JP2005123864A - Level converting circuit and display - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、レベル変換回路(レベルシフタ)および表示装置に関し、特に絶縁性基板上に単一チャネル(同じ導電型)のトランジスタによって構成されてなるレベル変換回路および当該レベル変換回路を駆動回路の一部に用いた表示装置に関する。 The present invention relates to a level conversion circuit (level shifter) and a display device, and more particularly, to a level conversion circuit constituted by a single channel (same conductivity type) transistor on an insulating substrate and the level conversion circuit as a part of a drive circuit. The present invention relates to a display device used in the above.
レベル変換回路として、カレントミラー回路を用いて構成されたカレントミラー型レベル変換回路が知られている(例えば、特許文献1参照)。このカレントミラー型レベル変換回路を、単一チャネルのMOSトランジスタ、即ちPチャネルのMOSトランジスタのみあるいはNチャネルのMOSトランジスタのみを用いて構成すると、PチャネルのMOSトランジスタとNチャネルのMOSトランジスタとを1チップ内で組み合わせて構成する場合に比べて、プロセス数が少なくて済むため、生産性や歩留まりの向上を図る上で有利である。 As a level conversion circuit, a current mirror type level conversion circuit configured using a current mirror circuit is known (for example, see Patent Document 1). When this current mirror type level conversion circuit is configured by using only a single channel MOS transistor, that is, only a P channel MOS transistor or only an N channel MOS transistor, a P channel MOS transistor and an N channel MOS transistor are combined into one. Since the number of processes can be reduced as compared with the case where they are combined in a chip, it is advantageous in improving productivity and yield.
また、PチャネルのMOSトランジスタとNチャネルのMOSトランジスタとを比較すると、NチャネルのMOSトランジスタは、LDD(Lightly Doped Drain)構造によってホットエレクトロン効果を低減するように構成されているため、性能の面では、PチャネルのMOSトランジスタよりも優れている。しかし、逆に、NチャネルのMOSトランジスタの場合、LDD構造を採る分だけプロセス数が増えるため、生産性や歩留まりの面では、PチャネルのMOSトランジスタの方がNチャネルのMOSトランジスタよりも優れている。 Further, when comparing a P-channel MOS transistor and an N-channel MOS transistor, the N-channel MOS transistor is configured to reduce the hot electron effect by an LDD (Lightly Doped Drain) structure. Then, it is superior to a P-channel MOS transistor. On the other hand, in the case of an N-channel MOS transistor, the number of processes increases by adopting the LDD structure. Therefore, in terms of productivity and yield, the P-channel MOS transistor is superior to the N-channel MOS transistor. Yes.
図10は、PチャネルのMOSトランジスタのみによって構成されたカレントミラー型レベル変換回路の従来例を示す回路図である。本例に係るレベル変換回路は、TFT(Thin Film Transistor;薄膜トランジスタ)からなる4つのPチャネルMOSトランジスタQp101〜Qp104によって構成されている。MOSトランジスタQp101,Qp102は、各ソースが正側電源VDD(例えば、10[V])に接続され、各ゲートが共通に接続されている。MOSトランジスタQp101は、ゲートとドレインが共通に接続されたダイオード接続構成となっている。 FIG. 10 is a circuit diagram showing a conventional example of a current mirror type level conversion circuit composed of only P-channel MOS transistors. The level conversion circuit according to this example includes four P-channel MOS transistors Qp101 to Qp104 made of TFTs (Thin Film Transistors). In the MOS transistors Qp101 and Qp102, each source is connected to the positive power supply VDD (for example, 10 [V]), and each gate is connected in common. The MOS transistor Qp101 has a diode connection configuration in which a gate and a drain are connected in common.
MOSトランジスタQp103は、ソースがMOSトランジスタQp101のドレイン・ゲートに接続されている。このMOSトランジスタQp103のドレインには、電圧振幅が例えば0[V]〜3[V]のクロックパルスCKが与えられる。また、MOSトランジスタQp103のゲートには、クロックパルスCKと逆相のクロックパルスxCKが与えられる。MOSトランジスタQp104は、ソースがMOSトランジスタQp102のドレインに接続されている。このMOSトランジスタQp104のゲートにはクロックパルスCKが与えられ、ドレインにはクロックパルスxCKが与えられる。 The source of the MOS transistor Qp103 is connected to the drain / gate of the MOS transistor Qp101. A clock pulse CK having a voltage amplitude of, for example, 0 [V] to 3 [V] is applied to the drain of the MOS transistor Qp103. Further, a clock pulse xCK having a phase opposite to that of the clock pulse CK is applied to the gate of the MOS transistor Qp103. The source of the MOS transistor Qp104 is connected to the drain of the MOS transistor Qp102. A clock pulse CK is applied to the gate of the MOS transistor Qp104, and a clock pulse xCK is applied to the drain.
上記構成の従来例に係るカレントミラー型レベル変換回路では、図11に示すように、MOSトランジスタQp102,Qp104をオフさせるときに、それぞれのゲート電圧をVDD電位まで上昇させることができないため、当該MOSトランジスタQp102,Qp104が完全にオフ状態にならない。したがって、MOSトランジスタQp102,Qp104に常に貫通電流が流れることになるため、この貫通電流による電圧降下によって出力信号OUTのレベルが引き下げられ、最大振幅の出力信号OUTを取り出すことができない。 In the current mirror type level conversion circuit according to the conventional example having the above configuration, as shown in FIG. 11, when the MOS transistors Qp102 and Qp104 are turned off, the respective gate voltages cannot be raised to the VDD potential. Transistors Qp102 and Qp104 are not completely turned off. Accordingly, since a through current always flows through the MOS transistors Qp102 and Qp104, the level of the output signal OUT is lowered due to a voltage drop due to the through current, and the output signal OUT having the maximum amplitude cannot be extracted.
一方、貫通電流を抑えるために、出力用のMOSトランジスタQp102,Qp104のチャネル長を大きく設定すると、出力性能が悪化してしまう。したがって、出力性能を重視すると、MOSトランジスタQp102,Qp104のチャネル長を大きく設定することができず、貫通電流による出力信号OUTのレベル低下を容認せざるを得なく、その結果、閾値電圧Vthや移動度μのトランジスタ特性のバラツキに弱く、また最大振幅の出力信号OUTを取り出すことができないという課題がある。 On the other hand, if the channel lengths of the output MOS transistors Qp102 and Qp104 are set large in order to suppress the through current, the output performance deteriorates. Therefore, if the output performance is regarded as important, the channel lengths of the MOS transistors Qp102 and Qp104 cannot be set large, and the decrease in the level of the output signal OUT due to the through current must be allowed. As a result, the threshold voltage Vth and the movement There is a problem that the output signal OUT having the maximum amplitude cannot be taken out, and is not easily affected by variations in transistor characteristics of μ.
特に、絶縁性基板上に形成されるTFTのポリシリコンプロセスまたはアモルファスシリコンプロセスでは、閾値電圧Vthや移動度μ等のトランジスタ特性のバラツキが単結晶プロセスに比べて大きく、加えてMOSトランジスタのオフ電流Ioffも無視できないため、回路設計時にこれらを考慮する必要がある。因みに、ポリシリコンプロセスまたはアモルファスシリコンプロセスによって作成されたPチャネルTFTでは、閾値電圧Vthが−1[V]〜−3[V]程度、移動度μが10〜100[cm2 /V・sec]程度、またオフ電流Ioffが1[pA]〜100[nA]程度ばらつく。したがって、回路設計時には、これらトランジスタ特性のバラツキを考慮する必要がある。 In particular, in a polysilicon process or an amorphous silicon process for TFTs formed on an insulating substrate, variations in transistor characteristics such as threshold voltage Vth and mobility μ are larger than in a single crystal process, and in addition, an off current of a MOS transistor Since Ioff cannot be ignored, it is necessary to consider these when designing the circuit. Incidentally, in a P-channel TFT produced by a polysilicon process or an amorphous silicon process, the threshold voltage Vth is about −1 [V] to −3 [V], and the mobility μ is 10 to 100 [cm 2 / V · sec]. The off-state current Ioff varies by about 1 [pA] to 100 [nA]. Therefore, it is necessary to consider variations in transistor characteristics when designing a circuit.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、閾値電圧Vthや移動度μのトランジスタ特性のバラツキに強く、しかも最大振幅の出力信号を取り出すことが可能なレベル変換回路および当該レベル変換回路を用いた表示装置を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and its object is to withstand variations in transistor characteristics such as the threshold voltage Vth and mobility μ, and to extract an output signal having the maximum amplitude. A level conversion circuit and a display device using the level conversion circuit are provided.
本発明によるレベル変換回路は、絶縁性基板上に単一チャネルのトランジスタによって構成され、互いに逆相の第1,第2のパルス信号のレベル変換を行うレベル変換回路であって、ソースが第1電源に接続され、ゲートに前記第1のパルス信号が与えられる第1のトランジスタと、ソースが前記第1のトランジスタのドレインに、ドレインが第2の電源にそれぞれ接続され、ゲートに前記第2のパルス信号が与えられる第2のトランジスタとを有し、当該第2のトランジスタがブートストラップ動作を行う出力手段と、前記第2のパルス信号に同期して前記第1のトランジスタのゲートに前記第1の電源の電位を供給する第1の電源供給手段と、前記第1のパルス信号に同期して前記第2のトランジスタのゲートに前記第1の電源の電位を供給する第2の電源供給手段とを備えた構成となっている。このレベル変換回路は、表示エレメントを含む画素が透明な絶縁性基板上に行列状に配置されてなる画素アレイ部と、前記絶縁性基板上に前記画素アレイ部と共に集積され、互いに逆相の第1,第2のパルス信号のレベル変換を行うレベル変換回路を回路の一部に含んで前記画素アレイ部の駆動を行う駆動回路とを具備した表示装置において、当該レベル変換回路として用いられる。 A level conversion circuit according to the present invention is a level conversion circuit configured by a single-channel transistor on an insulating substrate, and performs level conversion of first and second pulse signals having opposite phases to each other. A first transistor connected to a power source and having the gate supplied with the first pulse signal; a source connected to a drain of the first transistor; a drain connected to a second power source; and a gate connected to the second transistor A second transistor to which a pulse signal is applied, the second transistor performing a bootstrap operation, and the first transistor at the gate of the first transistor in synchronization with the second pulse signal. First power supply means for supplying a potential of the first power supply; and a potential of the first power supply applied to the gate of the second transistor in synchronization with the first pulse signal. Kyusuru has a configuration in which a second power supply means. The level conversion circuit includes a pixel array unit in which pixels including display elements are arranged in a matrix on a transparent insulating substrate, and a pixel array unit integrated with the pixel array unit on the insulating substrate. The display device includes a level conversion circuit that performs level conversion of the first and second pulse signals as a part of the circuit and a drive circuit that drives the pixel array unit, and is used as the level conversion circuit.
上記構成のレベル変換回路または当該レベル変換回路を駆動回路の一部に用いた表示装置において、第1のトランジスタのゲートに第1のパルス信号が与えられると、当該第1のトランジスタはオン状態となって第1電源の電位を出力する。このとき、第2のトランジスタのゲートには、第2の電源供給手段によって第1電源の電位が与えられるため、第2のトランジスタは完全にオフ状態となり、当該第2のトランジスタに貫通電流は流れない。また、第2のトランジスタのゲートに第2のパルス信号が与えられると、当該第2のトランジスタのゲート電位は、ブートストラップ動作によって引き下げられる/引き上げられる。これにより、第2のトランジスタは完全にオン状態となって第2電源の電位を出力する。その結果、最大振幅(第1電源の電位−第2電源の電位)の出力信号を取り出せる。また、第2のトランジスタがオン状態のとき、第1のトランジスタのゲートには、第1の電源供給手段によって第1電源の電位が与えられるため、第1のトランジスタは完全にオフ状態となり、当該第1のトランジスタに貫通電流は流れない。 In the level conversion circuit having the above structure or the display device using the level conversion circuit as part of a driver circuit, when the first pulse signal is applied to the gate of the first transistor, the first transistor is turned on. Thus, the potential of the first power supply is output. At this time, since the potential of the first power supply is applied to the gate of the second transistor by the second power supply means, the second transistor is completely turned off, and a through current flows through the second transistor. Absent. When the second pulse signal is supplied to the gate of the second transistor, the gate potential of the second transistor is lowered / raised by the bootstrap operation. As a result, the second transistor is completely turned on and outputs the potential of the second power supply. As a result, an output signal having the maximum amplitude (the potential of the first power source−the potential of the second power source) can be extracted. Further, when the second transistor is in the on state, the potential of the first power supply is applied to the gate of the first transistor by the first power supply means, so that the first transistor is completely turned off, No through current flows through the first transistor.
本発明によれば、第1,第2電源の各電位の出力を担う第1,第2のトランジスタの一方がオン状態のときは必ず他方がオフ状態になり、第1,第2のトランジスタに貫通電流が流れることがないため、閾値電圧Vthや移動度μのトランジスタ特性のバラツキに強く、しかも最大振幅の出力信号を取り出すことが可能な回路構成を実現できる。 According to the present invention, when one of the first and second transistors responsible for the output of each potential of the first and second power supplies is on, the other is always off, and the first and second transistors Since no through current flows, it is possible to realize a circuit configuration that is resistant to variations in transistor characteristics such as the threshold voltage Vth and mobility μ and that can output an output signal having the maximum amplitude.
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[第1実施形態]
本発明の第1実施形態に係るレベル変換回路は、ポリシリコンプロセスまたはアモルファスシリコンプロセスにより、絶縁性基板上に単一チャネル(同じ導電型)のトランジスタによって構成されてなるレベル変換回路であって、ソースが第1電源に接続され、ゲートに第1のパルス信号が与えられる第1のトランジスタと、ソースが第1のトランジスタのドレインに、ドレインが第2の電源にそれぞれ接続され、ゲートに第2のパルス信号が与えられる第2のトランジスタとを有し、当該第2のトランジスタがブートストラップ動作を行う出力手段と、第2のパルス信号に同期して第1のトランジスタのゲートに第1の電源の電位を供給する第1の電源供給手段と、第1のパルス信号に同期して第2のトランジスタのゲートに第1の電源の電位を供給する第2の電源供給手段とを備えた構成となっている。
[First Embodiment]
The level conversion circuit according to the first embodiment of the present invention is a level conversion circuit configured by a single channel (same conductivity type) transistor on an insulating substrate by a polysilicon process or an amorphous silicon process, A first transistor having a source connected to a first power supply and a gate provided with a first pulse signal; a source connected to the drain of the first transistor; a drain connected to a second power supply; Output means for performing a bootstrap operation, and a first power supply at the gate of the first transistor in synchronization with the second pulse signal. And a first power supply means for supplying a first potential to the gate of the second transistor in synchronization with the first pulse signal. Position has a configuration in which a second power supply means for supplying.
(実施例1)
図1は、第1実施形態の実施例1に係るレベル変換回路の構成を示す回路図である。本実施例に係るレベル変換回路は、ガラス基板等の絶縁性基板上にPチャネルのMOSトランジスタのみによって構成されたブートストラップ型レベル変換回路であり、正側電源VDD(以下、VDD電源と記す)を第1電源とし、負側電源VSS(以下、VSS電源と記す)を第2電源としている。
(Example 1)
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a level conversion circuit according to Example 1 of the first embodiment. The level conversion circuit according to the present embodiment is a bootstrap type level conversion circuit composed of only a P-channel MOS transistor on an insulating substrate such as a glass substrate, and is a positive power supply VDD (hereinafter referred to as VDD power supply). Is a first power source, and a negative power source VSS (hereinafter referred to as VSS power source) is a second power source.
ここでは、数値の一例として、VDD電源の電源電圧を10[V]、VSS電源の電源電圧を−5[V]とする。また、互いに逆相のクロックパルスCK,xCKは、0[V]〜3[V]の振幅のパルス信号とする。 Here, as an example of numerical values, the power supply voltage of the VDD power supply is 10 [V], and the power supply voltage of the VSS power supply is −5 [V]. The clock pulses CK and xCK having opposite phases are pulse signals having an amplitude of 0 [V] to 3 [V].
図1に示すように、本実施例に係るレベル変換回路10は、パルス入力部11,12、第1,第2の電源供給回路13,14および出力回路15を備えるとともに、2つのクロック入力端子16,17およびパルス出力端子18を有する構成となっている。パルス入力端子16にはクロックパルスxCKが第1のパルス信号として、パルス入力端子17にはクロックパルスCKが第2のパルス信号としてそれぞれ入力される。
As shown in FIG. 1, the
パルス入力部11は、ドレインとゲートがパルス入力端子16に共通に接続されたダイオード接続構成のPチャネルMOSトランジスタQp11によって構成されている。パルス入力部12は、ドレインとゲートがパルス入力端子17に共通に接続されたダイオード接続構成のPチャネルMOSトランジスタQp12によって構成されている。第1の電源供給回路13は、ソースがVDD電源に、ドレインがMOSトランジスタQp11のソースに、ゲートがMOSトランジスタQp12のゲート・ドレインにそれぞれ接続されたPチャネルMOSトランジスタQp13によって構成されている。
The pulse input unit 11 includes a diode-connected P-channel MOS transistor Qp11 having a drain and a gate connected to the pulse input terminal 16 in common. The pulse input unit 12 is configured by a P-channel MOS transistor Qp12 having a diode connection configuration in which a drain and a gate are connected to a
第2の電源供給回路14は、4つのPチャネルMOSトランジスタQp14〜Qp17によって構成されている。MOSトランジスタQp14は、ソースがVDD電源に、ゲートがMOSトランジスタQp12のゲート・ドレインにそれぞれ接続されている。MOSトランジスタQp15は、ソースがMOSトランジスタQp14のドレインに、ドレインがVSS電源に、ゲートがMOSトランジスタQp11のゲート・ドレインにそれぞれ接続されている。MOSトランジスタQp16は、ソースがVDD電源に接続され、ゲートとドレインが共通に接続されたダイオード接続構成となっている。MOSトランジスタQp17は、ソースがMOSトランジスタQp16のゲート・ドレインに、ドレインがMOSトランジスタQp12のソースに、ゲートがMOSトランジスタQp14,Qp15の共通接続ノードにそれぞれ接続されている。 The second power supply circuit 14 includes four P channel MOS transistors Qp14 to Qp17. The MOS transistor Qp14 has a source connected to the VDD power supply and a gate connected to the gate and drain of the MOS transistor Qp12. The MOS transistor Qp15 has a source connected to the drain of the MOS transistor Qp14, a drain connected to the VSS power supply, and a gate connected to the gate and drain of the MOS transistor Qp11. The MOS transistor Qp16 has a diode connection configuration in which the source is connected to the VDD power source and the gate and the drain are connected in common. In the MOS transistor Qp17, the source is connected to the gate and drain of the MOS transistor Qp16, the drain is connected to the source of the MOS transistor Qp12, and the gate is connected to the common connection node of the MOS transistors Qp14 and Qp15.
出力回路15は、ソースがVDD電源に、ドレインがパルス出力端子18に、ゲートがMOSトランジスタQp11のソースにそれぞれ接続されたPチャネルMOSトランジスタQp18と、ソースがパルス出力端子18に、ドレインがVSS電源に、ゲートがMOSトランジスタQp12のソースにそれぞれ接続されたPチャネルMOSトランジスタQp19とによって構成されている。MOSトランジスタQp19は、ゲートとソースの間に接続されたキャパシタCapと共に、ゲート電位をVSS電源の電位よりも引き下げるブートストラップ回路19を構成している。
The
上記構成の実施例1に係るレベルシフト回路10において、PチャネルMOSトランジスタQp11〜Qp19は、ポリシリコンプロセスまたはアモルファスシリコンプロセスで形成されたTFT(薄膜トランジスタ)である。PチャネルTFTには、ゲート電極がゲート絶縁膜(酸化膜)の下に配置されるボトムゲート構造のものと、ゲート電極がゲート絶縁膜の上に配置されるトップゲート構造のものなどがある。
In the
図2は、ボトムゲート型PチャネルTFTの構造の一例を示す断面図である。図2に示すように、ボトムゲート構造のTFTでは、ガラス基板等の絶縁性基板21の上にゲート電極(Moゲート)22が形成され、その上にゲート絶縁膜23を介してポリシリコン層(または、アモルファスシリコン層)24が形成され、さらにその上に層間絶縁膜25,26が形成されている。また、ゲート電極22の側方のゲート絶縁膜23上には、P+拡散層からなるソース領域27およびドレイン領域28が形成され、これら領域27,28にはAl(アルミニウム)電極29,30が接続されている。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the structure of a bottom gate type P-channel TFT. As shown in FIG. 2, in a TFT having a bottom gate structure, a gate electrode (Mo gate) 22 is formed on an insulating substrate 21 such as a glass substrate, and a polysilicon layer (with a gate insulating film 23 interposed therebetween) Alternatively, an amorphous silicon layer) 24 is formed, and interlayer insulating
図3は、トップゲート型PチャネルTFTの構造の一例を示す断面図である。図3に示すように、トップゲート構造のTFTでは、ガラス基板等の絶縁性基板31の上にポリシリコン層(または、アモルファスシリコン層)32が形成され、その上にゲート絶縁膜33を介してゲート電極(Moゲート)34が形成され、さらにその上に層間絶縁膜35が形成されている。また、ポリシリコン層32の側方の絶縁性基板31上には、P+拡散層からなるソース領域36およびドレイン領域37が形成され、これら領域36,37にはAl電極38,39が接続されている。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the structure of the top gate type P-channel TFT. As shown in FIG. 3, in a TFT having a top gate structure, a polysilicon layer (or amorphous silicon layer) 32 is formed on an insulating substrate 31 such as a glass substrate, and a gate insulating film 33 is interposed therebetween. A gate electrode (Mo gate) 34 is formed, and an
続いて、上記構成の実施例1に係るレベル変換回路10の回路動作について、図4のタイミングチャートを用いて説明する。
Next, the circuit operation of the
図4には、互いに逆相のクロックパルスCK,xCK、MOSトランジスタQp18のゲート電位A、MOSトランジスタQp17のゲート電位B、MOSトランジスタQp19のゲート電位Cおよび出力信号OUTの各波形およびタイミング関係を示している。 FIG. 4 shows waveforms and timing relationships of clock pulses CK and xCK having opposite phases, the gate potential A of the MOS transistor Qp18, the gate potential B of the MOS transistor Qp17, the gate potential C of the MOS transistor Qp19, and the output signal OUT. ing.
先ず、クロックパルスxCKが0[V](以下、“L”レベルと記す)、クロックパルスCKが3[V](以下、“H”レベルと記す)のときの回路動作について説明する。クロックパルスxCKが“L”レベルであることで、MOSトランジスタQp11がオン状態になる。すると、クロックパルスxCKがMOSトランジスタQp11によってダイオードの順方向電圧分だけレベルシフトされてMOSトランジスタQp18のゲートに与えられる。このとき、MOSトランジスタQp18のゲート電位Aが約5[V]程度まで上昇する。これにより、MOSトランジスタQp18がオン状態となるため、当該MOSトランジスタQp18を介してVDD電源の電位(以下、VDD電位と記す)が出力信号OUTの高レベルとして取り出される。 First, the circuit operation when the clock pulse xCK is 0 [V] (hereinafter referred to as “L” level) and the clock pulse CK is 3 [V] (hereinafter referred to as “H” level) will be described. When the clock pulse xCK is at the “L” level, the MOS transistor Qp11 is turned on. Then, the clock pulse xCK is level-shifted by the forward voltage of the diode by the MOS transistor Qp11 and applied to the gate of the MOS transistor Qp18. At this time, the gate potential A of the MOS transistor Qp18 rises to about 5 [V]. As a result, the MOS transistor Qp18 is turned on, so that the potential of the VDD power source (hereinafter referred to as VDD potential) is taken out through the MOS transistor Qp18 as the high level of the output signal OUT.
また、クロックパルスCKが“H”レベルであることでMOSトランジスタQp12,Qp13,Qp14がオフ状態になり、クロックパルスxCKが“L”レベルであることでMOSトランジスタQp15がオン状態になる。MOSトランジスタQp15がオン状態になることで、当該MOSトランジスタQp15を介してVSS電源の電位(以下、VSS電位と記す)がMOSトランジスタQp17のゲートに与えられる。これにより、MOSトランジスタQp17およびMOSトランジスタQp16がオン状態となるため、VDD電位がMOSトランジスタQp16,Qp17を介してMOSトランジスタQp19のゲートに与えられる。 Further, when the clock pulse CK is at “H” level, the MOS transistors Qp12, Qp13, Qp14 are turned off, and when the clock pulse xCK is at “L” level, the MOS transistor Qp15 is turned on. When the MOS transistor Qp15 is turned on, the potential of the VSS power supply (hereinafter referred to as VSS potential) is applied to the gate of the MOS transistor Qp17 via the MOS transistor Qp15. Thus, MOS transistor Qp17 and MOS transistor Qp16 are turned on, so that the VDD potential is applied to the gate of MOS transistor Qp19 via MOS transistors Qp16 and Qp17.
このとき、VDD電位はMOSトランジスタQp16によってダイオードの順方向電圧分だけレベルシフト(電圧降下)されてMOSトランジスタQp19のゲートに与えられることになるため、MOSトランジスタQp19のゲート電位Cが約7[V]程度まで引き下げられるが、MOSトランジスタQp19の閾値電圧Vthを割り込まない電位であるため、MOSトランジスタQp19は完全にオフ状態になる。したがって、MOSトランジスタQp19に貫通電流が流れることはなく、また出力信号OUTの高レベル(10[V])の貫通電流に起因する電位の引き下げも発生しない。 At this time, the VDD potential is level-shifted (voltage drop) by the forward voltage of the diode by the MOS transistor Qp16 and applied to the gate of the MOS transistor Qp19, so that the gate potential C of the MOS transistor Qp19 is about 7 [V However, since the potential does not interrupt the threshold voltage Vth of the MOS transistor Qp19, the MOS transistor Qp19 is completely turned off. Therefore, the through current does not flow through the MOS transistor Qp19, and the potential is not lowered due to the high level (10 [V]) through current of the output signal OUT.
次に、クロックパルスxCKが“H”レベル、クロックパルスCKが“L”レベルのときの回路動作について説明する。クロックパルスxCKが“H”レベルであることで、MOSトランジスタQp11がオフ状態となる。このとき、クロックパルスCKが“L”レベルであることによって、MOSトランジスタQp13がオン状態となるため、当該MOSトランジスタQp13を介してMOSトランジスタQp18のゲートにVDD電位が供給される。これにより、MOSトランジスタQp18のゲート電位AがVDD電位近くの電位、例えば約9[V]程度まで上昇するため、MOSトランジスタQp18はオフ状態となる。したがって、MOSトランジスタQp18に貫通電流が流れることはない。 Next, circuit operation when the clock pulse xCK is at “H” level and the clock pulse CK is at “L” level will be described. When the clock pulse xCK is at “H” level, the MOS transistor Qp11 is turned off. At this time, since the clock pulse CK is at the “L” level, the MOS transistor Qp13 is turned on, so that the VDD potential is supplied to the gate of the MOS transistor Qp18 via the MOS transistor Qp13. As a result, the gate potential A of the MOS transistor Qp18 rises to a potential close to the VDD potential, for example, about 9 [V], so that the MOS transistor Qp18 is turned off. Accordingly, no through current flows through the MOS transistor Qp18.
このとき、クロックパルスCKが“L”レベルであることで、MOSトランジスタQp14がオン状態となるため、MOSトランジスタQp17およびMOSトランジスタQp16がオフ状態になる。また、クロックパルスCKが“L”レベルであることで、MOSトランジスタQp12がオン状態となる。すると、クロックパルスCKがMOSトランジスタQp12によってダイオードの順方向電圧分だけレベルシフトされてMOSトランジスタQp19のゲートに与えられる。このとき、MOSトランジスタQp19のゲート電位Cは、MOSトランジスタQp16によってVDD電位よりも下げられた状態にある。 At this time, since the clock pulse CK is at "L" level, the MOS transistor Qp14 is turned on, so that the MOS transistor Qp17 and the MOS transistor Qp16 are turned off. Further, when the clock pulse CK is at “L” level, the MOS transistor Qp12 is turned on. Then, the clock pulse CK is level-shifted by the forward voltage of the diode by the MOS transistor Qp12 and applied to the gate of the MOS transistor Qp19. At this time, the gate potential C of the MOS transistor Qp19 is in a state lower than the VDD potential by the MOS transistor Qp16.
したがって、ブートストラップ回路19のブートストラップ動作により、MOSトランジスタQp19のゲート電位Cは、当該MOSトランジスタQp19が完全にオン状態になる電位、具体的にはVSS電位よりも低い約−8[V]程度まで引き下げられる。これにより、MOSトランジスタQp19は完全にオン状態になるため、当該MOSトランジスタQp19を介してVSS電位が出力信号OUTの低レベルとして取り出される。その結果、0[V]〜3[V]のクロックパルスCK,xCKを、最大振幅(VSS電位−VDD電位)のクロックパルスにレベル変換(レベルシフト)することができる。
Therefore, by the bootstrap operation of the
(実施例2)
図5は、第1実施形態の実施例2に係るレベル変換回路の構成を示す回路図である。本実施例に係るレベル変換回路は、ガラス基板等の絶縁性基板上にNチャネルのMOSトランジスタのみによって構成されたブートストラップ型レベル変換回路であり、負側電源VSS(以下、VSS電源と記す)を第1電源とし、正側電源VDD(以下、VDD電源と記す)を第2電源としている。
(Example 2)
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a level conversion circuit according to Example 2 of the first embodiment. The level conversion circuit according to the present embodiment is a bootstrap type level conversion circuit composed of only an N-channel MOS transistor on an insulating substrate such as a glass substrate, and is a negative power supply VSS (hereinafter referred to as VSS power supply). Is the first power supply, and the positive power supply VDD (hereinafter referred to as VDD power supply) is the second power supply.
ここでも、実施例1の場合と同様に、数値の一例として、VDD電源の電源電圧を10[V]、VSS電源の電源電圧を−5[V]とする。また、互いに逆相のクロックパルスCK,xCKは、0[V]〜3[V]の振幅のパルス信号とする。 Here, as in the case of the first embodiment, as an example of numerical values, the power supply voltage of the VDD power supply is 10 [V] and the power supply voltage of the VSS power supply is −5 [V]. The clock pulses CK and xCK having opposite phases are pulse signals having an amplitude of 0 [V] to 3 [V].
図5に示すように、本実施例に係るブートストラップ型インバータ回路40は、パルス入力部41,42、第1,第2の電源供給回路43,44および出力回路45を備えるとともに、2つのパルス入力端子46,47およびパルス出力端子48を有する構成となっている。パルス入力端子46にはクロックパルスxCKが第1のパルス信号として、パルス入力端子47にはクロックパルスCKが第2のパルス信号としてそれぞれ入力される。
As shown in FIG. 5, the bootstrap
パルス入力部41は、ドレインとゲートがパルス入力端子46に共通に接続されたダイオード接続構成のNチャネルMOSトランジスタQn11によって構成されている。パルス入力部42は、ドレインとゲートがパルス入力端子47に共通に接続されたダイオード接続構成のNチャネルMOSトランジスタQn12によって構成されている。第1の電源供給回路43は、ソースがVSS電源に、ドレインがMOSトランジスタQn11のソースに、ゲートがMOSトランジスタQn12のゲート・ドレインにそれぞれ接続されたNチャネルMOSトランジスタQn13によって構成されている。
The pulse input unit 41 is configured by an N-channel MOS transistor Qn11 having a diode connection configuration in which a drain and a gate are connected to a pulse input terminal 46 in common. The pulse input unit 42 is configured by an N-channel MOS transistor Qn12 having a diode connection configuration in which a drain and a gate are commonly connected to a
第2の電源供給回路44は、4つのNチャネルMOSトランジスタQn14〜Qn17によって構成されている。MOSトランジスタQn14は、ソースがVSS電源に、ゲートがMOSトランジスタQn12のゲート・ドレインにそれぞれ接続されている。MOSトランジスタQn15は、ソースがMOSトランジスタQn14のドレインに、ドレインがVDD電源に、ゲートがMOSトランジスタQn11のゲート・ドレインにそれぞれ接続されている。MOSトランジスタQn16は、ソースがVSS電源に接続され、ゲートとドレインが共通に接続されたダイオード接続構成となっている。MOSトランジスタQn17は、ソースがMOSトランジスタQn16のゲート・ドレインに、ドレインがMOSトランジスタQn12のソースに、ゲートがMOSトランジスタQn14,Qn15の共通接続ノードにそれぞれ接続されている。 The second power supply circuit 44 includes four N channel MOS transistors Qn14 to Qn17. The MOS transistor Qn14 has a source connected to the VSS power supply and a gate connected to the gate and drain of the MOS transistor Qn12. The MOS transistor Qn15 has a source connected to the drain of the MOS transistor Qn14, a drain connected to the VDD power supply, and a gate connected to the gate and drain of the MOS transistor Qn11. The MOS transistor Qn16 has a diode connection configuration in which the source is connected to the VSS power supply and the gate and the drain are connected in common. The source of the MOS transistor Qn17 is connected to the gate / drain of the MOS transistor Qn16, the drain is connected to the source of the MOS transistor Qn12, and the gate is connected to the common connection node of the MOS transistors Qn14 and Qn15.
出力回路45は、ソースがVSS電源に、ドレインがパルス出力端子48に、ゲートがMOSトランジスタQn11のソースにそれぞれ接続されたNチャネルMOSトランジスタQn18と、ソースがパルス出力端子48に、ドレインがVDD電源に、ゲートがMOSトランジスタQn12のソースにそれぞれ接続されたNチャネルMOSトランジスタQn19とによって構成されている。MOSトランジスタQn19は、ゲートとソースの間に接続されたキャパシタCapと共に、ゲート電位をVDD電源の電位よりも引き上げるブートストラップ回路49を構成している。 The output circuit 45 has an N-channel MOS transistor Qn18 whose source is connected to the VSS power supply, its drain connected to the pulse output terminal 48, its gate connected to the source of the MOS transistor Qn11, its source connected to the pulse output terminal 48, and its drain connected to the VDD power supply. In addition, an N channel MOS transistor Qn19 having a gate connected to the source of the MOS transistor Qn12, respectively. The MOS transistor Qn19, together with the capacitor Cap connected between the gate and the source, constitutes a bootstrap circuit 49 that raises the gate potential above the potential of the VDD power supply.
上記構成のブートストラップ型レベル変換回路40において、NチャネルMOSトランジスタQn11〜Qn19は、ポリシリコンプロセスまたはアモルファスシリコンプロセスで形成されたTFTである。NチャネルTFTにもPチャネルTFTと同様に、ボトムゲート構造のものとトップゲート構造のものなどがあり、基本的に同じ構造となっている。すなわち、PチャネルTFTの構造を示す図2および図3において、ソース領域27,36およびドレイン領域28,37のP+ 拡散層をN+ 拡散層にしたものがNチャネルTFTの構造となる。
In the bootstrap type
実施例2に係るブートストラップ型レベル変換回路40は、実施例1に係るブートストラップ型レベル変換回路10とは、図5と図1の対比から明らかなように、MOSトランジスタの導電型および第1,第2電源の極性を逆にしただけの違いであり、基本的には同じ構成となっており、また回路動作および作用効果も基本的に同じである。
The bootstrap type
上述したように、MOSトランジスタQp18/Qn18,Qp19/Qn19が互いに逆相のクロックパルスxCK,CKにそれぞれ同期して相補的な動作を行うとともに、MOSトランジスタQp19/Qn19がブートストラップ動作を行う出力回路15/45を備えたブートストラップ型レベル変換回路10/40において、MOSトランジスタQp18/Qn18がオン状態のときは、第2の電源供給回路14/44によってMOSトランジスタQp19/Qn19のゲートに第1電源(VDD/VSS)の電位を与えることで、当該ゲートの電位を第1電源(VDD/VSS)の電位近くまで、即ちMOSトランジスタQp19/Qn19の閾値電圧Vthを割り込まない電位まで昇圧/降圧でき、またMOSトランジスタQp19/Qn19がオン状態のときは、第1の電源供給回路13/43によってMOSトランジスタQp18/Qn18のゲートに第1電源(VDD/VSS)の電位を与えることで、当該ゲートの電位を第1電源(VDD/VSS)の電位近くまで、即ちMOSトランジスタQp18/Qn18の閾値電圧Vthを割り込まない電位まで昇圧/降圧できる。
As described above, the MOS transistors Qp18 / Qn18, Qp19 / Qn19 perform complementary operations in synchronization with the clock pulses xCK, CK having opposite phases, and the MOS transistors Qp19 / Qn19 perform a bootstrap operation. In the bootstrap type
これにより、MOSトランジスタQp18/Qn18がオン状態のときは、MOSトランジスタQp19/Qn19を完全にオフ状態にさせることができ、またMOSトランジスタQp19/Qn19がオン状態のときは、MOSトランジスタQp18/Qn18を完全にオフ状態にさせることができるため、MOSトランジスタQp18/Qn18,Qp19/Qn19に貫通電流が流れることはない。 As a result, when MOS transistor Qp18 / Qn18 is on, MOS transistor Qp19 / Qn19 can be completely turned off. When MOS transistor Qp19 / Qn19 is on, MOS transistor Qp18 / Qn18 is turned on. Since the transistor can be completely turned off, no through current flows through the MOS transistors Qp18 / Qn18 and Qp19 / Qn19.
ただし、MOSトランジスタQp13/Qn13,Qp14/Qn14,Qp15/Qn15において貫通電流が流れる。しかし、MOSトランジスタQp13/Qn13,Qp14/Qn14,Qp15/Qn15は出力信号OUTに直接関係しないトランジスタであるため、チャネル長を大きくしても出力性能が悪化することはない。したがって、これらMOSトランジスタQp13/Qn13,Qp14/Qn14,Qp15/Qn15に対しては、チャネル長を大きく設定することで貫通電流に対する対策を施すことができる。その結果、回路に流れる貫通電流を最小限に抑えた回路構成を実現できる。 However, a through current flows in the MOS transistors Qp13 / Qn13, Qp14 / Qn14, and Qp15 / Qn15. However, since the MOS transistors Qp13 / Qn13, Qp14 / Qn14, and Qp15 / Qn15 are transistors that are not directly related to the output signal OUT, the output performance is not deteriorated even if the channel length is increased. Therefore, for these MOS transistors Qp13 / Qn13, Qp14 / Qn14, Qp15 / Qn15, a countermeasure against the through current can be taken by setting the channel length large. As a result, a circuit configuration in which the through current flowing in the circuit is minimized can be realized.
このように、ブートストラップ型レベル変換回路10/40において、回路に流れる貫通電流を最小限に抑えた回路構成を採ることにより、貫通電流による電圧降下によって出力信号OUTのレベルが引き下げられるようなことがないため、最大振幅(本例では、−5[V]〜10[V])の出力信号OUTを取り出すことができる。また、出力回路15/45を構成するMOSトランジスタQp18/Qn18,Qp19/Qn19のチャネル幅を大きく設定することができるため、TFTの閾値電圧Vthや移動度μ等のトランジスタ特性のバラツキに強く、最大振幅の出力信号OUTを取り出すことができる。
As described above, in the bootstrap type
[第2実施形態]
本発明の第2実施形態に係るレベル変換回路は、第1実施形態に係るレベル変換回路の構成要素、即ち出力手段および第1,第2の電源供給手段に加えて、出力手段のブートストラップ動作の安定化を図るために、当該出力手段のブートストラップ動作時に、第2のトランジスタのゲート側を第2のパルス信号を伝送する信号経路(信号線)から切り離すスイッチ手段を備えた構成となっている。このスイッチ手段は、第2のトランジスタのゲートと第2のパルス信号を伝送する信号経路との間に接続され、ゲートに第2の電源の電位と異なる電位が与えられるトランジスタによって構成される。
[Second Embodiment]
The level conversion circuit according to the second embodiment of the present invention includes a bootstrap operation of the output means in addition to the components of the level conversion circuit according to the first embodiment, that is, the output means and the first and second power supply means. In order to stabilize the output means, a switch means for separating the gate side of the second transistor from the signal path (signal line) for transmitting the second pulse signal during the bootstrap operation of the output means is provided. Yes. This switch means is constituted by a transistor which is connected between the gate of the second transistor and a signal path for transmitting the second pulse signal and to which a potential different from the potential of the second power supply is applied to the gate.
(実施例1)
図6は、第2実施形態の実施例1に係るレベル変換回路の構成を示す回路図であり、図中、図1と同等部分には同一符号を付して示している。
(Example 1)
FIG. 6 is a circuit diagram showing the configuration of the level conversion circuit according to Example 1 of the second embodiment. In FIG. 6, the same parts as those in FIG.
図6に示すように、本実施例に係るレベル変換回路50は、パルス入力部11,12、第1,第2の電源供給回路13,14および出力回路15に加えて、ブートストラップ回路19のブートストラップ動作の安定化を図るために、MOSトランジスタQp19のゲートと、クロックパルスCKを伝送する信号経路51との間に接続されたPチャネルMOSトランジスタQp20を有する構成となっている。このMOSトランジスタQp20のゲートには、第2電源の電位と異なる電位、具体的にはVSS電位(−5[V])よりも高い電位(例えば、0[V])が与えられる。このVSS電位よりも高い電位は、MOSトランジスタQp15のドレインにも与えられる。
As shown in FIG. 6, the
図7に、互いに逆相のクロックパルスCK,xCK、MOSトランジスタQp18のゲート電位A、MOSトランジスタQp17のゲート電位B、信号経路51の電位C、MOSトランジスタQp19のゲート電位Dおよび出力信号OUTの各波形およびタイミング関係を示す。 FIG. 7 shows clock pulses CK and xCK having opposite phases, gate potential A of MOS transistor Qp18, gate potential B of MOS transistor Qp17, potential C of signal path 51, gate potential D of MOS transistor Qp19, and output signal OUT. Waveform and timing relationships are shown.
上記構成の実施例1に係るブートストラップ型レベル変換回路50において、MOSトランジスタQp20は、ブートストラップ動作時に、ブートストラップによってゲート電位DがVSS1電位よりも下がると、オフ状態になってブートストラップ動作を行う回路部分、主にMOSトランジスタQp19のゲート側を信号経路51から回路的に切り離す。これにより、信号経路51の配線につく寄生容量のブートストラップ動作への影響を最小限に抑えることができるため、ブートストラップ動作の信頼性を向上できる。
In the bootstrap type
ここで、MOSトランジスタQp20のゲートに、VSS電位(−5[V])よりも高い電位(例えば、0[V])を与えるようにしているのは、ブートストラップによってMOSトランジスタQp19のゲート電位DがVSS1電位よりも下がったときに、MOSトランジスタQp20を完全にオフ状態にするためである。ただし、この電位の上限については、ブートストラップ動作状態以外ではMOSトランジスタQp20を常時オン状態にすることができる電位、具体的にはクロックパルスCKのLow電位(0[V])となる。 Here, the gate potential D of the MOS transistor Qp19 is applied to the gate of the MOS transistor Qp20 by bootstrap so that a potential (for example, 0 [V]) higher than the VSS potential (−5 [V]) is applied. This is because the MOS transistor Qp20 is completely turned off when the voltage drops below the VSS1 potential. However, the upper limit of this potential is a potential at which the MOS transistor Qp20 can always be turned on except the bootstrap operation state, specifically, the low potential (0 [V]) of the clock pulse CK.
(実施例2)
図8は、第2実施形態の実施例2に係るレベル変換回路の構成を示す回路図であり、図中、図1と同等部分には同一符号を付して示している。
(Example 2)
FIG. 8 is a circuit diagram showing the configuration of the level conversion circuit according to Example 2 of the second embodiment. In the figure, parts equivalent to those in FIG.
図8に示すように、本実施例に係るレベル変換回路60は、パルス入力部41,42、第1,第2の電源供給回路43,44および出力回路45に加えて、ブートストラップ回路49のブートストラップ動作の安定化を図るために、MOSトランジスタQn19のゲートと、クロックパルスCKを伝送する信号経路61との間に接続されたNチャネルMOSトランジスタQn20を有する構成となっている。このMOSトランジスタQn20のゲートには、第2電源の電位と異なる電位、具体的にはVDD電位(10[V])よりも低い電位(クロックパルスCKのHigh電位(3[V]))が与えられる。このVDD電位よりも低い電位は、MOSトランジスタQn15のドレインにも与えられる。 As shown in FIG. 8, the level conversion circuit 60 according to this embodiment includes a bootstrap circuit 49 in addition to the pulse input units 41 and 42, the first and second power supply circuits 43 and 44, and the output circuit 45. In order to stabilize the bootstrap operation, an N-channel MOS transistor Qn20 is connected between the gate of the MOS transistor Qn19 and the signal path 61 for transmitting the clock pulse CK. A potential different from the potential of the second power source, specifically, a potential lower than the VDD potential (10 [V]) (High potential (3 [V]) of the clock pulse CK) is applied to the gate of the MOS transistor Qn20. It is done. A potential lower than the VDD potential is also applied to the drain of the MOS transistor Qn15.
上記構成の実施例2に係るブートストラップ型レベル変換回路60は、実施例1に係るブートストラップ型レベル変換回路50とは、図8と図6の対比から明らかなように、MOSトランジスタの導電型および第1,第2電源の極性を逆にしただけの違いであり、基本的には同じ構成となっており、また回路動作および作用効果も基本的に同じである。
The bootstrap type level conversion circuit 60 according to the second embodiment having the above configuration is different from the bootstrap type
上述したように、MOSトランジスタQp18/Qn18,Qp19/Qn19が互いに逆相のクロックパルスxCK,CKにそれぞれ同期して相補的な動作を行うとともに、MOSトランジスタQp19/Qn19がブートストラップ動作を行う出力回路15/45を備えたブートストラップ型レベル変換回路50/60において、パルス入力部11/41,12/42、第1,第2の電源供給回路13/43,14/44および出力回路15/45に加えて、MOSトランジスタQp19/Qn19のゲートと、クロックパルスCKを伝送する信号経路51/61との間にMOSトランジスタQp20/Qn20を接続し、当該MOSトランジスタQp20/Qn20をブートストラップ動作時にオフ状態にすることにより、信号経路51の配線につく寄生容量のブートストラップ動作への影響を最小限に抑えることができるため、実施例1の場合の作用効果に加えて、ブートストラップ回路19/49のブートストラップ動作の安定化を図ることができる。
As described above, the MOS transistors Qp18 / Qn18, Qp19 / Qn19 perform complementary operations in synchronization with the clock pulses xCK, CK having opposite phases, and the MOS transistors Qp19 / Qn19 perform a bootstrap operation. In the bootstrap type
[適用例]
以上説明した本実施形態に係るブートストラップ型レベル変換回路は、例えば、液晶表示装置やEL(electroluminescence) あるいはLED(Light Emitting Diode)表示装置に代表されるパネル型表示装置において、その駆動回路の一部として用いることができる。ただし、この適用例は一例に過ぎず、本発明によるレベル変換回路はこの適用例に限られるものではなく、一般的なレベル変換回路として広く用いることができる。
[Application example]
The bootstrap type level conversion circuit according to the present embodiment described above is an example of a drive circuit in a panel type display device represented by a liquid crystal display device, an EL (electroluminescence) display, or an LED (Light Emitting Diode) display device. It can be used as a part. However, this application example is only an example, and the level conversion circuit according to the present invention is not limited to this application example, and can be widely used as a general level conversion circuit.
図9は、本発明の適用例に係る例えばアクティブマトリクス型液晶表示装置の構成の概略を示すブロック図である。 FIG. 9 is a block diagram showing an outline of a configuration of, for example, an active matrix liquid crystal display device according to an application example of the present invention.
図9に示すように、本発明の適用例に係るアクティブマトリクス型液晶表示装置は、画素71が行列状に多数配置されてなる画素アレイ部72と、この画素アレイ部72の各画素71を行単位で順次選択する垂直駆動回路73と、この垂直駆動回路73によって選択された行の各画素に映像信号を書き込む水平駆動回路74とを少なくとも有する構成となっている。垂直駆動回路73および水平駆動回路74は、画素アレイ部72と共に表示パネル75上に集積されて当該画素アレイ部72を駆動する駆動回路を構成している。
As shown in FIG. 9, an active matrix liquid crystal display device according to an application example of the present invention includes a
表示パネル75には、垂直スタートパルスVST、垂直クロックパルスVCK,xVCKおよび水平スタートパルスHST、水平クロックパルスHCK,xHCKがパネル外部から入力される。垂直スタートパルスVSTおよび水平スタートパルスHSTは、レベルシフト(L/S)回路群76およびインバータ回路群77を経た後、垂直駆動回路73および水平駆動回路74に与えられる。垂直クロックパルスVCK,xVCKおよび水平クロックパルスHCK,xHCKは、レベルシフト回路群76およびインバータ回路群77を経た後、バッファ回路78,79およびバッファ回路80,81を介して直接垂直駆動回路73および水平駆動回路74に与えられる。
A vertical start pulse VST, vertical clock pulses VCK and xVCK, a horizontal start pulse HST, and horizontal clock pulses HCK and xHCK are input to the display panel 75 from the outside of the panel. The vertical start pulse VST and the horizontal start pulse HST are supplied to the
レベルシフト回路群76は、低電圧振幅の垂直スタートパルスVST、垂直クロックパルスVCK,xVCKおよび水平スタートパルスHST、水平クロックパルスHCK,xHCKの各々を、高電圧振幅のパルス信号にレベルシフト(レベル変換)する。このレベルシフト回路群76、インバータ回路群77およびバッファ回路78〜81も、垂直駆動回路73および水平駆動回路74と共に、画素アレイ部72を駆動する駆動回路を構成している。
The level
なお、本例では、垂直スタートパルスVST、垂直クロックパルスVCK,xVCKおよび水平スタートパルスHST、水平クロックパルスHCK,xHCKを表示パネル75の外部から入力する構成としているが、これらの各種のタイミングパルスを生成するタイミングジェネレータを表示パネル75上に集積し、垂直スタートパルスVSTおよび水平スタートパルスHSTについては当該タイミングジェネレータから垂直駆動回路73および水平駆動回路74に直接に与え、垂直クロックパルスVCK,xVCKおよび水平クロックパルスHCK,xHCKについてはバッファ回路78〜81を介して垂直駆動回路73および水平駆動回路74に与える構成を採ることも可能である。
In this example, the vertical start pulse VST, the vertical clock pulses VCK, xVCK, the horizontal start pulse HST, and the horizontal clock pulses HCK, xHCK are input from the outside of the display panel 75, but these various timing pulses are used. The timing generator to be generated is integrated on the display panel 75, and the vertical start pulse VST and the horizontal start pulse HST are directly supplied from the timing generator to the
表示パネル75は、画素アレイ部72において、2枚の透明な絶縁性基板(例えば、ガラス基板)の一方の基板に、画素アレイ部72の行数m分の走査線82(82−1〜82−m)と列数n分の信号線83(83−1〜83−n)とがマトリクス状に配線されるとともに、所定の間隙をもって対向配置された他方の基板との間に液晶層が保持され、例えばその裏面側にバックライトが配置された構造となっている。そして、走査線82と信号線83との交点部分に画素71が配されることになる。
In the
画素71は、図9から明らかなように、ゲートが走査線82に接続され、ソースが信号線83に接続された薄膜トランジスタからなる画素トランジスタTFTと、この画素トランジスタTFTのドレインに画素電極が接続された液晶セルLCと、画素トランジスタTFTのドレインに一方の電極が接続された保持容量CSとを有す構成となっている。ここでは、液晶セルLCは、画素トランジスタTFTで形成される画素電極とこれに対向して形成される対向電極との間で発生する容量を意味する。液晶セルLCの対向電極は、例えば保持容量CSの他方の電極と共にコモン線84に接続されている。 As apparent from FIG. 9, the pixel 71 has a pixel transistor TFT composed of a thin film transistor having a gate connected to the scanning line 82 and a source connected to the signal line 83, and a pixel electrode connected to the drain of the pixel transistor TFT. The liquid crystal cell LC and the storage capacitor CS having one electrode connected to the drain of the pixel transistor TFT are provided. Here, the liquid crystal cell LC means a capacitance generated between a pixel electrode formed by the pixel transistor TFT and a counter electrode formed facing the pixel electrode. The counter electrode of the liquid crystal cell LC is connected to the common line 84 together with the other electrode of the storage capacitor CS, for example.
垂直駆動回路73は、シフトレジスタなどによって構成され、垂直スタートパルスVSTが与えられると、当該垂直スタートパルスVSTを垂直クロックパルスVCKに同期して順次シフトし、画素アレイ部72の各画素71を行単位で順次選択するための垂直走査パルスφV1〜φVmを各段から出力する。水平駆動回路74も、少なくともシフトレジスタを有する構成となっている。この水平駆動回路74において、シフトレジスタは水平スタートパルスHSTが与えられると、当該水平スタートパルスHSTを水平クロックパルスHCKに同期して順次シフトし、各段から順次サンプリングパルスを出力する。そして、水平駆動回路74では、このサンプリングパルスを用いて表示パネル75の外部から供給される映像信号をサンプリングし、垂直駆動回路73によって選択された行の各画素71に対して点順次で、あるいは線順次で書き込む動作が行われる。
The
上記構成の液晶表示装置において、例えば、表示パネル75の外部から入力される低電圧振幅(本例では、0[V]〜3[V])の垂直スタートパルスVST、垂直クロックパルスVCK,xVCKおよび水平スタートパルスHST、水平クロックパルスHCK,xHCKの各々を、高電圧振幅(本例では、−5[V]〜10[V])のパルス信号にレベルシフト(レベル変換)するレベルシフト回路群76の各レベルシフト回路として、先述した第1,第2実施形態に係るブートストラップ型レベル変換回路が用いられる。
In the liquid crystal display device having the above configuration, for example, a vertical start pulse VST, vertical clock pulses VCK, xVCK having a low voltage amplitude (in this example, 0 [V] to 3 [V]) input from the outside of the display panel 75, and A level
第1,第2実施形態に係るブートストラップ型レベル変換回路は、先述したように、最大振幅(本例では、−5[V]〜10[V])のパルス信号にレベルシフトできるとともに、回路に流れる貫通電流を最小限に抑えることができる低消費電力のレベル変換回路である。したがって、第1,第2実施形態に係るブートストラップ型レベル変換回路を、レベルシフト回路群76の各レベルシフト回路として用いることにより、駆動回路での確実な動作を実現できるため、本液晶表示装置の信頼性を向上でき、また駆動回路での消費電力を抑えることができるため、本液晶表示装置の低消費電力化を図ることができる。
As described above, the bootstrap type level conversion circuit according to the first and second embodiments can shift the level to a pulse signal having the maximum amplitude (in this example, −5 [V] to 10 [V]), and the circuit. This is a low power consumption level conversion circuit capable of minimizing the through current flowing in the circuit. Accordingly, since the bootstrap type level conversion circuit according to the first and second embodiments can be used as each level shift circuit of the level
なお、本適用例では、本実施形態に係るブートストラップ型レベルシフト回路を、レベルシフト回路群76の各レベルシフト回路として用いる場合を例に挙げて説明したが、この適用例は一例に過ぎず、表示パネル75上に画素アレイ部72と共に集積される駆動回路がその一部にレベル変換回路(レベルシフト回路)を含む場合に、当該レベル変換回路として用いることが可能である。
In this application example, the case where the bootstrap type level shift circuit according to this embodiment is used as each level shift circuit of the level
また、本適用例では、画素71の表示エレメントとして液晶セルを用いた液晶表示装置に適用した場合を例に挙げて説明したが、この適用例に限られるものではなく、画素71の表示エレメントとして例えばEL素子を用いたEL表示装置など、他のアクティブマトリクス型表示装置にも同様に適用可能である。 In this application example, the case where the present invention is applied to a liquid crystal display device using a liquid crystal cell as a display element of the pixel 71 has been described as an example. However, the present invention is not limited to this application example. For example, the present invention can be similarly applied to other active matrix display devices such as an EL display device using EL elements.
先述した実施形態に係るバッファ回路を駆動回路の一部として用いた液晶表示装置に代表される表示装置は、携帯電話、PDA(Personal Digital Assistants)、ノートPC(Personal Computer)などの画面表示部として搭載して用いることができる。 A display device typified by a liquid crystal display device using the buffer circuit according to the above-described embodiment as a part of a drive circuit is used as a screen display unit of a mobile phone, a PDA (Personal Digital Assistants), a notebook PC (Personal Computer), etc. It can be mounted and used.
10,40,50,60…ブートストラップ型レベル変換回路、11,12,41,42…パルス入力部、13,43…第1の電源供給回路、14,44…第2の電源供給回路、15,45…出力回路、19,49…ブートストラップ回路、51,61…信号経路、71…画素、72…画素アレイ部、73…垂直駆動回路、74…水平駆動回路、75…表示パネル、76…レベルシフト回路群
10, 40, 50, 60... Bootstrap type level conversion circuit, 11, 12, 41, 42... Pulse input section, 13, 43... First power supply circuit, 14, 44. 45,
Claims (10)
ソースが第1電源に接続され、ゲートに前記第1のパルス信号が与えられる第1のトランジスタと、ソースが前記第1のトランジスタのドレインに、ドレインが第2の電源にそれぞれ接続され、ゲートに前記第2のパルス信号が与えられる第2のトランジスタとを有し、当該第2のトランジスタがブートストラップ動作を行う出力手段と、
前記第2のパルス信号に同期して前記第1のトランジスタのゲートに前記第1の電源の電位を供給する第1の電源供給手段と、
前記第1のパルス信号に同期して前記第2のトランジスタのゲートに前記第1の電源の電位を供給する第2の電源供給手段と
を備えたことを特徴とするレベル変換回路。 A level conversion circuit configured by a single-channel transistor on an insulating substrate and performing level conversion of first and second pulse signals having opposite phases to each other;
A first transistor having a source connected to a first power supply and a gate receiving the first pulse signal; a source connected to a drain of the first transistor; a drain connected to a second power supply; A second transistor to which the second pulse signal is applied, and the second transistor performs a bootstrap operation;
First power supply means for supplying a potential of the first power supply to the gate of the first transistor in synchronization with the second pulse signal;
And a second power supply means for supplying a potential of the first power supply to the gate of the second transistor in synchronization with the first pulse signal.
ことを特徴とする請求項1記載のレベル変換回路。 2. The level conversion circuit according to claim 1, wherein the transistors constituting the output means and the first and second power supply means are thin film transistors.
ことを特徴とする請求項1記載のレベル変換回路。 2. The level conversion circuit according to claim 1, wherein the second power supply means shifts the potential of the first power supply by a predetermined level and supplies it to the gate of the second transistor. 3.
ことを特徴とする請求項1記載のレベル変換回路。 2. The level conversion circuit according to claim 1, further comprising a switch unit that disconnects the gate side of the second transistor from a signal path for transmitting the second pulse signal during the bootstrap operation of the output unit. .
ことを特徴とする請求項4記載のレベル変換回路。 The switch means is connected between the gate of the second transistor and the signal path, and a potential different from the potential of the second power supply is applied to the gate, and the second transistor has a potential different from that of the second transistor during the bootstrap operation. The level conversion circuit according to claim 4, comprising a transistor that is turned off when the gate potential fluctuates.
前記絶縁性基板上に前記画素アレイ部と共に集積され、互いに逆相の第1,第2のパルス信号のレベル変換を行うレベル変換回路を回路の一部に含んで前記画素アレイ部の駆動を行う駆動回路とを具備した表示装置であって、
前記レベル変換回路は、前記絶縁性基板上に単一チャネルのトランジスタによって構成されてなり、
ソースが第1電源に接続され、ゲートに前記第1のパルス信号が与えられる第1のトランジスタと、ソースが前記第1のトランジスタのドレインに、ドレインが第2の電源にそれぞれ接続され、ゲートに前記第2のパルス信号が与えられる第2のトランジスタとを有し、当該第2のトランジスタがブートストラップ動作を行う出力手段と、
前記第2のパルス信号に同期して前記第1のトランジスタのゲートに前記第1の電源の電位を供給する第1の電源供給手段と、
前記第1のパルス信号に同期して前記第2のトランジスタのゲートに前記第1の電源の電位を供給する第2の電源供給手段とを備えた
ことを特徴とする表示装置。 A pixel array unit in which pixels including display elements are arranged in a matrix on a transparent insulating substrate;
The pixel array unit is driven by including a level conversion circuit integrated with the pixel array unit on the insulating substrate and performing level conversion of the first and second pulse signals having opposite phases to each other. A display device comprising a drive circuit,
The level conversion circuit is constituted by a single channel transistor on the insulating substrate,
A first transistor having a source connected to a first power supply and a gate receiving the first pulse signal; a source connected to a drain of the first transistor; a drain connected to a second power supply; A second transistor to which the second pulse signal is applied, and the second transistor performs a bootstrap operation;
First power supply means for supplying a potential of the first power supply to the gate of the first transistor in synchronization with the second pulse signal;
And a second power supply means for supplying a potential of the first power supply to the gate of the second transistor in synchronization with the first pulse signal.
ことを特徴とする請求項6記載の表示装置。 The display device according to claim 6, wherein transistors constituting the output unit and the first and second power supply units are thin film transistors.
ことを特徴とする請求項6記載の表示装置。 The display device according to claim 6, wherein the second power supply means shifts the potential of the first power supply by a predetermined level and supplies it to the gate of the second transistor.
ことを特徴とする請求項6記載の表示装置。 The display device according to claim 6, further comprising a switch unit that disconnects the gate side of the second transistor from a signal path for transmitting the second pulse signal during the bootstrap operation of the output unit.
ことを特徴とする請求項9記載の表示装置。
The switch means is connected between the gate of the second transistor and the signal path, and a potential different from the potential of the second power supply is applied to the gate, and the second transistor has a potential different from that of the second transistor during the bootstrap operation. The display device according to claim 9, comprising a transistor that is turned off when a gate potential fluctuates.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003356320A JP4232599B2 (en) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | Level conversion circuit and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003356320A JP4232599B2 (en) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | Level conversion circuit and display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005123864A true JP2005123864A (en) | 2005-05-12 |
JP4232599B2 JP4232599B2 (en) | 2009-03-04 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003356320A Expired - Fee Related JP4232599B2 (en) | 2003-10-16 | 2003-10-16 | Level conversion circuit and display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4232599B2 (en) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
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---|---|
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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