JP2005116589A - 成形方法及び成形装置 - Google Patents

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和也 倉田
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Abstract

【課題】従来の成形装置で成形された成形体4の場合には上下の両面の稜が直角になって面取りされていないため、後工程で多孔質焼結体の誘電体層に固体電解質層を形成する際に、多孔質焼結体の面取りされていない各稜において固体電解質層が平面部より膨らんで膨出部が形成される。そこで、この課題を解決するために平面部の固体電解質層を膨出部に合わせて厚くして固体電解質層を均一な厚さに仕上げる方法もあるが、この方法では平面部を厚くした分だけコンデンサ素子の容積が大きくなる。
【解決手段】本発明の成形方法は、第1の凹部11Aを有する下ダイ11と第2の凹部12Aを有する下ダイ12を接触させ、第1、第2の凹部11A、12Aによって形成される成形空間内にタンタル粉末Taを圧縮し、この空間内で全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体20を成形する。
【選択図】図1

Description

本発明は、例えば電解コンデンサ素子の陽極素子を形成する成形体の成形方法及び成形装置に関し、更に詳しくは、矩形状の陽極素子の稜において固体電解質層が膨らむことのない成形体を成形することができる成形方法及び成形装置に関するものである。
例えばタンタル、アルミニウム、ニオブ等の弁作用金属によって形成されるコンデンサ素子、例えばチップ型タンタル固体電解コンデンサ素子(以下、「タンタルコンデンサ素子」と称す。)は、カメラ一体型VTR、携帯電話等の電気機器や、自動車、コンピュータ等の産業機器に広く用いられている。タンタルコンデンサ素子は、例えば平均粒径が数μmあるいはそれ以下の高純度タンタル粉末にタンタルリード線を取り付け、これを所定の矩形状に加圧成形した成形体から製造することができる。この成形体は、高温、高真空下で焼結されることで多孔質焼結体からなる陽極素子として形成される。次いで、この陽極素子を化成処理してその表面に酸化タンタルからなる誘電体層を形成した後、この誘電体層の表面に二酸化マンガン等により固体電解質層を形成する。更に、カーボン、銀ペースト等で陰極層を形成する。
ところで、従来から上記成形体を成形する場合には、例えば図3に示すよう成形装置を用いた製造工程によって成形することができる。この成形装置は、同図の(a)〜(d)に示すように、四隅に丸みを有する貫通孔1Aが形成されたダイ1と、ダイ1の貫通孔1A内へ下方から挿入される下型2と、ダイ1の貫通孔1A内へ上方から挿入される上型3とを備え、ダイ1の貫通孔1A内で上下の型2、3によってタンタル粉末Taを加圧成形することによって上下方向の4つの稜に丸みを有する矩形状の成形体4(図4参照)を成形することができる。また、上型3の中心にはタンタルリード線Lを挿入する孔3Aが形成され、この孔3Aを介してタンタルリード線Lを上型3から繰り出すようにしている。
上記成形装置を用いてタンタルコンデンサ素子用の成形体を成形する場合には、図3の(a)に示すように下型2をダイ1の下方から貫通孔1A内に挿入し、貫通孔1A内にタンタル粉末Taを充填する空間を形成する。次いで、同図に示すように貫通孔1Aの上部開口からタンタル粉末Taを供給して貫通孔1A内の空間にタンタル粉末Taを充填し、タンタル粉末Taの上面をダイ1の上面に揃えて面一にする。その後、同図の(b)に示すようにタンタルリード線Lが下方に突出した上型3を下型2の軸心と一致する状態で降下させてタンタルリード線Lをタンタル粉末Ta内に差し込み、更に同図の(c)に示すように下型2及び上型3それぞれに圧力を付与してタンタル粉末Taを上下から圧縮して矩形状の成形体4を加圧成形する。成形後には同図の(d)に示すように上型3を上昇させてダイ1から上型3を抜き取ると共に、下型2をダイ1の貫通孔1A内で押し上げてダイ1から成形体4を押し出し、図4の(a)〜(c)に示す成形体4を得る。この成形体4は、図4の(a)〜(c)に示すように、タンタルリード線Lに沿った方向の4つの稜に丸みがついて面取りされている。
引き続き、上述の操作を繰り返して成形体4を成形する。上記成形体4を成形した後、その後工程で上述したように上記成形体4を高真空下で熱処理して多孔質焼結体を得た後、この多孔質焼結体を化成処理してその表面に誘電体層を形成し、更に、誘電体層の表面に例えば二酸化マンガン等の固体電解質層を形成する。
しかしながら、従来の成形装置で成形された上記成形体4の場合には上下の両面の稜が直角になって面取りされていないため、後工程で多孔質焼結体の誘電体層に固体電解質層を形成する際に、多孔質焼結体の面取りされていない各稜において固体電解質層が平面部より膨らんで膨出部が形成されるという課題があった。この膨出部を放置するとコンデンサ素子の電気的特性を阻害し、その寿命を短くするという課題があった。そこで、この課題を解決するために平面部の固体電解質層を膨出部に合わせて厚くして固体電解質層を均一な厚さに仕上げる方法もあるが、この方法では平面部を厚くした分だけコンデンサ素子の容積が大きくなるという課題があった。
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、従来の成形装置を多少改善するだけで全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体を製造することができる成形方法及び成形装置を提供することを目的としている。
本発明の請求項1に記載の成形方法は、第1の凹部を有する第1の型と第2の凹部を有する第2の型を接触させ、上記第1、第2の凹部によって形成される成形空間内に金属粉末を圧縮し、この成形空間内で全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体を成形する方法であって、上記第1の凹部の中央部から第1の型を貫通する第1の貫通孔に第1の押圧体を挿入する工程と、上記第1の凹部及び第1の貫通孔に上記金属粉末を充填する工程と、上記第2の凹部の中央部から第2の型を貫通する第2の貫通孔に第2の押圧体を挿入した上記第2の型と上記第1の型とを接触させて第1、第2の凹部を突き合わせる工程と、第1の押圧体及び第2の押圧体を介して上記金属粉末を上記成形空間内に圧縮する工程と、を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項2に記載の成形方法は、請求項1に記載の発明において、上記第2の押圧体の貫通孔を介してリード線を上記金属粉末に差し込む工程を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項3に記載の成形方法は、請求項1または請求項2に記載の発明において、上記第1の押圧体を介して上記成形体を第1の型から押し出す工程を有することを特徴とするものである。
また、本発明の請求項4に記載の成形装置は、第1の凹部を有する第1の型と第2の凹部を有する第2の型とを接触させ、上記第1、第2の凹部によって形成される成形空間内に金属粉末を圧縮し、この成形空間内で全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体を成形する装置であって、上記第1の凹部の全ての稜に丸みを設けると共に上記第1の凹部の中央部から上記第1の型を貫通する第1の貫通孔を設け、且つ、上記第2の凹部の全ての稜に丸みを設けると共に上記第2の凹部の中央部から上記第2の型を貫通する第2の貫通孔を設け、更に第1、第2の貫通孔には上記金属粉末を圧縮するための第1、第2の押圧体を挿脱自在に設けたことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項5に記載の成形装置は、請求項4に記載の発明において、上記第2の型の第2の凹部は、上記成形体の一面の稜のみを含む凹部として形成したことを特徴とするものである。
また、本発明の請求項6に記載の成形装置は、請求項4または請求項5に記載の発明において、上記第2の押圧体は、上記コンデンサ素子のリード線が貫通する貫通孔を有することを特徴とするものである。
本発明の請求項1〜請求項6に記載の発明によれば、従来の成形装置を多少改善するだけで全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体を製造することができる成形方法及び成形装置を提供することができる。
以下、図1及び図2に示す実施形態に基づいて本発明を説明する。本実施形態の成形装置は、タンタル、アルミニウム、ニオブ等の弁作用を有する金属粉末を用いてコンデンサ素子の陽極素子となる成形体を成形する場合に用いられる。本実施形態では弁作用金属粉末としてタンタル粉末を用いる場合について説明する。
本実施例の成形装置10は、例えば図1の(a)〜(f)に示すように、第1の凹部11Aを有する第1の型(以下、「下ダイ」と称す。)11と第2の凹部12Aを有する第2の型(以下、「上ダイ」と称す。)12を接触させ、第1、第2の凹部11A、12Aによって形成される成形空間内に金属粉末(例えば、タンタル粉末)Taを圧縮し、矩形状の全ての稜に丸みを有するコンデンサ素子用の成形体20(図2参照)を成形するものである。また、下ダイ11の第1の凹部11Aの軸心と上ダイ12の第2の凹部12Aの軸心は互いに一致するように配置されている。
第1の凹部11Aは下ダイ11の上面から下方に向けて所定の深さで矩形状に形成され、第1の凹部11Aにおいて成形体20の殆どの部分を成形する。第1の凹部11Aの底面の中央部には下ダイ11を下方に貫通する第1の貫通孔11Bが形成され、この第1の貫通孔11Bには第1の押圧体(以下、「下型」と称す。)13が下方から挿脱自在に挿入できるようになっている。第1の貫通孔11B及び下型13の水平方向の断面形状は特定の形状に制限されないが、例えば矩形状または円形状に形成することができる。また、第1の凹部11Aの底面及び側面によって形成される8箇所の稜にはそれぞれ丸みが設けられ、この丸みによって成形体20の上端部の4箇所の稜を除く8箇所の稜それぞれに丸みをつけ、自ずと面取りをするようになっている。
第2の凹部12Aは上ダイ12の下面に上方に向けて浅く形成され、第2の凹部12Aにおいて成形体20の上端部分を成形する。第2の凹部12Aの天面の中央部には上ダイ12を上方に貫通する第2の貫通孔12Bが形成され、この第2の貫通孔12Bには第2の押圧体(以下、「上型」と称す。)14が上方から挿脱自在に挿入できるようになっている。第2の貫通孔12B及び上型14の水平方向断面形状は特定の形状に制限されないが、例えば第1の貫通孔11B及び下型13と同様に形成されている。また、第2の凹部12Aの天面及び側面によって形成される6箇所の稜にはそれぞれ丸みが設けられ、この丸みによって成形体20の上端部の4箇所の稜にのみ丸みをつけ、面取りをするようになっている。更に云えば、第2の凹部12Aでは基本的に成形体20の上下方向の稜を形成せず、これらの稜を下ダイ11の第1の凹部11Aにおいて形成するようになっている。
また、上型14の軸心には細い貫通孔14Aが形成され、この貫通孔14Aにタンタルリード線Lが繰り出し自在に挿入されている。このタンタルリード線Lは上型14の下面から下方へ僅かに突出している。タンタルリード線Lの下方への突出部分は成形体20に差し込むようになっている。この上型14は上ダイ12の第2の貫通孔12B内に部分的に挿入された状態で下ダイ11の上方の所定位置に配置されている。
また、図示してないが、成形装置10は、下型13及び上型14をそれぞれ昇降駆動する駆動機構と、タンタルリード線Lを切断する切断手段とを備え、この駆動機構によって下型13及び上型14が互いに接近する方向に移動させて上下のダイ11、12の第1、第2の凹部11A、12A内でタンタル粉末を加圧成形して成形体20を形成した後、切断手段によってタンタルリード線Lを所定の長さ切断してリード端子21を形成する。この成形体20は、後工程で高温、高真空下で熱処理を受けてコンデンサ素子用の陽極素子としての焼結体になる。尚、上ダイ12は上型14と一緒に昇降し、また上型14は上ダイ12とは独立に駆動し、下型13と協働してタンタル粉末Taを加圧成形するようになっている。
次に、成形装置10を用いた本発明の成形方法の一実施形態について図1の(a)〜(f)を参照しながら説明する。
コンデンサ素子用の成形体を成形する場合には、まず、図1の(a)に示すように下ダイ11の第1の貫通孔11B内に下型13を所定の深さ(成形体20を成形するために必要なタンタル粉末Taを充填する空間を形成する深さ)まで挿入して第1の貫通孔11Bの下部開口を封止する。下型13の挿入深さはタンタル粉末Taの成形後に必要な素子重量及び密度等に応じて適宜設定する。第1の貫通孔11Bの下部開口を封止した後、第1の凹部11A内にタンタル粉末Taを供給し、第1の凹部11A及び第1の貫通孔11Bの残余の空間をタンタル粉末Taで満たす。この状態では上ダイ12及び上型14は下ダイ11の上方の所定位置に配置されている。
次いで、図1の(b)に示すように上ダイ12及び上型14が駆動機構を介して下降して上ダイ12が下ダイ11と接触して密着し、上型14から突出したタンタルリード線Lの一部をタンタル粉末Ta内に差し込む。下ダイ11内で下型13が駆動してタンタル粉末Taを押し上げ、同図の(c)に示すように上ダイ12の第2の凹部12B及び第2の貫通孔12Bの空間をタンタル粉末Taで埋める。上ダイ12内の空間がタンタル粉末Taで埋まり、上ダイ12の空間が消失すると、下型13の上昇と相俟って上型14が駆動して上ダイ12から下降しタンタルリード線Lをタンタル粉末Ta内に押し込みながら、下型13と協働してタンタル粉末Taを圧縮して第1、第2の凹部11A、12Aで形成する成形空間内に閉じ込めてタンタル粉末Taを加圧成形し、同図の(d)に示すように下型13の上端面が第1の凹部11Aの底面と一致した時点で下型11が停止すると共に上型14の下端面が第2の凹部12Aの天面と一致した時点で上型14が停止する。成形体20が加圧成形された時点でタンタルリード線Lは成形体20に連結、固定される。
次いで、図1の(e)に示すように上ダイ12及び上型14がタンタルリード線Lを残したまま上昇して下ダイ11から離間して初期位置に戻る。この段階でタンタルリード線Lが成形体20に連結されたままになっている。この時、図示しないリード線カッタでタンタルリード線Lを所定の長さに切断し、また、上型14に残ったタンタルリード線Lの余分に突出している部分をリード線戻し機(図示せず)によって上方に引き上げて上型14に引き込む。ここでタンタルリード線Lは上型14の上方でループを形成しているため、引き上げられても支障のない構造になっている。上ダイ12及び上型14が初期位置に戻ると、同図の(f)に示すように下型13が上昇して成形体20を下ダイ11の第1の凹部11Aから押し出し、図示しない取り出し機構によって成形体20を下ダイ11から取り出す。この成形体20は、図1の(e)、(f)及び図2の(a)〜(c)に示すように、全ての稜に丸みを有するものとして形成されることになる。その後は、上述した動作を繰り返して成形体20を次々と成形する。
以上説明したように本実施形態によれば、本実施形態の成形装置10を用い、第1の凹部11Aを有する下ダイ11と第2の凹部12Aを有する上ダイ12とを接触させ、第1、第2の凹部11A、12Aによって形成される成形空間内にタンタル粉末Taを圧縮し、この成形空間内で全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体20を成形する際に、下ダイ11の第1の貫通孔11Bに下型13を挿入した後、第1の凹部11A及び第1の貫通孔11Bの空間にタンタル粉末Taを充填し、引き続き、下ダイ11と上ダイ12とを密着させた後、下型13及び上型14を介してタンタル粉末Taを圧縮して第1、第2の凹部11A、12Aで形成される成形空間内で成形体20を形成するようにしたため、従来の成形装置を多少改善するだけでタンタル粉末Taによって全ての稜に丸みを有する矩形状の成形体20を簡単且つ迅速に加圧成形することができ、延いては後工程でこの成形体20に均一な固体電解質層を形成することができる。
また、本実施形態によれば、上型14の貫通孔14Aを介してタンタルリード線Lをタンタル粉末Taに差し込むようにしたため、タンタルリード線Lを成形体20の成形と同時に取り付けることができる。また、下型13を介して成形体20を下ダイ11から押し出すようにしたため、成形体20を下ダイ11から簡単に取り出すことができる。
尚、上記実施形態では上ダイ12は、成形体20の上端面の稜のみに丸みをつける第2の凹部12Aを設けた場合について説明したが、第2の凹部を第1の凹部と同様に成形体の側面の稜の一部を形成するようにしても良い。この場合には第2の凹部の側面の高さを短くすることは云うまでもない。また、下ダイ11を二分割し、一方を成形体の直胴部を成形する部分とし、他方を上ダイ12と同様に成形体の下端部のみを成形する部分とすることもできる。また、上記実施形態では弁作用を有する金属としてタンタルを用いた場合について説明したが、その他の弁作用を有する金属(アルミニウムやニオブ)を用いても良い。
本発明の成形方法及び成形装置は、例えば弁作用を有する金属粉末を用いて電解コンデンサ用の陽極素子を成形する場合に好適に利用することができる。
(a)〜(f)はそれぞれ本発明の成形装置を用いて成形体を成形する工程を示す工程図である。 図1に示す成形装置を用いて成形した成形体を示す図で、(a)は成形体の上面からの平面図、(b)、(c)はそれぞれ成形体の側面図である。 (a)〜(d)はそれぞれ従来の成形装置を用いて成形体を成形する工程を示す工程図である。 図3に示す成形装置を用いて成形した成形体を示す図で、(a)〜(c)はそれぞれ図2の(a)〜(c)に相当する図である。
符号の説明
10 成形装置
11 下ダイ(第1の型)
11A 第1の凹部
12B 第1の貫通孔
12 上ダイ(第2の型)
12A 第2の凹部
12B 第2の貫通孔
13 下型(第1の押圧体)
14 上型(第2の押圧体)
Ta タンタル粉末(金属粉末)
L タンタルリード線(リード線)

Claims (6)

  1. 第1の凹部を有する第1の型と第2の凹部を有する第2の型を接触させ、上記第1、第2の凹部によって形成される成形空間内に金属粉末を圧縮し、この成形空間内で全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体を成形する方法であって、上記第1の凹部の中央部から第1の型を貫通する第1の貫通孔に第1の押圧体を挿入する工程と、上記第1の凹部及び第1の貫通孔に上記金属粉末を充填する工程と、上記第2の凹部の中央部から第2の型を貫通する第2の貫通孔に第2の押圧体を挿入した上記第2の型と上記第1の型とを接触させて第1、第2の凹部を突き合わせる工程と、第1の押圧体及び第2の押圧体を介して上記金属粉末を上記成形空間内に圧縮する工程と、を有することを特徴とする成形方法。
  2. 上記第2の押圧体の貫通孔を介してリード線を上記金属粉末に差し込む工程を有することを特徴とする請求項1に記載の成形方法。
  3. 上記第1の押圧体を介して上記成形体を第1の型から押し出す工程を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の成形方法。
  4. 第1の凹部を有する第1の型と第2の凹部を有する第2の型とを接触させ、上記第1、第2の凹部によって形成される成形空間内に金属粉末を圧縮し、この成形空間内で全ての稜に丸みを有する矩形状のコンデンサ素子用の成形体を成形する装置であって、上記第1の凹部の全ての稜に丸みを設けると共に上記第1の凹部の中央部から上記第1の型を貫通する第1の貫通孔を設け、且つ、上記第2の凹部の全ての稜に丸みを設けると共に上記第2の凹部の中央部から上記第2の型を貫通する第2の貫通孔を設け、更に第1、第2の貫通孔には上記金属粉末を圧縮するための第1、第2の押圧体を挿脱自在に設けたことを特徴とする成形装置。
  5. 上記第2の型の第2の凹部は、上記成形体の一面の稜のみを含む凹部として形成したことを特徴とする請求項4に記載の成形装置。
  6. 上記第2の押圧体は、上記コンデンサ素子のリード線が貫通する貫通孔を有することを特徴とする請求項4または請求項5に記載の成形装置。
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