JP2005135897A - 質量分析計 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】APCIイオン源は、コロナ放電室1、反応室2、およびコロナ放電室1を反応室2と接続する通路6を有するハウジング14を含む。試薬イオンは、コロナ室1で形成され、通路6を経由して反応室2へ進む。被検体は、加熱チューブ3へ噴霧される。適度に低い極性の被検分子は、加熱チューブ3から反応室2へ進み、被検分子が試薬イオンとの相互作用によってイオン化される。高い極性の被検体は、加熱チューブ3の内部での熱的イオン化過程によってイオン化され、高い極性の被検イオンは反応室3へと進む。反応室2へ入った被検イオンは、実質的に、試薬イオン発生工程の一部としてコロナ放電室1で発生した電場の影響から保護される。
【選択図】 図3
Description
前記コロナ放電室で形成された試薬イオンを前記コロナ放電室から出して、前記反応室へ入れる工程を含み、被検分子および/または被検イオンは実質的にコロナ放電室へ入らない、イオンの生成方法を提供する。
Claims (35)
- 放電部位中に放電装置を備えた放電部位と、
反応部位とを含み、
前記放電部位で発生した使用する試薬イオンは、前記放電部位から前記反応部位へ進み、被検分子および/または被検イオンは、前記反応部位へ進み、
前記反応部位におけるイオンは、少なくとも部分的に、前記放電部位における前記放電装置により発生する電場から保護される、
質量分析計のイオン源。 - 前記放電部位が、放電装置を含む請求項1に記載のイオン源。
- 前記放電装置がコロナ放電装置を含む請求項1または2に記載のイオン源。
- 前記コロナ放電装置がコロナニードルまたはピンを含む請求項3に記載のイオン源。
- 前記放電装置に供給する電流の運転方式が、(i)<0.1μA; (ii)0.1-0.2μA; (iii)0.2-0.3μA; (iv)0.3-0.4μA; (v)0.4-0.5μA; (vi)0.5-0.6μA; (vii)0.6-0.7μA; (viii)0.7-0.8μA; (ix)0.8-0.9μA; (x)0.9-1.0μA; および(xi)>1μAからなる群から選択される、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記放電装置に加える電圧の運転方式が、(i)<1kV; (ii)1-2kV; (iii)2-3kV; (iv)3-4kV; (v)4-5kV; (vi)5-6kV; (vii)6-7kV; (viii)7-8kV; (ix)8-9kV; (x)9-10kV; および(xi)>10kVからなる群から選択される、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記反応部位が、実質的に電場のない部位(field free region)を含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記反応部位が反応室を含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- さらに、前記放電部位を前記反応部位と接続もしくは伝達する通路またはオリフィスを含み、前記放電部位で発生した使用する試薬イオンが、前記通路またはオリフィスを経由して前記放電部位から前記反応部位へ進む、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- さらに、前記放電部位、前記反応部位および前記通路またはオリフィスを囲むハウジングを含む、請求項9に記載のイオン源。
- さらに、前記放電部位の上流に配置されたガス吸気口を含み、使用時、前記ガス吸気口は、前記放電部位に供給する試薬ガスを受け取る、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- さらに、前記反応部位の下流に配置されたガス排気口を含み、使用時、前記ガス排気口は、ガスおよび/または被検イオンを排出する、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記イオン源が、大気圧イオン化イオン源を含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- 前記イオン源が大気圧化学イオン化イオン源を含む、請求項13に記載のイオン源。
- 前記放電部位および/または前記反応部位が、使用時、(i)<100mbar; (ii)100-500mbar; (iii)500-600mbar; (iv)600-700mbar; (v)700-800mbar; (vi)800-900mbar; (vii)900-1000mbar; (viii)1000-1100mbar; (ix)1100-1200mbar; (x)1200-1300mbar; (xi)1300-1400mbar; (xii)1400-1500mbar; (xiii)1500-2000mbar; および(xiv)>2000mbarからなる群から選択される圧力で維持される、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- さらに、試料を噴霧し、前記試料の液滴形成を引き起こすための噴霧器を含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- さらに、前記噴霧器によって形成された前記液滴を噴霧するために、噴霧ガスを供給する手段を含む、請求項16に記載のイオン源。
- さらに、使用時、前記噴霧器によって形成される前記液滴の少なくともいくつかが衝突する加熱された表面またはチューブを含む、請求項16または17に記載のイオン源。
- 前記加熱チューブが、使用時、被検分子および/または被検イオンを前記反応部位へ放出または供給する、請求項18に記載のイオン源。
- さらに、空圧式の噴霧器を含む、先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源。
- さらに、空圧作用でアシストされた電子スプレー噴霧器を含む、請求項1〜19のいずれか一項に記載のイオン源。
- 先行する請求項のいずれか一項に記載のイオン源を含む質量分析計。
- 前記質量分析計が、さらにイオンサンプリングオリフィスを含む、請求項22に記載の質量分析計。
- さらに、前記サンプリングオリフィスへ向かう少なくともいくつかのイオンを偏向、引き付け、方向付け、または反発させるために、前記イオンサンプリングオリフィスの反対側にまたは隣接して配置される少なくとも一つの電極を含む、請求項23に記載の質量分析計。
- 前記イオン源が、使用時、ガスクロマトグラフと接続されている、請求項22、23または24のいずれか一項に記載の質量分析計。
- 前記イオン源が、使用時、液体クロマトグラフと接続されている、請求項22、23または24のいずれか一項に記載の質量分析計。
- さらに、(i)飛行時間型質量分析計、(ii)四重極質量分析計、(iii)ペニング質量分析計、(iv)フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴(FTICR)質量分析計、(v)2Dまたは線形四重極イオントラップ、(vi)ポールまたは3D四重極イオントラップおよび(vii)磁気セクター質量分析計からなる群から選択される質量分析器(mass analyser)を含む、請求項22〜26のいずれか一項に記載の質量分析計。
- コロナ放電室に配置されるコロナ放電装置を含み、
使用時、比較的低い極性を有する被検分子が、試薬イオンとの気相イオン−分子反応によってイオン化され、
比較的高い極性を有する被検分子が、電子スプレーイオン化によってイオン化され、被検イオンを形成し、少なくともx%の前記被検イオンが前記コロナ放電室の側路に位置する、
電子スプレーイオン化/大気圧化学イオン化(ESI/APCI)イオン源。 - xが(i)<1; (ii)5; (iii)10; (iv)15; (v)20; (vi)25; (vii)30; (viii)35; (ix)40; (x)45; (xi)50; (xii)55; (xiii)60; (xiv)65; (xv)70; (xvi)75; (xvii)80; (xviii)85; (xix)90; および(xx)95 からなる群から選択される、請求項28に記載の電子スプレーイオン化/大気圧化学イオン源。
- 前記コロナ放電室の側路の前記被検イオンが、使用時、少なくとも部分的に、前記コロナ放電室中のコロナ放電装置によって発生した電場の影響を逃れる、請求項28または29に記載の電子スプレーイオン化/大気圧化学イオン源。
- 被検分子および/または被検イオンを受け取る反応室、および、
コロナ放電室を含み、
使用時、前記コロナ放電室中で形成された試薬イオンは、前記コロナ放電室を出て、前記反応室に入り、被検分子および/または被検イオンは、実質的に前記コロナ放電室に入らない、
イオン源。 - 放電装置が配置された放電部位と反応部位とを準備する工程、
前記放電部位で試薬イオンを発生させ、前記試薬イオンを前記放電部位から前記反応部位へ通す工程、
被検分子および/または被検イオンを前記反応部位へ通す工程を含み、
前記反応部位中のイオンは、少なくとも部分的に前記放電部位の放電装置によって発生する電場から保護される、
イオンを生成する方法。 - コロナ放電室中に配置されるコロナ放電装置を準備する工程、
比較的低い極性を有する被検分子を、試薬イオンとの気相イオン−分子反応によってイオン化する工程、および、
比較的高い極性を有する被検分子を、被検イオン形成のためにイオン化する工程を含む、前記被検イオンの少なくともx%が前記コロナ放電室側路に位置する、電子スプレーイオン化/大気圧化学イオン化(ESI/APCI)イオン源を使用するイオンの生成方法。 - xが(i)<1; (ii)5; (iii)10; (iv)15; (v)20; (vi)25; (vii)30; (viii)35; (ix)40; (x)45; (xi)50; (xii)55; (xiii)60; (xiv)65; (xv)70; (xvi)75; (xvii)80; (xviii)85; (xix)90; および(xx)95 からなる群から選択される、請求項33に記載の方法。
- 被検分子および/または被検イオンを受け取るための反応室およびコロナ放電室を準備する工程、および、
前記コロナ放電室で形成された試薬イオンを前記コロナ放電室から出して、前記反応室へ入れる工程を含み、被検分子および/または被検イオンは実質的にコロナ放電室へ入らない、
イオンの生成方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013541130A (ja) * | 2010-08-19 | 2013-11-07 | レコ コーポレイション | ソフトイオン化グロー放電及び調整器を備える質量分析計 |
JP2013254752A (ja) * | 2013-09-25 | 2013-12-19 | Shimadzu Corp | 液体クロマトグラフ質量分析装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005041655B4 (de) * | 2005-09-02 | 2010-05-20 | Bruker Daltonik Gmbh | Erzeugung mehrfach geladener Ionen für die Tandem Massenspektrometrie |
TWI488216B (zh) * | 2013-04-18 | 2015-06-11 | Univ Nat Sun Yat Sen | 多游離源的質譜游離裝置及質譜分析系統 |
WO2020223341A1 (en) * | 2019-04-29 | 2020-11-05 | Ohio State Innovation Foundation | Method and apparatus for mass spectrometry |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60241634A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-11-30 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析計 |
JPS63193454A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 質量分析装置 |
JPH05217545A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析装置 |
JPH06302295A (ja) * | 1993-04-14 | 1994-10-28 | Hitachi Ltd | 質量分析装置および差動排気装置 |
JPH06310091A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-04 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析計 |
JP2002540385A (ja) * | 1999-03-22 | 2002-11-26 | アナリティカ オブ ブランフォード インコーポレーテッド | ダイレクトフローインジェクション分析噴霧エレクトロスプレーとapci質量分析法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA928199A (en) * | 1971-06-25 | 1973-06-12 | I. Schiff Harold | Method of gas analysis |
JP2834136B2 (ja) * | 1988-04-27 | 1998-12-09 | 株式会社日立製作所 | 質量分析計 |
GB8826966D0 (en) * | 1988-11-18 | 1988-12-21 | Vg Instr Group Plc | Gas analyzer |
DE19608963C2 (de) * | 1995-03-28 | 2001-03-22 | Bruker Daltonik Gmbh | Verfahren zur Ionisierung schwerer Moleküle bei Atmosphärendruck |
US6573510B1 (en) * | 1999-06-18 | 2003-06-03 | The Regents Of The University Of California | Charge exchange molecular ion source |
US6545419B2 (en) * | 2001-03-07 | 2003-04-08 | Advanced Technology Materials, Inc. | Double chamber ion implantation system |
GB0107311D0 (en) * | 2001-03-23 | 2001-05-16 | Secr Defence | Corona ionisation source |
JP3660279B2 (ja) * | 2001-07-23 | 2005-06-15 | 株式会社日立製作所 | 試料イオン化装置及び質量分析計 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60241634A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-11-30 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析計 |
JPS63193454A (ja) * | 1987-02-03 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 質量分析装置 |
JPH05217545A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析装置 |
JPH06302295A (ja) * | 1993-04-14 | 1994-10-28 | Hitachi Ltd | 質量分析装置および差動排気装置 |
JPH06310091A (ja) * | 1993-04-26 | 1994-11-04 | Hitachi Ltd | 大気圧イオン化質量分析計 |
JP2002540385A (ja) * | 1999-03-22 | 2002-11-26 | アナリティカ オブ ブランフォード インコーポレーテッド | ダイレクトフローインジェクション分析噴霧エレクトロスプレーとapci質量分析法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013541130A (ja) * | 2010-08-19 | 2013-11-07 | レコ コーポレイション | ソフトイオン化グロー放電及び調整器を備える質量分析計 |
US9070541B2 (en) | 2010-08-19 | 2015-06-30 | Leco Corporation | Mass spectrometer with soft ionizing glow discharge and conditioner |
US9299551B2 (en) | 2010-08-19 | 2016-03-29 | Leco Corporation | Mass spectrometer with soft ionizing glow discharge and conditioner |
JP2013254752A (ja) * | 2013-09-25 | 2013-12-19 | Shimadzu Corp | 液体クロマトグラフ質量分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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