JP2005123545A - セラミック基板の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 キャビティ等の凹部を有するセラミック配線基板の積層工程での変形を抑制して、寸法精度が高いセラミック基板を得る。
【解決手段】 凹部の底面にコート層無機組成物4が塗布されたセラミック・グリーンシート積層体1を所定の硬度および厚みのゴムシートを用いたラバープレスにより作製し、積層体1の両面に拘束グリーンシート3,3’を積層し、焼成して拘束シートを保持し凹部の底面にコート層で被覆されたセラミック基板を作製し、拘束シートおよびコート層を除去する工程を含み、拘束グリーンシート3,3’のガラス含有量が、焼成時にセラミック・グリーンシートと結合しかつ積層面内で実質的に収縮させない量であり、コート層無機組成物4のガラス含有量が、焼成時にコート層無機組成物4をセラミック・グリーンシートと結合させ、かつ焼成後にコート層が拘束シートと共に除去される量である。
【選択図】 図2

Description

本発明は、半導体LSI,チップ部品等を搭載し、それらを相互配線するためのセラミック基板の製造方法に関する。
近年、半導体LSI,チップ部品等は小型化,軽量化が進んでおり、これらを実装する配線基板も小型化,軽量化が望まれている。このような要求に対して、基板内に内部電極等を配した多層セラミック基板は、要求される高密度配線が可能となり、かつ薄型化が可能なことから、今日のエレクトロニクス業界において重要視されている。
多層セラミック基板としては、アルミナ質焼結体から成る絶縁基板の表面または内部にタングステン,モリブデン等の高融点金属から成る配線層が形成されたものが従来より広く用いられている。
一方、近年の高度情報化時代を迎え、使用される周波数帯域はますます高周波帯に移行しつつある。このような高周波の信号の伝送を行なう高周波配線基板においては、高周波信号を高速で伝送する上で、配線層を形成する導体の抵抗が小さいことが要求され、絶縁基板にもより低い誘電率が要求される。
このため、最近では、ガラスとセラミックス(無機質フィラー)との混合物を焼成して得られるガラスセラミックスを絶縁基板として用いることが注目されている。すなわち、ガラスセラミックスは誘電率が低いため高周波用絶縁基板として好適であり、また、ガラスセラミックスは800〜1000℃の低温で焼成することができることから、銅,銀,金等の低抵抗金属を配線層として使用できるという利点がある。
絶縁基板にガラスセラミックスを用いた多層セラミック基板は、例えば、ガラスとフィラーとの混合物に有機バインダ,可塑剤,溶剤等を加えてスラリーとし、ドクターブレード等によりセラミック・グリーンシートを成形した後、銅,銀,金等の低抵抗金属の粉末を含有する導体ペーストを印刷するなどして前記グリーンシート上に導体パターンを形成し、次いで複数枚のグリーンシートを積層して、800〜1000℃の温度で焼成して得られる。
ところが、この多層セラミック基板は、焼成過程において焼結に伴う収縮を生じるという問題がある。このような収縮の程度は一様ではなく、使用する基板用無機材料,グリーンシート組成,原料である粉体の粒度のバラツキ,導体パターン,内部電極材料等により収縮率や収縮方向が異なってくる。このことは、多層セラミック基板の作製において、いくつかの問題をひき起こす。
先ず、内部電極印刷用のスクリーン版を作製する際、基板の収縮率から逆算してスクリーン版の大きさを決定しなければならないが、上記のように基板の収縮率や収縮方向は一定でないため、スクリーン版は基板の製造ロット毎に作り直さなければならず不経済であり現実的ではない。さらに、上記のようなグリーンシート積層法によって作製される多層セラミック基板では、グリーンシートの造膜方向によって積層面内の縦方向と横方向の収縮率が異なるため、多層セラミック基板の作製がより一層困難なものになる。
これに対して、収縮誤差を許容するように必要以上に大きい面積の電極を形成する場合には、高密度な配線ができなくなるという問題がある。
これらの収縮変化を小さくするためには、回路設計による基板の収縮率の傾向を調べたり、製造工程において基板材料およびグリーンシート組成,粉体の粒度のバラツキ,プレス圧や温度等の積層条件を充分管理する必要がある。しかし、それでも一般に収縮率の誤差として±0.5%程度はどうしても発生するといわれている。
このことは多層セラミック基板にかかわらずセラミックスやガラスセラミックス等の焼結を伴うものに共通する課題である。このような課題を解決するために、特開平4−243978号公報、特開平5−28867号公報、特開平5−102666号公報では、以下の(1)〜(4)の工程を含む基板の製造方法が提案されている。
(1)セラミック成分とバインダ,可塑剤等の有機成分とを含むセラミック・グリーンシートに導体パターンを形成したものを所望枚数積層し、
(2)得られたセラミック・グリーンシートの積層体の両面または片面に、前記セラミック成分の焼成温度では焼結しない無機材料とバインダ,可塑剤等の有機成分とを含む拘束グリーンシートを積層し、
(3)これらセラミック・グリーンシートの積層体と拘束グリーンシートとの積層体を加熱して、まず有機成分を除去し、次いで焼成して、それぞれセラミック基板および拘束シートとなし、
(4)最後に、セラミック基板から拘束シートを除去する。
この方法によれば、前記拘束グリーンシートがセラミック・グリーンシートの焼成時の収縮を拘束するため、積層体の厚さ方向のみに収縮が起こり、積層面の縦・横方向には収縮が起こらなくなり、セラミック基板の寸法精度が向上すると考えられている。
また、グリーンシートの積層方法には、一軸プレス法でのグリーンシート積層体の寸法変化を抑制するために、グリーンシート積層体をフィルムで真空パックした後に水等の圧力媒体を用いて等方加圧する静水圧プレス法や、圧力媒体をラバー内に充填してラバーを介して等方加圧するラバープレス法が採用されている。
特開平4−243978号公報 特開平5−28867号公報 特開平5−102666号公報
上記の(1)〜(4)の工程を含む方法では、セラミック・グリーンシートと拘束グリーンシートとの結合は、それらのグリーンシート内に含有されているバインダ等の有機成分により行なわれる。しかし、(3)の焼成工程において、バインダ,可塑剤等の有機成分が分解し揮散した後は、拘束グリーンシート中の粉体とセラミック・グリーンシート中の粉体とが単に密着して接触しているだけであり、それらのシート間にはファンデルワールス力による弱い結合が働いているだけである。
このような弱い結合は、(4)の工程における拘束シートの除去が簡単になるという利点があるものの、(3)の焼成工程でセラミック・グリーンシート積層体から拘束グリーンシートがそれらの熱膨張差等により不用意に剥離するおそれがある。
焼成途中で拘束グリーンシートが剥離すると、セラミック・グリーンシートの焼結収縮を防止できなくなる。また、拘束グリーンシートの剥離がたとえ一部であっても、当該部分において収縮が起こるためセラミック基板の変形が発生することになる。
また、セラミック・グリーンシート積層体と拘束グリーンシートとは結合力が小さいため、焼成前のそれらの密着状態や、セラミック成分の種類によるセラミック・グリーンシート中のガラス成分の拘束グリーンシート内への浸透性によってはそれらの結合力にムラが生じやすい。結合力にムラがあると、セラミックスの焼結収縮を拘束する力にムラができ、収縮ムラが起こり、セラミック基板の反り、変形等が発生することになる。その結果、寸法精度の高い基板が得られないという問題がある。
さらに、キャビティ等の凹部を有するセラミック基板においては、セラミック・グリーンシート積層体を作製する際に、静水圧プレス法に必要な真空パック等の工程が煩雑になりやすく、圧力媒体が真空パック中に浸入してセラミック・グリーンシート積層体を汚染することがある。また、ラバープレス法では、キャビティ等の凹部にラバーが追従しないため、完全に等方加圧できないという問題点がある。
さらに、キャビティ等の凹部は拘束グリーンシートが積層されていないため、拘束グリーンシートが積層された部分との収縮差によって、凹部の底面が変形したりクラックが生じたりするという問題点がある。
本発明の目的は、セラミック・グリーンシートの積層面内での焼結収縮を確実に拘束して、しかもキャビティ等の凹部に変形やクラックのない、寸法精度の高いセラミック基板を得る方法を提供することである。
本発明者は上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、(I)セラミック・グリーンシート積層体を作製する際に、その上面の全面に所定の硬度および厚みのゴムシートを接触させて配置してラバープレスすると、凹部の底面まで良好に等方加圧することができ、凹部の変形を防止できること、(II)拘束グリーンシート内にガラス成分を含有させておくと、該ガラス成分が焼成過程でセラミック・グリーンシートと拘束グリーンシートとを結合する結合材として作用するため、それらの間の結合力が高まり、拘束グリーンシートが剥離するのを防止できること、(III)焼成時における拘束グリーンシート自体の焼結収縮はガラスの含有量を所定範囲内に設定することにより実質的に回避できること、その結果、(IV)拘束グリーンシートによりセラミック・グリーンシート積層体の収縮が確実に抑えられ、寸法精度の高いセラミック基板を得ることができること、さらに(V)キャビティ等の凹部の底面上にコート層無機組成物を塗布することによって、凹部も良好に拘束することができ、凹部を有するセラミック基板においても寸法精度の高いセラミック基板を得ることができるという新たな事実を見出し、本発明を完成するに到った。
すなわち、本発明のセラミック基板の製造方法は、表面に導体パターンが形成されたセラミック・グリーンシート、および凹部を形成するための貫通穴が形成された前記セラミック・グリーンシートの複数枚を積層して、上面に凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体を作製し、しかる後、このセラミック・グリーンシート積層体を焼成するセラミック基板の製造方法において、前記凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体を作製する際に、その上面の全面に硬度が30〜50度で厚みが前記凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスすることを特徴とするものである。
また、本発明のセラミック基板の製造方法は、(i)有機バインダを含有し表面に導体パターンが形成されたセラミック・グリーンシート、および凹部を形成するための貫通穴が形成された前記セラミック・グリーンシート、ならびに難焼結性無機材料とガラスと有機バインダとを含むコート層無機組成物を塗布した前記セラミック・グリーンシートの複数枚を積層して、上面に凹部を有するとともにこの凹部の底面に前記コート層無機組成物が塗布されたセラミック・グリーンシート積層体を作製する工程と、
(ii)前記セラミック・グリーンシート積層体の前記上面に難焼結性無機材料とガラスと有機バインダとを含む前記貫通穴と同じ形状の貫通穴を形成した拘束グリーンシートを、下面に貫通穴を形成していない拘束グリーンシートをそれぞれ積層するとともに、その上面に硬度が30〜50度で厚みが前記凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスする工程と、
(iii)前記拘束グリーンシートとセラミック・グリーンシート積層体との積層体から有機成分を除去し、次いで焼成して、拘束シートを保持するとともに凹部の底面がコート層で被覆されたセラミック基板を作製する工程と、
(iv)前記セラミック基板から前記拘束シートおよび前記コート層を除去する工程とを含み、
(v)前記拘束グリーンシートのガラス含有量が、前記焼成時に拘束グリーンシートを前記セラミック・グリーンシートと結合させ、かつ拘束グリーンシートをその積層面内で実質的に収縮させない量であり、
(vi)前記コート層無機組成物のガラス含有量が、前記焼成時にコート層無機組成物を前記セラミック・グリーンシートと結合させ、かつ前記焼成後に前記コート層が前記拘束シートと共に前記セラミック基板から除去される量であることを特徴とするものである。
ここで、「実質的に収縮させない」とは、拘束グリーンシートの収縮が1%以下、好ましくは0.8%以下、より好ましくは0.5%以下に抑制されていることを意味する。また、「積層面内」とは、三次元座標において厚さ方向をZ方向としたときのX方向およびY方向によって規定される面内をいい、具体的にはシートの縦方向およびこれに直交する方向である横方向によって規定される面内を意味する。
本発明において、拘束グリーンシートおよびコート層無機組成物中に含有されるガラスの軟化点は、セラミック・グリーンシート積層体の焼成温度以下であるのがよい。これにより、焼成工程で拘束グリーンシートおよびコート層無機組成物中のガラスが軟化し、結合力が高まる。
また、拘束グリーンシートおよびコート層無機組成物中に含有されるガラスの軟化点は、有機成分の除去温度よりも高いのがよい。ガラスの軟化点が有機成分の除去温度よりも低い場合には、分解・揮散した有機成分が通過するための除去経路が軟化したガラスによって閉塞されてしまうおそれがある。
拘束グリーンシートのガラス含有量は、拘束グリーンシートの全無機成分の0.5〜15質量%であるのがよい。通常は、この範囲が焼成時にセラミック・グリーンシートと結合しかつ拘束グリーンシートをその積層面内で実質的に収縮させない量となるが、必ずしもこの範囲に制限されるものではなく、使用するガラスの種類等によってガラス含有量は変化する。
キャビティ等の凹部の底面に塗布するコート層無機組成物中のガラス含有量は、コート層無機組成物中の0.5〜20質量%であるのがよい。通常は、この範囲が焼成時にコート層無機組成物がセラミック・グリーンシートと結合しかつ焼成後にコート層が拘束シートと共にセラミック基板から除去される量となる。0.5質量%より少ない場合には、焼成時にコート層無機組成物がセラミック・グリーンシートと充分に結合しにくくなる傾向があり、ガラスの拡散が不十分となる。20質量%より多い場合は、焼成後にコート層無機組成物がセラミック基板と強固に反応するため、除去が困難になる傾向がある。なお、使用するガラスの種類等によってガラス含有量は変化するが、0.5〜20質量%程度がよい。
本発明によれば、セラミック基板がキャビティ等の凹部を有した場合であっても、セラミック・グリーンシート積層体の上面に硬度が30〜50度で厚みが凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスすることにより、凹部の底面までゴムシートが追従して等方加圧することになるので、凹部の変形を良好に抑制して、焼成後における凹部の変形やクラックをほとんどなくすことができる。
また、本発明によれば、セラミック基板がキャビティ等の凹部を有した場合であっても、コート層無機組成物を凹部の上面に塗布したセラミック・グリーンシートの複数枚を積層して、凹部を有するとともにこの凹部の底面にコート層無機組成物が塗布されたセラミック・グリーンシート積層体を作製し、後に拘束グリーンシートが積層されてセラミック・グリーンシート積層体の収縮を拘束することになるので、焼成後における凹部の変形やクラックをほとんどなくすことができ、凹部を有するセラミック基板についても寸法精度の高いものを得ることができる。
また、本発明によれば、コート層無機組成物は、セラミック・グリーンシート積層体の前記凹部の内側面から全周にわたって0.01〜0.2mmの間隔を空けて塗布することで、コート層無機組成物とセラミック・グリーンシート積層体の凹部の内側面との間隔が0.01mm未満と狭い場合に生じるセラミック・グリーンシート積層体の凹部の横方向への変形の発生を防ぐことができ、さらに、コート層無機組成物とセラミック・グリーンシート積層体の凹部の内側面との間隔が0.2mmを超えて広い場合に生じる縦方向へのクラックの発生を防ぐことができる。
また、本発明によれば、前記セラミック・グリーンシート積層体は、最表層の前記セラミック・グリーンシートの降伏点強度と降伏点伸度が最表層以外の前記セラミック・グリーンシートよりも高く、最表層の前記セラミック・グリーンシートの前記降伏点強度が4〜10N/mmであり最表層の前記セラミック・グリーンシートの前記降伏点伸度が10〜20%であることから、セラミック・グリーンシート同士の密着性を劣化させることなく、セラミック・グリーンシート積層体を熱圧着するときに生じるセラミック・グリーンシートの伸びや変形を抑制することができる。
本発明によれば、セラミック・グリーンシート積層体の両面に、この積層体と結合しかつ焼成時に実質的に収縮しない拘束グリーンシートを積層して焼成するので、セラミック・グリーンシート基板の積層面内の収縮を確実に抑えることができ、しかも、所定の硬度および厚みのゴムシートを介してラバープレスをしていることから、凹部の変形を抑制した良好な等方加圧を行なうことができるので、セラミック基板の凹部における変形やクラック等の発生を抑制することができ、反りや変形がない寸法精度の高い、高信頼性のセラミック基板が得られるという効果がある。
本発明のセラミック基板の製造方法について以下に詳細に説明する。
本発明におけるセラミック・グリーンシートは、ガラス粉末,フィラー粉末(セラミック粉末)、さらに有機バインダ,可塑剤,有機溶剤等を混合したものが用いられる。
ガラス成分としては、例えばSiO−B系,SiO−B−Al系,SiO−B−Al−MO系(但し、MはCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す),SiO−Al−MO−MO系(但し、MおよびMは同一または異なってCa,Sr,Mg,BaまたはZnを示す),SiO−B−Al−MO−MO系(但し、MおよびMは前記と同じである),SiO−B−M O系(但し、MはLi,NaまたはKを示す),SiO−B−Al−M O系(但し、Mは前記と同じである),Pb系ガラス,Bi系ガラス等が挙げられる。
また、フィラーとしては、例えばAl,SiO,ZrOとアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物、TiOとアルカリ土類金属酸化物との複合酸化物、AlおよびSiOから選ばれる少なくとも1種を含む複合酸化物(例えばスピネル,ムライト,コージェライト)等が挙げられる。
上記ガラスとフィラーの混合割合は質量比で40:60〜99:1であるのが好ましい。
セラミック・グリーンシートに配合される有機バインダとしては、従来からセラミック・グリーンシートに使用されているものが使用可能であり、例えばアクリル系(アクリル酸,メタクリル酸またはそれらのエステルの単独重合体または共重合体、具体的にはアクリル酸エステル共重合体,メタクリル酸エステル共重合体,アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体等),ポリビニルブチラール系,ポリビニルアルコール系,アクリル−スチレン系,ポリプロピレンカーボネート系,セルロース系等の単独重合体または共重合体が挙げられる。
セラミック・グリーンシートは、上記ガラス粉末,フィラー粉末,有機バインダに必要に応じて所定量の可塑剤,溶剤(有機溶剤,水等)を加えてスラリーを得て、これをドクターブレード法,圧延法,カレンダーロール法,金型プレス法等により厚さ約50〜500μmに成形することによって得られる。
凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体の最表層に用いられる、降伏点強度が4〜10N/mm、降伏点伸度が10〜20%のセラミック・グリーンシートは、上記と同様のガラス粉末,フィラー粉末に有機バインダとしてTg(ガラス転移点)が−30〜−5℃、分子量が40〜60万のアクリル系バインダを使用することにより得られる。Tgが−30℃未満であったり分子量が60万を超えると、セラミック・グリーンシートを成形することが困難になり、十分なグリーンシート降伏点伸度が得られない。一方、Tgが−5℃を超えたり分子量が40万未満であると十分なグリーンシート降伏点強度を得られない。
また、得られたセラミック・グリーンシートには、必要に応じて所定の位置にキャビティ等の凹部を形成するための所定の形状および寸法の貫通穴がパンチング加工等により形成される。
セラミック・グリーンシートの表面に導体パターンを形成するには、例えば導体材料粉末をペースト化したものをスクリーン印刷法やグラビア印刷法等により印刷するか、あるいは所定パターン形状の金属箔を転写する等の方法が挙げられる。導体材料としては、例えばAu,Ag,Cu,Pd,Pt等の1種または2種以上が挙げられ、2種以上の場合は混合,合金,コーティング等のいずれの形態であってもよい。
なお、表面の導体パターンには、上下の層間の導体パターン同士を接続するためのビア導体やスルーホール導体等の貫通導体が表面に露出した部分も含まれる。これら貫通導体は、パンチング加工等によりセラミック・グリーンシートに形成した貫通孔に、導体材料粉末をペースト化したもの(導体ペースト)を印刷により埋め込む等の手段によって形成される。
セラミック・グリーンシートの凹部の底面にコート層無機組成物を塗布するには、例えば難焼結性無機材料粉末とガラス粉末とから成る無機成分をペースト化したものをスクリーン印刷法やグラビア印刷法等により印刷する方法が挙げられる。
コート層無機組成物としてのコート層形成用ペーストには、難焼結性無機材料とガラスとから成る無機成分に、ペースト化するために有機バインダ,可塑剤,溶剤等を添加したものを用いればよい。有機バインダとしては、例えばポリビニルアルコールを難焼結性無機材料とガラスに対して5質量%程度添加すればよいが、これに限らず、エチルセルロース系やニトロセルロース系の有機成分、アクリル酸メチル,ポリアクリル酸メチル,メタクリル酸メチル等を5〜15質量%程度添加してもよい。また、有機溶剤としては、トルエンや各種アルコール類を5〜40質量%程度添加してもよい。
コート層無機組成物に添加する有機バインダ、あるいは可塑剤,溶剤としては、上記の他にもセラミック・グリーンシートで使用したのと同様な材料が使用可能である。
セラミック・グリーンシートの凹部の底面に塗布するコート層無機組成物の厚さは、5〜30μmであることが好ましい。この厚みが5μmよりも薄いとセラミック・グリーンシートの拘束性が不十分になりやすく、コート層の部分的な剥離や凹部の変形が発生しやすい。他方、30μmを超えると焼成後のコート層の除去が困難となりやすい。
また、コート層無機組成物をセラミック・グリーンシート積層体の凹部の内側面から全周にわたって0.01〜0.2mmの間隔を空けて塗布することで、セラミック・グリーンシート積層体の凹部の内側面の変形やクラックの発生を防ぐことができる。
間隔が0.01mmより狭いと、コート層無機組成物をセラミック・グリーンシート積層体に塗布し、その後、ラバープレスにより加圧して積層した際に、コート層無機組成物は変形しやすいことから、セラミック・グリーンシート積層体の内側面と接触しやすくなる。コート層無機組成物とセラミック・グリーンシート積層体の内側面が接触した場合、セラミック・グリーンシート積層体の内側面に焼結収縮の挙動が異なる部分が発生することから、焼成後に凹部の内側面においてコート層無機組成物と接触した部分と接触していない部分の境界部を起点としたセラミック基板の内部へ生じるクラックや、凹部の内側面にうねり等の変形が発生しやすい。また、焼成後にセラミック基板より拘束シートおよびコート層無機組成物とを除去する工程において、発生したクラックやうねり等のくぼみに付着したコート層無機組成物が残留してしまうおそれがある。
他方、間隔が0.2mmより広いと、拘束シートおよびコート層無機組成物に接触して収縮を抑えられたセラミック・グリーンシート積層体の凹部の底面部分と、拘束シートおよびコート層無機組成物とが接触せず収縮が進み、焼成後にセラミック・グリーンシート積層体の凹部の底面部分と拘束シートおよびコート層無機組成物との収縮量の差によって、これらの境界部を起点としたセラミック・グリーンシート積層体内部へ生じる縦方向のクラックや、拘束シートおよびコート層無機組成物とに接触せず収縮が進むセラミック基板の凹部の底面部分に凹みが生じやすい。
セラミック・グリーンシートの積層には、その上面の全面に硬度が30〜50度で厚みが凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスにより、例えば5〜20MPa程度の圧力で加圧して積層する。ゴムシートの硬度が30度未満であると凹部へゴムシートが進入しにくくなりやすく、50度を超えると凹部が変形しやすくなりやすい。また、厚みが凹部深さの1倍未満では、凹部をゴムシートが充填しきれないため、凹部が変形しやすい。他方、厚みが凹部深さの3倍を超えると、ラバープレスの容器内に入らなくなったりしやすい。
ここで、ラバープレスとは、金属ブロック上にワーク(被加圧物)を載置して、その上面から天然ゴムや合成ゴム等のラバーシール内に水等の圧力媒体を注入したもので加圧することによって、ラバーを介してワークに等方加圧するプレス方式であり、圧力媒体とワークとが直接接触しない静水圧プレスである。ラバープレスは、圧力媒体中にワークを投入する通常の静水圧プレスに比べて、ワークの真空パックが不要であり、圧力媒体によるワーク汚染等の発生がない。
なお、本発明においてラバープレスに用いるゴムシートのゴムとしては、上記の硬度および厚みのゴムであれば、シリコーンゴムやふっ素ゴム等の合成ゴムシートや天然ゴムシート等の種々のゴムを使用することができる。中でも、シリコーンゴムを用いると、凹部へゴムシートを完全に充填しやすく、また、セラミック・グリーンシートとの離型性に優れていることから、ワークに均等圧力を印加でき、プレス後にワークを変形させずに容易にゴムシートを取り除くことができる。また、これらのゴムシートは1枚のものであってもよく、所定の厚みになるように複数枚を重ね合わせたものであってもよい。
また、積層するセラミック・グリーンシートには、接着性を高めるために必要に応じて、有機バインダ,可塑剤,溶剤等から成る密着剤を予めグリーンシートの表面に塗布しておいてもよい。
また、凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体は、最表層のセラミック・グリーンシートの降伏点強度と降伏点伸度が最表層以外のセラミック・グリーンシートよりも高く、最表層のセラミック・グリーンシートの降伏点強度が4〜10N/mmであり最表層のセラミック・グリーンシートの降伏点伸度が10〜20%であることが好ましい。
最表層のセラミック・グリーンシートの降伏点強度が4N/mm未満の場合、最表層のセラミック・グリーンシート自体の形状保持力が低下し、加工性が困難になりやすい。また、降伏点強度が10N/mmを超えると、最表層のセラミック・グリーンシートが硬くかつもろくなり、積層時にクラックが発生したり、貫通孔の形成時にカケが生じやすくなる。
さらに、最表層のセラミック・グリーンシートの降伏点伸度が10%未満の場合、最表層のセラミック・グリーンシートが硬くかつもろくなり、積層時にクラックが発生したり、貫通孔の形成時にカケが生じやすくなる。また、降伏点伸度が20%を超えると、積層時の圧力によって凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体が伸びたり、変形しやすくなる。
ここで、降伏点強度とは、平面視においてダンベル型に打ち抜いたセラミック・グリーンシートの両端を固定冶具に固定し、その固定冶具を垂直に50mm/分の速度で引っ張り、破断したときの荷重から求めるものである。また、降伏点伸度は、この試験のときのセラミック・グリーンシートの長さの変化量から求めたものである。すなわち、セラミック・グリーンシートが破断したときの荷重をT(N)とし、セラミック・グリーンシートのダンベル型のくびれ部分の測定長をl(mm)、断面積をS(mm)とし、破断後のセラミック・グリーンシートの長さをl’(mm)とすると、降伏点強度はT/Sより算出され、降伏点伸度は((l’−l)/l)×100で算出される。
本発明における拘束グリーンシートは、難焼結性無機材料とガラスとから成る無機成分に有機バインダ,可塑剤,溶剤等を加えたスラリーを成形して得られる。難焼結性無機材料としては、AlおよびSiOから選ばれる少なくとも1種が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
拘束グリーンシートに加えられるガラスについても、特に制限されるものではなく、前記したセラミック・グリーンシートに配合されるガラスと同様のものが使用可能である。また、拘束グリーンシート中のガラスは、セラミック・グリーンシート中のガラスと同一組成のものであってもよく、異なる組成のものであってもよい。
拘束グリーンシート中のガラスの軟化点は、セラミック・グリーンシート積層体の焼成温度以下で、かつ拘束グリーンシート中の有機成分の分解・揮散温度よりも高いのが好ましい。具体的には、拘束グリーンシート中のガラスの軟化点は450〜1100℃程度であるのが好ましい。ガラスの軟化点が450℃未満の場合には、セラミック・グリーンシートからの有機成分の除去時に、軟化したガラスが分解・揮散した有機成分の除去経路を塞ぐことになり有機成分を完全に除去できないおそれがある。一方、ガラスの軟化点が1100℃を超える場合には、通常のセラミック・グリーンシートの焼成条件ではこのグリーンシートへの結合材として作用しなくなるおそれがある。
なお、コート用無機組成物の無機成分は、以上のような拘束グリーンシートの無機成分と同様のものを用いてもよい。
拘束グリーンシートは、セラミック・グリーンシートの作製と同様にして、有機バインダ,可塑剤,溶剤等を用いて成形することによって得られる。有機バインダ,可塑剤および溶剤としては、セラミック・グリーンシートで使用したのと同様な材料が使用可能である。ここで、可塑剤を添加するのは、拘束グリーンシートに可撓性を付与し、積層時にセラミック・グリーンシートとの密着性を高めるためである。
セラミック・グリーンシート積層体の両面に積層される拘束グリーンシートの厚さは、片面だけでセラミック・グリーンシート積層体の厚さに対して10%以上であるのが好ましく、これよりも薄いと拘束グリーンシートの拘束性が低下するおそれがある。また、有機成分の揮散を容易にしかつ焼成後のセラミック基板からの拘束シートの除去を考慮すると、拘束グリーンシートの厚さはセラミック・グリーンシート積層体の厚さの約200%以下であるのがよい。また、積層される拘束グリーンシートは1枚のものであってもよく、あるいは所定の厚みになるように複数層を積層したものであってもよい。具体的な厚さとしては、50〜300μm程度とすることが適当である。
セラミック・グリーンシート積層体の上面に積層する拘束グリーンシートには、セラミック・グリーンシート積層体に凹部を形成する貫通穴と同じ形状の貫通穴をパンチング加工等により形成される。
拘束グリーンシートをセラミック・グリーンシート積層体の両面に積層するには、セラミック・グリーンシート積層体の上面に貫通穴を形成した拘束グリーンシートを、下面に貫通穴を形成していない拘束グリーンシートを積み重ねて、その上面に硬度が30〜50度で厚みが凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスにより、例えば5〜20MPa程度の圧力で加圧して積層する。
また、積層する拘束グリーンシートには接着性を高めるために必要に応じて、有機バインダ,可塑剤,溶剤等から成る密着剤を予めグリーンシートの表面に塗布しておいてもよい。
拘束グリーンシートを積層した後、有機成分の除去と焼成を行なう。有機成分の除去は、100〜800℃の温度範囲でこの積層体を加熱することによって行ない、有機成分を分解・揮散させる。また、焼成温度はセラミック組成により異なるが、通常は約800〜1100℃の範囲内である。焼成は通常、大気中で行なうが、導体材料にCuを使用する場合には、100〜700℃の水蒸気を含む窒素雰囲気中で有機成分の除去を行ない、次いで窒素雰囲気中で焼成を行なう。
また、有機成分の除去時ならびに焼成時には、積層体の反りを防止するために、積層体の上面に重しを載せる等して荷重をかけるとよい。このような重しによる荷重は50Pa〜1MPa程度が適当である。荷重が50Pa未満である場合は、積層体の反りを抑制する作用が充分でなくなるおそれがある。また、荷重が1MPaを超える場合は、使用する重しが大きくなることとなるため、焼成炉に入らなくなったり、また焼成炉に入っても重しが大きいために熱容量が不足することになり焼成できなくなったりするなどの問題をひき起こすおそれがある。
この重しとしては、セラミック基板の焼成中に変形・溶融等して荷重が不均一になったり、分解した有機成分の揮散を妨げたりすることがないような耐熱性の多孔質のものが適している。具体的にはセラミックス等の耐火物、あるいは高融点の金属等が挙げられる。また、積層体の上面に多孔質の重しを置き、その上に非多孔質の重しを置いてもよい。
このようにして焼成後、セラミック基板の凹部の底面にコート層が形成され、コート層がセラミック基板より剥離していないとともに、両面に拘束シートが積層され、拘束シートがセラミック基板より剥離していない、両面に拘束シートを保持したセラミック基板が得られる。
焼成により両面に拘束シートを保持したセラミック基板が得られた後、拘束シートおよびコート層を除去する。除去方法としては、セラミック基板の表面に結合した拘束シートおよびコート層を除去できる方法であれば特に制限はなく、例えば超音波洗浄,研磨,ウォータージェット,ケミカルブラスト,サンドブラスト,ウェットブラスト(砥粒と水とを空気圧により噴射させる方法)等が挙げられる。
得られたセラミック基板は、ゴムシートを介したラバープレスにより等方加圧されているので、凹部の変形が抑制されて平坦度を良好にすることができる。
さらに、焼成時の収縮が拘束グリーンシートによって厚さ方向だけに抑えられているので、その積層面内の収縮をおよそ0.5%以下にも抑えることが可能となり、しかもセラミック・グリーンシートは拘束グリーンシートによって全面にわたって均一にかつ確実に結合されているので、拘束グリーンシートの一部剥離等によって反りや変形が起こるのを防止することができる。
さらに、セラミック基板の凹部の底面にはコート層が形成されて、両面の拘束シートともにセラミック・グリーンシート積層体の収縮を拘束することになるので、焼成後における凹部の変形やクラックをほとんどなくすことができる。
以下、実施例、比較例および試験例を挙げて本発明の方法を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。
図2は、本発明の製造方法により得られる拘束グリーンシートとセラミック積層体との積層体の例を示す断面図であり、1はセラミック・グリーンシート積層体、2は導体パターン、3および3’は拘束グリーンシート、4はコート層無機組成物である。なお、3はセラミック・グリーンシート積層体の凹部と同じ形状の貫通穴を形成した拘束グリーンシートを示している。
<実施例1>
セラミック成分として、SiO−Al−MgO−B−ZnO系ガラス粉末60質量%,CaZrO粉末20質量%,SrTiO粉末17質量%およびAl粉末3質量%を使用した。このセラミック成分100質量部に有機バインダとしてアクリル樹脂12質量部,フタル酸系可塑剤6質量部および溶剤としてトルエン30質量部を加え、ボールミル法により混合しスラリーとした。このスラリーを用いてドクターブレード法により厚さ200μmのセラミック・グリーンシートを成形した。
次いで、このグリーンシート上に銀−パラジウムペーストを用いて導体パターン2をスクリーン印刷にて形成した。導体ペーストとしては、Ag:Pdが質量比で85:15である合金粉末(平均粒径1.0μm)100質量部に対してAl粉末2質量部および前記ガラスと同組成のガラス粉末2質量部、さらにビヒクル成分として所定量のエチルセルロース系樹脂,テルピネオールを加え、3本ロールにより適度な粘度になるように混合したものを用いた。
次いで、このグリーンシートを積層することによって凹部の底面になる部分にコート層無機組成物4の層をスクリーン印刷法にて10μmの厚みに形成した。この際、コート層無機組成物ペーストとしては、Al粉末90質量%と軟化点720℃のSiO−Al−MgO−B−ZnO系ガラス粉末10質量%とを用い、エチルセルロース樹脂をアルコールで溶かしたビヒクルを30質量%と、テルピネオールとを加えて適度な粘度になるように混練したものを用いた。
コート層無機組成物をセラミック・グリーンシート積層体の凹部の底面に塗布する際、凹部の内側面から全周にわたって0.1mmの間隔を空けてスクリーン印刷法で塗布した。
次いで、打ち抜き型またはパンチングマシーンを用いて所定の位置に凹部となる貫通穴を形成したセラミック・グリーンシートと、表面に導体パターン2およびコート層無機組成物4を形成したセラミック・グリーンシートとをそれぞれ3枚積み重ねて、その上面に硬度40で厚みが1mm(凹部深さの1.6倍に相当)のシリコーンゴムシートを載せて、ラバープレス温度55℃,圧力20MPaで圧着して、積層面内の縦方向および横方向の寸法がそれぞれ200mmの、凹部が形成されたセラミック・グリーンシート積層体1を得た。
一方、無機成分としてAl粉末95質量%と軟化点720℃のSiO−Al−MgO−B−ZnO系ガラス粉末5質量%とを用いて、前記セラミック・グリーンシートと同様にしてスラリーを作製し、次いで成形して厚さ250μmの拘束グリーンシート3’を得た。
そして、セラミック・グリーンシート積層体1の下面に厚み250μmの板状シートの拘束グリーンシート3’を配置し、上面に拘束グリーンシート3を積み重ねて、その上面に硬度40で厚みが1mm(凹部深さの1.2倍に相当)のシリコーンゴムシートを載せて、ラバープレス温度55℃,圧力20MPaで圧着して、セラミック・グリーンシート積層体1と拘束グリーンシート3および拘束グリーンシート3’との積層体を得た。
得られた積層体をアルミナセッターに載置し、さらに積層体の上に重しとして空孔率75%のポーラスセラミック板を載置することにより積層体に平均的に100Paの荷重がかかるようにして、大気中500℃で2時間加熱して有機成分を除去した後、900℃で1時間焼成した。焼成後は、セラミック基板の両面に拘束シートが付着していた。この状態では、軽く叩いても拘束シートが剥がれることはなかった。
セラミック基板の表面に付着した拘束シートを、球状Al微粉末と水との混合物を高圧の空気圧で投射するウェットブラスト法により除去した。拘束シートを除去した後のセラミック基板の表面は、表面粗さRaが1μm以下の平滑な面となった。
また、得られたセラミック基板の積層面内での収縮は0.5%以下であり、基板に反りや変形も認められなかった。また、凹部の変形やクラックの発生は認められなかった。
<実施例2および3>
硬度が30度および50度のシリコーンゴムシートをそれぞれ用いてラバープレスした以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
<比較例1および2>
硬度が60度および厚みが500μm(凹部深さの0.8倍に相当)のシリコーンゴムシートをそれぞれ用いてラバープレスした以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
その結果、実施例2および3で得たセラミック基板は、実施例1と同様に凹部の変形やクラックは認められなかった。
これに対して、比較例1および2で得たセラミック基板は、ラバープレスに用いたシリコーンゴムシートの硬度が硬いか、または凹部深さに対して薄いためにラバープレス後に凹部が変形し、焼成後も凹部の変形が大きいセラミック基板となった。
<実施例4および5>
軟化点が600℃および700℃のガラスをそれぞれ用いて拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
<比較例3>
ガラスを含有しない拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
<比較例4>
軟化点が920℃のガラスを用いて拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
<比較例5>
軟化点が400℃のガラスを用いて拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
その結果、実施例4および5で得たセラミック基板は、実施例1と同様に積層面内での収縮が0.5%以下(すなわち、収縮率99.5%以上)であり、基板の反りや凹部の変形やクラック等は認められなかった。
これに対して、比較例3および4で得たセラミック基板は、使用した拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4がガラスを含まないか、あるいは焼成温度よりも高い軟化点を有するガラスを含んでいるために、いずれも焼成後のセラミック基板から拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4が簡単に剥がれていた。また、セラミック・グリーンシートと拘束グリーンシート3,3’との間の結合力が弱いため、セラミック基板の積層面内での収縮率は85%程度になるか、基板の一部のみが拘束シート3,3’に結合されているためにセラミック基板の外辺および凹部の周辺が大きく変形した。
一方、比較例5では、拘束グリーンシート3,3’およびコート層無機組成物4に含まれるガラスの軟化点が低いため、有機成分が完全に除去されず、このためセラミック基板の積層面内での収縮は0.5%以下と良好であったが、セラミック基板の色調が灰色になった。
<実施例6および7>
コート層無機組成物4中のガラス含有量が0.5質量%および20質量%であるコート層無機組成物4を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
<比較例6および7>
ガラスを含有しないコート層無機組成物4およびコート層無機組成物4中のガラス含有量が25質量%であるコート層無機組成物4から成る層を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
その結果、実施例6および7で得たセラミック基板は、実施例1と同様に積層面内での収縮が0.5%以下(すなわち、収縮率99.5%以上)であり、基板の反りや凹部の変形やクラック等は認められなかった。
これに対し、比較例6および7で得たセラミック基板は、コート層無機組成物4がガラスを含まないか、あるいは過剰であるために、コート層が剥離して凹部が大きく変形したり、ウェットブラストによりコート層が完全に除去されず凹部に付着したりしていた。
<実施例8〜11>
無機成分としてAl粉末と軟化点720℃のSiO−MgO−CaO−Al系ガラス粉末とをそれぞれ表1に示す割合で用いて、拘束グリーンシート3,3’を作製した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。
その結果、得られたセラミック基板の積層面内での収縮率を表1に示す。なお、セラミック基板に反りや変形は認められなかった。
Figure 2005123545
表1に示す結果から、実施例8〜11の各拘束グリーンシート3,3’を使用して得られたセラミック基板は、焼成時の収縮が抑制されていることが分かる。これらのセラミック基板は、高い寸法精度を有していた。
<実施例12〜14>
コート層無機組成物をセラミック・グリーンシート積層体の凹部の底面に塗布する際、凹部の内側面から全周にわたって0.01mm、0.05mm、0.2mmの間隔をそれぞれ空けて塗布した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、基板の反りや凹部の変形やクラック等は認められなかった。
<比較例8〜10>
コート層無機組成物をセラミック・グリーンシート積層体の凹部の底面に塗布する際、凹部の内側面から全周にわたって0.005mm、0.3mm、0.5mmの間隔を空けて塗布した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、比較例8では、コート層無機組成物とセラミック・グリーンシート積層体の凹部の内側面とが接触していて、焼成後にコート層無機組成物を基板より除去した後に基板を観察すると、凹部の内側面にコート層無機組成物が残留付着していたり、凹部の内側面に横方向のクラックや、うねり等の変形が確認された。比較例9では、基板の凹部の底面の一部に7〜12μmの凹みが発生していた。比較例10では、基板の凹部に底面に15μm以上の大きな凹みが発生していた。
<実施例15〜26>
降伏点強度を4、6、8、10N/mmとし、降伏点伸度を10、15、20%として変化させた12種類のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、最表層の伸びや凹部の変形は認められなかった。
<比較例11、15>
降伏点強度が2N/mmで降伏点伸度が5、25%である2種類のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、比較例11のセラミック・グリーンシートは降伏点強度、降伏点伸度とも小さいため、形状保持力が弱くもろいため、セラミック・グリーンシートを任意の大きさので取り扱いことができなかった。一方、比較例15のセラミック・グリーンシートの降伏点強度は小さいが、降伏点伸度が高いため取り扱いは可能であったが、積層時に大きく変形した。
<比較例28>
降伏点強度が12N/mmで降伏点伸度が25%のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、降伏点強度が大きいため積層時にクラックが発生した。また、降伏点伸度が大きいため積層時に大きく変形した。
<比較例12、13、14>
降伏点強度が2N/mmで降伏点伸度が10、15、20%である3種類のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。いずれのセラミック・グリーンシートも降伏点強度が小さいため、十分な形状保持力が得られず積層時に変形した。
<比較例16、18、20、22、24>
降伏点強度が4、6、8、10、12N/mmで降伏点伸度が5%である5種類のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、降伏点伸度が小さくても降伏点強度が十分であるため、セラミック・グリーンシートの取り扱いは可能であったが、降伏点伸度が小さいため一部のサンプルに積層時のクラックや、貫通孔のクラックが発生した。
<比較例17、19、21、23>
降伏点強度が4、6、8、10N/mmで降伏点伸度が25%である4種類のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、降伏点伸度が大きいため積層時に大きく変形した。
<比較例25、26、27>
降伏点強度が12N/mmで降伏点伸度が10、15、20%である3種類のセラミック・グリーンシートを用意し、セラミック・グリーンシート積層体の最表層に積層した以外は実施例1と同様にしてセラミック基板を得た。その結果、降伏点強度が大きいため一部のサンプルに積層時のクラックや、貫通孔のクラックが発生した。
Figure 2005123545
<試験例1>
(拘束グリーンシートの収縮試験)
無機成分としてAl粉末と軟化点720℃のSiO−MgO−CaO−Al系ガラス粉末とをそれぞれ所定の割合で使用し、さらに有機バインダとしてアクリル樹脂9.0質量部、フタル酸系可塑剤4.5質量部および溶剤としてトルエン30質量部を加え、これらをボールミルにて混合しスラリーとした。このスラリーを用いてドクターブレード法により厚さ250μmの拘束グリーンシートを成形した。
この拘束グリーンシートを単独でアルミナセッターに載置し、大気中500℃で2時間加熱して有機成分を除去した後、850℃で1時間焼成した。
得られた拘束シートの平面内での収縮率とガラス添加量との関係を図1に示す。なお、収縮率は拘束シートの厚さ方向を除く幅方向および流れ方向の各収縮率の平均値(n=5)とバラツキを示しており、式:(焼成後寸法)×100/(焼成前寸法)にて求めたものである。また、流れ方向はグリーンシートの造膜方向を、幅方向は造膜方向に直交する方向をそれぞれ意味する。
図1に示すように、収縮率を99.5%以上とする、すなわち拘束シートの収縮を0.5%以下に抑えるには、拘束グリーンシート内へのガラス添加量は約15質量%以下とするのが望ましいことがわかる。また、ガラス添加量が15質量%を超えると、収縮率のバラツキも大きくなる傾向にある。ただし、ガラス添加量が少なくなると、拘束グリーンシートによるセラミック・グリーンシートの拘束性が低下するので、拘束性が低下しないガラス添加量を決定する必要があり、本発明では0.5〜15質量%を好適範囲としている。
<試験例2>
ガラスとしてSiO−Al−MgO−B−ZnO系ガラス粉を用いた以外は試験例1と同様にして、ガラス添加量と収縮率との関係を調べたところ、ガラス添加量が15質量%以下では拘束グリーンシートの収縮率は99.5%以上であり、ガラス添加量が10質量%以下では約99.8%程度を維持していた。
拘束グリーンシートへのガラス添加量と収縮率との関係を示すグラフである。 本発明のセラミック基板の製造方法における拘束グリーンシートとセラミック・グリーンシート積層体との積層体の例を示す断面図である。
符号の説明
1・・・セラミック・グリーンシート積層体
2・・・導体パターン
3・・・貫通穴を形成した拘束グリーンシート
3’・・・拘束グリーンシート
4・・・コート層無機組成物

Claims (9)

  1. 表面に導体パターンが形成されたセラミック・グリーンシート、および凹部を形成するための貫通穴が形成された前記セラミック・グリーンシートの複数枚を積層して、上面に凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体を作製し、しかる後、該セラミック・グリーンシート積層体を焼成するセラミック基板の製造方法において、前記凹部を有するセラミック・グリーンシート積層体を作製する際に、その上面の全面に硬度が30〜50度で厚みが前記凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスすることを特徴とするセラミック基板の製造方法。
  2. 有機バインダを含有し表面に導体パターンが形成されたセラミック・グリーンシート、および凹部を形成するための貫通穴が形成された前記セラミック・グリーンシート、ならびに難焼結性無機材料とガラスと有機バインダとを含むコート層無機組成物を塗布した前記セラミック・グリーンシートの複数枚を積層して、上面に凹部を有するとともに該凹部の底面に前記コート層無機組成物が塗布されたセラミック・グリーンシート積層体を作製する工程と、
    前記セラミック・グリーンシート積層体の前記上面に難焼結性無機材料とガラスと有機バインダとを含む前記貫通穴と同じ形状の貫通穴を形成した拘束グリーンシートを、下面に貫通穴を形成していない拘束グリーンシートをそれぞれ積層するとともに、その上面に硬度が30〜50度で厚みが前記凹部の深さの1〜3倍のゴムシートを接触させて配置してラバープレスする工程と、
    前記拘束グリーンシートとセラミック・グリーンシート積層体との積層体から有機成分を除去し、次いで焼成して、拘束シートを保持するとともに凹部の底面がコート層で被覆されたセラミック基板を作製する工程と、
    前記セラミック基板から前記拘束シートおよび前記コート層を除去する工程とを含み、
    前記拘束グリーンシートのガラス含有量が、前記焼成時に拘束グリーンシートを前記セラミック・グリーンシートと結合させ、かつ拘束グリーンシートをその積層面内で実質的に収縮させない量であり、
    前記コート層無機組成物のガラス含有量が、前記焼成時にコート層無機組成物を前記セラミック・グリーンシートと結合させ、かつ前記焼成後に前記コート層が前記拘束シートと共に前記セラミック基板から除去される量であることを特徴とするセラミック基板の製造方法。
  3. 前記拘束グリーンシートおよび前記コート層無機組成物中に含有されるガラスの軟化点が、前記セラミック・グリーンシート積層体の焼成温度以下である請求項2記載のセラミック基板の製造方法。
  4. 前記拘束グリーンシートおよび前記コート層無機組成物中に含有されるガラスの軟化点が、前記有機成分の揮発温度よりも高い請求項2または請求項3記載のセラミック基板の製造方法。
  5. 前記拘束グリーンシート中のガラス含有量が、前記拘束グリーンシート中の全無機成分の0.5〜15質量%である請求項2記載のセラミック基板の製造方法。
  6. 前記拘束グリーンシートの厚さが片面で前記セラミック・グリーンシート積層体の厚さに対して10%以上である請求項2記載のセラミック基板の製造方法。
  7. 前記コート層無機組成物中のガラス含有量が、該コート層無機組成物中の全無機成分の0.5〜20質量%である請求項2記載のセラミック基板の製造方法。
  8. 前記コート層無機組成物は、前記セラミック・グリーンシート積層体の前記凹部の内側面から全周にわたって0.01〜0.2mmの間隔を空けて塗布されることを特徴とする請求項2記載のセラミック基板の製造方法。
  9. 前記セラミック・グリーンシート積層体は、最表層の前記セラミック・グリーンシートの降伏点強度と降伏点伸度が最表層以外の前記セラミック・グリーンシートよりも高く、最表層の前記セラミック・グリーンシートの前記降伏点強度が4〜10N/mmであり最表層の前記セラミック・グリーンシートの前記降伏点伸度が10〜20%であることを特徴とする請求項1または請求項2記載のセラミック基板の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101025937B1 (ko) * 2008-10-27 2011-03-30 삼성전기주식회사 무수축 다층 세라믹 기판의 제조 방법
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