JP2005131639A - 基板に材料を供給するシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 材料104を収容する槽102でノズル108を備え、ノズルを通って槽から材料が吐出される槽102と、槽とノズルとの間に配置された弧状部分110であって、材料が槽から弧状部分を通りノズル108に進むよう構成されている弧状部分110と、槽内に収容されている材料に圧力を加える圧力供給手段112であって、材料に圧力が加えられることによって材料が槽から吐出され、それによって、ノズル108から材料の柱118が形成される圧力供給手段112と、材料の柱からの滴の形成を調整するよう構成されている圧力変化を生じさせる手段122とを備える噴射組立品と、滴のうちの選択したものに電荷を誘導するよう構成されている帯電リング126と、帯電した滴の飛翔経路を変更する1つまたは複数の偏向プレート128とを備えている。
【選択図】 図1A
Description
102 槽
104 材料
106 基板
108 ノズル
118 柱
120 滴
204 コントローラ
206 電源
208 圧力印加手段
210 メモリ
212 加熱素子
214 PZTのトランスデューサ
216 帯電リング
218 偏向プレート
220 支持プレート
222 アクチュエータ
224 静電荷デバイス
302 開始/アイドル
304 槽内にある材料に圧力を加える
306 加えた圧力によって、材料を流体の柱の形でノズルから噴射させる
308 流体の柱によって音波を作り出し、流体の柱からの滴の形成を制御する
310 滴のうちの1つまたは複数を帯電させる
312 滴(複数可)を廃棄
314 滴(複数可)を収集プレートへと偏向する
316 飛翔経路を変更
318 飛翔経路を変更
320 滴(複数可)速度を変更
322 滴(複数可)速度を変更
324 基板を移動
326 基板を移動
328 継続
330 終了
402 プロセッサ
406 メインメモリ
410 ハードディスクドライブ
412 リムーバブル記憶ドライブ
414 リムーバブル記憶ユニット
416 キーボード
418 マウス
420 ディスプレイ
422 ディスプレイアダプタ
424 ネットワークアダプタ
Claims (10)
- 材料を収容する槽であって、前記槽はノズルを備え、前記ノズルを通って前記槽から前記材料が吐出される槽と、
前記槽と前記ノズルとの間に配置された弧状部分であって、前記材料が前記槽から前記弧状部分を通り前記ノズルに進むよう構成されている弧状部分と、
前記槽内に収容されている前記材料に圧力を加える圧力供給手段であって、前記圧力供給手段により前記材料に圧力が加えられることによって前記材料が前記槽から吐出され、それによって、前記ノズルから前記材料の柱が形成される圧力供給手段と、
前記ノズルの近くに設けられ、前記材料の前記柱からの滴の形成を調整するよう構成されている圧力変化を生じさせる手段と
を備える噴射組立品と、
帯電リングであって、前記滴は前記帯電リングを通過するよう構成されており、前記滴のうちの選択したものに電荷を誘導するよう構成されている帯電リングと、
前記帯電した滴の飛翔経路を変更する1つまたは複数の偏向プレートと
を備えている、基板上に材料を供給するシステム。 - 前記基板と前記噴射組立品のうちの一方または両方を支持するよう構成されており、2次元以上の次元で移動することによって前記基板が移動するよう構成されている支持プレートと、
前記支持プレートに電位を供給し、前記滴が前記基板に当たる速度を変更するよう作用している電位供給デバイスと
を備えている、請求項1に記載の基板上に材料を供給するシステム。 - 前記1つまたは複数の偏向プレートと前記基板との間に配置され、不要な滴を受け取るよう構成され、前記受け取った滴を廃棄物領域と前記槽のうちの少なくとも1つに送るように構成されている収集プレートと
を備えている、請求項1または請求項2に記載の基板上に材料を供給するシステム。 - 前記材料は、半導体材料、金属、誘電体、パッシベーション材料、保護コーティング材料、エッチャント、ドーパント、および反応物のうちの1つまたは複数を有している、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の基板上に材料を供給するシステム。
- 槽内にある材料に圧力を加え、前記圧力によって前記材料が弧状部分を通りノズルから流出して流体の柱を形成するステップと、
前記流体の柱によって圧力変化を引き起こし、前記流体の柱からの滴の形成を制御し、前記滴が前記流体の柱から飛翔経路に沿って進むステップと、
前記滴のうちの1つまたは複数を帯電させるステップと、
前記1つまたは複数の帯電した滴のうちの少なくとも1つの飛翔経路を変更するステップと
を含む、基板上に材料を堆積する方法。 - 前記1つまたは複数の帯電した滴のうちの少なくとも1つを廃棄しなければならないかどうかを判定するステップと
をさらに含み、
前記1つまたは複数の帯電した滴のうちの少なくとも1つの飛翔経路を変更するステップは、廃棄する1つまたは複数の帯電した滴の飛翔経路を変更し、前記廃棄する1つまたは複数の帯電した滴を収集プレートへと送るステップを含む、請求項5に記載の基板上に材料を堆積する方法。 - 前記1つまたは複数の滴を前記基板上に堆積するステップの前に、前記基板上に堆積する前記1つまたは複数の滴の速度を変更しなければならないかどうかを判定するステップと、
前記基板上に堆積する前記1つまたは複数の滴の速度を変更しなければならないという判定に応答して、前記1つまたは複数の滴の速度を変更するステップと
を含む、請求項5または請求項6に記載の基板上に材料を堆積する方法。 - 前記1つまたは複数の滴の電荷と極性が同じ静電荷を印加し、それによって前記1つまたは複数の滴の速度を減少させるステップと、
前記1つまたは複数の滴の電荷と極性が異なる静電荷を印加し、それによって前記1つまたは複数の滴の速度を増加させるステップと
を含む、請求項7に記載の基板上に材料を堆積する方法。 - 材料を収容する手段と、
前記材料に圧力を加える圧力供給手段と、
前記材料を収容する前記手段から前記材料を吐出する手段と、
前記材料を前記収容する手段から前記材料を吐出する前記手段へと通す手段であって、弧状の形状を備えている前記材料を通す前記手段と、
前記材料を吐出する前記手段から吐出される材料の柱から、略一様な滴を作成する手段と、
前記滴を選択的に帯電させる手段と
を備えている、基板上に材料を供給するシステム。 - 少なくとも平面に沿って前記基板を移動する手段であって、前記基板を移動する手段は、該移動する手段に静電荷を印加する手段であって、それによって前記基板に近づく前記帯電した滴の速度を変更する静電荷を印加する手段を備えている基板を移動する手段を備えている、請求項9に記載の基板上に材料を供給するシステム。
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US8216441B2 (en) * | 2007-12-10 | 2012-07-10 | Applied Materials, Inc. | Electrophoretic solar cell metallization process and apparatus |
JP5164621B2 (ja) * | 2008-03-18 | 2013-03-21 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 質量分析装置、質量分析方法および質量分析用プログラム |
US20090243125A1 (en) * | 2008-03-26 | 2009-10-01 | Pugh Randall B | Methods and apparatus for ink jet provided energy receptor |
US8573757B2 (en) * | 2009-03-26 | 2013-11-05 | North Carolina Agricultural And Technical State University | Methods and apparatus of manufacturing micro and nano-scale features |
CN103302971A (zh) * | 2012-03-12 | 2013-09-18 | 张爱明 | 一种连续喷墨的喷头 |
US9922870B2 (en) * | 2012-10-09 | 2018-03-20 | Oce-Technologies B.V. | Method for applying an image of an electrically conductive material onto a recording medium and device for ejecting droplets of an electrically conductive fluid |
EP2972130A4 (en) * | 2013-03-14 | 2016-12-07 | The Alfred E Mann Found For Scient Res | MICROFLUIDIC FLOW SENSOR |
CN103448366B (zh) * | 2013-06-27 | 2016-12-28 | 北京大学深圳研究生院 | 一种喷墨打印系统及其应用 |
TWI587925B (zh) * | 2014-11-10 | 2017-06-21 | 國立成功大學 | 多激擾靜電輔助噴霧造粒噴嘴裝置 |
CN105015166A (zh) * | 2015-07-20 | 2015-11-04 | 厦门英杰华机电科技有限公司 | Cij喷码机分段式高压偏转系统 |
JP2017119356A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出装置および方法 |
EP3651914A1 (en) | 2017-07-12 | 2020-05-20 | Mycronic Ab | Jetting devices with energy output devices and methods of controlling same |
KR102579198B1 (ko) | 2017-07-12 | 2023-09-14 | 마이크로닉 아베 | 음향 변환기를 갖는 분사 장치들 및 그 제어 방법들 |
CN107685539B (zh) | 2017-09-22 | 2019-04-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 喷墨打印喷头、喷墨量测量系统和方法及喷墨量控制方法 |
US10207505B1 (en) * | 2018-01-08 | 2019-02-19 | Eastman Kodak Company | Method for fabricating a charging device |
CN108739770A (zh) * | 2018-08-01 | 2018-11-06 | 山东省农药科学研究院 | 一种电场偏转式省药静电喷雾装置及其使用方法 |
CN110525048B (zh) * | 2019-08-30 | 2020-10-09 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | 一种测量墨滴体积的装置、系统及方法 |
KR20220003691A (ko) * | 2020-07-01 | 2022-01-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 쌍극자 정렬 장치, 쌍극자 정렬 방법 및 표시 장치의 제조 방법 |
CN113274856B (zh) * | 2021-04-21 | 2022-08-05 | 西安交通大学 | 一种面向微重力环境的太空舱内3d打印装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3484794A (en) | 1967-11-09 | 1969-12-16 | Teletype Corp | Fluid transfer device |
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US4620198A (en) | 1985-11-20 | 1986-10-28 | Xerox Corporation | Multicolor ink jet printhead |
GB8725465D0 (en) * | 1987-10-30 | 1987-12-02 | Linx Printing Tech | Ink jet printers |
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WO2001008242A1 (en) | 1999-07-21 | 2001-02-01 | E Ink Corporation | Preferred methods for producing electrical circuit elements used to control an electronic display |
US6401001B1 (en) | 1999-07-22 | 2002-06-04 | Nanotek Instruments, Inc. | Layer manufacturing using deposition of fused droplets |
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