JP2000103772A - Intermediate for manufacture of oxime ether compound - Google Patents

Intermediate for manufacture of oxime ether compound

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JP2000103772A
JP2000103772A JP27755498A JP27755498A JP2000103772A JP 2000103772 A JP2000103772 A JP 2000103772A JP 27755498 A JP27755498 A JP 27755498A JP 27755498 A JP27755498 A JP 27755498A JP 2000103772 A JP2000103772 A JP 2000103772A
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JP
Japan
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group
optionally substituted
alkyl
substituted
general formula
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JP27755498A
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Taro Hirose
太郎 広瀬
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/50Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/62Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having the sulfur atom of at least one of the thio groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring of the carbon skeleton
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07C251/00Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
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    • C07C251/50Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups bound to carbon atoms of substituted hydrocarbon radicals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C309/00Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
    • C07C309/63Esters of sulfonic acids
    • C07C309/64Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C309/65Esters of sulfonic acids having sulfur atoms of esterified sulfo groups bound to acyclic carbon atoms of a saturated carbon skeleton
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C311/00Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C311/01Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
    • C07C311/02Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton
    • C07C311/09Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms of an acyclic saturated carbon skeleton the carbon skeleton being further substituted by at least two halogen atoms

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new compound useful for as an intermediate for manufacturing an oxime ether compound having an excellent bactericidal activity for agriculture and horticulture. SOLUTION: This compound is expressed by formula I [R1 is a (substituted) alkyl or the like; R2 is an alkyl or the like; one of the T, U and V is CR3 the other one is CH or N and the resist is CR4 or N; W is a CR33 or N; R3, R4 and CR33 are each H or a halogen or the like; Me is methyl], for example, methyl 2- 2-methyl-5-(1-benzyloxyiminoethyl)-phenoxy}-3,3-dimethoxypropionic acid. The compound of formula I is obtained by refluxing a compound of formula II [e.g.; methyl 2- 2-methyl-5-(1-benzyl-oxyiminoerthyl)phenoxy}-3- hydroxyacrylate or the like] in the presence of p-toluene sulfonic acid hydrate with methanol, usually at 25 to its refluxing temperature for 1 to 20 hours.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はオキシムエーテル化
合物の製造法、その製造中間体およびその製造法に関す
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing an oxime ether compound, an intermediate for producing the same, and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】一般式 化4[Problems to be Solved by the Invention] General Formula 4

【化4】 〔式中、R1は置換されていてもよいアルキル基、置換
されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよい
アルキニル基、置換されていてもよいシクロアルキル
基、置換されていてもよいシクロアルキルアルキル基、
置換されていてもよいシクロアルケニル基、置換されて
いてもよいシクロアルケニルアルキル基、置換されてい
てもよいアリール基、置換されていてもよいアリールア
ルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基また
は置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基を表
し、R2はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
アルキル基、ハロアルキル基またはシアノ基を表し、
T、U及びVの内、一つはCR3基を表し、他の一つは
CH基または窒素原子を表し、また、残りの一つはCR
4基または窒素原子を表す。WはCR33基または窒素原
子を表す{ここで、R3、R4及びR33は同一もしくは相
異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキル
チオ基またはハロアルキルチオ基を表す。}。〕で示さ
れる化合物は、優れた農園芸用殺菌効力を有しており、
これらのオキシムエーテル化合物の、有利な製造法の開
発が望まれていた。
Embedded image [In the formula, R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted Cycloalkylalkyl group,
An optionally substituted cycloalkenyl group, an optionally substituted cycloalkenylalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted arylalkyl group, an optionally substituted heteroaryl group or Represents an optionally substituted heteroarylalkyl group, R 2 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxyalkyl group, a haloalkyl group or a cyano group,
One of T, U and V represents a CR 3 group, the other represents a CH group or a nitrogen atom, and the other represents a CR 3 group.
Represents 4 groups or a nitrogen atom. W represents a CR 33 group or a nitrogen atom, wherein R 3 , R 4 and R 33 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a haloalkyl group, a haloalkoxy group, an alkylthio group or Represents a haloalkylthio group. }. The compound represented by has excellent agricultural and horticultural bactericidal efficacy,
It has been desired to develop an advantageous method for producing these oxime ether compounds.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の一般
式 化4で示されるオキシムエーテル化合物の有利な製
造法を見いだすべく鋭意検討を重ねた結果、下記の一般
式 化5で示される化合物が、該化合物を、酸の存在下
に反応させることにより、前記一般式 化4で示される
オキシムエーテル化合物に導けることから、その重要な
製造中間体であることを見出し、本発明に至った。即
ち、本発明は、一般式 化5
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to find an advantageous method for producing the oxime ether compound represented by the above-mentioned general formula (4), and as a result, have the following general formula (5). The compound was converted to an oxime ether compound represented by the above general formula 4 by reacting the compound in the presence of an acid, and was found to be an important intermediate for the production thereof, and the present invention was achieved. . That is, the present invention provides a compound represented by the general formula:

【化5】 〔式中、R1、R2、T、U、V、Wは前記と同じ意味を
表す。〕で示される化合物(以下、本発明化合物と記
す)、その製造法、および該化合物を、酸の存在下に反
応させる前記一般式 化4で示されるオキシムエーテル
化合物の製造法を提供する。
Embedded image [Wherein, R 1 , R 2 , T, U, V, and W represent the same meaning as described above. (Hereinafter referred to as the compound of the present invention), a process for producing the same, and a process for producing the oxime ether compound represented by the above general formula (4), wherein the compound is reacted in the presence of an acid.

【0004】[0004]

【発明の実施の形態】本発明化合物において、R1で示
される置換されていてもよいアルキル基におけるアルキ
ル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、1−メ
チルプロピル基、ペンチル基、1−メチルブチル基、1
−エチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メチルブ
チル基、2,2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチ
ルプロピル基、1,1−ジメチルプロピル基、ヘキシル
基、1−メチルペンチル基、1−エチルペンチル基、
3,3−ジメチルブチル基、ヘプチル基、3,7−ジメ
チルオクチル基等のC1〜C10アルキル基等があげら
れ、R1で示される置換されていてもよいアルケニル基
におけるアルケニル基としては、例えばビニル基、アリ
ル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−2
−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、
3−メチル−2−ブテニル基、ゲラニル基等のC2〜C
10アルケニル基等があげられ、R1で示される置換さ
れていてもよいアルキニル基におけるアルキニル基とし
ては、例えばエチニル基、プロパルギル基、1−メチル
−2−プロピニル基、3−メチル−2−プロピニル基等
のC2〜C10アルキニル基等があげられ、R1で示さ
れる置換されていてもよいシクロアルキル基におけるシ
クロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3〜C10シ
クロアルキル基等があげられ、R1で示される置換され
ていてもよいシクロアルキルアルキル基におけるシクロ
アルキルアルキル基としては、例えばシクロプロピルメ
チル基、シクロペンチルメチル基、2−シクロペンチル
エチル基、シクロヘキシルメチル基等のC4〜C20シ
クロアルキルアルキル基等があげられ、R1で示される
置換されていてもよいシクロアルケニル基におけるシク
ロアルケニル基としては、例えばシクロペンテニル基、
シクロヘキセニル基等のC5〜C10シクロアルケニル
基等があげられ、R1で示される置換されていてもよい
シクロアルケニルアルキル基におけるシクロアルケニル
基としては、例えばシクロペンテン−1−イルメチル
基、シクロヘキセン−1−イルメチル基等のC6〜C2
0シクロアルケニルアルキル基等があげられ、R1で示
される置換されていてもよいアリ−ル基におけるアリ−
ル基としては、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフ
チル基等のC6〜C10のアリール基等があげられ、R
1で示される置換されていてもよいアリ−ルアルキル基
におけるアリ−ルアルキル基としては、例えばフェニル
メチル基、2−フェニルエチル基、3−フェニル−n−
プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、α−ナフチ
ルメチル基、β−ナフチルメチル基等のC7〜C20ア
リールアルキル基等があげられ、R1で示される置換さ
れていてもよいヘテロアリール基におけるヘテロアリー
ル基としては、例えば2−ピリジル基、4−ピリジル
基、2−ピリミジニル基、4−ピリミジニル基、3−ピ
ラゾリル基、2−チアゾリル基、2−イミダゾリル基、
3−(1,2,4−トリアゾリル)基、2−キノリニル
基等のC1〜C9ヘテロアリール基があげられ、R1
示される置換されていてもよいヘテロアリールアルキル
基におけるヘテロアリールアルキル基としては、例えば
2−ピリジルメチル基、4−ピリジルメチル基、2−ピ
リミジニルメチル基、4−ピリミジニルメチル基、3−
ピラゾリルメチル基、2−チアゾリルメチル基、2−イ
ミダゾリルメチル基、3−(1,2,4−トリアゾリ
ル)メチル基、2−キノリニルメチル基等のC2〜C1
9ヘテロアリールアルキル基があげられ、
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the compound of the present invention, examples of the alkyl group in the optionally substituted alkyl group represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, 1-methylpropyl group, pentyl group, 1-methylbutyl group, 1
-Ethylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 1-ethyl Pentyl group,
Examples thereof include a C1-C10 alkyl group such as a 3,3-dimethylbutyl group, a heptyl group, and a 3,7-dimethyloctyl group, and examples of the alkenyl group in the optionally substituted alkenyl group represented by R 1 include: Vinyl group, allyl group, 1-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-2
-Propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group,
C2-C such as 3-methyl-2-butenyl group and geranyl group
And the alkynyl group in the optionally substituted alkynyl group represented by R 1 includes, for example, an ethynyl group, a propargyl group, a 1-methyl-2-propynyl group, a 3-methyl-2-propynyl Examples of the cycloalkyl group in the optionally substituted cycloalkyl group represented by R 1 include C3 to C10 alkynyl groups such as a C3 to C10 cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the cycloalkylalkyl group in the optionally substituted cycloalkylalkyl group represented by R 1 include a cyclopropylmethyl group, a cyclopentylmethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, a cyclohexylmethyl group and the like. C4-C20 cycloalkylalkyl Group, etc. Examples of the cycloalkenyl group in the optionally substituted cycloalkenyl group represented by R 1, for example, cyclopentenyl group,
Examples thereof include a C5-C10 cycloalkenyl group such as a cyclohexenyl group. Examples of the cycloalkenyl group in the optionally substituted cycloalkenylalkyl group represented by R 1 include a cyclopenten-1-ylmethyl group and a cyclohexene-1- group. C6-C2 such as ylmethyl group
0 cycloalkenylalkyl group and the like, and the aryl in the optionally substituted aryl group represented by R 1
Examples of the aryl group include a C6-C10 aryl group such as a phenyl group, an α-naphthyl group, and a β-naphthyl group.
Ants in Ruarukiru group - - Good ants be substituted indicated by 1 as the Ruarukiru groups, such as phenyl methyl group, 2-phenylethyl, 3-phenyl -n-
A C7-C20 arylalkyl group such as a propyl group, a 4-phenyl-n-butyl group, an α-naphthylmethyl group and a β-naphthylmethyl group, and an optionally substituted heteroaryl group represented by R 1 As the heteroaryl group in the above, for example, a 2-pyridyl group, a 4-pyridyl group, a 2-pyrimidinyl group, a 4-pyrimidinyl group, a 3-pyrazolyl group, a 2-thiazolyl group, a 2-imidazolyl group,
A C1-C9 heteroaryl group such as a 3- (1,2,4-triazolyl) group and a 2-quinolinyl group, and a heteroarylalkyl group in the optionally substituted heteroarylalkyl group represented by R 1 Is, for example, a 2-pyridylmethyl group, a 4-pyridylmethyl group, a 2-pyrimidinylmethyl group, a 4-pyrimidinylmethyl group,
C2-C1 such as pyrazolylmethyl group, 2-thiazolylmethyl group, 2-imidazolylmethyl group, 3- (1,2,4-triazolyl) methyl group, 2-quinolinylmethyl group
9 heteroarylalkyl groups,

【0005】R1における、置換されていてもよいアル
キル基、置換されていてもよいアルケニル基、置換され
ていてもよいアルキニル基、置換されていてもよいシク
ロアルキル基、置換されていてもよいシクロアルキルア
ルキル基、置換されていてもよいシクロアルケニル基、
置換されていてもよいシクロアルケニルアルキル基、置
換されていてもよいアリール基、置換されていてもよい
アリールアルキル基、置換されていてもよいヘテロアリ
ール基または置換されていてもよいヘテロアリールアル
キル基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子〔塩素
原子、臭素原子、フッ素原子等〕;OR8基〔ここで、
8はC1〜C10アルキル基{例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基等}、C1〜C5ハロアルキル基{例えば、トリフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、ブロモジフルオロ
メチル基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、
2,2,2−トリルフルオロエチル基等}、C3〜C6
シクロアルキル基{例えば、シクロプロピル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基等}またはフェニル基
{該フェニル基は、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原
子、フッ素原子等)、C1〜C5アルキル基(例えば、
メチル基、エチル基、tert−ブチル基等)またはト
リフルオロメチル基で置換されていてもよく、例えば、
フェニル基、4−クロロフェニル基、4−(トリフルオ
ロメチル)フェニル基、3,4−ジクロロフェニル基、
4−エチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、
2−クロロ−4−(トリフルオロメチル)フェニル基、
4−フルオロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル
基、4−tert−ブチルフェニル基、2−クロロ−6
−フルオロフェニル基等}を表す。〕;C(R13)=N
OR14で示される基〔ここで、R13およびR14は同一ま
たは異なり、水素原子、C1〜C10アルキル基{例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基等}、C3〜C6シクロアルキル
基{例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基}、またはフェニル基{該フェニル基
は、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、フッ素原子
等)、C1〜C5アルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、tert−ブチル基等)、トリフルオロメチル基
またはシアノ基で置換されていてもよく、例えば、フェ
ニル基、4−クロロフェニル基、4−トリフルオロメチ
ルフェニル基、4−エチルフェニル基、3,4−ジクロ
ロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−クロ
ロ−6−フルオロフェニル基、4−フルオロフェニル
基、4−シアノフェニル基等}を表す。〕;C1〜C5
アルキルチオ基〔例えば、メチルチオ基、エチルチオ
基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ペンチルチ
オ基等〕;C1〜C5ハロアルキルチオ基〔例えば、
2,2,2−トリフルオロエチルチオ基、4−クロロブ
チルチオ基等〕;C1〜C10アシル基〔例えば、ハロ
ゲン原子{塩素原子、臭素原子、フッ素原子等}で置換
されていてもよいC1〜C10アルカノイル基{ホルミ
ル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペ
ンタノイル基、イソブタノイル基等}、ベンゾイル基
等〕;C2〜C11アルコキシカルボニル基〔例えば、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロピ
ルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル
基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボ
ニル基等〕;N−(C1〜C10アルキル)カルバモイ
ル基〔例えば、N−メチルカルバモイル基、N−エチル
カルバモイル基等〕;N,N−ジ(C1〜C10アルキ
ル)カルバモイル基〔例えば、N,N−ジメチルカルバ
モイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基等〕;シア
ノ基;アリ−ル基〔フェニル基、α−ナフチル基、β−
ナフチル基等。該アリ−ル基は、ハロゲン原子{塩素原
子、臭素原子、フッ素原子等}、C1〜C10アルキル
基{例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基
等}、C3〜C10シクロアルキル基{例えばシクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等}、
C1〜C5ハロアルキル基{例えばトリフルオロメチル
基等}、C1〜C10アルコキシ基{例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキ
シ基等}、C1〜C5ハロアルコキシ基{例えばトリフ
ルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基等}、シアノ
基、C5〜C8シクロアルコキシ基{例えば、シクロペ
ンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等}、C1〜
C10アシル基{例えば、アセチル基等のC1〜C10
アルカノイル基、ベンゾイル基等}、フェノキシ基{該
フェノキシ基は、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、
フッ素原子等)、C1〜C3アルキル基(メチル基、エ
チル基等)、C1−C3ハロアルキル基(トリフルオロ
メチル基等)またはC1−C3アルキルチオ基(メチル
チオ基等)で置換されていてもよく、例えば、フェノキ
シ基、4−クロロフェノキシ基等}、シアノ基で置換さ
れていてもよいフェニル基、2−ピリジルオキシ基{該
2−ピリジルオキシ基はトリフルオロメチル基またはハ
ロゲン原子で置換されていてもよく、例えば5−トリフ
ルオロメチルピリジン−2−イルオキシ基、3−クロロ
−5−トリフルオロメチルピリジン−2−イルオキシ基
等があげられる}、ベンジルオキシ基またはベンゾイル
オキシ基で置換されていてもよい。〕;またはヘテロア
リール基〔例えば2−ピリジル基、3−ピリジル基、4
−ピリジル基、2−ピリミジニル基、4−ピリミジニル
基、5−ピリミジニル基、1−ピラゾリル基、3−ピラ
ゾリル基、4−ピラゾリル基、5−ピラゾリル基、2−
チアゾリル基、4−チアゾリル基、5−チアゾリル基、
4−イソキサゾリル基、1−(1,2,4−トリアゾリ
ル)基、3−(1,2,4−トリアゾリル)基、3−オ
キソラニル基、コハク酸イミド−1−イル基、マレイン
酸イミド−1−イル基、フタル酸イミド−1−イル基
等。該ヘテロアリール基は、ハロゲン原子{塩素原子、
臭素原子、フッ素原子等}、C1〜C10アルキル基
{例えば、メチル基、エチル基、tert−ブチル基
等}、C3〜C10シクロアルキル基{例えばシクロプ
ロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等}、
C1〜C5ハロアルキル基{例えばトリフルオロメチル
基等}、C1〜C10アルコキシ基{例えばメトキシ
基、エトキシ基等}もしくはC1〜C10アルキルチオ
基{例えばメチルチオ基、エチルチオ基等}で置換され
ていてもよい。〕等があげられ、
In R 1 , an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, and an optionally substituted A cycloalkylalkyl group, a cycloalkenyl group which may be substituted,
Optionally substituted cycloalkenylalkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted arylalkyl group, optionally substituted heteroaryl group or optionally substituted heteroarylalkyl group the substituents include a halogen atom [a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.]; OR 8 group [wherein,
R 8 is a C1-C10 alkyl group {eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, etc.}, a C1-C5 haloalkyl group {eg, Trifluoromethyl group, difluoromethyl group, bromodifluoromethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group,
2,2,2-tolylfluoroethyl group etc., C3-C6
A cycloalkyl group {for example, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.} or a phenyl group; the phenyl group is a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), a C1-C5 alkyl group (for example,
Methyl group, ethyl group, tert-butyl group, etc.) or trifluoromethyl group, for example,
Phenyl group, 4-chlorophenyl group, 4- (trifluoromethyl) phenyl group, 3,4-dichlorophenyl group,
4-ethylphenyl group, 2,3-dimethylphenyl group,
2-chloro-4- (trifluoromethyl) phenyl group,
4-fluorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, 4-tert-butylphenyl group, 2-chloro-6
— Represents a fluorophenyl group or the like. ]; C (R 13 ) = N
A group represented by OR 14 wherein R 13 and R 14 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a C1 to C10 alkyl group {eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert group; A butyl group, a pentyl group, a hexyl group or the like, a C3-C6 cycloalkyl group {for example, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group}, or a phenyl group; the phenyl group is a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, A fluorine atom), a C1-C5 alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, etc.), a trifluoromethyl group or a cyano group, for example, a phenyl group, a 4-chlorophenyl group , 4-trifluoromethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, 3,4-dichlorophenyl group, 3,5- Chlorophenyl group, 2-chloro-6-fluorophenyl group, 4-fluorophenyl group, a 4-cyanophenyl group and the like}. ]; C1 to C5
Alkylthio group [eg, methylthio group, ethylthio group, propylthio group, isopropylthio group, pentylthio group, etc.]; C1-C5 haloalkylthio group [eg,
2,2,2-trifluoroethylthio group, 4-chlorobutylthio group, etc.]; C1 to C10 acyl group [for example, C1 which may be substituted with a halogen atom {a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.}] -C10 alkanoyl group {formyl group, acetyl group, propanoyl group, butanoyl group, pentanoyl group, isobutanoyl group, etc.}, benzoyl group etc.]; C2-C11 alkoxycarbonyl group [for example,
A methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propyloxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, a butyloxycarbonyl group, an octyloxycarbonyl group, etc.]; an N- (C1-C10 alkyl) carbamoyl group [for example, an N-methylcarbamoyl group, N N, N-di (C1-C10 alkyl) carbamoyl group [eg, N, N-dimethylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, etc.]; cyano group; aryl group [phenyl Group, α-naphthyl group, β-
Naphthyl group and the like. The aryl group may be a halogen atom {a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.}, a C1-C10 alkyl group {eg, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, etc.}, a C3-C10 cycloalkyl group, etc. Cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.
A C1-C5 haloalkyl group {such as a trifluoromethyl group, etc.}, a C1-C10 alkoxy group {such as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, etc.}, a C1-C5 haloalkoxy group {such as a trifluoromethoxy group, Difluoromethoxy group, etc., cyano group, C5-C8 cycloalkoxy group {eg, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.}, C1
C10 acyl group {for example, C1 to C10 such as acetyl group
Alkanoyl group, benzoyl group and the like, phenoxy group, and the phenoxy group is a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom,
A fluorine atom), a C1-C3 alkyl group (methyl group, ethyl group, etc.), a C1-C3 haloalkyl group (trifluoromethyl group, etc.) or a C1-C3 alkylthio group (methylthio group, etc.) For example, a phenoxy group, a 4-chlorophenoxy group or the like, a phenyl group optionally substituted with a cyano group, a 2-pyridyloxy group, wherein the 2-pyridyloxy group is substituted with a trifluoromethyl group or a halogen atom. For example, a 5-trifluoromethylpyridin-2-yloxy group, a 3-chloro-5-trifluoromethylpyridin-2-yloxy group and the like can be mentioned. Even when substituted with a benzyloxy group or a benzoyloxy group, Good. Or a heteroaryl group [eg, a 2-pyridyl group, a 3-pyridyl group, a 4
-Pyridyl group, 2-pyrimidinyl group, 4-pyrimidinyl group, 5-pyrimidinyl group, 1-pyrazolyl group, 3-pyrazolyl group, 4-pyrazolyl group, 5-pyrazolyl group, 2-
Thiazolyl group, 4-thiazolyl group, 5-thiazolyl group,
4-isoxazolyl group, 1- (1,2,4-triazolyl) group, 3- (1,2,4-triazolyl) group, 3-oxolanyl group, succinimide-1-yl group, maleic imide-1 -Yl group, phthalimido-1-yl group and the like. The heteroaryl group is a halogen atom {a chlorine atom,
A bromine atom, a fluorine atom, etc., a C1-C10 alkyl group {eg, a methyl group, an ethyl group, a tert-butyl group, etc.}, a C3-C10 cycloalkyl group {eg, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.},
C1-C5 haloalkyl group {eg, trifluoromethyl group etc.}, C1-C10 alkoxy group {eg, methoxy group, ethoxy group, etc.} or C1-C10 alkylthio group {eg, methylthio group, ethylthio group, etc.} . ] Etc. are given,

【0006】R2で示されるアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、イソブチル基、1−メチルプロピル基、ペン
チル基、1−メチルブチル基、1−エチルブチル基、2
−メチルブチル基、3−メチルブチル基、2,2−ジメ
チルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル基、1,1
−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチルペンチ
ル基、1−エチルペンチル基、3,3−ジメチルブチル
基、ヘプチル基、3,7−ジメチルオクチル基等のC1
〜C10アルキル基等があげられ、R2で示されるシク
ロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等のC3〜C10シク
ロアルキル基等があげられ、R2で示されるアルコキシ
アルキル基としては、例えばメトキシメチル基、2−エ
トキシエチル基、4−メトキシブチル基、5−ペンチル
オキシペンチル基等のC2〜C10アルコキシアルキル
基等があげられ、R2で示されるハロアルキル基として
は、例えばトリフルオロメチル基、クロロメチル基、2
−フルオロエチル基等のC1〜C5ハロアルキル基等が
あげられ、
Examples of the alkyl group represented by R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group,
Butyl, isobutyl, 1-methylpropyl, pentyl, 1-methylbutyl, 1-ethylbutyl, 2
-Methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 2,2-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1
C1 such as -dimethylpropyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 1-ethylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, heptyl group, 3,7-dimethyloctyl group, etc.
~C10 alkyl group and the like, the cycloalkyl group represented by R 2, for example, cyclopropyl group, cyclopentyl group, etc. C3~C10 cycloalkyl groups such as cyclohexyl group and the like, alkoxyalkyl represented by R 2 as the base, for example, methoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group, 4-methoxybutyl group, 5-pentyloxy pentyl C2~C10 alkoxyalkyl group such as and the like, as the haloalkyl group represented by R 2, For example, trifluoromethyl group, chloromethyl group, 2
C1 to C5 haloalkyl groups such as -fluoroethyl group and the like;

【0007】R3、R4及びR33で示されるハロゲン原子
としては例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等があ
げられ、R3、R4及びR33で示されるアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、1−メチルプロピル
基、ペンチル基、1−メチルブチル基、1−エチルブチ
ル基、2−メチルブチル基、3−メチルブチル基、2,
2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルプロピル
基、1,1−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、1−メ
チルペンチル基、1−エチルペンチル基、3,3−ジメ
チルブチル基、ヘプチル基、3,7−ジメチルオクチル
基等のC1〜C10アルキル基があげられ、R3、R4
びR33で示されるアルコキシ基としては例えばメトキシ
基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ
基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、i−ブトキ
シ基、n−ペンチルオキシ基等のC1〜C10アルコキ
シ基があげられ、R3、R4及びR33で示されるハロアル
キル基としては例えばトリフルオロメチル基、2,2,
2−トリフルオロエチル基、1,1,2,2−テトラフ
ルオロエチル基等のC1〜C10ハロアルキル基等があ
げられ、R3、R4及びR33で示されるハロアルコキシ基
としては例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメ
トキシ基、ジフルオロブロモメトキシ基、ジフルオロク
ロロメトキシ基、フルオロメトキシ基、2,2,2−ト
リフルオロエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオ
ロエトキシ基等のC1〜C10ハロアルコキシ基があげ
られ、R3、R4及びR33で示されるアルキルチオ基とし
ては例えばメチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピル
チオ基、n−ブチルチオ基、i−ブチルチオ基、sec
−ブチルチオ基、n−ペンチルチオ基、n−ヘキシルチ
オ基等のC1〜C10アルキルチオ基があげられ、
3、R4及びR33で示されるハロアルキルチオ基として
は例えばトリフルオロメチルチオ基、ジフルオロメチル
チオ基、ジフルオロブロモメチルチオ基、ジフルオロク
ロロメチルチオ基、フルオロメチルチオ基、2,2,2
−トリフルオロエチルチオ基、1,1,2,2−テトラ
フルオロエチルチオ基等のC1〜C10ハロアルキルチ
オ基があげられ、
The halogen atom represented by R 3 , R 4 and R 33 includes, for example, a chlorine atom, a bromine atom and a fluorine atom, and the alkyl group represented by R 3 , R 4 and R 33 includes, for example, methyl Group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, 1-methylpropyl group, pentyl group, 1-methylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-methylbutyl group, 3-methylbutyl group, 2,
2-dimethylpropyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1,1-dimethylpropyl group, hexyl group, 1-methylpentyl group, 1-ethylpentyl group, 3,3-dimethylbutyl group, heptyl group, 3, 7- C1 -C10 alkyl dimethyl octyl group and the like, R 3, the alkoxy group represented by R 4 and R 33 include a methoxy group, an ethoxy group, n- propoxy group, i- propoxy, n- butoxy group, sec- butoxy group, i- butoxy group, n-C1 -C10 alkoxy group such as a pentyloxy group and the like, R 3, examples of a haloalkyl group represented by R 4 and R 33 such as trifluoromethyl group, 2,2
Examples thereof include a C1 to C10 haloalkyl group such as a 2-trifluoroethyl group and a 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group. As the haloalkoxy group represented by R 3 , R 4 and R 33 , for example, trifluoro C1-C10 halo such as methoxy group, difluoromethoxy group, difluorobromomethoxy group, difluorochloromethoxy group, fluoromethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, etc. Alkoxy groups are exemplified. Examples of the alkylthio groups represented by R 3 , R 4 and R 33 include, for example, methylthio, ethylthio, n-propylthio, n-butylthio, i-butylthio, sec-
-Butylthio group, n-pentylthio group, C1-C10 alkylthio groups such as n-hexylthio group,
Examples of the haloalkylthio groups represented by R 3 , R 4 and R 33 include, for example, trifluoromethylthio, difluoromethylthio, difluorobromomethylthio, difluorochloromethylthio, fluoromethylthio, 2,2,2
C1 to C10 haloalkylthio groups such as -trifluoroethylthio group, 1,1,2,2-tetrafluoroethylthio group,

【0008】T、U、V及びWを含む6員環状芳香族環
の具体例としてはベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン
環等があげられる。
Specific examples of the 6-membered aromatic ring containing T, U, V and W include a benzene ring, a pyridine ring and a pyrimidine ring.

【0009】本発明にかかわる化合物にはC=N結合、
C=C結合に基づく(E)、(Z)の異性体が存在しう
るが、その各々及びその混合物が本発明方法にかかわる
化合物に含まれる。(ここで用いた(E)及び(Z)と
いう用語は、広く幾何異性体を示すのに使用されている
カーン−インゴールド−プレローグ則により定義される
ものである。)
The compound according to the present invention has a C = N bond,
The isomers (E) and (Z) based on the C = C bond may exist, and each and a mixture thereof are included in the compounds involved in the method of the present invention. (The terms (E) and (Z) as used herein are those defined by the Cahn-Ingold-Prelog rule, which is widely used to indicate geometric isomers.)

【0010】本発明化合物は、一般式 化6 〔式中、R1及びR2は前記と同じ意味を表す。〕で示さ
れる化合物を、酸の存在下に、メタノールと反応させる
ことにより製造される(以下、本発明製造工程1と記
す)。該反応においては、本発明化合物の収率の向上、
または反応時間の短縮を目的として、メチルオルソホル
メートを共存させることも可能である。該反応は無溶媒
または溶媒中で行うことができる。該反応の反応温度
は、通常25℃〜メタノールの還流温度の範囲であり、
反応時間は、通常1〜20時間の範囲である。反応に供
される試剤の量は前記一般式 化6で示される化合物1
モルに対して、メタノールは2モル〜大過剰量の範囲で
あり、酸は0.0001〜10モルの範囲である。用い
られる酸としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、ほう酸、
燐酸、ポリ燐酸等の鉱産類、酢酸、トリフルオロ酢酸、
蓚酸、安息香酸等のカルボン酸類、クロロスルホン酸、
トシル酸、カンファースルホン酸、メタンスルフォン
酸、トリフルオロメタンスルフォン酸等のスルホン酸
類、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、
塩化トリメチルシリル等のルイス酸類等があげられる。
溶媒としては、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン等の
脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロホルム、1,1,1
−トリクロロエタン、モノクロロベンゼン等のハロゲン
化炭化水素系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン
等の硫黄化合物系溶媒、あるいはそれらの混合物があげ
られる。メチルオルソホルメートを共存させる場合は、
その使用量は一般式 化6で示される化合物1モルに対
して、2モル〜大過剰量の範囲である。反応終了後の反
応液は、必要に応じて塩基にて中和し濃縮した後、有機
溶媒にて希釈し、該溶液を水にて洗浄、濃縮する等の後
処理を行うことにより目的の本発明化合物を得ることが
できる。尚、本発明化合物は再結晶、クロマトグラフィ
ー等により精製することもできる。
The compound of the present invention has the general formula [Wherein, R 1 and R 2 represent the same meaning as described above. Is produced by reacting the compound represented by the formula (1) with methanol in the presence of an acid (hereinafter referred to as production step 1 of the present invention). In the reaction, the yield of the compound of the present invention is improved,
Alternatively, for the purpose of shortening the reaction time, methyl orthoformate can be coexisted. The reaction can be performed without a solvent or in a solvent. The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 25 ° C. to the reflux temperature of methanol,
The reaction time is usually in the range of 1 to 20 hours. The amount of the reagent used for the reaction is determined by the amount of the compound 1 represented by the above general formula (6).
Methanol ranges from 2 moles to a large excess, and the acid ranges from 0.0001 to 10 moles, based on moles. Examples of the acid used include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid,
Minerals such as phosphoric acid and polyphosphoric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid,
Oxalic acid, carboxylic acids such as benzoic acid, chlorosulfonic acid,
Sulfonic acids such as tosylic acid, camphorsulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, zinc chloride, boron trifluoride diethyl ether complex,
And Lewis acids such as trimethylsilyl chloride.
Examples of the solvent include ether solvents such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; chloroform; 1
Halogenated hydrocarbon solvents such as trichloroethane and monochlorobenzene; sulfur compound solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; and mixtures thereof. When coexisting with methyl orthoformate,
The amount used is in the range of 2 mol to a large excess with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (6). After completion of the reaction, the reaction solution is neutralized with a base, if necessary, concentrated, and then diluted with an organic solvent. An inventive compound can be obtained. The compound of the present invention can be purified by recrystallization, chromatography, or the like.

【0011】上記、本発明製造工程1で用いられる一般
式 化6で示される化合物は、例えばスキーム 化7
The compound represented by the general formula 6 used in the production process 1 of the present invention is, for example, a compound represented by the formula

【化6】 〔式中、R1、R2、T、U、VおよびWは前記と同じ意
味を表わす。〕で表される方法にて、製造できる。該製
造法は、化合物[1]とギ酸メチルを、溶媒中で塩基の
存在下に反応させることにより行うことができる。該反
応の反応温度は、通常0〜150℃の範囲であり、反応
時間は通常1〜24時間の範囲である。反応に供される
試剤の量は化合物[1]1モルに対して、ギ酸メチルは
1〜100モル、塩基は1〜100モルの割合である。
塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウ
ム等の無機塩基類、ナトリウムメトキシド、ナトリウム
エトキシド、カリウム−tert−ブトキシド等のアル
カリ金属アルコキシド類、マグネシウムエトキシド等の
アルカリ土類金属アルコキシド類、ナトリウムアミド、
リチウムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、ナト
リウムヘキサメチルジシラジド、リチウムヘキサメチル
ジシラジド等のアルカリ金属アミド類及びこれらの混合
物があげられる。溶媒としては、例えばメタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソプロパノ−
ル等のアルコ−ル系溶媒、1,4−ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコ−ルジメチルエ−テル、
ジエチレングリコ−ルジメチルエ−テル、tert−ブ
チルメチルエ−テル等のエ−テル系溶媒、ヘキサン、ヘ
プタン、リグロイン、石油エ−テル等の脂肪族炭化水素
系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶
媒、ジクロロエタン、四塩化炭素、モノクロロベンゼン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ピリジン、トリエチル
アミン、N−メチルアニリン、N,N−ジメチルアニリ
ン、N,N−ジエチルアニリン等の有機塩基系溶媒、ニ
トロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物系溶媒、
アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニトリル系溶
媒、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、N,N−ジメチル−2−イミダゾリドン、スルホ
ラン等、あるいはそれらの混合物があげられる。反応終
了後の反応液は、希塩酸などの酸性水溶液に注加し、こ
れを有機溶媒にて抽出、濃縮等の後処理操作を行うこと
により目的の上記一般式 化6で示される化合物を得る
ことができる。尚、該化合物は再結晶、クロマトグラフ
ィ−等により精製することもできる。
Embedded image Wherein R 1 , R 2 , T, U, V and W have the same meaning as described above. ] Can be produced. The production method can be carried out by reacting compound [1] with methyl formate in a solvent in the presence of a base. The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours. The amount of the reagent used for the reaction is 1 to 100 mol of methyl formate and 1 to 100 mol of the base per 1 mol of the compound [1].
As the base, for example, sodium hydride, inorganic bases such as potassium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide, alkali metal alkoxides such as potassium tert-butoxide, alkaline earth metal alkoxides such as magnesium ethoxide, Sodium amide,
Examples thereof include alkali metal amides such as lithium amide, lithium diisopropylamide, sodium hexamethyldisilazide, and lithium hexamethyldisilazide, and mixtures thereof. Examples of the solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, and isopropanol.
Alcohol-based solvents such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether,
Ether solvents such as diethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Halogenated hydrocarbon solvents such as dichloroethane, carbon tetrachloride, and monochlorobenzene; organic base solvents such as pyridine, triethylamine, N-methylaniline, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline; nitroethane; nitrobenzene; Nitro compound solvent,
Examples thereof include nitrile solvents such as acetonitrile and isobutyronitrile, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, N, N-dimethyl-2-imidazolidone, sulfolane and the like, and mixtures thereof. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into an acidic aqueous solution such as dilute hydrochloric acid, and the resulting compound is subjected to post-treatment operations such as extraction and concentration with an organic solvent to obtain the desired compound represented by the above general formula 6. Can be. The compound can be purified by recrystallization, chromatography or the like.

【0012】次に、かかる本発明製造工程1により得ら
れる本発明化合物を、表1〜表8に例示するが、本発明
はこれらに限られるものではない。
Next, the compounds of the present invention obtained by the production process 1 of the present invention are shown in Tables 1 to 8, but the present invention is not limited thereto.

【化7】 で示される化合物。Embedded image A compound represented by the formula:

【0013】[0013]

【表1】 [Table 1]

【0014】[0014]

【表2】 [Table 2]

【0015】[0015]

【表3】 [Table 3]

【0016】[0016]

【表4】 [Table 4]

【0017】[0017]

【表5】 [Table 5]

【0018】[0018]

【表6】 [Table 6]

【0019】[0019]

【表7】 [Table 7]

【0020】[0020]

【表8】 〔表1〜8において、Meはメチル基を、Etはエチル
基を、n−Prはプロピル基を、i−Prはイソプロピ
ル基を、n−Buはブチル基を、t−Buはtert−
ブチル基を、Amはアミル基を、Bzはベンジル基を、
Ph基はフェニル基を、Pyはピリジル基を、cはシク
ロを、secはセカンダリーを、各々表す。〕
[Table 8] [In Tables 1 to 8, Me is a methyl group, Et is an ethyl group, n-Pr is a propyl group, i-Pr is an isopropyl group, n-Bu is a butyl group, and t-Bu is tert-
A butyl group, Am is an amyl group, Bz is a benzyl group,
Ph represents a phenyl group, Py represents a pyridyl group, c represents cyclo, and sec represents secondary. ]

【0021】上述のようにして得られる本発明化合物
は、これを酸の存在下に反応させることにより、上記一
般式 化4で示されるオキシムエーテル化合物を製造す
ることができる(以下、本発明製造工程2と記す)。該
反応においては、反応時間の短縮を目的として、場合に
よって反応系内からメタノールを除去することも可能で
ある。具体的には、以下の方法のいずれか、または併用
する方法である。 1)常圧または減圧条件下にメタノールを反応系外へ留
去させる。 2)該反応の反応条件においてメタノールと反応する試
剤(例えば酸無水物、酸ハロゲン化物等)を共存させ
る。該反応は無溶媒または溶媒中で行うことができる。
該反応の反応温度は、通常50〜200℃の範囲であ
り、反応時間は、通常1〜20時間の範囲である。反応
に供される試剤の量は本発明化合物1モルに対して、酸
は0.0001〜10モルの範囲である。用いられる酸
としては、例えば塩酸、硫酸、硝酸、ほう酸、燐酸、ポ
リ燐酸等の鉱産類、酢酸、トリフルオロ酢酸、蓚酸、安
息香酸等のカルボン酸類、クロロスルホン酸、トシル
酸、カンファースルホン酸、メタンスルフォン酸、トリ
フルオロメタンスルフォン酸等のスルホン酸類、塩化亜
鉛、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化トリメ
チルシリル等のルイス酸類等があげられる。溶媒として
は、例えば1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、tert−ブチルメチルエー
テル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、リグロ
イン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、クロロホル
ム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素、モノクロロ
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素系溶媒、蟻酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸エチル、炭酸ジエチル等のエステル系
溶媒、ニトロエタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合物
系溶媒、アセトニトリル、イソブチロニトリル等のニト
リル系溶媒、あるいはそれらの混合物があげられる。メ
タノールと反応する試剤を共存させる場合は、その使用
量は本発明化合物1モルに対して、1〜10モルの範囲
である。用いられるメタノールと反応する試剤の酸ハロ
ゲン化物としては、例えば塩化アセチル、メタンスルホ
ニルクロライド等があげられ、酸無水物としては、例え
ば無水酢酸、メタンスルホン酸無水物等があげられる。
反応終了後の反応液は、必要に応じて塩基にて中和し濃
縮した後、有機溶媒にて希釈し、該溶液を水にて洗浄、
濃縮する等の後処理を行うことにより目的の上記一般式
化4で示されるオキシムエーテル化合物を得ることが
できる。尚、該化合物は再結晶、クロマトグラフィー等
により精製することもできる。
The compound of the present invention obtained as described above can be reacted in the presence of an acid to produce an oxime ether compound represented by the general formula (4) (hereinafter, the compound of the present invention). Step 2). In the reaction, methanol may be removed from the reaction system in some cases for the purpose of shortening the reaction time. Specifically, any one of the following methods or a method using them in combination is used. 1) Methanol is distilled out of the reaction system under normal pressure or reduced pressure conditions. 2) Coexist with a reagent (eg, acid anhydride, acid halide, etc.) that reacts with methanol under the reaction conditions of the reaction. The reaction can be performed without a solvent or in a solvent.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 50 to 200 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 20 hours. The amount of the reagent used for the reaction is in the range of 0.0001 to 10 mol of the acid based on 1 mol of the compound of the present invention. Examples of the acid used include minerals such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid, phosphoric acid, and polyphosphoric acid; carboxylic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, oxalic acid, and benzoic acid; chlorosulfonic acid, tosylic acid, and camphorsulfonic acid; Sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid; and Lewis acids such as zinc chloride, boron trifluoride diethyl ether complex, and trimethylsilyl chloride. Examples of the solvent include 1,4-dioxane, tetrahydrofuran,
Ether solvents such as ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, ligroin and petroleum ether; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; chloroform; , 2-dichloroethane, carbon tetrachloride, monochlorobenzene and other halogenated hydrocarbon solvents, ethyl formate,
Examples include ester solvents such as butyl acetate, ethyl acetate and diethyl carbonate, nitro compound solvents such as nitroethane and nitrobenzene, nitrile solvents such as acetonitrile and isobutyronitrile, and mixtures thereof. When a reagent reacting with methanol is used, the amount of the reagent used is in the range of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound of the present invention. Examples of the acid halide of the reagent used to react with methanol include acetyl chloride and methanesulfonyl chloride. Examples of the acid anhydride include acetic anhydride and methanesulfonic anhydride.
After completion of the reaction, the reaction solution is neutralized and concentrated with a base, if necessary, diluted with an organic solvent, and the solution is washed with water.
By performing post-treatment such as concentration, the desired oxime ether compound represented by the above general formula (4) can be obtained. The compound can be purified by recrystallization, chromatography or the like.

【0022】次に、かかる本発明製造工程2により得ら
れる一般式 化4で示されるオキシムエーテル化合物
を、表9〜表16に例示するが、本発明はこれらに限ら
れるものではない。
Next, the oxime ether compounds represented by the general formula 4 obtained by the production step 2 of the present invention are shown in Tables 9 to 16, but the present invention is not limited to these.

【化8】 で示される化合物。Embedded image A compound represented by the formula:

【0023】[0023]

【表9】 [Table 9]

【0024】[0024]

【表10】 [Table 10]

【0025】[0025]

【表11】 [Table 11]

【0026】[0026]

【表12】 [Table 12]

【0027】[0027]

【表13】 [Table 13]

【0028】[0028]

【表14】 [Table 14]

【0029】[0029]

【表15】 [Table 15]

【0030】[0030]

【表16】 〔表9〜16において、Meはメチル基を、Etはエチ
ル基を、n−Prはプロピル基を、i−Prはイソプロ
ピル基を、n−Buはブチル基を、t−Buはtert
−ブチル基を、Amはアミル基を、Bzはベンジル基
を、Ph基はフェニル基を、Pyはピリジル基を、cは
シクロを、secはセカンダリーを、各々表す。〕
[Table 16] [In Tables 9 to 16, Me represents a methyl group, Et represents an ethyl group, n-Pr represents a propyl group, i-Pr represents an isopropyl group, n-Bu represents a butyl group, and t-Bu represents tert.
-Butyl group, Am represents an amyl group, Bz represents a benzyl group, Ph group represents a phenyl group, Py represents a pyridyl group, c represents cyclo, and sec represents secondary. ]

【0031】一般式 化4で示されるオキシムエーテル
化合物を、農園芸用殺菌剤の有効成分として用いる場
合、他の何らの成分も加えずそのまま用いてもよいが、
通常は固体担体、液体担体、界面活性剤、その他の製剤
用補助剤と混合して、乳剤、水和剤、懸濁剤、粉剤、粒
剤等に製剤して用いる。これらの製剤には有効成分とし
て一般式 化4で示されるオキシムエーテル化合物を、
重量比で通常、0.1〜99.9%、好ましくは1〜9
0%含有する。かかる製剤化の際に用いられる、固体担
体としては、例えばカオリンクレ−、アッタパルジャイ
トクレ−、ベントナイト、酸性白土、パイロフィライ
ト、タルク、珪藻土、方解石、トウモロコシ穂軸粉、ク
ルミ殻粉、尿素、硫酸アンモニウム、合成含水酸化珪素
等の微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体とし
ては、例えばキシレン、メチルナフタレン等の芳香族炭
化水素類、イソプロパノ−ル、エチレングリコ−ル、セ
ロソルブ等のアルコ−ル類、アセトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植
物油、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水等が
あげられる。界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸
エステル塩、アルキル(アリ−ル)スルホン酸塩、ジア
ルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキル
アリ−ルエ−テルリン酸エステル塩、ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物等の陰イオン界面活性剤、ポリオ
キシエチレンアルキルエ−テル、ポリオキシエチレンア
ルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソル
ビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤等があげ
られる。製剤用補助剤としては、例えばリグニンスルホ
ン酸塩、アルギン酸塩、ポリビニルアルコ−ル、アラビ
アガム、CMC(カルボキシメチルセルロ−ス)、PA
P(酸性リン酸イソプロピル)等があげられる。一般式
化4で示されるオキシムエーテル化合物の施用方法と
しては、具体的には茎葉散布、土壌処理、種子消毒等が
あげられ、さらに、通常、当業者が利用するどのような
施用方法にても用いることができる。
When the oxime ether compound represented by the general formula (4) is used as an active ingredient of an agricultural and horticultural fungicide, it may be used as it is without adding any other components.
Usually, it is mixed with a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant, and other auxiliaries for formulation and formulated into emulsions, wettable powders, suspensions, powders, granules and the like. In these preparations, an oxime ether compound represented by the general formula 4 is used as an active ingredient.
Usually 0.1 to 99.9% by weight, preferably 1 to 9
It contains 0%. Examples of the solid carrier used in the preparation include, for example, kaolin clay, attapulgite clay, bentonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite, corn cob powder, walnut shell powder, urea, Examples of the liquid carrier include fine powders or granular substances such as ammonium sulfate and synthetic hydrous silicon oxide. Examples of the liquid carrier include aromatic hydrocarbons such as xylene and methylnaphthalene, and alcohols such as isopropanol, ethylene glycol and cellosolve. And ketones such as acetone, cyclohexanone and isophorone, vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil, dimethylsulfoxide, acetonitrile, water and the like. Examples of the surfactant include anions such as alkyl sulfate, alkyl (aryl) sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, polyoxyethylene alkyl aryl ether phosphate, and naphthalenesulfonic acid formalin condensate. Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as surfactants, polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl polyoxypropylene block copolymers, and sorbitan fatty acid esters. Pharmaceutical adjuvants include, for example, lignin sulfonate, alginate, polyvinyl alcohol, gum arabic, CMC (carboxymethyl cellulose), PA
P (acidic isopropyl phosphate) and the like. Examples of the method of applying the oxime ether compound represented by the general formula 4 include foliage application, soil treatment, seed disinfection, and the like. Further, any method commonly used by those skilled in the art can be used. Can be used.

【0032】一般式 化4で示されるオキシムエーテル
化合物を農園芸用殺菌剤の有効成分として用いる場合、
その有効成分の施用量は、対象植物(作物等)の種類、
対象病害の種類、病害の発生程度、製剤形態、施用方
法、施用時期、気象条件等によって変化し得るが、1ア
−ルあたり通常0.01〜50g、好ましくは0.05
〜10gである。乳剤、水和剤、懸濁剤等を水で希釈し
て施用する場合、その施用濃度は、0.0001〜0.
5%、好ましくは0.0005〜0.2%であり、粉
剤、粒剤等はなんら希釈することなくそのまま施用す
る。
When the oxime ether compound represented by the general formula (4) is used as an active ingredient of an agricultural and horticultural fungicide,
The application rate of the active ingredient depends on the type of the target plant (crop etc.),
It may vary depending on the type of the target disease, the degree of occurrence of the disease, the form of the preparation, the method of application, the time of application, the weather conditions, etc., but it is usually 0.01 to 50 g per arc, preferably 0.05 to 50 g.
10 g. When the emulsion, wettable powder, suspending agent and the like are diluted with water and applied, the application concentration is 0.0001 to 0.1.
It is 5%, preferably 0.0005 to 0.2%, and dusts, granules and the like are applied without dilution.

【0033】一般式 化4で示されるオキシムエーテル
化合物は、畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地
等の農園芸用殺菌剤として用いることができ、他の農園
芸用殺菌剤と混合して用いることにより、殺菌効力の増
強をも期待できる。混合し得る他の農園芸用殺菌剤とし
ては、たとえば、プロピコナゾ−ル、トリアジメノ−
ル、プロクロラズ、ペンコナゾ−ル、テブコナゾ−ル、
フルシラゾ−ル、ジニコナゾ−ル、ブロムコナゾ−ル、
エポキシコナゾ−ル、ジフェノコナゾ−ル、シプロコナ
ゾ−ル、メトコナゾ−ル、トリフルミゾ−ル、テトラコ
ナゾ−ル、マイクロブタニル、フェンブコナゾ−ル、ヘ
キサコナゾ−ル、フルキンコナゾ−ル、トリティコナゾ
−ル(RPA400727)、ビテルタノ−ル、イマザリルお
よびフルトリアホ−ル等のアゾ−ル系殺菌化合物、フェ
ンプロピモルフ、トリデモルフおよびフェンプロピジン
等の環状アミン系殺菌化合物、カルベンダジム、ベノミ
ル、チアベンダゾ−ル、チオファネ−トメチル等のベン
ズイミダゾ−ル系殺菌化合物、プロシミドン、シプロデ
ィニル、ピリメタニル、ジエトフェンカルブ、チウラ
ム、フルアジナム、マンコゼブ、イプロジオン、ビンク
ロゾリン、クロロタロニル、キャプタン、メパニピリ
ム、フェンピクロニル、フルジオキソニル、ジクロフル
アニド、フォルペット、クレソキシムメチル(またはメ
チル メトキシイミノ−α−(o−トリルオキシ)−o
−トリルアセテ─ト、またはBAS490F)、アゾキ
シストロビン(またはメチル (E)−{2−〔6−
(2−シアノフェノキシ)ピリミジン−4−イルオキ
シ〕フェニル}−3−メトキシアクリレ−ト、またはI
CIA5504)、N−メチル−α−メトキシイミノ−
2−〔(2,5−ジメチルフェノキシ)メチル〕フェニ
ルアセトアミド等があげられる。さらに、殺虫剤、殺ダ
ニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤、肥料と混用
または併用することもできる。
The oxime ether compound represented by the general formula (4) can be used as an agricultural and horticultural fungicide for fields, paddy fields, orchards, tea fields, pastures, turf, etc., and other agricultural and horticultural fungicides. By mixing and using, it can be expected that the sterilization effect is also enhanced. Other agricultural and horticultural fungicides that can be mixed include, for example, propiconazole, triadimenol.
, Prochloraz, penconazole, tebuconazole,
Flusilazole, diniconazole, bromconazole,
Epoxyconazole, difenoconazole, cyproconazole, metconazole, triflumizole, tetraconazole, microbutanyl, fenbuconazole, hexaconazole, fluquinconazole, triticonazole (RPA400727), bitertanol , Fungicides such as imazalil and furtriahole, bacteric compounds such as fenpropimorph, tridemorph and fenpropidine, and benzimidazoles such as carbendazim, benomyl, thiabendazole and thiophanate methyl. Fungicide, procymidone, cyprodinil, pyrimethanil, dietofencarb, thiuram, fluazinam, mancozeb, iprodione, vinclozolin, chlorothalonil, captan, mepanipyrim, fenpiclonil, Rujiokisoniru, dichlofluanid, folpet, kresoxim-methyl (or methyl methoxyimino-.alpha.-(o-tolyloxy) -o
-Tolyl acetate or BAS490F), azoxystrobin (or methyl (E)-{2- [6-
(2-cyanophenoxy) pyrimidin-4-yloxy] phenyl} -3-methoxyacrylate or I
CIA5504), N-methyl-α-methoxyimino-
2-[(2,5-dimethylphenoxy) methyl] phenylacetamide and the like. Further, it can be mixed or used in combination with an insecticide, acaricide, a nematicide, a herbicide, a plant growth regulator, and a fertilizer.

【0034】一般式 化4で示されるオキシムエーテル
化合物により防除することができる植物病害としては例
えば以下のような病害をあげることができる。イネのい
もち病(Pyricularia oryzae)、ごま葉枯病(Cochliob
olus miyabeanus)、紋枯病(Rhizoctonia solani)、ム
ギ類のうどんこ病(Erysiphe graminis)、赤かび病(Gi
bberella zeae)、さび病(Puccinia striiformis, P.
graminis, P. recondita, P. hordei)、雪腐病(Typhul
a sp.,Micronectriella nivalis)、裸黒穂病 (Ustilago
tritici, U. nuda)、なまぐさ黒穂病 (Tilletia carie
s)、眼紋病(Pseudocercosporella herpotrichoides)、
雲形病(Rhynchosporium secalis) 、葉枯病(Septoria
tritici)、ふ枯病(Leptosphaeria nodorum)、カンキ
ツ類の黒点病(Diaporthe citri)、そうか病(Elsinoe
fawcetti) 、果実腐敗病 (Penicillium digitatum, P.
italicum) 、リンゴのモニリア病 (Sclerotinia mali)
、腐らん病 (Valsa mali) 、うどんこ病(Podosphaera
leucotricha)、斑点落葉病(Alternaria mali)、黒星
病(Venturia inaequalis)、ナシの黒星病(Venturia n
ashicola, V. pirina)、黒斑病(Alternaria kikuchian
a)、赤星病(Gymnosporangium haraeanum)、モモの灰星
病(Sclerotinia cinerea)、黒星病(Cladosporium car
pophilum) 、フォモプシス腐敗病(Phomopsis sp.)、ブ
ドウの黒とう病(Elsinoe ampelina) 、晩腐病(Glomer
ella cingulata) 、うどんこ病(Uncinula necator) 、
さび病 (Phakopsora ampelopsidis)、ブラックロット病
(Guignardia bidwellii) 、べと病(Plasmopara vitic
ola)、カキの炭そ病(Gloeosporium kaki)、落葉病 (Ce
rcospora kaki, Mycosphaerella nawae)、ウリ類の炭そ
病(Colletotrichum lagenarium)、うどんこ病(Sphaer
otheca fuliginea) 、つる枯病 (Mycosphaerella melon
is) 、つる割病 (Fusarium oxysporum) 、べと病 (Pseu
doperonospora cubensis) 、疫病(Phytophthora sp.)
、苗立枯病 (Pythium sp.)、トマトの輪紋病(Alterna
ria solani)、葉かび病 (Cladosporium fulvum)、疫病
(Phytophthora infestans) 、ナスの褐紋病(Phomopsi
s vexans) 、うどんこ病(Erysiphe cichoracearum) 、
アブラナ科野菜の黒斑病(Alternaria japonica)、白斑
病(Cercosporella brassicae)、ネギのさび病(Puccin
ia allii) 、ダイズの紫斑病(Cercospora kikuchii)、
黒とう病(Elsinoe glycines) 、黒点病 (Diaporthe ph
aseolorum var. sojae) 、インゲンの炭そ病(Colletot
richum lindemthianum) 、ラッカセイの黒渋病(Cercos
pora personata)、褐斑病(Cercospora arachidicol
a)、エンドウのうどんこ病(Erysiphe pisi)、ジャガイ
モの夏疫病(Alternaria solani)、疫病(Phytophthora
infestans) 、イチゴのうどんこ病(Sphaerotheca hum
uli)、チャの網もち病(Exobasidium reticulatum)、白
星病(Elsinoe leucospila) 、タバコの赤星病(Altern
aria longipes)、うどんこ病(Erysiphe cichoracearu
m) 、炭そ病(Colletotrichum tabacum) 、べと病(Per
onospora tabacina) 、疫病(Phytophthora nicotiana
e)、テンサイの褐斑病(Cercospora beticola)、バラの
黒星病(Diplocarpon rosae)、うどんこ病(Sphaerothe
ca pannosa) 、キクの褐班病(Septoria chrysanthemi−
indici) 、白さび病(Puccinia horiana) 、種々の作物
の灰色かび病(Botrytis cinerea) 、菌核病(Scleroti
nia sclerotiorum)等があげられる。
Plant diseases which can be controlled by the oxime ether compound represented by the general formula (4) include, for example, the following diseases. Rice blast (Pyricularia oryzae), sesame leaf blight (Cochliob)
olus miyabeanus), sheath blight (Rhizoctonia solani), wheat powdery mildew (Erysiphe graminis), red mold (Gi)
bberella zeae), rust (Puccinia striiformis, P.
graminis, P. recondita, P. hordei), snow rot (Typhul
a sp., Micronectriella nivalis), naked smut (Ustilago
tritici, U. nuda), Black smut (Tilletia carie)
s), eye spot disease (Pseudocercosporella herpotrichoides),
Scratches (Rhynchosporium secalis), leaf blight (Septoria)
tritici), wilt (Leptosphaeria nodorum), citrus black spot (Diaporthe citri), scab (Elsinoe)
fawcetti), fruit rot (Penicillium digitatum, P.
italicum), Monilia disease of apple (Sclerotinia mali)
, Rot (Valsa mali), powdery mildew (Podosphaera)
leucotricha), spot leaf spot (Alternaria mali), scab (Venturia inaequalis), pear scab (Venturia n
ashicola, V. pirina), black spot (Alternaria kikuchian)
a), scab (Gymnosporangium haraeanum), peach scab (Sclerotinia cinerea), scab (Cladosporium car
pophilum), Phomopsis sp., grape black rot (Elsinoe ampelina), late rot (Glomer)
ella cingulata), powdery mildew (Uncinula necator),
Rust (Phakopsora ampelopsidis), Blacklot disease (Guignardia bidwellii), Downy mildew (Plasmopara vitic)
ola), oyster anthracnose (Gloeosporium kaki), deciduous disease (Ce
rcospora kaki, Mycosphaerella nawae), cucumber anthracnose (Colletotrichum lagenarium), powdery mildew (Sphaer
otheca fuliginea), vine blight (Mycosphaerella melon)
is), vine disease (Fusarium oxysporum), downy mildew (Pseu
doperonospora cubensis), plague (Phytophthora sp.)
, Seedling blight (Pythium sp.), Tomato ring spot (Alterna
ria solani), leaf mold (Cladosporium fulvum), plague (Phytophthora infestans), eggplant brown spot (Phomopsi)
s vexans), powdery mildew (Erysiphe cichoracearum),
Black spot (Alternaria japonica), white spot (Cercosporella brassicae), and onion rust (Puccin) on cruciferous vegetables
ia allii), soybean purpura (Cercospora kikuchii),
Black spot (Elsinoe glycines), black spot (Diaporthe ph)
aseolorum var. sojae), bean anthracnose (Colletot)
richum lindemthianum), peanut black rot (Cercos
pora personata), brown spot (Cercospora arachidicol)
a), pea powdery mildew (Erysiphe pisi), potato summer blight (Alternaria solani), blight (Phytophthora)
infestans), strawberry powdery mildew (Sphaerotheca hum)
uli), tea leaf rot (Exobasidium reticulatum), white scab (Elsinoe leucospila), tobacco scab (Altern)
aria longipes), powdery mildew (Erysiphe cichoracearu)
m), Anthracnose (Colletotrichum tabacum), Downy mildew (Per
onospora tabacina), plague (Phytophthora nicotiana)
e), sugar beet brown spot (Cercospora beticola), rose scab (Diplocarpon rosae), powdery mildew (Sphaerothe
ca pannosa), chrysanthemum rot of chrysanthemum (Septoria chrysanthemi-
indici), white rust (Puccinia horiana), gray mold on various crops (Botrytis cinerea), sclerotium (Scleroti)
nia sclerotiorum) and the like.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例をあげて、本発明をさらに詳し
く説明するが、本発明は、これらに限定されるものでは
ない。尚、化合物は前記表1〜表8に記載の番号で示
す。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. The compounds are indicated by the numbers in Tables 1 to 8.

【0036】製造例1(本発明化合物2を製造する本発
明製造工程1の例) メチル 2−{2−メチル−5−(1−ベンジルオキシ
イミノエチル)フェノキシ}−3−ヒドロキシアクリレ
ート25g(70mmol)、p−トルエンスルホン酸
一水和物0.10g(0.5mmol)、トリメチルオ
ルソホルメート80ml(730mmol)およびメチ
ルアルコール150ml(3706mmol)の混合物
を溶媒還流温度で、3時間加熱攪拌した。その後、反応
溶液を放冷後、トリエチルアミン1mlを加え、濃縮し
た。残渣を酢酸エチル500mlで希釈し、水で3回洗
浄した。該有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃縮
を行い、目的とするメチル 2−{2−メチル−5−
(1−ベンジルオキシイミノエチル)フェノキシ}−
3,3−ジメトキシプロピオン酸(本発明化合物82)
26g(65mmol)を得た。収率93%1 H−NMR(TMS,CDCl3)δ/ppm 7.2-7.5(5H),7.16(1H,s),7.13(2H,d AB),5.21(2H,s),4.
79(1H,d,J=5.9Hz),4.72(1H,d,J=5.9Hz),3.74(3H,s),3.5
0(3H,s),3.48(3H,s),2.29(3H,s),2.20(3H,s)
Production Example 1 (Example of Production Process 1 of the Invention for Producing Compound 2 of the Invention) Methyl 2- {2-methyl-5- (1-benzyloxyiminoethyl) phenoxy} -3-hydroxyacrylate 25 g (70 mmol) ), 0.10 g (0.5 mmol) of p-toluenesulfonic acid monohydrate, 80 ml (730 mmol) of trimethyl orthoformate and 150 ml (3706 mmol) of methyl alcohol were heated and stirred at the solvent reflux temperature for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was allowed to cool, 1 ml of triethylamine was added, and the mixture was concentrated. The residue was diluted with 500 ml of ethyl acetate and washed three times with water. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated, and the target methyl 2- {2-methyl-5-
(1-benzyloxyiminoethyl) phenoxy}-
3,3-dimethoxypropionic acid (the present compound 82)
26 g (65 mmol) were obtained. Yield 93% 1 H-NMR (TMS, CDCl 3 ) δ / ppm 7.2-7.5 (5H), 7.16 (1H, s), 7.13 (2H, dAB), 5.21 (2H, s), 4.
79 (1H, d, J = 5.9Hz), 4.72 (1H, d, J = 5.9Hz), 3.74 (3H, s), 3.5
0 (3H, s), 3.48 (3H, s), 2.29 (3H, s), 2.20 (3H, s)

【0037】製造例2(本発明化合物2を用いた本発明
製造工程2の例) メチル 2−{2−メチル−5−(1−ベンジルオキシ
イミノエチル)フェノキシ}−3,3−ジメトキシプロ
ピオン酸2.0g(5.0mmol)、メタンスルホン
酸0.02ml(0.3mmol)、無水酢酸0.52
ml(5.5mmol)およびトルエン15mlの混合
物を溶媒還流温度で、5時間加熱攪拌した。その後、反
応液を酢酸エチル50mlで希釈し、飽和重曹水で3回
洗浄した。該有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、濃
縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒ヘキサン:酢酸エチル=9:1)にて精製す
る事により、目的とするメチル 2−{2−メチル−5
−(1−ベンジルオキシイミノエチル)フェノキシ}−
3−メトキシアクリレート1.3g(3.5mmol)
を得た。収率70%1 H−NMR(TMS,CDCl3)δ/ppm 7.0-7.45(9H,m),5.20(2H,s),3.85(3H,s),3.70(3H,s),2.
35(3H,s),2.19(3H,s)
Preparation Example 2 (Example of Preparation Step 2 of the Present Invention Using Compound 2 of the Present Invention) Methyl 2- {2-methyl-5- (1-benzyloxyiminoethyl) phenoxy} -3,3-dimethoxypropionic acid 2.0 g (5.0 mmol), methanesulfonic acid 0.02 ml (0.3 mmol), acetic anhydride 0.52
ml (5.5 mmol) and 15 ml of toluene were heated and stirred at the solvent reflux temperature for 5 hours. Thereafter, the reaction solution was diluted with 50 ml of ethyl acetate, and washed three times with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate. The organic layer was dried over magnesium sulfate and concentrated. The residue was purified by silica gel column chromatography (developing solvent: hexane: ethyl acetate = 9: 1) to give the desired methyl 2- {2-methyl-5
-(1-benzyloxyiminoethyl) phenoxy}-
1.3 g (3.5 mmol) of 3-methoxy acrylate
I got Yield 70% 1 H-NMR (TMS, CDCl 3 ) δ / ppm 7.0-7.45 (9H, m), 5.20 (2H, s), 3.85 (3H, s), 3.70 (3H, s), 2.
35 (3H, s), 2.19 (3H, s)

【0038】次に、本発明製造工程1で用いる原料の合
成法につき、参考製造例で更に詳しく説明する。 参考製造例 水素化カリウム(35%オイルディスパ−ジョン)22
5.0g(1.963mol)および1,2−ジメトキ
シエタン1500mlの混合物をアルゴン雰囲気下、氷
冷下10℃以下で攪拌しつつ、メチル 2−{5−(1
−ベンジルオキシイミノエチル)−2−メチルフェノキ
シ}アセテ−ト347.4g(1.061mol)、ギ
酸メチル510.0g(8.490mol)および1,
2−ジメトキシエタン500mlからなる溶液を滴下し
た。滴下終了後、室温まで昇温し、室温下4時間攪拌を
続けた。その後反応液に水500mlを滴下し、更にこ
のものを氷1.5kgおよび水4.5Lの混合物中に注
加した。得られた混合物をメチルターシャリーブチルエ
ーテル3Lで洗浄し、水層を分液して濃塩酸を滴下して
pH2に調整した。析出した目的物をメチルターシャリ
ーブチルエーテル3Lで2度抽出し、エーテル層を集め
て順次水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム上乾
燥し、ろ過、濃縮することにより目的とするメチル 2
−{2−メチル−5−(1−ベンジルオキシイミノエチ
ル)フェノキシ}−3−ヒドロキシアクリレ−ト31
0.0g(0.8723mol)を得た。収率82%1 H−NMR(TMS,CDCl3 ) δ(ppm):7.52(1H,s),7.2-7.5(5H),7.11(2H,s),6.88(1H,
s),5.21(2H,s),3.66(3H,s),2.33(3H,s),2.13(3H,s)
Next, the method of synthesizing the raw materials used in the production step 1 of the present invention will be described in more detail by reference production examples. Reference Production Example Potassium hydride (35% oil dispersion) 22
A mixture of 5.0 g (1.963 mol) and 1,2-dimethoxyethane (1,500 ml) was stirred in an argon atmosphere at 10 ° C. or less under ice cooling with methyl 2- {5- (1).
-Benzyloxyiminoethyl) -2-methylphenoxydiacetate 347.4 g (1.061 mol), methyl formate 510.0 g (8.490 mol) and 1,
A solution consisting of 500 ml of 2-dimethoxyethane was added dropwise. After dropping, the temperature was raised to room temperature, and stirring was continued at room temperature for 4 hours. Thereafter, 500 ml of water was added dropwise to the reaction solution, and this was further poured into a mixture of 1.5 kg of ice and 4.5 L of water. The obtained mixture was washed with 3 L of methyl tertiary butyl ether, the aqueous layer was separated, and the pH was adjusted to 2 by dropwise addition of concentrated hydrochloric acid. The precipitated target substance was extracted twice with 3 L of methyl tertiary butyl ether, and the ether layers were collected, washed with water and saturated saline in that order, dried over magnesium sulfate, filtered and concentrated to obtain the target methyl 2
-{2-methyl-5- (1-benzyloxyiminoethyl) phenoxy} -3-hydroxyacrylate 31
0.0 g (0.8723 mol) was obtained. Yield 82% 1 H-NMR (TMS, CDCl 3 ) δ (ppm): 7.52 (1H, s), 7.2-7.5 (5H), 7.11 (2H, s), 6.88 (1H,
s), 5.21 (2H, s), 3.66 (3H, s), 2.33 (3H, s), 2.13 (3H, s)

【0039】次に、一般式 化4で示されるオキシムエ
ーテル化合物の参考製剤例を示す。尚、部は重量部を表
わし、化合物は前記表9〜16記載の番号で示す。 参考製剤例1 化合物2−1〜2−200の各々50部、リグニンスル
ホン酸カルシウム3部、ラウリル硫酸ナトリウム2部お
よび合成含水酸化珪素45部をよく粉砕混合することに
より、各々の水和剤を得る。 参考製剤例2 化合物2−1〜2−200の各々25部、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノオレエ−ト3部、CMC3部およ
び水69部を混合し、有効成分の粒度が5ミクロン以下
になるまで湿式粉砕することにより、各々の懸濁剤を得
る。 参考製剤例3 化合物2−1〜2−200の各々2部、カオリンクレ−
88部およびタルク10部をよく粉砕混合することによ
り、各々の粉剤を得る。 参考製剤例4 化合物2−1〜2−200の各々20部、ポリオキシエ
チレンスチリルフェニルエ−テル14部、ドデシルベン
ゼンスルホン酸カルシウム6部およびキシレン60部を
よく混合することにより、各々の乳剤を得る。 参考製剤例5 化合物2−1〜2−200の各々2部、合成含水酸化珪
素1部、リグニンスルホン酸カルシウム2部、ベントナ
イト30部およびカオリンクレ−65部をよく粉砕混合
し、水を加えてよく練り合せた後、造粒乾燥することに
より、各々の粒剤を得る。
Next, reference examples of the oxime ether compound represented by the general formula (4) are shown. The parts are by weight, and the compounds are indicated by the numbers in Tables 9 to 16. Reference Formulation Example 1 50 parts of each of Compounds 2-1 to 2-200, 3 parts of calcium ligninsulfonate, 2 parts of sodium lauryl sulfate and 45 parts of synthetic hydrous silicon oxide are thoroughly pulverized and mixed to obtain each wettable powder. obtain. Reference Formulation Example 2 25 parts of each of compounds 2-1 to 2-200, 3 parts of polyoxyethylene sorbitan monooleate, 3 parts of CMC and 69 parts of water are mixed until the particle size of the active ingredient becomes 5 microns or less. Each suspension is obtained by wet grinding. Reference Formulation Example 3 2 parts each of Compounds 2-1 to 2-200, kaolin cream
88 parts and 10 parts of talc are well pulverized and mixed to obtain each powder. Reference Formulation Example 4 20 parts of each of Compounds 2-1 to 2-200, 14 parts of polyoxyethylene styrylphenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzenesulfonate and 60 parts of xylene were mixed well to prepare each emulsion. obtain. Reference Formulation Example 5 2 parts of each of Compounds 2-1 to 2-200, 1 part of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium ligninsulfonate, 30 parts of bentonite and 65 parts of kaolin clay are thoroughly pulverized and mixed, and water is added. After kneading, each granule is obtained by granulation and drying.

【0040】参考製剤例6 化合物2−1〜2−200の各々20部とソルビタント
リオレエ−ト 1.5部とを、ポリビニルアルコ−ル2部を
含む水溶液28.5部と混合し、サンドグラインダ−で微粉
砕(粒径3μ以下)した後、この中に、キサンタンガム
0.05部およびアルミニウムマグネシウムシリケ−ト 0.1
部を含む水溶液40部を加え、さらにプロピレングリコ
−ル10部を加えて攪拌混合し各々の20%水中懸濁剤
を得る。 参考製剤例7 化合物2−1〜2−200の各々 0.1部をキシレン5部
およびトリクロロエタン5部に溶解し、これを脱臭灯油
89.9部に混合して各々の 0.1%油剤を得る。 参考製剤例8 化合物2−1〜2−200の各々 0.1部、テトラメスリ
ン 0.2部、d−フェノスリン 0.1部、トリクロロエタン
10部および脱臭灯油59.6部を混合溶解し、エアゾ−ル
容器に充填し、バルブ部分を取り付けた後、該バルブ部
分を通じて噴射剤(液化石油ガス)30部を加圧充填し
て各々の油性エアゾ−ルを得る。 参考製剤例9 化合物2−1〜2−200の各々 0.2部、d−アレスリ
ン 0.2部、d−フェノスリン 0.2部、キシレン5部、脱
臭灯油 3.4部および乳化剤{アトモス300(アトラス
ケミカル社登録商標名)}1部を混合溶解したものと、
純水50部とをエアゾ−ル容器に充填し、バルブ部分を
取り付け、該バルブ部分を通じて噴射剤(液化石油ガ
ス)40部を加圧充填して各々の水性エアゾ−ルを得
る。 参考製剤例10 化合物2−1〜2−200の各々 0.3gにd−アレスリ
ン 0.3gを加え、アセトン20mlに溶解し、蚊取線香用
担体(タブ粉:粕粉:木粉を4:3:3の割合で混合)
99.4gと均一に攪拌混合した後、水120mlを加え、充
分練り合わせたものを成型乾燥して各々の蚊取線香を得
る。
Reference Formulation Example 6 20 parts of each of compounds 2-1 to 2-200 and 1.5 parts of sorbitan trioleate were mixed with 28.5 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol, and finely mixed with a sand grinder. After pulverization (particle size 3μ or less), xanthan gum
0.05 parts and aluminum magnesium silicate 0.1
Then, 40 parts of an aqueous solution containing 10 parts of propylene glycol are added, and 10 parts of propylene glycol are further added, followed by stirring and mixing to obtain a 20% suspension in water. Reference Formulation Example 7 0.1 part of each of Compounds 2-1 to 2-200 was dissolved in 5 parts of xylene and 5 parts of trichloroethane, and this was deodorized kerosene.
Mix with 89.9 parts to obtain 0.1% oil for each. Reference Formulation Example 8 0.1 part of each of compounds 2-1 to 2-200, 0.2 part of tetramethrin, 0.1 part of d-phenothrin, 10 parts of trichloroethane and 59.6 parts of deodorized kerosene were mixed and dissolved, and the mixture was filled in an aerosol container, and the valve portion was filled. Then, 30 parts of a propellant (liquefied petroleum gas) is charged under pressure through the valve portion to obtain each oily aerosol. Reference Preparation Example 9 0.2 parts of each of Compounds 2-1 to 2-200, 0.2 part of d-aresulin, 0.2 part of d-phenothrin, 5 parts of xylene, 3.4 parts of deodorized kerosene, and emulsifier @Atmos 300 (registered trademark of Atlas Chemical Company) } 1 part mixed and dissolved,
50 parts of pure water is charged into an aerosol container, a valve is attached, and 40 parts of a propellant (liquefied petroleum gas) is charged under pressure through the valve to obtain each aqueous aerosol. Reference Formulation Example 10 0.3 g of each of Compounds 2-1 to 2-200 was added with 0.3 g of d-allethrin, dissolved in 20 ml of acetone, and a carrier for mosquito coil (tab flour: lees flour: wood flour 4: 3: 3)
After uniformly stirring and mixing with 99.4 g, 120 ml of water was added, and the mixture was sufficiently kneaded and dried to obtain each mosquito coil.

【0041】参考製剤例11 化合物2−1〜2−200の各々0.4g、d−アレスリ
ン 0.4gおよびピペニルブトキサイド 0.4gにアセトン
を加えて溶解し、ト−タルで10mlとする。この溶液0.
5mlを、2.5cm×1.5cm、厚さ0.3cmの電気マット用基剤
(コットンシリンタ−とパルプの混合物のフィブリルを
板状に固めたもの)に均一に含浸させて、各々の電気蚊
取マットを得る。 参考製剤例12 化合物2−1〜2−200の各々100mgを適量のアセ
トンに溶解し、4.0cm×4.0cm、厚さ1.2cmの多孔セラミ
ック板に含浸させて各々の加熱燻煙剤を得る。 参考製剤例13 化合物2−1〜2−200の各々10mgをアセトン 0.5
mlに溶解し、この溶液を、動物用固型飼料粉末(飼育繁
殖用固型飼料粉末CE−2、日本クレア株式会社商品
名)5gに処理し、均一に混合する。ついでアセトンを
風乾し、各々の0.5%毒餌を得る。
Reference Formulation Example 11 Acetone was added to 0.4 g of each of Compounds 2-1 to 2-200, 0.4 g of d-arlesrin and 0.4 g of pipenylbutoxide, and dissolved to make 10 ml with total. This solution 0.
5 ml of a 2.5 cm × 1.5 cm, 0.3 cm thick base for electric mat (a fibril of a mixture of cotton syringe and pulp solidified into a plate) is evenly impregnated with each electric mosquito. Get a mat. Reference Formulation Example 12 100 mg of each of Compounds 2-1 to 2-200 is dissolved in an appropriate amount of acetone, and impregnated into a porous ceramic plate having a size of 4.0 cm × 4.0 cm and a thickness of 1.2 cm to obtain each of the heated smokers. Reference Formulation Example 13 10 mg of each of Compounds 2-1 to 2-200 was added to acetone 0.5
The resulting solution is treated with 5 g of a solid feed powder for animals (solid feed powder for breeding and breeding, CE-2, trade name of Nippon Clea Co., Ltd.) and uniformly mixed. The acetone is then air-dried to obtain each 0.5% bait.

【0042】次に、一般式 化4で示されるオキシムエ
ーテル化合物が農園芸用殺菌剤として有用であることを
試験例で示す。尚、化合物は表9〜表16記載の番号で
示す。一般式 化4で示されるオキシムエーテル化合物
の防除効力は、調査時の供試植物上の病斑の面積率を肉
眼観察することにより評価した。(面積率とは無処理区
の病斑の面積に対する処理区の病斑の面積を%で示した
ものである。)
Next, test examples show that the oxime ether compound represented by the general formula (4) is useful as an agricultural and horticultural fungicide. The compounds are indicated by the numbers in Tables 9 to 16. The controlling effect of the oxime ether compound represented by the general formula 4 was evaluated by visually observing the area ratio of lesions on the test plant at the time of the investigation. (The area ratio is a percentage of the area of the lesion in the treated section relative to the area of the lesion in the untreated section.)

【0043】参考試験例1:イネいもち病防除試験(予
防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、イネ(日本晴)を
播種し、温室内で20日間生育させた。その後、化合物2
−1、2−2、2−3、2−82、2−83、2−8
5、2−91、2−94、2−95、2−99、2−1
00、2−102、2−104、2−107、2−11
0、2−111、2−114、2−116、2−11
9、2−120、2−122、2−123、2−12
5、2−129、2−134、2−136、2−13
7、2−140、2−146、2−156、2−17
7、2−180、2−181、2−182、2−18
4、2−185、2−186、2−193、2−19
6、2−197、2−198、2−199の化合物を参
考製剤例1に準じて水和剤とした後、水で希釈し所定濃
度(500または200ppm)にし、それを、そのイネ葉面に充
分付着するように茎葉散布した。散布後、植物を風乾
し、いもち病菌の懸濁液を噴霧接種した。接種後28℃、
多湿下に6日間置いた後、防除効果を調査した。その結
果、全ての化合物が、いもち病の発病を面積率30%以下
に抑制した。
Reference Test Example 1: Rice Blast Control Test (Preventive Effect) A plastic pot was filled with sandy loam, rice (Nipponbare) was sown, and grown in a greenhouse for 20 days. Then, compound 2
-1, 2-2, 2-3, 2-82, 2-83, 2-8
5, 2-91, 2-94, 2-95, 2-99, 2-1
00, 2-102, 2-104, 2-107, 2-11
0, 2-111, 2-114, 2-116, 2-11
9, 2-120, 2-122, 2-123, 2-12
5, 2-129, 2-134, 2-136, 2-13
7, 2-140, 2-146, 2-156, 2-17
7, 2-180, 2-181, 2-182, 2-18
4, 2-185, 2-186, 2-193, 2-19
6, 2-197, 2-198, and 2-199 were prepared as wettable powders according to Reference Formulation Example 1, and then diluted with water to a predetermined concentration (500 or 200 ppm). Foliage was sprayed so as to sufficiently adhere to the leaves. After spraying, the plants were air-dried and sprayed with a suspension of the blast fungus. 28 ° C after inoculation,
After 6 days in humid conditions, the control effect was investigated. As a result, all the compounds suppressed the occurrence of blast to an area ratio of 30% or less.

【0044】参考試験例2:コムギ赤さび病防除試験
(予防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、コムギ(農林73
号)を播種し、温室内で10日間生育させた。化合物2−
82、2−83、2−85、2−91、2−95、2−
99、2−100、2−102、2−104、2−10
7、2−110、2−111、2−114、2−11
6、2−119、2−120、2−122、2−12
3、2−125、2−129、2−134、2−13
6、2−137、2−140、2−146、2−15
6、2−180、2−181、2−182、2−18
4、2−185、2−186、2−193、2−19
6、2−197、2−198、2−199の化合物を参
考製剤例4に準じて乳剤とした後、水で希釈し所定濃度
(500または200ppm)にし、それを、そのコムギ葉面に充
分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、
コムギ赤さび病菌の胞子を接種した。接種後はじめは23
℃、暗黒多湿下に1日置き、さらに照明下に6日間置いた
後、防除効果を調査した。その結果、全ての化合物が、
赤さび病の発病を面積率30%以下に抑制した。
Reference Test Example 2: Wheat Leaf Rust Control Test (Preventive Effect) A plastic pot was filled with sandy loam, and wheat (Agriculture and Forestry 73)
No. 2) and grown in a greenhouse for 10 days. Compound 2-
82, 2-83, 2-85, 2-91, 2-95, 2-
99, 2-100, 2-102, 2-104, 2-10
7, 2-110, 2-111, 2-114, 2-11
6, 2-119, 2-120, 2-122, 2-12
3, 2-125, 2-129, 2-134, 2-13
6, 2-137, 2-140, 2-146, 2-15
6, 2-180, 2-181, 2-182, 2-18
4, 2-185, 2-186, 2-193, 2-19
6, 2-197, 2-198, and 2-199 were made into an emulsion in accordance with Reference Formulation Example 4, and then diluted with water to a predetermined concentration.
(500 or 200 ppm), which was sprayed with foliage so as to adhere well to the wheat leaf surface. After spraying, air-dry the plants,
Spores of wheat rust fungus were inoculated. 23 after inoculation
C., 1 day under dark and humid, and further 6 days under illumination, and the control effect was investigated. As a result, all compounds
The incidence of leaf rust was suppressed to 30% or less.

【0045】参考試験例3:キュウリうどんこ病防除効
果試験(予防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、キュウリ(相模半
白)を播種し、温室内で12日間生育させた。化合物2−
1、2−2、2−3、2−82、2−83、2−85、
2−99、2−100、2−102、2−104、2−
107、2−110、2−111、2−114、2−1
16、2−119、2−120、2−122、2−12
3、2−125、2−129、2−134、2−13
6、2−137、2−140、2−146、2−15
6、2−177、2−180、2−181、2−18
2、2−184、2−185、2−186、2−19
3、2−196、2−197、2−198、2−199
の化合物を参考製剤例2に準じて懸濁剤とした後、水で
希釈し所定濃度(500または200ppm)にし、それを、その
キュウリ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布
後植物を風乾し、キュウリうどんこ病菌の胞子を接種し
た。接種後23℃下に12日置いた後、防除効果を調査し
た。その結果、全ての化合物が、キュウリうどんこ病の
発病を面積率30%以下に抑制した。
Reference Test Example 3: Test for controlling cucumber powdery mildew (preventive effect) A plastic pot was filled with sandy loam, cucumber (Sagami Hanjiro) was sown, and grown in a greenhouse for 12 days. Compound 2-
1, 2-2, 2-3, 2-82, 2-83, 2-85,
2-99, 2-100, 2-102, 2-104, 2-
107, 2-110, 2-111, 2-114, 2-1
16, 2-119, 2-120, 2-122, 2-12
3, 2-125, 2-129, 2-134, 2-13
6, 2-137, 2-140, 2-146, 2-15
6, 2-177, 2-180, 2-181, 2-18
2, 2-184, 2-185, 2-186, 2-19
3, 2-196, 2-197, 2-198, 2-199
Was prepared as a suspension in accordance with Reference Formulation Example 2 and diluted with water to a predetermined concentration (500 or 200 ppm), which was sprayed on the foliage so as to sufficiently adhere to the cucumber leaves. After spraying, the plants were air-dried and inoculated with spores of cucumber powdery mildew. After 12 days at 23 ° C after inoculation, the control effect was investigated. As a result, all the compounds suppressed the onset of cucumber powdery mildew to an area ratio of 30% or less.

【0046】参考試験例4:ブドウべと病防除効果試験
(予防効果) プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ(ベリ−
A)を播種し、温室内で40日間生育させた。化合物2−
82、2−83、2−85、2−91、2−99、2−
100、2−102、2−104、2−107、2−1
10、2−111、2−114、2−116、2−11
9、2−120、2−122、2−123、2−12
5、2−129、2−134、2−136、2−13
7、2−140、2−146、2−156、2−18
0、2−181、2−182、2−184、2−18
5、2−186、2−193、2−196、2−199
の化合物を参考製剤例2に準じて懸濁剤とした後、水で
希釈し所定濃度(500または200ppm)にし、それを、その
ブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後
植物を風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液を噴霧接
種した。接種後はじめは23℃、多湿下に1日置き、さら
に温室内で6日間置いた後、防除効果を調査した。その
結果、全ての化合物が、ブドウべと病の発病を面積率30
%以下に抑制した。
Reference Test Example 4: Test for controlling the effect of grape downy mildew (preventive effect)
A) were sown and grown in a greenhouse for 40 days. Compound 2-
82, 2-83, 2-85, 2-91, 2-99, 2-
100, 2-102, 2-104, 2-107, 2-1
10, 2-111, 2-114, 2-116, 2-11
9, 2-120, 2-122, 2-123, 2-12
5, 2-129, 2-134, 2-136, 2-13
7, 2-140, 2-146, 2-156, 2-18
0, 2-181, 2-182, 2-184, 2-18
5, 2-186, 2-193, 2-196, 2-199
Was prepared as a suspension in accordance with Reference Formulation Example 2, diluted with water to a predetermined concentration (500 or 200 ppm), and sprayed with foliage so as to sufficiently adhere to the grape leaf surface. After spraying, the plants were air-dried and spray-inoculated with a zoosporangial suspension of grape downy mildew. After the inoculation, they were first placed in a humid environment at 23 ° C. for 1 day, and further placed in a greenhouse for 6 days. As a result, all compounds reduced the incidence of grape downy mildew by an area ratio of 30.
%.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明により、前記一般式 化4で示さ
れるオキシムエーテルを簡便に製造することができる。
According to the present invention, the oxime ether represented by the above general formula (4) can be easily produced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4C055 AA01 BA01 BA02 BA08 BA16 BA39 BA42 BB02 CA01 CA02 CA06 CA13 CA16 CA39 CB02 DA01 DA06 DA16 DB02 FA01 FA32 FA37 4H006 AA01 AB84 AC13 AC43 BA66 BW21 BW31 BW33  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page F term (reference) 4C055 AA01 BA01 BA02 BA08 BA16 BA39 BA42 BB02 CA01 CA02 CA06 CA13 CA16 CA39 CB02 DA01 DA06 DA16 DB02 FA01 FA32 FA37 4H006 AA01 AB84 AC13 AC43 BA66 BW21 BW31 BW33

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式 化1 【化1】 〔式中、R1は置換されていてもよいアルキル基、置換
されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよい
アルキニル基、置換されていてもよいシクロアルキル
基、置換されていてもよいシクロアルキルアルキル基、
置換されていてもよいシクロアルケニル基、置換されて
いてもよいシクロアルケニルアルキル基、置換されてい
てもよいアリール基、置換されていてもよいアリールア
ルキル基、置換されていてもよいヘテロアリール基また
は置換されていてもよいヘテロアリールアルキル基を表
し、R2はアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ
アルキル基、ハロアルキル基またはシアノ基を表し、
T、U及びVの内、一つはCR3基を表し、他の一つは
CH基または窒素原子を表し、また、残りの一つはCR
4基または窒素原子を表す。WはCR33基または窒素原
子を表す{ここで、R3、R4及びR33は同一もしくは相
異なり、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコ
キシ基、ハロアルキル基、ハロアルコキシ基、アルキル
チオ基またはハロアルキルチオ基を表す。}。〕で示さ
れる化合物。
1. A compound represented by the general formula: [In the formula, R 1 is an optionally substituted alkyl group, an optionally substituted alkenyl group, an optionally substituted alkynyl group, an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted Cycloalkylalkyl group,
An optionally substituted cycloalkenyl group, an optionally substituted cycloalkenylalkyl group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted arylalkyl group, an optionally substituted heteroaryl group or Represents an optionally substituted heteroarylalkyl group, R 2 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxyalkyl group, a haloalkyl group or a cyano group,
One of T, U and V represents a CR 3 group, the other represents a CH group or a nitrogen atom, and the other represents a CR 3 group.
Represents 4 groups or a nitrogen atom. W represents a CR 33 group or a nitrogen atom, wherein R 3 , R 4 and R 33 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a haloalkyl group, a haloalkoxy group, an alkylthio group or Represents a haloalkylthio group. }. ] The compound shown by these.
【請求項2】上記一般式 化1で示される化合物におけ
るR1が、ハロゲン原子、OR8基〔ここで、R8はC1
〜C10アルキル基、C1〜C5ハロアルキル基、C3
〜C6シクロアルキル基またはフェニル基(該フェニル
基はハロゲン原子、C1〜C5アルキル基またはトリフ
ルオロメチル基で置換されていてもよい)を表す。〕、
C(R13)=NOR14基〔ここで、R13およびR14は同
一または相異なり、水素原子、C1〜C10アルキル
基、C3〜C6シクロアルキル基またはフェニル基(該
フェニル基はハロゲン原子、C1〜C5アルキル基、ト
リフルオロメチル基またはシアノ基で置換されていても
よい)を表わす。〕、C1〜C5アルキルチオ基、C1
〜C5ハロアルキルチオ基、C1〜C10アシル基、C
2〜C11アルコキシカルボニル基、N−(C1〜C1
0アルキル)カルバモイル基、N,N−ジ(C1〜C1
0アルキル)カルバモイル基、シアノ基、アリ−ル基
〔該アリ−ル基は、ハロゲン原子、C1〜C10アルキ
ル基、C3〜C10シクロアルキル基、C1〜C5ハロ
アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C1〜C5ハ
ロアルコキシ基、シアノ基、C5〜C8シクロアルコキ
シ基、C1〜C10アシル基、フェノキシ基(該フェノ
キシ基はハロゲン原子、C1−C3アルキル基、C1−
C3ハロアルキル基またはC1−C3アルキルチオ基で
置換されていてもよい)、シアノ基で置換されていても
よいフェニル基、2−ピリジルオキシ基(該2−ピリジ
ルオキシ基はトリフルオロメチル基またはハロゲン原子
で置換されていてもよい)、ベンジルオキシ基またはベ
ンゾイルオキシ基で置換されていてもよい。〕及びヘテ
ロアリール基〔ここで、該ヘテロアリール基は、ハロゲ
ン原子、C1〜C10アルキル基、C3〜C10シクロ
アルキル基、C1〜C5ハロアルキル基、C1〜C10
アルコキシ基またはC1〜C10アルキルチオ基で置換
されていてもよい。〕からなる群より選ばれる1種以上
の基で置換されていてもよい下記群より選ばれる何れか
の基である請求項1に記載の化合物。〔アルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロ
アルキルアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアル
ケニルアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、
ヘテロアリール基及びヘテロアリールアルキル基〕
2. The compound represented by the above general formula 1 wherein R 1 is a halogen atom or an OR 8 group [where R 8 is C 1
-C10 alkyl group, C1-C5 haloalkyl group, C3
Represents a C6 cycloalkyl group or a phenyl group (the phenyl group may be substituted with a halogen atom, a C1 to C5 alkyl group or a trifluoromethyl group). ],
C (R 13 ) = NOR 14 group [where R 13 and R 14 are the same or different and are a hydrogen atom, a C1-C10 alkyl group, a C3-C6 cycloalkyl group or a phenyl group (the phenyl group is a halogen atom, C1-C5 alkyl group, trifluoromethyl group or cyano group). ], A C1-C5 alkylthio group, C1
-C5 haloalkylthio group, C1-C10 acyl group, C
2-C11 alkoxycarbonyl group, N- (C1-C1
0 alkyl) carbamoyl group, N, N-di (C1-C1
0 alkyl) carbamoyl group, cyano group, aryl group [the aryl group is a halogen atom, a C1-C10 alkyl group, a C3-C10 cycloalkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, a C1-C10 alkoxy group, a C1 -C5 haloalkoxy group, cyano group, C5-C8 cycloalkoxy group, C1-C10 acyl group, phenoxy group (the phenoxy group is a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-
A C3 haloalkyl group or a C1-C3 alkylthio group, which may be substituted, a phenyl group, which may be substituted with a cyano group, a 2-pyridyloxy group (the 2-pyridyloxy group is a trifluoromethyl group or a halogen atom; Or a benzyloxy group or a benzoyloxy group. And a heteroaryl group wherein the heteroaryl group is a halogen atom, a C1-C10 alkyl group, a C3-C10 cycloalkyl group, a C1-C5 haloalkyl group, a C1-C10
It may be substituted with an alkoxy group or a C1-C10 alkylthio group. The compound according to claim 1, which is any group selected from the following group which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of: (Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkylalkyl group, cycloalkenyl group, cycloalkenylalkyl group, aryl group, arylalkyl group,
Heteroaryl group and heteroarylalkyl group]
【請求項3】上記一般式 化1で示される化合物におい
て、R1が置換されていてもよいC1〜C10アルキル
基、置換されていてもよいC2〜C10アルケニル基、
置換されていてもよいC2〜C10アルキニル基、置換
されていてもよいC3〜C10シクロアルキル基、置換
されていてもよいC4〜C20シクロアルキルアルキル
基、置換されていてもよいC5〜C10シクロアルケニ
ル基、置換されていてもよいC6〜C20シクロアルケ
ニルアルキル基、置換されていてもよいC6〜C10ア
リール基、置換されていてもよいC7〜C20アリール
アルキル基、置換されていてもよいC1〜C9ヘテロア
リール基または置換されていてもよいC2〜C19ヘテ
ロアリールアルキル基であり、R2が水素原子、C1〜
C10アルキル基、C3〜C10シクロアルキル基、C
2〜C10アルコキシアルキル基、C1〜C5ハロアル
キル基またはシアノ基であり、R3、R4及びR33が、同
一もしくは相異なり、水素原子、ハロゲン原子、C1〜
C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、C1〜
C10ハロアルキル基、C1〜C10ハロアルコキシ
基、C1〜C10アルキルチオ基またはC1〜C10ハ
ロアルキルチオ基である請求項1に記載の化合物。
3. The compound represented by the above general formula 1, wherein R 1 is an optionally substituted C1-C10 alkyl group, an optionally substituted C2-C10 alkenyl group,
C2-C10 alkynyl group which may be substituted, C3-C10 cycloalkyl group which may be substituted, C4-C20 cycloalkylalkyl group which may be substituted, C5-C10 cycloalkenyl which may be substituted Group, an optionally substituted C6-C20 cycloalkenylalkyl group, an optionally substituted C6-C10 aryl group, an optionally substituted C7-C20 arylalkyl group, an optionally substituted C1-C9 A heteroaryl group or an optionally substituted C2 to C19 heteroarylalkyl group, wherein R 2 is a hydrogen atom,
C10 alkyl group, C3-C10 cycloalkyl group, C
A 2-C10 alkoxyalkyl group, a C1-C5 haloalkyl group or a cyano group, wherein R 3 , R 4 and R 33 are the same or different and are a hydrogen atom, a halogen atom,
C10 alkyl group, C1-C10 alkoxy group, C1-
The compound according to claim 1, which is a C10 haloalkyl group, a C1 to C10 haloalkoxy group, a C1 to C10 alkylthio group or a C1 to C10 haloalkylthio group.
【請求項4】上記一般式 化1で示される化合物におけ
るR1が、ハロゲン原子、OR81基〔ここで、R81はC
1〜C5アルキル基またはC2〜C5アルコキシアルキ
ル基またはフェニル基(該フェニル基はハロゲン原子、
C1〜C5アルキル基またはトリフルオロメチル基で置
換されていてもよい)を表わす。〕、C(R63)=NO
64基〔ここで、R63およびR64は同一または相異な
り、水素原子、C1〜C10アルキル基、C3〜C6シ
クロアルキル基またはフェニル基(該フェニル基はハロ
ゲン原子、C1〜C5アルキル基、トリフルオロメチル
基またはシアノ基で置換されていてもよい)を表わ
す。〕、C1〜C5アルキルチオ基、C1〜C5アシル
基、シアノ基、アリール基〔該アリ−ル基は、ハロゲン
原子、C1〜C5アルキル基、C3〜C6シクロアルキ
ル基、C1〜C5ハロアルキル基またはC1〜C5アル
コキシ基で置換されていてもよい。〕及びヘテロアリー
ル基〔該ヘテロアリール基は、ハロゲン原子、C1〜C
5アルキル基、C3〜C6シクロアルキル基、C1〜C
5ハロアルキル基、C1〜C5アルコキシ基またはC1
〜C5アルキルチオ基で置換されていてもよい。〕から
なる群より選ばれる1種以上の基で置換されていてもよ
い下記群より選ばれる何れかの基である請求項1または
2に記載の化合物。 〔アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロア
ルキル基、シクロアルキルアルキル基、シクロアルケニ
ル基、シクロアルケニルアルキル基、アリール基、アリ
ールアルキル基、ヘテロアリール基及びヘテロアリール
アルキル基〕
4. A compound represented by the above general formula 1 wherein R 1 is a halogen atom or an OR 81 group wherein R 81 is
A 1-C5 alkyl group or a C2-C5 alkoxyalkyl group or a phenyl group (the phenyl group is a halogen atom,
A C1-C5 alkyl group or a trifluoromethyl group). ], C (R 63 ) = NO
R 64 groups [where R 63 and R 64 are the same or different and each represent a hydrogen atom, a C1-C10 alkyl group, a C3-C6 cycloalkyl group or a phenyl group (the phenyl group is a halogen atom, a C1-C5 alkyl group; Which may be substituted with a trifluoromethyl group or a cyano group). ], A C1-C5 alkylthio group, a C1-C5 acyl group, a cyano group, an aryl group [the aryl group is a halogen atom, a C1-C5 alkyl group, a C3-C6 cycloalkyl group, a C1-C5 haloalkyl group or a C1 It may be substituted with a -C5 alkoxy group. ] And a heteroaryl group [the heteroaryl group is a halogen atom,
5-alkyl group, C3-C6 cycloalkyl group, C1-C
5-haloalkyl group, C1-C5 alkoxy group or C1
It may be substituted with a -C5 alkylthio group. 3. The compound according to claim 1, which is any group selected from the following group which may be substituted with one or more groups selected from the group consisting of: [Alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, cycloalkyl group, cycloalkylalkyl group, cycloalkenyl group, cycloalkenylalkyl group, aryl group, arylalkyl group, heteroaryl group and heteroarylalkyl group]
【請求項5】一般式 化1で示される化合物におけるア
リール基が、フェニル基、α−ナフチル基またはβ−ナ
フチル基であり、ヘテロアリール基が、2−ピリジル
基、4−ピリジル基、2−ピリミジニル基、4−ピリミ
ジニル基、3−ピラゾリル基、2−チアゾリル基、2−
イミダゾリル基または3−(1,2,4−トリアゾリ
ル)基である請求項1〜4のいずれかに記載の化合物。
5. An aryl group in a compound represented by the general formula 1 is a phenyl group, an α-naphthyl group or a β-naphthyl group, and a heteroaryl group is a 2-pyridyl group, a 4-pyridyl group or a 2-pyridyl group. Pyrimidinyl group, 4-pyrimidinyl group, 3-pyrazolyl group, 2-thiazolyl group, 2-
The compound according to any one of claims 1 to 4, which is an imidazolyl group or a 3- (1,2,4-triazolyl) group.
【請求項6】一般式 化1で示される化合物において、
T、U及びVの内、一つがCR3基であり、他の一つが
CH基であり、また、残りの一つがCR4基であり、W
がCR3 3基(R3、R4及びR33は、前記と同じ意味を表
す。)である請求項1〜5のいずれかに記載の化合物。
6. A compound represented by the general formula:
One of T, U and V is a CR 3 group, the other is a CH group, and the other is a CR 4 group,
There CR 3 3 group (R 3, R 4 and R 33. Represent the same meanings as described above) A compound according to any one of claims 1 to 5 is.
【請求項7】一般式 化2 【化2】 〔式中、R1、R2、V、U、T及びWは前記と同じ意味
を表す。〕で示される化合物を、酸の存在下に、メタノ
ールと反応させることを特徴とする請求項1に記載の一
般式 化1で示される化合物の製造法。
7. A compound of the general formula [Wherein, R 1 , R 2 , V, U, T and W represent the same meaning as described above. The method for producing a compound represented by the general formula (1) according to claim 1, wherein the compound represented by the general formula (1) is reacted with methanol in the presence of an acid.
【請求項8】請求項1に記載の一般式 化1で示される
化合物を、酸の存在下に反応させることを特徴とする一
般式 化3 【化3】 〔式中、R1、R2、V、U、T及びWは前記と同じ意味
を表す。〕で示されるオキシムエーテル化合物の製造
法。
8. A compound represented by the general formula 1 wherein the compound represented by the general formula 1 is reacted in the presence of an acid. [Wherein, R 1 , R 2 , V, U, T and W represent the same meaning as described above. ] The process for producing an oxime ether compound represented by the formula:
【請求項9】請求項1に記載の一般式 化1で示される
化合物を、酸と、酸無水物または酸ハロゲン化物の存在
下に反応させることを特徴とする一般式 化3で示され
るオキシムエーテル化合物の製造法。
9. An oxime represented by the general formula 3, wherein the compound represented by the general formula 1 according to claim 1 is reacted with an acid in the presence of an acid anhydride or an acid halide. A method for producing an ether compound.
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