニップロール等を用いることができる。
硬化手段としては、例えば、紫外線キュア装置(UVキュア装置)等を用いることができる。
4th invention is a manufacturing apparatus of the liquid crystal panel member by which the TFT base material was bonded by the color filter base material of 1st invention.
As in the third invention, for example, a laminating nip roll or the like can be used as the laminating means.
As the curing means, for example, an ultraviolet curing device (UV curing device) or the like can be used.

第4の発明では、上記のように、カラーフィルタ基材、TFT基材をウェブ状のまま貼合することができるので、処理能力が飛躍的に向上する。
また、貼合工程と液晶封入工程とを同時に行えるので、処理能力が飛躍的に向上する。
また、液晶封入の際、エア(気泡)が発生しても、カラーフィルタパターンのコーナ部からエアが抜けるので、液晶中にエアが残存せず、空セル内が真空となるので、不良製品の発生を抑制し、表示品質向上、歩留まり向上を図ることができる。
In 4th invention, since a color filter base material and a TFT base material can be bonded with a web form as mentioned above, processing capacity improves dramatically.
Moreover, since a bonding process and a liquid-crystal enclosure process can be performed simultaneously, processing capacity improves dramatically.
In addition, even if air (bubbles) is generated during liquid crystal encapsulation, air will escape from the corners of the color filter pattern, so air will not remain in the liquid crystal and the empty cell will be evacuated. Occurrence can be suppressed, and display quality and yield can be improved.

第5の発明は、ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出工程と、ウェブ状の偏光フィルムを巻出す第2巻出工程と、前記カラーフィルタ基材と前記偏光フィルムとを積層する積層工程と、前記偏光フィルムが積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取工程と、を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造方法である。   5th invention laminates | stacks the 1st unwinding process which unwinds a web-like color filter base material, the 2nd unwinding process which unwinds a web-like polarizing film, and the said color filter base material and the said polarizing film. And a winding process for winding the color filter substrate on which the polarizing film is laminated.

第5の発明は、第2の発明の偏光フィルムが貼合された液晶パネル部材の製造方法に関する発明である。   5th invention is invention regarding the manufacturing method of the liquid crystal panel member by which the polarizing film of 2nd invention was bonded.

第6の発明は、ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出工程と、ウェブ状のTFT基材を巻出す第2巻出工程と、前記カラーフィルタ基材と前記TFT基材とを積層する積層工程と、前記積層部の直上から液晶を滴下する液晶滴下工程と、前記TFT基材が積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取工程と、を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造方法である。   The sixth invention includes a first unwinding step of unwinding the web-shaped color filter substrate, a second unwinding step of unwinding the web-shaped TFT substrate, the color filter substrate, and the TFT substrate. A laminating step for laminating a liquid crystal, a liquid crystal dropping step for dripping a liquid crystal directly from above the laminating portion, and a winding step for winding the color filter substrate on which the TFT substrate is laminated. It is a liquid crystal panel member manufacturing method.

第6の発明は、第2の発明のTFT基材が貼合された液晶パネル部材の製造方法に関する発明である。   6th invention is invention regarding the manufacturing method of the liquid crystal panel member by which the TFT base material of 2nd invention was bonded.

本発明によれば、ウェブ状の液晶パネル部材等の製造に係る処理能力、品質、歩留まり等の向上を可能とする、液晶パネル部材、その製造装置、その製造方法等を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the liquid crystal panel member, its manufacturing apparatus, its manufacturing method, etc. which enable improvement of the processing capability, quality, yield, etc. which concern on manufacture of a web-like liquid crystal panel member, etc. can be provided.

以下、添付図面を参照しながら、本発明に係る液晶パネル部材、その製造装置、その製造方法等の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。   Hereinafter, preferred embodiments of a liquid crystal panel member, a manufacturing apparatus thereof, a manufacturing method thereof, and the like according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the following description and the accompanying drawings, the same reference numerals are given to the constituent elements having the same functional configuration, and redundant description will be omitted.

最初に、図1及び図2を参照しながら、本発明の実施の形態に係る露光装置101の構成について説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る露光装置101の概略構成図である。
図2は、上記露光装置101を上方向からみた図である。
First, the configuration of the exposure apparatus 101 according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
FIG. 1 is a schematic block diagram of an exposure apparatus 101 according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a view of the exposure apparatus 101 as viewed from above.

露光装置101は、照射ヘッド102、アライメントマーク検出カメラ103、フォトマスク104、フォトマスクホルダ105、吸着プレート106等から構成される。   The exposure apparatus 101 includes an irradiation head 102, an alignment mark detection camera 103, a photomask 104, a photomask holder 105, a suction plate 106, and the like.

露光装置101は、ウェブ基材107上に成膜されたCr層、塗布された着色感材層等に対して紫外線等を照射し、ブラックマトリクスパターン(BM)、着色層パターン(R、G、B)、カラムスペーサ(CS)等を形成する。
照射ヘッド102は、ウェブ基材107上から紫外線(UV)等を照射して露光を行う。
The exposure apparatus 101 irradiates the Cr layer formed on the web substrate 107, the applied colored light-sensitive material layer, and the like with ultraviolet rays and the like, and generates a black matrix pattern (BM), a colored layer pattern (R, G, B), column spacers (CS) and the like are formed.
The irradiation head 102 performs exposure by irradiating ultraviolet rays (UV) or the like from the web substrate 107.

アライメントマーク検出カメラ103は、ウェブ基材上に形成されたアライメントマークを検出し、搬送されたウェブ基材107の位置決めを行う。アライメントマーク検出カメラ103は、例えば、CCD(CHARGE COUPLED DEVICE)カメラ等の画像センサ等である。   The alignment mark detection camera 103 detects an alignment mark formed on the web substrate and positions the web substrate 107 conveyed. The alignment mark detection camera 103 is, for example, an image sensor such as a CCD (CHARGE COUPLED DEVICE) camera.

フォトマスク104は、フォトマスクホルダ105に支持される。露光装置101は、このフォトマスク104を用いることにより、ウェブ基材107上に紫外線をパターン照射する。
尚、フォトマスク104は、ブラックマトリクス(BM)、着色層Red(R)、着色層Green(G)、着色層Blue(B)、カラムスペーサ(CS)用にそれぞれ個別に用意することが望ましい。
The photomask 104 is supported by the photomask holder 105. The exposure apparatus 101 irradiates the web substrate 107 with a pattern of ultraviolet rays by using the photomask 104.
The photomask 104 is desirably prepared individually for the black matrix (BM), the colored layer Red (R), the colored layer Green (G), the colored layer Blue (B), and the column spacer (CS).

吸着プレート106は、露光時にウェブ基材107を吸着して固定する。吸着プレート106は、例えば、焼結金属板、焼結セラミック板等の多孔質板である。   The suction plate 106 sucks and fixes the web substrate 107 during exposure. The suction plate 106 is a porous plate such as a sintered metal plate or a sintered ceramic plate.

次に、図3を参照しながら、カラーフィルタ基材1001(図10参照)の製造工程の概略を説明する。
図3は、カラーフィルタ基材1001の製造工程を示すフローチャートである。
Next, the outline of the manufacturing process of the color filter substrate 1001 (see FIG. 10) will be described with reference to FIG.
FIG. 3 is a flowchart showing a manufacturing process of the color filter substrate 1001.

洗浄、Cr成膜、ポジレジスト塗布、プリベーク、露光装置101による露光、現像、エッチング、レジスト剥離、洗浄等の過程を経て、ウェブ基材107上にブラックマトリクス(BM)の形成を行う(ステップ301)。
着色感材の塗布、プリベーク、露光、現像、ポストベーク、洗浄等の過程を経て、ウェブ基材上に着色層の形成を行う。着色層の形成は、3色(Red、Green、Blue)繰り返す(ステップ302)。
A black matrix (BM) is formed on the web substrate 107 through processes such as cleaning, Cr film formation, positive resist coating, pre-baking, exposure by the exposure apparatus 101, development, etching, resist peeling, and cleaning (step 301). ).
A colored layer is formed on the web substrate through processes such as application of a color sensitive material, pre-baking, exposure, development, post-baking, and washing. The formation of the colored layer is repeated for three colors (Red, Green, and Blue) (step 302).

ITO(Indium−Tin Oxide、透明電極)成膜、洗浄等の過程を経て、基板上に透明電極膜の形成を行う(ステップ303)。
透明感材の塗布、プリベーク、露光、現像、ポストベーク、洗浄等の過程を経て、ウェブ基材107上にカラムスペーサ(CS)の形成を行う(ステップ304)。
A transparent electrode film is formed on the substrate through processes such as ITO (Indium-Tin Oxide, transparent electrode) film formation and cleaning (step 303).
A column spacer (CS) is formed on the web substrate 107 through processes such as application of a transparent photosensitive material, pre-baking, exposure, development, post-baking, and washing (step 304).

次に、図4〜図10を参照しながら、露光装置101によるパターン形成等について説明する。   Next, pattern formation and the like by the exposure apparatus 101 will be described with reference to FIGS.

<パターン(ブラックマトリクス(BM))形成(図3:ステップ301)>
図4は、ブラックマトリクス(BM)形成用のフォトマスク(BM)401(図1:104)を示す図である。
図5は、ブラックマトリクス(BM)形成後のウェブ基材107を示す図である。
<Pattern (Black Matrix (BM)) Formation (FIG. 3: Step 301)>
FIG. 4 is a diagram showing a photomask (BM) 401 (FIG. 1: 104) for forming a black matrix (BM).
FIG. 5 is a diagram showing the web base material 107 after the black matrix (BM) is formed.

フォトマスク(BM)401は、マスクパターン(BM)402、マスクパターン(アライメントマーク)403を有する。   The photomask (BM) 401 includes a mask pattern (BM) 402 and a mask pattern (alignment mark) 403.

マスクパターン(BM)402は、ウェブ基材107上にブラックマトリクスのパターン(BM)501を形成するためのものである。マスクパターン(BM)402の1面分の領域、方向は、フォトマスク401のエッジに対して45度の角度をなす。   The mask pattern (BM) 402 is for forming a black matrix pattern (BM) 501 on the web substrate 107. The area and direction of one surface of the mask pattern (BM) 402 make an angle of 45 degrees with respect to the edge of the photomask 401.

マスクパターン(アライメントマーク)403は、ウェブ基材107上にアライメントマーク502を形成するためのものである。
尚、アライメントマーク502は、各色のフォトマスクとウェブ基材107との位置決めに用いられる。アライメントマーク502は、着色層Redのパターン(R)用、着色層Greenのパターン(G)用、着色層Blueのパターン(B)用、カラムスペーサ(CS)用にそれぞれ形成するようにしてもよい。
The mask pattern (alignment mark) 403 is for forming the alignment mark 502 on the web substrate 107.
The alignment mark 502 is used for positioning the photomask for each color and the web substrate 107. The alignment mark 502 may be formed for the colored layer Red pattern (R), the colored layer Green pattern (G), the colored layer Blue pattern (B), and the column spacer (CS). .

露光装置101は、フォトマスク(BM)401を介して紫外線照射を行い、ウェブ基材107上にパターン(BM)501、アライメントマーク502を形成する。この場合、パターン(BM)501は、フォトマスク(BM)401のマスクパターン(BM)402に基づいて、ウェブ基材107の搬送方向108に対して45度の角度をなすように形成される。   The exposure apparatus 101 performs ultraviolet irradiation through a photomask (BM) 401 to form a pattern (BM) 501 and an alignment mark 502 on the web substrate 107. In this case, the pattern (BM) 501 is formed based on the mask pattern (BM) 402 of the photomask (BM) 401 so as to form an angle of 45 degrees with respect to the conveyance direction 108 of the web base material 107.

<パターン(着色層レッド(R))形成(図3:ステップ302のRed)>
図6は、着色層レッド(R)形成用のフォトマスク(R)601を示す図である。
図7は、着色層レッド(R)形成後のウェブ基材107を示す図である。
<Pattern (Colored Layer Red (R)) Formation (FIG. 3: Red at Step 302)>
FIG. 6 is a view showing a photomask (R) 601 for forming a colored layer red (R).
FIG. 7 is a view showing the web base material 107 after the colored layer red (R) is formed.

フォトマスク(R)601は、マスクパターン(R)602、アライメントマーク検出孔(R)603を有する。   The photomask (R) 601 has a mask pattern (R) 602 and an alignment mark detection hole (R) 603.

マスクパターン(R)602は、ウェブ基材107上にパターン(R)701を形成するためのものである。マスクパターン(R)602の1面分の領域、方向は、フォトマスク601のエッジに対して45度の角度をなす。   The mask pattern (R) 602 is for forming the pattern (R) 701 on the web substrate 107. The area and direction of one surface of the mask pattern (R) 602 make an angle of 45 degrees with respect to the edge of the photomask 601.

アライメントマーク検出孔(R)603は、ウェブ基材107上のアライメントマーク502の中の(R)702を検出し、ウェブ基材107及びフォトマスク(R)601の位置決めをするためのものである。アライメントマーク(R)702の検出は、上記アライメントマーク検出カメラ103により行う。   The alignment mark detection hole (R) 603 is for detecting (R) 702 in the alignment mark 502 on the web substrate 107 and positioning the web substrate 107 and the photomask (R) 601. . The alignment mark (R) 702 is detected by the alignment mark detection camera 103.

露光装置101は、アライメントマーク検出カメラ103により、アライメントマーク検出孔(R)603からアライメントマーク(R)702を検出し、ウェブ基材107及びフォトマスク(R)601の位置決めを行い、フォトマスク(R)601を介して紫外線照射を行い、その後現像処理することでウェブ基材107上にパターン(R)701を形成する。この場合、パターン(R)701は、フォトマスク(R)601のマスクパターン(R)602に基づいて、ウェブ基材107の搬送方向108に対して45度の角度をなすように形成される。   The exposure apparatus 101 detects the alignment mark (R) 702 from the alignment mark detection hole (R) 603 using the alignment mark detection camera 103, positions the web base material 107 and the photomask (R) 601, and then uses the photomask ( R) irradiates ultraviolet rays through 601 and then develops to form pattern (R) 701 on web substrate 107. In this case, the pattern (R) 701 is formed at an angle of 45 degrees with respect to the conveyance direction 108 of the web substrate 107 based on the mask pattern (R) 602 of the photomask (R) 601.

尚、上記着色層レッド(R)の形成と同様に、着色層グリーン(G)、着色層ブルー(B)についても、同様の露光・現像プロセスにより所定のパターンを形成する。この場合も、フォトマスクのマスクパターンの1面分の領域、方向は、フォトマスクのエッジに対して45度の角度をなす。   Similar to the formation of the colored layer red (R), the colored layer green (G) and the colored layer blue (B) are also formed with a predetermined pattern by the same exposure / development process. Also in this case, the area and direction of one surface of the mask pattern of the photomask form an angle of 45 degrees with respect to the edge of the photomask.

<カラムスペーサ形成(図3:ステップ304)>
図8は、カラムスペーサ(CS)形成用のフォトマスク(CS)801を示す図である。
図9は、カラムスペーサ(CS)形成後のウェブ基材107を示す図である。
<Column spacer formation (FIG. 3: Step 304)>
FIG. 8 is a view showing a photomask (CS) 801 for forming a column spacer (CS).
FIG. 9 is a view showing the web substrate 107 after the column spacer (CS) is formed.

フォトマスク(CS)801は、マスクパターン(CS)802、アライメントマーク検出孔(CS)803を有する。   The photomask (CS) 801 has a mask pattern (CS) 802 and an alignment mark detection hole (CS) 803.

マスクパターン(CS)802は、ウェブ基材107上にカラムスペーサ(CS)901を形成するためのものである。カラムスペーサ901は、ブラックマトリクス位置上に形成することが望ましい。   The mask pattern (CS) 802 is for forming the column spacer (CS) 901 on the web substrate 107. The column spacer 901 is desirably formed on the black matrix position.

アライメントマーク検出孔(CS)803は、ウェブ基材107上のアライメントマーク(CS)902を検出し、ウェブ基材107及びフォトマスク(CS)801の位置決めをするためのものである。アライメントマーク(CS)902の検出は、上記アライメントマーク検出カメラ103により行う。   The alignment mark detection hole (CS) 803 is for detecting the alignment mark (CS) 902 on the web base material 107 and positioning the web base material 107 and the photomask (CS) 801. The alignment mark (CS) 902 is detected by the alignment mark detection camera 103.

露光装置101は、アライメントマーク検出カメラ103により、アライメントマーク検出孔(CS)803からアライメントマーク(CS)902を検出し、ウェブ基材107及びフォトマスク(CS)801の位置決めを行い、フォトマスク(CS)801を介して紫外線照射を行い、その後現像処理することでウェブ基材107上にカラムスペーサ901を形成する。   The exposure apparatus 101 detects the alignment mark (CS) 902 from the alignment mark detection hole (CS) 803 by the alignment mark detection camera 103, positions the web base material 107 and the photomask (CS) 801, and performs a photomask ( The column spacers 901 are formed on the web base material 107 by performing ultraviolet irradiation via CS) 801 and then developing.

図10は、上記パターン形成後のカラーフィルタ基材1001を示す図(図9:A−A’断面図)である。
カラーフィルタ基材1001は、ウェブ基材107上に、ブラックマトリクス層(BM)1002、着色層(R、G、B)1003、透明電極膜1004、カラムスペーサ1005等が形成されて構成される。
FIG. 10 is a view (FIG. 9: AA ′ cross-sectional view) showing the color filter substrate 1001 after the pattern formation.
The color filter substrate 1001 is configured by forming a black matrix layer (BM) 1002, a colored layer (R, G, B) 1003, a transparent electrode film 1004, a column spacer 1005, and the like on a web substrate 107.

次に、図11〜図15を参照しながら、液晶パネル基材1501(図15参照)の製造工程について説明する。   Next, the manufacturing process of the liquid crystal panel substrate 1501 (see FIG. 15) will be described with reference to FIGS.

図11は、偏光フィルムラミネート装置1101を示す図である。
偏光フィルムラミネート装置1101は、巻出ロール1102、巻出ロール1103、ラミネートニップロール1104、巻取ロール1105等から構成される。
偏光フィルムラミネート装置1101は、ウェブ状のカラーフィルタ基材1001とウェブ状の偏光フィルム1106とを貼合する。
FIG. 11 is a view showing a polarizing film laminating apparatus 1101.
A polarizing film laminating apparatus 1101 includes an unwinding roll 1102, an unwinding roll 1103, a laminating nip roll 1104, a winding roll 1105, and the like.
The polarizing film laminating apparatus 1101 bonds the web-shaped color filter substrate 1001 and the web-shaped polarizing film 1106.

カラーフィルタ基材1001は、巻出ロール1102から巻出され、偏光フィルム1106は、巻出ロール1103から巻出される。カラーフィルタ基材1001及び偏光フィルム1106は、巻長分連続してラミネートニップロール1104により積層、ニップされる。偏光フィルムがラミネートされたカラーフィルタ基材1107は、巻取ロール1105に回収される。   The color filter substrate 1001 is unwound from the unwinding roll 1102, and the polarizing film 1106 is unwound from the unwinding roll 1103. The color filter substrate 1001 and the polarizing film 1106 are laminated and nipped by a laminate nip roll 1104 continuously for the winding length. The color filter base material 1107 on which the polarizing film is laminated is collected by a winding roll 1105.

図16は、従来のカラーフィルタ基材1601を示す図である。
従来のカラーフィルタ基材1601は、ウェブ基材107の搬送方向108に対して0度あるいは90度の角度をなすように、カラーフィルタのパターン1602が形成される。
FIG. 16 is a view showing a conventional color filter substrate 1601.
A color filter pattern 1602 is formed on the conventional color filter substrate 1601 so as to form an angle of 0 degrees or 90 degrees with respect to the conveyance direction 108 of the web substrate 107.

図17、図18は、ウェブ状の偏光フィルム1701、1801を示す図である。
図19は、枚葉の偏光板1901を示す図である。
17 and 18 are diagrams showing web-like polarizing films 1701 and 1801.
FIG. 19 is a diagram showing a single-wafer polarizing plate 1901.

一般に、斜め方向からの表示品位の低下抑制等の理由により、偏光フィルムは、偏光方向がカラーフィルタのパターン方向(パターン領域周辺の各辺方向)と所定の角度(例えば、45度)をなすように、液晶パネル基材1501の上面及び下面に貼り付けられる。
また、図17及び図18に示すように、一般に、ウェブ状の偏光フィルム1701、1801の偏光方向1702、1802は、搬送方向108と平行あるいは垂直である。
In general, for reasons such as suppressing deterioration in display quality from an oblique direction, the polarizing film has a polarization direction that makes a predetermined angle (for example, 45 degrees) with the pattern direction of the color filter (each side direction around the pattern region). The liquid crystal panel substrate 1501 is attached to the upper and lower surfaces.
As shown in FIGS. 17 and 18, the polarization directions 1702 and 1802 of the web-like polarizing films 1701 and 1801 are generally parallel or perpendicular to the transport direction 108.

従って、これらの偏光フィルム1701、1801をウェブ状のまま、従来のカラーフィルタ基材1601に貼り付けることはできない。従来のカラーフィルタ基材1601に対しては、枚葉の偏光板1901を予め用意し、この偏光板1901を1枚ずつ貼り付ける必要がある。尚、この場合、偏光板1901の偏光方向1902とカラーフィルタパターン方向とのなす角度を45度とする。   Therefore, these polarizing films 1701 and 1801 cannot be attached to the conventional color filter substrate 1601 in a web shape. For the conventional color filter substrate 1601, it is necessary to prepare a single-wafer polarizing plate 1901 in advance and affix the polarizing plates 1901 one by one. In this case, the angle between the polarization direction 1902 of the polarizing plate 1901 and the color filter pattern direction is 45 degrees.

一方、図4〜図9に示すように、本発明の実施の形態に係るカラーフィルタ基材1001は、ウェブ基材107の搬送方向108に対して45度の角度をなすようにカラーフィルタのパターンが形成されるので、偏光フィルム1701、1801をウェブ状のまま貼り付けることができる。すなわち、上記偏光フィルムラミネート装置1101を用いて、カラーフィルタ基材1001と偏光フィルム1106とを共にウェブ状のまま貼り付けることができる。尚、この場合であっても、カラーフィルタパターン方向と偏光方向のなす角度は、45度となる。   On the other hand, as shown in FIGS. 4 to 9, the color filter substrate 1001 according to the embodiment of the present invention has a color filter pattern so as to form an angle of 45 degrees with respect to the conveyance direction 108 of the web substrate 107. Therefore, the polarizing films 1701 and 1801 can be pasted in a web shape. That is, by using the polarizing film laminating apparatus 1101, both the color filter base material 1001 and the polarizing film 1106 can be stuck in a web shape. Even in this case, the angle formed by the color filter pattern direction and the polarization direction is 45 degrees.

図12は、TFT基材ラミネート装置1201を示す図である。
図13は、液晶滴下装置1208及びラミネートニップロール1204の動作の詳細を示す図である。
図14は、上記ラミネートニップロール1204を上方向からみた図である。
FIG. 12 is a view showing a TFT base material laminating apparatus 1201.
FIG. 13 is a diagram showing details of operations of the liquid crystal dropping device 1208 and the laminate nip roll 1204.
FIG. 14 is a view of the laminate nip roll 1204 as viewed from above.

TFT基材ラミネート装置1201は、巻出ロール1202、巻出ロール1203、ラミネートニップロール1204、巻取ロール1205、シール剤塗布装置1206、乾燥装置1207、液晶滴下装置1208、シール剤硬化装置1209等から構成される。
TFT基材ラミネート装置1201は、カラーフィルタ基材1107(偏光フィルム積層済)とTFT(Thin Film Transistor)基材1210との間に液晶を封入してラミネートし、液晶パネル基材1501(1211)を製造する。
The TFT substrate laminating apparatus 1201 includes an unwinding roll 1202, an unwinding roll 1203, a laminating nip roll 1204, a winding roll 1205, a sealant coating apparatus 1206, a drying apparatus 1207, a liquid crystal dropping apparatus 1208, a sealant curing apparatus 1209, and the like. Is done.
A TFT substrate laminating apparatus 1201 encloses and laminates a liquid crystal panel substrate 1501 (1211) between a color filter substrate 1107 (polarized film laminated) and a TFT (Thin Film Transistor) substrate 1210 to laminate the liquid crystal. To manufacture.

尚、液晶滴下装置1208は、ラミネートニップロール1204の直上に設けられる。また、ラミネートニップロール1204は、液晶滴下装置1208から滴下された液晶をTFT基材1210とカラーフィルタ基材1211間に封入できるように配置される。例えば、ラミネートニップロール1204は、上方の左右から搬送されたカラーフィルタ基材1107とTFT基材1210との間に液晶を封入し、ラミネート、ニップして鉛直下方に搬送する。   The liquid crystal dropping device 1208 is provided immediately above the laminate nip roll 1204. The laminate nip roll 1204 is disposed so that the liquid crystal dropped from the liquid crystal dropping device 1208 can be sealed between the TFT base material 1210 and the color filter base material 1211. For example, the laminating nip roll 1204 encloses the liquid crystal between the color filter base material 1107 and the TFT base material 1210 transported from the upper left and right, and laminates and nips and transports it vertically downward.

カラーフィルタ基材1107は、巻出ロール1202から巻出され、TFT基材1210は、巻出ロール1203から巻出される。
シール剤塗布装置1206は、カラーフィルタ基材1107のパターン領域の外周部1402(図14参照)にリブ状にシール剤1502(図15参照)を塗布する。
乾燥装置1207は、上記シール剤1502の加熱乾燥を行う。
The color filter substrate 1107 is unwound from the unwinding roll 1202, and the TFT substrate 1210 is unwound from the unwinding roll 1203.
The sealant application device 1206 applies the sealant 1502 (see FIG. 15) in a rib shape to the outer peripheral portion 1402 (see FIG. 14) of the pattern region of the color filter substrate 1107.
The drying device 1207 performs heat drying of the sealing agent 1502.

配向膜形成、ラビング処理等の配向膜処理工程を経て、カラーフィルタ基材1107及びTFT基材1210は、巻長分連続してラミネートニップロール1204により積層、ニップされる。この際、液晶滴下装置1208は、カラーフィルタ基材1107及びTFT基材1210の間に液晶1301(図13参照)を滴下する。滴下された液晶1301は、カラーフィルタ基材1107及びTFT基材1210の間に封入される。   Through alignment film processing steps such as alignment film formation and rubbing treatment, the color filter substrate 1107 and the TFT substrate 1210 are laminated and nipped by the laminate nip roll 1204 continuously for the winding length. At this time, the liquid crystal dropping device 1208 drops the liquid crystal 1301 (see FIG. 13) between the color filter base material 1107 and the TFT base material 1210. The dropped liquid crystal 1301 is sealed between the color filter substrate 1107 and the TFT substrate 1210.

シール剤硬化装置1209は、紫外線(UV)を照射し上記シール剤1502を硬化させる。
カラーフィルタ基材1107とTFT基材1210とが貼合され、液晶が封入されると、カラーフィルタ基材1211(TFT基材積層済)は、巻取ロール1205に回収される。
The sealing agent curing device 1209 cures the sealing agent 1502 by irradiating ultraviolet rays (UV).
When the color filter base material 1107 and the TFT base material 1210 are bonded and liquid crystal is sealed, the color filter base material 1211 (TFT base material laminated) is collected by the winding roll 1205.

このように、液晶パネル基材1501(TFT基材積層済のカラーフィルタ基材1211)は、カラーフィルタ基材1107とTFT基材1210とが貼合され、液晶が封入されて製造される。   Thus, the liquid crystal panel base material 1501 (color filter base material 1211 with the TFT base material laminated) is manufactured by pasting the color filter base material 1107 and the TFT base material 1210 and enclosing the liquid crystal.

図13に示すように、液晶滴下装置1208は、ラミネートニップロール1204の直上から液晶1301を滴下し、ラミネートニップロール1204は、カラーフィルタ基材1107とTFT基材1210との間に滴下された液晶1301を封入し、液晶パネル基材1501(TFT基材積層済のカラーフィルタ基材1211)を鉛直方向下向きに搬送する。また、上記のように1面分のパターン領域、方向は、搬送方向108に対して45度の角度をなしている。   As shown in FIG. 13, the liquid crystal dropping device 1208 drops the liquid crystal 1301 from directly above the laminate nip roll 1204, and the laminate nip roll 1204 drops the liquid crystal 1301 dropped between the color filter base material 1107 and the TFT base material 1210. The liquid crystal panel substrate 1501 (the color filter substrate 1211 on which the TFT substrate is laminated) is transported vertically downward. In addition, as described above, the pattern area and direction for one surface form an angle of 45 degrees with respect to the conveyance direction 108.

従って、液晶封入の際、エア(気泡)が発生しても、コーナ部1401(図14参照)の1点からエアが抜ける。このように、上記TFT基材ラミネート装置1201によりカラーフィルタ基材1107とTFT基材1210とを貼合した後は、液晶中にエアが残存せず、空セル内が真空となるので、不良製品の発生を抑制することができる。
また、従来の方法では真空装置にセルを入れ、液晶を吸い上げるため、液晶の封入に時間がかかり、かつ、バッチ処理となるが、本発明は大気中にて連続的に液晶の封入ができるので、生産性は大幅に向上すると共に、基盤サイズにも影響されない利点がある。
Therefore, even when air (bubbles) is generated during liquid crystal encapsulation, the air escapes from one point of the corner portion 1401 (see FIG. 14). Thus, after the color filter base material 1107 and the TFT base material 1210 are pasted together by the TFT base material laminating apparatus 1201, air does not remain in the liquid crystal, and the empty cell is evacuated. Can be suppressed.
In the conventional method, since a cell is put in a vacuum apparatus and the liquid crystal is sucked up, it takes time to enclose the liquid crystal and batch processing is performed. However, the present invention can encapsulate liquid crystal continuously in the atmosphere. This has the advantage that productivity is greatly improved and the base size is not affected.

以上説明したように、本発明の実施の形態によれば、フォトマスクのエッジ方向とマスクパターン方向とのなす角度が45度であるフォトマスクを用いて、ウェブ基材上にカラーフィルタパターンを形成することにより、カラーフィルタ基材、偏光フィルム、TFT基材を全てウェブ状のまま貼合することができ、さらに、貼合工程と液晶封入工程とを同時に行えるので、処理能力が飛躍的に向上する。   As described above, according to the embodiment of the present invention, a color filter pattern is formed on a web substrate using a photomask whose angle between the edge direction of the photomask and the mask pattern direction is 45 degrees. By doing this, the color filter substrate, polarizing film, and TFT substrate can all be bonded in a web-like form, and the bonding process and the liquid crystal encapsulation process can be performed simultaneously, greatly improving processing capacity. To do.

また、液晶封入の際、エア(気泡)が発生しても、カラーフィルタパターンのコーナ部からエアが抜けるので、液晶中にエアが残存せず、空セル内が真空となるので、不良製品の発生を抑制し、表示品質向上、歩留まり向上を図ることができる。   In addition, even if air (bubbles) is generated during liquid crystal encapsulation, air will escape from the corners of the color filter pattern, so air will not remain in the liquid crystal and the empty cell will be evacuated. Occurrence can be suppressed, and display quality and yield can be improved.

露光装置、偏光フィルムラミネート装置、TFT基材ラミネート装置等は、それぞれ独立した装置として説明したが、これらのうち少なくともいずれかを一体の装置として構成するようにしてもよい。   Although the exposure apparatus, the polarizing film laminating apparatus, the TFT substrate laminating apparatus, and the like have been described as independent apparatuses, at least one of them may be configured as an integrated apparatus.

また、マスクパターン方向、カラーフィルタパターン方向と、ウェブ基材の搬送方向とのなす角度に関しては、上記のように45度とすることが望ましいが、液晶の種類、液晶の配向特性等に応じて、例えば、5度〜85度の範囲で、角度を変更することも技術的に可能である。
さらに、マスクパターンが斜めに設けられたマスクを利用して露光していたが、マスク自体をウェブに対して斜めにすることで通常用いられているマスクを使うことができる。
The angle between the mask pattern direction, the color filter pattern direction, and the web substrate conveyance direction is preferably 45 degrees as described above, but depending on the type of liquid crystal, the alignment characteristics of the liquid crystal, and the like. For example, it is technically possible to change the angle in the range of 5 to 85 degrees.
Furthermore, although exposure is performed using a mask having a mask pattern provided obliquely, a mask that is normally used can be used by making the mask itself oblique to the web.

また、上述の実施の形態では、1のフォトマスクに液晶パネル1面分のマスクパターンを設け、ウェブ基材には、搬送方向に沿って1列にパターン領域の形成等を行うものとして説明したがこれに限られない。例えば、1のフォトマスクに複数のマスクパターンを設け、複数の液晶パネル面について一時に露光を行い、ウェブ基材には、搬送方向に沿って複数列のパターン領域の形成を行うようにしてもよい。   In the above-described embodiment, a mask pattern corresponding to one surface of the liquid crystal panel is provided on one photomask, and the web substrate is described as forming a pattern region in one row along the conveyance direction. However, it is not limited to this. For example, a plurality of mask patterns may be provided on one photomask, a plurality of liquid crystal panel surfaces may be exposed at a time, and a plurality of rows of pattern areas may be formed on the web substrate along the conveyance direction. Good.

以上、添付図面を参照しながら、本発明にかかる液晶パネル部材、その製造装置、その製造方法等の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   The preferred embodiments of the liquid crystal panel member, the manufacturing apparatus, the manufacturing method, and the like according to the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea disclosed in the present application, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明の実施の形態に係る露光装置101の概略構成図1 is a schematic block diagram of an exposure apparatus 101 according to an embodiment of the present invention. 露光装置101を上方向からみた図View of exposure apparatus 101 as viewed from above カラーフィルタ基材1001の製造工程を示すフローチャートThe flowchart which shows the manufacturing process of the color filter base material 1001 ブラックマトリクス(BM)形成用のフォトマスク(BM)401を示す図The figure which shows the photomask (BM) 401 for black matrix (BM) formation ブラックマトリクス(BM)形成後のウェブ基材107を示す図The figure which shows the web base material 107 after black matrix (BM) formation. 着色層レッド(R)形成用のフォトマスク(R)601を示す図The figure which shows the photomask (R) 601 for coloring layer red (R) formation 着色層レッド(R)形成後のウェブ基材107を示す図The figure which shows the web base material 107 after colored layer red (R) formation カラムスペーサ(CS)形成用のフォトマスク(CS)801を示す図The figure which shows the photomask (CS) 801 for column spacer (CS) formation カラムスペーサ(CS)形成後のウェブ基材107を示す図The figure which shows the web base material 107 after column spacer (CS) formation. カラーフィルタ基材1001を示す図(図9:A−A’断面図)The figure which shows the color filter base material 1001 (FIG. 9: A-A 'sectional drawing) 偏光フィルムラミネート装置1101を示す図The figure which shows the polarizing film laminating apparatus 1101 TFT基材ラミネート装置1201を示す図The figure which shows the TFT base-material laminating apparatus 1201 液晶滴下装置1208及びラミネートニップロール1204の動作の詳細を示す図The figure which shows the detail of operation | movement of the liquid crystal dropping apparatus 1208 and the lamination nip roll 1204. ラミネートニップロール1204を上方向からみた図View of laminate nip roll 1204 as seen from above 液晶パネル基材1501を示す図The figure which shows the liquid crystal panel base material 1501 従来のカラーフィルタ基材1601を示す図The figure which shows the conventional color filter base material 1601 ウェブ状の偏光フィルム1701を示す図The figure which shows the web-like polarizing film 1701 ウェブ状の偏光フィルム1801を示す図The figure which shows the web-like polarizing film 1801 枚葉の偏光フィルム1901を示す図The figure which shows the sheet polarizing film 1901

符号の説明Explanation of symbols

101………露光装置
102………照射ヘッド
103………アライメントマーク検出カメラ
104………フォトマスク
105………フォトマスクホルダ
106………吸着プレート
107………ウェブ基材
108………搬送方向
401、601、801………フォトマスク
402、602、802………マスクパターン
501、701………パターン
901………カラムスペーサ
1001………カラーフィルタ基材
1101………偏光フィルムラミネート装置
1102、1103………巻出ロール
1104………ラミネートニップロール
1105………巻取ロール
1106………偏光フィルム
1107………カラーフィルタ基材(偏光フィルム積層済)
1201………TFT基材ラミネート装置
1202、1203………巻出ロール
1204………ラミネートニップロール
1205………巻出ロール
1208………液晶滴下装置
1211………TFT基材積層済のカラーフィルタ基材(液晶パネル基材1501)
1301………液晶
1302………エア(気泡)
1401………コーナ部
1402………外周部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ......... Exposure apparatus 102 ......... Irradiation head 103 ......... Alignment mark detection camera 104 ......... Photomask 105 ......... Photomask holder 106 ......... Suction plate 107 ......... Web base material 108 ......... Transport direction 401, 601, 801 ... Photomask 402, 602, 802 ... Mask pattern 501, 701 ... Pattern 901 ... Column spacer 1001 ... Color filter substrate 1101 ... Polarizing film laminate Equipment 1102, 1103 ...... Unwinding roll 1104 ... Laminating nip roll 1105 ... Winding roll 1106 ... Polarizing film 1107 ... Color filter substrate (polarizing film laminated)
1201 ... TFT substrate laminating apparatus 1202, 1203 ... Unwinding roll 1204 ... Laminating nip roll 1205 ... Unwinding roll 1208 ... Liquid crystal dropping apparatus 1211 ... Color filter with TFT substrate laminated Base material (liquid crystal panel base material 1501)
1301 ……… Liquid crystal 1302 ……… Air (bubbles)
1401 ......... Corner part 1402 ... ... Peripheral part

Claims (15)

ウェブ基材上にカラーフィルタパターンが形成された液晶パネル部材であって、前記ウェブ基材の長尺方向とカラーフィルタパターン方向とが交差していることを特徴とする液晶パネル部材。 A liquid crystal panel member having a color filter pattern formed on a web substrate, wherein a longitudinal direction of the web substrate and a color filter pattern direction intersect each other. ウェブ状の偏光フィルムが貼合されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶パネル部材。 The liquid crystal panel member according to claim 1, wherein a web-like polarizing film is bonded. 前記ウェブ基材の長尺方向とTFTパターン方向とが交差してウェブ状のTFT基材が前記ウェブ基材に貼合されたことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の液晶パネル部材。 3. The liquid crystal panel according to claim 1, wherein a web-like TFT base material is bonded to the web base material by crossing a long direction of the web base material and a TFT pattern direction. Element. フォトマスクのエッジ方向とマスクパターン方向とが交差していることを特徴とするフォトマスク。 A photomask, wherein an edge direction of the photomask and a mask pattern direction intersect each other. ウェブ基材の搬送方向とマスクパターン方向とが交差しているフォトマスクを具備することを特徴とする露光装置。 An exposure apparatus comprising a photomask in which a web substrate conveyance direction and a mask pattern direction intersect each other. 前記交差する角度は、45度であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに記載の液晶パネル部材。 The liquid crystal panel member according to any one of claims 1 to 3, wherein the intersecting angle is 45 degrees. 前記交差する角度は、45度であることを特徴とする請求項4に記載のフォトマスク。 The photomask according to claim 4, wherein the intersecting angle is 45 degrees. 前記交差する角度は、45度であることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 6. The exposure apparatus according to claim 5, wherein the intersecting angle is 45 degrees. ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出手段と、
ウェブ状の偏光フィルムを巻出す第2巻出手段と、
前記カラーフィルタ基材と前記偏光フィルムとを積層する積層手段と、
前記偏光フィルムが積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取手段と、
を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造装置。
First unwinding means for unwinding the web-shaped color filter substrate;
A second unwinding means for unwinding the web-shaped polarizing film;
Lamination means for laminating the color filter substrate and the polarizing film;
Winding means for winding the color filter substrate on which the polarizing film is laminated;
An apparatus for producing a liquid crystal panel member, comprising:
ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出手段と、
ウェブ状のTFT基材を巻出す第2巻出手段と、
前記カラーフィルタ基材と前記TFT基材とを積層する積層手段と、
前記積層手段の直上から液晶を滴下する液晶滴下手段と、
前記TFT基材が積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取手段と、
を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造装置。
First unwinding means for unwinding the web-shaped color filter substrate;
A second unwinding means for unwinding the web-shaped TFT substrate;
Lamination means for laminating the color filter substrate and the TFT substrate;
Liquid crystal dropping means for dropping liquid crystal from directly above the laminating means;
Winding means for winding the color filter substrate on which the TFT substrate is laminated;
An apparatus for producing a liquid crystal panel member, comprising:
前記積層手段は、上方の左右から搬送された前記TFT基材と前記カラーフィルタ基材との間に前記液晶を封入し、両基材を積層して下方に搬送することを特徴とする請求項10に記載の液晶パネル部材製造装置。 The laminating means encloses the liquid crystal between the TFT base material and the color filter base material transported from above and from the left and right, stacks both base materials, and transports them downward. The liquid crystal panel member manufacturing apparatus according to 10. シール剤を塗布するシール剤塗布手段と、
前記シール剤を乾燥する乾燥手段と、
前記シール剤を硬化する硬化手段と、
を具備することを特徴とする請求項10に記載の液晶パネル部材製造装置。
Sealing agent application means for applying the sealing agent;
A drying means for drying the sealant;
A curing means for curing the sealant;
The liquid crystal panel member manufacturing apparatus according to claim 10, comprising:
ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出工程と、
ウェブ状の偏光フィルムを巻出す第2巻出工程と、
前記カラーフィルタ基材と前記偏光フィルムとを積層する積層工程と、
前記偏光フィルムが積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取工程と、
を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造方法。
A first unwinding step of unwinding the web-shaped color filter substrate;
A second unwinding step of unwinding the web-shaped polarizing film;
A laminating step of laminating the color filter substrate and the polarizing film;
A winding step of winding the color filter substrate on which the polarizing film is laminated;
A method for producing a liquid crystal panel member, comprising:
ウェブ状のカラーフィルタ基材を巻出す第1巻出工程と、
ウェブ状のTFT基材を巻出す第2巻出工程と、
前記カラーフィルタ基材と前記TFT基材とを積層する積層工程と、
前記積層部の直上から液晶を滴下する液晶滴下工程と、
前記TFT基材が積層されたカラーフィルタ基材を巻取る巻取工程と、
を具備することを特徴とする液晶パネル部材製造方法。
A first unwinding step of unwinding the web-shaped color filter substrate;
A second unwinding step of unwinding the web-shaped TFT substrate;
A lamination step of laminating the color filter substrate and the TFT substrate;
A liquid crystal dropping step of dropping liquid crystal from directly above the laminated portion;
A winding step of winding the color filter substrate on which the TFT substrate is laminated;
A method for producing a liquid crystal panel member, comprising:
前記積層工程は、上方の左右から搬送された前記TFT基材と前記カラーフィルタ基材との間に前記液晶を封入し、両基材を積層して下方に搬送することを特徴とする請求項14に記載の液晶パネル部材製造方法。
The laminating step is characterized in that the liquid crystal is sealed between the TFT base material and the color filter base material transported from the upper left and right, and the both base materials are stacked and transported downward. 14. The method for producing a liquid crystal panel member according to 14.
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