JP2005139041A - Method for growing single crystal - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、FZ法(フローティング・ゾーン法;浮遊帯域溶融法)を用いて、大口径で高品質の単結晶を安定して得ることができる単結晶の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a single crystal that can stably obtain a large-diameter and high-quality single crystal by using the FZ method (floating zone method; floating zone melting method).
従来、金属や半導体の単結晶を育成する際に、高純度を要求される場合には、または、育成する単結晶が高融点のため、結晶融液と反応しない材質から成る適当な坩堝が無い場合には、誘導加熱コイルを用いるFZ法が用いられている。 Conventionally, there is no suitable crucible made of a material that does not react with the crystal melt when high purity is required when growing a single crystal of metal or semiconductor, or because the single crystal to be grown has a high melting point. In some cases, the FZ method using an induction heating coil is used.
FZ法においては、まず、単結晶を得ようとする材料から成る多結晶の円柱状の原料棒を下部シャフトに固定し、種結晶を上部シャフトに固定する。そして、誘導加熱コイルにより原料棒の上端を加熱溶融してから上部および下部シャフトを動かして原料棒の溶融した上端を種結晶と接合させ、原料棒の上端部に適当な長さの溶融帯が形成された後、上部および下部シャフトを互いに反対方向に回転させながら上方に移動させる。これにより、溶融帯を原料棒の上端部から下端に向けて移動させて、溶融帯の移動につれて単結晶を成長させる。 In the FZ method, first, a polycrystalline cylindrical raw material rod made of a material for obtaining a single crystal is fixed to the lower shaft, and the seed crystal is fixed to the upper shaft. Then, the upper end of the raw material rod is heated and melted by the induction heating coil, and then the upper and lower shafts are moved to join the molten upper end of the raw material rod to the seed crystal. After being formed, the upper and lower shafts are moved upward while rotating in opposite directions. Accordingly, the melting zone is moved from the upper end portion of the raw material rod toward the lower end, and a single crystal is grown as the melting zone moves.
導電性の結晶材料を高周波加熱で引き上げるFZ法では、電磁誘導による浮揚力が溶融帯において原料の融液を誘導加熱コイルの中央に押しやるように働くため、溶融帯の維持が表面張力にだけ依存している場合よりは、比較的結晶径を大きくすることができる。
しかしながら、誘導加熱コイルによる誘導加熱では、多くの場合、誘導磁場が原料棒,溶融帯および単結晶に浸透する深さ、つまり表皮厚が、それぞれの径に比較して極端に薄いため、原料棒,溶融帯および単結晶の表面近傍のみが加熱されることとなり、原料棒および単結晶は表面から溶解することとなる。そのため、図5に従来の単結晶の育成方法における溶融帯近傍の様子を縦断面図で示すように、原料棒36と溶融帯37との界面46および単結晶38と溶融帯37との界面45の形状は、溶融帯37に対して中央で溶融帯37側に凸となった凸型の形状となる。
However, in induction heating with an induction heating coil, in many cases, the depth at which the induction magnetic field penetrates the raw material rod, melting zone and single crystal, that is, the skin thickness is extremely thin compared to the respective diameters. Only the melting zone and the vicinity of the surface of the single crystal are heated, and the raw material rod and the single crystal are dissolved from the surface. Therefore, as shown in a longitudinal sectional view of the state in the vicinity of the melting zone in the conventional single crystal growth method in FIG. 5, the
したがって、溶融帯37の内部で単結晶38の先端(単結晶38の下端)と原料棒36の先端(原料棒36の上端)とが接触しないためには、両者がいずれも凸型の形状であることから溶融帯37を長くとる必要があり、これにより、溶融帯37において下方の静水圧が増加し、ついには溶融帯37が原料棒36から垂れ落ちてしまうため、単結晶の育成の続行が困難になり、大型の単結晶が育成できないという致命的な問題点があった。
Therefore, in order to prevent the tip of the single crystal 38 (the lower end of the single crystal 38) and the tip of the raw material rod 36 (the upper end of the raw material rod 36) from coming into contact with each other in the
本発明は以上のような従来の技術の問題点を解決するために案出されたものであり、その目的は、大口径の単結晶を容易にかつ安定して提供できる単結晶の育成方法を提供することにある。 The present invention has been devised in order to solve the problems of the conventional techniques as described above, and an object of the present invention is to provide a method for growing a single crystal that can provide a large-diameter single crystal easily and stably. It is to provide.
本発明の単結晶の育成方法は、誘導加熱コイルで原料棒を誘導加熱して溶融帯を形成し、この溶融帯を移動させながら、溶融帯の上下の端部においてそれぞれ溶融および凝固を順次行なうことにより単結晶を成長させるFZ法による単結晶の育成方法において、前記原料棒は、その表面に長さ方向に連続した複数の突起部を有することを特徴とするものである。 In the method for growing a single crystal according to the present invention, a raw material rod is induction-heated with an induction heating coil to form a melting zone, and melting and solidification are sequentially performed at the upper and lower ends of the melting zone while moving the melting zone. In the method for growing a single crystal by the FZ method for growing a single crystal, the raw material rod has a plurality of protrusions continuous in the length direction on the surface thereof.
本発明の単結晶の育成方法によれば、原料棒の形状をその表面に長さ方向に連続した複数の突起部を有する棒状にしたことから、原料の周方向の厚みを薄くした突起部ではその表面で誘導加熱を行なうための渦電流が互いに逆方向となって打ち消し合うために渦電流がほとんど流れなくなり、原料棒の外周表面に配置された突起部では自己発熱はしないため、突起部は自己的には溶融しなくなる。これに対し、原料棒の棒状の中央部(本体部)では、従来の単結晶の育成方法と同様に、渦電流が円周状に周回し、そのジュール発熱により原料棒の本体部は自己的に溶融する。このようにまず中央部(棒状の本体部)を高温に加熱して溶融させ、その熱を原料棒の周辺部(複数の突起部)に伝導させることで、これら複数の突起部は間接的に溶融させることができる。この結果、原料棒の上端部は端面部分の形状が下に凸となって、いわゆるお椀状の形状となり、原料棒と溶融帯との界面の形状はその中央で下に凸となるので、溶融した原料が溶融帯から垂れ落ちることを有効に防止することができる。 According to the method for growing a single crystal of the present invention, since the shape of the raw material rod is formed into a rod shape having a plurality of protrusions continuous in the length direction on the surface thereof, in the protrusion portion with a reduced thickness in the circumferential direction of the raw material, Since the eddy currents for induction heating on the surface cancel each other in opposite directions, the eddy currents hardly flow, and the protrusions arranged on the outer peripheral surface of the raw material rod do not self-heat, so the protrusions are It will not melt on its own. On the other hand, in the rod-shaped central portion (main body portion) of the raw material rod, the eddy current circulates in a circular shape as in the conventional method for growing a single crystal, and the main body portion of the raw material rod is self-generated by the Joule heat generation. To melt. In this way, first, the central portion (rod-shaped main body portion) is heated to a high temperature and melted, and the heat is conducted to the peripheral portion (a plurality of protrusions) of the raw material rod, so that the plurality of protrusions are indirectly Can be melted. As a result, the upper end of the raw material bar has a so-called bowl-like shape in which the shape of the end face part is convex downward, and the shape of the interface between the raw material bar and the melting zone is convex downward in the center. It is possible to effectively prevent the raw material dripping from the melting zone.
また、原料棒の表面において隣接する突起間では、溶融した原料が表面張力により保持されるので、原料棒と溶融帯との界面の形状を下に凸とすることができるとともに、安定してその形状を保つことができる。このようにして形成された溶融帯は、溶融帯の下方の原料棒との界面の中央部が下側、すなわち、原料棒側に凸になることにより、溶融帯の内部で上方の単結晶の先端と下方の原料棒の先端とが接触しないようにするために設定される溶融帯の長さを短くすることができ、溶融帯の高さを小さくできることによって、溶融帯の下方に働く静水圧を低くすることができるので、これによっても溶融した原料が溶融帯から垂れ落ちることを有効に防止することができる。 In addition, since the molten raw material is held by surface tension between adjacent protrusions on the surface of the raw material rod, the shape of the interface between the raw material rod and the melting zone can be convex downward, and stably The shape can be kept. The melt zone formed in this way has a central portion of the interface with the raw material rod below the melt zone that protrudes downward, i.e., the raw material rod side. The hydrostatic pressure that works below the melting zone can be shortened and the height of the melting zone can be reduced by setting the length of the melting zone to prevent the tip and the tip of the lower raw material rod from contacting each other. Therefore, it is possible to effectively prevent the molten raw material from dripping from the melting zone.
これらの結果、本発明の単結晶の育成方法によれば、引き上げる単結晶の寸法を大きくして溶融帯が大きくなっても、溶融帯から溶融した原料が垂れ落ちることがなくなるので、大型の単結晶を安定して引き上げることができる。 As a result, according to the method for growing a single crystal of the present invention, even if the size of the single crystal to be pulled up is increased and the melting zone becomes large, the molten raw material does not sag from the melting zone. The crystal can be pulled up stably.
以下、本発明の単結晶の育成方法について、図面を参照しつつ詳細に説明する。 Hereinafter, the method for growing a single crystal of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図1は本発明の単結晶の育成方法の実施の形態の一例を示す縦断面図である。 FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an example of an embodiment of the method for growing a single crystal of the present invention.
図1には本発明の単結晶の育成方法を実施する育成装置の例についてその縦断面図を示しているが、これによると、本発明の単結晶の育成方法に用いる育成装置では、密閉可能な耐圧容器12中にて単結晶の育成を行なう。耐圧容器12は、耐圧容器12内の空間13にて数気圧の不活性ガス雰囲気において単結晶の育成が可能なように設計されている。6は原料棒であり、その誘導加熱には誘導加熱コイル4が使用される。この例の誘導加熱コイル4は、水冷銅管が水平面に渦巻き状に捲回されて構成され、その誘導加熱コイル4の中心部が、原料棒6が挿通される貫通穴を形成し、耐圧容器12内に配置されている。
FIG. 1 shows a longitudinal sectional view of an example of a growth apparatus for carrying out the method for growing a single crystal of the present invention. According to this, the growth apparatus used for the method for growing a single crystal of the present invention can be sealed. Single crystal is grown in a
誘導加熱コイル4の上下には、耐圧容器12外に配置された昇降可能な上軸駆動部1および下軸駆動部9と、それぞれの駆動部1および9から伸びて耐圧容器12を気密にかつ回転および上下移動可能に貫通する上軸2および下軸10と、これら上軸2および下軸10にそれぞれ固定された上ホルダー3および下ホルダー11とが配置され、上ホルダー3と下ホルダー11との間で、誘導加熱コイル4の中心部を貫通する原料棒6の端部が握持される。そして、上軸駆動部1と下軸駆動部9とは、個別に上下移動可能に制御される。
Above and below the
溶融帯7の操作については、下ホルダー11に原料棒6の下端側を握持させ、その上端(図1中では既に単結晶8になった部分を図示している。)を上ホルダー3に握持された種結晶5の下端に接触させて、かつその接触部を誘導加熱コイル4の中心にある貫通穴の中央に位置させた後、誘導加熱コイル4に高周波電力を印加して誘導磁場を生じさせ、それによって発生するジュール熱により、種結晶5と接触させた原料棒6の上端部を局部的に加熱溶融して溶融帯7を形成する。このようにして形成された溶融帯7に下方より原料棒6を順次送り込み、溶融帯7の上方に単結晶8を順次成長させる。
Regarding the operation of the
図2は本発明の単結晶の育成方法の実施の形態の一例における原料棒6の横断面を示す横断面図である。
FIG. 2 is a cross sectional view showing a cross section of the
本発明の単結晶の育成方法において用いる原料棒6としては、図2にその横断面を示すように、中央に位置する棒状の原料の本体部6aの表面に、長さ方向に連続した突起部6bを周方向に複数形成して配置した形状であることが重要である。このような原料棒6を用いた場合の原料棒および誘導コイル近傍における磁束および渦電流の様子を示す原理説明図を図3に示す。
As the
図3は、本発明の単結晶の育成方法における原料棒6および誘導コイル4の部分を取り出した横断面において、誘導コイル4に流れる電流I,誘導コイル4の内側に発生する磁束B,原料棒6の本体部6aの表面に流れる渦電流J,原料棒6の突起部6bに流れる渦電流J’の様子を表した原理説明図である。図3に示すように、誘導コイル4に交流電流Iを流すことで、誘導コイル4の内側には磁束Bが発生する。図3に示すように、誘導コイル4に流す交流電流Iが左回りのときには、紙面の奥側から手前側に磁束Bが発生する。誘導コイル4に流れる交流電流Iが時間的に変化すれば、誘導コイル4の内部の磁束Bも変化する。これに対し、導電性のある原料棒6には、この磁束Bの変化を打ち消そうとする方向に渦電流JおよびJ’が生じるため、原料棒6に流れる渦電流J,J’の位相は、誘導コイル4に流れる交流電流Iと逆位相となる。本発明の単結晶の育成方法における原料棒6では、原料棒6の本体部6aの表面に長さ方向に連続した複数の突起部6bを設けており、中央部の本体部6aが棒状であり、周辺部に突起部6bを有する原料棒6としたことから、原料の周方向における厚みを薄くした突起部6bでは、その表面で渦電流J’が互いに逆方向となって打ち消し合い、突起部6bには全体として渦電流J’がほとんど流れなくなる。その結果、原料棒6の外周部の突起部6bでは、渦電流J’のジュール発熱による自己発熱は起こらず、突起部6bは自己的には溶融しなくなる。一方、原料棒6の本体部6aでは、従来の単結晶の育成方法と同様に、渦電流Jが円周状に周回し、そのジュール発熱により原料棒6を中央部から自己的に溶融する。このようにまず中央部(本体部6a)を高温にして溶融させ、その熱を原料棒6の本体部6aから周辺部(突起部6b)に伝導させることで、間接的に突起部6bを溶融させることができる。
FIG. 3 shows a current I flowing through the
このようにして溶融させた原料棒6について、図4に本発明の単結晶の育成方法における溶融帯近傍の様子を示す要部斜視図を示す。図4からも分かるように、原料棒6は、棒状の本体部6aが高温となり、その中央部から溶融が始まるため、原料棒6の上端部における溶融帯7との界面の形状は、下に凸となった、いわゆるお椀状の形状となる。したがって、溶融帯7の形状は、原料棒6の中央で下に凸となり、溶融した原料が溶融帯7から垂れ落ちることを有効に防止することができる。また、原料棒6の隣接する突起部6b間では、溶融した原料が表面張力により保持され、安定してその形状を保つことができる。このようにして形成された溶融帯7は、溶融帯7の下方の原料棒6との界面の中央部が下側、すなわち原料棒6側に凸になり、これにより溶融帯7の内部で上方の単結晶8の先端と下方の原料棒6の先端とが接触しないようにするために設定される溶融帯7の長さを短くすることができ、溶融帯7の高さを小さくできることにより、溶融帯7の下方に働く静水圧を低くすることができるので、これによっても溶融した原料が溶融帯7から垂れ落ちることを有効に防止することができる。これらの結果、本発明の単結晶の育成方法によれば、引き上げる単結晶8の寸法を大きくして溶融帯7が大きくなっても、溶融帯7から溶融した原料が垂れ落ちることがなくなるので、大型の単結晶8を安定して引き上げることができる。
FIG. 4 shows a perspective view of a main part of the
以上のような本発明の単結晶の育成方法に用いる原料棒6を得るには、原料粉末に結合材として例えば少量の樟脳を加え、ラバープレス等により加圧して、長さ方向に連続した複数の突起部を有する棒状の圧粉体棒を作製する。好ましくは、この圧粉体棒を真空中あるいは不活性ガス中で千数百度に加熱して焼結させて、所望の濃度分布で不純物が配合された原料棒6を作製する。
In order to obtain the
このようにして作製した原料棒6を用いて、図1に示すように育成装置内に、前述のように、原料棒6の下端を下軸10に下ホルダー11を介して固定し、その上端を上軸2にホルダー3を介してセットされた種結晶5に接触させて配置する。
Using the
次に、種結晶5に接触させた原料棒6の上端を誘導加熱コイル4の誘導加熱により溶融させて溶融帯7を形成し、上軸2と下軸10とを、単結晶8の育成速度および原料棒6の溶融速度に応じて、ゆっくり上方に移動させて、溶融帯7の下部で原料棒6を順次溶融させ、上部で順次凝固させて、溶融帯7の上方に単結晶8を継続的に育成する。
Next, the upper end of the
このとき、原料棒6は、渦電流が流れる棒状の本体部6aのある中央部が高温となり、突起部6bのある周辺部は渦電流が流れず発熱しないために比較的低温となり、原料棒6の上端は中央部から溶融する。その結果、原料棒6の上端は中央部が下に凸のいわゆるお椀形の形状となり、溶融した原料を溶融帯7内に安定に保つことができることとなる。なお、隣接する突起部6aの間では、溶融した原料の表面張力によりその形状を安定に保つことができる。さらに、原料棒6の上端において、原料棒6の先端中央部が下に凸のお椀形になり、従来の育成方法におけるように上方に凸状に尖らないため、これが溶融帯7内で単結晶8の下端と当ることはないので、溶融帯7の高さ方向の寸法(長さ)を小さくすることができ、溶融帯7の下部における静水圧を低くして溶融した原料が溶融帯7から垂れ落ちることを防止することができるので、大型の単結晶8を安定して製造することができる単結晶の育成方法となる。
At this time, the
本発明の単結晶の育成方法における原料棒6の突起部6aは、原料棒6の表面の渦電流を打ち消す作用があれば、特に、その形状に制限があるものではない。その横断面の形状は、矩形状,扇形状,半楕円形状,三角形状,多角形状等、そのいずれであってもよい。
The protrusion 6a of the
また、本発明の単結晶の育成方法における原料棒6の突起部6aの厚みについても特に制限があるものではないが、図4に示すように原料棒6の突起部6aの厚みをdとして、誘導コイル4に加える交流電流Iの周波数をf、原料棒6の透磁率をμ、原料棒6の導電率をgとすれば、原料棒6の表皮厚δは近似的に次式(1)で与えられる。
Further, the thickness of the protrusion 6a of the
δ=√(1/πf×g×μ)・・・(1)
これに対し、突起部6aの厚みdは、次式(2)に示す範囲が望ましい。
δ = √ (1 / πf × g × μ) (1)
On the other hand, the thickness d of the protrusion 6a is preferably in the range represented by the following formula (2).
0.5〔mm〕≦d≦1.5δ〔mm〕・・・(2)
これは、突起部6aの厚みdが1.5δよりも大きくなると、突起部6aでの渦電流J’の打ち消し作用が弱まり、渦電流J’が無視できない大きさになり、突起部6aの自己発熱により突起部6aが溶融する可能性があるからである。また、突起部6aの厚みdが0.5〔mm〕以下では、加工が困難であり、破壊しやすくなるからである。よって、突起部6aの厚みdは、0.5〔mm〕≦d≦1.5δ〔mm〕の範囲が好ましい。
0.5 [mm] ≦ d ≦ 1.5δ [mm] (2)
This is because when the thickness d of the protrusion 6a is larger than 1.5δ, the action of canceling the eddy current J ′ in the protrusion 6a is weakened, and the eddy current J ′ becomes a non-negligible magnitude, and the self-heating of the protrusion 6a. This is because the protrusion 6a may be melted by the above. Further, when the thickness d of the protrusion 6a is 0.5 [mm] or less, it is difficult to process and it is easy to break. Therefore, the thickness d of the protrusion 6a is preferably in the range of 0.5 [mm] ≦ d ≦ 1.5δ [mm].
さらに、本発明の単結晶の育成方法における原料棒6の突起部6aの高さについても特に制限があるものではないが、図4に示すように原料棒6の突起部6aの高さをlとすれば、次式(3)に示す範囲が望ましい。
Further, the height of the protrusion 6a of the
1.0〔mm〕≦l≦40〔mm〕・・・(3)
これは、突起部6aの高さlが1.0〔mm〕より小さければ、突起として機能せずに原料棒6は外周部から溶融してしまい、また、40〔mm〕より大きくなれば突起部6aの先端が溶融しない場合が生じるからである。よって、突起部6aの長さlは、1.0〔mm〕≦l≦40〔mm〕の範囲が望ましい。
1.0 [mm] ≤ l ≤ 40 [mm] (3)
This is because if the height l of the projection 6a is smaller than 1.0 [mm], the
また、本発明の単結晶の育成方法における原料棒6の本体部6aの形状は、円柱状,四角柱状,多角柱状,筒状等のいずれであってもよく、その形状は特に制限があるものではなく種々の応用が可能である。例えば、八角柱状の本体部6aの8個の各辺に、それぞれ突起部6aを設け、合計で8個の突起部6aを形成しても構わない。
Further, the shape of the main body 6a of the
また、本発明の単結晶の育成方法では、原料棒6の突起部6aの本数についても特に制限があるものではなく、種々の本数に選定することが可能である。例えば、突起部6aの厚みdが薄い場合には、多数の突起部6aを設ける方が望ましい。これは、突起部6aの厚みdを薄くすれば、隣接する突起部6a間の間隔が広がるため、溶融した原料が溶融帯7から落下するのを防ぐためには、突起部6aの本数を増やす方が有利だからである。このように、溶融した原料の粘度や突起部6aの厚みd等に応じて、最適な突起部6aの本数を選定することが可能である。
In the method for growing a single crystal according to the present invention, the number of protrusions 6a of the
本発明の単結晶の育成方法に用いる原料棒を、次のようにして作製した。ZrB2とCrB2との混合粉を圧縮し、中心部は外径が40mm,長さが800mmの円柱形で、その外周部に高さが10mm,幅が2mm,長さが800mmの長さ方向に連続した突起部を22.5°間隔で16個設け、長さを800mmとした突起部を有する棒状の粉末棒に圧縮し、これを1400℃で焼結して、長さ方向に連続した16個の突起部を有する棒状の原料棒を作製した。 A raw material rod used in the method for growing a single crystal of the present invention was produced as follows. The mixed powder of ZrB 2 and CrB 2 is compressed, the central part is a cylinder with an outer diameter of 40 mm and a length of 800 mm, and the outer peripheral part has a height of 10 mm, a width of 2 mm, and a length of 800 mm 16 protrusions that are continuous in the direction are provided at intervals of 22.5 °, compressed into a rod-shaped powder bar having protrusions with a length of 800 mm, and sintered at 1400 ° C. A rod-shaped raw material bar having a plurality of protrusions was produced.
この突起部を有する棒状の原料棒を用いて、誘導加熱型のFZ装置で、入力52kWの高周波電力を投入して突起部を有する棒状の原料棒の先端部を溶融し、この溶融部に種結晶を接続して溶融帯を形成した。その溶融帯は、垂れ落ちることなく、安定していた。その後、溶融帯を20mm/hの速度で移動させて、口径45mmの円筒形の単結晶を作製したところ、溶融帯から溶融した原料が垂れ落ちることはなく、最後まで良好な円柱状の単結晶を育成することができた。この育成された単結晶を観察した結果、双晶や多結晶がなく、全体にわたって単結晶が生成された良好な特性であった。 Using the rod-shaped raw material rod having the protruding portion, an induction heating type FZ apparatus is used to apply a high-frequency power of 52 kW to melt the tip of the rod-shaped raw material rod having the protruding portion. The crystals were connected to form a melt zone. The melting zone was stable without dripping. Thereafter, the molten zone was moved at a speed of 20 mm / h to produce a cylindrical single crystal having a diameter of 45 mm. The molten raw material did not sag from the molten zone, and a good cylindrical single crystal until the end. I was able to train. As a result of observing the grown single crystal, there was no twin crystal or polycrystal, and the single crystal was formed over the whole.
一方、比較例として、ZrB2とCrB2との混合粉を圧縮し、外形が50mm,長さが800mmの円柱形の粉末棒に圧縮し、これを1400℃で焼結して、突起部の無い円柱形の原料棒を作製した。 On the other hand, as a comparative example, a mixed powder of ZrB 2 and CrB 2 is compressed and compressed into a cylindrical powder rod having an outer diameter of 50 mm and a length of 800 mm, and this is sintered at 1400 ° C. A column-shaped raw material rod without a gap was produced.
この比較例としての円柱状の原料棒を用いて、同様に、誘導加熱型のFZ装置で、入力52kWの高周波電力を投入して形成した溶融帯を20mm/hの速度で移動させて、口径45mmの単結晶を作製しようとしたところ、溶融帯の下部から溶融した原料が垂れ落ちてしまい、単結晶を引き上げることができなかった。 Using this cylindrical raw material rod as a comparative example, similarly, the induction zone FZ apparatus was used to move the melt zone formed by applying high-frequency power of 52 kW at a speed of 20 mm / h, When an attempt was made to produce a 45 mm single crystal, the melted raw material dropped from the lower part of the melting zone, and the single crystal could not be pulled up.
なお、本発明は以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更を加えることは何ら差し支えない。 It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
1・・・上軸駆動部
2・・・上軸
3・・・上ホルダー
4・・・誘導加熱コイル
5・・・種結晶
6・・・原料棒
6a・・・本体部
6b・・・突起部
7・・・溶融帯
8・・・単結晶
9・・・下軸駆動部
10・・・下軸
11・・・下ホルダー
12・・・耐圧容器
13・・・容器内空間
DESCRIPTION OF
10 ... Lower shaft
11 ... Lower holder
12 ... pressure vessel
13: Space inside the container
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2003
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