JP2004307474A

JP2004307474A - Phenylpyrazole compound and use of the same

Info

Publication number: JP2004307474A
Application number: JP2004058722A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Sakaguchi; 裕史阪口; Takeshi Komori; 岳小森
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2003-03-26
Filing date: 2004-03-03
Publication date: 2004-11-04

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound having an effectiveness for plant pest control. <P>SOLUTION: This phenypyrazole compound expressed by formula (1) [wherein, X<SP>1</SP>is OR<SP>3</SP>; Y<SP>1</SP>is H, or X<SP>1</SP>, Y<SP>1</SP>together to show NOR<SP>6</SP>; R<SP>1</SP>, R<SP>2</SP>are each H, a halogen atom, a 1-3C alkyl, a 1-3C haloalkyl or the like; R<SP>3</SP>is H, a 1-3C alkyl or a 3-4C alkynyl; R<SP>4</SP>is H or a 1-4C alkyl; and R<SP>5</SP>, R<SP>6</SP>are each a 1-3C alkyl or a 3-4C alkynyl] has the effectiveness for the plant pest control. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、フェニルピラゾール化合物ならびにその用途に関する。 The present invention relates to phenylpyrazole compounds and uses thereof.

従来より、植物病害を防除するために多くの化合物が開発され、それらの化合物を有効成分とする植物病害防除剤が実用に供されている。 Conventionally, many compounds have been developed for controlling plant diseases, and plant disease controlling agents containing these compounds as active ingredients have been put to practical use.

しかしながら、それらの植物病害防除剤では、十分な効力を示さない場合がある。
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。 However, those plant disease controlling agents may not show sufficient efficacy.
An object of the present invention is to provide a compound having an excellent plant disease controlling effect.

本発明者等は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるフェニルピラゾール化合物が優れた植物病害防除活性を有することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は式（１）

〔式中、Ｘ¹はＯＲ³を表し、Ｙ¹は水素原子を表すか、あるいはＸ¹とＹ¹とが一緒になってＮＯＲ⁶を表し、Ｒ¹は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基またはＣ１−Ｃ３アルコキシ基を表し、Ｒ²は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、Ｒ³は水素原子、Ｃ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ⁴は水素原子またはＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ⁵はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ⁶はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表す。〕で示されるフェニルピラゾール化合物（以下、本発明化合物を記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。 Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to find a compound having an excellent plant disease controlling effect, and as a result, have found that a phenylpyrazole compound represented by the following formula (1) has excellent plant disease controlling activity, and completed.
That is, the present invention relates to the formula (1)

Wherein, X ¹ represents OR ^3, Y ¹ is either a hydrogen atom, or X ¹ and Y ¹ and represents a NOR ⁶ together, R ¹ represents a hydrogen atom, a halogen atom, C1-C3 R ² represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² together form a trimethylene group; Represents a tetramethylene group or a CH = CH-CH = CH group, R ³ represents a hydrogen atom, a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group, R ⁴ represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, R ⁵ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group, R ⁶ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group. (Hereinafter referred to as the compound of the present invention), a plant disease controlling agent comprising the compound of the present invention as an active ingredient, and an effective amount of the compound of the present invention, which is applied to a plant or soil. A method for controlling plant diseases is provided.

本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。 Since the compound of the present invention has an excellent plant disease controlling effect, it is useful as an active ingredient of a plant disease controlling agent.

本発明において、
Ｒ¹で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ１−Ｃ３ハロアルキル基としては例えばモノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロルメチル基があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基があげられ；
Ｒ²で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ；
Ｒ³で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４プロピニル基としては、例えば２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられ；
Ｒ⁴で表されるＣ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基があげられ；
Ｒ⁵で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、例えば−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられ；
Ｒ⁶で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、例えば２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられる。 In the present invention,
Examples of the halogen atom represented by R ¹ include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and examples of the C1-C3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group. Examples of the -C3 haloalkyl group include a monofluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group and a monochloromethyl group, and examples of the C1-C3 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. ;
Examples of the halogen atom represented by R ² include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and examples of the C1-C3 alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group and an isopropyl group;
Examples of the C1-C3 alkyl group represented by R ³ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group, and examples of the C3-C4 propynyl group include a 2-propynyl group and a 1-methyl-2-propynyl. Group, 2-butynyl group, 3-butynyl group;
The C1-C4 alkyl group represented by R ^4, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec- butyl group, a tert- butyl group are exemplified;
The C1-C3 alkyl group represented by R ^5, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and examples of the C3-C4 alkynyl group, for example - propynyl group, 1-methyl-2-propynyl group , 2-butynyl group and 3-butynyl group;
Examples of the C1-C3 alkyl group represented by R ⁶ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group, and examples of the C3-C4 alkynyl group include a 2-propynyl group and a 1-methyl-2-propynyl. Group, 2-butynyl group and 3-butynyl group.

本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。
式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ²がハロゲン原子であるフェニルピラゾール化合物； Embodiments of the compound of the present invention include, for example, the following compounds.
A phenylpyrazole compound represented by the formula (1), wherein R ¹ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a methyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a halogen atom;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a chlorine atom;
A phenylpyrazole compound represented by the formula (1), wherein R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. A phenylpyrazole compound which is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH = CH-CH = CH group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ² is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound represented by the formula (1), wherein R ² is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ² is a halogen atom;

式（１）において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ３アルキル基である化合物；
式（１）において、Ｒ⁴がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁴が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), compounds wherein R ⁴ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ⁴ is a methyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ⁴ is a hydrogen atom;
A phenylpyrazole compound represented by the formula (1), wherein R ⁵ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ⁵ is a methyl group;
A phenylpyrazole compound represented by the formula (1), wherein R ⁵ is a C3-C4 alkynyl group;

式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³が２−プロピニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ and Y ¹ is a hydrogen atom;
In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. A phenylpyrazole compound, which is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group, X ¹ is OR ³ , and Y ¹ is a hydrogen atom;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a hydrogen atom;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a methyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C3-C4 alkynyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a 2-propynyl group;
In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. Wherein phenylpyrazole is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C ³ -C 4 alkynyl group. Compound;
In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. Is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C 1 -C 3 alkyl group or C 3 -C 4 A phenylpyrazole compound which is an alkynyl group;

式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ¹とＲ²とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. A phenylpyrazole compound, which is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group, and R ⁵ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. Wherein phenylpyrazole is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ⁵ is a C1-C3 alkyl group. Compound;
In the formula (1), R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together. Is a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C 1 -C 3 alkyl group or C 3 -C 4 A phenylpyrazole compound which is an alkynyl group and R ⁵ is a C1-C3 alkyl group;

式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物
式（１）において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であるフェニルピラゾール化合物； A phenylpyrazole compound in which R ¹ is a C1-C3 alkyl group and R ² is a hydrogen atom in the formula (1) In the formula (1), phenylpyrazole in which R ¹ is a methyl group and R ² is a hydrogen atom Compound;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a halogen atom and R ² is a hydrogen atom. In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a chlorine atom and R ² is a hydrogen atom;

式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁴が水素原子であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁴が水素原子であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C1-C3 alkyl group, and R ⁵ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C1-C3 alkyl group, R ⁴ is a hydrogen atom, R ⁵ is a C1-C3 alkyl group. Certain phenylpyrazole compounds;
In the formula (1), X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C1-C3 alkyl group, R ⁴ is a methyl group, R ⁵ is a C1-C3 alkyl group. Certain phenylpyrazole compounds;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C3-C4 alkynyl group, and R ⁵ is a C1-C3 alkyl group;
In the formula (1), X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C3-C4 alkynyl group, R ⁴ is a hydrogen atom, and R ⁵ is a C1-C3 alkyl group. Certain phenylpyrazole compounds;
In the formula (1), X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C3-C4 alkynyl group, R ⁴ is a methyl group, R ⁵ is a C1-C3 alkyl group. Certain phenylpyrazole compounds;

式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁴が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁴が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁴がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ⁴がメチル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), R ¹ is a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C1-C3 alkyl group. A phenylpyrazole compound wherein R ⁴ is a hydrogen atom;
In the formula (1), R ¹ is a halogen atom, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C1-C3 alkyl group, and R A phenylpyrazole compound in which ⁴ is a hydrogen atom;
In the formula (1), R ¹ is a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C1-C3 alkyl group. A phenylpyrazole compound wherein R ⁴ is a methyl group;
In the formula (1), R ¹ is a halogen atom, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C1-C3 alkyl group, and R A phenylpyrazole compound in which ⁴ is a methyl group;

式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁴が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁴が水素原子であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁴がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹がハロゲン原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｘ¹がＯＲ³であり、Ｙ¹が水素原子であり、Ｒ³がＣ３−Ｃ４アルキニル基であり、Ｒ⁴がメチル基であるフェニルピラゾール化合物； In the formula (1), R ¹ is a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C3-C4 alkynyl group. A phenylpyrazole compound wherein R ⁴ is a hydrogen atom;
In the formula (1), R ¹ is a halogen atom, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C3-C4 alkynyl group, A phenylpyrazole compound in which ⁴ is a hydrogen atom;
In the formula (1), R ¹ is a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, and R ³ is a C3-C4 alkynyl group. A phenylpyrazole compound wherein R ⁴ is a methyl group;
In the formula (1), R ¹ is a halogen atom, R ² is a hydrogen atom, X ¹ is OR ³ , Y ¹ is a hydrogen atom, R ³ is a C3-C4 alkynyl group, A phenylpyrazole compound in which ⁴ is a methyl group;

式（１）において、Ｒ¹がメチル基であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物；
式（１）において、Ｒ¹が塩素原子であり、Ｒ²が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であるフェニルピラゾール化合物。 In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a methyl group, R ² is a hydrogen atom, and R ⁵ is a methyl group;
In the formula (1), a phenylpyrazole compound in which R ¹ is a chlorine atom, R ² is a hydrogen atom, and R ⁵ is a methyl group.

尚、前記式（１）で示される化合物とは、下記式（１−ａ）

で示される化合物及び／または下記式（１−ｂ）

で示される化合物を表す。 The compound represented by the formula (1) is defined by the following formula (1-a)

And / or the following formula (1-b)

Represents a compound represented by

次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば、製造法１〜製造法５により製造することができる。 Next, a method for producing the compound of the present invention will be described.
The compound of the present invention can be produced, for example, by Production Methods 1 to 5.

製造法１
本発明化合物のうち式（４）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを脱水縮合剤の存在下で反応させることにより、製造することができる。

〔式中、Ｒ⁷はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｘ¹およびＹ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN，N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（４）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物に希塩酸等の酸を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
（ｉｉｉ）反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
単離された式（４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 Manufacturing method 1
Among the compounds of the present invention, the compound represented by the formula (4) can be produced by reacting the compound represented by the formula (2) with the compound represented by the formula (3) in the presence of a dehydrating condensing agent. it can.

[Wherein, R ⁷ represents a C1-C4 alkyl group, and R ¹ , R ² , R ⁵ , X ¹ and Y ¹ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and quinoline, and mixtures thereof.
Examples of the dehydrating condensing agent used in the reaction include carbodiimides such as 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and 1,3-dicyclohexylcarbodiimide.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (3) is usually in a ratio of 1 to 3 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (2), and the dehydration condensing agent is usually 1 to 5 mol. It is a mole ratio.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 140 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (4) can be isolated, for example, by performing a post-treatment operation by the following method.
(I) A method of adding an acid such as dilute hydrochloric acid to the reaction mixture, extracting the mixture with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer.
(Ii) A method in which an organic solvent is added to the reaction mixture as necessary, the mixture is filtered, and the filtrate is concentrated.
(Iii) A method of filtering the reaction mixture, extracting the filtrate with an organic solvent, drying and concentrating the organic layer.
The isolated compound represented by the formula (4) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

製造法２
本発明化合物のうち式（５）で示される化合物は、式（４）で示される化合物を酸の存在下で反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｘ¹およびＹ¹は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等の有機酸類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸類があげられる。
反応に用いられる酸の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、通常０．０１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（５）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（５）で示される本発明化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 Manufacturing method 2
Among the compounds of the present invention, the compound represented by the formula (5) can be produced by reacting the compound represented by the formula (4) in the presence of an acid.

[Wherein, R ¹ , R ² , R ⁵ , X ¹ and Y ¹ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, organic acids such as acetic acid and propionic acid, water, and mixtures thereof.
Examples of the acid used for the reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid.
The amount of the acid used in the reaction is usually from 0.01 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (4).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound of the present invention represented by the formula (5) can be isolated by performing post-treatment operations such as extracting the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentrating the organic layer. The isolated compound of the present invention represented by the formula (5) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

製造法３
本発明化合物のうち式（８）で示される化合物は、式（７）で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵およびＲ⁷は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムがあげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式（７）で示される化合物１モルに対して、通常０．２５〜３モルの割合である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮して、水を加えて有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 Manufacturing method 3
The compound represented by the formula (8) among the compounds of the present invention can be produced by reacting the compound represented by the formula (7) with a reducing agent.

[Wherein, R ¹ , R ² , R ⁵ and R ⁷ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include alcohols such as methanol, ethanol and 2-propanol, ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, hexane, heptane and octane. Examples thereof include aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, water, and mixtures thereof.
Examples of the reducing agent used in the reaction include sodium borohydride and potassium borohydride.
The amount of the reducing agent used for the reaction is usually 0.25 to 3 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (7).
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (8) can be isolated by performing post-treatment operations such as concentrating the reaction mixture, adding water, extracting with an organic solvent, drying and concentrating. . The isolated compound represented by the formula (8) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

製造法４
本発明化合物のうち式（１１）で示される化合物は、以下の方法により製造することができる。

〔式中、Ｒ⁸はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵およびＲ⁷は前記と同じ意味を表す。〕
（工程４−１）
式（９）で示される化合物は、式（８）で示される化合物を塩基の存在下で、塩化メタンスルホニルと反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８）で示される化合物１モルに対して、塩化メタンスルホニルが通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、残渣に必要に応じて有機溶媒を加えて濾過し、濾液を濃縮することにより、式（９）で示される化合物を単離することができる。式（９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 Manufacturing method 4
The compound represented by the formula (11) among the compounds of the present invention can be produced by the following method.

[In the formula, R ⁸ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group, and R ¹ , R ² , R ⁵ and R ⁷ have the same meaning as described above. ]
(Step 4-1)
The compound represented by the formula (9) can be produced by reacting the compound represented by the formula (8) with methanesulfonyl chloride in the presence of a base.
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and aromatics such as toluene and xylene. Group hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and the like. And mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7. And tertiary amines such as -ene and 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
The amount of the reagent used in the reaction is such that methanesulfonyl chloride is usually at a ratio of 1 to 3 mol and the base is usually at a ratio of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (8).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of −20 to 100 ° C., and the reaction time is in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is concentrated, an organic solvent is added to the residue, if necessary, and the mixture is filtered. The filtrate is concentrated, whereby the compound represented by the formula (9) can be isolated. The compound represented by the formula (9) can be further purified by chromatography, recrystallization and the like.

（工程４−２）
式（１１）で示される化合物は、式（９）で示される化合物と式（１０）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物類があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（９）で示される化合物１モルに対して、式（１０）で示される化合物が通常１〜１０モルの割合であり、塩基が通常０．１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作により、式（１１）で示される化合物が単離することができる。単離された式（１１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 4-2)
The compound represented by the formula (11) can be produced by reacting a compound represented by the formula (9) with a compound represented by the formula (10).
The reaction is carried out in the presence or absence of a solvent, in the presence or absence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl dimethyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and aromatics such as toluene and xylene. Hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and the like. Mixtures are mentioned.
Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7. And tertiary amines such as -ene and 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene, and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (10) is usually 1 to 10 mol and the base is usually 0.1 to 5 mol per mol of the compound represented by the formula (9). It is a molar ratio.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (11) can be isolated by a post-treatment operation such as concentration of the reaction mixture. The isolated compound represented by the formula (11) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

製造法５

〔式中、Ｌ¹は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁶およびＲ⁷は前記と同じ意味を表す。〕
（工程５−１）
式（１２）で示される化合物は、式（８）で示される化合物とヒドロキシルアミンまたはその塩酸塩、硫酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール類等のアルコール類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８）で示される化合物１モルに対して、ヒドロキシルアミンまたはその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が０．０５〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 Manufacturing method 5

[In the formula, L ¹ represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and R ¹ , R ² , R ⁵ , R ⁶ and R ⁷ have the same meaning as described above. ]
(Step 5-1)
The compound represented by the formula (12) can be produced by reacting the compound represented by the formula (8) with hydroxylamine or a salt thereof such as hydrochloride and sulfate.
The reaction is carried out in the presence or absence of a solvent, in the presence or absence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and aromatics such as toluene and xylene. Group hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, water, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, tertiary amines such as triethylamine and diisopropylethylamine, and pyridine, And nitrogen-containing aromatic compounds such as dimethylaminopyridine.
The amount of the reagent used for the reaction is such that hydroxylamine or a salt thereof is usually in a ratio of 1 to 3 mol, and a base is in a ratio of 0.05 to 10 mol, based on 1 mol of the compound represented by the formula (8). is there.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (12) can be isolated by performing post-treatment operations such as extracting the reaction mixture with an organic solvent and drying and concentrating the organic layer. The isolated compound represented by the formula (12) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程５−２）
式（１４）で示される化合物は、式（１２）で示される化合物と式（１３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１２）で示される化合物１モルに対して、式（１３）で示される化合物が１〜１０モルの割合であり、塩基が０．１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 5-2)
The compound represented by the formula (14) can be produced by reacting the compound represented by the formula (12) and the compound represented by the formula (13) in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and aromatics such as toluene and xylene. Group hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and the like. And mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0 Tertiary amines such as undec-7-ene and 1,5-diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene; and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine. .
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (13) is 1 to 10 mol and the base is 0.1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (12). Percentage.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (14) can be isolated by performing post-treatment operations such as extraction of the reaction mixture with an organic solvent, drying and concentration. The isolated compound represented by the formula (14) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

次に、本発明化合物の中間体化合物の製造法について説明する Next, a method for producing an intermediate compound of the compound of the present invention will be described.

（中間体製造法１）

〔式中、Ｒ⁹はメチル基、エチル基またはプロピル基を表し、Ｌ²は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ⁵およびＲ⁷は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１０−１）
式（１０３）で示される化合物は、式（１０１）で示される化合物と式（１０２）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０１）で示される化合物１モルに対して、式（１０２）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１０３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Intermediate manufacturing method 1)

[In the formula, R ⁹ represents a methyl group, an ethyl group or a propyl group, L ² represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and R ⁵ and R ⁷ have the same meaning as described above. ]
(Step 10-1)
The compound represented by the formula (103) can be produced by reacting the compound represented by the formula (101) with the compound represented by the formula (102) in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; and chlorobenzene. And the like, esters such as butyl acetate and ethyl acetate, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydrides such as sodium hydride and potassium hydride.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (102) is usually in a proportion of 1 to 2 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (101), and the base is usually 1 to 2 mol. Percentage.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (103) can be isolated by performing post-treatment operations such as extracting the reaction mixture with an organic solvent, drying and concentrating the organic layer. The isolated compound represented by the formula (103) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１０−２）
式（１０５）で示される化合物は、式（１０３）で示される化合物と式（１０４）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造させることができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化カリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０３）で示される化合物１モルに対して、式（１０４）で示される化合物が通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１０５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる (Step 10-2)
The compound represented by the formula (105) can be produced by reacting the compound represented by the formula (103) with the compound represented by the formula (104) in the presence of a base.
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, and N, N-dimethyl. Examples include acid amides such as formamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydrides such as potassium hydride and sodium hydride, and alkali metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium tert-butoxide.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (104) is usually in a proportion of 1 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (103), and the base is usually 1 to 5 mol. Is the ratio of
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is acidified by adding an acid such as dilute hydrochloric acid, and then subjected to a post-treatment operation such as extraction with an organic solvent, drying and concentration of the organic layer, whereby the compound represented by the formula (105) is obtained. Can be isolated. The isolated compound represented by the formula (105) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１０−３）
式（３）で示される化合物は、式（１０５）で示される化合物と式（１０６）で示される化合物またはその塩酸塩、酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０５）で示される化合物１モルに対して、式（１０６）で示される化合物またはその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が触媒量〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、濾過する等の後処理操作を行うことにより、式（３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 10-3)
The compound represented by the formula (3) can be produced by reacting the compound represented by the formula (105) with the compound represented by the formula (106) or a salt thereof such as a hydrochloride and an acetate.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent, in the presence or absence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, acid amides such as N, N-dimethylformamide, alcohols such as methanol and ethanol, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal acetates such as sodium acetate and potassium acetate, alkali metal carbonates such as potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydrogen carbonate, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium tert-butoxide and the like. And alkali metal alkoxides.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (106) or a salt thereof is usually 1 to 3 mol per mol of the compound represented by the formula (105), 3 moles.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (3) can be isolated by performing post-treatment operations such as concentration and filtration of the reaction mixture. The isolated compound represented by the formula (3) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（中間体製造法２）

〔式中、Ｒ¹⁰はメチル基またはエチル基を表し、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ⁸は前記と同じ意味を表す。〕 (Intermediate production method 2)

[Wherein, R ¹⁰ represents a methyl group or an ethyl group, and R ¹ , R ² and R ⁸ represent the same meaning as described above. ]

（工程１１−１）
式（１０８）で示される化合物は、式（１０７）で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物が用いられる。
反応に用いられる還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等があげられる。
反応に用いられる還元剤の量は、式（１０７）で示される化合物１モルに対して、通常０．２５〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常瞬時〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、水を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１０８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 11-1)
The compound represented by the formula (108) can be produced by reacting the compound represented by the formula (107) with a reducing agent.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
As the solvent used in the reaction, for example, alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as tetrahydrofuran, and mixtures thereof are used.
Examples of the reducing agent used in the reaction include sodium borohydride, potassium borohydride and the like.
The amount of the reducing agent used in the reaction is usually 0.25 to 2 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (107).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 50 ° C, and the reaction time is usually in the range of instant to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (108) is isolated by performing post-treatment operations such as concentrating the reaction mixture, adding water, extracting with an organic solvent, and drying and concentrating the organic layer. Can be. The isolated compound represented by the formula (108) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１１−２）
式（１０９）で示される化合物は、式（１０８）で示される化合物と塩化メタンスルホニルとを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０８）で示される化合物１モルに対して、塩化メタンスルホニルが通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１０９）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
単離された式（１０９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 11-2)
The compound represented by the formula (109) can be produced by reacting the compound represented by the formula (108) with methanesulfonyl chloride in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
As the solvent used in the reaction, for example, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethers such as tert-butyl methyl ether, hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as octane, toluene, aromatic hydrocarbons such as xylene, Examples include halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [ Tertiary amines such as [4,3,0] non-5-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
The amount of the reagent used in the reaction is such that methanesulfonyl chloride is usually at a ratio of 1 to 3 mol and the base is usually at a ratio of 1 to 10 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (108).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of -20 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (109) can be isolated, for example, by performing a post-treatment operation by the following method.
(I) A method in which the reaction mixture is extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated.
(Ii) A method in which an organic solvent is added to the reaction mixture as necessary, the mixture is filtered, and the filtrate is concentrated.
The isolated compound represented by the formula (109) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１１−３）
式（１１０）で示される化合物は、式（１０９）で示される化合物と式（１０）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる式（１０）で示される化合物の量は、式（１０９）で示される化合物１モルに対して、通常１モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常５０℃〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより式（１１０）で示される化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じてトルエン等の有機溶媒を加え、濃縮する方法。
単離された式（１１０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 11-3)
The compound represented by the formula (110) can be produced by reacting a compound represented by the formula (109) with a compound represented by the formula (10).
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether, hexane, heptane, aliphatic hydrocarbons such as octane, toluene, xylene and the like. Examples include aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, nitriles such as acetonitrile, acid amides such as N, N-dimethylformamide, sulfoxides such as dimethylsulfoxide, and mixtures thereof.
The amount of the compound represented by the formula (10) used in the reaction is usually 1 mol to an excess amount per 1 mol of the compound represented by the formula (109).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 50 ° C to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (110) can be isolated, for example, by performing a post-treatment operation by the following method.
(I) A method in which the reaction mixture is extracted with an organic solvent, and the organic layer is dried and concentrated.
(Ii) A method in which an organic solvent such as toluene is added to the reaction mixture as necessary, followed by concentration.
The isolated compound represented by the formula (110) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１１−４）
式（１１２）で示される化合物は、式（１１０）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造する事ができる。
該反応は、通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１１０）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 11-4)
The compound represented by the formula (112) can be produced by reacting the compound represented by the formula (110) with water in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of water and an organic solvent.
Examples of the organic solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide.
The amount of the base used in the reaction is usually 1 to 20 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (110).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is acidified by adding an acid such as hydrochloric acid, and then subjected to a post-treatment operation such as extraction with an organic solvent, drying and concentration to isolate the compound represented by the formula (112). can do. The isolated compound represented by the formula (111) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（中間体製造法３）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ¹⁰は前記と同じ意味を表す。〕
式（１１３）で示される化合物は、中間体製造法２の（工程１１−４）に準ずる方法で、式（１１０）で示される化合物の代わりに式（１０８）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
（中間体製造法４）

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵およびＲ¹⁰は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１３−１）
式（１１５）で示される化合物は、式（１０７）で示される化合物と式（１１４）で示される化合物またはその塩酸塩、硫酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１０７）で示される化合物１モルに対して、式（１１４）で示される化合物またはその塩が通常１〜５モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。 (Intermediate production method 3)

[Wherein, R ¹ , R ² and R ¹⁰ represent the same meaning as described above. ]
The compound represented by the formula (113) is reacted with the compound represented by the formula (108) in place of the compound represented by the formula (110) by a method according to (Step 11-4) of Intermediate Production Method 2. It can be manufactured by doing.
(Intermediate production method 4)

[Wherein R ¹ , R ² , R ⁵ and R ¹⁰ represent the same meaning as described above. ]
(Step 13-1)
The compound represented by the formula (115) can be produced by reacting the compound represented by the formula (107) with the compound represented by the formula (114) or a salt thereof such as a hydrochloride and a sulfate.
The reaction is usually performed in the presence of a solvent, in the presence or absence of a base.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; nitriles such as acetonitrile; Acid amides such as dimethylformamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; water; and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and sodium hydrogen carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, 1,5 And tertiary amines such as -diazabicyclo [4,3,0] non-5-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (114) or a salt thereof is usually 1 to 5 mol per mol of the compound represented by the formula (107), 10 to 10 moles.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 120 ° C, and the reaction time is usually in the range of 1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (115) can be isolated by performing post-treatment operations such as extracting the reaction mixture with an organic solvent, drying and concentrating the organic layer. The isolated compound represented by the formula (115) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１３−２）
式（１１６）で示される化合物は、式（１１５）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応をさせることにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１１５）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Step 13-2)
The compound represented by the formula (116) can be produced by reacting the compound represented by the formula (115) with water in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of water and an organic solvent.
Examples of the organic solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol, ethers such as 1,4-dioxane and tetrahydrofuran, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide.
The amount of the base used in the reaction is usually 1 to 20 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (115).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 100 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is acidified by adding an acid such as hydrochloric acid, and then subjected to a post-treatment operation such as extraction with an organic solvent, drying and concentration to isolate the compound represented by the formula (116). can do. The isolated compound represented by the formula (116) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（中間体製造法５）

〔式中、Ｌ³は塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ¹⁰は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１４−１）
式（１１７）で示される化合物は、式（１０７）で示される化合物を、塩基の存在下で水と反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
該反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類があげられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１０７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性にして、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Intermediate production method 5)

[In the formula, L ³ represents a chlorine atom or a bromine atom, and R ¹ , R ² and R ¹⁰ have the same meaning as described above. ]
(Step 14-1)
The compound represented by the formula (117) can be produced by reacting the compound represented by the formula (107) with water in the presence of a base.
The reaction is usually performed in the presence of water and an organic solvent.
Examples of the organic solvent used in the reaction include alcohols such as methanol and ethanol.
Examples of the base used in the reaction include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, potassium hydroxide, and sodium hydroxide.
The amount of the base used in the reaction is usually 1 to 20 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (107).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 120 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (117) is subjected to post-treatment operations such as acidification by adding an acid such as hydrochloric acid to the reaction mixture, extraction with an organic solvent, and drying and concentration of the organic layer. Can be isolated. The isolated compound represented by the formula (117) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

（工程１４−２）
式（１１８）で示される化合物は、式（１１７）で示される化合物とハロゲン化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、臭化チオニル等があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤の量は、式（１１７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１２０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１８）で示される化合物は、蒸留等によりさらに精製することもできる。 (Step 14-2)
The compound represented by the formula (118) can be produced by reacting the compound represented by the formula (117) with a halogenating agent.
The reaction is performed in the presence or absence of a solvent.
Examples of the solvent used for the reaction include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene.
Examples of the halogenating agent used in the reaction include thionyl chloride, thionyl bromide and the like.
The amount of the halogenating agent used in the reaction is usually 1 to 5 mol per 1 mol of the compound represented by the formula (117).
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 50 to 120 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.5 to 24 hours.
After completion of the reaction, the compound represented by the formula (118) can be isolated by performing post-treatment operations such as concentration of the reaction mixture. The isolated compound represented by the formula (118) can be further purified by distillation or the like.

（中間体製造法６）
式（７）で示される化合物は、式（１１８）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより、製造することができる。

〔式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁷およびＬ³は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメテルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１１８）で示される化合物１モルに対して、式（３）で示される化合物が通常０．５〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、必要に応じて水を加えて濃縮して水を加え、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 (Intermediate manufacturing method 6)
The compound represented by the formula (7) can be produced by reacting the compound represented by the formula (118) with the compound represented by the formula (3) in the presence of a base.

[In the formula, R ¹ , R ² , R ⁵ , R ⁷ and L ³ represent the same meaning as described above. ]
The reaction is usually performed in the presence of a solvent.
Examples of the solvent used in the reaction include ethers such as 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether and tert-butyl methyl ether; aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and octane; and aromatics such as toluene and xylene. Group hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile, sulfoxides such as dimethyl sulfoxide, and mixtures thereof.
Examples of the base used in the reaction include carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, triethylamine, diisopropylethylamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene, 1,5-diazabicyclo [4, Tertiary amines such as [3,0] non-5-ene and nitrogen-containing aromatic compounds such as pyridine and 4-dimethylaminopyridine.
The amount of the reagent used in the reaction is such that the compound represented by the formula (3) is usually 0.5 to 2 mol per mol of the compound represented by the formula (118), and the base is usually 1 to 10 mol. It is a molar ratio.
The reaction temperature of the reaction is usually in the range of 0 to 150 ° C, and the reaction time is usually in the range of 0.1 to 24 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture is subjected to a post-treatment operation such as extraction with an organic solvent, addition of water if necessary, concentration, addition of water, extraction with an organic solvent, drying, and concentration to obtain the compound of the formula (7). ) Can be isolated. The isolated compound represented by the formula (7) can be further purified by chromatography, recrystallization, or the like.

次に本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）で示される化合物

上記式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³およびＲ⁵は、以下の（表１）〜（表５）に記載する。 Next, specific examples of the compound of the present invention are shown below.
Compounds represented by formulas (A), (B) and (C)

In the above formulas (A), (B) and (C), R ¹ , R ² , R ³ and R ⁵ are described in the following (Table 1) to (Table 5).

式（Ｄ）、（Ｅ）及び（Ｆ）で示される化合物

上記式（Ｄ）、（Ｅ）及び（Ｆ）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵およびＲ⁶は、以下の（表６）〜（表８）に記載する。 Compounds represented by formulas (D), (E) and (F)

In the above formulas (D), (E) and (F), R ¹ , R ² , R ⁵ and R ⁶ are described in the following (Table 6) to (Table 8).

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。 Examples of the plant disease in which the compound of the present invention has a controlling effect include plant diseases caused by algae, and specific examples include the following diseases.
Vegetables, downy mildew of radish (Peronospora brassicae), downy mildew of spinach (Peronospora spinaciae), downy mildew of tobacco (Peronospora tabacina), downy mildew of cucumber (Pseudoperonospora cubensis), downy mildew of grape ( Plasmopara viticola), apple, strawberry, and ginseng plague (Phytophthora cactorum), tomato, cucumber gray plague (Phytophora capsici), pineapple plague (Phytophthora cinnamomi), potato, tomato plague (Phytophthora insolans, tobacco) , Leek blight (Phytophthora nicotianae var. Nicotianae), spinach wilt (Pythium sp.), Cucumber seedling wilt (Pythium aphanidermatum), wheat brown snow rot (Pythium sp.), Tobacco seedling wilt ( Pythium debaryanum), soybean Pythium rot (Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum).

本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水があげられる。 Although the plant disease controlling agent of the present invention may be the compound of the present invention itself, it is usually mixed with a solid carrier, a liquid carrier, a surfactant and other formulation auxiliaries, and an emulsion, wettable powder, wettable powder for granules is used. It is formulated into flowables, powders, granules and the like. These preparations usually contain 0.1 to 90% by weight of the compound of the present invention.
Examples of the solid carrier used in the preparation include minerals such as kaolin clay, attapulgite clay, bentonite, montmorillonite, acid clay, pyrophyllite, talc, diatomaceous earth, calcite, corn cob powder, walnut shell powder and the like. Natural organic substances, synthetic organic substances such as urea, calcium carbonate, salts such as ammonium sulfate, synthetic inorganic substances such as synthetic hydrated silicon oxide and the like, and fine powders or granular substances. Examples of the liquid carrier include xylene, alkylbenzene, and methyl. Aromatic hydrocarbons such as naphthalene, alcohols such as 2-propanol, ethylene glycol, propylene glycol, and cellosolve; ketones such as acetone, cyclohexanone and isophorone; vegetable oils such as soybean oil and cottonseed oil; and petroleum aliphatic hydrocarbons , Esters, dimethyls Sulfoxide, acetonitrile, water and the like.

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤があげられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤があげられる。 Examples of the surfactant include anionic surfactants such as alkyl sulfates, alkyl aryl sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, polyoxyethylene alkyl aryl ether phosphates, lignin sulfonates, and naphthalene sulfonate formaldehyde polycondensates. Activators and nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl polyoxypropylene block copolymers, and sorbitan fatty acid esters.
Other pharmaceutical auxiliaries include, for example, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol and polyvinylpyrrolidone, gum arabic, alginic acid and its salts, polysaccharides such as CMC (carboxymethyl cellulose) and xanthan gum, aluminum magnesium silicate, alumina sol And stabilizers such as preservatives, coloring agents, PAP (acidic isopropyl phosphate), and BHT.

本発明の植物病害防除剤は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合または土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ²あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。 The plant disease controlling agent of the present invention is used, for example, to protect plants from plant diseases by treating plants, and also to protect plants growing on the soil from plant diseases by treating the soil. Used for
When the plant disease controlling agent of the present invention is used by applying foliar treatment to a plant body or by applying it to soil, the treatment amount is determined by the type of the plant to be controlled, the type of the disease to be controlled, the type of the disease to be controlled, The amount of the compound of the present invention per 10,000 m ² is usually 1 to 5000 g, preferably 5 to 1,000 g per 10,000 m ² , although it can be changed depending on the occurrence degree of the target disease, the form of preparation, the treatment time, the weather conditions and the like.
Emulsions, wettable powders, flowables and the like are usually processed by diluting with water and spraying. In this case, the concentration of the compound of the present invention is usually in the range of 0.0001 to 3% by weight, preferably 0.0005 to 1% by weight. Dusts, granules and the like are usually treated without dilution.

また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／または病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。 Further, the plant disease controlling agent of the present invention can be used in a treatment method such as seed disinfection. As the method, for example, a method of immersing plant seeds in the plant disease controlling agent of the present invention prepared so that the concentration of the present compound is 1 to 1000 ppm, the concentration of the present compound in the plant seed is 1 to 1000 ppm And a method of spray-coating or spraying the plant disease controlling agent of the present invention on a plant seed.
In the method for controlling plant diseases of the present invention, an effective amount of the plant disease controlling agent of the present invention is usually applied to a plant in which the occurrence of a disease is predicted or a soil in which the plant grows, and / or the occurrence of the disease is confirmed. This is carried out by treating the plant or the soil where the plant grows.

本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／または肥料と共に用いることもできる。 The plant disease controlling agent of the present invention is generally used as a plant disease controlling agent for agricultural and horticultural use, that is, a plant disease controlling agent for controlling plant diseases in fields, paddy fields, orchards, tea fields, pastures, turf and the like.
The plant disease controlling agent of the present invention can be used together with other plant disease controlling agents, insecticides, acaricides, nematicides, herbicides, plant growth regulators and / or fertilizers.

かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ニコビフェン、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルがあげられる。 Examples of the active ingredient of such a plant disease controlling agent include chlorothalonil, fluazinam, diclofluanid, fosetyl-Al, cyclic imide derivatives (captan, captahol, folpet, etc.), dithiocarbamate derivatives (manneb, mancozeb, thiram, Ziram, zineb, propineb, etc.), inorganic or organic copper derivatives (basic copper sulfate, basic copper chloride, copper hydroxide, copper oxine, etc.), acylalanine derivatives (metalaxyl, furalaxyl, offrace, cyprofuran, benalaxyl, oxadixyl) ), Strobilurin compounds (cresoxime methyl, azoxystrobin, trifloxystrobin, picoxystrobin, pyraclostrobin, dimoxystrobin, etc.), anilinopyrimidine derivatives (cyprodinil, pyrimethanil, mepa) Pyrimole), phenylpyrrole derivatives (fenpiclonil, fludioxonil, etc.), imide derivatives (procymidone, iprodione, vinclozolin, etc.), benzimidazole derivatives (carbendazim, benomyl, thiabendazole, thiophanate methyl, etc.), amine derivatives (fenpropimorph, tridemorph, phen Propidine, spiroxamine, etc.), azole derivatives (propiconazole, triazimenol, prochloraz, penconazole, tebuconazole, flusilazole, diconinazole, bromconazole, epoxyconazole, diphenoconazole, cyproconazole, metconazole, triflumizole, tetraconazole Nazol, microbutanil, fenbuconazole, hexaconazole, fluquinconazole, tritico Sol, bitertanol, imazalil, flutoriaphor, etc.), simoxanil, dimethomorph, famoxadone, phenamidone, iprovalicarb, benciavaricarb, cyazofamid, zoxamide, ethaboxam, nicobifen, fenhexamide, quinoxyphen, diethofencarb and acibenzolaral S Methyl is mentioned.

以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Production Examples, Preparation Examples, Test Examples, and the like, but the present invention is not limited to only these examples.
First, Production Examples of the compound of the present invention will be described.

製造例１
参考製造例３で得られた生成物Ｉ-３ａ１．０８ｇをエタノール１０ｍｌに混合し、ここに０〜５℃で水素化ホウ素ナトリウム３２ｍｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加えた混合物を０℃にした。濾過して得られた固体を減圧乾燥し、下記の物性を示す生成物（以下、本発明化合物１と記す。）０．７５ｇを得た。
本発明化合物１

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３６（３Ｈ，ｓ）、３．７１（３Ｈ，ｓ）、３．８６−３．８８（７Ｈ，ｍ）、５．１８（１Ｈ，ｓ）、６．６５−６．７８（３Ｈ，m）、７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，d，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．８５（１Ｈ，ｓ） Production Example 1
1.08 g of the product I-3a obtained in Reference Production Example 3 was mixed with 10 ml of ethanol, 32 mg of sodium borohydride was added thereto at 0 to 5 ° C, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the mixture obtained by adding water to the residue was brought to 0 ° C. The solid obtained by filtration was dried under reduced pressure to obtain 0.75 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 1).
Compound 1 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.36 (3H, s), 3.71 (3H, s), 3.86-3.88 (7H, m), 5.18 ( 1H, s), 6.65-6.78 (3H, m), 7.17 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7.34 (2H, d, J = 7.6 Hz), 7. 38 (1H, s), 7.85 (1H, s)

製造例２
参考製造例３で得られた生成物Ｉ−３ｂ０．９２ｇとエタノール１０ｍｌに混合し、ここに０〜５℃で水素化ホウ素ナトリウム２８ｍｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加えた混合物を０℃にした。濾過して得られた固体を減圧乾燥し、下記の物性を示す生成物（以下、本発明化合物２と記す。）０．９３ｇを得た。
本発明化合物２

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３８（３Ｈ，ｓ）、３．３６（１Ｈ，d，Ｊ＝３．２Ｈｚ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、５．２８（１Ｈ，d，Ｊ＝３．２Ｈｚ）、６．７４−６．８４（３Ｈ，m）、７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３６（２Ｈ，d，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、７．８７（１Ｈ，ｓ） Production Example 2
0.92 g of the product I-3b obtained in Reference Production Example 3 and 10 ml of ethanol were mixed, 28 mg of sodium borohydride was added thereto at 0 to 5 ° C, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and the mixture obtained by adding water to the residue was brought to 0 ° C. The solid obtained by filtration was dried under reduced pressure to obtain 0.93 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 2).
Compound 2 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.38 (3H, s), 3.36 (1H, d, J = 3.2 Hz), 3.67 (3H, s), 79 (3H, s), 3.89 (3H, s), 5.28 (1H, d, J = 3.2 Hz), 6.74-6.84 (3H, m), 7.22 (2H, d, J = 8 Hz), 7.36 (2H, d, J = 8 Hz), 7.59 (1H, s), 7.87 (1H, s)

製造例３
テトラヒドロフラン１０ｍｌに製造例１で得られた本発明化合物１０．５５ｇとトリエチルアミン０．３０ｍｌとを混合し、ここに約０℃で塩化メタンスルホニル０．１３ｇを滴下し、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で２回洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。残渣と２−プロピン−１−オール１．７ｍｌとを混合し、８０℃付近で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロマトグラフィーに付し、下記の物性を示す生成物（以下、本発明化合物３と記す。）２２９ｍｇを得た。
本発明化合物３

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３７（３Ｈ，ｓ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、３．６６（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、４．０１−４．３３（２Ｈ，m）、５．２１（１Ｈ，ｓ）、６．７９−６．８５（３Ｈ，m）、７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、８．２２（１Ｈ，ｓ） Production Example 3
0.55 g of the compound of the present invention 1 obtained in Production Example 1 and 0.30 ml of triethylamine were mixed with 10 ml of tetrahydrofuran, and 0.13 g of methanesulfonyl chloride was added dropwise at about 0 ° C., followed by stirring at room temperature for 30 minutes. Water was added to the reaction mixture, which was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed twice with water, dried, and concentrated under reduced pressure. The residue and 1.7 ml of 2-propyn-1-ol were mixed and stirred at about 80 ° C. for 1 hour. Thereafter, the reaction mixture was allowed to cool to around room temperature, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to chromatography to obtain 229 mg of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as compound 3 of the present invention).
Compound 3 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.37 (3H, s), 2.51 (1H, t, J = 2.5 Hz), 3.66 (3H, s), 78 (3H, s), 3.89 (3H, s), 4.01-4.33 (2H, m), 5.21 (1H, s), 6.79-6.85 (3H, m) , 7.21 (2H, d, J = 8 Hz), 7.33 (2H, d, J = 8 Hz), 7.59 (1H, s), 8.22 (1H, s)

製造例４
テトラヒドロフラン１０ｍｌに製造例２で得られた本発明化合物２０．６３ｇとトリエチルアミン０．３９ｍｌとを混合し、ここに約０℃で塩化メタンスルホニル０．１５ｍｌを滴下し、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で２回洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。得られた残渣と２−プロピン−１−オール１．９ｍｌとを混合し、８０℃付近で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してから水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロマトグラフィーに付し、下記の物性を示す生成物（以下、本発明化合物４と記す。）２６４ｍｇを得た。
本発明化合物４

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３４（３Ｈ，ｓ）、２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．５３（３Ｈ，ｓ）、３．８８（６Ｈ，ｓ）、４．０３−４．２８（２Ｈ，m）、５．１４（１Ｈ，ｓ）、６．７７−６．８９（３Ｈ，m）、７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．３９（１Ｈ，ｓ）、８．３８（１Ｈ，ｓ） Production Example 4
To 10 ml of tetrahydrofuran, 0.63 g of the present compound 2 obtained in Production Example 2 and 0.39 ml of triethylamine were mixed, and 0.15 ml of methanesulfonyl chloride was added dropwise at about 0 ° C., followed by stirring at room temperature for 30 minutes. Water was added to the reaction mixture, which was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed twice with water, dried, and concentrated under reduced pressure. The obtained residue and 1.9 ml of 2-propyn-1-ol were mixed and stirred at about 80 ° C. for 1 hour. Thereafter, the reaction mixture was allowed to cool to around room temperature, water was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed successively with water, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and saturated saline, dried, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to chromatography to obtain 264 mg of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as compound 4 of the present invention).
Compound 4 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.34 (3H, s), 2.47 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.53 (3H, s), 88 (6H, s), 4.03-4.28 (2H, m), 5.14 (1H, s), 6.77-6.89 (3H, m), 7.15 (2H, d, J = 8 Hz), 7.32 (2H, d, J = 8 Hz), 7.39 (1H, s), 8.38 (1H, s)

製造例５
ピリジン１５ｍｌに参考製造例８で得られた生成物Ｉ−８２．０ｇと２−（４−クロロフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸１．６ｇと１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１．７ｇとを混合し、１００℃で２時間攪拌した。室温付近まで放冷した反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、濃縮した。得られた結晶をヘキサン洗浄して、下記の物性を示す生成物（以下、本発明化合物５と記す。）２．７ｇを得た。
本発明化合物５

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．６１（９Ｈ，ｓ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、４．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．１７（１Ｈ，ｓ）、６．６７−６．７３（２Ｈ，ｍ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、７．３０−７．３７（４Ｈ，ｍ）、７．５５（１Ｈ，ｓ）、７．９８（１Ｈ，ｓ） Production Example 5
In 15 ml of pyridine, 2.0 g of the product I-8 obtained in Reference Production Example 8, 1.6 g of 2- (4-chlorophenyl) -2- (2-propynyloxy) acetic acid and 1-ethyl-3- (3- 1.7 g of dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and the mixture was stirred at 100 ° C. for 2 hours. Dilute hydrochloric acid was added to the reaction mixture that was allowed to cool to around room temperature, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried and concentrated. The obtained crystals were washed with hexane to obtain 2.7 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 5).
Compound 5 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 1.61 (9H, s), 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.68 (3H, s), 3. 88 (3H, s), 4.05 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.8 Hz), 4.32 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.8 Hz), 5.17 (1H) , S), 6.67-6.73 (2H, m), 6.81 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.30-7.37 (4H, m), 7.55 (1H , S), 7.98 (1H, s)

製造例６
エタノール６ｍｌと塩酸（３モル／ｌ）１０ｍｌと１，４−ジオキサン３ｍｌとの混合液に、製造例５で得られた本発明化合物５１．０ｇを加え、還流下２時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、下記の物性を示す生成物（以下、本発明化合物６と記す。）８１ｍｇを得た。
本発明化合物６

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、４．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．２０（１Ｈ，ｓ）、６．８７−６．９５（３Ｈ，ｍ）、７．３３−７．３９（４Ｈ，ｍ）、７．５６（１Ｈ，ｓ）、９．０２（１Ｈ，ｓ） Production Example 6
To a mixture of 6 ml of ethanol, 10 ml of hydrochloric acid (3 mol / l) and 3 ml of 1,4-dioxane was added 1.0 g of the compound of the present invention 5 obtained in Production Example 5, and the mixture was stirred under reflux for 2 hours. Water was added to the reaction mixture, which was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, dried, and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography to obtain 81 mg of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as compound 6 of the present invention).
Compound 6 of the present invention

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.53 (1H, t, J = 2.0 Hz), 3.90 (3H, s), 3.93 (3H, s), 4. 05 (1H, dd, J = 2.0 Hz, 15.8 Hz), 4.32 (1H, dd, J = 2.0 Hz, 15.8 Hz), 5.20 (1H, s), 6.87-6 .95 (3H, m), 7.33-7.39 (4H, m), 7.56 (1H, s), 9.02 (1H, s)

製造例７
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル５．０ｇとメチルヒドラジン１．３５ｇとをエタノール５０ｍｌに混合し、７５〜８０℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣にヘキサンを加え、濾過して得られた結晶をヘキサン洗浄して生成物（以下、生成物viiと記す。）５．１７ｇを得た。
上記で得られた生成物vii １．６ｇとトリエチルアミン１．０ｇとをテトラヒドロフラン２０ｍｌに溶解し、ここに２−（４−クロロフェニル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸塩化物１．６ｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加えて濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣をクロマトグラフィーに付し、下記の物性を示す生成物１．５ｇ（以下、本発明化合物７と記す。）と０．３８ｇ（以下、本発明化合物８と記す。）とをそれぞれ得た。

本発明化合物７
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．７４（３Ｈ，ｓ）、３．８８（６Ｈ，ｓ）、４．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．１５（１Ｈ，ｓ）、６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、６．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、７．３１−７．４０（５Ｈ，ｍ）、８．３５（１Ｈ，ｓ）
本発明化合物８
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．６５（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、４．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、４．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．８Ｈｚ）、５．２２（１Ｈ，ｓ）、６．７５−６．７８（２Ｈ，ｍ）、６．８５（１Ｈ，ｓ）、７．３４−７．４１（４Ｈ，ｍ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、８．２４（１Ｈ，ｓ） Production Example 7
5.0 g of 2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile and 1.35 g of methylhydrazine were mixed in 50 ml of ethanol, and the mixture was stirred at 75 to 80 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, hexane was added to the obtained residue, and the obtained crystal was filtered and washed with hexane to obtain 5.17 g of a product (hereinafter, referred to as product vii).
1.6 g of the product vii obtained above and 1.0 g of triethylamine are dissolved in 20 ml of tetrahydrofuran, and 1.6 g of 2- (4-chlorophenyl) -2- (2-propynyloxy) acetic acid chloride is added thereto. And stirred at room temperature for 4 hours. Ethyl acetate was added to the reaction mixture, the mixture was filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to chromatography to obtain 1.5 g (hereinafter, referred to as present compound 7) and 0.38 g (hereinafter, referred to as present compound 8) of products having the following physical properties.

Compound 7 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.49 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.74 (3H, s), 3.88 (6H, s), 4. 09 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.8 Hz), 4.30 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.8 Hz), 5.15 (1H, s), 6.47 (1H) , D, J = 8.3 Hz), 6.77 (1H, dd, J = 1.6 Hz, 8.3 Hz), 6.84 (1H, d, J = 1.6 Hz), 7.31-7. 40 (5H, m), 8.35 (1H, s)
Compound 8 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.54 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.65 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3. 89 (3H, s), 4.08 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.8 Hz), 4.33 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.8 Hz), 5.22 (1H , S), 6.75-6.78 (2H, m), 6.85 (1H, s), 7.34-7.41 (4H, m), 7.58 (1H, s), 8. 24 (1H, s)

製造例９
メタノール５０ｍｌに４−メチルベンズアルデヒド１２ｇ及びブロモホルム３０ｇを加えた後、該混合液に水酸化カリウムメタノール溶液（水酸化カリウム２８ｇとメタノール１１０ｍｌとの混合溶液）を氷冷下で滴下した。室温で１日間攪拌した後、反応混合物に水及びクロロホルムを加えて抽出し、得られた水層に塩酸を加えて酸性にしてクロロホルムで抽出した。有機層を減圧下で濃縮し、２−メトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸１１ｇを得た。
２−メトキシ−２−（４−メチルフェニル）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．３４（３Ｈ，ｓ）、３．３９（３Ｈ，ｓ）、４．７４（１Ｈ，ｓ）、７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
メトキシ−ｐ−トリル酢酸０．２７ｇ、４−（３，４−ジメトキシ−フェニル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−３−イル−アミンおよび参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．３５ｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記載する。）０．３２ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で６時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物９１ｍｇ（以下、本発明化合物９と記す。）および下記物性を示す生成物８０ｍｇ（以下、本発明化合物１０と記す。）を得た。

本発明化合物９
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、６．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ、１．７Ｈｚ）、６．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、４．７２（１Ｈ，ｓ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、３．６４（３Ｈ，ｓ）、３．３９（３Ｈ，ｓ）、２．３３（３Ｈ，ｓ）
本発明化合物１０
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、６．８０〜６．８８（３Ｈ，ｍ）、４．８０（１Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．６６（３Ｈ，ｓ）、３．４０（３Ｈ，ｓ）、２．３７（３Ｈ，ｓ） Production Example 9
After 12 g of 4-methylbenzaldehyde and 30 g of bromoform were added to 50 ml of methanol, a methanol solution of potassium hydroxide (a mixed solution of 28 g of potassium hydroxide and 110 ml of methanol) was added dropwise to the mixture under ice cooling. After stirring at room temperature for 1 day, water and chloroform were added to the reaction mixture for extraction, and the resulting aqueous layer was acidified with hydrochloric acid and extracted with chloroform. The organic layer was concentrated under reduced pressure to obtain 11 g of 2-methoxy-2- (4-methylphenyl) acetic acid.
2-methoxy-2- (4-methylphenyl) acetic acid

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.34 (3H, s), 3.39 (3H, s), 4.74 (1H, s), 7.17 (2H, d, J = 7.9 Hz), 7.31 (2H, d, J = 7.9 Hz)
0.27 g of methoxy-p-tolylacetic acid, 4- (3,4-dimethoxy-phenyl) -1-methyl-1H-pyrazol-3-yl-amine and the product I-20 obtained in Reference Production Example 2 0.35 g of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (hereinafter referred to as WSC) and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 6 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 91 mg of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 9) and 80 mg of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 10). .

Compound 9 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.39 (1H, br.s), 7.38 (1H, s), 7.31 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.14 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.83 (1H, d, J = 1.7 Hz), 6.78 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 1.7 Hz), 6 .74 (1H, d, J = 8.2 Hz), 4.72 (1H, s), 3.87 (3H, s), 3.86 (3H, s), 3.64 (3H, s), 3.39 (3H, s), 2.33 (3H, s)
The present compound 10
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.16 (1H, br.s), 7.58 (1H, s), 7.32 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.20 (2H, d, J = 7.8 Hz), 6.80 to 6.88 (3H, m), 4.80 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.77 ( 3H, s), 3.66 (3H, s), 3.40 (3H, s), 2.37 (3H, s)

製造例１１
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−ブロムフェニル）酢酸０．５４ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．４７ｇ、ＷＳＣ０．４２ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で５時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．２７ｇ（以下、本発明化合物１１と記す。）および下記物性を示す生成物０．３１ｇ（以下、本発明化合物１２と記す。）を得た。

本発明化合物１１
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３９（１Ｈ，ｓ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．８２〜６．８２（１Ｈ，ｍ）、６．７２〜６．７６（２Ｈ，ｍ）、５．１３（１Ｈ，ｓ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．７３（３Ｈ，ｓ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
本発明化合物１２
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、７．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、６．８５（１Ｈ，ｓ）、６．７７（２Ｈ，ｓ）、５．２２（１Ｈ，ｓ）、４．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，２．２Ｈｚ）、４．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，２．２Ｈｚ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ） Production Example 11
0.54 g of 2- (2-propynyloxy) -2- (4-bromophenyl) acetic acid, 0.47 g of the product I-2 obtained in Reference Production Example 2, 0.42 g of WSC and 8 ml of pyridine were mixed, and 115 Stirred at C for 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.27 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 11) and 0.31 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 12). ) Got.

Compound 11 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.34 (1H, br.s), 7.48 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.39 (1H, s), 7.33 (2H, d, J = 8.5 Hz), 6.82 to 6.82 (1H, m), 6.72 to 6.76 (2H, m), 5.13 (1H, s), 4.30 (1H, dd, J = 15.9 Hz, 2.4 Hz), 4.10 (1H, dd, J = 15.9 Hz, 2.4 Hz), 3.89 (3H, s), 3.88 (3H, s), 3.73 (3H, s), 2.49 (1H, t, J = 2.4 Hz)
Compound 12 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.13 (1H, br.s), 7.59 (1H, s), 7.55 (2H, d, J = 8.2 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.85 (1H, s), 6.77 (2H, s), 5.22 (1H, s), 4.35 (1H, dd, J = 15.9 Hz, 2.2 Hz), 4.09 (1H, dd, J = 15.9 Hz, 2.2 Hz), 3.90 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3. 68 (3H, s), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz)

製造例１３
製造例９と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−ブロモベンズアルデヒドを用いて製造した２−メトキシ−２−（４−ブロモフェニル）酢酸０．４９ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．４６ｇ、ＷＳＣ０．４２ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で５時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．２０ｇ（以下、本発明化合物１３と記す。）および下記物性を示す生成物０．１３ｇ（以下、本発明化合物１４と記す。）を得た。

本発明化合物１３
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３９（１Ｈ，ｓ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｓ）、６．７０〜６．７２（２Ｈ，ｍ）、４．７２（１Ｈ，ｓ）、３．８８（６Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、３．４４（３Ｈ，ｓ）
本発明化合物１４
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１１（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、７．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、６．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１．７Ｈｚ）、４．８０（１Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、３．４４（３Ｈ，ｓ） Production Example 13
0.49 g of 2-methoxy-2- (4-bromophenyl) acetic acid produced in the same manner as in Production Example 9 using 4-bromobenzaldehyde instead of 4-methylbenzaldehyde, obtained in Reference Production Example 2. 0.46 g of the product I-2, 0.42 g of WSC and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and 0.20 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 13) and 0.13 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 14). ) Got.

Compound 13 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.34 (1H, br.s), 7.48 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.39 (1H, s), 7.33 (2H, d, J = 8.5 Hz), 6.80 (1H, s), 6.70 to 6.72 (2H, m), 4.72 (1H, s), 3.88 ( 6H, s), 3.70 (3H, s), 3.44 (3H, s)
Compound 14 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.11 (1H, br.s), 7.58 (1H, s), 7.54 (2H, d, J = 8.5 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.3 Hz), 6.83 (1H, d, J = 1.7 Hz), 6.75 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.71 (1H) , Dd, J = 8.3 Hz, 1.7 Hz), 4.80 (1H, s), 3.90 (3H, s), 3.78 (3H, s), 3.67 (3H, s), 3.44 (3H, s)

製造例１５
（ナフタレン−２−イル）−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸０．５４ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．４７ｇ、ＷＳＣ０．４２ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で５時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．１１ｇ（以下、本発明化合物１５と記す。）および下記物性を示す生成物０．１５ｇ（以下、本発明化合物１６と記す。）を得た。

本発明化合物１５
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．４３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．９４（１Ｈ，ｓ）、７．７８〜７．９５（３Ｈ，ｍ）、７．４５〜７．５７（３Ｈ，ｍ）、７．４０（１Ｈ，ｓ）、６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ、２．０Ｈｚ）、６．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、５．３４（１Ｈ，ｓ）、４．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．６２（３Ｈ，ｓ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
本発明化合物１６
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．２５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．９５（１Ｈ，ｓ）、７．８０〜７．９１（３Ｈ，ｍ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、７．５０〜７．５６（３Ｈ，ｍ）、６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、５．４２（１Ｈ，ｓ）、４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．４Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．７４（３Ｈ，ｓ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、２．５４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ） Production Example 15
0.54 g of (naphthalen-2-yl) -2- (2-propynyloxy) acetic acid, 0.47 g of the product I-2 obtained in Reference Production Example 2, 0.42 g of WSC, and 8 ml of pyridine were mixed, and 115 ° C. For 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.11 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 15) and 0.15 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 16). ) Got.

Compound 15 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.43 (1H, br.s), 7.94 (1H, s), 7.78 to 7.95 (3H, m), 7. 45 to 7.57 (3H, m), 7.40 (1H, s), 6.85 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.74 (1H, dd, J = 8.0 Hz, 2 2.0 Hz), 6.57 (1H, d, J = 8.0 Hz), 5.34 (1H, s), 4.33 (1H, dd, J = 15.8 Hz, 2.4 Hz), 4.13 (1H, dd, J = 15.8 Hz, 2.4 Hz), 3.87 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.62 (3H, s), 2.49 (1H, t) , J = 2.4 Hz)
Compound 16 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.25 (1H, br.s), 7.95 (1H, s), 7.80 to 7.91 (3H, m), 7. 59 (1H, s), 7.50 to 7.56 (3H, m), 6.87 (1H, d, J = 1.9 Hz), 6.76 (1H, dd, J = 7.9 Hz, 1 9.9 Hz), 6.62 (1 H, d, J = 7.9 Hz), 5.42 (1 H, s), 4.38 (1 H, dd, J = 15.8 Hz, 2.4 Hz), 4.12 (1H, dd, J = 15.4 Hz, 2.4 Hz), 3.82 (3H, s), 3.74 (3H, s), 3.69 (3H, s), 2.54 (1H, t) , J = 2.4 Hz)

製造例１７
２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸０．４１ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．５０ｇ、ＷＳＣ０．４５６ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で５時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．２６ｇ（以下、本発明化合物１７と記す。）および下記物性を示す生成物０．０５８ｇ（以下、本発明化合物１８と記す。）を得た。

本発明化合物１７
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．３０〜７．４６（６Ｈ，ｍ）、６．７４〜６．９０（３Ｈ，ｍ）、５．１６（１Ｈ，ｓ）、４．２８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．６Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８７（６Ｈ，ｓ）、３．６８（３Ｈ，ｓ）、２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
本発明化合物１８
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、７．３６〜７．５０（５Ｈ，ｍ）、６．７９〜６．９０（３Ｈ，ｍ）、５．２５（１Ｈ，ｓ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ） Production Example 17
0.41 g of 2- (2-propynyloxy) -2-phenylacetic acid, 0.50 g of the product I-2 obtained in Reference Production Example 2, 0.456 g of WSC, and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 5 hours. did. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.26 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 17) and 0.058 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 18). ) Got.

Compound 17 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.38 (1H, br.s), 7.30 to 7.46 (6H, m), 6.74 to 6.90 (3H, m ), 5.16 (1H, s), 4.28 (1H, dd, J = 15.6 Hz, 2.4 Hz), 4.07 (1H, dd, J = 15.6 Hz, 2.4 Hz), 3 .87 (6H, s), 3.68 (3H, s), 2.47 (1H, t, J = 2.4 Hz)
Compound 18 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.17 (1H, br.s), 7.59 (1H, s), 7.36 to 7.50 (5H, m), 6. 79 to 6.90 (3H, m), 5.25 (1H, s), 4.32 (1H, dd, J = 15.7 Hz, 2.4 Hz), 4.07 (1H, dd, J = 15) 0.7Hz, 2.4Hz), 3.89 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.67 (3H, s), 2.51 (1H, t, J = 2.4Hz)

製造例１９
製造例９と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりにベンズアルデヒドを用いて製造した２−メトキシ−２−フェニル酢酸０．４２ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．５８ｇ、ＷＳＣ０．５３ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で５時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．１２ｇ（以下、本発明化合物１９と記す。）および下記物性を示す生成物０．０９０ｇ（以下、本発明化合物２０と記す。）を得た。

本発明化合物１９
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３９（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．３０〜７．４４（６Ｈ，ｍ）、６．７２〜６．８５（３Ｈ，ｍ）、４．７５（１Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．６５（３Ｈ，ｓ）、３．４２（３Ｈ，ｓ）
本発明化合物２０
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、７．３６〜７．５０（５Ｈ，ｍ）、６．７９〜６．８７（３Ｈ，ｍ）、４．８３（１Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、３．６５（３Ｈ，ｓ）、３．４２（３Ｈ，ｓ） Production Example 19
0.42 g of 2-methoxy-2-phenylacetic acid produced in the same manner as in Production Example 9 using benzaldehyde instead of 4-methylbenzaldehyde, and 0.58 g of the product I-2 obtained in Reference Production Example 2 , 0.53 g of WSC and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 5 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.12 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 19) and 0.090 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 20). ) Got.

Compound 19 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.39 (1H, br.s), 7.30 to 7.44 (6H, m), 6.72 to 6.85 (3H, m ), 4.75 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3.87 (3H, s), 3.65 (3H, s), 3.42 (3H, s)
Compound 20 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.15 (1H, br.s), 7.58 (1H, s), 7.36 to 7.50 (5H, m), 6. 79-6.87 (3H, m), 4.83 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.76 (3H, s), 3.65 (3H, s), 3.42 (3H, s)

製造例２１
製造例９と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−トリフルオロメチルベンズアルデヒドを用いて製造した２−メトキシ−２−（４−トリフルオロメチルフェニル）酢酸０．７０ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．７０ｇ、ＷＳＣ０．６３ｇ及びピリジン１０ｍｌを混合し、１１５℃で６時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．３１ｇ（以下、本発明化合物２１と記す。）および下記物性を示す生成物０．３９ｇ（以下、本発明化合物２２と記す。）を得た。

本発明化合物２１
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５８〜７．６５（４Ｈ，ｍ）、７．３９（１Ｈ，ｓ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、６．６５〜６．７３（２Ｈ，ｍ）、４．８２（１Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）、３．４７（３Ｈ，ｓ）
本発明化合物２２
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）、６．６８〜６．７５（２Ｈ，ｍ）、４．９０（１Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、３．４８（３Ｈ，ｓ） Production Example 21
0.70 g of 2-methoxy-2- (4-trifluoromethylphenyl) acetic acid produced in the same manner as in Production Example 9 using 4-trifluoromethylbenzaldehyde instead of 4-methylbenzaldehyde, Reference Production Example 2 0.70 g of the product I-2 obtained in the above, 0.63 g of WSC and 10 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 6 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography, and 0.31 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 21) and 0.39 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as present compound 22). ) Got.

Compound 21 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.37 (1H, br.s), 7.58 to 7.65 (4H, m), 7.39 (1H, s), 6. 80 (1H, d, J = 1.5 Hz), 6.65 to 6.73 (2H, m), 4.82 (1H, s), 3.88 (3H, s), 3.86 (3H, s), 3.70 (3H, s), 3.47 (3H, s)
Compound 22 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.15 (1H, br.s), 7.68 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.60 (2H, d, J) = 8.0 Hz), 7.58 (1H, s), 6.83 (1H, d, J = 1.4 Hz), 6.68 to 6.75 (2H, m), 4.90 (1H, s) ), 3.88 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.67 (3H, s), 3.48 (3H, s)

製造例２３
２−（２−プロピニルオキシ）−（５，６，７，８−テトラヒドロ−ナフタレン−２−イル）酢酸０．６１ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．５８ｇ、ＷＳＣ０．５３ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で６時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．２７ｇ（以下、本発明化合物２３と記す。）および下記物性を示す生成物０．４６ｇ（以下、本発明化合物２４と記す。）を得た。

本発明化合物２３
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．３９（１Ｈ，ｓ）、７．００〜７．１４（３Ｈ，ｍ）、６．７５〜６．８８（３Ｈ，ｍ）、５．０８（１Ｈ，ｓ）、４．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．６７（３Ｈ，ｓ）、２．６７〜２．７９（４Ｈ，ｍ）、２．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．７５〜１．８１（４Ｈ，ｍ）
本発明化合物２４
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５９（１Ｈ，ｓ）、７．０５〜７．１６（３Ｈ，ｍ）、６．８０〜６．９１（３Ｈ，ｍ）、５．１６（１Ｈ，ｓ）、４．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、４．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７Ｈｚ，２．４Ｈｚ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．７０（３Ｈ，ｓ）２．７０〜２．８１（４Ｈ，ｍ）、２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．７５〜１．８４（４Ｈ，ｍ） Production Example 23
0.61 g of 2- (2-propynyloxy)-(5,6,7,8-tetrahydro-naphthalen-2-yl) acetic acid, 0.58 g of the product I-2 obtained in Reference Production Example 2, 0.5% of WSC. 53 g and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 6 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.27 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 23) and 0.46 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 24). ) Got.

Compound 23 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.36 (1H, br.s), 7.39 (1H, s), 7.00 to 7.14 (3H, m), 6. 75 to 6.88 (3H, m), 5.08 (1H, s), 4.25 (1H, dd, J = 15.7 Hz, 2.4 Hz), 4.06 (1H, dd, J = 15) 0.7Hz, 2.4Hz), 3.88 (3H, s), 3.87 (3H, s), 3.67 (3H, s), 2.67 to 2.79 (4H, m), 2. 45 (1H, t, J = 2.4 Hz), 1.75 to 1.81 (4H, m)
Compound 24 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.17 (1H, br.s), 7.59 (1H, s), 7.05 to 7.16 (3H, m), 6. 80 to 6.91 (3H, m), 5.16 (1H, s), 4.29 (1H, dd, J = 15.7 Hz, 2.4 Hz), 4.04 (1H, dd, J = 15) 2.7 Hz, 2.4 Hz), 3.89 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.70 (3H, s) 2.70 to 2.81 (4H, m), 2.50 (1H, t, J = 2.4 Hz), 1.75 to 1.84 (4H, m)

製造例２５
製造例９と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに４−メトキシベンズアルデヒドを用いて製造した２−メトキシ−２−（４−メトキシフェニル）酢酸０．４９ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．５８ｇ、ＷＳＣ０．５３ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で４時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．２８ｇ（以下、本発明化合物２５と記す。）および下記物性を示す生成物０．２６ｇ（以下、本発明化合物２６と記す。）を得た。

本発明化合物２５
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．３８（１Ｈ，ｓ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．７４〜６．８９（５Ｈ，ｍ）、４．７０（１Ｈ，ｓ）、３．８７（６Ｈ，ｓ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、３．３９（３Ｈ，ｓ）
本発明化合物２６
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、６．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、６．８５〜６．８８（１Ｈ，ｍ）、６．８０〜６．８３（２Ｈ，ｍ）、４．７８（１Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．６６（３Ｈ，ｓ）、３．３９（３Ｈ，ｓ） Production Example 25
In the same manner as in Production Example 9, 0.49 g of 2-methoxy-2- (4-methoxyphenyl) acetic acid produced using 4-methoxybenzaldehyde instead of 4-methylbenzaldehyde was obtained in Reference Production Example 2. 0.58 g of product I-2, 0.53 g of WSC and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 4 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.28 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 25) and 0.26 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 26). ) Got.

Compound 25 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.38 (1H, br.s), 7.38 (1H, s), 7.33 (2H, d, J = 8.7 Hz), 6.74-6.89 (5H, m), 4.70 (1H, s), 3.87 (6H, s), 3.69 (3H, s), 3.39 (3H, s)
Compound 26 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.15 (1H, br.s), 7.58 (1H, s), 7.35 (2H, d, J = 8.9 Hz), 6.91 (2H, d, J = 8.7 Hz), 6.85 to 6.88 (1H, m), 6.80 to 6.83 (2H, m), 4.78 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.82 (3H, s), 3.79 (3H, s), 3.66 (3H, s), 3.39 (3H, s)

製造例２７
製造例９と同様の方法で、４−メチルベンズアルデヒドの代わりに３，４−ジクロロベンズアルデヒドを用いて製造した２−メトキシ−２−（３，４−ジクロロフェニル）酢酸０．５９ｇ、参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２０．５８ｇ、ＷＳＣ０．５３ｇ及びピリジン８ｍｌを混合し、１１５℃で４時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記物性を示す生成物０．２４ｇ（以下、本発明化合物２７と記す。）および下記物性を示す生成物０．１２ｇ（以下、本発明化合物２８と記す。）を得た。

本発明化合物２７
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５８（１Ｈ，ｓ）、７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．２９〜７．３３（１Ｈ，ｍ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，２．０Ｈｚ）、４．７９（１Ｈ，ｓ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、３．６９（３Ｈ，ｓ）、３．４７（３Ｈ，ｓ）
本発明化合物２８
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．５６（１Ｈ，ｓ）、７．３８〜７．４４（２Ｈ，ｍ）、７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１．７Ｈｚ）、６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、６．７０〜６．７４（２Ｈ，ｍ）、４．７１（１Ｈ，ｓ）、３．８９（６Ｈ，ｓ）、３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．４５（３Ｈ，ｓ） Production Example 27
In the same manner as in Production Example 9, 0.59 g of 2-methoxy-2- (3,4-dichlorophenyl) acetic acid produced using 3,4-dichlorobenzaldehyde instead of 4-methylbenzaldehyde, and in Reference Production Example 2, 0.58 g of the obtained product I-2, 0.53 g of WSC and 8 ml of pyridine were mixed and stirred at 115 ° C. for 4 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, water was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was sequentially washed with 5% hydrochloric acid, a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, water and saturated saline, dried over magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography to give 0.24 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 27) and 0.12 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as the present compound 28). ) Got.

Compound 27 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.10 (1H, br.s), 7.58 (1H, s), 7.57 (1H, d, J = 1.9 Hz), 7.48 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.29 to 7.33 (1H, m), 6.83 (1H, d, J = 1.9 Hz), 6.76 (1H, d) , J = 8.2 Hz), 6.59 (1H, dd, J = 8.3 Hz, 2.0 Hz), 4.79 (1H, s), 3.89 (3H, s), 3.81 (3H) , S), 3.69 (3H, s), 3.47 (3H, s)
Compound 28 of the present invention
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.33 (1H, br.s), 7.56 (1H, s), 7.38 to 7.44 (2H, m), 7. 30 (1H, dd, J = 8.3 Hz, 1.7 Hz), 6.80 (1H, d, J = 1.5 Hz), 6.70 to 6.74 (2H, m), 4.71 (1H) , S), 3.89 (6H, s), 3.75 (3H, s), 3.45 (3H, s)

参考製造例１
４−メチルフェニルグリオキシル酸エチル９．３ｇと水酸化ナトリウム水溶液（重量％；３０％）１３ｍｌとをエタノール３０ｍｌに混合し、還流下２時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物に５％塩酸を加えて酸性にして、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で２回洗浄後、乾燥し、減圧下濃縮して、４−メチルフェニルグリオキシル酸５．２ｇを得た。
４−メチルフェニルグリオキシル酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４５（３Ｈ，ｓ）、４．２８（１Ｈ，ｂｒ）、７．３２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．２５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ） Reference Production Example 1
9.3 g of ethyl 4-methylphenylglyoxylate and 13 ml of an aqueous sodium hydroxide solution (% by weight; 30%) were mixed with 30 ml of ethanol, and the mixture was stirred under reflux for 2 hours. Thereafter, the reaction mixture cooled to near room temperature was acidified by adding 5% hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline twice, dried, and concentrated under reduced pressure to obtain 5.2 g of 4-methylphenylglyoxylic acid.
4-methylphenylglyoxylic acid

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.45 (3H, s), 4.28 (1H, br), 7.32 (2H, d, J = 8.0 Hz), 8. 25 (2H, d, J = 8.3 Hz)

参考製造例２
（３，４−ジメトキシフェニル）アセトニトリル４０．０ｇとギ酸メチル６８ｇとをジメチルホルムアミド４００ｍｌに混合し、ここに０〜５℃で水素化ナトリウム（重量％；６０％）１１ｇを徐々に加え、室温で３時間攪拌した。その後、約０℃にした反応混合物に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで洗浄した。水層にｐＨ２付近になるまで５％塩酸を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル３６ｇを得た。
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．８９−３．９１（６Ｈ，m）、６．８５−７．５１（３Ｈ，m）、８．１（１Ｈ，ｂｒs）

２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル５．０ｇとメチルヒドラジン１．３５ｇとをエタノール５０ｍｌに混合し、７５〜８０℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣にヘキサンを加え、濾過して得られた結晶をヘキサン洗浄して生成物（生成物Ｉ−２と記す。）５．１７ｇを得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．８２（２Ｈ，ｂｒ．ｓ）、３．７３（１．８Ｈ，ｓ）、３．７４（１．２Ｈ，ｓ）、３．８９〜３．９０（６Ｈ，ｍ）、６．８８〜６．９８（３Ｈ，ｍ）、７．２２（０．４Ｈ，ｓ）、７．４１（０．６Ｈ，ｓ）
Reference Production Example 2
(3,4-Dimethoxyphenyl) acetonitrile (40.0 g) and methyl formate (68 g) were mixed with dimethylformamide (400 ml). Stir for 3 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture at about 0 ° C., and the mixture was washed with tert-butyl methyl ether. 5% hydrochloric acid was added to the aqueous layer until the pH became around 2, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried and concentrated under reduced pressure to obtain 36 g of 2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile.
2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 3.89-3.91 (6H, m), 6.85-7.51 (3H, m), 8.1 (1H, brs)

5.0 g of 2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile and 1.35 g of methylhydrazine were mixed in 50 ml of ethanol, and the mixture was stirred at 75 to 80 ° C. for 3 hours. Thereafter, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, hexane was added to the obtained residue, and the obtained crystal was filtered and washed with hexane to obtain 5.17 g of a product (referred to as product I-2).

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 1.82 (2H, br.s), 3.73 (1.8H, s), 3.74 (1.2H, s), 3. 89 to 3.90 (6H, m), 6.88 to 6.98 (3H, m), 7.22 (0.4H, s), 7.41 (0.6H, s)

参考製造例３
トルエン１５０ｍｌに４−メチルフェニルグリオキシル酸１０．０ｇと塩化チオニル７．２ｍｌとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．２ｇとを混合し、８０℃で１時間攪拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、４−メチルフェニルグリオキシル酸塩化物の粗生成物１２．１ｇを得た。
参考製造例２で得られた生成物Ｉ−２２．５５ｇとトリエチルアミン２．３ｍｌとをテトラヒドロフラン３０ｍｌに混合し、ここに０〜５℃で上記４−メチルフェニルグリオキシル酸塩化物の粗生成物３ｇを加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、減圧下濃縮して、クロロホルムで３回抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロマトグラフィーに付し、下記の物性を示す生成物１．１８ｇ（以下、生成物Ｉ−３ａと記す。）と１．０２ｇ（以下、生成物Ｉ−３ｂと記す。）とをそれぞれ得た。

生成物Ｉ−３ａ
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４３（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、６．９０−６．９６（３Ｈ，m）、７．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４６（１Ｈ，ｓ）、８．３６（２Ｈ，d，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、８．９６（１Ｈ，ｓ）

生成物Ｉ−３ｂ
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４６（３Ｈ，ｓ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、６．８６−６．９６（３Ｈ，m）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．６８（１Ｈ，ｓ）、８．３３（２Ｈ，d，Ｊ＝８Ｈｚ）、８．６５（１Ｈ，ｓ） Reference Production Example 3
In 150 ml of toluene, 10.0 g of 4-methylphenylglyoxylic acid, 7.2 ml of thionyl chloride and 0.2 g of N, N-dimethylformamide were mixed, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour. Thereafter, the reaction mixture cooled to near room temperature was concentrated under reduced pressure to obtain 12.1 g of a crude product of 4-methylphenylglyoxychloride.
2.55 g of the product I-2 obtained in Reference Production Example 2 and 2.3 ml of triethylamine are mixed with 30 ml of tetrahydrofuran, and 3 g of the above-mentioned 4-methylphenylglyoxychloride crude product is added thereto at 0 to 5 ° C. Was added and stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, water was added to the reaction mixture, concentrated under reduced pressure, and extracted three times with chloroform. The organic layer was dried and concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to chromatography to obtain 1.18 g (hereinafter, referred to as product I-3a) and 1.02 g (hereinafter, referred to as product I-3b) having the following physical properties. Was.

Product I-3a
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.43 (3H, s), 3.88 (3H, s), 3.90 (3H, s), 3.96 (3H, s) , 6.90-6.96 (3H, m), 7.29 (2H, d, J = 8.4 Hz), 7.46 (1H, s), 8.36 (2H, d, J = 8. 4 Hz), 8.96 (1H, s)

Product I-3b
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.46 (3H, s), 3.84 (3H, s), 3.85 (3H, s), 3.88 (3H, s) , 6.86-6.96 (3H, m), 7.33 (2H, d, J = 8 Hz), 7.68 (1H, s), 8.33 (2H, d, J = 8 Hz), 8 .65 (1H, s)

参考製造例４
４−クロロフェニルグリオキシル酸メチル８０．２ｇをメタノール５００ｍｌに溶解し、０〜５℃で水素化ホウ素ナトリウム３．８ｇを加え、室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝５／１〜２／１）に付し、２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇを得た。
２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、５．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、７．３１−７．３８（４Ｈ，ｍ） Reference Production Example 4
80.2 g of methyl 4-chlorophenylglyoxylate was dissolved in 500 ml of methanol, 3.8 g of sodium borohydride was added at 0 to 5 ° C, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. Thereafter, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure. Water was added to the residue and extracted with ethyl acetate. The organic layer is concentrated under reduced pressure, and the obtained residue is subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 5/1 to 2/1) to give 2-hydroxy-2- (4-chlorophenyl) acetic acid. 62.4 g of methyl were obtained.
Methyl 2-hydroxy-2- (4-chlorophenyl) acetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 3.51 (1H, d, J = 5.3 Hz), 3.76 (3H, s), 5.15 (1H, d, J = 5) .3 Hz), 7.31-7.38 (4H, m)

参考製造例５
２−ヒドロキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル６２．４ｇとトリエチルアミン４０．８ｇとをテトラヒドロフラン２００ｍｌに溶解し、０℃で塩化メタンスルホニル４２．８ｇを加え、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝３／１）に付し、２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７５．６ｇを得た。
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．１２（３Ｈ，ｓ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、５．９２（１Ｈ，ｓ）、７．３６−７．４３（４Ｈ，ｍ） Reference Production Example 5
62.4 g of methyl 2-hydroxy-2- (4-chlorophenyl) acetate and 40.8 g of triethylamine were dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran, 42.8 g of methanesulfonyl chloride was added at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure, and ethyl acetate was added to the residue, followed by filtration. The filtrate was concentrated under reduced pressure, and the residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain 75.6 g of methyl 2-methanesulfonyloxy-2- (4-chlorophenyl) acetate. Was.
Methyl 2-methanesulfonyloxy-2- (4-chlorophenyl) acetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 3.12 (3H, s), 3.78 (3H, s), 5.92 (1H, s), 7.36-7.43 ( 4H, m)

参考製造例６
２−メタンスルホニルオキシ−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル７０ｇと２−プロピニルアルコール７０ｇとを混合し、８０℃で１．５時間攪拌した。その後、反応混合物にトルエンを加えて減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；へキサン／酢酸エチル＝１０／１）に付し、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．１２（３Ｈ，ｓ）、４．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ）

２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．４７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．２Ｈｚ）、４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５．４Ｈｚ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４２（４Ｈ，ｍ） Reference Production Example 6
70 g of methyl 2-methanesulfonyloxy-2- (4-chlorophenyl) acetate and 70 g of 2-propynyl alcohol were mixed and stirred at 80 ° C. for 1.5 hours. Thereafter, toluene was added to the reaction mixture, and the mixture was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 10/1) to give methyl 2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetate and 2- (2-propynyloxy) 64.6 g of a mixture with -2- (4-chlorophenyl) acetic acid (2-propynyl) was obtained.
Methyl 2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.50 (1H, t, J = 2.4 Hz), 3.12 (3H, s), 4.16 (1H, dd, J = 2) .4 Hz, 16.2 Hz), 4.30 (1 H, dd, J = 2.4 Hz, 16.2 Hz), 5.19 (1 H, s), 7.33-7.42 (4 H, m)

2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetic acid (2-propynyl)

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.47 (1 H, t, J = 2.4 Hz), 2.51 (1 H, t, J = 2.4 Hz), 4.18 (1 H , Dd, J = 2.4 Hz, 16.2 Hz), 4.31 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16.2 Hz), 4.67 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.4 Hz) ), 4.76 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 15.4 Hz), 5.23 (1H, s), 7.33-7.42 (4H, m)

参考製造例７
参考製造例６で得られた２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸メチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸（２−プロピニル）との混合物６４．６ｇをテトラヒドロフラン８００ｍｌに溶解し、０℃で水酸化リチウム水溶液（水酸化リチウム６．７４ｇと水２８０ｍｌとの混合物）を滴下し、０℃〜室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して、得られた結晶をヘキサンで洗浄して、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸４３．４ｇを得た。
２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−クロロフェニル）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．２０（１Ｈ，ｓ）、７．３３−７．４４（４Ｈ，ｍ）、８．７０−９．５０（１Ｈ，ｂｒ） Reference Production Example 7
Methyl 2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetate and 2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetic acid (2-propynyl) obtained in Reference Production Example 6 Was dissolved in 800 ml of tetrahydrofuran, an aqueous solution of lithium hydroxide (a mixture of 6.74 g of lithium hydroxide and 280 ml of water) was added dropwise at 0 ° C, and the mixture was stirred at 0 ° C to room temperature for 3 hours. Thereafter, diluted hydrochloric acid was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was dried and concentrated under reduced pressure, and the obtained crystals were washed with hexane to obtain 43.4 g of 2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetic acid.
2- (2-propynyloxy) -2- (4-chlorophenyl) acetic acid

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 4.15 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16.0 Hz), 4 0.32 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16.0 Hz), 5.20 (1H, s), 7.33-7.44 (4H, m), 8.70-9.50 (1H, br)

参考製造例８
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−ヒドロキシアクリロニトリル６．５ｇをエタノールに溶解し、ｔｅｒｔ−ブチルヒドラジン塩酸塩５．９ｇと炭酸水素ナトリウム３ｇとを加え、１時間還流下攪拌した。反応混合物を室温付近まで放冷し、濾過して、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）に付し、下記の物性を示す生成物（以下、生成物Ｉ−８と記す。）７．１ｇを得た。
生成物Ｉ−８

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．６９（９Ｈ，ｓ）、３．７５（２Ｈ，ｂｒ）、３．８９（３Ｈ，ｓ）、３．９０（３Ｈ，ｓ）、６．８６−６．９２（３Ｈ，ｍ）、７．３６（１Ｈ，ｓ） Reference Production Example 8
6.5 g of 2- (3,4-dimethoxyphenyl) -3-hydroxyacrylonitrile was dissolved in ethanol, 5.9 g of tert-butylhydrazine hydrochloride and 3 g of sodium hydrogen carbonate were added, and the mixture was stirred under reflux for 1 hour. The reaction mixture was allowed to cool to around room temperature, filtered, and the filtrate was concentrated under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel chromatography (developing solvent; hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain 7.1 g of a product having the following physical properties (hereinafter, referred to as product I-8).
Product I-8

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 1.69 (9H, s), 3.75 (2H, br), 3.89 (3H, s), 3.90 (3H, s) , 6.86-6.92 (3H, m), 7.36 (1H, s)

参考製造例１０
参考製造例４〜７と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりに４−ブロモフェニルグリオキシル酸メチルを用いて、２−（２−プロピニルオキシ）−２−（４−ブロモフェニル）酢酸を得た。

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６．０Ｈｚ）、５．１９（１Ｈ，ｓ）、７．５２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、９．３２（１Ｈ，ｂｒ） Reference Production Example 10
2- (2-propynyloxy) -2- (4-bromophenyl) acetic acid was prepared in the same manner as in Reference Production Examples 4 to 7, except that methyl 4-bromophenylglyoxylate was used instead of methyl 4-chlorophenylglyoxylate. I got

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz), 4.15 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16.0 Hz), 4 0.32 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16.0 Hz), 5.19 (1H, s), 7.52 (2H, d, J = 8.3 Hz), 7.34 (2H, d, J = 8.3 Hz), 9.32 (1H, br)

参考製造例１１

マグネシウム０．８６ｇに、２−ブロモナフタレンのテトラヒドロフラン溶液（2−ブロモナフタレン７．０ｇとテトラヒドロフラン２２ｍｌとの混合溶液）を室温で滴下し、３０分間撹拌した。該混合液を−７０℃に冷却し、シュウ酸ジエチル９．９ｇおよびテトラヒドロフランの混合物を徐々に滴下した。該混合液を２時間かけて室温まで昇温し、飽和塩化アンモニウム水を加えて、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下で濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ナフタレン−２−イル−２−オキソ酢酸エチル９．３ｇを得た。
¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５６（１Ｈ，ｓ）、８．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．５６−７．６０（１Ｈ，ｍ）、７．０３−７．０７（１Ｈ，ｍ）、４．５１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、１．４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ） Reference Production Example 11

A solution of 2-bromonaphthalene in tetrahydrofuran (a mixed solution of 7.0 g of 2-bromonaphthalene and 22 ml of tetrahydrofuran) was added dropwise to 0.86 g of magnesium at room temperature, and the mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was cooled to -70 ° C, and a mixture of 9.9 g of diethyl oxalate and tetrahydrofuran was gradually added dropwise. The mixture was warmed to room temperature over 2 hours, saturated aqueous ammonium chloride was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained organic layer was washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and brine, dried over anhydrous magnesium sulfate, and then concentrated under reduced pressure. The obtained residue was subjected to silica gel column chromatography to obtain 9.3 g of ethyl naphthalen-2-yl-2-oxoacetate.
¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8.56 (1H, s), 8.05 (1H, dd, J = 1.7 Hz, 8.5 Hz), 7.98 (1H, d) , J = 8.2 Hz), 7.93 (1H, d, J = 8.7 Hz), 7.85 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.56-7.60 (1H, m) , 7.03-7.07 (1H, m), 4.51 (2H, q, J = 7.2 Hz), 1.47 (3H, t, J = 7.2 Hz)

参考製造例１２
参考製造例４〜７と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりにナフタレン−２−イルグリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
ナフタレン−２−イル−２−ヒドロキシ酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９１（１Ｈ，ｓ）、７．８２−７．８６（３Ｈ，ｍ）、７．４７−７．５３（３Ｈ，ｍ）、５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、４．１３−４．３２（２Ｈ，ｍ）、３．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
ナフタレン−２−イル−２−メタンスルホニルオキシ酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９６（１Ｈ，ｓ）、７．８４−７．９０（３Ｈ，ｍ）、７．５１−７．５６（３Ｈ，ｍ）、６．０９（１Ｈ，ｓ）、４．１９−４．３２（２Ｈ，ｍ）、３．１０（３Ｈ，ｓ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
ナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸エチルエステルとナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸（２−プロピニル）エステルとの混合物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９５（１Ｈ，ｓ）、７．８３−７．８７（３Ｈ，ｍ）、７．４９−７．５８（３Ｈ，ｍ）、５．４３（０．５Ｈ，ｓ）、５．３９（０．５Ｈ，ｓ）、４．７９（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．６６（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．１２−４．３８（３Ｈ，ｍ）、２．４９−２．５２（１Ｈ，ｍ）、２．４３（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．２２（１．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
ナフタレン−２−イル−２−（２−プロピニルオキシ）酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ，ｂｒ）、７．９３（１Ｈ，ｓ）、７．８３−７．８８（３Ｈ，ｍ）、７．４９−７．５３（３Ｈ，ｍ）、５．４０（１Ｈ，ｓ）、４．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．５３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ） Reference Production Example 12
In the same manner as in Reference Production Examples 4 to 7, the following compounds were obtained using ethyl naphthalen-2-ylglyoxylate instead of methyl 4-chlorophenylglyoxylate.
Ethyl naphthalen-2-yl-2-hydroxyacetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 7.91 (1H, s), 7.82-7.86 (3H, m), 7.47-7.53 (3H, m), 5.32 (1H, d, J = 5.6 Hz), 4.13-4.32 (2H, m), 3.56 (1H, d, J = 5.6 Hz), 1.22 (3H, t) , J = 7.6 Hz)
Ethyl naphthalen-2-yl-2-methanesulfonyloxyacetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 7.96 (1H, s), 7.84-7.90 (3H, m), 7.51-7.56 (3H, m), 6.09 (1H, s), 4.19-4.32 (2H, m), 3.10 (3H, s), 1.24 (3H, t, J = 7.1 Hz)
Mixture of naphthalen-2-yl-2- (2-propynyloxy) acetic acid ethyl ester and naphthalen-2-yl-2- (2-propynyloxy) acetic acid (2-propynyl) ester

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 7.95 (1H, s), 7.83-7.87 (3H, m), 7.49-7.58 (3H, m), 5.43 (0.5 H, s), 5.39 (0.5 H, s), 4.79 (0.5 H, dd, J = 2.4 Hz, 15 Hz), 4.66 (0.5 H, dd) , J = 2.4 Hz, 15 Hz), 4.12-4.38 (3H, m), 2.49-2.52 (1H, m), 2.43 (0.5H, t, J = 2. 4 Hz), 1.22 (1.5 H, t, J = 7.1 Hz)
Naphthalen-2-yl-2- (2-propynyloxy) acetic acid

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8-10 (1H, br), 7.93 (1H, s), 7.83-7.88 (3H, m), 7.49- 7.53 (3H, m), 5.40 (1H, s), 4.37 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16 Hz), 4.15 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16 Hz) ), 2.53 (1H, t, J = 2.4 Hz)

参考製造例１３
参考製造例４〜７と同様の方法で、４−クロロフェニルグリオキシル酸メチルの代わりにフェニルグリオキシル酸エチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。
２−ヒドロキシ−２−フェニル酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．２９−７．４５（５Ｈ，ｍ）、５．１５（１Ｈ，ｓ）、４．１１−４．３０（２Ｈ，ｍ）、３．５０（１Ｈ，ｂｒ）、１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
２−メタンスルホニルオキシ−２−フェニル酢酸エチル

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．２８−７．４６（５Ｈ，ｍ）、５．９２（１Ｈ，ｓ）、４．１６−４．３１（２Ｈ，ｍ）、３．０８（３Ｈ，ｓ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸エチルと２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸（２−プロピニル）との混合物

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４４−７．４８（２Ｈ，ｍ）、７．３６−７．３９（３Ｈ，ｍ）、５．２９（０．５Ｈ，ｓ）、５．１９（０．５Ｈ，ｓ）、４．７８（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．６６（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１５Ｈｚ）、４．０９−４．３４（３Ｈ，ｍ）、２．４７−２．５０（１Ｈ，ｍ）、２．４５（０．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．２２（１．５Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
２−（２−プロピニルオキシ）−２−フェニル酢酸

¹Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８−１０（１Ｈ、ｂｒ）、７．３６−７．４７（５Ｈ，ｍ）、５．２３（１Ｈ，ｓ）、４．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、４．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１６Ｈｚ）、２．５１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ） Reference Production Example 13
The following compounds were obtained in the same manner as in Reference Production Examples 4 to 7, using ethyl phenylglyoxylate instead of methyl 4-chlorophenylglyoxylate.
Ethyl 2-hydroxy-2-phenylacetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 7.29-7.45 (5H, m), 5.15 (1H, s), 4.11-4.30 (2H, m), 3.50 (1H, br), 1.22 (3H, t, J = 7.0 Hz)
Ethyl 2-methanesulfonyloxy-2-phenylacetate

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 7.28-7.46 (5H, m), 5.92 (1H, s), 4.16-4.31 (2H, m), 3.08 (3H, s), 1.24 (3H, t, J = 7.1 Hz)
Mixture of ethyl 2- (2-propynyloxy) -2-phenylacetate and 2- (2-propynyloxy) -2-phenylacetate (2-propynyl)

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 7.44-7.48 (2H, m), 7.36-7.39 (3H, m), 5.29 (0.5H, s) ), 5.19 (0.5 H, s), 4.78 (0.5 H, dd, J = 2.4 Hz, 15 Hz), 4.66 (0.5 H, dd, J = 2.4 Hz, 15 Hz) , 4.09-4.34 (3H, m), 2.47-2.50 (1H, m), 2.45 (0.5H, t, J = 2.4 Hz), 1.22 (1. 5H, t, J = 7.1 Hz)
2- (2-propynyloxy) -2-phenylacetic acid

¹ H-NMR (CDCl ₃ , TMS) δ (ppm): 8-10 (1H, br), 7.36-7.47 (5H, m), 5.23 (1H, s), 4.33 ( 1H, dd, J = 2.4 Hz, 16 Hz), 4.13 (1H, dd, J = 2.4 Hz, 16 Hz), 2.51 (1H, t, J = 2.4 Hz)

次に製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。 Next, formulation examples are shown. In addition, a part shows a weight part.

製剤例１
本発明化合物１〜２８の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。 Formulation Example 1
50 parts of each of the present compounds 1 to 28, 3 parts of calcium ligninsulfonate, 2 parts of magnesium lauryl sulfate, and 45 parts of synthetic hydrous silicon oxide are thoroughly pulverized and mixed to obtain each wettable powder.

製剤例２
本発明化合物１〜２８の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し、各々の製剤を得る。 Formulation Example 2
20 parts of each of the present compounds 1 to 28 and 1.5 parts of sorbitan trioleate are mixed with 28.5 parts of an aqueous solution containing 2 parts of polyvinyl alcohol, and finely pulverized by a wet pulverization method. , 40 parts of an aqueous solution containing 0.05 parts of xanthan gum and 0.1 parts of aluminum magnesium silicate, and 10 parts of propylene glycol are further added and stirred and mixed to obtain each preparation.

製剤例３
本発明化合物１〜２８の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。 Formulation Example 3
Two parts of each of the present compounds 1 to 28, 88 parts of kaolin clay and 10 parts of talc are thoroughly pulverized and mixed to obtain each powder.

製剤例４
本発明化合物１〜２８の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。 Formulation Example 4
Each emulsion is obtained by thoroughly mixing 5 parts of each of the present compounds 1 to 28, 14 parts of polyoxyethylene styrylphenyl ether, 6 parts of calcium dodecylbenzenesulfonate and 75 parts of xylene.

製剤例５
本発明化合物１〜２８の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。 Formulation Example 5
2 parts of each of the present compounds 1 to 28, 1 part of synthetic hydrous silicon oxide, 2 parts of calcium ligninsulfonate, 30 parts of bentonite and 65 parts of kaolin clay are thoroughly pulverized and mixed. Each granule is obtained by drying.

製剤例６
本発明化合物１〜２８の各々１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。 Formulation Example 6
10 parts of each of the present compounds 1 to 28; 35 parts of white carbon containing 50 parts of polyoxyethylene alkyl ether sulfate ammonium salt; and 55 parts of water are mixed and finely pulverized by a wet pulverization method. obtain.

次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。 Next, Test Examples show that the compounds of the present invention are useful for controlling plant diseases.
The control effect was evaluated by visually observing the area of the lesion on the test plant at the time of the investigation and comparing the area of the lesion in the untreated section with the area of the lesion in the section treated with the compound of the present invention.

試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた本発明化合物３〜５、７〜１３、１５〜２１、２３〜２７および２８を各々製剤例６に準じた製剤とした後、水で本発明化合物の濃度が５００ｐｐｍとなるように希釈して試験用薬液を調製した。この試験用薬液を上記のトマト苗の葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このトマト苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、さらに昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して４日間栽培した後、植物上の病斑面積を調査した。本発明化合物３〜５、７〜１３、１５〜２１、２３〜２７および２８を供試した各々の植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。 Test example 1
Plastic pots filled with sandy loam, seeded with tomatoes (variety: Ponterosa), and grown in a greenhouse for 20 days. After preparing a formulation according to 6, a test drug solution was prepared by diluting with water so that the concentration of the compound of the present invention became 500 ppm. This test solution was sprayed on the foliage so as to sufficiently adhere to the leaf surface of the tomato seedling. After spraying, the plants were air-dried, and sprayed with a water suspension (about 10,000 cells / ml) of zoospores of tomato late blight (at a rate of about 2 ml per plant). Thereafter, the tomato seedlings were cultivated for one day under the conditions of 23 ° C. and a relative humidity of 90% or more, further transferred to a greenhouse at 24 ° C. during the day and 20 ° C. at night, and cultivated for 4 days. did. The lesion area on each plant to which the present compounds 3 to 5, 7 to 13, 15 to 21, 23 to 27, and 28 were tested was 10% or less of the lesion area in the untreated plot.

試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種:ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物３〜９、１１、１２、１７、２３、２４および２８を各々製剤例６に準じた製剤とした後、水で２００ｐｐｍの濃度に希釈し、希釈液を調製した。該希釈液を前記のブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。次いで葉面上の散布液を風乾させた後、ブドウべと病の遊走子嚢の水懸濁液（約１００００個／ｍｌ）を噴霧（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。その後、このブドウ苗を２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で1日間栽培し、さらに昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。
植物上の病斑面積を目視観察したところ、薬剤にて処理していない植物の病斑の面積に対して本発明化合物３〜９、１１、１２、１７、２３、２４および２８を供試した各々の植物の病斑面積は１０％以下であった。

Test example 2
A plastic pot was filled with sandy loam, sown with grapes (variety: berry A), and grown in a greenhouse for 40 days. Compounds 3 to 9, 11, 12, 17, 23, 24, and 28 of the present invention were each prepared according to Formulation Example 6, and then diluted with water to a concentration of 200 ppm to prepare diluents. The diluted solution was sprayed on foliage so as to sufficiently adhere to the grape leaf surface. Next, the spray liquid on the leaf surface was air-dried, and then an aqueous suspension of zoosporangia of grape downy mildew (about 10,000 cells / ml) was sprayed (at a rate of about 2 ml per plant). Thereafter, the grape seedlings were cultivated for one day under the conditions of 23 ° C. and a relative humidity of 90% or more, and further transferred to a greenhouse at 24 ° C. during the day and 20 ° C. at night, and cultivated for 6 days.
When the lesion area on the plant was visually observed, compounds 3 to 9, 11, 12, 17, 23, 24 and 28 of the present invention were tested on the area of the lesion on the plant not treated with the drug. The lesion area of each plant was 10% or less.

Claims

Equation (1)

(In the formula,
X ¹ represents OR ³ , Y ¹ represents a hydrogen atom,
Or X ¹ and Y ¹ together represent NOR ⁶ ;
R ¹ represents a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C3 alkyl group, a C1-C3 haloalkyl group or a C1-C3 alkoxy group,
R ² represents a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group,
Alternatively, R ¹ and R ² together represent a trimethylene group, a tetramethylene group or a CH ＝ CH—CH ＝ CH group,
R ³ represents a hydrogen atom, a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group,
R ⁴ represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group,
R ⁵ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group,
R ⁶ represents a C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group. ]
A phenylpyrazole compound represented by the formula:

R ¹ is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, R ² is a hydrogen atom, a halogen atom or a C1-C3 alkyl group, or R ¹ and R ² are taken together to form a trimethylene group The phenylpyrazole compound according to claim 1, which is a tetramethylene group or a CH = CH-CH = CH group.

^3. The phenylpyrazole compound according to claim 1, wherein X ¹ is OR ³ and Y ¹ is a hydrogen atom.

R ³ is claim 3 phenylpyrazole compound of wherein the C1-C3 alkyl group or a C3-C4 alkynyl group.

R ⁵ is C1-C3 alkyl group in which the preceding claims phenylpyrazole compound of any one claim.

A plant disease controlling agent comprising the phenylpyrazole compound according to any one of claims 1 to 5 as an active ingredient.

A method for controlling plant diseases, comprising treating a plant or soil with an effective amount of the phenylpyrazole compound according to any one of claims 1 to 5.