JP2005104968A

JP2005104968A - Phenylpyrazole compound and its use

Info

Publication number: JP2005104968A
Application number: JP2004193267A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Komori; 岳小森; Yasushi Sakaguchi; 裕史阪口
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2003-09-12
Filing date: 2004-06-30
Publication date: 2005-04-21

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a compound having an excellent blight control effect. <P>SOLUTION: A phenylpyrazole compound expressed by formula (1) (R<SP>1</SP>is H, a halogen, a 1-3C alkyl, a 1-3C haloalkyl or a 1-3C alkoxy and R<SP>2</SP>is H, a halogen or a 1-3C alkyl, or R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>together form trimethylene, tetramethylene or CH=CH-CH=CH; R<SP>4</SP>is H or a 1-4C alkyl; and R<SP>5</SP>is a 1-3C alkyl or a 3-4C alkynyl) has the excellent blight control effect. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フェニルピラゾール化合物及びその用途に関する。 The present invention relates to a phenylpyrazole compound and use thereof.

従来より、植物病害を防除するために多くの化合物が開発され、それらの化合物を有効成分とする植物病害防除剤が実用に供されている。 Conventionally, many compounds have been developed for controlling plant diseases, and plant disease control agents containing these compounds as active ingredients have been put to practical use.

本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a compound having an excellent plant disease control effect.

本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるフェニルピラゾール化合物が優れた植物病害防除活性を有することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は式（１）

〔式中、
Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ３アルコキシ基を表し、
Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、
あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、
Ｒ⁴は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ⁵はＣ１−Ｃ３アルキル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕
で示されるフェニルピラゾール化合物（以下、本発明化合物を記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。 As a result of intensive studies to find a compound having an excellent plant disease control effect, the present inventors have found that the phenylpyrazole compound represented by the following formula (1) has an excellent plant disease control activity. completed.
That is, the present invention provides the formula (1)

[Where,
R ¹ represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 haloalkyl group or a C1-C3 alkoxy group,
R ² represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group,
Alternatively, R ¹ and R ² together represent a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH═CH—CH═CH group,
R ⁴ represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group,
R ⁵ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group. ]
A plant disease control agent comprising a phenylpyrazole compound (hereinafter referred to as the compound of the present invention), a plant disease control agent comprising the compound of the present invention as an active ingredient, and an effective amount of the compound of the present invention. A plant disease control method characterized by the above.

本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。 Since the compound of the present invention has an excellent plant disease control effect, it is useful as an active ingredient of a plant disease control agent.

本発明において、
Ｒ¹で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基があげられ、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基としては、例えばトリフルオロメチル基、フルオロメチル基、クロロメチル基及び２，２，２−トリフルオロエチル基があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基としては、例えばメトキシ基及びエトキシ基があげられ、
Ｒ²で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基があげられ、
Ｒ⁴で表されるＣ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基があげられ、
Ｒ⁵で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基及び３−ブチニル基があげられる。 In the present invention,
Examples of the halogen atom represented by R ¹ include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Examples of the C1-C3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. Examples of the -C3 haloalkyl group include a trifluoromethyl group, a fluoromethyl group, a chloromethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group. Examples of the C1-C3 alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group. You can
Examples of the halogen atom represented by R ² include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. Examples of the C1-C3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group.
Examples of the C1-C4 alkyl group represented by R ⁴ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
Examples of the C1-C3 alkyl group represented by R ⁵ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group, and examples of the C3-C4 alkynyl group include a 2-propynyl group and a 1-methyl-2-propynyl group. , 2-butynyl group and 3-butynyl group.

尚、前記式（１）で示される本発明化合物とは、下記式（１−ａ）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物及び／又は下記式（１−ｂ）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
で示される化合物を表す。 In addition, this invention compound shown by said Formula (1) is following formula (1-a).

[Wherein, R ¹ , R ² , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
And / or the following formula (1-b)

[Wherein, R ¹ , R ² , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
The compound shown by these is represented.

本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ３アルコキシ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がメチル基であるフェニルピラゾール化合物； Examples of the compound of the present invention include the following compounds.
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 haloalkyl group or a C1-C3 alkoxy group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound in which R ¹ is a halogen atom in formula (1);
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a chlorine atom;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a methyl group;

式（１）において、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²がハロゲン原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²がメチル基であるフェニルピラゾール化合物； A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a halogen atom;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a methyl group;

式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になってトリメチレン基、テトラメチレン基又はＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹とＲ²とが一緒になってトリメチレン基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹とＲ²とが一緒になってテトラメチレン基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹とＲ²とが一緒になってＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), R ¹ is a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² together are a trimethylene group, A phenylpyrazole compound which is a tetramethylene group or a CH═CH—CH═CH group;
A phenylpyrazole compound in which R ¹ and R ² together are a trimethylene group in formula (1);
A phenylpyrazole compound in which R ¹ and R ² together are a tetramethylene group in formula (1);
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ and R ² are taken together to form a CH═CH—CH═CH group;

式（１）において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ３アルキル基である化合物；
式（１）において、Ｒ⁴がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁴が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がエチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), compounds wherein R ⁴ is a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ⁴ is a methyl group;
A phenylpyrazole compound in which R ⁴ is a hydrogen atom in formula (1);
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ⁵ is a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ⁵ is a methyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ⁵ is an ethyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ⁵ is a C3-C4 alkynyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ⁵ is a 2-propynyl group;

式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物
式（１）において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がエチル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が臭素原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基又はＣ１−Ｃ３アルコキシ基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物； Phenylpyrazole compound in which R ¹ is a C1-C3 alkyl group in formula (1) and R ² is a hydrogen atom In formula (1), phenyl pyrazole in which R ¹ is a methyl group and R ² is a hydrogen atom Compound;
A phenylpyrazole compound in which R ¹ is an ethyl group and R ² is a hydrogen atom in formula (1);
A phenylpyrazole compound in which R ¹ is a halogen atom and R ² is a hydrogen atom in formula (1); in formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a chlorine atom and R ² is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a bromine atom and R ² is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, and R ² is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound in which R ¹ is a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 haloalkyl group or a C1-C3 alkoxy group in formula (1), and R ² is a hydrogen atom;

式（１）において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物
式（１）において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²がハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物。 A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a methyl group, R ² is a hydrogen atom, and R ⁵ is a 2-propynyl group;
In Formula (1), R ¹ is a chlorine atom, R ² is a hydrogen atom, and R ⁵ is a 2-propynyl group. In Formula (1), R ¹ is a methyl group, R ² A phenylpyrazole compound wherein is a hydrogen atom and R ⁵ is a methyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a chlorine atom, R ² is a hydrogen atom, and R ⁵ is a methyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, and R ² is a halogen atom or a C1-C3 alkyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a hydrogen atom, and R ⁵ is a C3-C4 alkynyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a hydrogen atom and R ⁵ is a 2-propynyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ² is a hydrogen atom, R ⁴ is a methyl group, and R ⁵ is a 2-propynyl group;
A phenylpyrazole compound represented by formula (1), wherein R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group.

次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば（製造法１）〜（製造例４）により製造することができる。 Next, the manufacturing method of this invention compound is demonstrated.
The compound of the present invention can be produced by, for example, (Production Method 1) to (Production Example 4).

（製造法１）
式（１）で示される本発明化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを脱水縮合剤の存在下で反応させることにより、製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、式（３）
で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物に希塩酸等の酸を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
（ｉｉｉ）反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 1)
The compound of the present invention represented by the formula (1) can be produced by reacting the compound represented by the formula (2) with the compound represented by the formula (3) in the presence of a dehydration condensing agent.

[Wherein, R ¹ , R ² , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and quinoline, and mixtures thereof.
Examples of the dehydrating condensing agent used in the reaction include carbodiimides such as 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide.
The amount of the reagent used for the reaction is represented by the formula (3) with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (2).
Is usually in a proportion of 1 to 3 mol, and the dehydrating condensing agent is usually in a proportion of 1 to 5 mol.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 140 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention represented by the formula (1) can be isolated, for example, by performing a post-treatment operation by the following method.
(I) A method in which an acid such as dilute hydrochloric acid is added to the reaction mixture to perform organic solvent extraction, and the organic layer is dried and concentrated.
(Ii) A method of adding an organic solvent to the reaction mixture as necessary, filtering, and concentrating the filtrate.
(Iii) A method of filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
The isolated compound of the present invention represented by the formula (1) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（製造法２）
本発明化合物のうち式（５）で示される化合物は、式（４）で示される化合物を酸の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等の有機酸類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸類があげられる。
反応に用いられる酸の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、通常０．０１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（５）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 2)
Among the compounds of the present invention, the compound represented by the formula (5) can be produced by reacting the compound represented by the formula (4) in the presence of an acid.

[Wherein, R ¹ , R ² and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, organic acids such as acetic acid and propionic acid, water, and a mixture thereof.
Examples of the acid used for the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid.
The amount of the acid used in the reaction is usually from 0.01 mol to an excess amount relative to 1 mol of the compound represented by the formula (4).
The reaction temperature is usually in the range of 0 to 150 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (5) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (5) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（製造法３）
式（１）で示される本発明化合物は、式（６）で示される化合物と式（７）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することもできる。

〔式中、L¹は塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、式（７）
で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production method 3)
The compound of the present invention represented by the formula (1) can also be produced by reacting a compound represented by the formula (6) with a compound represented by the formula (7) in the presence of a base.

[Wherein, L ¹ represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and R ¹ , R ² , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, And halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof. .
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride.
The amount of the reagent used for the reaction is represented by the formula (7) with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (6).
Is usually in a proportion of 1 to 2 mol, and the base is usually in a proportion of 1 to 2 mol.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention represented by the formula (1) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound of the present invention represented by the formula (1) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（製造法４）
式（１）で示される本発明化合物は、式（６）で示される化合物と式（８）で示される化合物とを、アゾ化合物及びトリフェニルホスフィンの存在下で反応させることにより製造することもできる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるアゾ化合物としては、ジエチルアゾジカルボキシレート及びジメチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、式（８）で示される化合物が通常１〜５モルの割合であり、アゾ化合物が通常１〜５モルの割合であり、トリフェニルホスフィンが通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Production Method 4)
The compound of the present invention represented by the formula (1) can also be produced by reacting the compound represented by the formula (6) with the compound represented by the formula (8) in the presence of an azo compound and triphenylphosphine. it can.

[Wherein, R ¹ , R ² , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and chlorobenzene, aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene, pentane and hexane. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons and mixtures thereof.
Examples of the azo compound used in the reaction include diethyl azodicarboxylate, dimethyl azodicarboxylate, and diisopropyl azodicarboxylate.
The amount of the reagent used for the reaction is usually 1 to 5 mol of the compound represented by the formula (8) and 1 to 5 mol of the azo compound based on 1 mol of the compound represented by the formula (6). The proportion of triphenylphosphine is usually 1 to 5 mol.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention represented by formula (1) can be isolated by performing post-treatment operations such as adding an organic solvent to the reaction mixture and filtering, and concentrating the filtrate. it can. The isolated compound of the present invention represented by the formula (1) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

次に、本発明化合物の中間体化合物の製造法について説明する Next, a method for producing an intermediate compound of the present compound will be described.

（中間体製造法１）

〔式中、Ｒ⁶はメチル基、エチル基又はプロピル基を表し、Ｌ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１１−１）
式（１０３）で示される化合物は、式（１０１）で示される化合物と式（７）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０１）で示される化合物１モルに対して、式（７）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１０３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Intermediate production method 1)

[Wherein R ⁶ represents a methyl group, an ethyl group or a propyl group, and L ¹ , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]
(Step 11-1)
The compound represented by the formula (103) can be produced by reacting the compound represented by the formula (101) and the compound represented by the formula (7) in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and tert-butyl methyl ether, aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and chlorobenzene. And halogenated hydrocarbons such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, and the like.
The amount of the reagent used for the reaction is usually 1 to 2 mol of the compound represented by the formula (7) and 1 to 2 mol of the base based on 1 mol of the compound represented by the formula (101). It is a ratio.
The reaction temperature is usually in the range of 0 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (103) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. The isolated compound represented by the formula (103) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（工程１１−２）
式（１０５）で示される化合物は、式（１０３）で示される化合物と式（１０４）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造させることができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０３）で示される化合物１モルに対して、式（１０４）で示される化合物が通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１０５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる (Step 11-2)
The compound represented by the formula (105) can be produced by reacting the compound represented by the formula (103) and the compound represented by the formula (104) in the presence of a base.
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, N, N-dimethyl, and the like. Examples thereof include acid amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydrides such as potassium hydride and sodium hydride, alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide.
The amount of the reagent used in the reaction is usually 1 mol to excess of the compound represented by formula (104) and 1 to 5 mol of the base based on 1 mol of the compound represented by formula (103). Is the ratio.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is acidified by adding an acid such as dilute hydrochloric acid, and then subjected to post-treatment operations such as extraction with an organic solvent and drying and concentration of the organic layer, whereby the compound represented by the formula (105) Can be isolated. The isolated compound represented by the formula (105) can be further purified by chromatography, recrystallization or the like.

（工程１１−３）
式（３）で示される化合物は、式（１０５）で示される化合物と式（１０６）で示される化合物又はその塩酸塩、酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０５）で示される化合物１モルに対して、式（１０６）で示される化合物又はその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が触媒量〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、濾過する等の後処理操作を行うことにより、式（３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 11-3)
The compound represented by the formula (3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (105) with a compound represented by the formula (106) or a salt thereof such as hydrochloride or acetate.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent, in the presence or absence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, acid amides such as N, N-dimethylformamide, alcohols such as methanol and ethanol, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate, alkali metal carbonates such as potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide and the like. Alkali metal alkoxides.
The amount of the reagent used in the reaction is usually 1 to 3 mol of the compound represented by the formula (106) or a salt thereof with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (105), and the base is a catalytic amount to The ratio is 3 moles.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (3) can be isolated by post-treatment such as concentration and filtration of the reaction mixture. The isolated compound represented by the formula (3) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（中間体製造法２）

〔式中、ＰＧは水酸基の保護基（ベンジル基、４−メトキシベンジル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等があげられる）を表し、Ｌ²は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁴は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１２−１）〜（工程１２−３）
式（４２）で示される化合物は、（中間体製造法１）の（工程１１−１）〜（工程１１−３）に準ずる方法で、式（１０１）で示される化合物の代わりに式（１７）で示される化合物を用い、また式（７）で示される化合物の代わりに式（３９）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。 (Intermediate production method 2)

[Wherein, PG represents a hydroxyl-protecting group (including benzyl group, 4-methoxybenzyl group, trimethylsilyl group, tert-butyldimethylsilyl group, etc.), L ² represents a chlorine atom or a bromine atom, R ¹ , R ² and R ⁴ represent the same meaning as described above. ]
(Step 12-1) to (Step 12-3)
The compound represented by formula (42) is a method according to (Step 11-1) to (Step 11-3) of (Intermediate Production Method 1), and is represented by Formula (17) instead of the compound represented by Formula (101). ), Or by using a compound represented by formula (39) instead of the compound represented by formula (7).

（工程１２−４）
式（４３）で示される化合物は、（製造法１）に準ずる方法で、式（３）で示される化合物の代わりに式（４２）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。 (Step 12-4)
The compound represented by the formula (43) can be produced by reacting the compound represented by the formula (42) in place of the compound represented by the formula (3) by a method according to (Production Method 1). it can.

（工程１２−５）
（ｉ）式（４３）で示される化合物のうちＰＧがベンジル基又は４−メトキシベンジル基を表す場合には、例えば式（４３）で示される化合物を水素とパラジウム炭素の存在下で反応させることにより、式（６）で示される化合物を製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるパラジウム炭素の量は、式（４３）で示される化合物１モルに対して、通常パラジウム炭素に含有されるパラジウムが０．００１〜０．１モルとなる割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 12-5)
(I) When PG represents a benzyl group or a 4-methoxybenzyl group among the compounds represented by the formula (43), for example, the compound represented by the formula (43) is reacted in the presence of hydrogen and palladium carbon. Thus, the compound represented by the formula (6) can be produced.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran, esters such as ethyl acetate, aromatic hydrocarbons such as toluene, water, and mixtures thereof.
The amount of palladium carbon used in the reaction is such that the palladium normally contained in the palladium carbon is 0.001 to 0.1 mol with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (43).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (6) can be isolated by performing post-treatment operations such as adding an organic solvent to the reaction mixture as necessary, filtering, and concentrating the filtrate. . The isolated compound represented by the formula (6) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（ｉｉ）式（４３）で示される化合物のうちＰＧがトリメチルシリル基又はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基を表す場合には、式（４３）で示される化合物を酸又はテトラブチルアンモニウムフロリドの存在下で反応させることにより、式（６）で示される化合物を製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる酸としては、塩酸、硫酸等の無機酸類及び酢酸、トリフルオロオ酢酸等の有機酸類等があげられる。
反応に用いられる酸又はテトラブチルアンモニウムフロリドの量は、式（４３）で示される化合物１モルに対して、通常０．００１〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Ii) Of the compounds represented by formula (43), when PG represents a trimethylsilyl group or a tert-butyldimethylsilyl group, the compound represented by formula (43) is removed in the presence of an acid or tetrabutylammonium fluoride. By reacting, the compound represented by the formula (6) can be produced.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane, water, and a mixture thereof.
Examples of the acid used for the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid and trifluorooacetic acid.
The amount of the acid or tetrabutylammonium fluoride used in the reaction is usually in a proportion of 0.001 to excess with respect to 1 mol of the compound represented by the formula (43).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C., and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (6) is isolated by performing post-treatment operations such as adding an organic solvent to the reaction mixture as necessary, filtering, and concentrating the filtrate under reduced pressure. Can do. The isolated compound represented by the formula (6) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（中間体製造法３）

〔式中、ＰＧ、Ｌ¹、Ｒ⁴及びＲ⁵は前記と同じ意味を表す。〕 (Intermediate production method 3)

[Wherein, PG, L ¹ , R ⁴ and R ⁵ represent the same meaning as described above. ]

（工程１３−１）
式（４４）で示される化合物は、（中間体製造法２）の（工程１２−５）に準ずる方法で、式（４３）で示される化合物の代わりに式（４２）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。 (Step 13-1)
The compound represented by Formula (44) is a method according to (Step 12-5) of (Intermediate Production Method 2), and the compound represented by Formula (42) is used instead of the compound represented by Formula (43). Can be produced by reacting with each other.

（工程１３−２）
式（３）で示される化合物は、（製造法３）又は（製造法４）に準ずる方法で、式（６）で示される化合物の代わりに式（４４）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。 (Step 13-2)
The compound represented by the formula (3) is reacted by a method according to (Production Method 3) or (Production Method 4) using the compound represented by the formula (44) instead of the compound represented by the formula (6). Can be manufactured.

次に本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（Ａ）で示される化合物；

式（Ｂ）で示される化合物；

式（Ｃ）で示される化合物；

上記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）におけるＲ¹、Ｒ²及びＲ⁵の各置換基の組合せは、以下の（表１）及び（表２）に記載する。 Next, specific examples of the compound of the present invention are shown below.
A compound of formula (A);

A compound of formula (B);

A compound of formula (C);

The combinations of the substituents R ¹ , R ² and R ^{5 in} the above formulas (A), (B) and (C) are described in the following (Table 1) and (Table 2).

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病（Plasmopara viticola）、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophthora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。 Examples of plant diseases that the compounds of the present invention have a controlling effect include plant diseases caused by algae, and specific examples include the following diseases.
Sugar beet, downy mildew (Peronospora brassicae), spinach downy mildew (Peronospora spinaciae), tobacco downy mildew (Peronospora tabacina), downy mildew downy mildew (Pseudoperonospora cubensis), grape downy mildew ( Plasmopara viticola, Phytophthora cactorum, tomatoes, Phytophthora capsici, Tomato, Phytophthora cinnamomi, Potato, Tomato plague (Phytophthora infestans), Tobacco, Tomato , Leek plague (Phytophthora nicotianae var. Nicotianae), spinach blight (Pythium sp.), Cucumber seedling blight (Pythium aphanidermatum), wheat brown snow rot (Pythium sp.), Tobacco seedling blight ( Pythium debaryanum), soybean Pythium rot (Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum).

本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水があげられる。 The plant disease control agent of the present invention may be the compound of the present invention itself, but usually mixed with a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant or other formulation adjuvants to give an emulsion, a wettable powder, a granular wettable powder. It is formulated into flowables, powders, granules and the like. These preparations usually contain 0.1 to 90% by weight of the compound of the present invention.
Examples of solid carriers used for formulation include kaolin clay, attapulgite clay, bentonite, montmorillonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite, corn cob flour, walnut shell powder, etc. Natural organic materials, synthetic organic materials such as urea, salts such as calcium carbonate and ammonium sulfate, and fine powders or granular materials made of synthetic inorganic materials such as synthetic hydrous silicon oxide. Examples of liquid carriers include xylene, alkylbenzene, methyl Aromatic hydrocarbons such as naphthalene, alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol and cellosolve, ketones such as acetone, cyclohexanone and isophorone, vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil, and petroleum aliphatic hydrocarbons , Esters, dimethyls Sulfoxide, acetonitrile, water and the like.

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤があげられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤があげられる。 Examples of surfactants include anionic interfaces such as alkyl sulfate esters, alkylaryl sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkylaryl ether phosphate esters, lignin sulfonates, naphthalene sulfonate formaldehyde polycondensates, and the like. Nonionic surfactants such as activators and polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl polyoxypropylene block copolymers, sorbitan fatty acid esters and the like.
Examples of other adjuvants for preparation include water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone, gum arabic, alginic acid and salts thereof, polysaccharides such as CMC (carboxymethylcellulose) and xanthan gum, aluminum magnesium silicate, alumina sol And stabilizers such as inorganic substances such as preservatives, colorants, PAP (isopropyl acid phosphate) and BHT.

本発明の植物病害防除剤は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ²あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。 The plant disease control agent of the present invention is used to protect the plant from plant diseases, for example, by treating the plant body, and also protects plants growing in the soil from plant diseases by treating the soil. Used for.
When the plant disease control agent of the present invention is used by treating the plant body with foliage treatment or by treating it with soil, the treatment amount depends on the type of crop, the type of disease to be controlled, and the control type. Although it can be changed depending on the degree of occurrence of the target disease, preparation form, treatment time, weather conditions, etc., it is usually 1 to 5000 g, preferably 5 to 1000 g as the compound of the present invention per 10,000 m ² .
Emulsions, wettable powders, flowables and the like are usually treated by diluting with water and spraying. In this case, the concentration of the compound of the present invention is usually 0.0001 to 3% by weight, preferably 0.0005 to 1% by weight. Powders, granules, etc. are usually processed without dilution.

また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。 Moreover, the plant disease control agent of this invention can also be used by processing methods, such as seed disinfection. As the method, for example, a method of immersing a plant seed in the plant disease control agent of the present invention prepared so that the concentration of the compound of the present invention is 1-1000 ppm, the concentration of the compound of the present invention is 1-1000 ppm in the plant seed. And the method of spraying or smearing the plant disease control agent of the present invention and the method of dressing the plant disease control agent of the present invention on plant seeds.
In the plant disease control method of the present invention, the effective amount of the plant disease control agent of the present invention is usually treated to the plant where the occurrence of the disease is predicted or the soil where the plant grows, and / or the occurrence of the disease is confirmed. It is carried out by treating the plant or the soil where the plant grows.

本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。 The plant disease control agent of the present invention is usually used as a plant disease control agent for agricultural and horticultural use, that is, a plant disease control agent for controlling plant diseases such as upland, paddy fields, orchards, tea gardens, pastures, and lawns.
The plant disease control agent of the present invention can be used together with other plant disease control agents, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators and / or fertilizers.

かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ボスカリド、ペンチオピラド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルがあげられる。 As an active ingredient of such a plant disease control agent, for example, chlorothalonil, fluazinam, diclofuranide, fosetyl-Al, cyclic imide derivatives (captan, captohol, phorpet, etc.), dithiocarbamate derivatives (manneb, mancozeb, thiram, Ziram, dineb, propineb, etc.), inorganic or organic copper derivatives (basic copper sulfate, basic copper chloride, copper hydroxide, oxine copper, etc.), acylalanine derivatives (metalaxyl, furaxyl, off race, cyprofuran, benalaxyl, oxadixyl) ), Strobilurin compounds (cresoxime methyl, azoxystrobin, trifloxystrobin, picoxystrobin, pyraclostrobin, dimoxystrobin, etc.), anilinopyrimidine derivatives (cyprodinil, pyrimethanil, mepa) Pyrim, etc.), phenylpyrrole derivatives (phenpiclonyl, fludioxonil, etc.), imide derivatives (procymidone, iprodione, vinclozoline, etc.), benzimidazole derivatives (carbendazim, benomyl, thiabendazole, thiophanatemethyl, etc.), amine derivatives (fenpropimorph, tridemorph, phen) Propidine, spiroxamine, etc.), azole derivatives (propiconazole, triadimenol, prochloraz, penconazole, tebuconazole, flusilazole, diniconazole, bromconazole, epoxiconazole, difenoconazole, cyproconazole, metconazole, triflumizole, tetraco Nazole, Microbutanyl, Fenbuconazole, Hexaconazole, Fluquinconazole, Tritico Sol, viteltanol, imazalyl, flutriahol, etc.), simoxanyl, dimethomorph, famoxadone, fenamidone, iprovaricarb, benchavaricarb, cyazofamide, zoxamide, ethaboxam, boscalid, penthiopyrado, fenhexamide, quinoxyphene, diethofencarb and acibenzo Lar S-methyl.

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。 Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail by a manufacture example, a formulation example, a test example, etc., this invention is not limited only to these examples.
First, the manufacture example of this invention compound is shown.

製造例１
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル５．０ｇとメチルヒドラジン１．３５ｇとをエタノール５０ｍｌに混合し、７５〜８０℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣にヘキサンを加え、濾過して得られた結晶をヘキサン洗浄して生成物（生成物ｉと記す。）５．１７ｇを得た。
上記の操作により得られた生成物ｉ９３３ｍｇ、４−クロロフェニル酢酸１７０ｍｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩８４３ｍｇ及びピリジン４０ｍｌを混合し、１１５℃で４時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／４〜１／１０）に付し、Ｎ−｛４−（３，４−ジメトキシフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１と記す。）６００ｍｇ及びＮ−｛４−（３，４−ジメトキシフェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物２と記す。）３５０ｍｇを得た。
本発明化合物１

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５６（３Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、３．７２（２Ｈ，ｓ）、３．７４（３Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ、１．９Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．４１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．７１（１Ｈ，ｓ）、１０．１（１Ｈ，ｂｒ）

本発明化合物２

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５８（２Ｈ，ｓ）、３．６２（３Ｈ，ｓ）、３．７２（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ、１．４Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．９１（１Ｈ，ｓ）、９．７８（１Ｈ，ｂｒ） Production Example 1
2- (3,4-Dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile (5.0 g) and methylhydrazine (1.35 g) were mixed with ethanol (50 ml), and the mixture was stirred at 75 to 80 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, hexane was added to the obtained residue, and the crystals obtained by filtration were washed with hexane to obtain 5.17 g of a product (referred to as product i).
933 mg of the product i obtained by the above operation, 170 mg of 4-chlorophenylacetic acid, 843 mg of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 40 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 4 hours. Thereafter, the reaction mixture allowed to cool to near room temperature was concentrated under reduced pressure, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with 5% hydrochloric acid and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 1/4 to 1/10) to give N- {4- (3,4-dimethoxyphenyl) -1-methyl-1H-pyrazole-5. -Yl} -2- (4-chlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 1) 600 mg and N- {4- (3,4-dimethoxyphenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl } 350 mg of 2- (4-chlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 2) was obtained.
Compound 1 of the present invention

¹ H-NMR (CD ₃ SOCD ₃ , TMS) δ (ppm): 3.56 (3H, s), 3.68 (3H, s), 3.72 (2H, s), 3.74 (3H, s), 6.82 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.82 (1H, dd, J = 8.2 Hz, 1.9 Hz), 6.99 (1H, d, J = 1.9 Hz) ), 7.37 (2H, d, J = 8.7 Hz), 7.41 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.71 (1H, s), 10.1 (1H, br)

Compound 2 of the present invention

¹ H-NMR (CD ₃ SOCD ₃ , TMS) δ (ppm): 3.58 (2H, s), 3.62 (3H, s), 3.72 (3H, s), 3.78 (3H, s), 6.74 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.79 (1H, dd, J = 8.4 Hz, 1.4 Hz), 6.94 (1H, d, J = 1.4 Hz) ), 7.32 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.38 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.91 (1H, s), 9.78 (1H, br)

製造例２
４−クロロフェニル酢酸１７０ｍｇ、３−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール２１９ｍｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２１１ｍｇ及びピリジン１０ｍｌを混合し、１１５℃で６時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／３）に付し、Ｎ−｛４−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物３と記す。）１２３ｍｇを得た。
本発明化合物３

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．７５（２Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、６．３３−６．３９（１Ｈ，ｍ）、６．６７−６．７７（２Ｈ，ｍ）、７．２２−７．２６（２Ｈ，ｍ）、７．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５２（１Ｈ，ｓ）、７．６２（１Ｈ，ｂｒ） Production Example 2
170 mg of 4-chlorophenylacetic acid, 219 mg of 3-amino-4- (3,4-dimethoxyphenyl) -1H-pyrazole, 211 mg of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 10 ml of pyridine were mixed, The mixture was stirred at 115 ° C. for 6 hours. Thereafter, the reaction mixture allowed to cool to near room temperature was concentrated under reduced pressure, water was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with 5% hydrochloric acid and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 1/3) to give N- {4- (3,4-dimethoxyphenyl) -1H-pyrazol-3-yl} -2- (4 -Chlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 3) 123 mg was obtained.
Compound 3 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 3.75 (2H, s), 3.82 (3H, s), 3.90 (3H, s), 6.33-6.39 ( 1H, m), 6.67-6.77 (2H, m), 7.22-7.26 (2H, m), 7.39 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.52 ( 1H, s), 7.62 (1H, br)

製造例３
参考製造例５で得られたＮ−｛４−（３−メトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．５０ｇをテトラヒドロフラン２０ｍｌに混合し、ここに室温でテトラブチルアンモニウムフルオライド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液）１．２ｍｌを加え、室温で１０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液及び水を加えて、減圧下濃縮した後、該濃縮液を酢酸エチルで２回抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣に３−ブロモ−１−プロピン０．６４ｍｌ、炭酸カリウム２３９ｍｇ及びアセトニトリルを混合し、８０℃で２時間撹拌した。室温付近まで放冷した反応混合物に酢酸エチルを加え、該混合液を濾過し、その濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛４−（３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物４と記す。）０．２４ｇを得た。
本発明化合物４

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）３．５９（２Ｈ，ｓ）、３．６４（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、４．７４（２Ｈ、ｍ）、６．７９〜６．８６（２Ｈ，m）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３９（２Ｈ，d，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．９３（１Ｈ，ｓ）、９．８０（１Ｈ，ｓ） Production Example 3
N- {4- (3-methoxy-4- (tert-butyldimethylsilyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl} -2- (4-chlorophenyl) obtained in Reference Production Example 5 ) 0.50 g of acetamide was mixed with 20 ml of tetrahydrofuran, and 1.2 ml of tetrabutylammonium fluoride (1M tetrahydrofuran solution) was added thereto at room temperature, followed by stirring at room temperature for 10 minutes. A saturated aqueous ammonium chloride solution and water were added to the reaction mixture, and the mixture was concentrated under reduced pressure. The concentrated solution was extracted twice with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure. To the obtained residue, 0.64 ml of 3-bromo-1-propyne, 239 mg of potassium carbonate and acetonitrile were mixed, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture which was allowed to cool to near room temperature, the mixture was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- {4- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl} -2- ( 0.24 g of 4-chlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 4) was obtained.
Compound 4 of the present invention

¹ H-NMR (CD ₃ SOCD ₃ , TMS) δ (ppm): 3.54 (1H, t, J = 2.4 Hz) 3.59 (2H, s), 3.64 (3H, s), 3 .79 (3H, s), 4.74 (2H, m), 6.79 to 6.86 (2H, m), 6.99 (1H, s), 7.32 (2H, d, J = 8) .5 Hz), 7.39 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.93 (1 H, s), 9.80 (1 H, s)

製造例４
参考製造例６で得られた生成物６ａ０．５１ｇ、４−クロルフェニル酢酸０．３７ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩０．４２ｇとピリジン１０ｍｌを混合し、８０℃で４時間撹拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸で２回、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛４−（３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物５と記す。）０．１８ｇ及びＮ−｛４−（３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物５と記す。）０．１５ｇを得た。
本発明化合物５

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．５６（３Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、３．７３（２Ｈ，ｓ）、４．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、６．８７〜６．８９（１Ｈ，m）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、７．３６〜７．４３（４Ｈ，ｍ）、７．７４（１Ｈ，ｓ）、１０．１３（１Ｈ，ｓ） Production Example 4
0.51 g of the product 6a obtained in Reference Production Example 6, 0.37 g of 4-chlorophenylacetic acid, 0.42 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 10 ml of pyridine were mixed, Stir at 4 ° C. for 4 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with 5% hydrochloric acid twice, water, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- {4- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl} -2- (4-chlorophenyl) ) Acetamide (hereinafter referred to as the present compound 5) 0.18 g and N- {4- (3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl} 0.15 g of -2- (4-chlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 5) was obtained.
Compound 5 of the present invention

¹ H-NMR (CD ₃ SOCD ₃ , TMS) δ (ppm): 3.55 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.56 (3H, s), 3.70 (3H, s), 3.73 (2H, s), 4.76 (2H, d, J = 2.4 Hz), 6.87 to 6.89 (1H, m), 6.93 (1H, d, J = 8.6 Hz) ), 7.03 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.36-7.43 (4H, m), 7.74 (1H, s), 10.13 (1H, s)

製造例５
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２ｍｌに５−アミノ−４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールと３−アミノ−４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル―１Ｈ−ピラゾールとの混合物０．２６ｇ、フェニル酢酸０．１４ｇ及び１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩０．２３ｇを混合し、３０℃で７時間攪拌した。室温で一夜静置した後、反応混合物に水１０ｍｌ、酢酸エチル８ｍｌを加え分液した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物６と記す。）８４ｍｇ、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−フェニルアセトアミド（以下、本発明化合物７と記す。）６５ｍｇを得た。
本発明化合物６

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５３（１Ｈ，ｓ）、７．４２〜７．３０（５Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．７５（２Ｈ，ｓ）、３．６５（３Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）

本発明化合物７

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．３７（１Ｈ，ｓ）、７．３５〜７．３０（５Ｈ，ｍ）、６．９９（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．７５（２Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ） Production Example 5
To 2 ml of N, N-dimethylformamide, 5-amino-4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H-pyrazole and 3-amino-4- {3-methoxy-4 0.26 g of a mixture with-(2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H-pyrazole, 0.14 g of phenylacetic acid and 0.23 g of 1- (3-dimethylaminopropyl) -3-ethylcarbodiimide hydrochloride Mix and stir at 30 ° C. for 7 hours. After allowing to stand overnight at room temperature, 10 ml of water and 8 ml of ethyl acetate were added to the reaction mixture to separate the layers. The organic layer was washed with an aqueous sodium hydrogen carbonate solution, dried over anhydrous magnesium sulfate, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2-phenylacetamide (hereinafter referred to as “the residue”) , 84 mg, N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2-phenylacetamide ( Hereinafter referred to as the present compound 7.) 65 mg was obtained.
Compound 6 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.53 (1H, s), 7.42-7.30 (5H, m), 6.92 (1H, d, J = 8.4 Hz) ), 6.80 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.67 (1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 4.75 (2H, d, J = 2.4 Hz) 3.77 (3H, s), 3.75 (2H, s), 3.65 (3H, s), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz)

Compound 7 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.37 (1H, s), 7.35 to 7.30 (5H, m), 6.99 (1H, s), 6.92 ( 1H, d, J = 8.0 Hz), 6.80 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.66 (1H, d, J = 8.0 Hz), 4.76 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.86 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.75 (2H, s), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz)

製造例６
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに４−メチルフェニル酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物８と記す。）及び製造Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（４−メチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物９と記す。）を得た。
本発明化合物８

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５５（１Ｈ，ｓ）、７．２６（４Ｈ，ｓ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）３．８１（３Ｈ，ｓ）、３．７３（２Ｈ，ｓ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）、２．３６（３Ｈ，ｓ）

本発明化合物９

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．３７（１Ｈ，ｓ）、７．１６（４Ｈ，ｍ）、６．９８（１Ｈ，ｓ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．７１（２Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）、２．３４（３Ｈ，ｓ） Production Example 6
The same operation as in Production Example 5 was carried out, and 4-methylphenylacetic acid was used instead of phenylacetic acid to give N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H. -Pyrazol-5-yl] -2- (4-methylphenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 8) and production N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-Methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (4-methylphenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 9) was obtained.
Compound 8 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.55 (1H, s), 7.26 (4H, s), 6.95 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6. 82 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.69 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 2.0 Hz), 4.77 (2H, d, J = 2.4 Hz) 3.81 ( 3H, s), 3.73 (2H, s), 3.69 (3H, s), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz), 2.36 (3H, s)

Compound 9 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.37 (1H, s), 7.16 (4H, m), 6.98 (1H, s), 6.93 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.81 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.67 (1H, d, J = 7.6 Hz), 4.77 (2H, d, J = 2.4 Hz) ), 3.87 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.71 (2H, s), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz), 2.34 (3H, s)

製造例７
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに４−フルオロフェニル酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（４−フルオロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１０と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（４−フルオロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１１と記す。）を製造した。
本発明化合物１０

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５６（１Ｈ，ｓ）、７．３０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，５．２Ｈｚ）、７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、３．７４（２Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）

本発明化合物１１

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．０６〜６．９６（６Ｈ，ｍ）、６．８２（１Ｈ，ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．６９（２Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｓ） Production Example 7
The same operation as in Production Example 5 was carried out, and 4-fluorophenylacetic acid was used instead of phenylacetic acid to give N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H. -Pyrazol-5-yl] -2- (4-fluorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 10) and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl}- 1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (4-fluorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 11) was produced.
Compound 10 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.56 (1H, s), 7.30 (2H, dd, J = 8.4 Hz, 5.2 Hz), 7.07 (2H, d , J = 8.4 Hz), 6.95 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.82 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.67 (1H, dd, J = 8. 0 Hz, 2.0 Hz), 4.78 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.81 (3H, s), 3.74 (2H, s), 3.70 (3H, s), 2 .54 (1H, t, J = 2.4Hz)

Compound 11 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.38 (1H, s), 7.06 to 6.96 (6H, m), 6.82 (1H, s), 6.66 ( 1H, d, J = 8.0 Hz), 4.77 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.88 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3.69 (2H, s), 2.54 (1H, s)

製造例８
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに４−ブロモフェニル酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（４−ブロモフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１２と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（４−ブロモフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１３と記す。）を製造した
本発明化合物１２

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５６（１Ｈ，ｓ）、７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．７１（２Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）

本発明化合物１３

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｓ）、６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．６９（２Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｓ） Production Example 8
The same operation as in Production Example 5 was carried out, and 4-bromophenylacetic acid was used instead of phenylacetic acid to give N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H. -Pyrazol-5-yl] -2- (4-bromophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 12) and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl}- Compound 12 of the present invention which produced 1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (4-bromophenyl) acetamide (hereinafter referred to as Compound 13 of the present invention)

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.56 (1H, s), 7.52 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.20 (2H, d, J = 8) .4 Hz), 6.92 (1 H, d, J = 8.0 Hz), 6.80 (1 H, d, J = 2.0 Hz), 6.64 (1 H, dd, J = 8.0 Hz, 2. 0 Hz), 4.78 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.80 (3H, s), 3.71 (2H, s), 3.70 (3H, s), 2.54 (1H) , T, J = 2.4 Hz)

Compound 13 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.48 (2H, d, J = 6.8 Hz), 7.38 (1H, s), 7.18 (2H, d, J = 8) 0.0Hz), 6.96 (1H, s), 6.92 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.81 (1H, s), 6.64 (1H, d, J = 8.0 Hz) ), 4.79 (2H, d, J = 2.8 Hz), 3.88 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.69 (2H, s), 2.54 (1H, s)

製造例９
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに４−メトキシフェニル酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（４−メトキシフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１４と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（４−メトキシフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１５と記す。）を製造した。
本発明化合物１４

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５５（１Ｈ，ｓ）、７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、６．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１．６Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、３．８１（６Ｈ，ｓ）、３．７１（２Ｈ，ｓ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｔ，J＝２．０Ｈｚ）

本発明化合物１５

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．３６（１Ｈ，ｓ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｓ）、６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．６７（２Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｓ） Production Example 9
The same operation as in Production Example 5 was performed, and 4-methoxyphenylacetic acid was used in place of phenylacetic acid to give N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H. -Pyrazol-5-yl] -2- (4-methoxyphenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 14) and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl}- 1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (4-methoxyphenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 15) was produced.
Compound 14 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.55 (1H, s), 7.24 (2H, d, J = 8.8 Hz), 6.94 (1H, d, J = 8) .0 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.8 Hz), 6.82 (1H, d, J = 1.6 Hz), 6.68 (1H, dd, J = 8.4 Hz, 1. 6Hz), 4.77 (2H, d, J = 2.8 Hz), 3.81 (6H, s), 3.71 (2H, s), 3.69 (3H, s), 2.54 (1H) , T, J = 2.0 Hz)

Compound 15 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.36 (1H, s), 7.20 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.02 (1H, s), 6. 92 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.87 (2H, d, J = 8.4 Hz), 6.81 (1H, s), 6.66 (1H, d, J = 7.2 Hz) ), 4.77 (2H, d, J = 2.0 Hz), 3.87 (3H, s), 3.80 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3.67 (2H, s), 2.54 (1H, s)

製造例１０
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに４−トリフルオロメチルフェニル酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１６と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物１７と記す。）を製造した。
本発明化合物１６

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．５２（１Ｈ，ｓ）、７．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、６．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、３．７８（２Ｈ，ｓ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、２．５２（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）

本発明化合物１７

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．３８（１Ｈ，ｓ）、６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｓ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、４．７６（２Ｈ，ｓ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．７４（２Ｈ，ｓ）、２．５２（１Ｈ，ｓ） Production Example 10
The same operation as in Production Example 5 was carried out, and 4-trifluoromethylphenylacetic acid was used instead of phenylacetic acid to give N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl. -1H-pyrazol-5-yl] -2- (4-trifluoromethylphenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 16) and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) ) Phenyl} -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (4-trifluoromethylphenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 17) was produced.
Compound 16 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.65 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.52 (1H, s), 7.46 (2H, d, J = 8) .0Hz), 6.91 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.80 (1H, d, J = 1.6 Hz), 6.66 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 2. 0 Hz), 4.76 (2H, d, J = 2.8 Hz), 3.81 (3H, s), 3.78 (2H, s), 3.69 (3H, s), 2.52 (1H) , T, J = 2.4 Hz)

Compound 17 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.60 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.46 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.38 (1H , S), 6.90 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.83 (1H, s), 6.68 (1H, d, J = 8.4 Hz), 4.76 (2H, s) ), 3.86 (3H, s), 3.75 (3H, s), 3.74 (2H, s), 2.52 (1H, s)

製造例１１
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）アセトアミド（以下、本発明化合物１８と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）アセトアミド（以下、本発明化合物１９と記す。）を製造した。
本発明化合物１８

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５５（１Ｈ，ｓ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ）、７．０４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．４Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、６．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．６Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、３．７０（５Ｈ，ｓ）、２．７２−２．７５（４Ｈ，ｍ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）、１．７３−１．８０（４Ｈ，ｍ）

本発明化合物１９

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．０８〜６．９８（４Ｈ，ｍ）、６．８３（１Ｈ，ｓ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、４．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．６５（２Ｈ，ｓ）、２．７４−２．７０（４Ｈ，ｍ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）、１．７８−１．７０（４Ｈ，ｍ） Production Example 11
The same operation as in Production Example 5 was carried out, and (5,6,7,8-tetrahydro-2-naphthyl) acetic acid was used instead of phenylacetic acid, and N- [4- {3-methoxy-4- (2- Propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl] -2- (5,6,7,8-tetrahydro-2-naphthyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 18) and N -[4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (5,6,7,8-tetrahydro-2-naphthyl) Acetamide (hereinafter referred to as the present compound 19) was produced.
Compound 18 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.55 (1H, s), 7.09 (1H, d, J = 12.4 Hz), 7.04 (2H, d, J = 14) .4 Hz), 6.96 (1 H, d, J = 8.0 Hz), 6.80 (1 H, d, J = 1.6 Hz), 6.73 (1 H, dd, J = 8.0 Hz, 1. 6 Hz), 4.77 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.80 (3H, s), 3.70 (5H, s), 2.72-2.75 (4H, m), 2 .53 (1H, t, J = 2.4 Hz), 1.73-1.80 (4H, m)

Compound 19 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.38 (1H, s), 7.08 to 6.98 (4H, m), 6.83 (1H, s), 6.72 ( 1H, d, J = 7.6 Hz), 4.76 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.86 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.65 (2H, s), 2.74-2.70 (4H, m), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz), 1.78-1.70 (4H, m)

製造例１２
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに（２−ナフチル）酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（２−ナフチル）アセトアミド（以下、本発明化合物２０と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（２−ナフチル）アセトアミド（以下、本発明化合物２１と記す。）を製造した。
本発明化合物２０

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．７８−７．８８（４Ｈ，ｍ）、７．４９−７．５４（３Ｈ，ｍ）、７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，J＝２．０Ｈｚ）

本発明化合物２１

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．８３−７．７６（４Ｈ，ｍ）、７．５１−７．４９（３Ｈ，ｍ）、７．３４（１Ｈ，ｓ）、７．１２（１Ｈ，ｓ）、６．７６（１Ｈ，ｓ）、６．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．６４（２Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．８５（２Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，J＝２．０Ｈｚ） Production Example 12
The same operation as in Production Example 5 was carried out, and (2-naphthyl) acetic acid was used instead of phenylacetic acid, and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl- 1H-pyrazol-5-yl] -2- (2-naphthyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 20) and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl}- 1-methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (2-naphthyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 21) was produced.
Compound 20 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.78-7.88 (4H, m), 7.49-7.54 (3H, m), 7.42 (1H, dd, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 6.77 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.68 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.56 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 2.0 Hz), 4.66 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.92 (2H, s), 3.77 (3H, s), 3.73 (3H, s) 2.51 (1H, t, J = 2.0Hz)

Compound 21 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.83-7.76 (4H, m), 7.51-7.49 (3H, m), 7.34 (1H, s), 7.12 (1H, s), 6.76 (1H, s), 6.58 (1H, d, J = 8.4 Hz), 6.50 (1H, d, J = 8.0 Hz), 4. 64 (2H, s), 3.89 (3H, s), 3.85 (2H, s), 3.68 (3H, s), 2.51 (1H, t, J = 2.0 Hz)

製造例１３
製造例５と同様の操作を行い、フェニル酢酸の代わりに３，４−ジクロロフェニル酢酸を用いて、Ｎ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル]−２−（３，４−ジクロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物２２と記す。）及びＮ−[４−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル]−２−（３，４−ジクロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物２３と記す。）を製造した。
本発明化合物２２

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５４（１Ｈ，ｓ）、７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．６Ｈｚ）、４．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．７０（２Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ）

本発明化合物２３

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．５４〜７．３９（３Ｈ，ｍ）、７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０９（１Ｈ，ｓ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、６．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、４．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．８３（２Ｈ，ｓ）、３．６５（３Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，J＝２．４Ｈｚ） Production Example 13
The same operation as in Production Example 5 was performed, and 3,4-dichlorophenylacetic acid was used instead of phenylacetic acid, and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl} -1-methyl- 1H-pyrazol-5-yl] -2- (3,4-dichlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 22) and N- [4- {3-methoxy-4- (2-propynyloxy) phenyl } -1-Methyl-1H-pyrazol-3-yl] -2- (3,4-dichlorophenyl) acetamide (hereinafter referred to as the present compound 23) was produced.
Compound 22 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.54 (1H, s), 7.46 (1H, d, J = 2.0 Hz), 7.44 (1H, d, J = 8) .0 Hz), 7.16 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 2.0 Hz), 6.95 (1H, d, J = 9.6 Hz), 6.81 (1H, d, J = 2. 0 Hz), 6.66 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 1.6 Hz), 4.77 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.89 (3H, s), 3.70 ( 2H, s), 3.68 (3H, s), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz)

Compound 23 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS): δ (ppm) 7.54 to 7.39 (3H, m), 7.15 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.09 (1H, s ), 6.95 (1H, d, J = 7.6 Hz), 6.82 (1H, d, J = 1.6 Hz), 6.68 (1H, d, J = 7.2 Hz), 4.78 (2H, d, J = 2.4 Hz), 3.90 (3H, s), 3.83 (2H, s), 3.65 (3H, s), 2.53 (1H, t, J = 2) .4Hz)

次に本発明化合物の中間体について参考製造例で示す。 Next, intermediates of the compound of the present invention are shown in Reference Production Examples.

参考製造例１
（３，４−ジメトキシフェニル）アセトニトリル４０．０ｇとギ酸メチル６８ｇとをジメチルホルムアミド４００ｍｌに混合し、ここに０〜５℃で水素化ナトリウム（重量％；６０％）１１ｇを徐々に加え、室温で３時間攪拌した。その後、約０℃にした反応混合物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した。水層にｐＨ２付近になるまで５％塩酸を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル３６ｇを得た。
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．８９−３．９１（６Ｈ，m）、６．８５−７．５１（３Ｈ，m）、８．１（１Ｈ，ｂｒs） Reference production example 1
40.0 g of (3,4-dimethoxyphenyl) acetonitrile and 68 g of methyl formate are mixed with 400 ml of dimethylformamide, 11 g of sodium hydride (wt%; 60%) is gradually added thereto at 0 to 5 ° C., and at room temperature. Stir for 3 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture brought to about 0 ° C. and washed with tert-butyl methyl ether. To the aqueous layer, 5% hydrochloric acid was added until the pH reached about 2, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried and concentrated under reduced pressure to obtain 36 g of 2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile.
2- (3,4-Dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 3.89-3.91 (6H, m), 6.85-7.51 (3H, m), 8.1 (1H, brs)

参考製造例２
エタノール３０ｍｌに２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル３．０ｇを溶解し、ヒドラジン一水和物１．５ｇを加え、加熱還流下６時間攪拌した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル）に付し、３−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール２．８ｇを得た。
３−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−１Ｈ−ピラゾール

融点１４８℃ Reference production example 2
In 30 ml of ethanol, 3.0 g of 2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile was dissolved, 1.5 g of hydrazine monohydrate was added, and the mixture was stirred for 6 hours with heating under reflux. The reaction mixture allowed to cool to near room temperature was concentrated under reduced pressure, the residue was subjected to silica gel column chromatography (developing solvent; ethyl acetate), and 3-amino-4- (3,4-dimethoxyphenyl) -1H-pyrazole 2 .8 g was obtained.
3-Amino-4- (3,4-dimethoxyphenyl) -1H-pyrazole

Melting point 148 ° C

参考製造例３
テトラヒドロフラン１００ｍｌに（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）アセトニトリル５．０ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン５．５ｇ、トリエチルアミン８．５ｍｌ及びジメチルアミノピリジン約１０ｍｇを混合し、室温で４時間、６０℃で３時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮して（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−メトキシフェニル）アセトニトリル９．９ｇを得た。
（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−メトキシフェニル）アセトニトリル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．１５（６Ｈ，ｓ）、１．０２（９Ｈ，ｓ）、３．６８（２Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、６．７４−６．８３（３Ｈ，m） Reference production example 3
100 ml of tetrahydrofuran was mixed with 5.0 g of (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) acetonitrile, 5.5 g of tert-butyldimethylchlorosilane, 8.5 ml of triethylamine and about 10 mg of dimethylaminopyridine, and the mixture was mixed at room temperature for 4 hours at 60 ° C. Stir for hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture allowed to cool to near room temperature, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution and saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 9.9 g of (4-tert-butyldimethylsilyloxy-3-methoxyphenyl) acetonitrile. It was.
(4-tert-butyldimethylsilyloxy-3-methoxyphenyl) acetonitrile

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 0.15 (6H, s), 1.02 (9H, s), 3.68 (2H, s), 3.82 (3H, s) 6.74-6.83 (3H, m)

参考製造例４
（４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３−メトキシフェニル）アセトニトリル９．９ｇとギ酸メチル１１ｇとをジメチルホルムアミド１００ｍｌに混合し、ここに０〜５℃で水素化ナトリウム（重量％；５５％）１．９ｇを徐々に加え、室温で３時間攪拌した。その後、約０℃にした反応混合物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した。得られた水層に飽和塩化アンモニウム水溶液及び水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して残渣を得た。
前記の操作で得られた残渣とエタノール１００ｍｌとを混合し、ここにメチルヒドラジン２．０ｇを加え、加熱還流下３時間撹拌した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記の物性を示す生成物（混合物、生成物４ａと記す。）２．４ｇ及び下記の物性を示す生成物（混合物、生成物４ｂと記す。）１．５ｇを得た。
生成物４ａ

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．１７（６Ｈ，ｓ）、１．０８（９Ｈ，ｓ）、１．２６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）、３．７２（１．８Ｈ，ｓ）、３．７６（１．２Ｈ，ｓ）、３．８２（１．２Ｈ，ｓ）、３．８３（１．８Ｈ，ｓ）、６．７８〜６．９３（３Ｈ，m）、７．２２（０．４Ｈ，ｓ）、７．４１（０．６Ｈ，ｓ）

生成物４ｂ

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．６６（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）、３．７３（１．８Ｈ，ｓ）、３．７３（１．２Ｈ，ｓ）、３．９１（１．２Ｈ，ｓ）、３．９２（１．８Ｈ，ｓ）、５．７０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、６．８３〜７．００（３Ｈ，m）、７．２０（０．４Ｈ，ｓ）、７．４２（０．６Ｈ，ｓ） Reference production example 4
9.9 g of (4-tert-butyldimethylsilyloxy-3-methoxyphenyl) acetonitrile and 11 g of methyl formate are mixed with 100 ml of dimethylformamide, and this is mixed with sodium hydride (wt%; 55%) 1 at 0 to 5 ° C. .9 g was gradually added and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture brought to about 0 ° C. and washed with tert-butyl methyl ether. A saturated aqueous ammonium chloride solution and water were added to the obtained aqueous layer, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried and concentrated under reduced pressure to give a residue.
The residue obtained by the above operation and 100 ml of ethanol were mixed, and 2.0 g of methyl hydrazine was added thereto, followed by stirring for 3 hours while heating under reflux. The reaction mixture allowed to cool to near room temperature was concentrated under reduced pressure, and the resulting residue was subjected to silica gel column chromatography to give 2.4 g of a product having the following physical properties (referred to as a mixture, product 4a) and the following: 1.5 g of a product exhibiting physical properties (mixture, referred to as product 4b) was obtained.
Product 4a

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 0.17 (6H, s), 1.08 (9H, s), 1.26 (2H, br. S), 3.72 (1. 8H, s), 3.76 (1.2H, s), 3.82 (1.2H, s), 3.83 (1.8H, s), 6.78 to 6.93 (3H, m) 7.22 (0.4H, s), 7.41 (0.6H, s)

Product 4b

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 3.66 (2H, br.s), 3.73 (1.8H, s), 3.73 (1.2H, s), 3. 91 (1.2H, s), 3.92 (1.8H, s), 5.70 (1H, br. S), 6.83 to 7.00 (3H, m), 7.20 (0. 4H, s), 7.42 (0.6H, s)

参考製造例５
ピリジン３０ｍｌに参考製造例４で得られた生成物４ａ２．３ｇ、４−クロルフェニル酢酸１．３ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１．５ｇ及びトリエチルアミン２．３ｍｌを混合し、８０℃で３時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物に酢酸エチルを加え、水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛４−（３−メトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド１．１ｇ及びＮ−｛４−（３−メトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド０．７４ｇを得た。
Ｎ−｛４−（３−メトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．１１（６Ｈ，ｓ）、０．９６（９Ｈ，ｓ）、３．５７（２Ｈ，ｓ）、３．５６（３Ｈ，ｓ）、３．８０（３Ｈ，ｓ）、６．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ、１．７Ｈｚ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、７．３３（２Ｈ，d，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３７（２Ｈ，d，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９２（１Ｈ，ｓ）、９．８０（１Ｈ，ｓ）

Ｎ−｛４−（３−メトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ₃ＳＯＣＤ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：０．１２（６Ｈ，ｓ）、０．９６（９Ｈ，ｓ）、３．５７（３Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、３．７２（２Ｈ，ｓ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ、１．７Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．３６〜７．４２（４Ｈ，ｍ）、７．７３（１Ｈ，ｓ）、１０．１１（１Ｈ，ｓ） Reference production example 5
In 30 ml of pyridine, 2.3 g of the product 4a obtained in Reference Production Example 4, 1.3 g of 4-chlorophenylacetic acid, 1.5 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 2.3 ml of triethylamine Were mixed and stirred at 80 ° C. for 3 hours. Thereafter, ethyl acetate was added to the reaction mixture which was allowed to cool to near room temperature, and washed with water. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and N- {4- (3-methoxy-4- (tert-butyldimethylsilyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl} -2- (4 -Chlorophenyl) acetamide 1.1 g and N- {4- (3-methoxy-4- (tert-butyldimethylsilyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl} -2- (4-chlorophenyl) ) 0.74 g of acetamide was obtained.
N- {4- (3-methoxy-4- (tert-butyldimethylsilyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-5-yl} -2- (4-chlorophenyl) acetamide

¹ H-NMR (CD ₃ SOCD ₃ , TMS) δ (ppm): 0.11 (6H, s), 0.96 (9H, s), 3.57 (2H, s), 3.56 (3H, s), 3.80 (3H, s), 6.62 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.70 (1H, dd, J = 8.2 Hz, 1.7 Hz), 6.96 ( 1H, d, J = 1.7 Hz), 7.33 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.37 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.92 (1H, s), 9.80 (1H, s)

N- {4- (3-methoxy-4- (tert-butyldimethylsilyloxy) phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl} -2- (4-chlorophenyl) acetamide

¹ H-NMR (CD ₃ SOCD ₃ , TMS) δ (ppm): 0.12 (6H, s), 0.96 (9H, s), 3.57 (3H, s), 3.68 (3H, s), 3.72 (2H, s), 6.67 (1H, d, J = 8.2 Hz), 6.77 (1H, dd, J = 8.2 Hz, 1.7 Hz), 7.02 ( 1H, d, J = 1.9 Hz), 7.36 to 7.42 (4H, m), 7.73 (1H, s), 10.11 (1H, s)

参考製造例６
テトラヒドロフラン２０ｍｌに参考製造例４で得られた生成物４ｂを０．９２ｇ、プロピン−３−オール０．６４ｍｌ、ジエチルアゾジカルボキシレート（４０％トルエン溶液）３．３ｇ及びトリフェニルホスフィン２．６ｇを混合し、室温で１時間撹拌した。その後、反応液にジエチルアゾジカルボキシレート（４０％トルエン溶液）３．３ｇ及びトリフェニルホスフィン２．６ｇを加え、室温で１時間撹拌し、ジエチルアゾジカルボキシレート（４０％トルエン溶液）３．３ｇ及びトリフェニルホスフィン２．６ｇを加え、室温で１時間混合した。その後、反応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を５％塩酸で２回抽出し、得られた５％塩酸溶液に炭酸水素ナトリウムをガスの発生がなくなるまで加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下濃縮して下記の物性を示す生成物（混合物、生成物６ａと記す。）０．５１ｇを得た。
生成物６ａ

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５１〜２．５２（１Ｈ，ｍ）、３．６９（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）、３．７３（１．８Ｈ，ｓ）、３．７５（１．２Ｈ，ｓ）、３．８９（１．２Ｈ，ｓ）、３．９０（１．８Ｈ，ｓ）、４．７７〜４．７８（２Ｈ，m）、６．８８〜７．０８（３Ｈ，m）、７．２３（０．４Ｈ，ｓ）、７．４１（０．６Ｈ，ｓ） Reference production example 6
To 20 ml of tetrahydrofuran, 0.92 g of the product 4b obtained in Reference Production Example 4, 0.64 ml of propyne-3-ol, 3.3 g of diethyl azodicarboxylate (40% toluene solution), and 2.6 g of triphenylphosphine. Mix and stir at room temperature for 1 hour. Thereafter, 3.3 g of diethyl azodicarboxylate (40% toluene solution) and 2.6 g of triphenylphosphine were added to the reaction solution, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and 3.3 g of diethyl azodicarboxylate (40% toluene solution). And 2.6 g of triphenylphosphine were added and mixed at room temperature for 1 hour. Thereafter, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was extracted twice with 5% hydrochloric acid, sodium bicarbonate was added to the obtained 5% hydrochloric acid solution until no gas was generated, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous sodium sulfate, and concentrated under reduced pressure to obtain 0.51 g of a product (mixture, referred to as product 6a) having the following physical properties.
Product 6a

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.51 to 2.52 (1H, m), 3.69 (2H, br.s), 3.73 (1.8H, s), 3.75 (1.2H, s), 3.89 (1.2H, s), 3.90 (1.8H, s), 4.77 to 4.78 (2H, m), 6.88 to 7.08 (3H, m), 7.23 (0.4H, s), 7.41 (0.6H, s)

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。 Next, formulation examples are shown. In addition, a part shows a weight part.

製剤例１
本発明化合物１〜２３の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。 Formulation Example 1
Each wettable powder is obtained by thoroughly grinding and mixing 50 parts of each of the compounds 1 to 23 of the present invention, 3 parts of calcium lignin sulfonate, 2 parts of magnesium lauryl sulfate and 45 parts of synthetic hydrous silicon oxide.

製剤例２
本発明化合物１〜２３の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し、各々の製剤を得る。 Formulation Example 2
20 parts of each of the compounds 1 to 23 of the present invention and 1.5 parts of sorbitan trioleate are mixed with 28.5 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol and finely pulverized by a wet pulverization method. Then, 40 parts of an aqueous solution containing 0.05 part of xanthan gum and 0.1 part of aluminum magnesium silicate is added, and further 10 parts of propylene glycol is added and mixed by stirring to obtain each preparation.

製剤例３
本発明化合物１〜２３の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。 Formulation Example 3
Each powder agent is obtained by often pulverizing and mixing 2 parts of each of the compounds 1 to 23 of the present invention, 88 parts of kaolin clay and 10 parts of talc.

製剤例４
本発明化合物１〜２３の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。 Formulation Example 4
Each emulsion is obtained by thoroughly mixing 5 parts of each of the present compounds 1 to 23, 14 parts of polyoxyethylene styrylphenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzenesulfonate and 75 parts of xylene.

製剤例５
本発明化合物１〜２３の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。 Formulation Example 5
2 parts of each of the compounds 1 to 23 of the present invention, 1 part of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium lignin sulfonate, 30 parts of bentonite and 65 parts of kaolin clay are mixed well, and then kneaded and granulated. Each granule is obtained by drying.

製剤例６
本発明化合物１〜２３の各々１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。 Formulation Example 6
10 parts of each of the compounds 1 to 23 of the present invention; 35 parts of white carbon containing 50 parts of polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt; and 55 parts of water are mixed and finely pulverized by a wet pulverization method. obtain.

次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。 Next, test examples show that the compounds of the present invention are useful for controlling plant diseases.
In addition, the control effect was evaluated by visually observing the area of the lesion on the test plant at the time of the survey, and comparing the area of the lesion in the non-treated group with the area of the lesion in the compound-treated group.

試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた本発明化合物４、９、１１、１３、１５、１７、１９、２１、２２、２３を製剤例６に準じた製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように希釈して試験用薬液を調製した。この試験用薬液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このトマト苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で1日間栽培し、さらに昼間２３℃、夜間２０℃の温室に移して４日間栽培した後、植物上の病斑面積を調査した。本発明化合物４、９、１１、１３、１５、１７、１９、２１、２２、２３を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の３０％以下であった。 Test example 1
Formulation of compounds 4, 9, 11, 13, 15, 17, 19, 21, 22, 23 of the present invention which were stuffed with sand loam in a plastic pot, sown with tomato (variety: Ponterosa) and grown in a greenhouse for 20 days After preparing a preparation according to Example 6, a test drug solution was prepared by diluting with water such that the concentration of the compound of the present invention was 500 ppm. This test chemical solution was sprayed on the foliage so that it sufficiently adhered to the leaf surface of the tomato seedling. After spraying, the diluted solution on the leaf surface was air-dried to the extent that it was dried, and sprayed with a water suspension (about 10000 / ml) of tomato epidemic zoospores (about 2 ml per plant). After that, the tomato seedlings were cultivated for 1 day under conditions of 23 ° C. and relative humidity of 90% or more, and further transferred to a greenhouse at 23 ° C. during the day and 20 ° C. during the night, followed by cultivation for 4 days. did. The lesion area on the plant to which the present compounds 4, 9, 11, 13, 15, 17, 19, 21, 22, and 23 were tested was 30% or less of the lesion area in the untreated group.

試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種:ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物６、８、９、１０、１１、１３、１５、１７、１８、１９、２１、２２、２３を各々製剤例６に準じた製剤とした後、水で５００ｐｐｍの濃度に希釈し、希釈液を調製した。該希釈液を前記のブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このブドウ苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、さらに昼間２３℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。
植物上の病斑面積を目視観察したところ、薬剤にて処理していない植物の病斑の面積に対して本発明化合物６、８、９、１０、１１、１３、１５、１７、１８、１９、２１、２２、２３を供試した各々の植物の病斑面積は３０％以下であった。 Test example 2
A plastic pot was filled with sand loam, sown with grapes (variety: Berry A), and grown in a greenhouse for 40 days. The compounds 6, 8, 9, 10, 11, 13, 15, 17, 18, 19, 21, 22, and 23 of the present invention were formulated according to Formulation Example 6, respectively, and then diluted with water to a concentration of 500 ppm. A dilution was prepared. The diluted solution was sprayed on the foliage so as to adhere well to the grape leaf surface. After spraying, the diluted solution on the leaf surface was air-dried to the extent that it was dried, and sprayed with a water suspension (about 10000 / ml) of zoosporangium of grape mildew (at a rate of about 2 ml per plant). . Thereafter, the grape seedlings were cultivated for 1 day under conditions of 23 ° C. and a relative humidity of 90% or more, and further transferred to a greenhouse at 23 ° C. in the daytime and 20 ° C. at night to be cultivated for 6 days.
As a result of visual observation of the lesion area on the plant, the compound 6, 8, 9, 10, 11, 13, 15, 17, 18, 19 of the present invention relative to the area of the lesion spot of the plant not treated with the drug. , 21, 22 and 23, the lesion area of each plant was 30% or less.

試験例３
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種:ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物４、５を各々製剤例６に準じた製剤とした後、水で２００ｐｐｍの濃度に希釈し、希釈液を調製した。該希釈液を前記のブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このブドウ苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、さらに昼間２３℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。
植物上の病斑面積を目視観察したところ、薬剤にて処理していない植物の病斑の面積に対して本発明化合物４、５を供試した各々の植物の病斑面積は１０％以下であった。

Test example 3
A plastic pot was filled with sand loam, sown with grapes (variety: Berry A), and grown in a greenhouse for 40 days. The compounds 4 and 5 of the present invention were each formulated according to Formulation Example 6 and then diluted with water to a concentration of 200 ppm to prepare a diluted solution. The diluted solution was sprayed on the foliage so as to adhere well to the grape leaf surface. After spraying, the diluted solution on the leaf surface was air-dried to the extent that it was dried, and sprayed with a water suspension (about 10000 / ml) of zoosporangium of grape mildew (approx. 2 ml per plant). . Thereafter, the grape seedlings were cultivated for 1 day under conditions of 23 ° C. and a relative humidity of 90% or more, and further transferred to a greenhouse at 23 ° C. in the daytime and 20 ° C. at night to be cultivated for 6 days.
When the lesion area on the plant was visually observed, the lesion area of each plant in which the present compounds 4 and 5 were used with respect to the area of the lesion spot of the plant not treated with the drug was 10% or less. there were.

Claims

Formula (1)

[Where,
R ¹ represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 haloalkyl group or a C1-C3 alkoxy group,
R ² represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group,
Alternatively, R ¹ and R ² together represent a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH═CH—CH═CH group,
R ⁴ represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group,
R ⁵ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group. ]
A phenylpyrazole compound represented by:

A plant disease control agent comprising the phenylpyrazole compound according to claim 1 as an active ingredient.

A method for controlling plant diseases, which comprises treating an effective amount of the phenylpyrazole compound according to claim 1 to a plant or soil.