JP2006178301A - Liquid crystal display device and method of fabricating the same - Google Patents

Liquid crystal display device and method of fabricating the same Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device with excellent display quality by strictly controlling a gap between substrates (a cell gap) at a low cost. <P>SOLUTION: Two sheets of mutually opposing substrates are adhered to each other by using an inorganic insulator film as a spacer member to control cell thickness, and arranging wall shaped spacers composed of the inorganic insulator film so as to catch both sides of a sealing material 150 (an adhesive) to stick the two sheets of mutually opposing substrates to each other in the gap. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は液晶表示装置に係り、特に、パターニングで形成された壁状の無機材料によるスペーサを用いた液晶表示装置と、その製造方法に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device using a spacer made of a wall-like inorganic material formed by patterning, and a method for manufacturing the same.

液晶表示装置は、表面に電極を有する一対の基板を対抗配置し、この基板間に液晶材料を狭持した構造を有する装置であり、電極間に印加した電圧に応じて液晶材料による偏光状態を制御して画像を出力する。透過型、反射型、あるいは半透過型の液晶表示装置が多くの機器で使用されている。   A liquid crystal display device is a device having a structure in which a pair of substrates having electrodes on the surface are opposed to each other and a liquid crystal material is sandwiched between the substrates, and the polarization state of the liquid crystal material is changed according to the voltage applied between the electrodes. Control and output an image. A transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device is used in many devices.

図7は従来の反射型液晶表示装置の概念的な断面図である。表面に駆動回路や反射電極が形成されたSi基板110と、表面に透明電極が形成されたガラス基板120とが対抗配置されており、封止材150によってSi基板110とガラス基板120とが接着固定され、セルが形成されている。セル内には液晶材料130が封入され、基板間隔(セルギャップ)を厳密に制御するためスペーサ140が液晶材料130内及び封止材150の少なくとも一方に入れられている。従来、スペーサ140としては、図7に示すように主に樹脂またはシリカからなる球状のものが使用されている。しかし、液晶材料130中の球状スペーサは移動し易いため、表示部への移動によるコントラストの低下やスペーサの不均一分布によるセルギャップの不均一化の問題がある。また封止材150に球状スペーサを混入した場合にも基板110,ガラス基板120とスペーサ140とが点接触になるため、応力集中などによるダメージの問題がある。最近では球状スペーサに変えて感光性樹脂を用いたスペーサの使用が検討されている。感光性樹脂を用いたスペーサは、露光・現像処理によって基板110上に形成できるため、スペーサ自身を微細加工し所望の位置に正確に配置できるメリットがあるものの耐湿性や強度に劣り、また樹脂中の有機成分が液晶材料の劣化を促進するなどの問題もある。これらの問題を解決するために、特許文献1(特開平6−273773)には、シリコン酸化膜・シリコン窒化膜等の無機絶縁体膜からなるスペーサを使用した液晶表示装置が開示されている。しかし、剛性の高い無機絶縁体からなる壁状スペーサ141の近傍を封止材150で接着する場合、図8(a)(b)に示すように、封止材の収縮に伴いガラス基板120が反ってセルギャップの均一性を損なうことになる。この問題を解決するために、特許文献1(特開平6−273773)では図8(c)のように、壁状スペーサ141の両側に封止材150を配置することで解決している。
特開平6−273773号公報
FIG. 7 is a conceptual cross-sectional view of a conventional reflective liquid crystal display device. A Si substrate 110 having a driving circuit and a reflective electrode formed on the surface and a glass substrate 120 having a transparent electrode formed on the surface are arranged to face each other, and the Si substrate 110 and the glass substrate 120 are bonded to each other by a sealing material 150. It is fixed and a cell is formed. A liquid crystal material 130 is sealed in the cell, and a spacer 140 is placed in at least one of the liquid crystal material 130 and the sealing material 150 in order to strictly control the substrate gap (cell gap). Conventionally, as the spacer 140, a spherical one mainly made of resin or silica is used as shown in FIG. However, since the spherical spacers in the liquid crystal material 130 are easy to move, there are problems of a decrease in contrast due to the movement to the display portion and a nonuniform cell gap due to a nonuniform spacer distribution. In addition, when a spherical spacer is mixed in the sealing material 150, the substrate 110, the glass substrate 120, and the spacer 140 are in point contact, and there is a problem of damage due to stress concentration. Recently, the use of a spacer using a photosensitive resin instead of a spherical spacer has been studied. Since the spacer using the photosensitive resin can be formed on the substrate 110 by exposure / development processing, the spacer itself has a merit that it can be finely processed and accurately placed at a desired position, but is inferior in moisture resistance and strength. There is also a problem that the organic component of the liquid promotes the deterioration of the liquid crystal material. In order to solve these problems, Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 6-273773) discloses a liquid crystal display device using a spacer made of an inorganic insulator film such as a silicon oxide film or a silicon nitride film. However, when the vicinity of the wall-shaped spacer 141 made of a highly rigid inorganic insulator is bonded with the sealing material 150, as shown in FIGS. In other words, the uniformity of the cell gap is impaired. In order to solve this problem, in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 6-273773), the sealing material 150 is disposed on both sides of the wall spacer 141 as shown in FIG. 8C.
JP-A-6-273773

しかし、従来の構造では、液晶材料130と封止材150が直接接触するため、封止材150内に含有される有機成分が液晶材料130の劣化を促進するという問題や、一般に封止材の幅は1mm程度と広いため設置面積が広くなってしまうという問題がある。また、図9に示すように、封止部分を拡大すると壁状スペーサ141の形成は露光・現像・エッチング等の半導体(もしくは半導体に準ずる)プロセスによって形成するため壁面形状は直線的であるが、封止材150はシリンジ等による塗布工程で形成されるため壁面形状が波状になる。これは、Si基板110とガラス基板120及び封止材150で囲まれたセルの容積にばらつきが生じることを意味している。直視型などの大判液晶表示装置の場合にはさして問題にはならないが、LCOS(Liquid Crystal On Silicon)や高温Poly−Siパネル等のチップサイズの小さな液晶表示装置の場合には、液晶材料130の総量が微少であるためセル容積のばらつきが無視できない。そのため、大判液晶表示装置の製造において製造コストを下げ、異物による歩留低下を防ぐために実施されている封止材の塗布・液晶滴下・基板貼合わせの一環プロセスが採用できないという問題点があった。本発明はこれらの問題を解決して、表示品質の優れた液晶表示装置を提供することを目的とするものである。   However, in the conventional structure, since the liquid crystal material 130 and the sealing material 150 are in direct contact with each other, the organic component contained in the sealing material 150 promotes deterioration of the liquid crystal material 130, Since the width is as wide as about 1 mm, there is a problem that the installation area becomes wide. In addition, as shown in FIG. 9, when the sealing portion is enlarged, the wall spacer 141 is formed by a semiconductor (or similar to semiconductor) process such as exposure, development, and etching, so that the wall surface shape is linear. Since the sealing material 150 is formed by an application process using a syringe or the like, the wall surface has a wavy shape. This means that the volume of the cell surrounded by the Si substrate 110, the glass substrate 120, and the sealing material 150 varies. In the case of a large-sized liquid crystal display device such as a direct-view type, there is no problem, but in the case of a liquid crystal display device with a small chip size such as a liquid crystal silicon (LCOS) or a high-temperature poly-Si panel, the liquid crystal material 130 Since the total amount is very small, variations in cell volume cannot be ignored. For this reason, there has been a problem in that the manufacturing process of the large-format liquid crystal display device cannot reduce the manufacturing cost and the part process of applying the sealing material, dropping the liquid crystal, and laminating the substrates, which is performed in order to prevent the yield reduction due to the foreign matter. . An object of the present invention is to solve these problems and provide a liquid crystal display device having excellent display quality.

本発明は、液晶表示装置において、低コストで基板間隔(セルギャップ)が厳密に制御された表示品質の優れた液晶表示装置を提供するための手段として、セル厚制御用のスペーサ部材として無機絶縁体膜を用い、スペーサを表示画素領域外に配置することを特徴とする。また、図10に示すように対向する二枚の基板を貼り合わせるための封止材150(接着剤)の両側を挟み込むように無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ141を配置し接着することを特徴とする。無機絶縁体膜としては、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン炭化物、水素を含有するシリコン炭化膜、アルミニウム酸化物等及びその積層膜を使用することが出来る。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides an inorganic insulation as a spacer member for controlling a cell thickness as a means for providing a liquid crystal display device with excellent display quality at a low cost and with a precisely controlled substrate gap (cell gap). A body film is used, and a spacer is arranged outside the display pixel region. Further, as shown in FIG. 10, wall spacers 141 made of an inorganic insulator film are arranged and bonded so as to sandwich both sides of a sealing material 150 (adhesive) for bonding two opposing substrates together. Features. As the inorganic insulator film, a silicon oxide film, a silicon nitride film, a silicon carbide, a silicon carbide film containing hydrogen, an aluminum oxide, or the like and a laminated film thereof can be used.

スペーサ部材として無機絶縁体膜を用いることにより、表示画素内の無機絶縁体膜を露光・現像・エッチングによる一連の方法でパターニングして、表示画素外にのみスペーサを配置することができ、液晶材料の配向特性等に悪影響を及ぼさないように出来る。更に、無機絶縁体膜は機械的強度が高く、基板接着のプレスの際にも膜が破壊されず、所定のセル厚を保持できる。封止材150の両側に無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ141を配置することにより、封止材150が収縮した場合にも封止材150の両側で剛性の高い無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ141が均等にガラス基板120を保持するため、ガラス基板120の反りを防止することができる。更に、液晶材料130と接するのは内側の無機絶縁体膜からなる壁状スペーサ141なので、壁面形状が直線的でSi基板110とガラス基板120及び壁状スペーサ141で囲まれたセルの容積にばらつきが生じることがなく、また封止材150と液晶材料130が直接接触しないため、有機成分による液晶材料130の劣化も起こらない。   By using an inorganic insulator film as a spacer member, the inorganic insulator film in the display pixel can be patterned by a series of methods by exposure, development and etching, and the spacer can be disposed only outside the display pixel. The orientation characteristics of the film can be prevented from being adversely affected. Furthermore, the inorganic insulator film has high mechanical strength, and the film is not broken even when the substrate bonding is pressed, and a predetermined cell thickness can be maintained. By disposing wall spacers 141 made of an inorganic insulator film on both sides of the sealing material 150, walls made of an inorganic insulator film having high rigidity on both sides of the sealing material 150 even when the sealing material 150 contracts. Since the spacers 141 hold the glass substrate 120 evenly, the warp of the glass substrate 120 can be prevented. Further, since the wall-shaped spacer 141 made of the inner inorganic insulating film is in contact with the liquid crystal material 130, the wall surface shape is linear, and the volume of the cell surrounded by the Si substrate 110, the glass substrate 120, and the wall-shaped spacer 141 varies. In addition, since the sealing material 150 and the liquid crystal material 130 are not in direct contact with each other, the liquid crystal material 130 is not deteriorated by an organic component.

したがって、本発明を用いることにより、液晶の配向特性に悪影響を及ぼすことなく、セルギャップが均一な厚さの液晶表示装置を提供でき、コントラストが高く均一な表示を達成することができる。   Therefore, by using the present invention, a liquid crystal display device having a uniform cell gap thickness can be provided without adversely affecting the alignment characteristics of the liquid crystal, and a uniform display with high contrast can be achieved.

以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

なお、以下に述べる実施の形態は、それぞれ、本発明の好適な具体例であり、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の技術的範囲はこれらの形態に限られるものではない。   Each of the embodiments described below is a preferable specific example of the present invention, and various technically preferable limitations are provided, but the technical scope of the present invention is limited to these embodiments. is not.

(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として14mm×18mm、チップ面積として16mm×20mmの表面に反射電極及び駆動回路を有するSi基板110と、前記Si基板110の表面上にあって前記Si基板110の周縁部にそって形成された幅1mmの封止材パターン150と、前記封止材パターン150の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサA142と、前記封止材パターン150の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサB143と、表面に透明電極を有するガラス基板120と、前記Si基板110と前記ガラス基板120を2μmの間隙を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたVA液晶131とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはSOG(Spin−On−Glass)を使用した。無機材料による壁状スペーサはいずれも連続的である必要は無い。このような構成にすることで、前記Si基板110と前記ガラス基板120を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±5%に抑えられ、前記ガラス基板120の反りも無く、良好な画像が得られるLCOSデバイスが得られた。図1では壁状スペーサA142及び壁状スペーサB143はそれぞれ1本で記載してあるが、それぞれ2本以上でも良い。更に、前記Si基板110の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Poly−Siパネルにおいても同様の効果が得られる。
(First embodiment)
FIG. 1 is a top view of an LCOS device which is a kind of liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention. The cell of this embodiment includes a Si substrate 110 having a reflective electrode and a drive circuit on the surface of a pixel area of 14 mm × 18 mm and a chip area of 16 mm × 20 mm, and the Si substrate 110 on the surface of the Si substrate 110. A sealing material pattern 150 having a width of 1 mm formed along the peripheral edge, a wall-like spacer A142 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed inside the sealing material pattern 150 and outside the pixel region, and the sealing A 20 μm wide wall spacer B 143 made of an inorganic material formed outside the material pattern 150, a glass substrate 120 having a transparent electrode on the surface, and the Si substrate 110 and the glass substrate 120 are attached with a gap of 2 μm. And a VA liquid crystal 131 injected into the cell. An ultraviolet curable adhesive was used as the sealing material, and SOG (Spin-On-Glass) was used as the wall spacer made of an inorganic material. None of the wall spacers made of an inorganic material need be continuous. By adopting such a configuration, the uniformity of the gap where the Si substrate 110 and the glass substrate 120 are bonded to each other can be suppressed to ± 5% in the plane, and the glass substrate 120 is not warped and a good image is obtained. The resulting LCOS device was obtained. In FIG. 1, one wall spacer A142 and one wall spacer B143 are shown, but two or more may be used. Further, by using a glass substrate instead of the Si substrate 110 and a transparent electrode instead of the reflective electrode, the same effect can be obtained even in a high-temperature Poly-Si panel.

(第2の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として14mm×18mm、チップ面積として16mm×20mmの表面に反射電極及び駆動回路を有するSi基板110と、前記Si基板110の表面上にあって前記Si基板110の周縁部にそって形成された幅1mmの封止材パターン150と、前記封止材パターン150の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサA142と、前記封止材パターン150の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサB143と、表面に透明電極を有するガラス基板120と、前記Si基板110と前記ガラス基板120を2μmの間隙(セルギャップ)を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたVA液晶131とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはSOG(Spin−On−Glass)を使用した。前記封止材パターン150の外側に形成された無機材料による壁状スペーサB142は、前記セルを内包した閉曲線である。このような構成にすることで、前記Si基板110と前記ガラス基板120を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±5%に抑えられ、前記ガラス基板120の反りも無く、また、封止材150よりも耐湿性に優れた無機材料による壁状スペーサB142によって前記セルが囲まれているため、良好な画像が得られ信頼性の高いLCOSデバイスが得られた。図2では壁状スペーサA142及び壁状スペーサB143はそれぞれ1本で記載してあるが、それぞれ2本以上でも良い。更に、前記Si基板110の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Poly−Siパネルにおいても同様の効果が得られる。
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a top view of an LCOS device which is a kind of liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. The cell of this embodiment includes a Si substrate 110 having a reflective electrode and a drive circuit on the surface of a pixel area of 14 mm × 18 mm and a chip area of 16 mm × 20 mm, and the Si substrate 110 on the surface of the Si substrate 110. A sealing material pattern 150 having a width of 1 mm formed along the peripheral edge, a wall-like spacer A142 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed inside the sealing material pattern 150 and outside the pixel region, and the sealing A wall spacer B143 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed outside the material pattern 150, a glass substrate 120 having a transparent electrode on the surface, and a gap (cell gap) of 2 μm between the Si substrate 110 and the glass substrate 120. The cell has a laminated cell and a VA liquid crystal 131 injected into the cell. An ultraviolet curable adhesive was used as the sealing material, and SOG (Spin-On-Glass) was used as the wall spacer made of an inorganic material. The wall-shaped spacer B142 made of an inorganic material formed outside the sealing material pattern 150 is a closed curve including the cells. By adopting such a configuration, the uniformity of the gap between the Si substrate 110 and the glass substrate 120 can be suppressed to ± 5% in the surface, the glass substrate 120 is not warped, and the sealing is performed. Since the cell was surrounded by the wall-like spacer B142 made of an inorganic material superior in moisture resistance to the material 150, a good image was obtained and a highly reliable LCOS device was obtained. In FIG. 2, one wall spacer A142 and one wall spacer B143 are shown, but two or more may be used. Further, by using a glass substrate instead of the Si substrate 110 and a transparent electrode instead of the reflective electrode, the same effect can be obtained even in a high-temperature Poly-Si panel.

(第3の実施形態)
図3は、本発明の第3の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として14mm×18mm、チップ面積として16mm×20mmの表面に反射電極及び駆動回路を有するSi基板110と、前記Si基板110の表面上にあって前記Si基板110の周縁部にそって形成された幅1mmの封止材パターン150と、前記封止材パターン150の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサA142と、前記封止材パターン150の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサB143と、表面に透明電極を有するガラス基板120と、前記Si基板110と前記ガラス基板120を2μmの間隙(セルギャップ)を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたVA液晶131とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはSOG(Spin−On−Glass)を使用した。前記封止材パターン150の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による壁状スペーサA142は、前記セルを内包した閉曲線である。このような構成にすることで、前記Si基板110と前記ガラス基板120を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±5%に抑えられ、前記ガラス基板120の反りも無く、また、前記セルが、端面が直線状で位置精度の高い壁状スペーサA142で囲まれており、前記セルギャップも寸法精度の高い壁状スペーサA142、壁状スペーサB143で規定されるため、前記セル容積の精度も高く、良好な画像が得られるLCOSデバイスが得られた。図3では壁状スペーサA142及び壁状スペーサB143はそれぞれ1本で記載してあるが、それぞれ2本以上でも良い。更に、前記Si基板110の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Poly−Siパネルにおいても同様の効果が得られる。
(Third embodiment)
FIG. 3 is a top view of an LCOS device which is a kind of liquid crystal display device according to the third embodiment of the present invention. The cell of this embodiment includes a Si substrate 110 having a reflective electrode and a drive circuit on the surface of a pixel area of 14 mm × 18 mm and a chip area of 16 mm × 20 mm, and the Si substrate 110 on the surface of the Si substrate 110. A sealing material pattern 150 having a width of 1 mm formed along the peripheral edge, a wall-like spacer A142 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed inside the sealing material pattern 150 and outside the pixel region, and the sealing A wall spacer B143 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed outside the material pattern 150, a glass substrate 120 having a transparent electrode on the surface, and a gap (cell gap) of 2 μm between the Si substrate 110 and the glass substrate 120. The cell has a laminated cell and a VA liquid crystal 131 injected into the cell. An ultraviolet curable adhesive was used as the sealing material, and SOG (Spin-On-Glass) was used as the wall spacer made of an inorganic material. The wall spacer A142 made of an inorganic material formed inside the sealing material pattern 150 and outside the pixel region is a closed curve including the cells. By adopting such a configuration, the uniformity of the gap between the Si substrate 110 and the glass substrate 120 can be suppressed to ± 5% in the plane, the glass substrate 120 is not warped, and the cell However, since the end face is linear and surrounded by the wall spacer A142 with high positional accuracy, and the cell gap is also defined by the wall spacer A142 and wall spacer B143 with high dimensional accuracy, the accuracy of the cell volume is also high. An LCOS device was obtained that was high and provided good images. In FIG. 3, one wall spacer A142 and one wall spacer B143 are shown, but two or more each may be used. Further, by using a glass substrate instead of the Si substrate 110 and a transparent electrode instead of the reflective electrode, the same effect can be obtained even in a high-temperature Poly-Si panel.

(第4の実施形態)
図4は、本発明の第4の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図である。本実施形態のセルは、画素領域として14mm×18mm、チップ面積として16mm×20mmの表面に反射電極及び駆動回路を有するSi基板110と、前記Si基板110の表面上にあって前記Si基板110の周縁部にそって形成された幅1mmの封止材パターン150と、前記封止材パターン150の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサA142と、前記封止材パターン150の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサB143と、表面に透明電極を有するガラス基板120と、前記Si基板110と前記ガラス基板120を2μmの間隙(セルギャップ)を有して貼り合わせたセルと、前記セル内に注入されたVA液晶131とを有している。封止材には紫外線硬化型の接着剤を、無機材料による壁状スペーサにはSOG(Spin−On−Glass)を使用した。前記封止材パターン150の内側かつ画素領域の外側に形成された無機材料による壁状スペーサA142と、前記封止材パターン150の外側に形成された無機材料による幅20μmの壁状スペーサB143は、共に前記セルを内包した閉曲線である。このような構成にすることで、前記Si基板110と前記ガラス基板120を貼り合わせた間隙の均一性を面内で±5%に抑えられ、前記ガラス基板120の反りも無く、また、前記セルが、端面が直線状で位置精度の高い壁状スペーサA142で囲まれており、前記セルギャップも寸法精度の高い壁状スペーサA142、壁状スペーサB143で規定されるため、前記セル容積の精度も高く、また、封止材150よりも耐湿性に優れた無機材料による壁状スペーサA142、B142によって前記セルが囲まれているため、良好な画像が得られ信頼性の高いLCOSデバイスが得られた。図4では壁状スペーサA142及び壁状スペーサB143はそれぞれ1本で記載してあるが、それぞれ2本以上でも良い。更に、前記Si基板110の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Poly−Siパネルにおいても同様の効果が得られる。
(Fourth embodiment)
FIG. 4 is a top view of an LCOS device which is a kind of liquid crystal display device according to the fourth embodiment of the present invention. The cell of this embodiment includes a Si substrate 110 having a reflective electrode and a drive circuit on the surface of a pixel area of 14 mm × 18 mm and a chip area of 16 mm × 20 mm, and the Si substrate 110 on the surface of the Si substrate 110. A sealing material pattern 150 having a width of 1 mm formed along the peripheral edge, a wall-like spacer A142 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed inside the sealing material pattern 150 and outside the pixel region, and the sealing A wall spacer B143 having a width of 20 μm made of an inorganic material formed outside the material pattern 150, a glass substrate 120 having a transparent electrode on the surface, and a gap (cell gap) of 2 μm between the Si substrate 110 and the glass substrate 120. The cell has a laminated cell and a VA liquid crystal 131 injected into the cell. An ultraviolet curable adhesive was used as the sealing material, and SOG (Spin-On-Glass) was used as the wall spacer made of an inorganic material. A wall-shaped spacer A142 made of an inorganic material formed inside the sealing material pattern 150 and outside the pixel region, and a wall-shaped spacer B143 made of an inorganic material formed outside the sealing material pattern 150 and having a width of 20 μm, Both are closed curves containing the cells. By adopting such a configuration, the uniformity of the gap between the Si substrate 110 and the glass substrate 120 can be suppressed to ± 5% in the plane, the glass substrate 120 is not warped, and the cell However, since the end face is linear and surrounded by the wall spacer A142 with high positional accuracy, and the cell gap is also defined by the wall spacer A142 and wall spacer B143 with high dimensional accuracy, the accuracy of the cell volume is also high. Since the cells are surrounded by the wall spacers A142 and B142 made of an inorganic material that is high and has higher moisture resistance than the sealing material 150, a good image is obtained and a highly reliable LCOS device is obtained. . In FIG. 4, one wall spacer A142 and one wall spacer B143 are shown, but two or more each may be used. Further, by using a glass substrate instead of the Si substrate 110 and a transparent electrode instead of the reflective electrode, the same effect can be obtained even in a high-temperature Poly-Si panel.

(第5の実施形態)
図5は、本発明の第5の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの製造方法を示す図である。まず、図5(a)に示すように、表面に反射電極及び駆動回路を有するSi基板110を準備する。次に、図5(b)に示すように壁状スペーサとなる無機材料を成膜する。無機材料は工業的には塗布によって成膜しスピンナの回転速度によって膜厚を制御できるSOGであることが好ましいが、蒸着やスパッタによって行っても良い。本実施形態においては、厚膜用SOGを2000rpmにて塗布し、250℃で3分のプリベーク、400℃で30分のキュアを行うことで、2μmのSOG膜を形成した。次に、図5(c)に示すように、画素領域の外側に幅20μmの壁状スペーサA142と壁状スペーサB143を、レジスト塗布・露光・現像・エッチングによって形成する。エッチングはドライエッチング装置によって行った。次に、図5(d)に示すように、壁状スペーサA142と壁状スペーサB143の間にディスペンサーによって封止材150を塗布する。続けて、図5(e)に示すように、前記Si基板110にガラス基板120を貼り付け、100mW/平方センチで15秒のUV照射及び120℃60分の熱処理によって硬化接着した。次に、図5(f)に示すように、注入口151からVA液晶151を注入し、続けて、図5(g)に示すように封止材A152によって液晶を封止する。壁状スペーサA142、壁状スペーサB143を機械的強度が高い無機絶縁体膜(本実施例ではSOG)で形成することで精度良く間隙(セルギャップ)を制御することが可能であり、壁状スペーサA142及び壁状スペーサB143を画素領域160を完全に囲う閉曲線として形成しておくことで、封止材150とVA液晶131が直接接触することを防ぎ、封止材150中に残留した有機成分がVA液晶131の劣化させるのを防ぐとともに耐湿性を向上させることが可能となり、壁状スペーサB143を不連続に形成することで余分な封止材150を壁状スペーサB143外領域に逃がし、画素領域160にはみ出して表示不良や液晶の劣化を防ぐことが可能となる。封止材150の塗布量を適正に制御可能な場合には、壁状スペーサB143も画素領域160を完全に囲う閉曲線として形成することで耐湿性を向上させることも可能である。更に、前記Si基板110の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Poly−Siパネルにおいても同様の効果が得られる。
(Fifth embodiment)
FIG. 5 is a diagram showing a method of manufacturing an LCOS device which is a kind of liquid crystal display device according to the fifth embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 5A, a Si substrate 110 having a reflective electrode and a drive circuit on its surface is prepared. Next, as shown in FIG. 5B, an inorganic material to be a wall spacer is formed. The inorganic material is preferably SOG which can be industrially formed by coating and whose film thickness can be controlled by the rotation speed of the spinner, but may be formed by vapor deposition or sputtering. In this embodiment, SOG for thick film was applied at 2000 rpm, prebaked at 250 ° C. for 3 minutes, and cured at 400 ° C. for 30 minutes to form a 2 μm SOG film. Next, as shown in FIG. 5C, a wall spacer A142 and a wall spacer B143 having a width of 20 μm are formed outside the pixel region by resist coating / exposure / development / etching. Etching was performed by a dry etching apparatus. Next, as shown in FIG. 5D, a sealing material 150 is applied between the wall spacer A142 and the wall spacer B143 by a dispenser. Subsequently, as shown in FIG. 5 (e), a glass substrate 120 was attached to the Si substrate 110, and cured and adhered by UV irradiation at 100 mW / cm 2 for 15 seconds and heat treatment at 120 ° C. for 60 minutes. Next, as shown in FIG. 5 (f), VA liquid crystal 151 is injected from the inlet 151, and then the liquid crystal is sealed with a sealing material A152 as shown in FIG. 5 (g). By forming the wall spacer A142 and the wall spacer B143 with an inorganic insulator film (SOG in this embodiment) having high mechanical strength, the gap (cell gap) can be accurately controlled. By forming the A 142 and the wall-like spacer B 143 as a closed curve that completely surrounds the pixel region 160, the sealing material 150 and the VA liquid crystal 131 are prevented from coming into direct contact with each other, and the organic components remaining in the sealing material 150 are prevented. The deterioration of the VA liquid crystal 131 can be prevented and the moisture resistance can be improved. By discontinuously forming the wall spacer B143, the extra sealing material 150 is released to the area outside the wall spacer B143, and the pixel area It is possible to prevent display defects and deterioration of the liquid crystal from protruding to 160. When the application amount of the sealing material 150 can be controlled appropriately, the wall-like spacer B 143 can also be formed as a closed curve that completely surrounds the pixel region 160 to improve moisture resistance. Further, by using a glass substrate instead of the Si substrate 110 and a transparent electrode instead of the reflective electrode, the same effect can be obtained even in a high-temperature Poly-Si panel.

(第6の実施形態)
図6は、本発明の第6の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの製造方法を示す図である。まず、図6(a)に示すように、表面に反射電極及び駆動回路を有するSi基板110を準備する。次に、図6(b)に示すように壁状スペーサとなる無機材料を成膜する。無機材料は工業的には塗布によって成膜しスピンナの回転速度によって膜厚を制御できるSOGであることが好ましいが、蒸着やスパッタによって行っても良い。本実施例においては厚膜用SOGを2000rpmにて塗布し、250℃で3分のプリベーク、400℃で30分のキュアを行うことで、2μmのSOG膜を形成した。次に、図6(c)に示すように、画素領域の外側に幅20μmの壁状スペーサA142と壁状スペーサB143を、レジスト塗布・露光・現像・エッチングによって形成する。エッチングはドライエッチング装置によって行った。次に、図6(d)に示すように、壁状スペーサA142と壁状スペーサB143の間にディスペンサーによって封止材150を塗布し、連続して垂直配勾型液晶(VA液晶)を滴下する。続けて、図6(e)に示すように、同一装置内でガラス基板120を貼り付け、100mW/平方センチで15秒のUV照射及び120℃60分の熱処理によって硬化接着した。このとき、壁状スペーサA142、壁状スペーサB143を機械的強度が高い無機絶縁体膜(本実施例ではSOG)で形成することで精度良く間隙(セルギャップ)を制御することが可能である。また、壁状スペーサA142を画素領域160を完全に囲う閉曲線として形成しておくことで、封止材150とVA液晶131が直接接触することを防ぎ、封止材150中に残留した有機成分がVA液晶131の劣化させるのを防ぐことが可能となり、壁状スペーサB143を不連続に形成することで余分な封止材150を壁状スペーサB143の外側の領域に逃がし、画素領域160にはみ出して表示不良や液晶の劣化を防ぐことが可能となる。封止材150の塗布量を適正に制御可能な場合には、壁状スペーサB143も画素領域160を完全に囲う閉曲線として形成することで耐湿性を向上させることも可能である。図示はしていないが、ここまでの工程は全てウエハ状態(大型基板状態)で行い、このあとダイシングによって各チップに分断することで、チップ毎に貼り合わせを実施するのと比較して低コストで液晶表示装置の製造が可能となる。更に、前記Si基板110の代わりにガラス基板を、反射電極の代わりに透明電極を使用することで高温Poly−Siパネルにおいても同様の効果が得られる。
(Sixth embodiment)
FIG. 6 is a diagram showing a method for manufacturing an LCOS device which is a kind of liquid crystal display device according to the sixth embodiment of the present invention. First, as shown in FIG. 6A, a Si substrate 110 having a reflective electrode and a drive circuit on its surface is prepared. Next, as shown in FIG. 6B, an inorganic material to be a wall spacer is formed. The inorganic material is preferably SOG which can be industrially formed by coating and whose film thickness can be controlled by the rotation speed of the spinner, but may be formed by vapor deposition or sputtering. In this example, SOG for thick film was applied at 2000 rpm, prebaked at 250 ° C. for 3 minutes, and cured at 400 ° C. for 30 minutes to form a 2 μm SOG film. Next, as shown in FIG. 6C, a wall spacer A142 and a wall spacer B143 having a width of 20 μm are formed outside the pixel region by resist coating / exposure / development / etching. Etching was performed by a dry etching apparatus. Next, as shown in FIG. 6D, a sealing material 150 is applied between the wall spacer A142 and the wall spacer B143 by a dispenser, and vertical gradient liquid crystal (VA liquid crystal) is continuously dropped. . Subsequently, as shown in FIG. 6 (e), the glass substrate 120 was attached in the same apparatus, and cured and adhered by UV irradiation at 100 mW / cm 2 for 15 seconds and heat treatment at 120 ° C. for 60 minutes. At this time, it is possible to control the gap (cell gap) with high accuracy by forming the wall spacer A 142 and the wall spacer B 143 with an inorganic insulator film (SOG in this embodiment) having high mechanical strength. In addition, by forming the wall spacer A142 as a closed curve that completely surrounds the pixel region 160, the sealing material 150 and the VA liquid crystal 131 are prevented from coming into direct contact with each other, and organic components remaining in the sealing material 150 are prevented from being in contact with each other. The deterioration of the VA liquid crystal 131 can be prevented, and the wall-shaped spacer B143 is discontinuously formed, so that the excess sealing material 150 escapes to a region outside the wall-shaped spacer B143 and protrudes into the pixel region 160. It is possible to prevent display defects and liquid crystal deterioration. When the application amount of the sealing material 150 can be controlled appropriately, the wall-like spacer B 143 can also be formed as a closed curve that completely surrounds the pixel region 160 to improve moisture resistance. Although not shown in the figure, all the steps up to here are performed in a wafer state (large substrate state), and then divided into chips by dicing, thereby reducing the cost compared to performing bonding for each chip. Thus, the liquid crystal display device can be manufactured. Further, by using a glass substrate instead of the Si substrate 110 and a transparent electrode instead of the reflective electrode, the same effect can be obtained even in a high-temperature Poly-Si panel.

本発明における第1の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the LCOS device which are 1 type of the liquid crystal display device of 1st Embodiment in this invention. 本発明における第2の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the LCOS device which are 1 type of the liquid crystal display device of 2nd Embodiment in this invention. 本発明における第3の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the LCOS device which are 1 type of the liquid crystal display device of 3rd Embodiment in this invention. 本発明における第4の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの上面図及び断面図である。It is the top view and sectional drawing of the LCOS device which are 1 type of the liquid crystal display device of 4th Embodiment in this invention. 本発明における第5の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの製造方法を説明した図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the LCOS device which is 1 type of the liquid crystal display device of 5th Embodiment in this invention. 本発明における第6の実施形態の液晶表示装置の一種であるLCOSデバイスの製造方法を説明した図である。It is a figure explaining the manufacturing method of the LCOS device which is 1 type of the liquid crystal display device of 6th Embodiment in this invention. 従来の反射型液晶表示装置の概念的な断面図である。It is a conceptual sectional view of a conventional reflective liquid crystal display device. 従来構造の封止材の収縮に伴うガラス基板の反りの概念図である。It is a conceptual diagram of the curvature of the glass substrate accompanying the shrinkage | contraction of the sealing material of a conventional structure. 従来構造の封止部分の拡大図である。It is an enlarged view of the sealing part of a conventional structure. 本発明における封止部分の拡大図である。It is an enlarged view of the sealing part in this invention.

符号の説明Explanation of symbols

01 液晶表示装置
110 Si基板
120 ガラス基板
130 液晶材料
131 VA液晶
140 スペーサ
141 壁状スペーサ
142 壁状スペーサA
143 壁状スペーサB
150 封止材
151 注入口
152 封止材A
160 画素領域
01 liquid crystal display device 110 Si substrate 120 glass substrate 130 liquid crystal material 131 VA liquid crystal 140 spacer 141 wall spacer 142 wall spacer A
143 Wall spacer B
150 Sealant 151 Inlet 152 Sealant A
160 pixel area

Claims (10)

画素電極が形成された画素領域を有する第1の基板と、第2の電極を有する第2の基板と、前記第1の基板と前記第2の基板の間には、壁状スペーサと封止剤パターンが設けられた液晶表示装置において、
前記封止材パターンは前記画素領域の外側に形成され、前記壁状スペーサは、前記封止材パターンに対して前記画素領域側でかつ前記画素領域より外側の領域と、前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域と、の両方に形成された無機材料よりなることを特徴とする液晶表示装置。
A first substrate having a pixel region in which a pixel electrode is formed; a second substrate having a second electrode; and a wall spacer and a seal between the first substrate and the second substrate. In the liquid crystal display device provided with the agent pattern,
The sealing material pattern is formed outside the pixel region, and the wall-shaped spacer is formed on the sealing material pattern on the pixel region side with respect to the sealing material pattern and outside the pixel region. On the other hand, a liquid crystal display device comprising an inorganic material formed on both the pixel region and the region opposite to the pixel region.
前記画素電極はマトリクス状に複数配置されたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a plurality of the pixel electrodes are arranged in a matrix. 前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域に形成された前記壁状スペーサは、不連続に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the wall-shaped spacers formed in a region opposite to the pixel region with respect to the sealing material pattern are discontinuously arranged. 前記封止材パターンに対して前記画素領域側でかつ前記画素領域の外側の領域に形成された前記壁状スペーサは、連続的に配置され、前記配置された領域よりも前記画素領域側の領域を閉空間としていることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。   The wall-like spacers formed on the pixel region side and on the outer side of the pixel region with respect to the sealing material pattern are continuously arranged, and the region closer to the pixel region than the arranged region The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is a closed space. 前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域に形成された前記壁状スペーサは、連続的に配置されていることを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 4, wherein the wall-like spacers formed in a region opposite to the pixel region with respect to the sealing material pattern are continuously arranged. 前記画素電極が反射電極であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the pixel electrode is a reflective electrode. 前記封止材パターンに対して前記画素領域側でかつ前記画素領域の外側の領域に形成された前記壁状スペーサと、前記封止材パターンに対して前記画素領域と反対側の領域に形成された前記壁状スペーサは、同じ材料で形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の液晶表示装置。   The wall-like spacer formed on the pixel region side and outside the pixel region with respect to the sealing material pattern, and the region opposite to the pixel region with respect to the sealing material pattern. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the wall spacers are made of the same material. 第1の基板の表面に第1の電極を形成する工程と、前記第1の基板の表面上にあって、画素領域より外側に無機材料からなる複数の壁状スペーサを形成する工程と、第2の基板の表面に第2の電極を形成する工程と、前記第1の基板と前記第2の基板をダイシングによりチップに分割する工程と、前記分割した第1の基板の周縁部に形成された複数の前記壁状スペーサによって挟まれる形で封止材パターンを形成する工程と、前記分割した第2の基板と前記分割した第1の基板を貼り合わせる工程と、前記封止材パターンの内側の前記画素領域に液晶材料を注入し封止する工程と、を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。   Forming a first electrode on the surface of the first substrate, forming a plurality of wall spacers made of an inorganic material on the surface of the first substrate and outside the pixel region; Forming a second electrode on the surface of the second substrate, dividing the first substrate and the second substrate into chips by dicing, and forming a peripheral portion of the divided first substrate. Forming a sealing material pattern so as to be sandwiched between the plurality of wall-shaped spacers, bonding the divided second substrate and the divided first substrate, and the inside of the sealing material pattern And a step of injecting a liquid crystal material into the pixel region and sealing the liquid crystal display device. 第1の基板の表面に第1の電極を形成する工程と、前記第1の基板の表面上にあって、画素領域より外側に無機材料からなる複数の壁状スペーサを形成する工程と、第2の基板の表面に第2の電極を形成する工程と、前記第1の基板の表面上にあって前記第1の基板の周縁部でかつ前記無機材料からなる複数の壁状スペーサによって挟まれる形で封止材パターンを形成する工程と、前記画素領域に液晶材料を滴下する工程と、前記第2の基板と前記第1の基板を所定の間隙を有して貼り合わせる工程とを有し、上記工程を行った後にダイシングにより分割することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。   Forming a first electrode on the surface of the first substrate, forming a plurality of wall spacers made of an inorganic material on the surface of the first substrate and outside the pixel region; A step of forming a second electrode on the surface of the second substrate, and a plurality of wall-shaped spacers on the surface of the first substrate and at the peripheral edge of the first substrate and made of the inorganic material Forming a sealing material pattern in a form, dropping a liquid crystal material on the pixel region, and bonding the second substrate and the first substrate with a predetermined gap. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: dividing by dicing after performing the above steps. 前記第1の基板の表面に前記第1の電極を形成する際に、前記第1の電極の表面に透明かつ絶縁体からなる膜を形成し、前記壁状スペーサを形成する工程において該膜をストッパーとして使用することを特徴とする請求項8,9のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。   When the first electrode is formed on the surface of the first substrate, a transparent and insulating film is formed on the surface of the first electrode, and the film is formed in the step of forming the wall spacer. 10. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 8, wherein the liquid crystal display device is used as a stopper.
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