JP2005103870A - Laminated material and small bag for packaging liquid using it - Google Patents

Laminated material and small bag for packaging liquid using it Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a useful small bag for packaging a liquid formed using a laminated material using a barrier film excellent in gas barrier properties for preventing the permeation of an oxygen gas, steam or the like, not causing the leak of a smell or the like even if a dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, Miso, vinegar and other seasonings are subjected to hot filling packaging and extremely excellent in aroma retaining properties or the like. <P>SOLUTION: This laminated material is composed of a polyamide resin film and the barrier layer provided to one side surface thereof. The barrier layer is constituted by providing at least a coating film comprising a polyurethane resin composition or a polyester resin composition on the barrier layer of a barrier film comprising at least two silicon oxide layers by a plasma chemical vapor phase growth method and further providing a heat-sealable resin layer thereon through an adhesive layer. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、積層材およびそれを使用した液体充填包装用小袋に関するものである。   The present invention relates to a laminated material and a liquid-filled packaging pouch using the same.

近年、包装用材料に使用されるバリア性素材として、例えば、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、あるいは、2軸延伸ナイロン6フィルム等の基材フィルムの一方の面に、酸化珪素、あるいは、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた透明バリア性フィルムが、開発、提案され、その動向が注目されている。   In recent years, as a barrier material used for packaging materials, for example, silicon oxide or oxidation is applied to one surface of a base film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched nylon 6 film. A transparent barrier film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum has been developed and proposed, and its trend is drawing attention.

本発明者も、先に、基材と、該基材の少なくとも一方の面に設けられたバリヤ−層とを有し、該バリヤ−層は珪素酸化物からなるとともに、炭素、水素、珪素および酸素のなかの1種類、あるいは2種類以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有する連続層であることを特徴とするバリヤ−性フィルムおよびその製造方法を提案しているものである(例えば、特許文献1参照。)。   The present inventor also has a base material and a barrier layer provided on at least one surface of the base material, and the barrier layer is made of silicon oxide, and includes carbon, hydrogen, silicon and The present invention proposes a barrier film characterized by being a continuous layer containing at least one compound composed of one kind of oxygen or two or more kinds of elements, and a method for producing the same (for example, (See Patent Document 1).

更に、本発明者は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜を2層ないしそれ以上に重層してなることを特徴とする透明バリア性フィルムおよびそれを使用した積層体も提案しているものである(例えば、特許文献2参照。)。   Further, the present inventor has provided a transparent barrier film characterized by comprising two or more layers of an inorganic oxide vapor-deposited film formed by plasma chemical vapor deposition on one surface of a base film, and The laminated body used is also proposed (for example, refer patent document 2).

また、本発明者は、2軸延伸ナイロンフィルムの一方の面に、無機酸化物の被膜を設け、更に、該無機酸化物の被膜の上に、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜を設けたことを特徴とする透明バリアフィルム、それを積層した積層材および包装用容器を提案しているものである(例えば、特許文献3参照。)。   In addition, the inventor of the present invention provides an inorganic oxide film on one surface of a biaxially stretched nylon film, and further includes a silane coupling agent and a filler on the inorganic oxide film. A transparent barrier film provided with a coating thin film made of a resin composition, a laminated material obtained by laminating the transparent barrier film, and a packaging container are proposed (for example, see Patent Document 3).

更にまた、本発明者は、ナイロンフィルムの一方の面に、少なくとも、無機酸化物の薄膜を2層以上重層して設け、更に、該無機酸化物の薄膜の上に、シランカップリング剤を含むプライマ−組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜を設け、更にまた、該コ−ティング薄膜上に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を積層したことを特徴とする積層材およびそれを使用した包装用容器も提案しているものである(例えば、特許文献4参照。)。
特開平8−142252号公報(特許請求の範囲等) 特開平11−348171号公報(特許請求の範囲等) 特開2000−167972号公報(特許請求の範囲等) 特開2000−233468号公報(特許請求の範囲等)
Furthermore, the present inventor provided at least two layers of inorganic oxide thin films on one surface of the nylon film, and further includes a silane coupling agent on the inorganic oxide thin film. A laminated material comprising: a coating thin film made of a primer composition or a polyester resin composition; and at least a heat-sealable resin layer laminated on the coating thin film; A packaging container using the same is also proposed (for example, see Patent Document 4).
JP-A-8-142252 (Claims etc.) Japanese Patent Laid-Open No. 11-348171 (Claims etc.) JP 2000-167972 A (Claims etc.) JP 2000-233468 A (Claims etc.)

しかしながら、上記のような特許文献に係る発明においては、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止する高いガスバリア性を有すると共に透明性、可撓性、屈曲性、耐衝撃性等に優れ、更に、電子レンジ適性を備えているという利点を有するバリア性フィルムを製造し得るものではあるが、これを、バリア性素材として使用し、これに他の基材を任意に積層して包装用材料を製造し、しかる後、該包装用材料を製袋し、所望の包装用袋を製造し、而して、該包装用袋内に、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料をホット充填包装して包装製品を製造すると、該包装製品から匂いの漏れ等が発生し、著しく保香性に欠けるという問題点があり、いずれのバリア性フィルムを使用する場合でも、実用に供するには未だ充分に満足し得る状態ではないというの実状である。   However, in the invention according to the above patent document, it has a high gas barrier property that prevents permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and is excellent in transparency, flexibility, flexibility, impact resistance, etc. Although it is possible to produce a barrier film having the advantage of having range suitability, it can be used as a barrier material, and another substrate can be arbitrarily laminated thereon to produce a packaging material. Thereafter, the packaging material is made into a bag to produce a desired packaging bag, and thus, for example, dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar in the packaging bag. When a packaged product is manufactured by hot-packaging and packaging with other liquid seasonings, etc., there is a problem that odor leaks from the packaged product, and there is a problem that remarkably lacking in aroma retention, and any barrier film is used. Even if you want to To a circumstances because not a state capable of satisfying yet sufficiently.

特に、上記の特許文献2および4に係る発明においては、上記の特許文献1および2に係る発明を改良するものではあり、これは、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜を2層ないしそれ以上に重層するものではあるが、しかし、2層を構成する各無機酸化物の蒸着膜は、ほぼ、同一の組成、構成等からなる薄膜を形成し、その薄膜を単に2層重層しているものであることから、1層を構成する無機酸化物の蒸着膜を透過した酸素ガス、水蒸気等は、他の1層を構成する無機酸化物の蒸着膜をそのまま透過し易く、その透過を阻止するということには程遠く、このため、高いガスバリア性を有するバリア性フィルムを製造することは極めて困難であるというものである。   In particular, the inventions according to Patent Documents 2 and 4 described above are intended to improve the inventions according to Patent Documents 1 and 2, which include two or more inorganic oxide vapor deposited films formed by plasma chemical vapor deposition. However, the inorganic oxide vapor deposition films constituting the two layers form a thin film having substantially the same composition, configuration, etc., and the thin films are simply double-layered. Therefore, oxygen gas, water vapor, etc. that permeate the inorganic oxide vapor deposition film constituting one layer easily pass through the inorganic oxide vapor deposition film that constitutes the other one layer. It is far from blocking, and it is therefore extremely difficult to produce a barrier film having a high gas barrier property.

上記のように珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物の薄膜をバリア性層とする従来の透明バリア性フィルムにおいては、包装用材料に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止し得るものではあるが、これを、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料をホット充填包装する包装用袋を構成する包装用材料として使用すると、匂いの漏れ等が発生し、保香性に欠けるという問題点があり、いずれのバリア性フィルムの場合においても、未だ十分に満足し得る状況ではないものであるというのが実状である。   As described above, in the conventional transparent barrier film using a thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide as a barrier layer, the barrier material used for the packaging material is oxygen gas, water vapor, or the like. Although it can prevent permeation, for example, for packaging that constitutes a packaging bag for hot filling and packaging liquid seasonings such as dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar, etc. When used as a material, there are problems such as leakage of odors and lack of scent retention, and in the case of any barrier film, the situation is still not fully satisfactory. It is.

そこで本発明は、バリア性層を構成する珪素酸化物層が、基材フィルムとの密着性に優れていると共にその延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、更に、珪素酸化物層中にクラック発生の原因となる異物、塵埃等が混入することなく、かつ、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れていると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを製造し、而して、これを使用した積層材を製造し、更に、該積層材を製袋し、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料をホット充填包装しても、匂いの漏れ等が発生せず、極めて保香性等に優れた有用な液体充填包装用小袋を提供することである。   Therefore, the present invention provides that the silicon oxide layer constituting the barrier layer is excellent in adhesion to the base film and has excellent spreadability, flexibility, flexibility and the like. It is extremely useful in that it does not contain foreign matter, dust, etc. that cause cracks, and has excellent gas barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and no deterioration in performance of the gas barrier properties is observed. Manufacture a barrier film, and thus a laminated material using the same, and further make a bag of the laminated material. For example, dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar, etc. It is intended to provide a useful pouch for liquid-filled packaging that does not cause odor leakage even when hot-packed with a liquid seasoning such as the above, and that is extremely excellent in fragrance retention.

本発明者は、上記のような課題を解決すべく種々検討の結果、ポリアミド系樹脂フィルムを基材フィルムとして使用し、該ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムと、該基材フィルムとしてのポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、少なくとも2室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した2以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した2層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層からなり、更に、該各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なるバリア性フィルムを製造し、而して、該バリア性フィルムをバリア性素材として使用し、これに他の基材を任意に積層して積層材を製造し、しかる後、該積層材を製袋して包装用袋を製造し、その包装用袋内に、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料をホット充填包装して包装製品を製造したところ、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を積層することにより、基材フィルムとしてのポリアミド系樹脂フィルムと珪素酸化物層との密着性に優れていると共にその珪素酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、第1層目から極めて優れた高いバリア性に優れた膜を製膜化することができ、また、少なくとも2室以上の製膜室からなるプラズマ化学気相成長装置を使用して珪素酸化物層を連続的に2層以上を積層させ、かつ、それぞれの各層が、高いバリア性を有する膜を製膜化成することができることから、単層のそれよりも更に高いガスバリア性を得ることができ、更に、大気に開放ぜす連続的に製膜化することによりクラックの発生原因となる異物、塵埃等が製膜層間に混入することを防止することができ、かつ、そのバリア性の低下も認められず、更にまた、各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なる不連続層であることから、酸素ガス、水蒸気等の透過を完全に阻止することができ、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを製造し得ることができ、更に、これをバリア性素材として使用した積層材を使用して製袋した包装用袋は、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料をホット充填包装しても、匂いの漏れ等が発生せず、極めて保香性等に優れた有用な液体充填包装用小袋を製造し得ることを見出して本発明を完成したものである。   As a result of various studies to solve the above-described problems, the present inventor has used a polyamide resin film as a base film, a base film made of the polyamide resin film, and a polyamide as the base film A barrier layer provided on one surface of the resin film, and the barrier layer uses at least two film forming chambers, and at least each of the chambers contains an organosilicon compound. Two or more film-forming mixed gases prepared by changing the mixing ratio of each gas component of the film-forming mixed gas composition containing one or more kinds of film-forming monomer gas, oxygen gas, and inert gas The composition is composed of two or more layers of silicon oxide layers formed by plasma chemical vapor deposition using the mixed gas composition for film formation, and each of the silicon oxide layers includes: The film contains carbon atoms. In addition, a barrier film having a different carbon atom content is produced for each silicon oxide layer, and thus the barrier film is used as a barrier material, and another substrate is used for this. A laminated material is optionally laminated to produce a laminated material, and then the laminated material is made into a bag to produce a packaging bag. In the packaging bag, for example, dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, When a packaged product is manufactured by hot-filling and packaging liquid seasonings such as miso, vinegar and others, a silicon-based oxide film is laminated by plasma chemical vapor deposition, The silicon oxide layer is excellent in adhesion with the silicon oxide layer, and the silicon oxide layer is excellent in spreadability, flexibility, flexibility, etc. It can be formed into a film and has at least two chambers. Two or more silicon oxide layers are continuously stacked using a plasma chemical vapor deposition apparatus comprising a film forming chamber, and each layer forms a film having high barrier properties. Therefore, it is possible to obtain a gas barrier property higher than that of a single layer, and further, by forming a film continuously to open to the atmosphere, foreign matter, dust, etc. that cause cracks are formed between the film forming layers. Further, each silicon oxide layer contains carbon atoms in the film, and each silicon oxide layer contains no carbon atoms. Since it is a discontinuous layer in which the carbon atom content is different every time, it is possible to completely prevent permeation of oxygen gas, water vapor, etc., for example, as a barrier material used for packaging materials, etc. Prevents permeation of oxygen gas, water vapor, etc. It is possible to produce a very useful barrier film that is excellent in gas barrier properties and has no decline in performance of the gas barrier properties, and further made a bag using a laminated material that uses this as a barrier material. Packaging bags, for example, do not leak odors and are highly fragrant even when hot-packed with liquid seasonings such as dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar, etc. The present invention has been completed by finding that a useful liquid-filled packaging sachet excellent in the above can be produced.

すなわち、本発明は、ポリアミド系樹脂フィルムと、該ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、少なくとも2室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した2以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した2層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層からなり、更に、該各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なることからなるバリア性フィルムのバリア性層の上に、少なくとも、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け、更に、該コ−ティング膜の上に、接着剤層を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けたことを特徴とする積層材およびそれを使用した液体充填包装用小袋に関するものである。   That is, the present invention comprises a polyamide resin film and a barrier layer provided on one surface of the polyamide resin film, and the barrier layer uses at least two film forming chambers. Further, for each chamber, mixing of each gas component of a film-forming mixed gas composition containing at least one kind of organic silicon compound, a gas-forming monomer gas, an oxygen gas, and an inert gas. Two or more layers of a mixed gas composition for film formation prepared by changing the ratio, and silicon oxide by plasma chemical vapor deposition of two or more layers formed using each of the mixed gas compositions for film formation Each of the silicon oxide layers contains carbon atoms in the film, and the content of the carbon atoms is different for each silicon oxide layer. On the sex layer at least A coating film made of a polyurethane-based resin composition or a polyester-based resin composition containing a ring agent and a filler is provided. Further, a heat seal is formed on the coating film via an adhesive layer. The present invention relates to a laminated material provided with a conductive resin layer and a liquid-filled packaging pouch using the same.

本発明にかかる積層材およびそれを使用した液体充填包装用小袋は、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を積層することにより、基材フィルムとしてのポリアミド系樹脂フィルムと珪素酸化物層との密着性に優れていると共にその珪素酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、第1層目から極めて優れた高いバリア性に優れた膜を製膜化することができ、また、少なくとも2室以上の製膜室からなるプラズマ化学気相成長装置を使用して珪素酸化物層を連続的に2層以上を積層させ、かつ、それぞれの各層が、高いバリア性を有する膜を製膜化成することができることから、単層のそれよりも更に高いガスバリア性を得ることができ、更に、大気に開放ぜす連続的に製膜化することによりクラックの発生原因となる異物、塵埃等が製膜層間に混入することを防止することができ、かつ、そのバリア性の低下も認められず、更にまた、各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なる不連続層であることから、酸素ガス、水蒸気等の透過を完全に阻止することができ、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムを製造し得ることができ、更に、これをバリア性素材として使用した積層材を使用して製袋した包装用袋は、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料をホット充填包装しても、匂いの漏れ等が発生せず、極めて保香性等に優れているというものである。   A laminated material according to the present invention and a liquid-filled packaging pouch using the laminated material are obtained by laminating a silicon oxide layer by a plasma chemical vapor deposition method, thereby forming a polyamide-based resin film and a silicon oxide layer as a base film. The silicon oxide layer is excellent in spreadability, flexibility, flexibility, etc., and can be formed into a film having excellent excellent barrier properties from the first layer. In addition, two or more silicon oxide layers are continuously laminated using a plasma chemical vapor deposition apparatus composed of at least two film forming chambers, and each layer has a high barrier property. Since it is possible to form a film having a film, it is possible to obtain a gas barrier property higher than that of a single layer, and to cause cracks by continuously forming a film that opens to the atmosphere. Foreign matter, dust Can be prevented from being mixed between the film forming layers, and the barrier property is not lowered, and each silicon oxide layer contains carbon atoms in the film, and Since it is a discontinuous layer having a different carbon atom content for each silicon oxide layer, it is possible to completely prevent permeation of oxygen gas, water vapor, etc., for example, a barrier used for packaging materials, etc. As an active material, it is possible to produce a very useful barrier film that has excellent gas barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and no deterioration in the performance of the gas barrier properties is observed. Packaging bags made using the laminated material used as a raw material, for example, hot filling and packaging liquid seasonings such as dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar, etc. Odor leak etc. Does not occur, is that is very excellent in aroma retention and the like.

本発明ににかかる積層材およびそれを使用した液体充填包装用小袋について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。   The laminated material according to the present invention and the liquid-filled packaging pouch using the same will be described in more detail below with reference to the drawings.

図1および図2は、本発明にかかる積層材およびそれを使用した液体充填包装用小袋を構成するバリア性フィルムについてその製造装置の一二例の概略の構成を示す概略的構成図であり、図3は、上記の図1および図2に示すバリア性フィルムの製造装置を用いて製造した本発明にかかるバリア性フィルムについてその層構成の一例を示す概略的断面図であり、図4は、図3に示すバリア性フィルムを使用して製造した本発明にかかる積層材についてその層構成の一例を示す概略的断面図であり、図5は、図4に示す積層材を使用して製袋した本発明にかかる液体充填包装用小袋についてその一例を示す概略的斜視図であり、図6は、図5に示す液体充填包装用小袋を使用し、これに内容物を充填包装して製造した本発明にかかる包装製品についてその一例を示す概略的斜視図である。   FIG. 1 and FIG. 2 are schematic configuration diagrams showing a schematic configuration of one example of a manufacturing apparatus for a barrier film constituting a laminated material according to the present invention and a liquid-filled packaging sachet using the same, FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the barrier film according to the present invention manufactured using the barrier film manufacturing apparatus shown in FIGS. 1 and 2, and FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the laminated material according to the present invention manufactured using the barrier film shown in FIG. 3, and FIG. 5 is a bag making using the laminated material shown in FIG. FIG. 6 is a schematic perspective view showing an example of the liquid-filled packaging sachet according to the present invention, and FIG. 6 is produced by filling and packaging the contents in the liquid-filled packaging sachet shown in FIG. For packaging products according to the present invention Is a schematic perspective view showing an example in this household.

まず、本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造法を説明すると、本発明にかかるバリア性フィルムは、例えば、化学気相成長法等を用いて珪素酸化物層を製膜化することによって製造することができ、具体的には、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)等を用いて珪素酸化物層を製膜化することにより製造することができ、而して、それらの中でも、特に、低温プラズマ化学気相成長法を用いて製膜化して製造することが望ましいものである。   First, the production method of the barrier film according to the present invention will be described. The barrier film according to the present invention is produced, for example, by forming a silicon oxide layer using a chemical vapor deposition method or the like. Specifically, for example, a chemical vapor deposition method (chemical vapor deposition method, CVD method) such as a plasma chemical vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, a photochemical vapor deposition method, or the like is used. It can be produced by forming a silicon oxide layer, and among them, it is particularly desirable to produce it by using a low temperature plasma chemical vapor deposition method.

本発明においては、具体的には、ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、かつ、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を製膜化することによって、本発明にかかるバリア性フィルムを製造することができる。   In the present invention, specifically, on one surface of a base film made of a polyamide-based resin film, a film-forming monomer gas composed of one or more organic silicon compounds is used as a raw material, and argon is used as a carrier gas. Silicon oxide using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using an inert gas such as a gas or helium gas, further using oxygen gas as an oxygen supply gas, and using a low temperature plasma generator or the like A barrier film according to the present invention can be manufactured by forming a silicon oxide layer made of, for example, a film.

上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。   In the above, for example, a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, a microwave plasma, or the like can be used as the low-temperature plasma generator. Thus, in the present invention, a highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a high-frequency plasma generator.

具体的に、本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造法を説明すると、図1は、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を製膜化する低温プラズマ化学気相成長装置を用いて本発明にかかるバリア性フィルムを製造するそのプラズマ化学気相成長装置についてその概要を示す概略的構成図である。   Specifically, the manufacturing method of the barrier film according to the present invention will be described. FIG. 1 shows the present invention using a low-temperature plasma chemical vapor deposition apparatus that forms a silicon oxide layer by plasma chemical vapor deposition. It is a schematic block diagram which shows the outline | summary about the plasma chemical vapor deposition apparatus which manufactures the barrier film concerning invention.

本発明においては、図1に示すように、プラズマ化学気相成長装置1としては、基材フィルムとしてのポリアミド系樹脂フィルム供給室 2、第1の製膜室3、第2の製膜室4、第3の製膜室5、および、基材フィルムとしてのポリアミド系樹脂フィルムの上に珪素酸化物層を製膜化し重層した本発明にかかるバリア性フィルムを巻き取る巻取り室6から構成されることを基本構造とするものである。   In the present invention, as shown in FIG. 1, the plasma chemical vapor deposition apparatus 1 includes a polyamide-based resin film supply chamber 2 as a base film, a first film formation chamber 3, and a second film formation chamber 4. , A third film forming chamber 5 and a winding chamber 6 for winding up the barrier film according to the present invention in which a silicon oxide layer is formed and laminated on a polyamide resin film as a base film. Is the basic structure.

而して、本発明においては、まず、巻き出しロ−ル7に巻き取られているポリアミド系樹脂フィルム8を第1の製膜室3に繰り出し、更に、該ポリアミド系樹脂フィルム8を、補助ロ−ル9を介して所定の速度で冷却・電極ドラム10周面上に搬送する。   Thus, in the present invention, first, the polyamide resin film 8 wound around the unwinding roll 7 is fed out to the first film forming chamber 3, and further, the polyamide resin film 8 is supported as an auxiliary material. It is conveyed on the circumferential surface of the cooling / electrode drum 10 through the roll 9 at a predetermined speed.

次に、本発明においては、原料揮発供給装置11、および、ガス供給装置12等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル13を通して第1の製膜室3内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム10周面上に搬送されたポリアミド系樹脂フィルム8の上に、グロ−放電プラズマ14によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第1層の珪素酸化物層を製膜化する。   Next, in the present invention, a film-forming monomer gas, oxygen gas, inert gas, etc. composed of one or more organic silicon compounds are supplied from the raw material volatilization supply device 11 and the gas supply device 12 or the like. The film-forming mixed gas composition is introduced into the first film-forming chamber 3 through the raw material supply nozzle 13 while adjusting the film-forming mixed gas composition composed of them, and the cooling / electrode A first silicon oxide layer made of silicon oxide or the like is formed by generating plasma by glow discharge plasma 14 on the polyamide resin film 8 conveyed on the peripheral surface of the drum 10 and irradiating it. Form a film.

次に、上記の第1の製膜室3で第1層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8を補助ロ−ル15、16等を介して第2の製膜室4に繰り出し、次いで、上記と同様に、第1層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8を所定の速度で冷却・電極ドラム17周面上に搬送する。   Next, the polyamide resin film 8 obtained by forming the first silicon oxide layer in the first film forming chamber 3 is transferred to the second film forming chamber 4 via the auxiliary rolls 15 and 16. Next, in the same manner as described above, the polyamide-based resin film 8 formed with the first silicon oxide layer is transported onto the cooling / electrode drum 17 peripheral surface at a predetermined speed.

しかる後、上記と同様に、本発明においては、原料揮発供給装置18、および、ガス供給装置19等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル20を通して第2の製膜室4内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム17周面上に搬送された第1層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8の第1層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ21によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第2層の珪素酸化物層を製膜化する。   Thereafter, similarly to the above, in the present invention, the raw material volatilization supply device 18, the gas supply device 19, etc. are used to form a film-forming monomer gas, oxygen gas, inert gas comprising at least one organic silicon compound, While supplying the other, adjusting the film-forming mixed gas composition comprising them, introducing the film-forming mixed gas composition into the second film-forming chamber 4 through the raw material supply nozzle 20, and The glow discharge plasma 21 is formed on the first silicon oxide layer of the polyamide-based resin film 8 obtained by forming the first silicon oxide layer conveyed on the circumferential surface of the cooling / electrode drum 17. A plasma is generated by irradiating and irradiating the plasma to form a second silicon oxide layer made of silicon oxide or the like.

更に、本発明においては、上記と同様にして、上記の第2の製膜室4で第1層と第2層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8を補助ロ−ル22、23等を介して第3の製膜室5に繰り出し、次いで、上記と同様に、第1層と第2層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8を所定の速度で冷却・電極ドラム24周面上に搬送する。   Further, in the present invention, in the same manner as described above, the polyamide-based resin film 8 in which the first layer and the second silicon oxide layer are formed in the second film forming chamber 4 is used as an auxiliary roll. The polyamide resin film 8 in which the first and second silicon oxide layers are formed in the same manner as described above is then fed to the third film forming chamber 5 through 22, 23, etc. Then, it is conveyed on the circumferential surface of the cooling / electrode drum 24.

しかる後、上記と同様に、本発明においては、原料揮発供給装置25、および、ガス供給装置26等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル27を通して、第3の製膜室5内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム24周面上に搬送された第1層と第2層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8の第2層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ28によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第3層の珪素酸化物層を製膜化する。   Thereafter, similarly to the above, in the present invention, the raw material volatilization supply device 25, the gas supply device 26 and the like are used to form a film-forming monomer gas composed of one or more organic silicon compounds, oxygen gas, inert gas, The above-mentioned mixed gas composition for film formation is introduced into the third film forming chamber 5 through the raw material supply nozzle 27 while supplying the other and the like, and adjusting the mixed gas composition for film formation composed of them, and On the second silicon oxide layer of the polyamide-based resin film 8 obtained by forming the first and second silicon oxide layers conveyed on the cooling / electrode drum 24 peripheral surface, Plasma is generated by the glow discharge plasma 28 and irradiated to form a third silicon oxide layer made of silicon oxide or the like.

次いで、本発明においては、上記で第1層、第2層、および、第3層の珪素酸化物層を製膜化し、それらを重層したポリアミド系樹脂フィルム8を、補助ロ−ル29を介して、巻取り室6に繰り出し、次いで、巻取りロ−ル30に巻き取って、第1層、第2層、および、第3層の珪素酸化物層が重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造することができるものである。   Next, in the present invention, the first layer, the second layer, and the third layer of the silicon oxide layer are formed as described above, and the polyamide-based resin film 8 in which these layers are laminated is interposed through the auxiliary roll 29. The barrier film according to the present invention in which the silicon oxide layers of the first layer, the second layer, and the third layer are overlaid on the winding roll 30 and then wound on the winding roll 30. Can be manufactured.

なお、本発明においては、各第1、第2、および、第3の製膜室3、4、5に配設されている各冷却・電極ドラム10、17、24は、各第1、第2、および、第3の製膜室3、4、5の外に配置されている電源31から所定の電力が印加されており、また、各冷却・電極ドラム10、17、24の近傍には、マグネット32、33、34を配置してプラズマの発生が促進されるものである。   In the present invention, the cooling / electrode drums 10, 17, and 24 disposed in the first, second, and third film forming chambers 3, 4, and 5 2 and a power source 31 disposed outside the third film forming chambers 3, 4, and 5, and a predetermined power is applied to the cooling and electrode drums 10, 17, and 24. The generation of plasma is promoted by arranging the magnets 32, 33, and 34.

なお、図示しないが、上記のプラズマ化学気相成長装置には、真空ポンプ等が設けられ、各製膜室等は真空に保持されるように調製し得ることは勿論である。   Although not shown, the plasma chemical vapor deposition apparatus is provided with a vacuum pump or the like, and it is needless to say that each film forming chamber can be prepared to be kept in vacuum.

上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。   The above exemplification is an example, and it is needless to say that the present invention is not limited thereby.

例えば、上記の例においては、第1層、第2層、および、第3層の珪素酸化物層を重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造しているが、珪素酸化物層は、製膜室を任意に調製し、2層、あるいは、4層以上等のように珪素酸化物層の層を任意に製膜化し、それらを重層した構造に製膜化し得るものであり、本発明は、上記の第1層、第2層、および、第3層の珪素酸化物層が重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造する例だけに限定されるものではないものである。   For example, in the above example, the barrier film according to the present invention in which the first layer, the second layer, and the third layer of the silicon oxide layer are overlaid is manufactured. A film chamber can be arbitrarily prepared, and a silicon oxide layer such as two layers or four layers or more can be arbitrarily formed, and can be formed into a layered structure. However, the present invention is not limited to the example of producing the barrier film according to the present invention in which the silicon oxide layers of the first layer, the second layer, and the third layer are overlaid.

次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルムを製造するプラズマ化学気相成長装置について別の例を例示すると、図2に示すように、上記の図1に示すプラズマ化学気相成長装置1において、原料揮発供給装置11、18、25、および、ガス供給装置12、19、26等から、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル13、20、27を通して第1、第2、第3の製膜室3、4、5内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入する代りに、一つの製膜室に、二本の原料供給ノズルを設けることにより、すなわち、第1の製膜室3に、二本の原料供給ノズル13、13aを設けて、原料揮発供給装置11、11、および、ガス供給装置12、12等から、有機珪素化合物の1種以上からなる蒸着用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、上記の二本の原料供給ノズル13、13aから第1の製膜室3内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム14周面上に搬送されたポリアミド系樹脂フィルム8の上に、グロ−放電プラズマ14によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第1層の珪素酸化物層を製膜化し、以下上記と同様にし、第2の製膜室4に、二本の原料供給ノズル20、20aを設けて、原料揮発供給装置18、18、および、ガス供給装置19、19等から、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、上記の二本の原料供給ノズル20、20aを通して第2の製膜室4内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム17周面上に搬送された第1層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8の第1層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ21によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第2層の珪素酸化物層を製膜化し、更に、上記と同様に、第3の製膜室5に、二本の原料供給ノズル27、27aを設けて、原料揮発供給装置25、25、および、ガス供給装置26、26等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、上記の二本の原料供給ノズル27、27aを通して、第3の製膜室5内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム24周面上に搬送された第1層と第2層の珪素酸化物層を製膜化したポリアミド系樹脂フィルム8の第2層の珪素酸化物層の上に、グロ−放電プラズマ28によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第3層の珪素酸化物層を製膜化し、次いで、本発明においては、上記で第1層、第2層、および、第3層の珪素酸化物層を製膜化し、それらを重層したポリアミド系樹脂フィルム8を、補助ロ−ル29を介して、巻取り室6に繰り出し、次いで、巻取りロ−ル30に巻き取って、第1層、第2層、および、第3層の珪素酸化物層が重層した本発明にかかるバリア性フィルムを製造することができるものである。   Next, in the present invention, as another example of the plasma chemical vapor deposition apparatus for producing the barrier film according to the present invention, as shown in FIG. 2, the plasma chemical vapor deposition apparatus shown in FIG. 1, a raw material volatilization supply device 11, 18, 25, and a gas supply device 12, 19, 26, etc. are used to form a film-forming monomer gas, oxygen gas, inert gas, etc. Etc., and adjusting the mixed gas composition for film formation comprising them, the raw material supply nozzles 13, 20, 27 and the above into the first, second, third film formation chambers 3, 4, 5. Instead of introducing the mixed gas composition for film formation, by providing two raw material supply nozzles in one film formation chamber, that is, two raw material supply nozzles 13 in the first film formation chamber 3, 13a is provided as a raw material volatilization supply device. 1, 11, and gas supply devices 12, 12 and the like supply vapor deposition monomer gas, oxygen gas, inert gas, etc., which are composed of one or more organic silicon compounds, and a film-forming mixture comprising them. While adjusting the gas composition, the mixed gas composition for film formation is introduced into the first film forming chamber 3 from the two raw material supply nozzles 13 and 13a, and the cooling / electrode drum is The first silicon oxide layer made of silicon oxide or the like is manufactured by generating plasma by glow discharge plasma 14 on the polyamide resin film 8 conveyed on the 14 circumferential surface and irradiating it. In the same manner as described above, the second film forming chamber 4 is provided with two raw material supply nozzles 20 and 20a. From the raw material volatilization supply devices 18 and 18 and the gas supply devices 19 and 19 and the like, From one or more organic silicon compounds A film-forming monomer gas, oxygen gas, inert gas, and the like are supplied, and a film-forming mixed gas composition composed of these is supplied to the second through the two raw material supply nozzles 20 and 20a. The above-described mixed gas composition for film formation is introduced into the film forming chamber 4 and the first silicon oxide layer conveyed on the peripheral surface of the cooling / electrode drum 17 is formed into a polyamide. Plasma is generated by glow discharge plasma 21 on the first silicon oxide layer of the system resin film 8 and irradiated to produce a second silicon oxide layer made of silicon oxide or the like. Further, in the same manner as described above, two raw material supply nozzles 27 and 27a are provided in the third film forming chamber 5, and from the raw material volatilization supply devices 25 and 25 and the gas supply devices 26 and 26, etc. Monomer gas for film formation comprising at least one organic silicon compound, Oxygen gas, inert gas, etc. are supplied, and the mixed gas composition for film formation composed of them is adjusted, and the third film forming chamber 5 is passed through the two raw material supply nozzles 27 and 27a. The polyamide-based resin film in which the mixed gas composition for film formation is introduced, and the first and second silicon oxide layers formed on the cooling / electrode drum 24 are formed into a film. Plasma is generated by glow discharge plasma 28 on the second silicon oxide layer 8 and irradiated to form a third silicon oxide layer made of silicon oxide or the like, Next, in the present invention, the first layer, the second layer, and the third layer of the silicon oxide layer are formed as described above, and the polyamide-based resin film 8 in which these layers are laminated is interposed through the auxiliary roll 29. To the take-up chamber 6 and then to the take-up roll 30 Taken, the first layer, second layer, and is one that can be silicon oxide of the third layer layer to produce a barrier film according to the present invention was overlaid.

上記において、各製膜室は、真空ポンプ等により減圧し、真空度1×10-1〜1×10-8Torr位、好ましくは、真空度1×10-3〜1×10-7Torr位に調製することが望ましいものである。 In the above, each film forming chamber is depressurized by a vacuum pump or the like, and the degree of vacuum is 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 Torr, preferably the degree of vacuum is 1 × 10 −3 to 1 × 10 −7 Torr. It is desirable to prepare it.

一方、各冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、各製膜室内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロ−放電プラズマが生成され、このグロ−放電プラズマは、製膜用混合ガス組成物なかの1つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、ポリアミド系樹脂フィルムを一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上のポリアミド系樹脂フィルムの上に、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を製膜化することができるものである。   On the other hand, since a predetermined voltage is applied to each cooling / electrode drum from a power source, glow discharge plasma is generated in the vicinity of the opening of the material supply nozzle in each film forming chamber and the cooling / electrode drum, The glow discharge plasma is derived from one or more gas components in the film-forming gas mixture composition. In this state, the polyamide-based resin film is conveyed at a constant speed, and the glow discharge plasma is used. A silicon oxide layer made of silicon oxide or the like can be formed on the polyamide resin film on the cooling / electrode drum peripheral surface.

なお、このときの各製膜室内の真空度は、1×10-1〜1×10-4Torr位、好ましくは、真空度1×10-1〜1×10-2Torr位に調製することが望ましく、また、ポリアミド系樹脂フィルムの搬送速度は、10〜300m/分位、好ましくは、50〜150m/分位に調製することが望ましいものである。 At this time, the degree of vacuum in each film forming chamber should be adjusted to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably 1 × 10 −1 to 1 × 10 −2 Torr. In addition, it is desirable to adjust the conveyance speed of the polyamide resin film to about 10 to 300 m / min, preferably about 50 to 150 m / min.

なお、本発明において、各製膜室内の真空度は、各室において同じないし異なっていてもよいものである。   In the present invention, the degree of vacuum in each film forming chamber may be the same or different in each chamber.

また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガスを揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、その製膜用混合ガス組成物を原料供給ノズルを介して各製膜室内に導入されるものである。   Further, in the raw material volatilization supply device, a film forming monomer gas composed of one or more organic silicon compounds as raw materials is volatilized and mixed with oxygen gas, inert gas, etc. supplied from the gas supply device, The film-forming mixed gas composition is introduced into each film-forming chamber through a raw material supply nozzle while adjusting the film-forming mixed gas composition.

この場合、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分のガス混合比としては、有機珪素化合物の1種からなる製膜用モノマ−ガスの含有量は、1〜40%位、酸素ガスの含有量は、0〜70%位、不活性ガスの含有量は、1〜60%位の範囲として調製することが好ましいものである。   In this case, as the gas mixing ratio of each gas component of the mixed gas composition for film formation, the content of the monomer gas for film formation composed of one kind of organic silicon compound is about 1 to 40%, and the content of oxygen gas It is preferable that the amount is adjusted in the range of about 0 to 70% and the content of the inert gas is in the range of about 1 to 60%.

而して、本発明においては、各製膜室毎に、各製膜室に導入される製膜用混合ガス組成物の各ガス成分のガス混合比を変えて調製した製膜用混合ガス組成物を使用し、各製膜室毎に製膜化して、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を重層して、本発明にかかるバリア製フィルムを製造するものである。   Thus, in the present invention, for each film forming chamber, a film forming mixed gas composition prepared by changing the gas mixing ratio of each gas component of the film forming mixed gas composition introduced into each film forming chamber. A barrier film according to the present invention is manufactured by forming a film for each film forming chamber and overlaying a silicon oxide layer made of silicon oxide or the like.

すなわち、本発明においては、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて2以上の製膜用混合ガス組成物を調製し、その製膜用混合ガス組成物を各製膜室毎に任意に変えて使用し、それらの各製膜用混合ガス組成物を使用した2層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層を製膜化することができるというものである。   That is, in the present invention, the mixing ratio of each gas component of a film-forming mixed gas composition containing at least one monomer gas for forming a film, oxygen gas, and inert gas, which is composed of at least one organic silicon compound. The two or more film-forming mixed gas compositions are prepared, and the film-forming mixed gas composition is arbitrarily changed for each film-forming chamber, and each of these film-forming mixed gas compositions is used. It is possible to form a silicon oxide layer by plasma chemical vapor deposition using two or more layers.

ところで、本発明において、上記の製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比としては、例えば、第1の製膜用混合ガス組成物としては、製膜用モノマ−ガス:酸素ガス:不活性ガス=1:0〜5:1(単位:slm、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。)のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物、また、他の第2の製膜用混合ガス組成物としては、製膜用モノマ−ガス:酸素ガス:不活性ガス=1:6〜15:1(単位:slm、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。)のガス組成比からなる製膜用混合ガス組成物等を使用することができる。   By the way, in this invention, as mixing ratio of each gas component of said film-forming mixed gas composition, as a 1st film-forming mixed gas composition, monomer gas for film forming: oxygen gas: A mixed gas composition for film formation having a gas composition ratio of inert gas = 1: 0 to 5: 1 (unit: slm, abbreviation for stand-driter-minit), and other second film formation As a mixed gas composition for film formation, a gas composition ratio of film forming monomer gas: oxygen gas: inert gas = 1: 6 to 15: 1 (unit: slm, abbreviation of stand-driter-minit). A film-forming mixed gas composition or the like can be used.

而して、本発明においては、上記のような製膜用混合ガス組成物を任意に組み合わせて、第1、第2、あるいは、第3の製膜室に、製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えた製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化することができるものである。   Thus, in the present invention, the mixed gas composition for film formation as described above is arbitrarily combined, and the mixed gas composition for film formation is placed in the first, second, or third film forming chamber. The film can be formed using a mixed gas composition for film formation in which the mixing ratio of each gas component is changed.

なお、上記の製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えた製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化する場合、第1の製膜用混合ガス組成物を使用すると、製膜化した珪素酸化物層中の炭素量が増加し、C−C結合、Si−CH3 結合が増加する傾向にあり、それにより、柔軟性の高い、かつ、水蒸気に対して高いバリア性を持つ撥水性の珪素酸化物層を製膜化可能とすることができる。 In addition, when forming into a film using the mixed gas composition for film forming which changed the mixing ratio of each gas component of said mixed gas composition for film forming, the 1st mixed gas composition for film forming is used. Then, the carbon amount in the silicon oxide layer formed into a film increases, and there is a tendency that the C—C bond and the Si—CH 3 bond increase, thereby being highly flexible and high with respect to water vapor. A water-repellent silicon oxide layer having a barrier property can be formed.

また、本発明において、第2の製膜用混合ガス組成物を使用すると、製膜化した珪素酸化物層中に適度の炭素量を含有することができ、また、Si−CH3 結合も適度に含有することができ、それにより、柔軟性が高く、更に、酸素に対して高いバリア性を持つ珪素酸化物層を製膜化可能とすることができる。 In the present invention, when the second mixed gas composition for film formation is used, an appropriate amount of carbon can be contained in the formed silicon oxide layer, and Si—CH 3 bonds are also appropriate. Thus, a silicon oxide layer having high flexibility and high barrier property against oxygen can be formed.

而して、本発明において、上記のような製膜用混合ガス組成物を使用し、製膜化する場合、その製膜用混合ガス組成物を使用する順序としては、例えば、第1の製膜用混合ガス組成物、第2の製膜用混合ガス組成物の順、あるいは、第1の製膜用混合ガス組成物、第2の製膜用混合ガス組成物、第1の製膜用混合ガス組成物の順等で各製膜用混合ガス組成物を各製膜室に導入して製膜化することが好ましいものである。   Thus, in the present invention, when the film forming mixed gas composition as described above is used to form a film, the order of using the film forming mixed gas composition is, for example, the first manufacturing process. In order of the mixed gas composition for a film and the second mixed gas composition for a film forming, or the first mixed gas composition for forming a film, the second mixed gas composition for forming a film, and the first film forming It is preferable that the mixed gas composition for film formation is introduced into each film forming chamber in order of the mixed gas composition to form a film.

上記において、第1の製膜用混合ガス組成物を第1、第3の製膜室(2室)で使用することにより、柔軟性が高く、水蒸気に対して高いバリア性を持つ珪素酸化物層を製膜化可能とするという利点を有するものであり、また、第2の製膜用混合ガス組成物を第2の製膜室で使用することで酸素に対し高いバリア性を持つ膜が得られるものである。   In the above, by using the first mixed gas composition for film formation in the first and third film formation chambers (two chambers), the silicon oxide has high flexibility and high barrier property against water vapor. A film having a high barrier property against oxygen can be obtained by using the second mixed gas composition for film formation in the second film forming chamber. It is obtained.

更に、本発明において、前述の図2に示す方式で製膜化する場合には、例えば、第1の製膜用混合ガス組成物、第2の製膜用混合ガス組成物、第1の製膜用混合ガス組成物、第2の製膜用混合ガス組成物、第1の製膜用混合ガス組成物、第2の製膜用混合ガス組成物の順で各製膜用混合ガス組成物を各製膜室に導入して製膜化することが好ましいものである。   Furthermore, in the present invention, when the film is formed by the method shown in FIG. 2 described above, for example, the first mixed gas composition for film formation, the second mixed gas composition for film formation, The mixed gas composition for film formation, the mixed gas composition for second film formation, the mixed gas composition for first film formation, and the mixed gas composition for second film formation in this order. It is preferable to introduce a film into each film forming chamber to form a film.

而して、本発明においては、上記のような順で製膜化することにより、珪素酸化物層中の炭素含有量が、各珪素酸化物層毎に異なる不連続層になり、かつ、柔軟性の高く、更に、水蒸気に対する高いバリア性を持つ撥水膜からなる珪素酸化物層を製膜化可能とするとすることができる。   Thus, in the present invention, by forming the film in the order as described above, the carbon content in the silicon oxide layer becomes a discontinuous layer that is different for each silicon oxide layer, and is flexible. It is possible to make a silicon oxide layer made of a water-repellent film having high properties and a high barrier property against water vapor.

また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、珪素酸化物等からなる珪素酸化物層の製膜化は、各製膜室において、ポリアミド系樹脂フィルムの上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらSiOX の形で薄膜状に製膜化されるので、当該製膜化される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層は、多層に重層された構造からなり、各層共に、緻密で、隙間の少ない、延展性、屈曲性、可撓性等に富む薄膜となるものであり、従って、酸化珪素等からなる珪素酸化物のバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層と比較してはるかに高いものとなり、しかも、多層に重層した構造体からなることから、極めて高い、十分なバリア性を得ることができるものである。 Further, in the plasma chemical vapor deposition apparatus described above, the silicon oxide layer made of silicon oxide or the like is formed into a plasma source gas on the polyamide resin film in each film forming chamber. Since the film is formed into a thin film in the form of SiO x while being oxidized by the silicon oxide layer, the silicon oxide layer made of silicon oxide or the like to be formed has a multi-layered structure, and each layer is dense. Thus, a thin film having a small gap, spreadability, flexibility, flexibility and the like is obtained. Therefore, the barrier property of silicon oxide made of silicon oxide or the like is formed by a conventional vacuum deposition method or the like. Compared to a silicon oxide layer made of silicon oxide or the like, the layer is much higher, and since it is composed of a multilayered structure, an extremely high and sufficient barrier property can be obtained.

また、本発明においては、SiOX プラズマにより、ポリアミド系樹脂フィルムの表面が、清浄化され、ポリアミド系樹脂フィルムの表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、製膜化される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層とポリアミド系樹脂フィルムとの密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。 In the present invention, the surface of the polyamide resin film is cleaned by SiO x plasma, and polar groups, free radicals, etc. are generated on the surface of the polyamide resin film. This has the advantage that the close adhesion between the silicon oxide layer made of oxide or the like and the polyamide resin film is high.

更に、上記のように珪素酸化物等からなる珪素酸化物層の製膜化時の真空度は、1×10-1〜1×10-4Torr位、好ましくは、1×10-1〜1×10-2Torr位に調製することから、従来の真空蒸着法により珪素酸化物等からなる珪素酸化物層を製膜化する時の真空度、1×10-4〜1×10-5Torr位に比較して低真空度であることから、ポリアミド系樹脂フィルムを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。 Furthermore, the degree of vacuum at the time of forming the silicon oxide layer made of silicon oxide or the like as described above is about 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably 1 × 10 −1 to 1 The degree of vacuum when forming a silicon oxide layer made of silicon oxide or the like by a conventional vacuum deposition method is adjusted to 1 × 10 −2 Torr, and 1 × 10 −4 to 1 × 10 −5 Torr. Since the degree of vacuum is low compared to the position, it is possible to shorten the time for setting the vacuum state of the polyamide-based resin film at the time of replacing the raw material, it is easy to stabilize the degree of vacuum, and the film forming process is stabilized. .

また、本発明において、各製膜室で製膜化される、有機珪素化合物の1種以上からなる蒸着モノマ−ガスを使用して形成される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層は、有機珪素化合物の1種以上からなる蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式SiOX (ただし、Xは、0〜2の数を表す)で表される珪素酸化物を主体とする連続状の薄膜からなるものである。 Further, in the present invention, a silicon oxide layer made of silicon oxide or the like formed using a vapor deposition monomer gas made of one or more organic silicon compounds formed in each film forming chamber is an organic material. A vapor-deposited monomer gas composed of at least one silicon compound and oxygen gas reacts chemically, and the reaction product is closely bonded to one surface of the polyamide-based resin film to provide a dense and flexible thin film. is intended to form a generally formula SiO X (provided that, X is a number from 0 to 2) is made of a continuous form of a thin film mainly composed of silicon oxide represented by.

而して、上記の各製膜室で製膜化される珪素酸化物層としては、透明性、バリア性等の点から、一般式SiOX (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表す。)で表される珪素酸化物を主体とする薄膜であることが好ましいものである。 Thus, the silicon oxide layer formed in each of the film forming chambers has a general formula SiO x (where X is 1.3 to 1.9) in terms of transparency, barrier properties, and the like. It is preferable that the thin film is mainly composed of a silicon oxide represented by:

上記において、Xの値は、有機珪素化合物の1種以上からなる蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。   In the above, the value of X varies depending on the molar ratio between the vapor-deposited monomer gas and oxygen gas composed of one or more organic silicon compounds, the energy of the plasma, etc. Although the transmittance is small, the film itself is yellowish and the transparency is poor.

また、本発明において、各製膜室において製膜化される珪素酸化物等からなる珪素酸化物層は、珪素酸化物を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の1種類、または、その2種類以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とするものである。   In the present invention, the silicon oxide layer made of silicon oxide or the like formed in each film forming chamber is mainly composed of silicon oxide, and further, one kind of carbon, hydrogen, silicon or oxygen. Or a vapor deposition film containing at least one compound composed of two or more elements by chemical bonding or the like.

例えば、C−H結合を有する化合物、Si−H結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラ−レン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。   For example, when a compound having a C—H bond, a compound having a Si—H bond, or a carbon unit is in the form of graphite, diamond, fullerene, etc. A derivative may be contained by a chemical bond or the like.

具体例を挙げると、CH3 部位を持つハイドロカ−ボン、SiH3 シリル、SiH2 シリレン等のハイドロシリカ、SiH2 OHシラノ−ル等の水酸基誘導体等を挙げることができる。 Specific examples include hydrocarbons having a CH 3 site, hydrosilica such as SiH 3 silyl, SiH 2 silylene, and hydroxyl derivatives such as SiH 2 OH silanol.

上記以外でも、製膜化過程の条件等を変化させることにより、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。   In addition to the above, it is possible to change the type, amount, and the like of the compound contained in the silicon oxide layer formed in each film forming chamber by changing the conditions of the film forming process.

而して、上記の化合物が、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層中に含有する含有量としては、0.1〜50%位、好ましくは、5〜20%位が望ましいものである。   Thus, the content of the above-mentioned compound in the silicon oxide layer formed in each film forming chamber is about 0.1 to 50%, preferably about 5 to 20%. Is.

上記において、含有率が、0.1%未満であると、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層の耐衝撃性、延展性、屈曲性、可撓性、柔軟性等が不十分となり、曲げなどにより、擦り傷、クラック等が発生し易く、高いバリア性を安定して維持することが困難になり、また、50%を越えると、バリア性が低下して好ましくないものである。   In the above, if the content is less than 0.1%, the impact resistance, spreadability, flexibility, flexibility, flexibility, etc. of the silicon oxide layer formed in each film forming chamber are not good. It becomes sufficient, and scratches, cracks, etc. are likely to occur due to bending, etc., and it becomes difficult to stably maintain high barrier properties, and if it exceeds 50%, the barrier properties are lowered, which is not preferable. .

更に、本発明においては、各製膜室において製膜化される珪素酸化物層において、上記の化合物の含有量が、各珪素酸化物層の表面から深さ方向に向かって増加させることが好ましく、これにより、各珪素酸化物層の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められ、他方、ポリアミド系樹脂フィルムとの界面においては、上記の化合物の含有量が多いために、ポリアミド系樹脂フィルムと珪素酸化物層との密着性、あるいは、珪素酸化物層と珪素酸化物層との密着性等が強固なものとなるという利点を有するものである。   Furthermore, in the present invention, in the silicon oxide layer formed in each film forming chamber, the content of the above compound is preferably increased from the surface of each silicon oxide layer in the depth direction. Thus, on the surface of each silicon oxide layer, the impact resistance and the like can be enhanced by the above compound and the like, and on the other hand, at the interface with the polyamide resin film, the content of the above compound is large. This has the advantage that the adhesion between the polyamide-based resin film and the silicon oxide layer, the adhesion between the silicon oxide layer and the silicon oxide layer, or the like becomes strong.

而して、本発明において、各製膜室において製膜化される上記の珪素酸化物層について、例えば、X線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Secondary Ion Mass Spectroscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチング等により分析する方法を利用して、各珪素酸化物層の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。   Thus, in the present invention, for the silicon oxide layer formed in each film forming chamber, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (XPS), a secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion) The above physical properties are confirmed by performing elemental analysis of each silicon oxide layer using a method of analysis by ion etching or the like in the depth direction using a surface analyzer such as Mass Spectroscopy (SIMS). be able to.

また、本発明において、上記の第1の製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化した珪素酸化物層は、Si原子数100に対しO原子数150〜200、C原子数50〜100の成分割合からなり、更に、1030cm-1〜1060cm-1の間にSi−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ、1274±4cm-1にSi−CH3 伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするものである。 Moreover, in this invention, the silicon oxide layer formed into a film using said 1st mixed gas composition for film forming has 150-200 O atoms with respect to 100 Si atoms, and 50-50 C atoms. It consists 100 component proportions, further, there is IR absorption based on Si-O-Si stretching vibration between 1030cm -1 ~1060cm -1, and, based on the Si-CH 3 stretching vibration 1274 ± 4 cm -1 IR It is characterized by absorption.

而して、上記のようなことは、珪素酸化物層中に炭素成分が含まれており、C−C結合、Si−CH3 結合が多く含まれているため、Si−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収のピ−ク位置が、減少する方へシフトしていることを示しているものである。 Thus, the above is because the silicon oxide layer contains a carbon component and contains many C—C bonds and Si—CH 3 bonds. This shows that the peak position of the IR absorption based on is shifted toward decreasing.

すなわち、柔軟性の高い、水蒸気に対して高いバリア性を持つ撥水性の膜であることを確認することができるものである。   That is, it can be confirmed that the film is highly water-repellent and has a high barrier property against water vapor.

更に、本発明において、上記の第2の製膜用混合ガス組成物を使用して製膜化した珪素酸化物層は、Si原子数100に対しO原子数150〜200、C原子数50以下の成分割合からなり、更に、1045cm-1〜1075cm-1の間にSi−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ、1274±4cm-1にSi−CH3 伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とするものである。 Furthermore, in this invention, the silicon oxide layer formed into a film using said 2nd mixed gas composition for film forming has 150-200 O atoms with respect to 100 Si atoms, and 50 or less C atoms. made from component ratio, further, there is IR absorption based on Si-O-Si stretching vibration between 1045cm -1 ~1075cm -1, and, IR absorption based on Si-CH 3 stretching vibration 1274 ± 4 cm -1 There is a feature.

而して、上記のようなことは、珪素酸化物層中の炭素成分が少なく、Si−CH3 結合のみが含まれているため、Si−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収のピ−ク位置が、シフトしないことを示しているものである。 Therefore, the above-described phenomenon is caused by a peak of IR absorption based on Si—O—Si stretching vibration because the silicon oxide layer contains few carbon components and contains only Si—CH 3 bonds. The position indicates that there is no shift.

すなわち、柔軟性の高い、酸素に対して高いバリア性を持つ膜であることを確認することができるものである。   That is, it can be confirmed that the film is highly flexible and has a high barrier property against oxygen.

次に、本発明において、バリア性層を構成する各製膜室において製膜化される珪素酸化物層の総膜厚としては、膜厚60Å〜4000Å位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、100〜1000Å位が望ましく、而して、上記において、1000Å、更には、4000Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、100Å、更には、60Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。   Next, in the present invention, the total film thickness of the silicon oxide layer formed in each film forming chamber constituting the barrier layer is preferably about 60 to 4000 mm, specifically, The film thickness is preferably about 100 to 1000 mm, and in the above, it is not preferable that the film is thicker than 1000 mm, more preferably 4000 mm, because cracks are easily generated in the film. Is less than 60 mm, it is not preferable because it is difficult to achieve a barrier effect.

また、本発明において、バリア性層を構成する各製膜室において製膜化される珪素酸化物層の各層の膜厚としては、まず、第1層を構成する珪素酸化物層の膜厚としては、20Å〜200Å位、好ましくは、30Å〜100Å位が望ましく、また、第2層を構成する珪素酸化物層の膜厚としては、20Å〜200Å位、好ましくは、30Å〜100Å位が望ましく、更に、第3層を構成する珪素酸化物層の膜厚としては、20Å〜200Å位、好ましくは、30Å〜100Å位が望ましいものである。   In the present invention, as the film thickness of each silicon oxide layer formed in each film forming chamber constituting the barrier layer, first, as the film thickness of the silicon oxide layer constituting the first layer Is about 20 to 200 mm, preferably 30 to 100 mm, and the thickness of the silicon oxide layer constituting the second layer is about 20 to 200 mm, preferably about 30 to 100 mm. Further, the film thickness of the silicon oxide layer constituting the third layer is preferably about 20 to 200 mm, more preferably about 30 to 100 mm.

上記において、20Å以下であると、それ自身のバリア性が発現しないことから好ましくなく、また、200Åを越えると、膜にクラック等が入りやすく、特に、製膜中に、基材フィルムが巻き取られる間にクラックが入りやすい傾向にあることから好ましくないものである。   In the above, if it is 20 mm or less, its own barrier properties are not expressed, and if it exceeds 200 mm, cracks and the like are likely to occur in the film. In particular, the base film is wound during film formation. This is not preferable because cracks tend to be easily formed.

上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。   In the above, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name, RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation.

また、上記において、上記の珪素酸化物層の膜厚を変更する手段としては、その層の体積速度を大きくすること、すなわち、製膜用モノマ−ガスと酸素ガスの量を多くする方法や製膜する速度を遅くする方法等によって行うことができる。   In the above, as a means for changing the film thickness of the silicon oxide layer, the volume velocity of the layer is increased, that is, a method for increasing the amount of the monomer gas for forming a film and the amount of oxygen gas. It can be performed by a method of slowing the film forming speed.

次に、本発明において、製膜用モノマ−ガスを構成する有機珪素化合物としては、例えば、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。   Next, in the present invention, examples of the organosilicon compound constituting the monomer gas for film formation include 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, Hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octa Methylcyclotetrasiloxane, etc. can be used.

本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。   In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is easy to handle and formed continuous film. In view of the above characteristics and the like, it is a particularly preferable raw material.

また、本発明において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。   Moreover, in this invention, argon gas, helium gas etc. can be used as inert gas, for example.

次に、本発明において、本発明にかかるバリア性フィルムを構成するポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムについて説明すると、かかるポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムとしては、化学的ないし物理的強度に優れ、各珪素酸化物層を製膜化する条件等に耐え、また、その珪素酸化物層等の膜特性を損なうことなく良好に保持し得ることができるポリアミド系樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。   Next, in the present invention, the base film composed of the polyamide resin film constituting the barrier film according to the present invention will be described. The base film composed of the polyamide resin film has a chemical or physical strength. Use a polyamide-based resin film or sheet that is excellent, can withstand the conditions for forming each silicon oxide layer, etc., and can be maintained well without impairing the film characteristics of the silicon oxide layer, etc. be able to.

而して、本発明において、上記のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートとしては、具体的には、例えば、ナイロン46、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、その他等の各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。   Thus, in the present invention, the polyamide resin film or sheet specifically includes, for example, nylon 46, nylon 6, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12, and the like. Various polyamide-based resin films or sheets can be used.

これらのポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トは、一軸ないし二軸方向に延伸されているものでもよく、また、その厚さとしては、9〜200μm位、好ましくは、10〜100μm位が望ましい。   These polyamide resin films or sheets may be uniaxially or biaxially stretched, and the thickness is about 9 to 200 μm, preferably about 10 to 100 μm.

また、上記のポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トとしては、必要ならば、その表面にアンカ−コ−ト剤等をコ−ティングして表面平滑化処理等を施すこともできる。   In addition, the polyamide resin film or sheet may be subjected to a surface smoothing treatment or the like by coating an anchor coating agent or the like on the surface, if necessary.

本発明において、上記の各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートとしては、例えば、上記の各種のポリアミド系樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押出法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレーション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種のポリアミド系樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の各種のポリアミド系樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上のポリアミド系樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートを製造し、更に、要すれば、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。   In the present invention, as the above-mentioned various polyamide-based resin films or sheets, for example, one or more of the above-mentioned various polyamide-based resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method are used. A method of forming a film of each of the above-mentioned various polyamide resins by using a film forming method such as an inflation method or the like, or a multilayer coextrusion manufacturing using two or more types of various polyamide resins. Films or sheets of various polyamide resins are manufactured by a method of forming a film, and further, by using two or more kinds of polyamide resins, and by mixing and forming a film before forming a film, If necessary, for example, various polyamide resin films or sheets that are stretched uniaxially or biaxially using a tenter method or a tubular method are used. It can be.

本発明において、各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートの膜厚としては、6〜2000μm 位、より好ましくは、9〜100μm 位が望ましい。   In the present invention, the film thickness of various polyamide resin films or sheets is preferably about 6 to 2000 μm, more preferably about 9 to 100 μm.

なお、上記の各種のポリアミド系樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。   In addition, one or more of the above-mentioned various polyamide-based resins are used, and when forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying slipperiness, releasability, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, strength, etc. The amount can be arbitrarily added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose.

上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。   In the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, a pigment, and the like can be used. Furthermore, a modifying resin or the like can be used.

また、本発明において、各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートの表面は、珪素酸化物層との密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることができるものである。   In the present invention, the surface of various polyamide-based resin films or sheets may be provided with a desired surface treatment layer in advance, if necessary, in order to improve the close adhesion to the silicon oxide layer. Is something that can be done.

本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができる。   In the present invention, examples of the surface treatment layer include corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc. For example, a corona treatment layer, an ozone treatment layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer, or the like can be formed and provided.

上記の表面前処理は、各種のポリアミド系樹脂のフィルムないしシートと珪素酸化物層との密接着性等を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシートの表面に、予め、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、アンカーコート剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカーコート剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。   The surface pretreatment is carried out as a method for improving the close adhesion between various polyamide resin films or sheets and the silicon oxide layer. In addition, for example, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, an anchor coat agent layer, an adhesive layer, or a deposition anchor coat agent layer is arbitrarily formed in advance on the surface of various resin films or sheets. And it can also be set as a surface treatment layer.

上記の前処理のコート剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレン或いはポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。   Examples of the pretreatment coating agent layer include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, polyethylene, and polypropylene. A resin composition having a vehicle as a main component of a polyolefin resin or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like can be used.

ところで、ポリアミド系樹脂フィルムは、製膜用基材フィルムとして、一般に用いられているポリエステル系樹脂フィルムと比較すると、水分、水蒸気等の吸湿により膨潤し、寸法変化が、2〜10倍程度と大きく、従って、珪素酸化物層の製膜化時において、ポリアミド系樹脂フィルムの寸法変化に珪素酸化物層が追従することが極めて困難となり、珪素酸化物層を製膜化する場合、製膜用基材フィルムとして、ポリアミド系樹脂フィルムを使用すことは、かなり注意深く取り扱わなければならないものである。   By the way, the polyamide-based resin film swells due to moisture absorption such as moisture and water vapor, and the dimensional change is about 2 to 10 times as large as that of a commonly used polyester-based resin film as a substrate film for film formation. Therefore, when forming the silicon oxide layer, it becomes extremely difficult for the silicon oxide layer to follow the dimensional change of the polyamide-based resin film. The use of a polyamide-based resin film as a material film must be handled with great care.

そこで本発明において、ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムとしては、ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に、すなわち、珪素酸化物層を設けない方の面に、耐水性膜を設けることにより、該ポリアミド系樹脂フィルムの水分、水蒸気等の吸湿による膨潤、寸法変化等を防止し、化学気相成長法による珪素酸化物層を良好に形成し得ることができるものである。   Therefore, in the present invention, as a base film made of a polyamide-based resin film, by providing a water-resistant film on one surface of the polyamide-based resin film, that is, on the surface where the silicon oxide layer is not provided, The polyamide-based resin film can be prevented from swelling and dimensional change due to moisture absorption of moisture, water vapor, etc., and a silicon oxide layer can be satisfactorily formed by chemical vapor deposition.

而して、本発明において、上記の耐水性膜としては、例えば、樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によるコ−ティング膜、あるいは、樹脂のフィルムないしシ−トを積層してなる樹脂のフィルムないしシ−ト膜等を使用することがてきる。   Thus, in the present invention, examples of the water-resistant film include a coating film made of a resin composition containing a resin as a main component of a vehicle, or a resin film or sheet laminated. It is possible to use a film or a sheet film.

而して、本発明において、上記の耐水性膜の形成については、珪素酸化物層を製膜化するオフラインあるいはインライン等で任意に形成することができる。   Thus, in the present invention, the above-mentioned water-resistant film can be arbitrarily formed off-line or in-line for forming a silicon oxide layer.

上記において、ビヒクルの主成分となる樹脂、あるいは、樹脂のフィルムを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン低樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、フッ化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブチラ−ル系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、アルキッド系樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、熱硬化型ポリ(メタ)アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、尿素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノ−ル系樹脂、キシレン系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ−ス、アセチルブチルセルロ−ス、エチルオキシエチルセルロ−ス等の繊維素系樹脂、塩化ゴム、環化ゴム等のゴム系樹脂、石油系樹脂、ロジン、カゼイン等の天然樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上の混合物を使用することができる。   In the above, the resin constituting the main component of the vehicle or the resin constituting the resin film is, for example, a polyolefin resin such as a polyethylene resin, a polypropylene low resin, a chlorinated polypropylene resin, or a poly (meth) acrylic resin. Resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polystyrene resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene fluoride resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl aceta -Rule resin, polyvinyl butyral resin, polybutadiene resin, polyester resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting poly (meth) acrylic resin, Melamine resin, urea resin, polyurethane resin, phenol -Based resin, xylene-based resin, maleic acid resin, nitrocellulose, ethylcellulose, acetylbutylcellulose, cellulose resin such as ethyloxyethylcellulose, rubber-based resin such as chlorinated rubber, cyclized rubber, One type or a mixture of two or more types of resins such as petroleum resins, natural resins such as rosin and casein, and others can be used.

従来、一般的に、ポリアミド系樹脂フィルムは、耐突き刺し性、耐ピンホ−ル等に優れ、例えば、水物等の内容物を充填包装する包装用材料として使用することができるという特徴を有するものではあるが、吸水性が高く、かつ、バリア性に劣るという欠点があり、今まで、内容物として液物を充填包装すると、内容物の重量減少量が大きく使用することができなかったものである。   Conventionally, generally, a polyamide-based resin film is excellent in puncture resistance, pinhole resistance, etc., and has a characteristic that it can be used as a packaging material for filling and packaging contents such as water. However, there is a drawback that water absorption is high and the barrier property is inferior, and until now, when filling and packaging a liquid as the contents, the weight reduction amount of the contents could not be used greatly. is there.

而して、本発明においては、基材フィルムとして、ポリアミド系樹脂フィルムを使用し、内容物が液物であっても、充填包装し得ることができ、その液物の充填包装という用途に対して使用することができるようになったものである。   Thus, in the present invention, a polyamide-based resin film is used as the base film, and even if the content is a liquid, it can be filled and packaged. Can be used.

すなわち、本発明において、基材フィルムとして、ポリアミド系樹脂フィルムを使用し、これに対し、上記のように珪素酸化物層を複数層積層させることにより、耐突き刺し性、耐ピンホ−ル等に優れていると共に水蒸気、酸素等に対する高いバリア性、特に、水蒸気に対する高いバリア性を有し、更に、保香性等にも優れ、ハイバリア性ポリアミド系樹脂フィルムを製造可能とするものであり、バリア性基材としての包装用材料として極めて有用なものである。   That is, in the present invention, a polyamide-based resin film is used as the base film, and by contrast, by stacking a plurality of silicon oxide layers as described above, it is excellent in puncture resistance, pinhole resistance, etc. In addition, it has a high barrier property against water vapor, oxygen, etc., in particular, has a high barrier property against water vapor, and is excellent in aroma retaining property, etc., and can produce a high barrier polyamide resin film. It is extremely useful as a packaging material as a base material.

以上の説明で明らかなように、上記でように製膜化して製造される本発明にかかるバリア性フィルムは、図3に示すように、ポリアミド系樹脂からなる基材フィルム41と、該ポリアミド系樹脂からなる基材フィルム41の一方の面に設けたバリア性層42とからなり、更に、該バリア性層42は、少なくとも2室以上の製膜室を使用し、かつ、各製膜室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した2以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した2層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層42a、42b、42cからなり、更に、該各珪素酸化物層42a、42b、42cは、珪素酸化物を主体とし、炭素、水素、珪素、および、酸素の中の1種類または2種類以上の元素からなる化合物を少なくとも1種類含有し、かつ、各珪素酸化物層42a、42b、42c毎に上記の化合物の含有量が異なる構成からなることを特徴とするバリア性フィルムAにかかるものである。   As apparent from the above description, the barrier film according to the present invention produced by forming the film as described above includes a base film 41 made of a polyamide-based resin and the polyamide-based film as shown in FIG. And a barrier layer 42 provided on one surface of a base film 41 made of resin. Further, the barrier layer 42 uses at least two film forming chambers, and each film forming chamber In addition, it was prepared by changing the mixing ratio of each gas component of the mixed gas composition for film formation containing at least one kind of organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas. Two or more film-forming mixed gas compositions were used, and two or more silicon oxide layers 42a, 42b, 42c formed by plasma chemical vapor deposition using the respective film-forming mixed gas compositions. Each of the silicon oxides 42a, 42b, and 42c contain silicon oxide as a main component, contain at least one compound composed of one or more elements of carbon, hydrogen, silicon, and oxygen, and each silicon oxide The barrier film A is characterized in that each of the layers 42a, 42b, and 42c has a structure in which the content of the compound is different.

而して、本発明にかかるバリア性フィルムは、プラズマ化学気相成長法により珪素酸化物層を積層することにより、ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムと珪素酸化物層との密着性に優れていると共にその珪素酸化物層は、延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、第1層目から極めて優れた高いバリア性に優れた膜を製膜化することができ、また、少なくとも2室以上の製膜室からなるプラズマ化学気相成長装置を使用して珪素酸化物層を連続的に2層以上を積層させ、かつ、それぞれの各層が、高いバリア性を有する膜を製膜化することができることから、単層のそれよりも更に高いガスバリア性を得ることができ、更に、大気に開放ぜす連続的に製膜化することによりクラックの発生原因となる異物、塵埃等が製膜層間に混入することを防止することができ、かつ、そのバリア性の低下も認められず、更にまた、各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原紙を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なる不連続層であることから、酸素ガス、水蒸気等の透過を完全に阻止することができるという種々の利点を有するものである。   Thus, the barrier film according to the present invention is excellent in adhesion between the base film made of polyamide resin film and the silicon oxide layer by laminating the silicon oxide layer by the plasma chemical vapor deposition method. In addition, the silicon oxide layer is excellent in spreadability, flexibility, flexibility, etc., and can form a film excellent in high barrier properties from the first layer, and at least Two or more silicon oxide layers are continuously laminated using a plasma chemical vapor deposition apparatus composed of two or more film forming chambers, and each layer forms a film having a high barrier property. Therefore, it is possible to obtain a higher gas barrier property than that of a single layer. Mixing between film forming layers In addition, each of the silicon oxide layers contains carbon base paper in the film, and each silicon oxide layer has the above-mentioned value. Since these are discontinuous layers having different carbon atom contents, they have various advantages in that permeation of oxygen gas, water vapor and the like can be completely prevented.

このため、本発明にかかるバリア製フィルムは、例えば、包装用材料等に使用されるバリア性素材として、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れ、更に、そのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムにかかるものである。   For this reason, the barrier film according to the present invention is excellent in gas barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, etc., as a barrier material used for packaging materials, etc. It relates to a very useful barrier film in which no decrease is observed.

すなわち、本発明において、上記で製造される本発明にかかるバリア性フィルムは、これをバリア性素材として使用し、これと、他のプラスチックフィルム、紙基材、金属箔ないし金属板、セロハン、織布ないし不織布、ガラス板、その他等の種々の基材の1種ないし2種以上と任意に積層して、種々の形態からなる本発明にかかる積層材を製造することができ、而して、該積層材を包装用材料、光学部材、太陽電池モジュ−ル用保護シ−ト、有機ELディスプレイ用保護フィルム、フィルム液晶ディスプレイ用保護フィルム、ポリマ−バッテリ−用包材、または、アルミ包装材料、その他等の種々の用途に適用し得るものである。   That is, in the present invention, the barrier film according to the present invention produced as described above uses this as a barrier material, and other plastic film, paper base material, metal foil or metal plate, cellophane, woven The laminate according to the present invention having various forms can be produced by arbitrarily laminating one or more kinds of various base materials such as cloth or non-woven fabric, glass plate, etc. The laminated material is a packaging material, optical member, protective sheet for solar cell module, protective film for organic EL display, protective film for film liquid crystal display, packaging material for polymer battery, or aluminum packaging material, It can be applied to various uses such as others.

本発明にかかる積層材について、その層構成を具体的に例示すれば、図4に示すように、例えば、前述の本発明にかかるバリア性フィルムAを構成するバリア性層42を形成する珪素酸化物層42cの面に、まず、少なくとも、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング膜51を設け、更に、該コ−ティング膜51の上に、接着剤層52を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層53を設けて、本発明にかかる積層材Bを製造することができるものである。   If the layer structure of the laminated material according to the present invention is specifically exemplified, as shown in FIG. 4, for example, silicon oxide for forming the barrier layer 42 constituting the barrier film A according to the present invention described above First, a coating film 51 made of a polyurethane resin composition or a polyester resin composition containing at least a silane coupling agent and a filler is provided on the surface of the physical layer 42c. A laminate material B according to the present invention can be manufactured by providing a heat-seal resin layer 53 on the adhesive layer 52.

なお、上記の図4において、符号41は、前述の図3に示す符号41と同じ意味を表し、すなわち、ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムを意味するものであり、また、符号42a、42bは、前述の図3に示す符号42a、42bと同じ意味を表すものである。   In FIG. 4, the reference numeral 41 represents the same meaning as the reference numeral 41 shown in FIG. 3, that is, a base film made of a polyamide resin film, and reference numerals 42a and 42b. Represents the same meaning as the reference numerals 42a and 42b shown in FIG.

上記の本発明にかかる積層材においては、図示しないが、ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルムの外層面上には、更に、所望の外装材を任意に設けることができ、また、コ−ティング膜の膜面上には、所望の印刷模様層を設けることができ、更に、コ−ティング膜とヒ−トシ−ル性樹脂層との層間には、所望の中間基材を任意に設けることができるものである。   In the laminated material according to the present invention, although not shown, a desired exterior material can be optionally provided on the outer layer surface of the base film made of the polyamide-based resin film. A desired printed pattern layer can be provided on the film surface of the film, and a desired intermediate substrate is optionally provided between the coating film and the heat seal resin layer. It is something that can be done.

而して、本発明においては、その使用目的、使用形態、用途、その他等によって、他の基材を任意に積層して、種々の形態からなる本発明にかかる積層材を設計して製造することができるものである。   Thus, in the present invention, other base materials are arbitrarily laminated depending on the purpose of use, usage form, application, etc., and the laminate material according to the present invention having various forms is designed and manufactured. It is something that can be done.

次に、本発明において、本発明にかかる液体充填包装用小袋についてその一例を挙げて説明すると、かかる液体充填包装用小袋としては、図5に示すように、上記で製造した本発明にかかる積層材Bを使用し、まず、2枚の積層材B、Bを用意し、その最内層に位置するヒ−トシ−ル性樹脂層53の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルしてシ−ル部61、61、61を形成すると共に上方に開口部62を設けて、三方シ−ル型の軟包装用袋からなる本発明にかかる液体充填包装用小袋Cを製造することができる。   Next, in the present invention, an example of the liquid-filled packaging pouch according to the present invention will be described. As such a liquid-filled packaging pouch, as shown in FIG. First, two laminated materials B and B are prepared using the material B, and the surfaces of the heat-seal resin layer 53 located on the innermost layer are opposed to each other, and thereafter, the periphery of the outer periphery. The present invention comprises a three-sided seal type flexible packaging bag by forming a seal part 61, 61, 61 and providing an opening 62 in the upper part by heat-sealing three sides of the end of the bag. Such a liquid-fill packaging sachet C can be manufactured.

次に、本発明においては、図6に示すように、上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋からなる本発明にかかる液体充填包装用小袋Cの開口部62から、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料からなる液体状内容物63をホット充填包装し、次いで、上方の開口部62をヒ−トシ−ルして上方のシ−ル部64を形成し、更に、必要に応じて、例えば、ボイル処理、レトルト処理等を施して、種々の形態からなる本発明にかかる液体充填包装用小袋Cを使用した包装製品Dを製造することができるものである。   Next, in the present invention, as shown in FIG. 6, from the opening 62 of the liquid-filled packaging pouch C according to the present invention, which is made of the three-side seal type soft packaging bag manufactured as described above, for example, dressing , Hot-fill packaging of liquid contents 63 composed of liquid seasonings such as soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar, etc., then heat seal the upper opening 62 and A package product D using the liquid-filled packaging sachet C according to the present invention having various forms, for example, by performing boil processing, retort processing, etc. Can be manufactured.

なお、本発明において、本発明にかかる液体充填包装用小袋としては、上記に図示した例示の三方シ−ル型の軟包装用袋からなる本発明にかかる液体充填包装用小袋に限定されるものでないことは言うまでもないことであり、その目的、用途等により、例えば、二方シ−ル型、四方シ−ル型、ガゼット型、自立型、ピロ−型、その他等の任意の形状の軟包装用袋からなる液体充填包装用小袋を製造することができることは言うまでもないことである。   In the present invention, the liquid-filled sachet according to the present invention is limited to the liquid-filled sachet according to the present invention which is composed of the illustrated three-way seal type soft wrapping bag shown above. Needless to say, depending on the purpose, application, etc., flexible packaging of any shape such as two-sided seal type, four-sided seal type, gusset type, self-standing type, pillow type, etc. It goes without saying that liquid-filled packaging sachets made of sachets can be produced.

本発明にかかる積層材についてその製造法を更に具体的に説明すると、図示しないが、、例えば、前述の本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面に、まず、少なくとも、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け、更に、該コ−ティング膜の上に、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、該コ−ティング膜およびラミネ−ト用接着剤層等を介して、プラスチックチフィルム等の所望の基材をドライラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、種々の形態からなる本発明にかかる積層材を製造することができる。   The manufacturing method of the laminated material according to the present invention will be described more specifically. Although not shown, for example, on the surface of the silicon oxide layer forming the barrier layer constituting the barrier film according to the present invention described above. First, a coating film made of a polyurethane-based resin composition or a polyester-based resin composition containing at least a silane coupling agent and a filler is provided, and an adhesive for laminating is further formed on the coating film. Forming an agent layer, and then laminating a desired substrate such as a plastic film using the dry lamination method through the coating film and the laminating adhesive layer, etc. Laminates according to the present invention having various forms can be produced.

あるいは、本発明においては、図示しないが、例えば、本発明かかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面に、まず、まず、少なくとも、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け、更に、該コ−ティング膜の上に、アンカ−コ−ト剤層等を形成し、しかる後、該コ−ティング膜およびアンカ−コ−ト剤層等を介して、各種の樹脂等を溶融押出し、その溶融押出樹脂層を介して、プラスチックチフィルム等の所望の基材を積層する押出ラミネ−ト積層法を用いて積層することにより、各種の形態からなる本発明にかかる積層材を製造することができる。   Alternatively, in the present invention, although not shown in the drawings, for example, first on the surface of the silicon oxide layer forming the barrier layer constituting the barrier film according to the present invention, first, at least a silane coupling agent and a filler. A coating film made of a polyurethane-based resin composition or a polyester-based resin composition, and an anchor coating agent layer or the like is further formed on the coating film. Extrusion lamination method in which various resins are melt-extruded through a coating film and an anchor coating agent layer, and a desired base material such as a plastic film is laminated through the melt-extruded resin layer By laminating using the above, the laminated material according to the present invention having various forms can be produced.

なお、本発明においては、上記のような積層法を利用して、更に他の基材を任意に積層することもでき、これにより、種々の形態からなる本発明にかかる積層材を製造し得るものであり、本発明においては、その使用目的、使用形態、用途、その他等によって、他の基材を任意に積層して、種々の形態からなる本発明にかかる積層材を設計して製造することができるものである。   In addition, in this invention, another base material can also be arbitrarily laminated | stacked using the above lamination methods, Thereby, the laminated material concerning this invention which consists of various forms can be manufactured. In the present invention, other base materials are arbitrarily laminated depending on the purpose of use, use form, application, etc., and the laminate material according to the present invention having various forms is designed and manufactured. It is something that can be done.

次に、本発明において、上記の積層材を構成するコ−ティング膜について説明すると、かかるコ−ティング膜としては、まず、ポリウレタン系樹脂あるいはポリエステル系樹脂等をビヒクルの主成分とし、該ポリウレタン系樹脂あるいはポリエステル系樹脂等1〜30重量%に対し、シランカップリング剤0.05〜10重量%位、好ましくは、0.1重量%〜5重量%位、充填剤0.1〜20重量%位、好ましくは、1〜10重量%位の割合で添加し、更に、必要ならば、安定剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、紫外線吸収剤、その他等の添加剤を任意に添加し、溶媒、希釈剤等を加えて充分に混合してポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を調整し、而して、該ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を使用し、これを、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイコ−ト、その他のコ−ティング法等により、前述の本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層の面にコ−ティングし、しかる後、その塗布膜を乾燥させて溶媒、希釈剤等を除去し、更に、要すれば、エ−ジング処理等を行って、本発明にかかるコ−ティング膜を形成することができる。   Next, in the present invention, the coating film constituting the laminated material will be described. As such a coating film, first, a polyurethane resin or a polyester resin is used as a main component of the vehicle, and the polyurethane film The silane coupling agent is about 0.05 to 10% by weight, preferably about 0.1 to 5% by weight, and the filler is 0.1 to 20% by weight with respect to 1 to 30% by weight of the resin or polyester resin. , Preferably in a proportion of about 1 to 10% by weight, and if necessary, additives such as stabilizers, curing agents, crosslinking agents, lubricants, ultraviolet absorbers, etc. are optionally added, and solvent Then, a diluent or the like is added and mixed well to prepare a polyurethane-based or polyester-based resin composition, and thus the polyurethane-based or polyester-based resin composition is used. For example, the barrier layer constituting the barrier film according to the present invention is formed by a roll coat, a gravure coat, a knife coat, a dip coat, a spray coat, or other coating methods. After coating on the surface of the silicon oxide layer to be formed, the coating film is dried to remove the solvent, diluent, etc., and if necessary, an aging treatment or the like is performed. Thus, a coating film can be formed.

なお、本発明において、コ−ティング膜の膜厚としては、例えば、0.1g/m2 〜5.0g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。 In the present invention, the thickness of the coating film is preferably about 0.1 g / m 2 to 5.0 g / m 2 (dry state), for example.

而して、本発明においては、上記のようなコ−ティイグ膜により、本発明にかかるバリア性フィルムを構成するバリア性層を形成する珪素酸化物層と、接着剤層、ヒ−トシ−ル性樹脂層等との密接着性等を向上させると共にコ−ティング膜の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における本発明にかかるバリア性フィルムを構成する珪素酸化物層のクラック等の発生を防止するものである。   Accordingly, in the present invention, the above-described coating film is used to form a barrier layer constituting the barrier film according to the present invention, an adhesive layer, and a heat seal. In addition to improving close adhesion with the adhesive resin layer, etc., and improving the elongation of the coating film, for example, improving post-processing suitability such as laminating or bag making, The occurrence of cracks and the like in the silicon oxide layer constituting the barrier film according to the present invention is prevented.

上記において、ポリウレタン系樹脂組成物を構成するポリウレタン系樹脂としては、例えば、多官能イソシアネ−トとヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリウレタン系樹脂を使用することができる。   In the above, as the polyurethane resin constituting the polyurethane resin composition, for example, a polyurethane resin obtained by a reaction between a polyfunctional isocyanate and a hydroxyl group-containing compound can be used.

具体的には、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テルポリオ−ル、ポリエステルポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル、その他等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られる一液ないし二液硬化型のポリウレタン系樹脂を使用することができる。   Specifically, for example, aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate One obtained by reacting a polyfunctional isocyanate such as an aliphatic polyisocyanate such as a salt with a hydroxyl group-containing compound such as a polyether polyol, a polyester polyol, a polyacrylate polyol, or the like. A liquid or two-component curable polyurethane resin can be used.

而して、本発明において、上記のようなポリウレタン系樹脂を使用することにより、珪素酸化物層と接着剤層、ヒ−トシ−ル性樹脂層等との密接着性等を向上させると共にコ−ティング膜の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における珪素酸化物層のクラック等の発生を防止するものである。   Thus, in the present invention, by using the polyurethane-based resin as described above, the close adhesion between the silicon oxide layer, the adhesive layer, the heat-sealable resin layer, and the like is improved and the coating is improved. -To improve the elongation of the coating film, for example, improve the suitability for post-processing such as laminating or bag making, and prevent the occurrence of cracks in the silicon oxide layer during post-processing. .

また、上記において、上記のポリエステル系樹脂組成物を構成するポリエステル系樹脂としては、例えば、例えば、テレフタル酸等のベンゼン核を基本骨格とする芳香族飽和ジカルボン酸の一種またはそれ以上と、飽和二価アルコ−ルの一種またはそれ以上との重縮合により生成する熱可塑性のポリエステル系樹脂を使用することができる。   In the above, the polyester resin constituting the polyester resin composition includes, for example, one or more aromatic saturated dicarboxylic acids having a benzene nucleus such as terephthalic acid as a basic skeleton, A thermoplastic polyester resin produced by polycondensation with one or more valent alcohols can be used.

上記において、ベンゼン核を基本骨格とする芳香族飽和ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ジフェニルエ−テル−4、4−ジカルボン酸、その他等を使用することができる。   In the above, examples of the aromatic saturated dicarboxylic acid having a benzene nucleus as a basic skeleton include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, diphenyl ether-4, 4-dicarboxylic acid, and the like.

また、上記において、飽和二価アルコ−ルとしては、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−ル、トリメチレングリコ−ル、テトラメチレングリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、ポリプロピレングリコ−ル、ポリテトラメチレングリコ−ル、ヘキサメチレングリコ−ル、ドデカメチレングリコ−ル、ネオペンチルグリコ−ル等の脂肪族グリコ−ル、シクロヘキサンジメタノ−ル等の脂環族グリコ−ル、2.2−ビス(4′−β−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、ナフタレンジオ−ル、その他の芳香族ジオ−等を使用することができる。   In the above, saturated divalent alcohols include ethylene glycol, propylene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, Polytetramethylene glycol, hexamethylene glycol, dodecamethylene glycol, aliphatic glycols such as neopentyl glycol, alicyclic glycols such as cyclohexanedimethanol, 2.2- Bis (4'-β-hydroxyethoxyphenyl) propane, naphthalene diol, other aromatic geo- and the like can be used.

本発明において、上記のポリエステル系樹脂としては、具体的には、例えば、テレフタル酸とエチレングリコ−ルとの重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とテトラメチレングリコ−ルとの重縮合により生成する熱可塑性ポリブチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸と1、4−シクロヘキサンジメタノ−ルとの重縮合により生成する熱可塑性ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とイソフタル酸とエチレングリコ−ルとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とエチレングリコ−ルと1、4−シクロヘキサンジメタノ−ルとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、テレフタル酸とイソフタル酸とエチレングリコ−ルとプロピレングリコ−ルとの共重縮合により生成する熱可塑性ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、ポリエステルポリオ−ル樹脂、その他等を使用することができる。   In the present invention, specific examples of the polyester resin include thermoplastic polyethylene terephthalate resin produced by polycondensation of terephthalic acid and ethylene glycol, terephthalic acid and tetramethylene glycol. Polybutylene terephthalate resin produced by polycondensation with styrene, thermoplastic polycyclohexanedimethylene terephthalate resin produced by polycondensation of terephthalic acid and 1,4-cyclohexanedimethanol, terephthalic acid Polyethylene terephthalate resin produced by copolycondensation of phthalic acid, isophthalic acid and ethylene glycol, produced by copolycondensation of terephthalic acid, ethylene glycol and 1,4-cyclohexanedimethanol Thermoplastic polyethylene terephthalate resin, terephthalic acid and isophthalic acid And ethylene glycol - le and propylene glycol - thermoplastic polyethylene terephthalate produced by co-polycondensation of Le - DOO resins, polyester polyol - can be used Le resin, other like.

なお、本発明においては、上記のようなベンゼン核を基本骨格とする飽和芳香族ジカルボン酸に、更に、例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン酸等の脂肪族飽和ジカルボン酸の一種ないしそれ以上を添加して共重縮合することもでき、その使用量としては、ベンゼン核を基本骨格とする芳香族飽和ジカルボン酸に対し、1〜10重量%位を添加して使用することが好ましい。   In the present invention, the saturated aromatic dicarboxylic acid having a benzene nucleus as a basic skeleton as described above, for example, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, One or more aliphatic saturated dicarboxylic acids such as sebacic acid and dodecanoic acid can be added and copolycondensed, and the amount used is an aromatic saturated dicarboxylic acid having a benzene nucleus as a basic skeleton, It is preferable to add 1 to 10% by weight.

而して、本発明において、上記のようなポリエステル系樹脂を使用することにより、その密接着性等を向上させると共にコ−ティング膜の伸長度を向上させ、例えば、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋加工等の後加工適性を向上させ、後加工時における珪素酸化物層のクラック等の発生を防止するものである。   Thus, in the present invention, by using the polyester resin as described above, the tight adhesion and the like are improved and the elongation of the coating film is improved. For example, laminating, or The suitability for post-processing such as bag making processing is improved, and the occurrence of cracks and the like in the silicon oxide layer during post-processing is prevented.

次にまた、上記において、ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を構成するシランカップリング剤としては、二元反応性を有する有機官能性シランモノマ−類を使用することができ、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒドロキシエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコ−ンの水溶液等の1種ないしそれ以上を使用することができる。   Next, in the above, as the silane coupling agent constituting the polyurethane-based or polyester-based resin composition, organic functional silane monomers having binary reactivity can be used, for example, γ-chloropropyl Trimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyl Dimethoxysilane, γ One or more of ureidopropyltriethoxysilane, bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, an aqueous solution of γ-aminopropylsilicone, and the like can be used.

上記のようなシランカップリング剤は、その分子の一端にある官能基、通常、クロロ、アルコキシ、または、アセトキシ基等が加水分解し、シラノ−ル基(SiOH)を形成し、これが、珪素酸化物層を構成する金属、あるいは、珪素酸化物層の膜表面上の活性な基、例えば、水酸基等の官能基と何らかの作用により、例えば、脱水縮合反応等の反応を起こして、珪素酸化物層の膜表面上にシランカップリング剤が共有結合等で修飾され、更に、シラノ−ル基自体の珪素酸化物層の膜表面に吸着や水素結合等により強固な結合を形成する。   In the silane coupling agent as described above, a functional group at one end of the molecule, usually chloro, alkoxy, or acetoxy group, is hydrolyzed to form a silanol group (SiOH), which is oxidized by silicon. The metal oxide layer or the active group on the film surface of the silicon oxide layer, for example, a functional group such as a hydroxyl group causes a reaction such as a dehydration condensation reaction to cause a silicon oxide layer. A silane coupling agent is modified with a covalent bond or the like on the film surface of the film, and a strong bond is formed on the film surface of the silicon oxide layer of the silanol group itself by adsorption or hydrogen bond.

他方、シランカップリング剤の他端にあるビニル、メタクリロキシ、アミノ、エポキシ、あるいは、メルカプト等の有機官能基が、そのシランカップリング剤の薄膜の上に形成される、例えば、印刷模様層、ラミネ−ト用接着剤層、アンカ−コ−ト剤層、その他の層等を構成する物質と反応して強固な結合を形成し、更に、上記の印刷模様層、ラミネ−ト用接着剤層、アンカ−コ−ト剤層等を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層が強固に密接着して、そのラミネ−ト強度を高め、このようにして、本発明においては、ラミネ−ト強度の高い強固な積層構造を形成可能とするものである。   On the other hand, an organic functional group such as vinyl, methacryloxy, amino, epoxy, or mercapto at the other end of the silane coupling agent is formed on the thin film of the silane coupling agent. -Reacts with substances constituting the adhesive layer, anchor coating layer, other layers, etc. to form a strong bond, and further, the above-mentioned printed pattern layer, laminating adhesive layer, The heat-sealable resin layer is firmly and tightly bonded through the anchor coating agent layer and the like to increase the laminating strength. Thus, in the present invention, the laminating strength is increased. It is possible to form a high-strength laminated structure.

本発明においては、シランカップリング剤が有する無機性と有機性とを利用し、珪素酸化物層と、印刷模様層、接着剤層あるいはアンカ−コ−ト剤層を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性を向上させ、そのラミネ−ト強度等を高めるものである。   In the present invention, the inorganic property and organic property of the silane coupling agent are utilized, and the heat-dissipation is effected through the silicon oxide layer and the printed pattern layer, the adhesive layer or the anchor coating agent layer. It improves the tight adhesion with the rusty resin layer and increases its laminating strength and the like.

次に、本発明において、上記のポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物を構成する充填剤としては、例えば、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト、シリカ、タルク、ガラスフリット、樹脂粉末、その他等のものを使用することができる。   Next, in the present invention, examples of the filler constituting the polyurethane-based or polyester-based resin composition include calcium carbonate, barium sulfate, alumina white, silica, talc, glass frit, resin powder, and the like. Can be used.

而して、上記の充填剤は、ポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物液の粘度等を調製し、そのコ−ティング適性を向上させると共にバインダ−樹脂としてのポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂とシランカップリング剤を介して結合し、コ−ティング膜の凝集力を向上させるものである。   Thus, the above-mentioned filler adjusts the viscosity of the polyurethane-based or polyester-based resin composition liquid, improves its coating suitability, and is a silane coupling with a polyurethane-based or polyester-based resin as a binder resin. It binds via an agent to improve the cohesive strength of the coating film.

次に、本発明において、積層材を構成するラミネ−ト用接着剤層について説明すると、かかるラミネ−ト用接着剤層を構成する接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2−エチルヘキシルエステル等のホモポリマ−、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレ−ト系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマ−との共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロ−ス系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノ−ル樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレン−ブタジエンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコ−ン系接着剤、アルカリ金属シリケ−ト、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。   Next, in the present invention, the laminating adhesive layer constituting the laminated material will be described. Examples of the laminating adhesive layer constituting the laminating adhesive layer include a polyvinyl acetate adhesive and acrylic acid. Homopolymers such as ethyl, butyl, 2-ethylhexyl ester, etc., or polyacrylic acid ester adhesives comprising these and copolymers of methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc., cyanoacrylate adhesives, ethylene Ethylene copolymer adhesives, cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimides, and the like, and copolymers of vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid and other monomers -Based adhesive, amino resin-based adhesive made of urea resin or melamine resin, phenolic resin-based adhesive Epoxy adhesive, polyurethane adhesive, reactive (meth) acrylic adhesive, chloroprene rubber, nitrile rubber, rubber adhesive made of styrene-butadiene rubber, silicone adhesive, alkali metal silicate It is possible to use an inorganic adhesive made of low-melting glass or the like, and other adhesives.

上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シ−ト状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。   The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the properties thereof are film / sheet type, powder type, solid type, etc. Any form may be used, and the bonding mechanism may be any form such as a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a hot pressure type.

而して、上記の接着剤は、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法、あるいは、印刷法等によって施すことができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。 Thus, the above adhesive can be applied by, for example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, a coating method or the like, or a printing method. The coating amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).

次に、本発明において、積層材を構成するアンカ−コ−ト剤層について説明すると、かかるアンカ−コ−ト剤層を構成するアンカ−コ−ト剤としては、例えば、アルキルチタネ−ト等の有機チタン系、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、ポリプタジエン系、その他等の水性ないし油性の各種のアンカ−コ−ト剤を使用することができる。   Next, in the present invention, the anchor coat agent layer constituting the laminated material will be described. As the anchor coat agent constituting the anchor coat agent layer, for example, alkyl titanate or the like is used. Various aqueous or oil-based anchor coating agents such as organic titanium, isocyanate, polyethyleneimine, polyptadiene, etc. can be used.

上記のアンカ−コ−ト剤は、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングすることができ、そのコ−ティング量としては、0.1〜5g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。 The above-mentioned anchor coating agent can be coated using a coating method such as a roll coat, a gravure roll coat, a kiss coat, and the like. The amount is preferably 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

また、上記の溶融押出積層方式における溶融押出樹脂層としては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、酸変性ポリエチレン系樹脂、酸変性ポリプロピレン系樹脂、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、サ−リン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル系樹脂、エチレン−アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の熱可塑性樹脂の1種ないし2種以上を使用することができる。   Examples of the melt-extruded resin layer in the melt-extrusion laminating method include, for example, polyethylene resins, polypropylene resins, acid-modified polyethylene resins, acid-modified polypropylene resins, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymers, saps. 1 of thermoplastic resins such as phosphorus resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate resin, ethylene-acrylic acid ester or methacrylic acid ester copolymer, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, etc. Species or two or more can be used.

なお、上記の溶融押出積層方式において、より強固な接着強度を得るために、例えば、上記のアンカ−コ−ト剤等のアンカ−コ−ト剤層を介して、積層することができる。   In the melt extrusion lamination method, in order to obtain stronger adhesive strength, for example, lamination can be performed via an anchor coating agent layer such as the above-described anchor coating agent.

次に、本発明において、本発明にかかる積層材の最内層等を形成するシ−トシ−ル性樹脂層を構成するヒ−トシ−ル性樹脂としては、例えば、熱によって溶融し相互に融着し得るヒ−トシ−ル性を有する各種の樹脂を使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、メタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし2種以上を使用することができる。   Next, in the present invention, the heat-seal resin constituting the sheet-seal resin layer forming the innermost layer or the like of the laminated material according to the present invention is, for example, melted by heat and melted mutually. Various resins having heat-seal properties that can be worn can be used. Specifically, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, and linear (linear) low-density polyethylene. , Ethylene-α / olefin copolymer polymerized using metallocene catalyst, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene -Methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polybutene polymer- Polyolefin resins such as polyethylene or polypropylene modified with an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, polyvinyl acetate resin, poly One or more kinds of resins such as (meth) acrylic resins, polyvinyl chloride resins, and the like can be used.

而して、本発明において、ヒ−キシ−ル性樹脂層としては、上記のような樹脂のフィルムないしシ−ト状物、あるいは、その樹脂を含む組成物によるコ−ティング膜の状態等で使用することができる。   Accordingly, in the present invention, the acrylic resin layer may be a film or sheet of the resin as described above, or a coating film state of a composition containing the resin, or the like. Can be used.

その膜もしくはフィルムないしシ−トの厚さとしては、5μmないし300μm位が好ましくは、更には、10μmないし100μm位が望ましい。   The thickness of the film or film or sheet is preferably about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.

更にまた、本発明において、本発明にかかる積層材の外層面に積層する外装材、あるいは、コ−ティング膜とヒ−トシ−ル性樹脂装との層間に積層する中間基材等としては、例えば、積層材の基本素材となるものとして、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、特に、強度を有して強靱であり、かつ耐熱性を有する樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができ、具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靱な樹脂のフィルムないしシ−ト、その他等を使用することができる。   Furthermore, in the present invention, as an exterior material laminated on the outer layer surface of the laminated material according to the present invention, or as an intermediate base material laminated between the coating film and the heat sealable resin layer, For example, as a basic material of a laminated material, a resin film having excellent properties in mechanical, physical, chemical, etc., particularly having strength and toughness and heat resistance Specifically, for example, polyester resin, polyamide resin, polyaramid resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polyacetal system, and the like can be used. A tough resin film or sheet such as resin, fluorine-based resin, or the like can be used.

而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、未延伸フィルム、あるいは、一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。   Thus, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.

そのフィルムの厚さとしては、5μmないし100μm位、好ましくは、10μmないし50μm位が望ましい。   The thickness of the film is about 5 μm to 100 μm, preferably about 10 μm to 50 μm.

なお、本発明においては、上記のような基材フィルムには、例えば、文字、図形、記号、絵柄、模様等の所望の印刷絵柄を通常の印刷法で表刷り印刷あるいは裏刷り印刷等が施されていてもよい。   In the present invention, the base film as described above is subjected to surface printing or back printing by a normal printing method with a desired printing pattern such as letters, figures, symbols, patterns, patterns, etc., for example. May be.

次にまた、本発明において、上記の積層材を構成する外装材、中間基材等としては、例えば、紙層を構成する各種の紙基材を使用することができ、具体的には、本発明において、紙基材としては、賦型性、耐屈曲性、剛性等を持たせるものであり、例えば、強サイズ性の晒または未晒の紙基材、あるいは純白ロ−ル紙、クラフト紙、板紙、加工紙等の紙基材、その他等を使用することができる。   Next, in the present invention, for example, various paper base materials constituting the paper layer can be used as the exterior material, intermediate base material, etc. constituting the above laminated material. In the present invention, the paper base material has formability, bending resistance, rigidity, etc., for example, a paper base material having a strong sizing property or unbleached paper, or pure white roll paper, kraft paper Paper base materials such as paperboard and processed paper, and the like can be used.

上記において、紙層を構成する紙基材としては、坪量約80〜600g/m2 位のもの、好ましくは、坪量約100〜450g/m2 位のものを使用することが望ましい。 In the above, as the paper substrate constituting the paper layer, it is desirable to use a material having a basis weight of about 80 to 600 g / m 2 , preferably a basis weight of about 100 to 450 g / m 2 .

勿論、本発明においては、紙層を構成する紙基材と、上記に挙げた基材フィルムとしての各種の樹脂のフィルムないしシ−ト等を併用して使用することができる。   Of course, in the present invention, the paper base material constituting the paper layer and various resin films or sheets as the base film mentioned above can be used in combination.

更に、本発明において、上記の積層材を構成する材料として、例えば、水蒸気、水等のバリア−性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、あるいは、酸素、水蒸気等に対するバリア−性を有するポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ナイロンMXD6樹脂等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を使用することができる。   Furthermore, in the present invention, examples of the material constituting the laminated material include low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, and ethylene having barrier properties such as water vapor and water. -Resin film or sheet such as propylene copolymer, or polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, nylon MXD6 resin having barrier properties against oxygen, water vapor, etc. Films or sheets of the above-mentioned resins, colorants such as pigments to the resin, and other various colored resin films or sheets having light-shielding properties obtained by kneading into a film by adding desired additives. Can be used.

これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。   These materials can be used alone or in combination.

上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、5μmないし300μm位、更には、10μmないし100μm位が望ましい。   The thickness of the film or sheet is arbitrary, but is usually about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.

なお、本発明においては、通常、上記の積層材は各種の用途に適用される場合、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、上記の積層材には、厳しい条件が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような諸条件を充足する材料を任意に選択して使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トから任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、セロハン等のフィルム、合成紙等も使用することができる。 本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
In the present invention, usually, when the above laminated material is applied to various applications, it is subjected to severe conditions both physically and chemically. Various requirements such as deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealing performance, quality maintenance, workability, hygiene, etc. are required. Can be used by arbitrarily selecting a material that satisfies the above-mentioned conditions. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene , Ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methyl Pentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene Resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol Resin, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, etc. You can select and use.
In addition, for example, a film such as cellophane, a synthetic paper, or the like can be used. In the present invention, the above-described film or sheet may be any of unstretched, uniaxially or biaxially stretched.
The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.
Furthermore, in the present invention, the film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.

而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、各積層面を構成する各素材の表面に、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、プラズマ処理、火炎処理、その他等の前処理を任意に施すことができ、また、例えば、イソシアネ−ト系(ウレタン系)、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系等のアンカ−コ−ティング剤、あるいは、ポリウレタン系、ポリアクリル系、ポリエステル系、エポキシ系、ポリ酢酸ビニル系、セルロ−ス系、その他等のラミネ−ト用接着剤等のアンカ−コ−ト剤、接着剤等を使用することができる。   Thus, in the present invention, when performing the above-described lamination, if necessary, the surface of each material constituting each lamination surface is subjected to, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, plasma treatment, flame treatment, and the like. In addition, for example, an anchor coating agent such as isocyanate (urethane), polyethyleneimine, polybutadiene, organic titanium, polyurethane, polyacrylic, etc. Anchor coating agents such as laminating adhesives such as those based on polyester, polyester, epoxy, polyvinyl acetate, cellulose, etc., adhesives and the like can be used.

なお、本発明においては、本発明にかかる積層材を構成するいずれかの層間に所望の印刷模様層を形成することができるものである。
而して、上記の印刷模様層としては、通常のインキビヒクルの1種ないし2種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリ−ン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式を使用し、前述のコ−ティング薄膜の上に、文字、図形、記号、模様等からなる所望の印刷模様を印刷して、本発明にかかる印刷模様層を形成することができる。
In the present invention, a desired printed pattern layer can be formed between any of the layers constituting the laminated material according to the present invention.
Thus, the printed pattern layer is mainly composed of one or more ordinary ink vehicles, and if necessary, a plasticizer, a stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet ray, and the like. One or more additives such as an absorbent, a curing agent, a crosslinking agent, a lubricant, an antistatic agent, a filler, and the like are arbitrarily added, and a colorant such as a dye / pigment is added, and a solvent is added. The ink composition is prepared by sufficiently kneading with a diluent, and then the ink composition is used. For example, gravure printing, offset printing, letterpress printing, screen printing, transfer printing, flexographic printing, etc. The printing pattern layer according to the present invention can be formed by printing a desired printing pattern composed of characters, figures, symbols, patterns, etc. on the above-described coating thin film using a printing method such as .

なお、本発明においては、前述の酸化珪素あるいは酸化アルミニウム等の珪素酸化物層の面に設けるコ−ティング膜としては、前述のポリウレタン系あるいはポリエステル系樹脂組成物によるプライマ−剤層の他に、更に、例えば、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用してプライマ−剤層を形成することができる。
なお、本発明においては、例えば、ロ−ルコ−ト、グラビアロ−ルコ−ト、キスコ−ト、その他等のコ−ティング法を用いてコ−ティングしてプライマ−コ−ト剤層を形成することができ、而して、そのコ−ティング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)位が望ましい。
In the present invention, as the coating film provided on the surface of the silicon oxide layer such as silicon oxide or aluminum oxide, in addition to the primer layer made of the polyurethane-based or polyester-based resin composition, Further, for example, a polyamide resin, an epoxy resin, a phenol resin, a (meth) acrylic resin, a polyvinyl acetate resin, a polyolefin resin such as polyethylene aly polypropylene, or a copolymer or modified resin thereof, A primer agent layer can be formed using a resin composition having a vehicle-based resin or the like as a main component of a vehicle.
In the present invention, for example, a primer coating layer is formed by coating using a coating method such as roll coating, gravure rolling coating, kiss coating, etc. Therefore, the coating amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).

次に、本発明において、本発明にかかる積層材を使用して本発明にかかる液体充填包装用小袋を製造する製袋ないし製函する方法について説明すると、例えば、本発明にかかる液体充填包装用小袋がプラスチックフィルム等からなる軟包装袋の場合、上記のような方法で製造した本発明にかかる積層材を使用し、その内面層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向させて、それを折り重ねるか、或いは、その二枚を重ね合わせ、しかる後、その外周の周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設けて袋体を構成することができる。
而して、その製袋方法としては、本発明にかかる積層材を、その内面層の面を対向させて折り曲げるか、あるいは、その二枚を重ね合わせ、更にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型(ピロ−シ−ル型)、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる種々の形態からなる液体充填包装用小袋を製造することができる。
その他、例えば、自立性包装袋(スタンディングパウチ)等も製造することが可能であり、更に、本発明においては、本発明にかかる積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造することができる。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
なお、本発明においては、上記のような液体充填包装用小袋には、例えば、ワンピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けることができる。
Next, in the present invention, a description will be given of a bag making or box making method for producing a liquid-filled packaging sachet according to the present invention using the laminated material according to the present invention. For example, for liquid-filled packaging according to the present invention When the sachet is a soft packaging bag made of a plastic film or the like, use the laminated material according to the present invention produced by the method as described above, with the surface of the heat-sealable resin layer of the inner surface layer facing, The bag body can be formed by folding the two sheets or overlapping the two sheets, and then heat sealing the peripheral edge of the outer periphery to provide a seal portion.
Thus, as the bag-making method, the laminated material according to the present invention is folded with the inner surface layers facing each other, or the two sheets are overlapped, and the peripheral edge of the outer periphery is, for example, Side seal type, two-side seal type, three-side seal type, four-side seal type, envelope-attached seal type, jointed seal type (pillary seal type), with pleats Pouches for liquid-filled packaging comprising various forms according to the present invention, which are heat-sealed in the form of a heat seal such as a seal type, flat bottom seal type, square bottom seal type, etc. Can be manufactured.
In addition, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) or the like can be manufactured. In the present invention, a tube container or the like can also be manufactured using the laminated material according to the present invention. .
In the above, as the heat seal method, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal and the like are known. It can be done by the method.
In the present invention, for example, a one-piece type, two-piece type, or other spout, or an opening / closing zipper can be arbitrarily attached to the liquid-filled packaging pouch as described above. .

次にまた、本発明にかかる液体充填包装用小袋として、紙基材を含む液体充填用小袋の場合、例えば、本発明にかかる積層材として、紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の液体充填包装用小袋を製造するブランク板を製造し、しかる後、該ブランク板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトップタイプの液体充填包装用小袋を製造することができる。
また、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等のいずれのものでも製造することができる。
Next, as a liquid-filled packaging sachet according to the present invention, in the case of a liquid-filled sachet containing a paper base material, for example, as a laminated material according to the present invention, a laminated material in which a paper base material is laminated is manufactured, and from this A blank plate for manufacturing a desired liquid-filled packaging sachet is manufactured, and then the body, the bottom, the head, etc. are manufactured using the blank plate, for example, a brick type, a flat type or a gate type. A bell top type liquid-filled packaging sachet can be manufactured.
Further, the shape can be any of a rectangular container, a cylindrical paper can such as a round shape, and the like.

本発明において、上記のようにして製造した本発明にかかる液体充填包装用小袋は、種々の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医薬品、ケミカルカイロ等の雑貨品、その他等の物品の充填包装に使用されるものである。
而して、本発明においては、特に、例えば、ドレッシング、醤油、ソ−ス、マヨネ−ズ、味噌、酢、その他等の液体調味料からなる液体状内容物を充填包装する液体用小袋、切り餅、丸餅等を充填包装する小袋、生菓子等を充填包装する軟包装用袋、あるいは、ボイルあるいはレトルト食品等を充填包装する軟包装用袋等の飲食物等を充填包装する包装用容器として有用なものである。
In the present invention, the liquid-filled packaging sachet according to the present invention manufactured as described above includes various foods and drinks, chemicals such as adhesives and adhesives, cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods such as chemical warmers, and the like. It is used for filling and packaging of articles.
Thus, in the present invention, in particular, for example, a sachet for liquid filling and packaging, such as dressing, soy sauce, sauce, mayonnaise, miso, vinegar, etc. Useful as packaging containers for filling and packaging foods and beverages, such as sachets for filling and packaging round buns, soft packaging bags for filling and packaging fresh confectionery, etc., or soft packaging bags for filling and packaging boiled or retort foods, etc. It is a thing.

上記の本発明について以下に実施例を挙げて更に具体的に説明する。
まず、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図1に示すような3室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるヘキサメチルジシロキサン(以下、HMDSOという。)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第1の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm、スタンダ−ドリッタ−ミニット)とし、また、第2の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm)とした。
なお、第3の製膜室は使用しなかった。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室および第2の製膜室にそれぞれ導入し、次いで、上記の厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムをライン速度200m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、第1層の膜厚65Å、第2層の膜厚60Å総膜厚125Åからなる2層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
次に、上記で製造したバリア性フィルムの珪素酸化物層の面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、パワ−9kw、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=7.0:2.5(単位:slm)からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Torr、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、珪素酸化物層の膜面の表面張力を54dyne/cm以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
次に、上記で形成したプラズマ処理面の面に、シランカップリング剤1.0重量%、シリカ粉末1.0重量%、ポリウレタン系樹脂13〜15重量%、ニトロセルロ−ス3〜4重量量%、トルエン31〜38重量%、メチルエチルケトン(MEK)29〜30重量%、イソプロピ−ルアルコ−ル(IPA)15〜16重量%からなるポリウレタン系樹脂組成物を調製し、これを、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させ、上記のポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、本発明にかかるバリア性ナイロンフィルムを製造した。
更に、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムのコ−ティング薄膜の面に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤を、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、接着剤層(乾燥膜厚、1.0g/m2 )を形成した。
しかる後、上記で形成した接着剤層の面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ60μmに溶融押出コ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
次に、上記の積層材を使用し、これを製袋機に装着して製袋し、三方シ−ル型のプラスチック製小袋を製造し、次いで、該そのプラスチック製小袋内に、ドレッシングを充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして内容物を充填包装した包装製品を製造した。 上記の包装製品は、バリア性に優れ、また、匂い等の漏れも認められず、保香性に優れ、長期間の保存、貯蔵性に優れ、かつ、流通適性にも優れている結果を得た。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
First, a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared as a substrate film, and this was mounted on a plasma chemical vapor deposition apparatus having three chambers as shown in FIG.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, hexamethyldisiloxane (hereinafter referred to as HMDSO), which is an organic silicon compound as a raw material, is volatilized in a raw material volatilization supply device and mixed with oxygen gas and inert gas helium supplied from the gas supply device. The raw material gas was used.
As a raw material gas used in the first film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases is set to HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm, standard driter-minit), and the second As a raw material gas used in the film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases was HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm).
The third film forming chamber was not used.
Using the raw material gas as described above, the raw material gas is introduced into the first film forming chamber and the second film forming chamber, respectively, and then the biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is line speed. Electric power is applied while being conveyed at 200 m / min, and the first layer has a thickness of 65 mm and the second layer has a thickness of 60 mm on one corona-treated surface of a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm. A two-layered silicon oxide layer having a thickness of 125 mm was formed into a barrier film according to the present invention.
Next, a glow discharge plasma generator is used on the surface of the silicon oxide layer of the barrier film produced above, and the power is 9 kw, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 7.0: Using a mixed gas of 2.5 (unit: slm), performing oxygen / argon mixed gas plasma processing at a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Torr and a processing speed of 420 m / min, the film surface of the silicon oxide layer A plasma-treated surface having a surface tension of 54 dyne / cm or more was formed.
Next, 1.0% by weight of silane coupling agent, 1.0% by weight of silica powder, 13-15% by weight of polyurethane resin, 3-4% by weight of nitrocellulose are formed on the surface of the plasma-treated surface formed as described above. A polyurethane resin composition comprising 31 to 38% by weight of toluene, 29 to 30% by weight of methyl ethyl ketone (MEK), and 15 to 16% by weight of isopropyl alcohol (IPA) was prepared. Coating is carried out using a method, followed by heat drying to form a coating thin film (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ) from the above polyurethane resin composition. A nylon film was produced.
Further, a two-component curable polyurethane adhesive was coated on the surface of the coating thin film of the barrier nylon film produced as described above using the roll coating method in the same manner as described above. Subsequently, it was heat-dried to form an adhesive layer (dry film thickness, 1.0 g / m 2 ).
Thereafter, low-density polyethylene was used on the surface of the adhesive layer formed above, and this was melt-extruded to a thickness of 60 μm to produce a laminate according to the present invention.
Next, using the above laminated material, mounting it on a bag making machine to make a bag, manufacturing a three-sided seal type plastic sachet, then filling the plastic sachet with dressing Then, after that, the opening was heat sealed and a packaged product filled with the contents and packaged was manufactured. The above packaged product has excellent barrier properties, no odor leakage, excellent fragrance retention, long-term storage and storage properties, and excellent distribution suitability. It was.

基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図1に示すような3室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるヘキサメチルジシロキサン(以下、HMDSOという。)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第1の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm、スタンダ−ドリッタ−ミニット)とし、また、第2の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm)とし、更に、第3の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm)とした。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室、第2の製膜室、および、第3の製膜室にそれぞれ導入し、次いで、上記の厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムをライン速度300m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、第1層の膜厚40Å、第2層の膜厚45Å、第3層の膜厚45Å、総膜厚130Åからなる3層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
次に、上記で製造したバリア性フィルムの珪素酸化物層の面に、上記の実施例1と同様にして、プラズマ処理面を形成し、次いで、該プラズマ処理面の面に、シランカップリング剤1.0重量%、シリカ粉末1.0重量%、ポリウレタン系樹脂13〜15重量%、ニトロセルロ−ス3〜4重量量%、トルエン31〜38重量%、メチルエチルケトン(MEK)29〜30重量%、イソプロピ−ルアルコ−ル(IPA)15〜16重量%からなるポリウレタン系樹脂組成物を調製し、これを、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させ、上記のポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、本発明にかかるバリア性ナイロンフィルムを製造した。
更に、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムのコ−ティング薄膜の面に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤を、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、ラミネ−ト用接着剤層(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成した。
しかる後、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ60μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
次に、上記の積層材を使用し、これを製袋機に装着して製袋し、三方シ−ル型のプラスチック製小袋を製造し、次いで、該そのプラスチック製小袋内に、ドレッシングを充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして内容物を充填包装した包装製品を製造した。 上記の包装製品は、バリア性に優れ、また、匂い等の漏れも認められず、保香性に優れ、長期間の保存、貯蔵性に優れ、かつ、流通適性にも優れている結果を得た。
A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared as a base film, and this was mounted on a plasma chemical vapor deposition apparatus having three chambers as shown in FIG.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, hexamethyldisiloxane (hereinafter referred to as HMDSO), which is an organic silicon compound as a raw material, is volatilized in a raw material volatilization supply device and mixed with oxygen gas and inert gas helium supplied from the gas supply device. The raw material gas was used.
As a raw material gas used in the first film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases is set to HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm, standard driter-minit), and the second As a raw material gas used in the film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases is HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm), and further, as a raw material gas used in the third film forming chamber The mixing ratio of the raw material gases was HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm).
Using the raw material gas as described above, the raw material gas is introduced into the first film forming chamber, the second film forming chamber, and the third film forming chamber, respectively. While conveying the biaxially stretched nylon 6 film at a line speed of 300 m / min, electric power was applied, and on the one corona-treated surface of the biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm, the thickness of the first layer was 40 mm, A barrier oxide film according to the present invention was manufactured by forming a three-layer silicon oxide layer having a thickness of 45 mm of the second layer, a thickness of 45 mm of the third layer, and a total thickness of 130 mm.
Next, a plasma-treated surface is formed on the surface of the silicon oxide layer of the barrier film produced as described above in the same manner as in Example 1, and then a silane coupling agent is formed on the surface of the plasma-treated surface. 1.0 wt%, silica powder 1.0 wt%, polyurethane resin 13-15 wt%, nitrocellulose 3-4 wt%, toluene 31-38 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) 29-30 wt%, A polyurethane-based resin composition comprising 15 to 16% by weight of isopropyl alcohol (IPA) was prepared, and this was coated using a roll coating method, followed by heat drying, A coating thin film (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ) was formed from the polyurethane resin composition to produce a barrier nylon film according to the present invention.
Further, a two-component curable polyurethane adhesive was coated on the surface of the coating thin film of the barrier nylon film produced as described above using the roll coating method in the same manner as described above. Subsequently, it was heat-dried to form an adhesive layer for laminating (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ).
Thereafter, a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer formed as described above to produce a laminated material according to the present invention.
Next, using the above laminated material, mounting it on a bag making machine to make a bag, manufacturing a three-sided seal type plastic sachet, then filling the plastic sachet with dressing Then, after that, the opening was heat sealed and a packaged product filled with the contents and packaged was manufactured. The above packaged product has excellent barrier properties, no odor leakage, excellent fragrance retention, long-term storage and storage properties, and excellent distribution suitability. It was.

上記の実施例2において、第1の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm、スタンダ−ドリッタ−ミニット)とし、また、第2の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm)とし、更に、第3の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:8:1(単位;slm)とし、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。 In the above Example 2, as a raw material gas used in the first film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases is set to HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm, standard-driter-minute). In addition, as a source gas used in the second film forming chamber, the mixing ratio of the source gases is set to HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm). As the raw material gas used in the chamber, the mixing ratio of the raw material gases is HMDSO: O 2 : He = 1: 8: 1 (unit: slm), and the others are exactly the same as in Example 2 above, As in Example 2, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch according to the present invention were produced.

上記の実施例2において、原料ガスを構成する有機珪素化合物であるHMDSOの代りに、テトラメトキシシラン(以下、TMOSという。)を使用し、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、本発にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。   In Example 2 above, tetramethoxysilane (hereinafter referred to as TMOS) is used instead of HMDSO, which is an organosilicon compound constituting the raw material gas, and the others are exactly the same as in Example 2 above. In the same manner as in Example 2, the laminated material and the liquid-filled packaging pouch according to the present invention were manufactured.

上記の実施例2において、原料ガスを構成する有機珪素化合物であるHMDSOの代りに、テトラエトキシシラン(以下、TEOSという。)を使用し、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。   In Example 2 above, tetraethoxysilane (hereinafter referred to as TEOS) is used instead of HMDSO, which is an organosilicon compound that constitutes the raw material gas, and the others are exactly the same as in Example 2 above. Similarly to Example 2 above, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch according to the present invention were produced.

上記の実施例2において、第2の製膜室における原料ガスを構成する有機珪素化合物であるHMDSOの代りに、テトラメトキシシラン(以下、TMOSという。)を使用し、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。   In Example 2 above, tetramethoxysilane (hereinafter referred to as TMOS) is used in place of HMDSO, which is an organosilicon compound constituting the source gas in the second film forming chamber, and the others are the same as in the above Example. In the same manner as in Example 2, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch according to the present invention were produced in the same manner as in Example 2 above.

上記の実施例2において、第2の製膜室における原料ガスを構成する有機珪素化合物であるHMDSOの代りに、テトラメトキシシラン(以下、TMOSという。)を使用し、また、第2の製膜室における原料ガスを構成する有機珪素化合物であるHMDSOの代りに、テトラエトキシシラン(以下、TEOSという。)を使用し、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。   In Example 2 described above, tetramethoxysilane (hereinafter referred to as TMOS) is used in place of HMDSO, which is an organosilicon compound constituting the source gas in the second film forming chamber, and the second film forming is performed. Tetraethoxysilane (hereinafter referred to as TEOS) is used in place of HMDSO, which is an organosilicon compound that constitutes the source gas in the chamber, and the others are exactly the same as in Example 2 above. Similarly to the above, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch according to the present invention were produced.

まず、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図2に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表1に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室および第2の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムをライン速度200m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、第1層の膜厚65Å、第2層の膜厚60Å、総膜厚125Åからなる2層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
First, as a substrate film, a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared, and a plasma chemical vapor phase in which two supply pipes capable of independently controlling the flow rate introduced into each chamber as shown in FIG. 2 were installed. Attached to the growth apparatus.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, HMDSO (hexamethyldisiloxane), which is an organic silicon compound as a raw material, is volatilized in a raw material volatilization supply device and mixed with oxygen gas supplied from the gas supply device and helium, which is an inert gas, did.
Next, a raw material gas having a gas mixture ratio shown in Table 1 below is used, and the raw material gas is introduced into the first film forming chamber and the second film forming chamber from two supply pipes that can be independently controlled. Then, while the biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is conveyed at a line speed of 200 m / min, electric power is applied, and one of the corona-treated surfaces of the biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is applied. A barrier oxide film according to the present invention was manufactured by forming a two-layer silicon oxide layer having a thickness of 65 mm of the first layer, a thickness of 60 mm of the second layer, and a total thickness of 125 mm.

(表1)
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第1室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:5:0.5 │ │第1室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第1室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:5:0.5 │ │第2室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │第3室│ 使用せず │ └───┴───────────────────────────┘
(Table 1)
┌───┬───────────────────────────┐┐ │ │ Supply pipe 1 of the first chamber │ │ ├────── ──────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixture ratio (unit: slm) │ │ ├─────── ────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 5: 0.5 │ │ Room 1 ├────────── ─┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 in the first chamber │ │ ├ ───────────┬───────── ───────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼─────────── ─────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ ├───┼───────────┴── ────────────┤ │ │ Supply pipe 1 of the second chamber │ │ ├ ───────────┬────────────── ──┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼──────────────── │ │ │ HMDSO │ 0.5: 5: 0.5 │ │ Room 2 ────────────┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 of the second chamber │ │ ├ ───────────┬───────────────┤ │ │ Film forming monomer gas │ Gas mixing ratio (Unit: slm) │ │ ├ ───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │Room 3│ Not used │ └───┴───────────────────────────┘

次に、上記で製造したバリア性フィルムの珪素酸化物層の面に、グロ−放電プラズマ発生装置を使用し、パワ−9kw、酸素ガス(O2 ):アルゴンガス(Ar)=7.0:2.5(単位:slm)からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧6×10-5Torr、処理速度420m/minで酸素/アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、珪素酸化物層の膜面の表面張力を54dyne/cm以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
次に、上記で形成したプラズマ処理面の面に、シランカップリング剤1.0重量%、シリカ粉末1.0重量%、ポリエステル系樹脂13〜15重量%、ニトロセルロ−ス3〜4重量量%、トルエン31〜38重量%、メチルエチルケトン(MEK)29〜30重量%、イソプロピ−ルアルコ−ル(IPA)15〜16重量%からなるポリエステル系樹脂組成物を調製し、これを、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させ、上記のポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、本発明にかかるバリア性ナイロンフィルムを製造した。
更に、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムのコ−ティング薄膜の面に、グラビア印刷用インキ組成物を使用し、グラビア印刷方式で文字、図形、記号、絵柄からなる所望の印刷模様層を印刷した後、その印刷模様層を含む全面に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤を、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、接着剤層(乾燥膜厚、1.0g/m2 )を形成した。
しかる後、上記で形成した接着剤層の面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ60μmに溶融押出コ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
次に、上記の積層材を使用し、これを製袋機に装着して製袋し、三方シ−ル型のプラスチック製小袋を製造し、次いで、該そのプラスチック製小袋内に、ドレッシングを充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして内容物を充填包装した包装製品を製造した。 上記の包装製品は、バリア性に優れ、また、匂い等の漏れも認められず、保香性に優れ、長期間の保存、貯蔵性に優れ、かつ、流通適性にも優れている結果を得た。
Next, a glow discharge plasma generator is used on the surface of the silicon oxide layer of the barrier film produced above, and the power is 9 kw, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 7.0: Using a mixed gas of 2.5 (unit: slm), performing oxygen / argon mixed gas plasma processing at a mixed gas pressure of 6 × 10 −5 Torr and a processing speed of 420 m / min, the film surface of the silicon oxide layer A plasma-treated surface having a surface tension of 54 dyne / cm or more was formed.
Next, 1.0% by weight of silane coupling agent, 1.0% by weight of silica powder, 13 to 15% by weight of polyester resin, and 3 to 4% by weight of nitrocellulose are formed on the surface of the plasma-treated surface formed above. A polyester resin composition comprising 31 to 38% by weight of toluene, 29 to 30% by weight of methyl ethyl ketone (MEK), and 15 to 16% by weight of isopropyl alcohol (IPA) was prepared. Coating is performed using a method, followed by heat drying to form a coating thin film (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ) using the above-described polyester resin composition. A nylon film was produced.
Furthermore, on the surface of the coating thin film of the barrier nylon film produced above, a gravure printing ink composition was used, and a desired printed pattern layer consisting of letters, figures, symbols, and patterns was printed by a gravure printing method. Thereafter, a two-component curable polyurethane adhesive is coated on the entire surface including the printed pattern layer in the same manner as described above using a roll coating method, and then thermally dried to adhere. An agent layer (dry film thickness, 1.0 g / m 2 ) was formed.
Thereafter, low-density polyethylene was used on the surface of the adhesive layer formed above, and this was melt-extruded to a thickness of 60 μm to produce a laminate according to the present invention.
Next, using the above laminated material, mounting it on a bag making machine to make a bag, manufacturing a three-sided seal type plastic sachet, then filling the plastic sachet with dressing Then, after that, the opening was heat sealed and a packaged product filled with the contents and packaged was manufactured. The above packaged product has excellent barrier properties, no odor leakage, excellent fragrance retention, long-term storage and storage properties, and excellent distribution suitability. It was.

まず、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図2に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表2に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室、第2の製膜室、および、第3の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムをライン速度300m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、第1層の膜厚45Å、第2層の膜厚40Å、第3層の膜厚45Å、総膜厚130Åからなる3層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
First, as a substrate film, a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared, and a plasma chemical vapor phase in which two supply pipes capable of independently controlling the flow rate introduced into each chamber as shown in FIG. 2 were installed. Attached to the growth apparatus.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, HMDSO (hexamethyldisiloxane), which is an organic silicon compound as a raw material, is volatilized in a raw material volatilization supply device and mixed with oxygen gas supplied from the gas supply device and helium, which is an inert gas, did.
Next, a raw material gas having a gas mixture ratio shown in Table 2 below is used, and the raw material gas is respectively supplied to the first film forming chamber, the second film forming chamber, and the third film forming chamber. Introduced from two supply pipes that can be controlled independently, then, while feeding the above-mentioned 15 μm-thick biaxially stretched nylon 6 film at a line speed of 300 m / min, power was applied to the biaxially stretched nylon 6 having a thickness of 15 μm. On one corona-treated surface of the film, a three-layer silicon oxide layer comprising a first layer thickness of 45 mm, a second layer thickness of 40 mm, a third layer thickness of 45 mm, and a total film thickness of 130 mm. A barrier film according to the present invention was produced by forming a film.

(表2)
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第1室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:5:0.5 │ │第1室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第1室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:5:0.5 │ │第2室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第3室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:5:0.5 │ │第3室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第3室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ └───┴───────────┴───────────────┘
(Table 2)
┌───┬───────────────────────────┐┐ │ │ Supply pipe 1 of the first chamber │ │ ├────── ──────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixture ratio (unit: slm) │ │ ├─────── ────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 5: 0.5 │ │ Room 1 ├────────── ─┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 in the first chamber │ │ ├ ───────────┬───────── ───────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼─────────── ─────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ ├───┼───────────┴── ────────────┤ │ │ Supply pipe 1 of the second chamber │ │ ├ ───────────┬────────────── ──┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼──────────────── │ │ │ HMDSO │ 0.5: 5: 0.5 │ │ Room 2 ────────────┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 of the second chamber │ │ ├ ───────────┬───────────────┤ │ │ Film forming monomer gas │ Gas mixing ratio (Unit: slm) │ │ ├ ───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 3rd Supply pipe 1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├ ───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 5: 0.5 │ │Third Muroru───────────┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 of the third chamber │ │ ├──────── ───┬───────────────┤ │ │ Film forming monomer gas │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├ ─────────── ─┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ └───┴───────────┴─ ──────────────┘

次に、上記で製造したバリア性フィルムの珪素酸化物層の面に、上記の実施例8と同様にして、プラズマ処理面を形成し、次いで、該プラズマ処理面の面に、シランカップリング剤1.0重量%、シリカ粉末1.0重量%、ポリウレタン系樹脂13〜15重量%、ニトロセルロ−ス3〜4重量量%、トルエン31〜38重量%、メチルエチルケトン(MEK)29〜30重量%、イソプロピ−ルアルコ−ル(IPA)15〜16重量%からなるポリウレタン系樹脂組成物を調製し、これを、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させ、上記のポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、本発明にかかるバリア性ナイロンフィルムを製造した。
更に、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムのコ−ティング薄膜の面に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤を、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、ラミネ−ト用接着剤層(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成した。
しかる後、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ60μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
次に、上記の積層材を使用し、これを製袋機に装着して製袋し、三方シ−ル型のプラスチック製小袋を製造し、次いで、該そのプラスチック製小袋内に、ドレッシングを充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして内容物を充填包装した包装製品を製造した。 上記の包装製品は、バリア性に優れ、また、匂い等の漏れも認められず、保香性に優れ、長期間の保存、貯蔵性に優れ、かつ、流通適性にも優れている結果を得た。
Next, a plasma-treated surface is formed on the surface of the silicon oxide layer of the barrier film produced as described above in the same manner as in Example 8, and then a silane coupling agent is formed on the surface of the plasma-treated surface. 1.0 wt%, silica powder 1.0 wt%, polyurethane resin 13-15 wt%, nitrocellulose 3-4 wt%, toluene 31-38 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) 29-30 wt%, A polyurethane-based resin composition comprising 15 to 16% by weight of isopropyl alcohol (IPA) was prepared, and this was coated using a roll coating method, followed by heat drying, A coating thin film (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ) was formed from the polyurethane resin composition to produce a barrier nylon film according to the present invention.
Further, a two-component curable polyurethane adhesive was coated on the surface of the coating thin film of the barrier nylon film produced as described above using the roll coating method in the same manner as described above. Subsequently, it was heat-dried to form an adhesive layer for laminating (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ).
Thereafter, a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer formed as described above to produce a laminated material according to the present invention.
Next, using the above laminated material, mounting it on a bag making machine to make a bag, manufacturing a three-sided seal type plastic sachet, then filling the plastic sachet with dressing Then, after that, the opening was heat sealed and a packaged product filled with the contents and packaged was manufactured. The above packaged product has excellent barrier properties, no odor leakage, excellent fragrance retention, long-term storage and storage properties, and excellent distribution suitability. It was.

まず、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図2に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)とTMOS(テトラメトキシシラン)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表3に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室、第2の製膜室、および、第3の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをライン速度300m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、第1層の膜厚45Å、第2層の膜厚40Å、第3層の膜厚45Å、総膜厚130Åからなる3層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
First, as a substrate film, a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared, and a plasma chemical vapor phase in which two supply pipes capable of independently controlling the flow rate introduced into each chamber as shown in FIG. 2 were installed. Attached to the growth apparatus.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, HMDSO (hexamethyldisiloxane) and TMOS (tetramethoxysilane) which are organic silicon compounds which are raw materials are volatilized in a raw material volatilization supply device, and oxygen gas and inert gas helium which are supplied from the gas supply device. And mixed to obtain a raw material gas.
Next, a raw material gas having a gas mixture ratio shown in Table 3 below is used, and the raw material gas is respectively supplied to the first film forming chamber, the second film forming chamber, and the third film forming chamber. It is introduced from two supply pipes that can be controlled independently, and then the above-mentioned biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is conveyed at a line speed of 300 m / min. On one corona-treated surface of a nylon 6 film, a three-layer silicon oxide having a first layer thickness of 45 mm, a second layer thickness of 40 mm, a third layer thickness of 45 mm, and a total thickness of 130 mm The barrier film according to the present invention was produced by forming a layer.

(表3)
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第1室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5:2.5:0.5 │ │第1室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第1室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5:2.5:0.5 │ │第2室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第3室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5:2.5:0.5 │ │第3室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第3室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ └───┴───────────┴───────────────┘
(Table 3)
┌───┬───────────────────────────┐┐ │ │ Supply pipe 1 of the first chamber │ │ ├────── ──────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixture ratio (unit: slm) │ │ ├─────── ────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5: 2.5: 0.5 │ │Room 1 ├──────── ───┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 in the first chamber │ │ ├ ───────────┬─────── ─────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼───────── ───────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ ├───┼───────────┴─ ─────────────┤ │ │ Supply pipe 1 of the second chamber │ │ ├ ───────────┬───────────── ───┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼─────────────── ─┤ │ │ TMOS │ 0.5: 2.5: 0.5 │ │Room 2 ────────────┴─────────────── │ │ │ Supply pipe 2 of the second chamber │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├ ────────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0 .5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ Three-room supply pipe 1 │ │ ├ ───────────┬───────────────┤ │ │ Film-forming monomer gas │ Gas mixing ratio ( Unit: slm) │ │ ├ ├───────────┼───────────────┤┤ │ │ TMOS │ 0.5: 2.5: 0.5 │ │ Room 3 ├───────────┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 of room 3 │ │ ├──── ───────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixture ratio (unit: slm) │ │ ├────── ─────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ └───┴───────── ──┴───────────────┘

次に、上記で製造したバリア性フィルムの珪素酸化物層の面に、上記の実施例8と同様にして、プラズマ処理面を形成し、次いで、該プラズマ処理面の面に、シランカップリング剤1.0重量%、シリカ粉末1.0重量%、ポリウレタン系樹脂13〜15重量%、ニトロセルロ−ス3〜4重量量%、トルエン31〜38重量%、メチルエチルケトン(MEK)29〜30重量%、イソプロピ−ルアルコ−ル(IPA)15〜16重量%からなるポリウレタン系樹脂組成物を調製し、これを、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させ、上記のポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、本発明にかかるバリア性ナイロンフィルムを製造した。
更に、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムのコ−ティング薄膜の面に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤を、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、ラミネ−ト用接着剤層(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成した。
しかる後、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをドライラミネ−トし、次いで、更に、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの面に、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、ラミネ−ト用接着剤層(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、しかる後、上記で形成したラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ60μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。 次に、上記の積層材を使用し、これを製袋機に装着して製袋し、三方シ−ル型のプラスチック製小袋を製造し、次いで、該そのプラスチック製小袋内に、ドレッシングを充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして内容物を充填包装した包装製品を製造した。 上記の包装製品は、バリア性に優れ、また、匂い等の漏れも認められず、保香性に優れ、長期間の保存、貯蔵性に優れ、かつ、流通適性にも優れている結果を得た。
Next, a plasma-treated surface is formed on the surface of the silicon oxide layer of the barrier film produced as described above in the same manner as in Example 8, and then a silane coupling agent is formed on the surface of the plasma-treated surface. 1.0 wt%, silica powder 1.0 wt%, polyurethane resin 13-15 wt%, nitrocellulose 3-4 wt%, toluene 31-38 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) 29-30 wt%, A polyurethane-based resin composition comprising 15 to 16% by weight of isopropyl alcohol (IPA) was prepared, and this was coated using a roll coating method, followed by heat drying, A coating thin film (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ) was formed from the polyurethane resin composition to produce a barrier nylon film according to the present invention.
Further, a two-component curable polyurethane adhesive was coated on the surface of the coating thin film of the barrier nylon film produced as described above using the roll coating method in the same manner as described above. Subsequently, it was heat-dried to form an adhesive layer for laminating (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ).
Thereafter, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer formed as described above, and then the biaxially stretched polyethylene terephthalate film is further laminated. In the same manner as described above, the surface was coated using a roll coating method, and then heat-dried to form a laminating adhesive layer (dry film thickness: 4.0 g / m 2 ). After the formation, the laminated material according to the present invention was manufactured by dry laminating a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm on the surface of the laminating adhesive layer formed above. Next, using the above laminated material, mounting it on a bag making machine to make a bag, manufacturing a three-sided seal type plastic sachet, then filling the plastic sachet with dressing Then, after that, the opening was heat sealed and a packaged product filled with the contents and packaged was manufactured. The above packaged product has excellent barrier properties, no odor leakage, excellent fragrance retention, long-term storage and storage properties, and excellent distribution suitability. It was.

まず、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図2に示すような各室に導入する流量を独立制御できる二つの供給パイプを設置したプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)とTMOS(テトラメトキシシラン)とTEOS(テトラエトキシシラン)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
次に、下記の表4に示すガス混合比からなる原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室、第2の製膜室、および、第3の製膜室にそれぞれに独立制御できる二つの供給パイプから導入し、次いで、上記の厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムをライン速度300m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、第1層の膜厚40Å、第2層の膜厚45Å、第1層の膜厚45Å、総膜厚130Åからなる3層重層の珪素酸化物層を製膜化して、本発明にかかるバリア性フィルムを製造した。
First, as a substrate film, a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared, and a plasma chemical vapor phase in which two supply pipes capable of independently controlling the flow rate introduced into each chamber as shown in FIG. 2 were installed. Attached to the growth apparatus.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, HMDSO (hexamethyldisiloxane), TMOS (tetramethoxysilane) and TEOS (tetraethoxysilane), which are organic silicon compounds as raw materials, are volatilized in a raw material volatilization supply device, and oxygen gas supplied from the gas supply device The raw material gas was mixed with helium, which is an inert gas.
Next, a raw material gas having a gas mixing ratio shown in Table 4 below is used, and the raw material gas is respectively supplied to the first film forming chamber, the second film forming chamber, and the third film forming chamber. Introduced from two supply pipes that can be controlled independently, then, while feeding the above-mentioned 15 μm-thick biaxially stretched nylon 6 film at a line speed of 300 m / min, power was applied to the biaxially stretched nylon 6 having a thickness of 15 μm. On one corona-treated surface of the film, a three-layer silicon oxide layer comprising a first layer thickness of 40 mm, a second layer thickness of 45 mm, a first layer thickness of 45 mm, and a total film thickness of 130 mm. A barrier film according to the present invention was produced by forming a film.

(表4)
┌───┬───────────────────────────┐ │ │ 第1室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5:2.5:0.5 │ │第1室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第1室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TEOS │ 0.5:2.5:0.5 │ │第2室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第2室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TEOS │ 0.5:0:0.5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ 第3室の供給パイプ1 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5:2.5:0.5 │ │第3室├───────────┴───────────────┤ │ │ 第3室の供給パイプ2 │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ 製膜用モノマ−ガス │ ガス混合比(単位:slm) │ │ ├───────────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5:0:0.5 │ └───┴───────────┴───────────────┘
(Table 4)
┌───┬───────────────────────────┐┐ │ │ Supply pipe 1 of the first chamber │ │ ├────── ──────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixture ratio (unit: slm) │ │ ├─────── ────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5: 2.5: 0.5 │ │Room 1 ├──────── ───┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 in the first chamber │ │ ├ ───────────┬─────── ─────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼───────── ───────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ ├───┼───────────┴─ ─────────────┤ │ │ Supply pipe 1 of the second chamber │ │ ├ ───────────┬───────────── ───┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├───────────┼─────────────── ─┤ │ │ TEOS │ 0.5: 2.5: 0.5 │ │ Room 2 ├───────────┴─────────────── │ │ │ Supply pipe 2 of the second chamber │ │ ├───────────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit: slm) │ │ ├ ───────────┼───────────────┤ │ │ TEOS │ 0.5: 0: 0 .5 │ ├───┼───────────┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 1 │ │ ├ ───────────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixing ratio (unit : Slm) │ │ ├ ───────────┼───────────────┤ │ │ TMOS │ 0.5: 2.5: 0.5 │ │Room 3 ├───────────┴───────────────┤ │ │ Supply pipe 2 of room 3 │ │ ├───── ──────┬───────────────┤ │ │ Monomer gas for film formation │ Gas mixture ratio (unit: slm) │ │ ├─────── ────┼───────────────┤ │ │ HMDSO │ 0.5: 0: 0.5 │ └───┴────────── ─┴───────────────┘

次に、上記で製造したバリア性フィルムの珪素酸化物層の面に、上記の実施例8と同様にして、プラズマ処理面を形成し、次いで、該プラズマ処理面の面に、シランカップリング剤1.0重量%、シリカ粉末1.0重量%、ポリエステル系樹脂13〜15重量%、ニトロセルロ−ス3〜4重量量%、トルエン31〜38重量%、メチルエチルケトン(MEK)29〜30重量%、イソプロピ−ルアルコ−ル(IPA)15〜16重量%からなるポリウレタン系樹脂組成物を調製し、これを、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させ、上記のポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、本発明にかかるバリア性ナイロンフィルムを製造した。
更に、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムの2軸延伸ナイロン6フィルムの面に、上記と同様に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤をロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、接着剤層(乾燥膜厚、4.0g/m2 )を形成し、次いで、上記で形成した接着剤層の面に、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフィルムをドラウイミネ−トし、他方、上記で製造したバリア性ナイロンフィルムのコ−ティング薄膜の面に、2液硬化型のポリウレタン系接着剤を、上記と同様に、ロ−ルコ−ト法を利用してコ−ティングし、次いで、熱乾燥させて、接着剤層(乾燥膜厚、1.0g/m2 )を形成した。
しかる後、上記で形成した接着剤層の面に、低密度ポリエチレンを使用し、これを厚さ60μmに溶融押出コ−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
次に、上記の積層材を使用し、これを製袋機に装着して製袋し、三方シ−ル型のプラスチック製小袋を製造し、次いで、該そのプラスチック製小袋内に、ドレッシングを充填し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして内容物を充填包装した包装製品を製造した。 上記の包装製品は、バリア性に優れ、また、匂い等の漏れも認められず、保香性に優れ、長期間の保存、貯蔵性に優れ、かつ、流通適性にも優れている結果を得た。
Next, a plasma-treated surface is formed on the surface of the silicon oxide layer of the barrier film produced as described above in the same manner as in Example 8, and then a silane coupling agent is formed on the surface of the plasma-treated surface. 1.0 wt%, silica powder 1.0 wt%, polyester resin 13-15 wt%, nitrocellulose 3-4 wt%, toluene 31-38 wt%, methyl ethyl ketone (MEK) 29-30 wt%, A polyurethane-based resin composition comprising 15 to 16% by weight of isopropyl alcohol (IPA) was prepared, and this was coated using a roll coating method, followed by heat drying, A coating thin film (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ) was formed from the polyurethane resin composition to produce a barrier nylon film according to the present invention.
Further, a two-component curable polyurethane adhesive is coated on the surface of the biaxially stretched nylon 6 film of the barrier nylon film produced as described above using a roll coating method. Then, it is thermally dried to form an adhesive layer (dry film thickness, 4.0 g / m 2 ), and then a biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 20 μm is formed on the surface of the adhesive layer formed above. On the other hand, a two-component curable polyurethane adhesive is applied to the surface of the coating thin film of the barrier nylon film produced above using the roll coating method as described above. It was coated and then heat-dried to form an adhesive layer (dry film thickness, 1.0 g / m 2 ).
Thereafter, low-density polyethylene was used on the surface of the adhesive layer formed above, and this was melt-extruded to a thickness of 60 μm to produce a laminate according to the present invention.
Next, using the above laminated material, mounting it on a bag making machine to make a bag, manufacturing a three-sided seal type plastic sachet, then filling the plastic sachet with dressing Then, after that, the opening was heat sealed and a packaged product filled with the contents and packaged was manufactured. The above packaged product has excellent barrier properties, no odor leakage, excellent fragrance retention, long-term storage and storage properties, and excellent distribution suitability. It was.

上記の実施例2において、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用する代りに、その一方の面に、熱硬化型アクリル系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物をキスロ−ルコ−ト法でコ−ティングし、次いで、乾燥して、膜厚1μmのコ−ティング膜を形成した厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。   In Example 2 described above, instead of using a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm as the base film, a resin composition containing a thermosetting acrylic resin as a main component of the vehicle on one surface thereof Is coated by a kiss roll coating method and then dried to form a coating film having a thickness of 1 μm and a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is used. In the same manner as in Example 2, as in Example 2 above, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch according to the present invention were produced.

上記の実施例9において、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、その一方の面に、熱硬化型アクリル系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物をキスロ−ルコ−ト法でコ−ティングし、次いで、乾燥して、膜厚1μmのコ−ティング膜を形成した厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、その他は、上記の実施例9と全く同様にして、上記の実施例9と同様に、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋を製造した。   In Example 9 above, instead of using a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm as the base film, a thermosetting acrylic resin is used as the main component of the vehicle on one side of the base film. A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm formed by coating a resin composition is made by a kiss roll coating method and then dried to form a coating film having a thickness of 1 μm. In the same manner as in Example 9, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch according to the present invention were produced in the same manner as in Example 9.

(比較例1)
まず、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを準備し、これを図1に示すような3室からなるプラズマ化学気相成長装置に装着した。
次に、プラズマ化学気相成長装置のチャンバ−内を減圧した。
一方、原料である有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)を原料揮発供給装置おいて揮発させ、ガス供給装置から供給された酸素ガスおよび不活性ガスであるヘリウムと混合させて原料ガスとした。
第1の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm、スタンダ−ドリッタ−ミニット)とした。
なお、第2の製膜室、第3の製膜室は使用しなかった。
上記のような原料ガスを使用し、その原料ガスをそれぞれ第1の製膜室に導入し、次いで、上記の厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムをライン速度100m/minで搬送させながら、電力を印加させ、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムの一方のコロナ処理面の上に、膜厚130Åからなる1層の珪素酸化物層を製膜化して、バリア性フィルムを製造した。
以下、上記で製造したバリア性フィルムを使用し、上記の実施例1と全く同様にして、上記の実施例1と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 1)
First, a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was prepared as a substrate film, and this was mounted on a plasma chemical vapor deposition apparatus having three chambers as shown in FIG.
Next, the pressure in the chamber of the plasma chemical vapor deposition apparatus was reduced.
On the other hand, HMDSO (hexamethyldisiloxane), which is an organic silicon compound as a raw material, is volatilized in a raw material volatilization supply device and mixed with oxygen gas supplied from the gas supply device and helium, which is an inert gas, did.
As a raw material gas used in the first film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases was set to HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm, standard-driter-minit).
The second film forming chamber and the third film forming chamber were not used.
Using the raw material gas as described above, each of the raw material gases is introduced into the first film forming chamber, and then the above-mentioned biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm is conveyed at a line speed of 100 m / min. Electric power was applied to form a single silicon oxide layer having a thickness of 130 mm on one corona-treated surface of a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm to produce a barrier film.
Hereinafter, using the barrier film produced above, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch were produced in the same manner as in Example 1 above, in the same manner as in Example 1 above.

(比較例2)
上記の比較例1において、ポリウレタン系樹脂組成物によるコ−ティング薄膜を形成しなかった以外は、上記の上記の比較例1と全く同様にして、上記の実施例1と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 2)
In the above Comparative Example 1, except that the coating thin film made of the polyurethane resin composition was not formed, exactly the same as in the above Comparative Example 1, the same as in the above Example 1, a laminated material, A liquid-filled sachet was produced.

(比較例3)
上記の比較例1において、原料ガスとして、有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)を使用する代りに、有機珪素化合物であるTMOS(テトラメトキシシラン)を使用し、その他は、上記の比較例1と全く同様にして、上記の比較例1と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 1 above, instead of using HMDSO (hexamethyldisiloxane), which is an organosilicon compound, as the source gas, TMOS (tetramethoxysilane), which is an organosilicon compound, is used. In exactly the same manner as in Example 1, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch were produced in the same manner as in Comparative Example 1 above.

(比較例4)
上記の比較例1において、原料ガスとして、有機珪素化合物であるHMDSO(ヘキサメチルジシロキサン)を使用する代りに、有機珪素化合物であるTEOS(テトラエトキシシラン)を使用し、その他は、上記の比較例1と全く同様にして、上記の比較例1と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 4)
In Comparative Example 1 above, instead of using HMDSO (hexamethyldisiloxane), which is an organosilicon compound, as the source gas, TEOS (tetraethoxysilane), which is an organosilicon compound, is used. In exactly the same manner as in Example 1, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch were produced in the same manner as in Comparative Example 1 above.

(比較例5)
上記の実施例1において、第1の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm、スタンダ−ドリッタ−ミニット)とし、また、第2の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm)とすることの代りに、第1の製膜室で使用する原料ガス、および、第2の製膜室で使用する原料ガスとして共に、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm)とし、その他は、上記の実施例1と全く同様にして、上記の実施例1と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 5)
In the first embodiment, as the raw material gas used in the first film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gas is HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm, standard-driter-minit) In addition, as a raw material gas used in the second film forming chamber, instead of setting the mixing ratio of the raw material gases to HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm), As a raw material gas used in the film forming chamber and a raw material gas used in the second film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases is HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm) Otherwise, the laminated material and the liquid-filled packaging sachet were manufactured in the same manner as in Example 1 above, exactly as in Example 1 above.

(比較例6)
上記の実施例2において、第1の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm、スタンダ−ドリッタ−ミニット)とし、また、第2の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm)とし、更に、第3の製膜室で使用する原料ガスとして、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:0:1(単位;slm)とすることの代りに、第1の製膜室で使用する原料ガス、第2の製膜室で使用する原料ガス、および、第3の製膜室で使用する原料ガスとして共に、原料ガスの混合比を、HMDSO:O2 :He=1:10:1(単位;slm)とし、その他は、上記の実施例2と全く同様にして、上記の実施例2と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 6)
In the above Example 2, as a raw material gas used in the first film forming chamber, the mixing ratio of the raw material gases is HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm, standard-driter-minit) In addition, as a source gas used in the second film-forming chamber, the mixing ratio of the source gases is set to HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: slm). As a raw material gas used in the chamber, a raw material gas used in the first film forming chamber instead of setting the mixing ratio of the raw material gases to HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1 (unit: slm) , HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1 (unit: source gas used in the second film forming chamber and source gas used in the third film forming chamber) Slm), and the others are exactly the same as in Example 2 above, Similar to Example 2, laminate, to produce a liquid-filled packaging pouch.

(比較例7)
上記の比較例1において、基材フィルムとして、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用する代りに、基材フィルムとして、その一方の面に、熱硬化型アクリル系樹脂をビヒクルの主成分とする樹脂組成物をキスロ−ルコ−ト法でコ−ティングし、次いで、乾燥して、膜厚1μmのコ−ティング膜を形成した厚さ15μmの2軸延伸ナイロン6フィルムを使用し、その他は、上記の比較例1と全く同様にして、上記の比較例1と同様に、積層材、液体充填包装用小袋を製造した。
(Comparative Example 7)
In Comparative Example 1 described above, instead of using a biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm as a base film, a thermosetting acrylic resin is formed on one surface of the base film as a main component of the vehicle. A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm formed by coating a resin composition is made by a kiss roll coating method and then dried to form a coating film having a thickness of 1 μm. In the same manner as in Comparative Example 1, a laminated material and a liquid-filled packaging pouch were produced in the same manner as in Comparative Example 1 above.

(実験例1)
上記の実施例1〜13、および、比較例1〜7で製造した積層材、液体充填包装用小袋について、酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。
(1).酸素透過度の測定
これは、バリア性フィルムについて、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OX−TRAN2/20)〕にて測定した。
(2).水蒸気透過度の測定
これは、バリア性フィルムについて、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マトラン(PERMATRAN3/31)〕にて測定した。
上記の測定結果について、下記の表5に示す。
(Experimental example 1)
Oxygen permeability and water vapor permeability were measured for the laminated materials and liquid-filled packaging pouches produced in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 7.
(1). Measurement of Oxygen Permeability This is for a barrier film under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH on a measuring instrument manufactured by Mocon, USA [model name, OX-TRAN 2/20]. Measured.
(2). Measurement of water vapor permeability This is for a barrier film under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH on a measuring instrument manufactured by Mocon, USA [model name, Permatran 3/31]. Measured.
The measurement results are shown in Table 5 below.

(表5)
┌─────┬────────────┬────────────┐ │ │ 積層材 │ 液体充填包装用小袋 │ │ ├─────┬──────┼─────┬──────┤ │ │酸素透過度│水蒸気透過度│酸素透過度│水蒸気透過度│ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例1 │ 1.8 │ 6.7 │ 1.6 │ 2.3 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例2 │ 1.3 │ 4.9 │ 1.3 │ 1.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例3 │ 1.1 │ 5.4 │ 0.9 │ 1.9 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例4 │ 0.9 │ 7.5 │ 0.8 │ 2.1 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例5 │ 1.3 │ 6.8 │ 1.3 │ 2.3 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例6 │ 0.6 │ 5.5 │ 0.5 │ 1.6 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例7 │ 0.7 │ 5.2 │ 0.6 │ 1.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例8 │ 0.8 │ 5.8 │ 0.7 │ 1.7 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例9 │ 0.9 │ 6.1 │ 0.8 │ 1.9 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例10│ 0.7 │ 5.4 │ 0.6 │ 1.8 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例11│ 0.5 │ 4.8 │ 0.5 │ 1.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例12│ 1.5 │ 4.5 │ 1.4 │ 1.2 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │実施例13│ 0.8 │ 5.7 │ 0.8 │ 1.7 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例1 │ 3.2 │ 13.1 │ 3.0 │ 5.6 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例2 │ 3.3 │ 13.1 │ 3.2 │ 5.7 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例3 │ 2.7 │ 18.9 │ 2.5 │ 7.9 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例4 │ 3.0 │ 15.2 │ 3.0 │ 7.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例5 │ 2.0 │ 8.4 │ 1.6 │ 2.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例6 │ 1.9 │ 8.2 │ 1.2 │ 2.2 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │比較例7 │ 3.3 │ 12.5 │ 3.2 │ 5.4 │ └─────┴─────┴──────┴─────┴──────┘ 上記の表5において、酸素透過度の単位は、〔cc/m2 /day・23℃・90%RH〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔g/m2 /day・40℃・90%RH〕である。
(Table 5)
┌─────┬────────────┬────────────┐ │ │ Laminate │ Pouch for liquid filling │ │ ├──── ─┬──────┼─────┬──────┤ │ │ Oxygen permeability │ Water vapor permeability │ Oxygen permeability │ Water vapor permeability │ ├─────┼─── ──┼──────┼─────┼──────┤ │Example 1 │ 1.8 │ 6.7 │ 1.6 │ 2.3 │ ├ ────── ┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Example 2 │ 1.3 │ 4.9 │ 1.3 │ 1.5 │ ├─ ────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Example 3 │ 1.1 │ 5.4 │ 0.9 │ 1. 9 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Example 4 │ 0.9 │ 7.5 0.8 │ 2.1 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Example 5 │ 1.3 │ 6.8 │ 1.3 │ 2.3 │ ├─────┼─────┼─────┼─────┼──────┤ │Example 6 │ 0.6 │ 5.5 │ 0.5 │ 1.6 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │ │ Example 7 │ 0.7 │ 5.2 │ 0.6 │ 1.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼───── ──┤ │Example 8 │ 0.8 │ 5.8 │ 0.7 │ 1.7 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼ ──────┤ │Example 9 │ 0.9 │ 6.1 │ 0.8 │ 1.9 │ ├─────┼─────┼──────┼── ───┼──── ──┤ │Example 10│ 0.7 │ 5.4 │ 0.6 │ 1.8 │ ├ ─────┼─────┼──────┼─────┼ ──────┤ │Example 11│ 0.5 │ 4.8 │ 0.5 │ 1.5 │ ├─────┼─────┼──────┼── ───┼──────┤ │Example 12│ 1.5 │ 4.5 │ 1.4 │ 1.2 │ ├─────┼─────┼───── ─┼─────┼──────┤ │Example 13│ 0.8 │ 5.7 │ 0.8 │ 1.7 │ ├─────┼─────┼─ ─────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 1 │ 3.2 │ 13.1 │ 3.0 │ 5.6 │ ├─────┼─── ──┼──────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 2 │ 3.3 │ 13.1 │ 3.2 │ 5.7 │ ├ ───── ─────┼──────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 3 │ 2.7 │ 18.9 │ 2.5 │ 7.9 │ ├── ───┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 4 │ 3.0 │ 15.2 │ 3.0 │ 7.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 5 │ 2.0 │ 8.4 │ 1.6 │ 2.5 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 6 │ 1.9 │ 8.2 │ 1.2 │ 2.2 │ ├─────┼─────┼──────┼─────┼──────┤ │Comparative Example 7 │ 3.3 │ 12.5 │ 3.2 │ 5.4 │ └─────┴─────┴──────┴─────┴──────┘ Table 5 above In Units of oxygen permeability are [cc / m 2 / day · 23 ℃ · 90% RH ], the unit of water vapor transmission rate is [g / m 2 / day · 40 ℃ · 90% RH ].

上記の表5に示す結果より明らかなように、本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋は、酸素透過度および水蒸気透過度において優れているものであった。   As is clear from the results shown in Table 5 above, the laminated material and the liquid-filled packaging pouch according to the present invention were excellent in oxygen permeability and water vapor permeability.

(実験例2)
上記の実施例1〜13、および、比較例1〜7で製造した包装製品について、これをガラス瓶に入れ、蓋をし、40℃おオ−ブンにて4日間保存した。
その後、蓋を開け、匂いがあるか否かを人の五感で調べて、その保香性を測定した。
匂いが全く漏れない場合には、○とし、かすかに匂い場合には、△とし、かなり匂い場合には、×とした。
上記の結果を下記の表6に示す。
(Experimental example 2)
About the packaging product manufactured in said Examples 1-13 and Comparative Examples 1-7, this was put into the glass bottle, the lid | cover, and it preserve | saved at 40 degreeC oven for 4 days.
Thereafter, the lid was opened, and whether or not there was a smell was examined with human senses, and the perfume retention was measured.
When the smell did not leak at all, it was marked with ◯, when it smelled faint, it was marked with △, and when it smelled quite a bit, it was marked with ×.
The results are shown in Table 6 below.

(表6)
┌─────┬───────┐ │ │ 保 香 性 │ ├─────┼───────┤ │実施例1 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例2 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例3 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例4 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例5 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例6 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例7 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例8 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例9 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例10│ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例11│ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例12│ ○ │ ├─────┼───────┤ │実施例13│ ○ │ ├─────┼───────┤ │比較例1 │ × │ ├─────┼───────┤ │比較例2 │ × │ ├─────┼───────┤ │比較例3 │ × │ ├─────┼───────┤ │比較例4 │ △ │ ├─────┼───────┤ │比較例5 │ △ │ ├─────┼───────┤ │比較例6 │ △ │ ├─────┼───────┤ │比較例7 │ △ │ └─────┴───────┘
(Table 6)
┌ ─────┬───────┐ │ │ Aroma │ ├─────┼───────┤ │Example 1 │ ○ │ ├─────┼ ───────┤ │Example 2 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │Example 3 │ ○ │ ├─────┼────── ─┤ │Example 4 │ ○ │ ├────┼───────┤ │Example 5 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │Example 6 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │Example 7 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │Example 8 │ ○ │ ├── ───┼───────┤ │Example 9 │ ○ │ ├─────┼───────┤ │Example 10│ ○ │ ├ ─────┼── ─────┤ │Example 11│ ○ │ ├─────┼───────┤ │Example 12│ ○ │ ├────┼───── ──┤ │Example 13│ ○ │ ├ ───┼───────┤ │Comparative Example 1 │ × │ ├─────┼───────┤ │Comparative Example 2 │ × │ ├─────┼───────┤ │Comparative Example 3 │ × │ ├─────┼───────┤ │Comparative Example 4 │ △ │ ├─ ────┼───────┤ │Comparative Example 5 │ △ │ ├─────┼──────┤ │Comparative Example 6 │ △ │ ├─────┼─ ──────┤ │Comparative Example 7 │ △ │ └─────┴───────┘

上記の表6に示す結果より明らかなように、本発明にかかるバリア性フィルムを使用した本発明にかかる積層材は、保香性において優れているものであった。   As is clear from the results shown in Table 6 above, the laminated material according to the present invention using the barrier film according to the present invention was excellent in perfume retention.

(実験例3)
上記の実施例1〜13、および、比較例1〜7で製造した積層材、および、それを使用して製袋した液体充填包装用小袋について、ラミネ−ト強度を測定した。
これは、ラミネ−ト強度試験機〔オレエンテック株式会社製、機種名、テンシロン万能試験機〕を使用し、試料15mm幅×剥離角度90度、ロ−ドセル5kgF、剥離速度50mm/minの条件で行った。
また、引き裂き性試験は、積層材の端に5mmの切り込みを入れ、手で引き裂き、その引き裂き感を評価した。
引き裂き難い場合は、○とし、やや、引き裂かれる場合は、△とし、引き裂かれる場合は、×とした。
上記の結果について、下記の表7に示す。
(Experimental example 3)
The laminate strength was measured for the laminated materials produced in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 7, and the liquid-filled packaging pouches produced using the laminated materials.
This uses a laminating strength tester [Oleentech Co., Ltd., model name, Tensilon universal tester], under the conditions of 15 mm width x 90 ° peel angle, 5 kg load cell, 50 mm / min peel rate. went.
In the tearability test, a 5 mm incision was made at the end of the laminated material, and teared by hand, and the tearing feeling was evaluated.
When it was difficult to tear, it was marked with ◯, when it was torn somewhat, it was marked with Δ, and when it was torn, it was marked with ×.
The results are shown in Table 7 below.

(表7)
┌─────┬───────┬──────────┬─────┐ │ │ 積層材の │ 液体充填包装用 │引き裂き性│ │ │ラミネ−ト強度│小袋のラミネ−ト強度│ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例1 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例2 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例3 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例4 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例5 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例6 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例7 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例8 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例9 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例10│ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例11│ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例12│ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │実施例13│ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例1 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例2 │ 320 │ 315 │ × │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例3 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例4 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例5 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例6 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │比較例7 │ 剥離不可 │ 剥離不可 │ ○ │ └─────┴───────┴──────────┴─────┘ 上記の表7において、ラミネ−ト強度の単位は、〔gf/15mm〕である。
(Table 7)
┌─────┬───────┬──────────┬─────┐ │ │ Laminated material │ Liquid filling packaging │ Tearability │ │ │ Laminate Strength │ small bag laminating strength │ ├ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 1 │ Unpeelable │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 2 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 3 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─── ──┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 4 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├ ──────┼── ─────┼──────────┼─────┤ │Example 5 │ Unpeelable │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 6 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 7 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─── ──┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 8 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├ ──────┼── ─────┼──────────┼─────┤ │Example 9 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├ ─────┼─────── ┼──────────┼─────┤ │Example 10│ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──── ──────┼─────┤ │Example 11│ Unpeelable │ Unpeelable │ ○ │ ──── ──┼───────┼──────────┼─────┤ │Example 12│ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼── ─────┼──────────┼─────┤ │Example 13│ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├ ──────┼─────── ┼──────────┼─────┤ │Comparative example 1 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──── ──────┼─────┤ │Comparative Example 2 │ 320 │ 315 │ × │ ├─────┼───────┼──────────┼ ─────┤ │Comparative example 3 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├────┼───────┼──────────┼───── ┤ │Comparative example 4 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼────── ────┼─────┤ │Comparative example 5 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├─────┼───────┼──────────┼ ─────┤ │Comparative Example 6 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ ├────┼───────┼──────────┼────── │ │Comparative example 7 │ No peeling │ No peeling │ ○ │ └─────┴───────┴──────────┴─────┘ Table 7 above The unit of laminating strength is [gf / 15 mm].

上記の表7に示す結果より明らかなように、本発明にかかるバリア性フィルムを使用した本発明にかかる積層材、液体充填包装用小袋は、ラミネ−ト強度に優れ、また、引き裂き性においても、優れているものであった。   As is clear from the results shown in Table 7 above, the laminated material and the liquid-filled packaging pouch according to the present invention using the barrier film according to the present invention are excellent in laminating strength and also in tearability. It was excellent.

(実験例4)
上記の実施例2、および、比較例1で製造したバリア性フィルムにおいて、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に、珪素酸化物層を形成した後、その珪素酸化物層の深さ方向の構成成分の変化を測定した。
これは、珪素酸化物層を形成した厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムについて、X線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy:XPS)を用いて、珪素酸化物層の膜表面から深さ方向に元素分析を行い、その際に検出された珪素、酸素、および、炭素量を測定して評価した。
上記の結果について、下記の表8に示す。
また、実施例2、および、比較例1で製造したバリア性フィルムにおいて、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に、珪素酸化物層を形成した後、その珪素酸化物層を形成した厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムについて、Si−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収ピ−ク位置およびSi−CH3 伸縮振動に基づくIR吸収ピ−ク強度を測定した。
これは、珪素酸化物層を形成した厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムについて、多重反射測定装置(日本分光株式会社製、機種名、ATR−300/H)を備えたフ−リェ変換型赤外分光光度計(日本分光株式会社製、機種名、Herschel FT/IR−610)によって測定した。
なお、赤外吸収スペクトルにプリズムとしてゲルマニウム結晶を用い、入射角45度で測定した。
上記の結果について、下記の表8に示す。
(Experimental example 4)
In the barrier film produced in Example 2 and Comparative Example 1 above, after forming a silicon oxide layer on one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, the silicon oxide The change of the component in the depth direction of the layer was measured.
This is because a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm on which a silicon oxide layer is formed is measured from the film surface of the silicon oxide layer using an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Elemental analysis was performed in the direction, and the silicon, oxygen, and carbon contents detected at that time were measured and evaluated.
The results are shown in Table 8 below.
Further, in the barrier film produced in Example 2 and Comparative Example 1, a silicon oxide layer was formed on one surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, and then the silicon oxide Measurement of IR absorption peak position based on Si—O—Si stretching vibration and IR absorption peak strength based on Si—CH 3 stretching vibration of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm. did.
This is a 12-μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a silicon oxide layer is formed, equipped with a multiple reflection measuring device (manufactured by JASCO Corporation, model name, ATR-300 / H). It measured with the conversion type | mold infrared spectrophotometer (The JASCO Corporation make, model name, Herschel FT / IR-610).
The infrared absorption spectrum was measured at an incident angle of 45 degrees using a germanium crystal as a prism.
The results are shown in Table 8 below.

(表8)
┌───────┬──────────┬─────────┬──────┐ │ │ Si:O:C │Si−O−Siピ−│Si−CH3 │ │ │ │ ク位置〔cm-1〕│ 吸収強度│ ├─┬─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │1の層 │ │ │ │ │実│ (表層)│100:160:90│ 1038 │0.028 │ │施├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │例│2の層 │100:185:13│ 1065 │0.010 │ │2├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │3の層 │ │ │ │ │ │(基材側)│100:170:85│ 1040 │0.027 │ ├─┬─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │1の層 │ │ │ │ │比│ (表層)│100:180:17│ 1060 │0.012 │ │較├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │例│2の層 │100:185:15│ 1065 │0.011 │ │1├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │3の層 │ │ │ │ │ │(基材側)│100:188:15│ 1065 │0.012 │ └─┴─────┴──────────┴─────────┴──────┘
(Table 8)
┌───────┬──────────┬─────────┬──────┐ │ │ Si: O: C │Si-O-Si Pi-│Si-CH 3 │ │ │ │ Position (cm -1 ) │ Absorption Strength│ ├─┬─────┼──────────┼───────── ─┼──────┤ │ │1 layer │ │ │ │ │ Real │ (Surface) │100: 160: 90│ 1038 │0.028 │ │ ├ ──────┼──── ──────┼─────────┼──────┤ │Example│Layer 2 │100: 185: 13│ 1065 │0.010 │ │2├──── ─┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │3 layers │ │ │ │ │ │ (base material side) │100: 170 : 85│ 1040 │0.027 │ ├─┬─────┼──────────┼─ ───────┼──────┤ │ │1 layer │ │ │ │ │ ratio│ (surface) │100: 180: 17│ 1060 │0.012 │ │comparison──── ─┼──────────┼─────────┼──────┤ │Example│2 layers │100: 185: 15│ 1065 │0.011 │ │ 1├─────┼──────────┼─────────┼──────┤ │ │3 layers │ │ │ │ │ │ (base material Side) │100: 188: 15│1065 │0.012 │ └─┴─────┴──────────┴─────────┴────── ─┘

上記の表8に示す結果より、上記の実施例2、および、比較例1で製造したバリア性フィルムについて、そのバリア性層を構成する珪素酸化物層の深さ方向の構成成分の変化、および、Si−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収ピ−ク位置およびSi−CH3 伸縮振動に基づくIR吸収ピ−ク強度は、上記のとおりであった。 From the results shown in Table 8 above, regarding the barrier film produced in Example 2 and Comparative Example 1, the change in the constituent components in the depth direction of the silicon oxide layer constituting the barrier layer, and The IR absorption peak position based on the Si—O—Si stretching vibration and the IR absorption peak intensity based on the Si—CH 3 stretching vibration were as described above.

本発明は、ポリアミド系樹脂フィルムを基材フィルムとし、更に、バリア性層を構成する珪素酸化物層が、ポリアミド系樹脂フィルムとの密着性に優れていると共にその延展性、屈曲性、可撓性等に優れ、また、珪素酸化物層中にクラック発生の原因となる異物、塵埃等が混入することなく、かつ、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れていると共にそのガスバリア性の性能の低下も認められない極めて有用なバリア性フィルムをバリア性素材として使用した積層材およびそれを使用した液体充填包装用小袋に関するものである。   In the present invention, a polyamide-based resin film is used as a base film, and the silicon oxide layer constituting the barrier layer has excellent adhesion to the polyamide-based resin film, and its extensibility, flexibility, flexibility In addition, the silicon oxide layer is excellent in gas barrier properties that prevent the passage of oxygen gas, water vapor, and the like without introducing foreign matter, dust, or the like that causes cracks into the silicon oxide layer. The present invention relates to a laminated material using a very useful barrier film in which no deterioration in performance is observed as a barrier material and a liquid-filled packaging sachet using the same.

本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造装置の一例の概略の構成を示す概略的構成図である。It is a schematic block diagram which shows the schematic structure of an example of the manufacturing apparatus about the barrier film concerning this invention. 本発明にかかるバリア性フィルムについてその製造装置の一例の概略の構成を示す概略的構成図である。It is a schematic block diagram which shows the schematic structure of an example of the manufacturing apparatus about the barrier film concerning this invention. 本発明にかかるバリア性フィルムについてその層構成の一例を示す概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the layer structure about the barrier film concerning this invention. 図4は、図3に示すバリア性フィルムを使用して製造した本発明にかかる積層材についてその層構成の一例を示す概略的断面図である。4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the laminated material according to the present invention manufactured using the barrier film shown in FIG. 図5は、図4に示す積層材を使用して製袋した本発明にかかる液体充填包装用小袋についてその一例を示す概略的斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing an example of the liquid-filled packaging pouch according to the present invention, which is made using the laminated material shown in FIG. 図6は、図5に示す液体充填包装用小袋を使用し、これに内容物を充填包装して製造した本発明にかかる包装製品についてその一例を示す概略的斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing an example of the packaged product according to the present invention, which is manufactured by using the liquid-filled packaging pouch shown in FIG. 5 and filling and packaging the contents therein.

符号の説明Explanation of symbols

A バリア性フィルム
B 積層材
C 液体充填包装用小袋
D 包装製品
41 ポリアミド系樹脂フィルムからなる基材フィルム
42 バリア性層
42a 珪素酸化物層
42b 珪素酸化物層
42c 珪素酸化物層
51 コ−ティング膜
52 接着剤層
53 ヒ−トシ−ル性樹脂層
61 シ−ル部
62 開口部
63 液体状内容物
64 上方のシ−ル層
A Barrier film B Laminated material C Liquid-filled packaging sachet D Packaging product 41 Base film made of polyamide resin film 42 Barrier layer 42a Silicon oxide layer 42b Silicon oxide layer 42c Silicon oxide layer 51 Coating film 52 Adhesive Layer 53 Heat Seal Resin Layer 61 Seal Part 62 Opening 63 Liquid Content 64 Upper Seal Layer

Claims (18)

ポリアミド系樹脂フィルムと、該ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、少なくとも2室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した2以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した2層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層からなり、更に、該各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なることからなるバリア性フィルムのバリア性層の上に、少なくとも、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け、更に、該コ−ティング膜の上に、接着剤層を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けたことを特徴とする積層材。 It consists of a polyamide resin film and a barrier layer provided on one surface of the polyamide resin film, and the barrier layer uses at least two film forming chambers, and each chamber In addition, it was prepared by changing the mixing ratio of each gas component of the mixed gas composition for film formation containing at least one kind of organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas. Two or more film-forming mixed gas compositions are used, each of the film-forming mixed gas compositions is used to form two or more layers of silicon oxide layers formed by plasma enhanced chemical vapor deposition, Each of the silicon oxide layers contains carbon atoms in the film, and on the barrier layer of the barrier film formed by different content of the carbon atoms for each silicon oxide layer, At least a silane coupling agent and a filler A coating film made of a polyurethane-based resin composition or a polyester-based resin composition is provided, and a heat-seal resin layer is further provided on the coating film via an adhesive layer. A laminated material characterized by ポリアミド系樹脂フィルムが、その外層面上に、外装材を設けることを特徴とする上記の請求項1に記載する積装材。 The loading material according to claim 1, wherein the polyamide-based resin film is provided with an exterior material on an outer layer surface thereof. コ−ティング膜が、その膜面上に、印刷模様層を設けることを特徴とする上記の請求項1〜2のいずれか1項に記載する積層材。 The laminated material according to any one of claims 1 and 2, wherein the coating film is provided with a printed pattern layer on the film surface. コ−ティング膜とヒ−トシ−ル性樹脂層とが、その層間に、中間基材を設けることを特徴とする上記の請求項1〜3のいずれか1項に記載する積層材。 The laminated material according to any one of claims 1 to 3, wherein the coating film and the heat sealable resin layer are provided with an intermediate base material between the layers. ポリアミド系樹脂フィルムが、2軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムからなることを特徴とする上記の請求項1〜4のいずれか1項に記載する積層材。 The laminated material according to any one of claims 1 to 4, wherein the polyamide resin film is a biaxially stretched polyamide resin film. 有機珪素化合物が、1.1.3.3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、または、オクタメチルシクロテトラシロキサンの1種以上からなることを特徴とする上記の請求項1〜5のいずれか1項に記載する積層材。 Organosilicon compounds are 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenyl The above-mentioned, characterized by comprising one or more of silane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, or octamethylcyclotetrasiloxane The laminated material as described in any one of Claims 1-5. 不活性ガスが、アルゴンガス、または、ヘリウムガスからなることを特徴とする上記の請求項1〜6のいずれか1項に記載する積層材。 The laminate material according to any one of claims 1 to 6, wherein the inert gas is composed of argon gas or helium gas. 1の製膜用混合ガス組成物が、製膜用モノマ−ガス:酸素ガス:不活性ガス=1:0〜5:1(単位:slm、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。)のガス組成比からなることを特徴とする上記の請求項1〜7のいずれか1項に記載する積層材。 1 is a gas mixture of a gas composition monomer gas: oxygen gas: inert gas = 1: 0 to 5: 1 (unit: slm, abbreviation of standard-driter-minit). The laminate material according to any one of claims 1 to 7, wherein the laminate material has a composition ratio. 2の製膜用混合ガス組成物が、製膜用モノマ−ガス:酸素ガス:不活性ガス=1:6〜15:1(単位:slm、スタンダ−ドリッタ−ミニットの略である。)のガス組成比からなることを特徴とする上記の請求項1〜8のいずれか1項に記載する積層材。 The film forming mixed gas composition 2 is a gas of monomer gas for film formation: oxygen gas: inert gas = 1: 6 to 15: 1 (unit: slm, abbreviation of standard-driter-minit). The laminate material according to any one of claims 1 to 8, wherein the laminate material has a composition ratio. 珪素酸化物層は、Si原子数100に対しO原子数150〜200、C原子数50〜100の成分割合からなり、更に、1030cm-1〜1060cm-1の間にSi−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ、1274±4cm-1にSi−CH3 伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とする上記の請求項8に記載する積層材。 The silicon oxide layer has a component ratio of 150 to 200 O atoms and 50 to 100 C atoms with respect to 100 Si atoms, and further Si—O—Si stretching vibration between 1030 cm −1 to 1060 cm −1. The laminate according to claim 8, wherein the laminate material has IR absorption based on the above and IR absorption based on Si—CH 3 stretching vibration at 1274 ± 4 cm −1 . 珪素酸化物層は、Si原子数100に対しO原子数150〜200、C原子数50以下の成分割合からなり、更に、1045cm-1〜1075cm-1の間にSi−O−Si伸縮振動に基づくIR吸収があり、かつ、1274±4cm-1にSi−CH3 伸縮振動に基づくIR吸収があることを特徴とする上記の請求項9に記載する積層材。 The silicon oxide layer has a component ratio of 150 to 200 O atoms and 50 or less C atoms to 100 Si atoms, and further exhibits Si—O—Si stretching vibration between 1045 cm −1 to 1075 cm −1. The laminated material according to claim 9, wherein the laminated material has IR absorption based on IR absorption based on Si—CH 3 stretching vibration at 1274 ± 4 cm −1 . 珪素酸化物層が、第1層を膜厚30Å〜300Å、第2層を30Å〜300Åに調製して製膜した珪素酸化物層、または、第1層を膜厚20Å〜200Å、第2層を20Å〜200Å、第3層を20Å〜200Åに調製して製膜した珪素酸化物層からなることを特徴とする上記の請求項1〜11のいずれか1項に記載する積層材。 The silicon oxide layer is a silicon oxide layer prepared by forming a first layer with a thickness of 30 to 300 mm and a second layer with a thickness of 30 to 300 mm, or a first layer with a thickness of 20 to 200 mm, a second layer. The laminated material according to any one of claims 1 to 11, comprising a silicon oxide layer formed by preparing a film of 20 to 200 mm and a third layer of 20 to 200 mm. 珪素酸化物層が、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、その膜中の炭素含有量が膜表面から深さ方向に向かって増加していることを特徴とする上記の請求項1〜12のいずれか1項に記載する積層材。 The silicon oxide layer contains carbon atoms in the film, and the carbon content in the film increases in the depth direction from the film surface. 13. The laminated material according to any one of 12 above. プラズマ化学気相成長法が、低温プラズマ化学気相成長法からなることを特徴とする上記の請求項1〜13のいずれか1項に記載する積層材。 The laminated material according to any one of claims 1 to 13, wherein the plasma chemical vapor deposition method comprises a low temperature plasma chemical vapor deposition method. ポリアミド系樹脂フィルムと、該ポリアミド系樹脂フィルムの一方の面に設けたバリア性層とからなり、更に、該バリア性層は、少なくとも2室以上の製膜室を使用し、かつ、各室毎に、少なくとも、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマ−ガス、酸素ガス、および、不活性ガスを含有する製膜用混合ガス組成物の各ガス成分の混合比を変えて調製した2以上の製膜用混合ガス組成物を使用し、その各製膜用混合ガス組成物を使用して製膜した2層以上のプラズマ化学気相成長法による珪素酸化物層からなり、更に、該各珪素酸化物層は、その膜中に炭素原子を含有し、かつ、各珪素酸化物層毎に上記の炭素原子の含有量が異なることからなるバリア性フィルムのバリア性層の上に、少なくとも、シランカップリング剤と充填剤とを含むポリウレタン系樹脂組成物またはポリエステル系樹脂組成物によるコ−ティング膜を設け、更に、該コ−ティング膜の上に、接着剤層を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けた構成からなる積層材を使用し、そのヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向させて重ね合わせ、次いで、その外周周辺の端部をヒ−トシ−ルしてシ−ルを設けたことを特徴とする液体充填包装用小袋。 It consists of a polyamide resin film and a barrier layer provided on one surface of the polyamide resin film, and the barrier layer uses at least two film forming chambers, and each chamber In addition, it was prepared by changing the mixing ratio of each gas component of the mixed gas composition for film formation containing at least one kind of organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas. Two or more film-forming mixed gas compositions are used, each of the film-forming mixed gas compositions is used to form two or more layers of silicon oxide layers formed by plasma enhanced chemical vapor deposition, Each of the silicon oxide layers contains carbon atoms in the film, and on the barrier layer of the barrier film formed by different content of the carbon atoms for each silicon oxide layer, At least a silane coupling agent and a filler A coating film made of a polyurethane-based resin composition or a polyester-based resin composition is provided, and a heat-sealable resin layer is further provided on the coating film via an adhesive layer Using a laminated material made of the above, and making the heat-sealable resin layer face to face each other, and then heat-sealing the outer peripheral edge to provide a seal. A pouch for liquid-filled packaging. ポリアミド系樹脂フィルムが、その外層面上に、外装材を設けることを特徴とする上記の請求項15に記載する液体充填包装用小袋。 16. The liquid-filled packaging pouch according to claim 15, wherein the polyamide-based resin film is provided with an exterior material on the outer layer surface. コ−ティング膜が、その膜面上に、印刷模様層を設けることを特徴とする上記の請求項15〜16のいずれか1項に記載する液体充填包装用小袋。 17. The liquid-filled packaging pouch according to claim 15, wherein the coating film is provided with a printed pattern layer on the film surface. コ−ティング膜とヒ−トシ−ル性樹脂装とが、その層間に、中間基材を設けることを特徴とする上記の請求項15〜17のいずれか1項に記載する液体充填包装用小袋。 18. A sachet for liquid-filled packaging according to any one of claims 15 to 17, wherein the coating film and the heat-seal resin coating are provided with an intermediate substrate between the layers. .
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