JP2005077984A - Polymerizable composition and image recording material using the same - Google Patents

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JP2005077984A JP2003311254A JP2003311254A JP2005077984A JP 2005077984 A JP2005077984 A JP 2005077984A JP 2003311254 A JP2003311254 A JP 2003311254A JP 2003311254 A JP2003311254 A JP 2003311254A JP 2005077984 A JP2005077984 A JP 2005077984A
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Kazuto Shimada
和人 嶋田
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polymerizable composition having excellent alkali solubility in an unexposed part and causing no decrease in the alkali solubility with time even when the composition is stored in a severe atmosphere such as high temperature and high humidity, and to provide an image recording material having a negative recording layer using the above polymerizable composition. <P>SOLUTION: The composition contains: (A) a dye having absorption at 700 to 1,300 nm wavelength; (B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group; and (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、重合性組成物、及び該重合性組成物を記録層として用いた赤外線レーザーによる高感度で書きこみ可能な画像記録材料に関する。   The present invention relates to a polymerizable composition and an image recording material which can be written with high sensitivity by an infrared laser using the polymerizable composition as a recording layer.

近年におけるレーザーの発展は目ざましく、特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レーザーや半導体レーザーでは、高出力・小型化が進んでいる。したがって、コンピュータ等のディジタルデータから直接製版する際の露光光源として、これらのレーザーは非常に有用である。
このようなレーザーを露光光源として使用する画像記録媒体としては、光熱変換物質と、ラジカルを発生する熱重合開始剤と、熱重合性樹脂とを含む熱重合性記録層が知られている(例えば、特許文献1参照。)。
In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared region to the infrared region have been increasing in output and size. Therefore, these lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data such as a computer.
As an image recording medium using such a laser as an exposure light source, a thermopolymerizable recording layer containing a photothermal conversion substance, a thermal polymerization initiator that generates radicals, and a thermopolymerizable resin is known (for example, , See Patent Document 1).

通常、このような熱重合性記録層を構成するネガ型の画像記録材料は、光又は熱により発生したラジカルを開始剤として熱重合性樹脂の重合反応を生起させ、露光部を硬化させて画像部を形成する記録方式を利用している。
このようなネガ型の画像記録材料においては、色素(光熱変換物質)、熱重合開始剤又はその他の構成成分として、イオン性の素材や極性の高い化合物を添加して、反応性や検版性などの特性を改良することが可能であるが、これら高極性の化合物は、高温雰囲気下で保存した場合、併用されるバインダーや重合性化合物との間で所望されない相互作用を形成し、未露光部の現像液に対する溶解速度が低下して、通常の現像条件において残膜が発生しやすいといった問題を有していた。
Usually, a negative type image recording material constituting such a thermopolymerizable recording layer causes a polymerization reaction of a thermopolymerizable resin using a radical generated by light or heat as an initiator, and cures an exposed portion to form an image. The recording method for forming the part is used.
In such a negative type image recording material, an ionic material or a highly polar compound is added as a dye (photothermal conversion substance), a thermal polymerization initiator, or other constituents, and the reactivity and plate inspection properties are increased. It is possible to improve properties such as, but these highly polar compounds form undesired interactions with binders and polymerizable compounds used together when stored in a high temperature atmosphere, and are not exposed to light. The dissolution rate of the portion of the developer in the developing solution was lowered, and there was a problem that a residual film was likely to occur under normal development conditions.

例えば、高感度化と高耐刷とを達成するために、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、特定の波長(550〜850nm)に吸収を有する化合物と、ジアリールヨードニウム塩とを含有する重合性組成物(例えば、特許文献2参照。)や、オニウム塩とカルボン酸イオンを有する化合物とラジカルにより化学的、物理的特性が不可逆的に変化する感熱性組成物(例えば、特許文献3参照。)、オニウム塩とスルホンアミド共役イオンを有する化合物とラジカル又は酸により化学的、物理的特性が不可逆的に変化する感熱性組成物(例えば、特許文献4参照。)が知られている。しかし、これら高極性の化合物を含有する重合性組成物は、過酷な経時条件において他の成分との間に相互作用を形成し、アルカリ水溶液への溶解性が低下するといった問題があった。
特開平8−108621号公報 特公平7−103171号公報 特開2001−343742公報 特開2002−6482公報
For example, in order to achieve high sensitivity and high printing durability, it contains a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a compound having absorption at a specific wavelength (550 to 850 nm), and a diaryliodonium salt. Polymerizable composition (for example, refer to Patent Document 2) or a thermosensitive composition whose chemical and physical properties are irreversibly changed by a compound having an onium salt and a carboxylate ion and a radical (for example, refer to Patent Document 3) ), A thermosensitive composition (see, for example, Patent Document 4) in which chemical and physical properties are irreversibly changed by a compound having an onium salt and a sulfonamide conjugate ion and a radical or acid. However, the polymerizable composition containing these highly polar compounds has a problem that it forms an interaction with other components under severe aging conditions, and the solubility in an aqueous alkali solution is reduced.
JP-A-8-108621 Japanese Examined Patent Publication No. 7-103171 JP 2001-343742 A JP 2002-6482 A

本発明は上記問題点を考慮してなされたものであり、本発明の目的は、未露光部のアルカリ溶解性に優れ、高温高湿度などの厳しい雰囲気下で保存しても経時的なアルカリ溶解性の低下を生ずることがない重合性組成物、及び、そのような重合性組成物を用いたネガ型記録層を有する、ディスクリミネーションに優れた画像記録材料を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above-mentioned problems, and the object of the present invention is excellent in alkali solubility in unexposed areas, and it is possible to dissolve alkali over time even when stored in a severe atmosphere such as high temperature and high humidity. It is an object of the present invention to provide a polymerizable composition that does not cause deterioration of the property, and a negative recording layer using such a polymerizable composition, and an image recording material excellent in discrimination.

本発明者らは、鋭意検討の結果、重合性組成物の重合開始剤としてアルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤を用いることで、上記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by using a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group as the polymerization initiator of the polymerizable composition, and to complete the present invention. It came.

即ち、本発明の重合性組成物は、(A)波長700〜1300nmに吸収を有する色素と、(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、を含有することを特徴とする。
なお、本発明においては、上記(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤が、オニウム塩構造を有することが好ましく、(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤が、スルホニウム塩であることがより好ましく、さらに、(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤が、スルホニウムカチオンとスルホン酸アニオンとからなるスルホニウム塩であることが最も好ましい。
また、本発明の重合性組成物は、(D)バインダーポリマーを有することが好ましく、そのような(D)バインダーポリマーとしては、下記一般式(I)で表されるものがより好ましい。
That is, the polymerizable composition of the present invention comprises (A) a dye having absorption at a wavelength of 700 to 1300 nm, (B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group, and (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond. And containing.
In the present invention, the radical polymerization initiator (B) having an alkali-soluble group preferably has an onium salt structure, and the radical polymerization initiator (B) having an alkali-soluble group is a sulfonium salt. More preferably, (B) the radical polymerization initiator having an alkali-soluble group is most preferably a sulfonium salt comprising a sulfonium cation and a sulfonate anion.
Moreover, it is preferable that the polymeric composition of this invention has (D) binder polymer, and as such (D) binder polymer, what is represented by the following general formula (I) is more preferable.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

(一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群から選択される1以上の原子から構成された連結基を表し、その置換基を除いた原子数は2〜30である。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。) (In General Formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents one or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and a halogen atom. The number of atoms excluding the substituent is 2 to 30. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent group having 1 to 10 carbon atoms. And n represents an integer of 1 to 5.)

さらに、本発明の重合性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物を含有することが好ましい。   Furthermore, the polymerizable composition of the present invention preferably contains a compound represented by the following general formula (1).

Figure 2005077984
Figure 2005077984

(一般式(1)中、Aは芳香族基または複素環基を表す。R1またはR2はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。なお、R1とR2、R1およびR2のいずれかとX、R1およびR2のいずれかとA、AとXは互いに結合して環構造を形成してもよい。Xは−O−、−S−、−SO2−、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−、及び−C(R4)(R5)−から選択される2価の連結基を表し、R3、R4、R5はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。) (In the formula (1), A is the respective .R 1 or R 2 represents an aromatic group or a heterocyclic group independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. In addition, R 1 and R 2, R 1 and R 2 and X, R 1 and R 2 and A, A and X may be bonded to each other to form a ring structure, where X is —O—, —S—, —SO 2 —. , -NH -, - N (R 3) -, - CH 2 -, - CH (R 4) -, and -C (R 4) (R 5 ) - represents a divalent linking group selected from, R 3 , R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.)

また、本発明の画像記録材料は、支持体上に、前記重合性組成物を含有する層を有することを特徴とする。   The image recording material of the present invention is characterized by having a layer containing the polymerizable composition on a support.

本発明の作用は明確ではないが、以下のことが推測される。本発明の重合性組成物は、(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤(以下、適宜「特定開始剤」と称する)を用いることにより、特定開始剤自体が高い極性を示し、安定な層を形成しうるとともに、ラジカル重合開始剤の分子内に導入されたアルカリ可溶性基、例えば、酸性基又はその塩などの機能により、現像時にアルカリ水溶液に対する高い溶解性を示す。また、高温高湿などの厳しい条件下で保存した場合のアルカリ溶解性の低下を抑制することが可能となる。
さらに、本発明の好ましい態様においては、(D)バインダーとして、分子内に現像性の高い酸基を有する高分子化合物を用いることで強制経時におけるアルカリ溶解性の低下抑制効果がさらに高まるものと考えられる。
Although the operation of the present invention is not clear, the following is presumed. The polymerizable composition of the present invention uses (B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group (hereinafter referred to as “specific initiator” as appropriate), whereby the specific initiator itself exhibits high polarity and is stable. A layer can be formed, and it exhibits high solubility in an aqueous alkali solution during development due to the function of an alkali-soluble group such as an acidic group or a salt thereof introduced into the molecule of the radical polymerization initiator. In addition, it is possible to suppress a decrease in alkali solubility when stored under severe conditions such as high temperature and high humidity.
Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, it is considered that (D) a polymer compound having a highly developable acid group in the molecule is used as the binder to further enhance the effect of suppressing the decrease in alkali solubility during forced aging. It is done.

このような重合性組成物を平版印刷版原版の記録層として用いた場合、非画像部が良好なアルカリ現像性を発現するとともに、高温高湿などの厳しい条件下で保存した場合においてもアルカリ現像性が低下することなく、非画像部の残膜の発生が抑制されるものと考えられる。また、一般的にラジカル重合開始剤としてオニウム塩などの極性の高い化合物を用いた場合、該開始剤が、支持体であるアルミ基板等へ吸着して非画像部に残色を発生させる傾向があるが、ラジカル重合開始剤にアルカリ可溶性基を導入することにより、開始剤自体のアルカリ溶解性が向上して非画像部における汚れの発生が抑制され、優れたディスクリミネーションが得られるものと思われる。   When such a polymerizable composition is used as a recording layer of a lithographic printing plate precursor, the non-image area exhibits good alkali developability and is also developed even when stored under severe conditions such as high temperature and high humidity. It is considered that the generation of the remaining film in the non-image area is suppressed without lowering the property. In general, when a highly polar compound such as an onium salt is used as a radical polymerization initiator, the initiator tends to adsorb to an aluminum substrate or the like as a support to generate a residual color in a non-image area. However, by introducing an alkali-soluble group into the radical polymerization initiator, it is believed that the alkali solubility of the initiator itself is improved and the occurrence of stains in the non-image area is suppressed, and excellent discrimination is obtained. It is.

本発明によれば、未露光部のアルカリ溶解性に優れ、高温高湿度などの厳しい雰囲気下で保存しても経時的なアルカリ溶解性の低下を生ずることがない重合性組成物、及び、そのような重合性組成物を用いたネガ型記録層を有する、ディスクリミネーションに優れた画像記録材料を得ることができる。   According to the present invention, a polymerizable composition that is excellent in alkali solubility in an unexposed area and does not cause a decrease in alkali solubility over time even when stored in a severe atmosphere such as high temperature and high humidity, and its An image recording material having a negative recording layer using such a polymerizable composition and excellent in discrimination can be obtained.

[重合性組成物]
本発明の重合性組成物は、(A)波長700〜1300nmに吸収を有する色素と、(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、を含有することを特徴とする。以下、これらの各構成要素について詳細に説明する。
[Polymerizable composition]
The polymerizable composition of the present invention comprises (A) a dye having absorption at a wavelength of 700 to 1300 nm, (B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group, and (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond, It is characterized by containing. Hereinafter, each of these components will be described in detail.

〔(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤〕
本発明に用いられる(B)特定開始剤は、アルカリ可溶性基、具体的には、pKa12以下に解離性を有する酸基、及び、アルカリ水溶液との接触により化学反応が引き起こされて酸基となりうるアルカリ反応性基のうち少なくとも1つを有するものである。
また、このようなアルカリ可溶性基を有する特定開始剤は、本発明の効果の観点から、例えば、温度30℃、pH12のアルカリ水溶液1Lに10g以上溶解する化合物であることが好ましく、20g以上溶解する化合物であることがより好ましい。
[(B) Radical polymerization initiator having alkali-soluble group]
The (B) specific initiator used in the present invention may be an alkali-soluble group, specifically, an acid group having a dissociation property at a pKa of 12 or less, and an acid group by causing a chemical reaction by contact with an alkaline aqueous solution. Those having at least one of alkali-reactive groups.
In addition, the specific initiator having such an alkali-soluble group is preferably a compound that dissolves 10 g or more in 1 L of an alkaline aqueous solution at a temperature of 30 ° C. and a pH of 12, for example, from the viewpoint of the effect of the present invention, and dissolves 20 g or more. More preferably, it is a compound.

このようなpKa12以下に解離性を有する酸基としては、現像ダメージ抑制の観点から、pKa1〜11に解離性を有する酸基が好ましく、pKa3〜8に解離性を有する酸基であることが特に好ましい。具体的には、カルボキシ基、スルホン酸基、ホスホン酸基、フェノール基、スルフィン酸基、スルホンアミド基、βカルボニルケトン基、βカルボニルエステル基、チオール基、チオカルボニル基などが挙げられる。   As such an acid group having a dissociation property at pKa12 or lower, from the viewpoint of suppressing development damage, an acid group having dissociation property at pKa1 to 11 is preferable, and an acid group having dissociation property at pKa3 to 8 is particularly preferable. preferable. Specific examples include a carboxy group, a sulfonic acid group, a phosphonic acid group, a phenol group, a sulfinic acid group, a sulfonamide group, a β carbonyl ketone group, a β carbonyl ester group, a thiol group, and a thiocarbonyl group.

アルカリ反応性基としては、アルカリ水溶液と接触することにより加水分解して酸基となり、アルカリと中和反応しうる基を指す。例えば、エステル基が挙げられ、中でも、メチルエステル基、ハロゲン化アルキルエステル基、ベンジルエステル基、フェニルエステル基、アリルエステル基が現像性の面から好ましく、メチルエステル基が最も好ましい。   The alkali-reactive group refers to a group that can be hydrolyzed into an acid group by contact with an aqueous alkali solution and neutralize with an alkali. For example, an ester group may be mentioned. Among them, a methyl ester group, a halogenated alkyl ester group, a benzyl ester group, a phenyl ester group, and an allyl ester group are preferable from the viewpoint of developability, and a methyl ester group is most preferable.

本発明に用いられる(B)特定開始剤は、前記アルカリ可溶性基を有し、且つ、光又は熱或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、後述の(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の重合反応を開始・促進する化合物であれば特に制限はない。
このような特定開始剤の、前記アルカリ可溶性基を含まない母核構造としては、従来公知の熱重合開始剤、光重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などが挙げられ、例えば、本願出願人が先に提出した特願2003−202961明細書の段落番号[0052]〜[0080]に記載の化合物などが好適に用いられる。
具体的には、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物(例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等)などが挙げられ、中でも、反応性、安定性の面から、有機ハロゲン化化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が好ましく、スルホニウム塩が最も好ましい。スルホニウム塩の中で最も好ましくは、カチオン部にトリアリールスルホニウム塩構造を有し、少なくとも1つの電子吸引性基を有するものが挙げられる。さらに、カウンターアニオンは有機アニオンであることが好ましく、反応性、安定性の面からスルホン酸アニオンであることがより好ましい。
The (B) specific initiator used in the present invention has the alkali-soluble group and generates a radical by energy of light or heat or both, and has (C) an ethylenically unsaturated bond described later. If it is a compound which starts and accelerates | stimulates this polymerization reaction, there will be no restriction | limiting in particular.
Examples of the mother structure of the specific initiator that does not contain the alkali-soluble group include conventionally known thermal polymerization initiators, photopolymerization initiators, compounds having a bond with small bond dissociation energy, and the like. The compounds described in paragraphs [0052] to [0080] of Japanese Patent Application No. 2003-202961 previously filed by the applicant of the present application are preferably used.
Specifically, organic halogenated compounds, carbonyl compounds, organic peroxide compounds, azo polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, oxime ester compounds, oniums And salt compounds (for example, iodonium salt, sulfonium salt, diazonium salt, pyridinium salt, etc.). Among them, from the viewpoint of reactivity and stability, organic halogenated compounds, iodonium salts, sulfonium salts are preferable, and sulfonium salts are preferable. Most preferred. Most preferred among the sulfonium salts are those having a triarylsulfonium salt structure in the cation moiety and having at least one electron-withdrawing group. Furthermore, the counter anion is preferably an organic anion, and more preferably a sulfonate anion from the viewpoint of reactivity and stability.

本発明に係る特定開始剤は、このような一般的なラジカル重合開始剤に、アルカリ可溶性基が導入されたものであればよい。
前記一般的なラジカル重合開始剤としてイオン性のものを用いた場合、アルカリ可溶性基はカチオン部位にあっても、アニオン部位にあってもよく、さらにその両方にあってもよい。カチオン部位に有することの好ましいアルカリ可溶性基としては、フェノール基、カルボキシ基が挙げられ、アニオン部位に有することの好ましいアルカリ可溶性基としては、エステル基、カルボキシ基、フェノール基が挙げられ、耐刷性の観点からは、エステル基、中でもメチルエステル基が最も好ましい。
また、本発明に係る特定開始剤としてオニウム塩を用いた場合には、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等のオニウム塩形成に必要なアニオン構造以外に、少なくとも1つ以上のアルカリ可溶性基を有する。
以下、本発明に係る特定開始剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The specific initiator according to the present invention is not particularly limited as long as an alkali-soluble group is introduced into such a general radical polymerization initiator.
When an ionic one is used as the general radical polymerization initiator, the alkali-soluble group may be in the cation site, in the anion site, or in both of them. Preferable alkali-soluble groups possessed at the cation moiety include phenol groups and carboxy groups, and preferred alkali-soluble groups possessed at the anion moiety include ester groups, carboxy groups, and phenol groups. From this point of view, an ester group, particularly a methyl ester group is most preferable.
In addition, when an onium salt is used as the specific initiator according to the present invention, at least one alkali-soluble component other than an anion structure necessary for onium salt formation such as iodonium salt, sulfonium salt, diazonium salt, pyridinium salt, etc. Has a group.
Hereinafter, although the specific example of the specific initiator which concerns on this invention is shown, this invention is not limited to these.

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本発明に係る特定開始剤は、単独、又は、2種以上を併用して用いることができる。
本発明の重合性組成物中に含まれる、特定開始剤の含有量としては、重合性組成物全固形分中、0.1〜30質量%であることが好ましく、1〜20質量%であることがより好ましく、2〜10質量%であることが最も好ましい。
また、本発明の重合性組成物には、前記特定開始剤以外の、他のラジカル重合開始剤を併用してもよい。併用可能な他のラジカル重合開始剤としては、前記特定開始剤の説明において、アルカリ可溶性基を含まない母核構造として挙げた、一般的なラジカル重合開始剤を挙げることができ、その含有量としては、特定開始剤を含む全ラジカル重合開始剤中0〜50質量%であることが好ましく、0〜30質量%であることがより好ましく、0〜15質量%であることが最も好ましい。
The specific initiator which concerns on this invention can be used individually or in combination of 2 or more types.
As content of the specific initiator contained in the polymeric composition of this invention, it is preferable that it is 0.1-30 mass% in polymeric composition total solid, and is 1-20 mass%. More preferably, the content is 2 to 10% by mass.
Moreover, you may use together other radical polymerization initiators other than the said specific initiator with the polymeric composition of this invention. As other radical polymerization initiators that can be used in combination, in the description of the specific initiator, the general radical polymerization initiator mentioned as the mother core structure not containing an alkali-soluble group can be mentioned, and the content thereof Is preferably 0 to 50% by mass, more preferably 0 to 30% by mass, and most preferably 0 to 15% by mass in the total radical polymerization initiator including the specific initiator.

〔(A)波長700〜1300nmに吸収を有する色素〕
本発明に用いられる(A)波長700〜1300nmに吸収を有する色素(以下、適宜「赤外線吸収剤」と称する)としては、波長700〜1300に吸収極大を有する化合物であることが好ましく、入手容易な高出力レーザーへの適合性の観点から、波長760〜1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性の染料又は顔料であることが好ましい。このような赤外線吸収剤を添加することで、本発明の重合性組成物は、赤外線波長領域に感応性を有することになる。
[(A) Dye having absorption at a wavelength of 700 to 1300 nm]
The (A) dye having absorption at a wavelength of 700 to 1300 nm (hereinafter referred to as “infrared absorber” as appropriate) used in the present invention is preferably a compound having an absorption maximum at a wavelength of 700 to 1300, and is easily available. From the viewpoint of suitability for a high-power laser, it is preferably an infrared-absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm. By adding such an infrared absorber, the polymerizable composition of the present invention has sensitivity in the infrared wavelength region.

染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の染料が挙げられる。   As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes, oxonol dyes And dyes such as diimonium dyes, aminium dyes, and croconium dyes.

好ましい染料としては、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59−84356号、特開昭59−202829号、特開昭60−78787号等に記載されているシアニン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−181690号、特開昭58−194595号等に記載されているメチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58−224793号、特開昭59−48187号、特開昭59−73996号、特開昭60−52940号、特開昭60−63744号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−112792号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げることができる。   Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829, JP-A-60-78787, and the like. Methine dyes described in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59- 48187, JP-A 59-73996, JP-A 60-52940, JP-A 60-63744, etc., naphthoquinone dyes, JP-A 58-112792, etc. And cyanine dyes described in British Patent 434,875.

また、米国特許第5,156,938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第3,881,924号記載の置換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同58−220143号、同59−41363号、同59−84248号、同59−84249号、同59−146063号、同59−146061号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−19702号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。   Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .

また、染料として好ましい別の例として米国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
また、本願出願人が先に提出した特願2003−202961明細書に記載されている有機溶媒及びアルカリ水溶液に可溶である色素も挙げることができる。
Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described in U.S. Pat. No. 4,756,993 as formulas (I) and (II).
Moreover, the pigment | dye soluble in the organic solvent and alkaline aqueous solution which are described in Japanese Patent Application No. 2003-202961 which the applicant of this application submitted previously can also be mentioned.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明の感光性樹脂組成物中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため更に好ましい。   Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes. Furthermore, the dyes represented by the following general formulas (a) to (e) are preferable because of excellent photothermal conversion efficiency, and the cyanine dye represented by the following general formula (a) is particularly preferable in the photosensitive resin composition of the present invention. When it is used, it is more preferable because it gives high polymerization activity and is excellent in stability and economy.

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一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 In formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -NPh 2, X 2 -L 1 or a group shown below. Here, X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. Indicates a hydrogen group. Here, the hetero atom represents N, S, O, a halogen atom, or Se.

Figure 2005077984
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前記式中、Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the above formula, Xa - has Za described later - is defined as in, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom.

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring or It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合は、Za-は必要ない。好ましいZa-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halogen ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, a hexagonal salt, in view of the storage stability of the recording layer coating solution. Fluorophosphate ions and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開2001−133969公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−40638公報の段落番号[0012]〜[0038]、特願2002−23360公報の段落番号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969, Examples thereof include those described in JP-A-2002-40638, paragraph numbers [0012] to [0038], and Japanese Patent Application No. 2002-23360, paragraph numbers [0012] to [0023].

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前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。 In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents are bonded to each other to form a ring structure. Also good. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni + , K + , Li + ) and the like. R 9 to R 14 and R 15 to R 20 are each independently a hydrogen atom or halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group Or a substituent selected from amino groups, or a combination of two or three of these, and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), those in which L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms and those in which R 9 to R 14 and R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms are easily available. From the viewpoint of the effect.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.

Figure 2005077984
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前記一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Za-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In the general formula (c), Y 3 and Y 4 each represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R 21 to R 24 and R 25 to R 28 may be the same or different, and are each a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thiol group, Represents a group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. Further, wherein Za - include a counter anion, Za in the general formula (a) - it is synonymous.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2005077984
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前記一般式(d)中、R29ないしR31は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0ないし4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合して環を形成しても良く、さらに、R33或いはR34が複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互いに結合して環を形成してもよい。X1及びX2は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X1及びX2の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般式(a)におけるZa-と同義である。 In the general formula (d), R 29 to R 31 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 33 and R 34 each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. R 29 and R 30 , or R 31 and R 32 may be bonded to each other to form a ring, and R 29 and / or R 30 is R 33 and R 31 and / or R 32 is R 34 A ring may be bonded to each other, and when there are a plurality of R 33 or R 34 , R 33 or R 34 may be bonded to each other to form a ring. X 1 and X 2 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and at least one of X 1 and X 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group. Zc represents a counter anion and has the same meaning as Za in the general formula (a).

本発明において、好適に用いることのできる一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.

Figure 2005077984
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前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞれ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましい。 In the general formula (e), R 35 to R 50 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a hydroxyl group, or a carbonyl group that may have a substituent. Group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group, amino group, and onium salt structure. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein are IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, second Three-period transition metals and lanthanoid elements can be mentioned, among which copper, magnesium, iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。   In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.

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本発明において赤外線吸収剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。   Examples of pigments used as infrared absorbers in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology”. (CMC Publishing, published in 1986) and “Printing Ink Technology”, published by CMC Publishing, published in 1984).

顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。   Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.

これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.

顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μmの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径がこの範囲内において、本発明の重合性組成物は、該重合性組成物を平版印刷版原版の記録層に適用した場合の、分散物の画像記録層塗布液中での安定性、及び、画像記録層の均一性に優れる。   The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. When the particle size of the pigment is within this range, the polymerizable composition of the present invention is stable when the polymerizable composition is applied to the recording layer of the lithographic printing plate precursor in the image recording layer coating solution. And excellent uniformity of the image recording layer.

顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されている。   As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).

本発明における(A)赤外線吸収剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用することもできる。
また、このような赤外線吸収剤としては、シアニン色素が好ましい。
感度の観点からは、一般式(a)で示されるシアニン色素がより好ましく、一般式(a)で示されるシアニン色素の中でも、X1が−NPh2又はX2−L1であるシアニン色素が好ましく、−NPh2を有するシアニン色素がさらに好ましい。加えて、現像性の観点から、特願2003−202961明細書に記載の色素も同様に好ましい。
また、両末端のインドレニン部位に、電子吸引性基又は重原子含有置換基を有するシアニン色素も好ましく、例えば、特願2001−6323明細書中に記載のものが好適に用いられる。最も好ましくは、X1が−NPh2であり、両末端のインドレニン部位に電子吸引性基を有するシアニン色素である。
(A) Infrared absorber in this invention may use only 1 type, and can also use 2 or more types together.
Moreover, as such an infrared absorber, a cyanine dye is preferable.
From the viewpoint of sensitivity, the cyanine dye represented by the general formula (a) is more preferable, and among the cyanine dyes represented by the general formula (a), a cyanine dye where X 1 is —NPh 2 or X 2 -L 1 is used. Preferably, a cyanine dye having -NPh 2 is more preferable. In addition, from the viewpoint of developability, the dyes described in Japanese Patent Application No. 2003-202961 are also preferred.
Further, cyanine dyes having an electron-withdrawing group or a heavy atom-containing substituent at both indolenine sites are also preferable. For example, those described in the specification of Japanese Patent Application No. 2001-6323 are preferably used. Most preferably, X 1 is —NPh 2 , and a cyanine dye having an electron-withdrawing group at both indolenine sites.

これらの顔料もしくは染料を併用する場合、重合性組成物全固形分に対して0.01〜50質量%、好ましくは0.1〜15質量%、特に、染料の場合0.5〜15質量%、好ましくは1〜10質量%、顔料の場合0.1〜15質量%、好ましくは1〜10質量%の割合で添加することができる。この範囲内において、本発明の重合性組成物は、組成物の均一性に優れ、高感度で硬化し、且つ、優れた皮膜特性を達成する。   When these pigments or dyes are used in combination, 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 15% by mass, particularly 0.5 to 15% by mass in the case of a dye, based on the total solid content of the polymerizable composition. In the case of a pigment, it can be added in a proportion of 0.1 to 15% by mass, preferably 1 to 10% by mass. Within this range, the polymerizable composition of the present invention has excellent composition uniformity, cures with high sensitivity, and achieves excellent film properties.

〔(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物〕
本発明に使用される(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物(以下、適宜「重合性化合物」と称する)は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくはま2個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態を持つものを包含する。
[(C) Compound having an ethylenically unsaturated bond]
The compound (C) having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter referred to as “polymerizable compound” as appropriate) used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond. And is preferably selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These include, for example, those having chemical forms such as monomers, prepolymers, that is, dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and copolymers thereof.

モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアナート類、エポキシ類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。   Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), and esters and amides thereof. In this case, an ester of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, or an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound is used. In addition, unsaturated carboxylic acid ester having a nucleophilic substituent such as hydroxyl group, amino group, mercapto group, amide and monofunctional or polyfunctional isocyanate, addition reaction product of epoxy, monofunctional or A dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used.

また、イソシアナート基や、エポキシ基、等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。   In addition, an unsaturated carboxylic acid ester having an electrophilic substituent such as an isocyanate group or an epoxy group, an addition reaction product of an amide with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol, halogen A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide with a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol having a leaving group such as a group or a tosyloxy group is also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー卜、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビト一ルペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、2,2−ビス[4−(アクリロキシジエトキシ)フェニル]プロパン、ポリプロピレングリコールジアクリレート等がある。   Specific examples of the monomer of an ester of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate , Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) phenyl] propane, polypropylene glycol diacrylate, and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。   Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2-hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレ
ングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate And sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
Examples of isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。   Examples of maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

その他のエステルの例として、例えば、特公昭46−27926号公報、特公昭51−47334号公報、特開昭57−196231号公報に記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59−5240号公報、特開昭59−5241号公報、特開平2−226149号公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−165613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
Examples of other esters include aliphatic alcohol esters described in JP-B-46-27926, JP-B-51-47334, JP-A-57-196231, and JP-A-59-5240. And those having an aromatic skeleton described in JP-A-59-5241, JP-A-2-226149, and those containing an amino group described in JP-A-1-165613. Used.
Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54−21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
Specific examples of amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Examples of other preferable amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.

また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭48−41708号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式(g)で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。   In addition, urethane-based addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction of isocyanate and hydroxyl group are also suitable, and specific examples thereof include, for example, one molecule described in JP-B-48-41708. A vinyl urethane containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following general formula (g) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups. Compounds and the like.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

前記一般式(g)中、R及びR’は、各々独立に、水素原子又はCH3を表す。
また、特開昭51−37193号、特公平2−32293号、特公平2−16765号の各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58−49860号、特公昭56−17654号、特公昭62−39417、特公昭62−39418号の各公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
In the general formula (g), R and R ′ each independently represents a hydrogen atom or CH 3 .
Further, urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654 And urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418.

更に、特開昭63−277653号、特開昭63−260909号、特開平1−105238号の各公報に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによっては、非常に硬化反応速度に優れた重合性組成物を得ることができる。   Furthermore, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Depending on the case, a polymerizable composition having an excellent curing reaction rate can be obtained.

その他の例としては、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46−43946号、特公平1−40337号、特公平1−40336号の各公報に記載の特定の不飽和化合物や、特開平2−25493号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61−22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Other examples include polyester acrylates, epoxy resins and (meth) acrylic acid as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490. Mention may be made of polyfunctional acrylates and methacrylates such as reacted epoxy acrylates. Further, specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, JP-B-1-40336, vinylphosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493, and the like Can also be mentioned. In some cases, a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used. Furthermore, Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

これらの、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物について、どのような構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。感光スピードの点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感光性と強度との両方を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合物は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合がある。   Details of how to use these compounds (C) having an ethylenically unsaturated bond, such as what structure to use, whether to use alone or in combination, and how much is added, are the final photosensitive materials It can be set arbitrarily according to the performance design. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of photosensitive speed, a structure having a high unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable, and further, different functional numbers and different polymerizable groups (for example, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, styrenic compound, vinyl ether). It is also effective to adjust both photosensitivity and strength by using a compound of the type). A compound having a large molecular weight or a compound having a high hydrophobicity is not preferable in terms of development speed and precipitation in a developing solution, although it is excellent in photosensitive speed and film strength.

(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、組成物の粘着性による製造工程上の問題(例えば、感材成分の転写、粘着に由来する製造不良)や、平版印刷版原版とした場合、現像液からの析出が生じる等の問題を生じ得る。これらの観点から、本発明の重合性組成物における(C)成分は、これを平版印刷版原版の記録層に用いる場合も同様に、重合性組成物全固形分に対して、20〜70質量%が好ましく、25〜50質量%がより好ましい。
また、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物は、1種単独で用いてもよいし、2種以上併用してもよい。
(C) Regarding the compounding ratio of the compound having an ethylenically unsaturated bond, a larger amount is advantageous in terms of sensitivity, but if it is too much, an undesirable phase separation occurs or a production process due to the adhesiveness of the composition The above problems (for example, defective production due to transfer of photosensitive material components and adhesion) and problems such as precipitation from a developer may occur when a lithographic printing plate precursor is used. From these viewpoints, the component (C) in the polymerizable composition of the present invention is similarly 20 to 70 mass with respect to the total solid content of the polymerizable composition when it is used for the recording layer of the lithographic printing plate precursor. % Is preferable, and 25 to 50% by mass is more preferable.
Moreover, (C) the compound which has an ethylenically unsaturated bond may be used individually by 1 type, and may be used together 2 or more types.

また、平版印刷版原版に用いる場合、記録層中の他の成分(例えば、バインダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分散性に対しても、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させ得ることがある。   In addition, when used for a lithographic printing plate precursor, (C) ethylenically unsaturated bond also has compatibility and dispersibility with other components in the recording layer (for example, binder polymer, initiator, colorant, etc.). The selection and use method of a compound having a low molecular weight is an important factor. For example, the compatibility may be improved by using a low-purity compound or using two or more kinds in combination.

〔(D)バインダーポリマー〕
本発明の重合性組成物には(D)バインダーポリマーを含有することが好ましい。(D)バインダーポリマーとしては、線状有機高分子重合体を用いることが好ましい。このような「線状有機高分子重合体」としては、どれを使用しても構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水或いは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば、特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているもの、及び、本願出願人が先に提案した特願2002−287920号明細書に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸共重合体、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。
[(D) Binder polymer]
The polymerizable composition of the present invention preferably contains (D) a binder polymer. (D) It is preferable to use a linear organic polymer as the binder polymer. Any such “linear organic polymer” may be used. Preferably, a linear organic high molecular weight polymer that is water-soluble or weakly alkaline water-developable and that is soluble or swellable in weakly alkaline water is selected. The linear organic high molecular polymer is selected and used not only as a film-forming agent for the composition but also according to its use as water, weak alkaline water or an organic solvent developer. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development is possible. Examples of such a linear organic polymer include addition polymers having a carboxylic acid group in the side chain, such as JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, JP-A-54-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836, JP-A-59-71048, and the special features previously proposed by the applicant of the present application. Those described in Japanese Patent Application No. 2002-287920, that is, a methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, and a partially esterified malein Examples include acid copolymers, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid copolymers, and 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid copolymers. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid group in the side chain. In addition, those obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group are useful.

中でも、現像液によるダメージ抑制の観点から、(D)バインダーポリマーとして、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸共重合体、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸共重合体等の特願2002−287920号明細書に記載されている、下記一般式(I)で表される構造単位を有するポリマーを含有することが好ましい。   Among them, from the viewpoint of suppressing damage by the developer, Japanese Patent Application No. 2002-287920 (D) binder polymer such as 2-methacryloyloxyethyl succinic acid copolymer, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid copolymer, etc. It is preferable to contain the polymer which has the structural unit represented by the following general formula (I) described in the specification.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

(一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群から選択される1以上の原子から構成された連結基を表し、置換基を除いた原子数2〜30である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。)
上記一般式(I)において、R2で表される連結基が、アルキレン構造を有すること、又は、アルキレン構造がエステル結合を介して連結された構造を有することがより好ましい。
(In General Formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents one or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and a halogen atom. And represents a linking group having 2 to 30 atoms excluding a substituent, A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or 1 to 10 carbon atoms. Represents a monovalent hydrocarbon group, and n represents an integer of 1 to 5.)
In the above general formula (I), it is more preferable that the linking group represented by R 2 has an alkylene structure or a structure in which the alkylene structure is linked via an ester bond.

以下、この一般式(I)で表される構造単位について詳細に説明する。
一般式(I)におけるR1は、水素原子又はメチル基を表すが、特にメチル基が好ましい。
一般式(I)におけるR2で表される連結基は、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群から選択される1以上の原子から構成された連結基を表すもので、その置換基を除いた原子数は2〜30である。具体的には、アルキレン、置換アルキレン、アリーレン、置換アリーレンなどが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合やエステル結合で複数連結された構造を有していてもよい。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
Hereinafter, the structural unit represented by the general formula (I) will be described in detail.
R 1 in the general formula (I) represents a hydrogen atom or a methyl group, and a methyl group is particularly preferable.
The linking group represented by R 2 in the general formula (I) represents a linking group composed of one or more atoms selected from the group consisting of a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom. And the number of atoms excluding the substituent is 2-30. Specific examples include alkylene, substituted alkylene, arylene, substituted arylene, and the like, and a structure in which a plurality of these divalent groups are linked by an amide bond or an ester bond may be used.
Examples of the linking group having a chain structure include ethylene and propylene. A structure in which these alkylenes are linked via an ester bond can also be exemplified as a preferable example.

この中でも、一般式(I)におけるR2で表される連結基は、炭素原子数3から30までの脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。より具体的には、任意の置換基によって一個以上置換されていてもよいシクロプロパン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、ジシクロヘキシル、ターシクロヘキシル、ノルボルナン等の脂肪族環状構造を有する化合物を構成する任意の炭素原子上の水素原子を(n+1)個除き、(n+1)価の炭化水素基としたものを挙げることができる。また、R2は、置換基を含めて炭素数3から30であることが好ましい。 Among these, the linking group represented by R 2 in the general formula (I) is preferably an (n + 1) -valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure having 3 to 30 carbon atoms. More specifically, a compound having an aliphatic cyclic structure such as cyclopropane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, cyclodecane, dicyclohexyl, tercyclohexyl, norbornane and the like, which may be substituted by one or more arbitrary substituents And (n + 1) valent hydrocarbon groups by removing (n + 1) hydrogen atoms on an arbitrary carbon atom constituting. R 2 preferably has 3 to 30 carbon atoms including a substituent.

脂肪族環状構造を構成する化合物の任意の炭素原子は、窒素原子、酸素原子、又は硫黄原子から選ばれるヘテロ原子で、一個以上置き換えられていてもよい。耐刷性の点で、R2は縮合多環脂肪族炭化水素、橋架け環脂肪族炭化水素、スピロ脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素環集合(複数の環が結合又は連結基でつながったもの)等、2個以上の環を含有してなる炭素原子数5から30までの置換基を有していてもよい脂肪族環状構造を有する(n+1)価の炭化水素基であることが好ましい。この場合も炭素数は置換基が有する炭素原子を含めてのものである。 One or more arbitrary carbon atoms of the compound constituting the aliphatic cyclic structure may be replaced with a heteroatom selected from a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom. In terms of printing durability, R 2 represents a condensed polycyclic aliphatic hydrocarbon, a bridged cyclic aliphatic hydrocarbon, a spiro aliphatic hydrocarbon, an aliphatic hydrocarbon ring assembly (a plurality of rings are connected by a bond or a linking group). A (n + 1) valent hydrocarbon group having an aliphatic cyclic structure which may have a substituent of 5 to 30 carbon atoms containing two or more rings. . Also in this case, the carbon number includes the carbon atom of the substituent.

2で表される連結基としては、更に、原子数が5〜10のものが好ましく、構造的には、鎖状構造であって、その構造中にエステル結合を有するものや、前記の如き環状構造を有するものが好ましい。 As the linking group represented by R 2 , those having 5 to 10 atoms are further preferable, and structurally a chain structure having an ester bond in the structure, Those having a cyclic structure are preferred.

2で表される連結基に導入可能な置換基としては、水素を除く1価の非金属原子団を挙げることができ、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、N−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルスルファモイル基(−SO2NHSO2(aryl))及びその共役塩基基、N−アルキルスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(alkyl))及びその共役塩基基、N−アリールスルホニルカルバモイル基(−CONHSO2(aryl))及びその共役塩基基、アルコキシシリル基(−Si(Oalkyl)3)、アリーロキシシリル基(−Si(Oaryl)3)、ヒドロキシシリル基(−Si(OH)3)及びその共役塩基基、ホスホノ基(−PO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基(−OPO32)及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルボリル基(−B(alkyl)2)、ジアリールボリル基(−B(aryl)2)、アルキルアリールボリル基(−B(alkyl)(aryl))、ジヒドロキシボリル基(−B(OH)2)及びその共役塩基基、アルキルヒドロキシボリル基(−B(alkyl)(OH))及びその共役塩基基、アリールヒドロキシボリル基(−B(aryl)(OH))及びその共役塩基基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。 Examples of the substituent that can be introduced into the linking group represented by R 2 include monovalent nonmetallic atomic groups other than hydrogen, such as halogen atoms (—F, —Br, —Cl, —I), hydroxyl groups. Group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-arylamino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N- Diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy group, alkylsulfoxy , Arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-aryl Ureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N ′ -Alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N ' -Aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido group, N', N'-diaryl-N-arylureido group, N'-al Kill-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group and its conjugate base group, Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, Alkylsulfinyl group An arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugated base group, alkoxy sulfonyl group, aryloxy sulfonyl group, sulfinamoyl group, N- alkylsulfinamoyl group, N, N- Dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N -Dialkylsulfamoyl group, N-arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, N-acylsulfamoyl group and its conjugate base group, N- alkylsulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 alkyl)) and its conjugated base group, N- aryl sulfonylsulfamoyl group (-SO 2 NHSO 2 (aryl) ) and its conjugated base group, N- alkylsulfonylcarbamoyl group (-CONHSO 2 (alkyl)) and its conjugate Base group, N-arylsulfonylcarbamoyl group (—CONHSO 2 (aryl)) and its conjugate base group, alkoxysilyl group (—Si (Oalkyl) 3 ), aryloxysilyl group (—Si (Oaryl) 3 ), hydroxysilyl Group (—Si (OH) 3 ) and its conjugate base group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group, dialkylphosphono group (—PO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphono group (— PO 3 (aryl) 2), alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )) , Monoalkylphosphono group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group, monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) And its conjugate base group, dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 (aryl) 2 ), alkylarylphosphonooxy group (—OPO 3 (alkyl) ( aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group, monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group, cyano group, nitro group, group, (2 -B (alkyl)) dialkyl boryl group, Jiariruboriru group (-B (aryl) 2), alkyl aryl boryl -B (alkyl) (aryl)) , dihydroxy boryl group (-B (OH) 2) and its conjugated base group, an alkyl hydroxy boryl group (-B (alkyl) (OH) ) and its conjugated base group, an aryl hydroxy boryl And the group (—B (aryl) (OH)) and its conjugate base group, aryl group, alkenyl group and alkynyl group.

例えば本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の記録層として用いた場合の、記録層の設計にもよるが、水素結合可能な水素原子を有する置換基や、特に、カルボン酸よりも酸解離定数(pKa)が小さい酸性を有する置換基は、耐刷性を下げる傾向にあるので好ましくない。一方、ハロゲン原子や、炭化水素基(アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基)、アルコキシ基、アリーロキシ基などの疎水性置換基は、耐刷を向上する傾向にあるのでより好ましく、特に、環状構造がシクロペンタンやシクロヘキサン等の6員環以下の単環脂肪族炭化水素である場合には、このような疎水性の置換基を有していることが好ましい。これら置換基は可能であるならば、置換基同士、又は置換している炭化水素基と結合して環を形成してもよく、置換基は更に置換されていてもよい。   For example, when the polymerizable composition of the present invention is used as a recording layer of a lithographic printing plate precursor, depending on the design of the recording layer, a substituent having a hydrogen atom capable of hydrogen bonding, particularly an acid rather than a carboxylic acid. Substituents having an acidity with a small dissociation constant (pKa) are not preferred because they tend to lower the printing durability. On the other hand, hydrophobic substituents such as halogen atoms, hydrocarbon groups (alkyl groups, aryl groups, alkenyl groups, alkynyl groups), alkoxy groups, aryloxy groups and the like are more preferable because they tend to improve printing durability. When the cyclic structure is a monocyclic aliphatic hydrocarbon having 6 or less members such as cyclopentane or cyclohexane, it preferably has such a hydrophobic substituent. If possible, these substituents may be bonded to each other or with a substituted hydrocarbon group to form a ring, and the substituent may be further substituted.

一般式(I)におけるAが−NR3−である場合のR3は、水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。このR3で表される炭素数1〜10までの一価の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等の炭素数1〜10までのアリール基、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数1〜10までのヘテロアリール基、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数1〜10までのアルキニル基が挙げられる。R3が有してもよい置換基としては、R2が導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、R3の炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
一般式(I)におけるAは、合成が容易であることから、酸素原子又は−NH−であることが好ましい。
R 3 in the case where A in the general formula (I) is —NR 3 — represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 3 include an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, and an alkynyl group.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, 1 carbon number such as tert-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-adamantyl group, 2-norbornyl group Up to 10 linear, branched or cyclic alkyl groups.
Specific examples of the aryl group include carbon having one heteroatom selected from the group consisting of an aryl group having 1 to 10 carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, and an indenyl group, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Examples include heteroaryl groups of 1 to 10, such as furyl, thienyl, pyrrolyl, pyridyl, and quinolyl groups.
Specific examples of the alkenyl group include those having 1 to 10 carbon atoms such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-cyclopentenyl group, 1-cyclohexenyl group and the like. A linear, branched, or cyclic alkenyl group is mentioned.
Specific examples of the alkynyl group include alkynyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, and 1-octynyl group. The substituent that R 3 may have is the same as those exemplified as the substituent that R 2 can introduce. However, the carbon number of R < 3 > is 1-10 including the carbon number of a substituent.
A in the general formula (I) is preferably an oxygen atom or —NH— because synthesis is easy.

一般式(I)におけるnは、1〜5の整数を表し、耐刷の点で好ましくは1である。   N in the general formula (I) represents an integer of 1 to 5, and is preferably 1 in terms of printing durability.

以下に、本発明に特に好適なバインダーポリマーを構成する、一般式(I)で表される構造単位の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。   Although the preferable specific example of the structural unit represented by general formula (I) which comprises the binder polymer especially suitable for this invention below is shown, it is not limited to these.

Figure 2005077984
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一般式(I)で表される構造単位は、バインダーポリマー中に1種類のみを有していてもよいし、異なる2種類以上を有していてもよい。即ち、本発明における好ましいバインダーポリマーとしては、一般式(I)で表される構造単位のみからなるポリマーであってもよいが、他の共重合成分と組み合わされたコポリマーとして使用されることが一般的である。コポリマーにおける一般式(I)で表される構造単位の総含有量は、その構造や、重合性組成物の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。   The structural unit represented by the general formula (I) may have only one type in the binder polymer, or may have two or more different types. That is, the preferred binder polymer in the present invention may be a polymer composed only of the structural unit represented by the general formula (I), but is generally used as a copolymer combined with other copolymerization components. Is. The total content of the structural unit represented by the general formula (I) in the copolymer is appropriately determined depending on the structure, the design of the polymerizable composition, and the like, but preferably 1 to 99 with respect to the total molar amount of the polymer component. It is contained in the range of mol%, more preferably 5 to 40 mol%, still more preferably 5 to 20 mol%.

コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   As a copolymerization component in the case of using as a copolymer, a conventionally well-known thing can be used without a restriction | limiting, if it is a monomer which can be radically polymerized. Specific examples include monomers described in “Polymer Data Handbook—Basic Edition” (Edition of Polymer Society, Bafukan, 1986). One type of such copolymerization component may be used, or two or more types may be used in combination.

前記各バインダーポリマーの中でも、特に、〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体、特開2000−131837公報、同2002−62648公報、同2000−187322公報、或いは、前記特願2002−287920号明細書に記載されているようなアクリル基、メタクリル基、アリル基を含有するポリマー等が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適である。
中でも特に、前記一般式(I)で表される構造単位と、下記一般式(II)〜(IV)で表される構造のラジカル重合性基(炭素−炭素二重結合)と、を有するポリマーが最も好ましい。
Among the above binder polymers, in particular, [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other addition polymerizable vinyl monomer as required] copolymer, JP-A Nos. 2000-131837 and 2002-62648. A polymer containing an acrylic group, a methacryl group or an allyl group as described in JP 2000-187322 A or Japanese Patent Application No. 2002-287920 has a balance of film strength, sensitivity, and developability. It is excellent and suitable.
In particular, a polymer having a structural unit represented by the general formula (I) and a radical polymerizable group (carbon-carbon double bond) having a structure represented by the following general formulas (II) to (IV) Is most preferred.

Figure 2005077984
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一般式(II)〜(IV)中、R4〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表す。X、Yは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、又はN−R15を表し、Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R15又はフェニレン基を表す。ここで、R15は、水素原子、又は1価の有機基を表す。 In general formulas (II) to (IV), R 4 to R 14 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. X and Y each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or N—R 15 , and Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R 15, or a phenylene group. Here, R 15 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

前記一般式(II)において、R4〜R6は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表すが、R4としては、水素原子、又は置換基を有してもよいアルキル基など有機基が挙げられ、中でも具体的には、水素原子、メチル基、メチルアルコキシ基、メチルエステル基が好ましい。また、R5、R6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、これらの基に導入し得る置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
Xは、酸素原子、硫黄原子、又は、−N−R15を表し、ここで、R15としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
In the general formula (II), R 4 to R 6 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, and R 4 represents a hydrogen atom or an alkyl which may have a substituent. An organic group such as a group can be mentioned, and specifically, a hydrogen atom, a methyl group, a methylalkoxy group, and a methyl ester group are preferable. R 5 and R 6 may each independently have a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, a dialkylamino group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, or a substituent. Alkyl group, aryl group which may have a substituent, alkoxy group which may have a substituent, aryloxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, substituted An arylamino group that may have a group, an alkylsulfonyl group that may have a substituent, an arylsulfonyl group that may have a substituent, and the like, among them, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group An alkyl group which may have a substituent and an aryl group which may have a substituent are preferable.
Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropyloxycarbonyl group, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
X represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 15 , where R 15 includes an alkyl group which may have a substituent.

前記一般式(III)において、R7〜R11は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表すが、R7〜R11は、例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、これらの基に導入し得る置換基としては、一般式(II)において導入し得る置換基として挙げたものが例示される。
Yは、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R15を表す。R15としては、一般式(II)におけるのと同様のものが挙げられる。
In the general formula (III), R 7 to R 11 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent, and R 7 to R 11 are, for example, a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, Dialkylamino group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, sulfo group, nitro group, cyano group, optionally substituted alkyl group, optionally substituted aryl group, optionally substituted An alkoxy group, an optionally substituted aryloxy group, an optionally substituted alkylamino group, an optionally substituted arylamino group, an optionally substituted alkylsulfonyl group And an arylsulfonyl group which may have a substituent, among others, a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group which may have a substituent, and an aryl which may have a substituent It is preferred.
Here, examples of the substituent that can be introduced into these groups include those listed as substituents that can be introduced in the general formula (II).
Y represents an oxygen atom, a sulfur atom, or —N—R 15 . Examples of R 15 include the same as those in general formula (II).

前記一般式(IV)において、R12〜R14は、それぞれ独立に、水素原子、又は1価の置換基を表すが、具体的には例えば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、中でも、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基が好ましい。
ここで、これらの基に導入し得る置換基としては、これらの基に導入し得る置換基としては、一般式(II)において導入し得る置換基として挙げたものが例示される。
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R15又はフェニレン基を表す。R15としては、一般式(II)におけるのと同様のものが挙げられる。
In the general formula (IV), R 12 to R 14 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. Specific examples thereof include a hydrogen atom, a halogen atom, an amino group, and a dialkylamino group. A carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a sulfo group, a nitro group, a cyano group, an alkyl group which may have a substituent, an aryl group which may have a substituent, an alkoxy group which may have a substituent, Aryloxy group which may have a substituent, alkylamino group which may have a substituent, arylamino group which may have a substituent, alkylsulfonyl group which may have a substituent, substituent An arylsulfonyl group that may have a hydrogen atom, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkyl group that may have a substituent, and an aryl group that may have a substituent. Masui.
Here, as the substituent that can be introduced into these groups, examples of the substituent that can be introduced into these groups include those listed as the substituents that can be introduced in the general formula (II).
Z represents an oxygen atom, a sulfur atom, —N—R 15 or a phenylene group. Examples of R 15 include the same as those in general formula (II).

これらのラジカル重合性基の中でも、前記一般式(II)及び(III)で表される構造を有するラジカル重合性基であることが好ましい。   Among these radical polymerizable groups, a radical polymerizable group having a structure represented by the general formulas (II) and (III) is preferable.

また、その他のバインダーポリマーとして、特公平7−12004号、特公平7−120041号、特公平7−120042号、特公平8−12424号、特開昭63−287944号、特開昭63−287947号、特開平1−271741号、特願平10−116232号等の各公報に記載される、酸基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
また、特開平11−171907号公報に記載のアミド基を有するバインダーポリマーは優れた現像性と膜強度をあわせもっており、このバインダーポリマーもまた、本発明に適用することができる。
Other binder polymers include JP-B Nos. 7-12004, 7-120041, 7-120042, 8-12424, JP-A 63-287944, and JP-A 63-287947. No. 1, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-271741, Japanese Patent Application No. 10-116232, etc., the urethane-based binder polymer containing an acid group is very excellent in strength. It is advantageous in terms of aptitude.
Further, the binder polymer having an amide group described in JP-A-11-171907 has excellent developability and film strength, and this binder polymer can also be applied to the present invention.

更に、この他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また、硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
これらの線状有機高分子重合体は全重合性組成物中に任意な量を混和させることができる。しかし、その混和量が90質量%を超える場合には形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85質量%である。また、上述した(C)重合性化合物と線状有機高分子重合体は、質量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。
In addition, polyvinyl pyrrolidone, polyethylene oxide, and the like are useful as the water-soluble linear organic polymer. In addition, in order to increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon, polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin, and the like are also useful.
These linear organic high molecular polymers can be mixed in an arbitrary amount in the total polymerizable composition. However, when the blending amount exceeds 90% by mass, a preferable result is not given in terms of the image strength to be formed. Preferably it is 30-85 mass%. Moreover, it is preferable that the above-mentioned (C) polymerizable compound and the linear organic polymer are in the range of 1/9 to 7/3 by mass ratio.

このような、各バインダーポリマーは、単独で使用してもよいし、2種以上を混合して使用することもできる。   Each of these binder polymers may be used alone or in combination of two or more.

本発明における(D)バインダーポリマーの分子量は、画像形成性や耐刷性の観点から適宜決定されるが、通常、好ましい分子量としては、2,000〜1,000,000、より好ましくは5,000〜500,000、更に好ましくは10,000〜200,000の範囲である。   The molecular weight of the (D) binder polymer in the present invention is appropriately determined from the viewpoints of image formability and printing durability, but usually the preferred molecular weight is 2,000 to 1,000,000, more preferably 5, The range is from 000 to 500,000, more preferably from 10,000 to 200,000.

本発明における(D)バインダーポリマーとしては、実質的に水に不溶でアルカリ水溶液に可溶なものが用いられる。このため、現像液として、環境上好ましくない有機溶剤を用いないか若しくは非常に少ない使用量に制限できる。このような(D)バインダーポリマーの酸価(ポリマー1gあたりの酸含率を化学等量数で表したもの)と分子量は画像強度と現像性の観点から適宜選択される。好ましい酸価は、0.4〜3.0meq/gであり、好ましい分子量は2000から50万の範囲で、より好ましくは、酸価が0.6〜2.0、分子量が1万から30万の範囲である。   As the binder polymer (D) in the present invention, a binder polymer that is substantially insoluble in water and soluble in an alkaline aqueous solution is used. For this reason, the organic solvent which is not environmentally preferable is not used as a developing solution, or it can restrict | limit to the very small usage-amount. The acid value of the (D) binder polymer (the acid content per gram of the polymer expressed as a chemical equivalent number) and the molecular weight are appropriately selected from the viewpoint of image strength and developability. The preferred acid value is 0.4 to 3.0 meq / g, the preferred molecular weight is in the range of 2000 to 500,000, more preferably the acid value is 0.6 to 2.0, and the molecular weight is 10,000 to 300,000. Range.

〔(E)一般式(1)で表される化合物〕
本発明の重合性組成物には、下記一般式(1)で表される化合物(以下、適宜「モノカルボン酸化合物」と称する)を添加することが好ましい。このような化合物を重合性化合物中に添加することで、ラジカル重合開始剤の分解率を向上させたり、さらに、発生した重合開始ラジカルや重合成長ラジカルが、モノカルボン酸化合物にラジカル連鎖移動することで、重合性化合物の重合反応を促進したりするものと考えられる。また、このような化合物を添加することで、本来不十分であったラジカル重合系感材の保存安定性が向上するといった効果を奏する。
[(E) Compound represented by general formula (1)]
It is preferable to add a compound represented by the following general formula (1) (hereinafter, appropriately referred to as “monocarboxylic acid compound”) to the polymerizable composition of the present invention. By adding such a compound to the polymerizable compound, the decomposition rate of the radical polymerization initiator can be improved, and further, the generated polymerization initiation radical or polymerization growth radical can undergo radical chain transfer to the monocarboxylic acid compound. It is considered that the polymerization reaction of the polymerizable compound is accelerated. Further, by adding such a compound, there is an effect that the storage stability of the radical polymerization type light-sensitive material, which was originally insufficient, is improved.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

一般式(1)中、Aは芳香族基または複素環基を表す。R1およびR2はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。なお、R1とR2、R1およびR2のいずれかとX、R1およびR2のいずれかとA、AとXは互いに結合して環構造を形成していてもよい。Xは、−O−、−S−、−SO2−、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−及び−C(R4)(R5)−から選択される2価の連結基を表し、R3、R4またはR5はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。 In general formula (1), A represents an aromatic group or a heterocyclic group. R 1 and R 2 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. R 1 and R 2 , R 1 and R 2 and X, R 1 and R 2 and A, A and X may be bonded to each other to form a ring structure. X is —O—, —S—, —SO 2 —, —NH—, —N (R 3 ) —, —CH 2 —, —CH (R 4 ) — and —C (R 4 ) (R 5 )-Represents a divalent linking group selected from R, R 3 , R 4 or R 5 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.

ここで、一般式(1)中、Aで表される芳香族基としては、ベンゼン環、2個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものなどが挙げられる。具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
また、芳香族基は置換基を有していてもよく、そのような置換基を有する芳香族基としては、後述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基を有するものが挙げられる。なお、ここで導入される好ましい置換基の例としては後述のアルキル基、置換アルキル基、及び、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
Here, in the general formula (1), the aromatic group represented by A includes a benzene ring, two to three benzene rings forming a condensed ring, and a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring condensed. Examples include those that form a ring. Specific examples include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
In addition, the aromatic group may have a substituent, and as the aromatic group having such a substituent, a monovalent other than a hydrogen atom is used as a substituent on a ring-forming carbon atom of an aryl group described later. And those having a group consisting of a nonmetallic atomic group. In addition, as an example of the preferable substituent introduce | transduced here, what was shown as a substituent in the below-mentioned alkyl group, a substituted alkyl group, and a substituted alkyl group can be mentioned.

Aで表される複素環基としては、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、モルホリン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基、等が挙げられる。
また、複素環基は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、後述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては後述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
As the heterocyclic group represented by A, a pyrrole ring group, a furan ring group, a thiophene ring group, a benzopyrrole ring group, a benzofuran ring group, a benzothiophene ring group, a pyrazole ring group, an isoxazole ring group, an isothiazole ring group, Indazole ring group, benzisoxazole ring group, benzoisothiazole ring group, imidazole ring group, oxazole ring group, thiazole ring group, benzimidazole ring group, benzoxazole ring group, benzothiazole ring group, pyridine ring group, quinoline ring Group, isoquinoline ring group, pyridazine ring group, pyrimidine ring group, pyrazine ring group, phthalazine ring group, quinazoline ring group, quinoxaline ring group, acylidene ring group, phenanthridine ring group, carbazole ring group, purine ring group, pyran ring Group, piperidine ring group, piperazine ring group, morpholine ring group, indole ring group, Ndorijin ring group, a chromene ring group, a cinnoline ring group, an acridine ring group, a phenothiazine ring group, a tetrazole ring group, a triazine ring group, and the like.
Further, the heterocyclic group may have a substituent, and as such a substituent, a monovalent non-metallic atomic group excluding a hydrogen atom as a substituent on a ring-forming carbon atom of an aryl group described later. Those having a group consisting of: Examples of preferred substituents include the alkyl groups, substituted alkyl groups described below, and those shown as substituents in the substituted alkyl group.

次に、一般式(1)中、R1およびR2で表される一価の置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアミノ基、アルコキシカルボニル基、水酸基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。 Next, as the monovalent substituent represented by R 1 and R 2 in the general formula (1), a halogen atom, an amino group which may have a substituent, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, an ether group, Examples include a thiol group, a thioether group, a silyl group, a nitro group, and a cyano group, and an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, and a heterocyclic group, each of which may have a substituent.

そのようなアルキル基としては炭素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキル基がより好ましい。   Examples of such an alkyl group include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group. Group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t Examples include -butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, and 2-norbornyl group. Of these, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

このようなアルキル基が有することのできる置換基としては、水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、   As the substituent that such an alkyl group may have, a group consisting of a monovalent non-metallic atomic group excluding a hydrogen atom is used, and preferable examples include halogen atoms (—F, —Br, —Cl, -I), hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, alkyldithio group, aryldithio group, amino group, N-alkylamino group, N, N-dialkylamino group, N-aryl Amino group, N, N-diarylamino group, N-alkyl-N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N-arylcarba Iroxy group, alkylsulfoxy group, arylsulfoxy group, acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkyl Ureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N -Alkylureido group, N'-alkyl-N-arylureido group, N ', N'-dialkyl-N-alkylureido group, N', N'-dialkyl-N-arylureido group, N'-aryl-N -Alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N ', N'-diaryl-N-alkylureido Group, N ′, N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonyl Amino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-ary Roxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N- Diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N -Arylcarbamoyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group,

アリールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)およびその共役塩基基(スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基(−PO32)およびその共役塩基基(ホスホナト基と称す)、ジアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl)2)「alkyl=アルキル基、以下同」、ジアリールホスホノ基(−PO3(aryl)2)「aryl=アリール基、以下同」、アルキルアリールホスホノ基(−PO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノ基(−PO3(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナト基と称す)、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナト基と称す)、ホスホノオキシ基(−OPO32)およびその共役塩基基(ホスホナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl)2)、ジアリールホスホノオキシ基(−OPO3(aryl)2)、アルキルアリールホスホノオキシ基(−OPO3(alkyl)(aryl))、モノアルキルホスホノオキシ基(−OPO3H(alkyl))およびその共役塩基基(アルキルホスホナトオキシ基と称す)、モノアリールホスホノオキシ基(−OPO3H(aryl))およびその共役塩基基(アリールホスホナトオキシ基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基等が挙げられる。 Arylsulfonyl group, sulfo group (—SO 3 H) and its conjugate base group (referred to as sulfonate group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkyls Rufiinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N- dialkylsulfamoyl group, N- aryl sulfamoyl group, N, N- diaryl sulfamoyl group, N- alkyl -N- arylsulfamoyl group, a phosphono group (-PO 3 H 2) and its conjugated base group (referred to as phosphonato group), dialkylphosphono group (-PO 3 (alkyl) 2) wherein "alk l = alkyl group, hereinafter the "diarylphosphono group (-PO3 (aryl) 2)" aryl = aryl group, hereinafter the "alkylaryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl Phosphono group (—PO 3 (alkyl)) and its conjugate base group (referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (arylphosphonate group and ), Phosphonooxy group (—OPO 3 H 2 ) and its conjugate base group (referred to as phosphonatoxy group), dialkylphosphonooxy group (—OPO 3 H (alkyl) 2 ), diarylphosphonooxy group (—OPO 3 ( aryl) 2), alkylaryl phosphono group (-OPO 3 (alkyl) (aryl )), monoalkyl phosphonates Oxy group (-OPO 3 H (alkyl)) and its conjugated base group (alkyl referred to as phosphonic Hona preparative group), monoarylphosphono group (-OPO 3 H (aryl)) and its conjugated base group (aryl phosphite Hona DOO Oxy group), cyano group, nitro group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, heterocyclic group, silyl group and the like.

これら置換基におけるアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、上記置換基におけるアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。   Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-described alkyl groups, and specific examples of the aryl group in the substituent include phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, Cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, Methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group, phenoxycarbonylphenyl group, N-phenylcarbamoylphenyl , It can be exemplified cyanophenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, phosphonophenyl group, a phosphate Hona preparative phenyl group.

また、アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
アシル基(R01CO−)のR01としては、水素原子、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これらの置換基の内、さらにより好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
ヘテロ環基としてはピリジル基、ピペリジニル基等が挙げられる。シリル基としてはトリメチルシリル基等が挙げられる。
Examples of alkenyl groups include vinyl, 1-propenyl, 1-butenyl, cinnamyl, 2-chloro-1-ethenyl, etc. Examples of alkynyl include ethynyl, 1 -Propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like.
The R 01 of the acyl group (R 01 CO-), include hydrogen atom, and the above-described alkyl group, an aryl group. Among these substituents, more preferred are a halogen atom (—F, —Br, —Cl, —I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, N, N. -Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group Group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N-alkyl-N-arylcarbamoyl group, sulfo group, sulfonate group, sulfamoyl group, N-alkylsulfamoyl group, N, N-dialkylsulfa group Moyl group, N-arylsulfur Amoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group, phosphonato group, dialkylphosphono group, diarylphosphono group, monoalkylphosphono group, alkylphosphonato group, monoarylphosphono group, arylphospho Examples thereof include a nato group, a phosphonooxy group, a phosphonatoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.
Examples of the heterocyclic group include a pyridyl group and a piperidinyl group. Examples of the silyl group include a trimethylsilyl group.

一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭素原子数5から10までの環状のアルキレン基を挙げることができる。このような置換基とアルキレン基を組み合わせることで得られる置換アルキル基の、好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、s−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、N−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等を挙げることができる。   On the other hand, examples of the alkylene group in the substituted alkyl group include divalent organic residues obtained by removing any one of the hydrogen atoms on the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Can include linear alkylene groups having 1 to 12 carbon atoms, branched chains having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkylene groups having 5 to 10 carbon atoms. Preferable specific examples of the substituted alkyl group obtained by combining such a substituent and an alkylene group include a chloromethyl group, a bromomethyl group, a 2-chloroethyl group, a trifluoromethyl group, a methoxymethyl group, and an isopropoxymethyl group. , Butoxymethyl group, s-butoxybutyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, methylthiomethyl group, tolylthiomethyl group, pyridylmethyl group, tetramethylpiperidinylmethyl group, N-acetyltetra Methylpiperidinylmethyl group, trimethylsilylmethyl group, methoxyethyl group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl Group, N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chloro Phenoxycarbonylmethyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, Sulfobutyl group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- (phosphonov Nyl) sulfamoyloctyl group, phosphonobutyl group, phosphonatohexyl group, diethylphosphonobutyl group, diphenylphosphonopropyl group, methylphosphonobutyl group, methylphosphonatobutyl group, tolylphosphonohexyl group, tolylphosphonatohexyl Group, phosphonooxypropyl group, phosphonatoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1- Examples thereof include a propenylmethyl group, a 2-butenyl group, a 2-methylallyl group, a 2-methylpropenylmethyl group, a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, and a 3-butynyl group.

アリール基としては、ベンゼン環、2個から3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
置換アリール基としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
Examples of the aryl group include a benzene ring, a ring in which 2 to 3 benzene rings form a condensed ring, and a group in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Specific examples include: Examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acenaphthenyl group, and a fluorenyl group. Among these, a phenyl group and a naphthyl group are more preferable.
As the substituted aryl group, those having a group consisting of a monovalent nonmetallic atomic group other than a hydrogen atom as a substituent on the ring-forming carbon atom of the above-described aryl group are used. Examples of preferred substituents include the aforementioned alkyl groups, substituted alkyl groups, and those previously shown as substituents in the substituted alkyl group.

このような、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスホノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフェニル基、1−プロペニルメチルフェニル基、2−ブテニルフェニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2−ブチニルフェニル基、3−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。   Preferred examples of such a substituted aryl group include biphenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, fluorophenyl group, chloromethylphenyl group, trifluoromethylphenyl group. Hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, methoxyethoxyphenyl group, allyloxyphenyl group, phenoxyphenyl group, methylthiophenyl group, tolylthiophenyl group, ethylaminophenyl group, diethylaminophenyl group, morpholinophenyl group, acetyloxyphenyl group, Benzoyloxyphenyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyphenyl group, N-phenylcarbamoyloxyphenyl group, acetylaminophenyl group, N-methylbenzoylaminophenyl group, cal Xiphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, allyloxycarbonylphenyl group, chlorophenoxycarbonylphenyl group, carbamoylphenyl group, N-methylcarbamoylphenyl group, N, N-dipropylcarbamoylphenyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylphenyl group N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylphenyl group, sulfophenyl group, sulfonatophenyl group, sulfamoylphenyl group, N-ethylsulfamoylphenyl group, N, N-dipropylsulfamoylphenyl group, N-tolylsulfamoylphenyl group, N-methyl-N- (phosphonophenyl) sulfamoylphenyl group, phosphonophenyl group, phosphonatophenyl group, diethylphosphonophenyl group, diphenylphosphonophenyl Methylphosphonophenyl group, methylphosphonatophenyl group, tolylphosphonophenyl group, tolylphosphonophenyl group, allylphenyl group, 1-propenylmethylphenyl group, 2-butenylphenyl group, 2-methylallylphenyl group, A 2-methylpropenylphenyl group, a 2-propynylphenyl group, a 2-butynylphenyl group, a 3-butynylphenyl group, and the like can be given.

アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、ならびに置換アルキニル基(−C(R02)=C(R03)(R04)、ならびに−C≡C(R05))としては、R02、R03、R04、R05が一価の非金属原子団からなる基のものが使用できる。好ましいR02、R03、R04、R05の例としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基を挙げることができる。これらの具体例としては、前述の例として示したものを挙げることができる。R02、R03、R04、R05のより好ましい基としては、水素原子、ハロゲン原子ならびに炭素原子数1から10までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができる。 An alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, and a substituted alkynyl group (—C (R 02 ) ═C (R 03 ) (R 04 ) and —C≡C (R 05 )) include R 02 , R 03 , R 04 , and R 05 may be a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group. Preferable examples of R 02 , R 03 , R 04 and R 05 include a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group and a substituted aryl group. Specific examples thereof include those shown as the above-mentioned examples. More preferred groups of R 02 , R 03 , R 04 , and R 05 include a hydrogen atom, a halogen atom, and a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.

このようなアルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基の好ましい具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、1−オクテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチル−1−ブテニル基、2−フェニル−1−エテニル基、2−クロロ−1−エテニル基、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、フェニルエチニル基を挙げることができる。
ヘテロ環基としては、置換アルキル基の置換基として例示したピリジル基等が挙げられる。
Preferable specific examples of such alkenyl group, substituted alkenyl group, alkynyl group and substituted alkynyl group include vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group and 1-octenyl group. 1-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 2-methyl-1-butenyl group, 2-phenyl-1-ethenyl group, 2-chloro-1-ethenyl group, ethynyl group, 1 -A propynyl group, a 1-butynyl group, and a phenylethynyl group can be mentioned.
Examples of the heterocyclic group include the pyridyl group exemplified as the substituent of the substituted alkyl group.

上記置換オキシ基(R06O−)としては、R06が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基(R07CO−)としては、R07が、先の例として挙げたアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等が挙げられる。 As the substituted oxy group (R 06 O—), a group in which R 06 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group excluding a hydrogen atom can be used. Preferred substituted oxy groups include alkoxy groups, aryloxy groups, acyloxy groups, carbamoyloxy groups, N-alkylcarbamoyloxy groups, N-arylcarbamoyloxy groups, N, N-dialkylcarbamoyloxy groups, N, N-diarylcarbamoyloxy groups. Groups, N-alkyl-N-arylcarbamoyloxy groups, alkylsulfoxy groups, arylsulfoxy groups, phosphonooxy groups, and phosphonatoxy groups. Examples of the alkyl group and aryl group in these include the alkyl groups, substituted alkyl groups, aryl groups, and substituted aryl groups described above. Examples of the acyl group (R 07 CO—) in the acyloxy group include those in which R 07 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, or a substituted aryl group mentioned as the previous example. Among these substituents, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyloxy group, and an arylsulfoxy group are more preferable. Specific examples of preferred substituted oxy groups include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, pentyloxy, hexyloxy, dodecyloxy, benzyloxy, allyloxy, phenethyloxy, Carboxyethyloxy group, methoxycarbonylethyloxy group, ethoxycarbonylethyloxy group, methoxyethoxy group, phenoxyethoxy group, methoxyethoxyethoxy group, ethoxyethoxyethoxy group, morpholinoethoxy group, morpholinopropyloxy group, allyloxyethoxyethoxy group, Phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, mesityloxy group, mesityloxy group, cumenyloxy group, methoxyphenyloxy group, ethoxyphenyloxy group, chlorophenyl Alkoxy group, bromophenyl group, acetyloxy group, benzoyloxy group, naphthyloxy group, a phenylsulfonyloxy group, a phosphonooxy group, phosphonatoxy group, and the like.

アミド基も含む置換アミノ基(R08NH−、(R09)(R010)N−)としては、R08、R09、R010が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。なおR09とR010とは結合して環を形成してもよい。置換アミノ基の好ましい例としては、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリールウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアルキル−N’−アリールウレイド基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ基おけるアシル基(R07CO−)のR07は前述のとおりである。これらの内、より好ましいものとしては、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールアミノ基、アシルアミノ基が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。 The substituted amino group (R 08 NH—, (R 09 ) (R 010 ) N—) including an amide group is a group in which R 08 , R 09 , and R 010 are monovalent nonmetallic atomic groups excluding hydrogen atoms Can be used. R 09 and R 010 may combine to form a ring. Preferred examples of the substituted amino group include an N-alkylamino group, an N, N-dialkylamino group, an N-arylamino group, an N, N-diarylamino group, an N-alkyl-N-arylamino group, an acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group, N′-alkylureido group, N ′, N′-dialkylureido group, N′-arylureido group, N ′, N′-diarylureido group N′-alkyl-N′-arylureido group, N-alkylureido group, N-arylureido group, N′-alkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-arylureido group, N ′, N′-dialkyl-N-alkylureido group, N ′, '-Dialkyl-N'-arylureido group, N'-aryl-N-alkylureido group, N'-aryl-N-arylureido group, N', N'-diaryl-N-alkylureido group, N ', N′-diaryl-N-arylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-alkylureido group, N′-alkyl-N′-aryl-N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxy A carbonylamino group, an N-alkyl-N-alkoxycarbonylamino group, an N-alkyl-N-aryloxycarbonylamino group, an N-aryl-N-alkoxycarbonylamino group, and an N-aryl-N-aryloxycarbonylamino group. Can be mentioned. Examples of the alkyl group and aryl group include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group, such as acylamino group, N-alkylacylamino group, and N-arylacylamino. R 07 groups definitive acyl group (R 07 CO-) are as described above. Of these, more preferred are an N-alkylamino group, an N, N-dialkylamino group, an N-arylamino group, and an acylamino group. Specific examples of preferred substituted amino groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, morpholino group, piperidino group, pyrrolidino group, phenylamino group, benzoylamino group, acetylamino group and the like.

置換スルホニル基(R011−SO2−)としては、R011が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。このような、置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。 As the substituted sulfonyl group (R 011 —SO 2 —), those in which R 011 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group can be used. More preferable examples include an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Specific examples of such a substituted sulfonyl group include a butylsulfonyl group, a phenylsulfonyl group, a chlorophenylsulfonyl group, and the like.

スルホナト基(−SO3−)は前述のとおり、スルホ基(−SO3H)の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンとともに使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等)、ならびに金属イオン類(Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)が挙げられる。 As described above, the sulfonate group (—SO 3 —) means a conjugate base anion group of the sulfo group (—SO 3 H), and is usually preferably used together with a counter cation. Examples of such counter cations include those generally known, that is, various oniums (ammonium compounds, sulfonium compounds, phosphonium compounds, iodonium compounds, azinium compounds, etc.), and metal ions (Na + , K +, Ca 2). + , Zn 2+, etc.).

置換カルボニル基(R013−CO−)としては、R013が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N’−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基が挙げられ、さらにより好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、N−メチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。 As the substituted carbonyl group (R 013 —CO—), those in which R 013 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferred examples of the substituted carbonyl group include formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N-arylcarbamoyl group, N, N-diarylcarbamoyl group, N-alkyl-N′-arylcarbamoyl group may be mentioned. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Among these, more preferred substituted carbonyl groups include formyl, acyl, carboxyl, alkoxycarbonyl, aryloxycarbonyl, carbamoyl, N-alkylcarbamoyl, N, N-dialkylcarbamoyl, N-ary. A rucarbamoyl group can be mentioned, and even more preferred are a formyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group. Specific examples of preferred substituted carbonyl groups include formyl group, acetyl group, benzoyl group, carboxyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, allyloxycarbonyl group, dimethylaminophenylethenylcarbonyl group, methoxycarbonylmethoxycarbonyl group, N -Methylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N, N-diethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group and the like.

置換スルフィニル基(R014−SO−)としてはR014が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基が挙げられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙げられる。 As the substituted sulfinyl group (R 014 —SO—), those in which R 014 is a group composed of a monovalent nonmetallic atomic group can be used. Preferable examples include alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N-diarylsulfinamoyl. Group, N-alkyl-N-arylsulfinamoyl group. Examples of the alkyl group and aryl group in these include those described above as the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group, and substituted aryl group. Of these, more preferred examples include an alkylsulfinyl group and an arylsulfinyl group. Specific examples of such a substituted sulfinyl group include a hexylsulfinyl group, a benzylsulfinyl group, and a tolylsulfinyl group.

置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙げられる。   The substituted phosphono group means a group in which one or two hydroxyl groups on the phosphono group are substituted with other organic oxo groups, and preferred examples thereof include the above-mentioned dialkylphosphono group, diarylphosphono group, alkylarylphospho group. Group, monoalkylphosphono group and monoarylphosphono group. Of these, dialkylphosphono groups and diarylphosphono groups are more preferred. Specific examples thereof include a diethyl phosphono group, a dibutyl phosphono group, a diphenyl phosphono group, and the like.

ホスホナト基(−PO32−、−PO3H−)とは前述のとおり、ホスホノ基(−PO32)の、酸第一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類(アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類、等)、ならびに金属イオン類(Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)が挙げられる。 Phosphonato group (-PO 3 H 2 -, - PO 3 H-) as described above and, phosphono group (-PO 3 H 2), acid first dissociation or conjugate base anion derived from the second dissociation acid Means group. Usually, it is preferable to use it with a counter cation. Such counter cations include those generally known, that is, various oniums (ammonium, sulfonium, phosphonium, iodonium, azinium, etc.), and metal ions (Na + , K + , Ca 2+ , Zn 2+ etc.).

置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノアルキルホスホノ基(−PO3H(alkyl))、モノアリールホスホノ基(−PO3H(aryl))の共役塩基が挙げられる。 The substituted phosphonato group is a conjugated base anion group obtained by substituting one organic oxo group in the above-described substituted phosphono group. As a specific example, the above-described monoalkylphosphono group (—PO 3 H ( alkyl)), and a conjugate base of a monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)).

次に、前記一般式(1)におけるXについて説明する。Xは、−O−、−S−、−SO2−、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−及び−C(R4)(R5)−から選択される2価の連結基を表し、中でも、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−、−C(R4)(R5)−が感度の点から好ましく、−NH−、−N(R3)−であることがより好ましく、−N(R3)−であることが感度および保存安定性の観点から最も好ましい。 Next, X in the general formula (1) will be described. X is —O—, —S—, —SO 2 —, —NH—, —N (R 3 ) —, —CH 2 —, —CH (R 4 ) — and —C (R 4 ) (R 5 ) - represents a divalent linking group selected from, among others, -NH -, - N (R 3) -, - CH 2 -, - CH (R 4) -, - C (R 4) (R 5 ) - preferably from the viewpoint of sensitivity, -NH -, - N (R 3) - more preferably, -N (R 3) - is most preferable in terms of sensitivity and storage stability is.

ここで、上記XにおけるR3、R4およびR5はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表し、そのような一価の置換基としては、前記一般式(1)におけるR1、R2と同義である。
特に、R3としては、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基であることが好ましい。また、R3は、その構造内に、−CO2−および−CON(R8)−の少なくともいずれかを1つ以上有することが好ましく、R3の最も好ましい構造は、下記式で表されるものである。
Here, R 3 , R 4 and R 5 in X each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent. Examples of such a monovalent substituent include R 1 in the general formula (1). , R 2 .
In particular, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, each of which may have a substituent. R 3 preferably has at least one of —CO 2 — and —CON (R 8 ) — in its structure, and the most preferable structure of R 3 is represented by the following formula. Is.

Figure 2005077984
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上記式中、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表し、Zは、一価の置換基を表す。そのような一価の置換基としては、前記一般式(1)におけるR1またはR2と同義である。 In the above formula, R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent, and Z represents a monovalent substituent. Such a monovalent substituent has the same meaning as R 1 or R 2 in the general formula (1).

また、上記XにおけるR4およびR5で表される一価の置換基としては、前記一般式(1)におけるR1またはR2と同義である。 Further, the monovalent substituent represented by R 4 and R 5 in X is the same as R 1 or R 2 in the general formula (1).

以下、一般式(1)で表されるモノカルボン酸化合物の具体例(A−1)〜(A−87)を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, although the specific example (A-1)-(A-87) of the monocarboxylic acid compound represented by General formula (1) is given, this invention is not limited to these.

Figure 2005077984
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次に、本発明に係るモノカルボン酸化合物の代表的な合成例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<化合物(A−24)の合成>
窒素気流下、2Lのナス型フラスコに、N−フェニルイミノジ酢酸62.8gを入れ、トルエン500mLで溶解した。無水酢酸32.0gを加え、加熱して還流し、撹拌した。1時間後、室温まで冷却した後、撹拌しながら、ヘキサン3Lを加えていき、析出させた。ろ過して、N−フェニルイミノジ酢酸無水物52.0gを得た。
次に、窒素気流下、200mLのナス型フラスコに、上記で得られたN−フェニルイミノジ酢酸無水物5.1gを入れ、メタノール60mLを加えた。室温で、6時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し(流出溶媒 ヘキサン/酢酸エチル)、化合物(A−24)を5.7g得た。化合物(A−24)であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、質量分析スペクトルから確認した。
Next, although the typical synthesis example of the monocarboxylic acid compound which concerns on this invention is shown, this invention is not limited to these.
<Synthesis of Compound (A-24)>
Under a nitrogen stream, 62.8 g of N-phenyliminodiacetic acid was placed in a 2 L eggplant-shaped flask and dissolved in 500 mL of toluene. 32.0 g of acetic anhydride was added, heated to reflux and stirred. After 1 hour, after cooling to room temperature, 3 L of hexane was added with precipitation to cause precipitation. Filtration gave 52.0 g of N-phenyliminodiacetic anhydride.
Next, 5.1 g of the N-phenyliminodiacetic anhydride obtained above was placed in a 200 mL eggplant-shaped flask under a nitrogen stream, and 60 mL of methanol was added. After stirring at room temperature for 6 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent hexane / ethyl acetate) to obtain 5.7 g of compound (A-24). It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and mass spectrometry spectrum that it was the compound (A-24).

<化合物(A−52)の合成>
窒素気流下、2Lのナス型フラスコに、N−フェニルイミノジ酢酸62.8gを入れ、トルエン500mLで溶解した。無水酢酸32.0gを加え、加熱して還流し、撹拌した。1時間後、室温まで冷却した後、撹拌しながら、ヘキサン3Lを加えていき、析出させた。ろ過して、N−フェニルイミノジ酢酸無水物52.0gを得た。
窒素気流下、200mLのナス型フラスコに、上記で得られたN−フェニルイミノジ酢酸無水物5.1gを入れ、ベンジルアルコール50mLを加えた。室温で、8時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し(流出溶媒 ヘキサン/酢酸エチル)、化合物(A−52)を7.2g得た。化合物(A−52)であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、質量分析スペクトルから確認した。
<Synthesis of Compound (A-52)>
Under a nitrogen stream, 62.8 g of N-phenyliminodiacetic acid was placed in a 2 L eggplant-shaped flask and dissolved in 500 mL of toluene. 32.0 g of acetic anhydride was added, heated to reflux and stirred. After 1 hour, after cooling to room temperature, 3 L of hexane was added with precipitation to cause precipitation. Filtration gave 52.0 g of N-phenyliminodiacetic anhydride.
Under a nitrogen stream, 5.1 g of the N-phenyliminodiacetic anhydride obtained above was placed in a 200 mL eggplant-shaped flask, and 50 mL of benzyl alcohol was added. After stirring at room temperature for 8 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent hexane / ethyl acetate) to obtain 7.2 g of compound (A-52). It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum and mass spectrometry spectrum that it was the compound (A-52).

<化合物(A−55)の合成>
窒素気流下、2Lのナス型フラスコに、N−フェニルイミノジ酢酸62.8gを入れ、トルエン500mLで溶解した。無水酢酸32.0gを加え、加熱して還流し、撹拌した。1時間後、室温まで冷却した後、撹拌しながら、ヘキサン3Lを加えていき、析出させた。ろ過して、N−フェニルイミノジ酢酸無水物52.0gを得た。
窒素気流下、200mLのナス型フラスコに、上記で得られたN−フェニルイミノジ酢酸無水物5.1gを入れ、1−メトキシ−2−プロパノール50mLを加えた。室温で、4時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。残査をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し(流出溶媒 ヘキサン/酢酸エチル)、化合物(A−55)を6.0g得た。化合物(A−55)であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、質量分析スペクトルから確認した。
<Synthesis of Compound (A-55)>
Under a nitrogen stream, 62.8 g of N-phenyliminodiacetic acid was placed in a 2 L eggplant-shaped flask and dissolved in 500 mL of toluene. 32.0 g of acetic anhydride was added, heated to reflux and stirred. After 1 hour, after cooling to room temperature, 3 L of hexane was added with precipitation to cause precipitation. Filtration gave 52.0 g of N-phenyliminodiacetic anhydride.
Under a nitrogen stream, 5.1 g of the N-phenyliminodiacetic anhydride obtained above was placed in a 200 mL eggplant-shaped flask, and 50 mL of 1-methoxy-2-propanol was added. After stirring at room temperature for 4 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel chromatography (elution solvent hexane / ethyl acetate) to obtain 6.0 g of compound (A-55). It was confirmed from the NMR spectrum, IR spectrum, and mass spectrometry spectrum that it was the compound (A-55).

以上に説明した本発明に係るモノカルボン酸化合物は、1種のみを用いても良く、2種以上を併用して用いても良い。これらのモノカルボン酸の添加量としては、重合性組成物全固形分中、0.1〜70質量%、好ましくは0.5〜50質量%、さらに好ましくは1〜30質量%の割合で添加することができる。添加量がこの範囲内において、本発明の重合性組成物は、十分な感度向上効果が得られ、また、この重合性組成物を平版印刷版原版の記録材料として用いた場合、非画像部における汚れの発生が抑制され、記録層の硬化前、硬化後のいずれにおいても、優れた膜物性が得られる。   The monocarboxylic acid compound according to the present invention described above may be used alone or in combination of two or more. The addition amount of these monocarboxylic acids is 0.1 to 70% by mass, preferably 0.5 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass in the total solid content of the polymerizable composition. can do. When the addition amount is within this range, the polymerizable composition of the present invention can provide a sufficient sensitivity improvement effect, and when this polymerizable composition is used as a recording material for a lithographic printing plate precursor, in the non-image area. Occurrence of contamination is suppressed, and excellent film properties can be obtained both before and after the recording layer is cured.

〔(F)その他の成分〕
本発明の重合性組成物中には、更にその用途、製造方法等に適したその他の成分を適宜添加することができる。特に、本発明の重合性組成物を平版印刷版原版の記録層として用いる場合に好適な添加剤について以下に説明する。
[(F) Other ingredients]
In the polymerizable composition of the present invention, other components suitable for its use, production method and the like can be added as appropriate. In particular, additives that are suitable when the polymerizable composition of the present invention is used as a recording layer of a lithographic printing plate precursor will be described below.

(F−1)共増感剤
重合性組成物にある種の添加剤を用いることで、感度を更に向上させることができる。このような化合物を以後、共増感剤という。これらの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、重合開始剤により開始される光反応、と、それに引き続く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種(ラジカル、カチオン)と、共増感剤が反応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定される。これらは、大きくは、(i)還元されて活性ラジカルを生成し得るもの、(ii)酸化されて活性ラジカルを生成し得るもの、(iii)活性の低いラジカルと反応し、より活性の高いラジカルに変換するか、若しくは連鎖移動剤として作用するもの、に分類できるが、個々の化合物がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合も多い。
(F-1) Co-sensitizer The sensitivity can be further improved by using a certain additive in the polymerizable composition. Such a compound is hereinafter referred to as a co-sensitizer. These mechanisms of action are not clear, but many are thought to be based on the following chemical processes. That is, a co-sensitizer reacts with various intermediate active species (radicals and cations) generated in the course of the photoreaction initiated by the polymerization initiator and the subsequent addition polymerization reaction to generate new active radicals. Estimated. These can be broadly divided into (i) those that can be reduced to produce active radicals, (ii) those that can be oxidized to produce active radicals, and (iii) radicals that are more active by reacting with less active radicals. Can be classified into those that act as chain transfer agents, but there is often no generality as to which of these individual compounds belong.

(i)還元されて活性ラジカルを生成する化合物
炭素−ハロゲン結合結合を有する化合物:還元的に炭素−ハロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、トリハロメチル−s−トリアジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好適に使用できる。
窒素−窒素結合を有する化合物:還元的に窒素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使用される。
酸素−酸素結合を有する化合物:還元的に酸素−酸素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用される。
オニウム化合物:還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具体的には、例えば、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、N−アルコキシピリジニウム(アジニウム)塩類等が好適に使用される。
フエロセン、鉄アレーン錯体類:還元的に活性ラジカルを生成し得る。
(I) Compound that is reduced to generate an active radical Compound having a carbon-halogen bond: It is considered that an active radical is generated by reductive cleavage of the carbon-halogen bond. Specifically, for example, trihalomethyl-s-triazines and trihalomethyloxadiazoles can be preferably used.
Compound having nitrogen-nitrogen bond: It is considered that the nitrogen-nitrogen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, hexaarylbiimidazoles and the like are preferably used.
Compound having oxygen-oxygen bond: It is considered that the oxygen-oxygen bond is reductively cleaved to generate an active radical. Specifically, for example, organic peroxides are preferably used.
Onium compounds: It is considered that carbon-hetero bonds and oxygen-nitrogen bonds are reductively cleaved to generate active radicals. Specifically, for example, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts, N-alkoxypyridinium (azinium) salts and the like are preferably used.
Ferrocene and iron arene complexes: An active radical can be reductively generated.

(ii)酸化されて活性ラジカルを生成する化合物
アルキルアート錯体:酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用される。
アルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC−X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適である。具体的には、例えば、エタノールアミン類、N−フェニルグリシン類、N−トリメチルシリルメチルアニリン類等が挙げられる。
含硫黄、含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。また、S−S結合を有する化合物もS−S解裂による増感が知られる。
(Ii) Compound that is oxidized to produce an active radical Alkylate complex: It is considered that a carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to produce an active radical. Specifically, for example, triarylalkyl borates are preferably used.
Alkylamine compound: It is considered that the C—X bond on carbon adjacent to nitrogen is cleaved by oxidation to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group, a benzyl group or the like. Specific examples include ethanolamines, N-phenylglycines, N-trimethylsilylmethylanilines, and the like.
Sulfur-containing and tin-containing compounds: those in which the nitrogen atoms of the above-described amines are replaced with sulfur atoms and tin atoms can generate active radicals by the same action. Further, a compound having an SS bond is also known to be sensitized by SS cleavage.

α−置換メチルカルボニル化合物:酸化により、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラジカルを生成し得る。また、カルボニルをオキシムエーテルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、2−アルキル−1−[4−(アルキルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロノン−1類、並びに、これらと、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、N−OHをエーテル化したオキシムエーテル類を挙げることができる。
スルフィン酸塩類:還元的に活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリール
スルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
α-Substituted methylcarbonyl compound: An active radical can be generated by oxidative cleavage of the carbonyl-α carbon bond. Moreover, what converted carbonyl into the oxime ether also shows the same effect | action. Specifically, 2-alkyl-1- [4- (alkylthio) phenyl] -2-morpholinopronone-1 and these and a hydroxylamine were reacted, and then N—OH was etherified. Mention may be made of oxime ethers.
Sulfinic acid salts: An active radical can be reductively generated. Specific examples include arylsulfin sodium.

(iii)ラジカルと反応し高活性ラジカルに変換、若しくは連鎖移動剤として作用する化合物:例えば、分子内にSH、PH、SiH、GeHを有する化合物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水素供与して、ラジカルを生成するか、若しくは、酸化された後、脱プロトンすることによりラジカルを生成し得る。具体的には、例えば、2−メルカプトベンズイミダゾール類等が挙げられる。 (Iii) Compounds that react with radicals to convert to highly active radicals or act as chain transfer agents: For example, a group of compounds having SH, PH, SiH, GeH in the molecule is used. These can donate hydrogen to low-activity radical species to generate radicals, or can be oxidized and then deprotonated to generate radicals. Specifically, 2-mercaptobenzimidazoles etc. are mentioned, for example.

これらの(F−1)共増感剤のより具体的な例は、例えば、特開昭9−236913号公報中に、感度向上を目的とした添加剤として、多く記載されており、それらを本発明においても適用することができる。
これらの(F−1)共増感剤は、単独で又は2種以上併用して用いることができる。使用量は前記(C)重合性化合物100質量部に対し、0.05〜100質量部、好ましくは1〜80質量部、更に好ましくは3〜50質量部の範囲が適当である。
More specific examples of these (F-1) co-sensitizers are described, for example, in JP-A-9-236913 as additives for the purpose of improving sensitivity. The present invention can also be applied.
These (F-1) cosensitizers can be used alone or in combination of two or more. The amount used is suitably in the range of 0.05 to 100 parts by weight, preferably 1 to 80 parts by weight, more preferably 3 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound (C).

(F−2)重合禁止剤
また、本発明においては、記録層を構成する重合性組成物の製造中又は保存中において(C)重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、(F−2)重合禁止剤として、少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t―ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t―ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
熱重合防止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印刷版原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5質量%〜約10質量%が好ましい。
(F-2) Polymerization inhibitor In the present invention, in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound (C) during the production or storage of the polymerizable composition constituting the recording layer, (F -2) It is desirable to add a small amount of a thermal polymerization inhibitor as a polymerization inhibitor. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol ), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like.
The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% by mass to about 5% by mass with respect to the mass of the entire composition. In addition, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide is added to prevent polymerization inhibition due to oxygen, and a lithographic printing plate precursor is dried after coating on a support or the like. In this process, it may be unevenly distributed on the surface of the recording layer. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% by mass to about 10% by mass of the total composition.

(F−3)着色剤等
更に、本発明に係る平版印刷版原版においては、その記録層の着色を目的として染料若しくは顔料を添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版性を向上させることができる。着色剤としては、多くの染料は光重合系記録層の感度の低下を生じるので、着色剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例としては、例えば、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料及び顔料の添加量は全組成物の約0.5質量%〜約5質量%が好ましい。
(F-3) Colorant, etc. Furthermore, in the planographic printing plate precursor according to the invention, a dye or pigment may be added for the purpose of coloring the recording layer. Thereby, so-called plate inspection properties such as visibility after plate making and suitability for an image density measuring machine as a printing plate can be improved. As the colorant, many dyes cause a decrease in the sensitivity of the photopolymerization recording layer. Therefore, it is particularly preferable to use a pigment as the colorant. Specific examples include pigments such as phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black and titanium oxide, and dyes such as ethyl violet, crystal violet, azo dyes, anthraquinone dyes, and cyanine dyes. The addition amount of the dye and the pigment is preferably about 0.5% by mass to about 5% by mass of the total composition.

(F−4)その他の添加剤
本発明の重合性組成物には、感度、安定性、現像性を更に向上させる目的で、本願出願人が先に提出した特願2003−058410明細書に記載の、分子内に、少なくとも、カルボン酸基を1つ以上、アミノ基又はチオエーテル基を1つ以上有する化合物を添加することが好ましい。
(F-4) Other additives The polymerizable composition of the present invention is described in the specification of Japanese Patent Application No. 2003-058410 filed earlier by the applicant of the present application for the purpose of further improving sensitivity, stability, and developability. It is preferable to add a compound having at least one carboxylic acid group and at least one amino group or thioether group in the molecule.

更に、本発明の重合性組成物には、硬化皮膜の物性を改良するための無機充填剤や、その他、可塑剤、平版印刷版原版として用いる場合の記録層表面のインク着肉性を向上させ得る感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。   Furthermore, the polymerizable composition of the present invention improves the ink depositing property on the surface of the recording layer when used as an inorganic filler for improving the physical properties of the cured film, as well as a plasticizer and a lithographic printing plate precursor. You may add well-known additives, such as a fat-sensitizing agent to obtain.

上記可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との合計質量に対し10質量%以下添加することができる。   Examples of the plasticizer include dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, triethylene glycol dicaprylate, dimethyl glycol phthalate, tricresyl phosphate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, triacetyl glycerin, and the like. In this case, 10% by mass or less can be added with respect to the total mass of the compound having an ethylenically unsaturated double bond and the binder.

また、後述する膜強度(耐刷性)向上を目的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するための、UV開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。
その他、後述する記録層と支持体との密着性向上や、未露光記録層の現像除去性を高めるための添加剤を含有させることが可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物や、ホスホン化合物等、支持体と比較的強い相互作用を有する化合物の添加や、それらを下塗りすることにより、密着性が向上し、耐刷性を高めることが可能である。また、ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や、それらを下塗りすることにより、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可能となる。
Further, for the purpose of improving the film strength (printing durability), which will be described later, a UV initiator, a thermal crosslinking agent, or the like can be added to enhance the effect of heating and exposure after development.
In addition, it is possible to contain an additive for improving the adhesion between the recording layer and the support, which will be described later, and improving the development removability of the unexposed recording layer. For example, by adding a compound having a relatively strong interaction with the support, such as a compound having a diazonium structure or a phosphone compound, or by undercoating them, it is possible to improve adhesion and improve printing durability. is there. Further, by adding a hydrophilic polymer such as polyacrylic acid or polysulfonic acid, or by undercoating them, the developability of the non-image area is improved, and the stain resistance can be improved.

[画像記録材料]
次に、前記の重合性組成物を用いた本発明の画像記録材料について説明する。本発明の画像記録材料では、記録層に前記重合性組成物を用いることを特徴とする。即ち、本発明の画像記録材料の記録層には、(A)波長700〜1300nmに吸収を有する色素と、(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤と、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、を含有する。さらに、記録層には、(D)バインダーポリマー及び/又は(E)前記一般式(1)で表される化合物を添加することが好ましい。なお、該バインダーポリマーとしては、前記一般式(I)で表されるアルカリ可溶性基を有する構造単位を含むポリマーを用いることが好ましい。
この記録層は、赤外線レーザの照射により、(A)赤外線吸収剤が発熱し、その熱により(B)特定開始剤が分解してラジカルを発生し、(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物の硬化反応を促進し、露光部が硬化して画像部となるネガ型の画像を形成する。
また、本発明の画像記録材料は、主として、平版印刷版原版として使用することが好ましい。以下に、本発明の画像記録材料の好ましい用途である平版印刷版原版について詳細に説明する。
[Image recording material]
Next, the image recording material of the present invention using the polymerizable composition will be described. In the image recording material of the present invention, the polymerizable composition is used for a recording layer. That is, the recording layer of the image recording material of the present invention comprises (A) a dye having absorption at a wavelength of 700 to 1300 nm, (B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group, and (C) an ethylenically unsaturated bond. And a compound having Furthermore, it is preferable to add (D) a binder polymer and / or (E) a compound represented by the general formula (1) to the recording layer. In addition, it is preferable to use the polymer containing the structural unit which has an alkali-soluble group represented with the said general formula (I) as this binder polymer.
In this recording layer, (A) an infrared absorber generates heat by irradiation with an infrared laser, and (B) a specific initiator decomposes to generate radicals by the heat, and (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond The exposure reaction is accelerated, and the exposed portion is cured to form a negative image that becomes an image portion.
The image recording material of the present invention is preferably used mainly as a lithographic printing plate precursor. The lithographic printing plate precursor, which is a preferred application of the image recording material of the present invention, will be described in detail below.

〔平版印刷版原版の製造〕
本発明に係る平版印刷版原版を製造するには、前記重合性組成物を主成分とする記録層塗布液を調製し、その他の任意の層、例えば、保護層等についても、その成分を溶媒に溶かして塗布液を調製し、適当な支持体上に塗布すればよい。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N―ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ―ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独或いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50質量%が適当である。
[Manufacture of lithographic printing plate precursors]
In order to produce a lithographic printing plate precursor according to the present invention, a recording layer coating solution containing the polymerizable composition as a main component is prepared, and other components such as a protective layer are also used as solvents. What is necessary is just to apply | coat to a suitable support body by preparing a coating liquid by melt | dissolving in.
Solvents used here include acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, lactic acid There are ethyl and the like. These solvents can be used alone or in combination. The solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by mass.

記録層の支持体への塗布量は、記録層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性等の影響を考慮し、用途に応じ適宜選択することが望ましい。塗布量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくない。本発明に係る平版印刷版原版における塗布量は、一般的には、乾燥後の質量で約0.1〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。 The coating amount of the recording layer on the support is preferably selected according to the intended use in consideration of the sensitivity of the recording layer, the developability, the strength of the exposed film and the printing durability. When the coating amount is too small, the printing durability is not sufficient. On the other hand, if the amount is too large, the sensitivity is lowered, it takes time for exposure, and a longer time is required for development processing, which is not preferable. In general, the coating amount of the lithographic printing plate precursor according to the present invention is suitably in the range of about 0.1 to about 10 g / m 2 in terms of the mass after drying. More preferably from 0.5 to 5 g / m 2.

(保護層)
本発明に係る平版印刷版原版は、通常、露光を大気中で行うため、前記記録層上に、更に、保護層を設けることが好ましい。保護層は、記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。
(Protective layer)
Since the lithographic printing plate precursor according to the invention is usually exposed in the air, it is preferable to further provide a protective layer on the recording layer. The protective layer prevents exposure of low molecular weight compounds such as oxygen and basic substances present in the atmosphere that hinder the image formation reaction caused by exposure in the recording layer, and enables exposure in the air. To do. Therefore, the properties desired for such a protective layer are low permeability of low-molecular compounds such as oxygen, furthermore, good transparency of light used for exposure, and excellent adhesion to the recording layer, And it is desirable that it can be easily removed in the development step after exposure.

このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3、458、311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られていが、これらのうち、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含有する限り、一部がエステル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよい。また、同様に一部が他の共重合成分を有していてもよい。特に、ポリビニルアルコールに対しポリビニルピロリドンを15〜50質量%の範囲で置き換えた混合物が保存安定性の観点から好ましい。   Such a device for the protective layer has been conventionally devised, which is described in detail in US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As a material that can be used for the protective layer, for example, a water-soluble polymer compound having relatively excellent crystallinity is preferably used. Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, acidic celluloses, gelatin, gum arabic, Water-soluble polymers such as polyacrylic acid are known, and among these, using polyvinyl alcohol as a main component gives the best results in terms of basic properties such as oxygen barrier properties and development removability. The polyvinyl alcohol used for the protective layer may be partially substituted with an ester, an ether, and an acetal as long as it contains an unsubstituted vinyl alcohol unit for having necessary oxygen barrier properties and water solubility. Similarly, some of them may have other copolymer components. In particular, a mixture obtained by replacing polyvinyl pyrrolidone in a range of 15 to 50% by mass with respect to polyvinyl alcohol is preferable from the viewpoint of storage stability.

ポリビニルアルコールの具体例としては、71〜100%加水分解され、分子量が300から2400の範囲のものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラレ製のPVA−105、PVA−110、PVA−117、PVA−117H、PVA−120、PVA−124、PVA−124H、PVA−CS、PVA−CST、PVA−HC、PVA−203、PVA−204、PVA−205、PVA−210、PVA−217、PVA−220、PVA−224、PVA−217EE、PVA−217E、PVA−220E、PVA−224E、PVA−405、PVA−420、PVA−613、L−8等が挙げられる。   Specific examples of polyvinyl alcohol include those having a hydrolysis rate of 71 to 100% and a molecular weight in the range of 300 to 2400. Specifically, Kuraray Co., Ltd. PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-124, PVA-124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, PVA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA- 420, PVA-613, L-8 and the like.

保護層の成分(PVAの選択、添加剤の使用)、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するPVAの加水分解率が高い程(保護層中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程)、膜厚が厚い程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しかしながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親水性の層を新油性の重合層に積層すると、接着力不足による膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。
Components of the protective layer (selection of PVA, use of additives), coating amount, and the like are selected in consideration of fogging, adhesion, and scratch resistance in addition to oxygen barrier properties and development removability.
In general, the higher the hydrolysis rate of the PVA used (the higher the content of the unsubstituted vinyl alcohol unit in the protective layer), the thicker the film thickness, the higher the oxygen barrier property, which is advantageous in terms of sensitivity. However, when the oxygen barrier property is extremely increased, there arises a problem that unnecessary polymerization reaction occurs during production and raw storage, and unnecessary fogging and image line thickening occur during image exposure. In addition, adhesion to the image area and scratch resistance are extremely important in handling the plate. That is, when a hydrophilic layer made of a water-soluble polymer is laminated on a new oil-based polymer layer, film peeling due to insufficient adhesion tends to occur, and the peeled part causes defects such as poor film hardening due to inhibition of oxygen polymerization.

これに対し、これら2層間の接着性を改すべく種々の提案がなされている。例えば、特開昭49−70702号公報、英国特許出願公開第1,303,578A号明細書には、主にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジヨン又は水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体などを20〜60質量%混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着性が得られることが記載されている。本発明における保護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用することができる。このような保護層の塗布方法については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書、特公昭55−49729号公報に詳しく記載されている。   On the other hand, various proposals have been made to improve the adhesion between these two layers. For example, in JP-A-49-70702 and British Patent Application No. 1,303,578A, an acrylic emulsion or a water-insoluble vinyl pyrrolidone-vinyl acetate is contained in a hydrophilic polymer mainly composed of polyvinyl alcohol. It is described that sufficient adhesiveness can be obtained by mixing 20 to 60% by mass of a copolymer or the like and laminating on a polymerized layer. Any of these known techniques can be applied to the protective layer in the present invention. Such a coating method of the protective layer is described in detail in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729.

更に、保護層に他の機能を付与することもできる。例えば、露光に使う波長の光の透過性に優れ、かつ画像形成寄与しない波長の光を効率よく吸収し得る、着色剤(水溶性染料等)の添加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性を更に高めることができる。   Furthermore, other functions can be imparted to the protective layer. For example, by adding a colorant (such as a water-soluble dye) that excels in the transmission of light of the wavelength used for exposure and that can efficiently absorb light of a wavelength that does not contribute to image formation, safe light does not occur. Suitability can be further enhanced.

また、本発明に係る平版印刷版原版における保護層としては、特開2000−347398公報に記載の酸素透過率が1×10-15{cm3(STP)・cm/cm2・sec・cmHg}以上の保護層も、好適に用いることができる。 Moreover, as a protective layer in the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the oxygen permeability described in JP 2000-347398 A is 1 × 10 −15 {cm 3 (STP) · cm / cm 2 · sec · cmHg}. The above protective layer can also be used suitably.

(樹脂中間層)
本発明に係る平版印刷版原版においては、必要に応じて、記録層と支持体との間にアルカリ可溶性高分子からなる樹脂中間層を設けることができる。
露光によりアルカリ現像液への溶解性が低下する赤外線感応層である記録層が、露光面又はその近傍に設けられることで赤外線レーザーに対する感度が良好となるとともに、支持体と該赤外線感応性の記録層との間にこの樹脂中間層が存在し、断熱層として機能することで、赤外線レーザーの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることからの高感度化が図れる。
また、露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性となった記録層がこの樹脂中間層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、かつ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、未露光部においては、未硬化のバインダー成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの樹脂中間層がアルカリ可溶性高分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解するため、現像性に優れるものと考えられる。
(Resin intermediate layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, a resin intermediate layer made of an alkali-soluble polymer can be provided between the recording layer and the support, if necessary.
The recording layer, which is an infrared-sensitive layer whose solubility in an alkaline developer is lowered by exposure, is provided on or near the exposed surface, thereby improving the sensitivity to the infrared laser, and the support and the infrared-sensitive recording. This resin intermediate layer exists between the layers and functions as a heat insulation layer, so that the heat generated by the infrared laser exposure does not diffuse to the support and can be used efficiently so that the sensitivity can be increased. .
In the exposed area, the recording layer that is impermeable to the alkali developer functions as a protective layer for the resin intermediate layer, so that the development stability is good and the image is excellent in discrimination. In the unexposed area, the uncured binder component quickly dissolves and disperses in the developer, and is adjacent to the support. Since this resin intermediate layer is made of an alkali-soluble polymer, the solubility in a developing solution is good. For example, even when a developing solution with reduced activity is used, a residual film or the like is generated. It is considered that it is excellent in developability because it dissolves quickly.

(支持体)
本発明に係る平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、2以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。
(Support)
The support used for the lithographic printing plate precursor according to the present invention is not particularly limited as long as it is a dimensionally stable plate-like material. For example, paper, plastic (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.) is used. Laminated paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper, etc.), plastic film (eg, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, Polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc.). These may be a single component sheet such as a resin film or a metal plate, or may be a laminate of two or more materials. For example, a paper or plastic film on which a metal as described above is laminated or vapor-deposited. And laminated sheets of different plastic films.

上記支持体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。
上記アルミニウム板の厚みは、およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmである。
As the above-mentioned support, a polyester film or an aluminum plate is preferable, and among them, an aluminum plate that has good dimensional stability and is relatively inexpensive is particularly preferable. A suitable aluminum plate is a pure aluminum plate or an alloy plate containing aluminum as a main component and containing a trace amount of different elements, and may be a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. Examples of foreign elements contained in the aluminum alloy include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass. Particularly suitable aluminum in the present invention is pure aluminum, but completely pure aluminum is difficult to produce in the refining technique, and may contain slightly different elements. Thus, the composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and used aluminum plates can be appropriately used.
The thickness of the aluminum plate is about 0.1 to 0.6 mm, preferably 0.15 to 0.4 mm, and particularly preferably 0.2 to 0.3 mm.

アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ水溶液等による脱脂処理が行われる。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
このように粗面化されたアルミニウム板は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
Prior to roughening the aluminum plate, a degreasing treatment with, for example, a surfactant, an organic solvent, an alkaline aqueous solution or the like is performed to remove the rolling oil on the surface, if desired.
The surface roughening treatment of the aluminum plate is performed by various methods. For example, a method of mechanically roughening, a method of electrochemically dissolving and roughening a surface, and a method of selectively dissolving a surface chemically. This is done by the method of As the mechanical method, a known method such as a ball polishing method, a brush polishing method, a blast polishing method, or a buff polishing method can be used. Further, as an electrochemical surface roughening method, there is a method of performing alternating current or direct current in hydrochloric acid or nitric acid electrolyte. Further, as disclosed in JP-A-54-63902, a method in which both are combined can also be used.
The aluminum plate roughened in this way can be subjected to an anodizing treatment to enhance the water retention and wear resistance of the surface through an alkali etching treatment and a neutralization treatment, if desired. As the electrolyte used for the anodizing treatment of the aluminum plate, various electrolytes that form a porous oxide film can be used. In general, sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, chromic acid, or a mixed acid thereof is used. The concentration of these electrolytes is appropriately determined depending on the type of electrolyte.

陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれば適当である。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化被膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平版印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be specified in general. However, in general, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass solution, the liquid temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 5 to 60 A / day. dm 2 , voltage 1 to 100 V, and electrolysis time 10 seconds to 5 minutes are suitable.
The amount of the anodized film is suitably 1.0 g / m 2 or more, but more preferably in the range of 2.0 to 6.0 g / m 2. When the anodic oxide coating is less than 1.0 g / m 2 , the printing durability is insufficient, or the non-image part of the lithographic printing plate is easily scratched, so that the ink adheres to the scratched part during printing. “Scratches and dirt” are likely to occur.
Such an anodic oxidation treatment is applied to the surface used for printing on the support of the lithographic printing plate, but an anodized film of 0.01 to 3 g / m 2 is also formed on the back surface due to the back of the lines of electric force. It is common to form.

支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化処理の後に施されるものであり、公知の処理法が用いられる。このような親水化処理としては、米国特許第2,714,066号、同第3,181,461号、第3,280,734号及び第3,902,734号の各明細書に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩(例えば、珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、又は電解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第3,276,868号、同第4,153,461号、同第4,689,272号の各明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等が用いられる。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。
The hydrophilization treatment of the support surface is performed after the anodizing treatment, and a known treatment method is used. Such hydrophilization treatment is disclosed in US Pat. Nos. 2,714,066, 3,181,461, 3,280,734 and 3,902,734. There is an alkali metal silicate method (for example, sodium silicate aqueous solution). In this method, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution or electrolytically treated. In addition, potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and U.S. Pat. Nos. 3,276,868, 4,153,461, and 4,689,272 For example, a method of treating with polyvinylphosphonic acid as disclosed in the document is used.
Among these, a particularly preferred hydrophilic treatment in the present invention is a silicate treatment. The silicate treatment will be described below.

上述の如き処理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が0.1〜30質量%、好ましくは0.5〜10質量%であり、25℃でのpHが10〜13である水溶液に、例えば、15〜80℃で0.5〜120秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHが10より低いと液はゲル化し13.0より高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ土類金属塩若しくは第IVB族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩若しくは、第IVB族金属塩は単独又は2以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい範囲は0.01〜10質量%であり、更に好ましい範囲は0.05〜5.0質量%である。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
The anodized film of the aluminum plate subjected to the treatment as described above has an alkali metal silicate content of 0.1 to 30% by mass, preferably 0.5 to 10% by mass, and a pH at 25 ° C. of 10 to 13. For example, it is immersed in an aqueous solution at 15 to 80 ° C. for 0.5 to 120 seconds. If the pH of the alkali metal silicate aqueous solution is lower than 10, the solution will gel, and if it is higher than 13.0, the oxide film will be dissolved. Examples of the alkali metal silicate used in the present invention include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. Examples of the hydroxide used to increase the pH of the alkali metal silicate aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and lithium hydroxide. In addition, you may mix | blend alkaline-earth metal salt or a group IVB metal salt with said process liquid. Alkaline earth metal salts include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate, and water-soluble salts such as sulfate, hydrochloride, phosphate, acetate, oxalate, and borate. Can be mentioned. Examples of Group IVB metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, potassium potassium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride, zirconium tetrachloride, etc. Can do. Alkaline earth metal salts or Group IVB metal salts can be used alone or in combination of two or more. A preferable range of these metal salts is 0.01 to 10% by mass, and a more preferable range is 0.05 to 5.0% by mass.
Since the hydrophilicity on the surface of the aluminum plate is further improved by the silicate treatment, the ink hardly adheres to the non-image area during printing, and the stain performance is improved.

(バックコート層)
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、Si(OCH34、Si(OC254、Si(OC374、Si(OC494などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
以上のようにして、本発明に係る平版印刷版原版を作成することができる。
(Back coat layer)
A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a backcoat, a coating comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 A layer is preferably used.
Among these coating layers, silicon alkoxy compounds such as Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC 3 H 7 ) 4 , and Si (OC 4 H 9 ) 4 are available at a low price. The coating layer of the metal oxide provided therefrom is particularly preferred because of its excellent development resistance.
As described above, the planographic printing plate precursor according to the invention can be prepared.

〔製版〕
本発明に係る平版印刷版原版は、露光により画像形成(記録)が行なわれ、その後、後述する現像処理が施されることで製版される。なお、本発明の重合性組成物における重合反応も露光により実施される。
[Plate making]
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is subjected to image formation (recording) by exposure, and thereafter subjected to development processing described later to make a plate. The polymerization reaction in the polymerizable composition of the present invention is also carried out by exposure.

(露光)
本発明の画像記録材料及び重合性組成物は、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーにより画像露光されることが好ましい。
また、露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等の何れでもよい。
本発明においては、レーザー照射後直ちに現像処理を行ってもよいが、レーザー照射工程と現像工程の間に加熱処理を行ってもよい。加熱処理の条件は、80℃〜150℃の範囲内で10秒〜5分間行うことが好ましい。この加熱処理により、レーザー照射時、記録に必要なレーザーエネルギーを減少させることができる。
(exposure)
The image recording material and the polymerizable composition of the present invention are preferably subjected to image exposure with a solid-state laser and a semiconductor laser that emit infrared rays having a wavelength of 760 nm to 1200 nm.
Further, the exposure mechanism may be any of an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, and the like.
In the present invention, the development treatment may be performed immediately after the laser irradiation, but the heat treatment may be performed between the laser irradiation step and the development step. It is preferable to perform the conditions of heat processing within the range of 80 to 150 degreeC for 10 second-5 minutes. This heat treatment can reduce the laser energy required for recording during laser irradiation.

(現像)
本発明に係る平版印刷版原版は、通常、赤外線レーザーにより画像露光したのち、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液にて現像される。
用いられる現像液としては、アルカリ性水溶液が好ましく、好ましいpH領域としては、pH10.5〜12.5の範囲が挙げられ、pH11.0〜12.5の範囲のアルカリ性水溶液により現像処理することが更に好ましい。アルカリ性水溶液としてpH10.5未満のものを用いると非画像部に汚れが生じやすくなる傾向があり、pH12.5を超える水溶液により現像処理すると画像部の強度が低下するおそれがある。
(developing)
The lithographic printing plate precursor according to the invention is usually developed with water or an alkaline aqueous solution after image exposure with an infrared laser.
The developer used is preferably an alkaline aqueous solution, and a preferable pH range includes a pH range of 10.5 to 12.5, and further development processing is performed with an alkaline aqueous solution having a pH range of 11.0 to 12.5. preferable. If an alkaline aqueous solution having a pH of less than 10.5 is used, the non-image area tends to be smeared, and development with an aqueous solution having a pH of more than 12.5 may reduce the strength of the image area.

現像液として、アルカリ性水溶液を用いる場合、本発明に係る平版印刷版原版に用いられる現像液及び補充液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。
これらのアルカリ剤は単独又は2種以上を組み合わせて用いられる。
When an alkaline aqueous solution is used as the developer, a conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer and replenisher used in the lithographic printing plate precursor according to the invention. For example, sodium silicate, potassium, tribasic sodium phosphate, potassium, ammonium, dibasic sodium phosphate, potassium, ammonium, sodium carbonate, potassium, ammonium, sodium bicarbonate, potassium, Examples include inorganic alkali salts such as ammonium, sodium borate, potassium, ammonium, sodium hydroxide, ammonium, potassium, and lithium. Moreover, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanolamine, Organic alkali agents such as ethyleneimine, ethylenediamine, and pyridine are also used.
These alkali agents are used alone or in combination of two or more.

更に、自動現像機を用いて現像する場合には、現像液と同じもの、又は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、多量の平版印刷版原版を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。   Furthermore, when developing using an automatic developing machine, the developer in the developing tank can be developed for a long time by adding an aqueous solution (replenisher) that is the same as the developer or having a higher alkali strength than the developer to the developer. It is known that a large amount of a lithographic printing plate precursor can be processed without changing the liquid. This replenishment method is also preferably applied in the present invention.

現像液及び補充液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等を添加できる。
現像液中には界面活性剤を1〜20質量%加えることが好ましく、より好ましくは、3〜10質量%の範囲である。添加量がこの範囲内において、係る平版印刷版原版は、十分な現像性向上効果が得られ、画像の耐摩耗性などの強度が低下する懸念がない。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。具体的には、例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナトリウム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウム塩、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、イソブチルナフタレンスルホン酸のナトリウム塩、ポリオキシエチレングリコールモノナフチルエチル硫酸エステルのナトリウム塩、ドデンルベンゼンスルホン酸のナトリウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム塩などのようなアルキルアリールスルホン酸塩、第2ナトリウムアルキルサルフェートなどの炭素数8〜22の高級アルコール硫酸エステル類、セチルアルコールリン酸エステルのナトリウム塩などのような脂肪族アルコールリン酸エステル塩類、例えば、C1733CON(CH3)CH2CH2SO3Naなどのようなアルキルアミドのスルホン酸塩類、例えば、ナトリウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウムスルホコハク酸ジヘキシルエステルなどの二塩基性脂肪族エステルのスルホン酸塩類、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルトリメチルアンモニウムメトサルフェートなどのアンモニウム塩類、例えば、ステアラミドエチルジエチルアミン酢酸塩などのアミン塩、例えば、グリセロールの脂肪酸モノエステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸モノエステルなどの多価アルコール類、例えば、ポリエチレングリコールモノナフチルエチル、ポリエチレングリコールモノ(ノエルフェノール)エチルなどのポリエチレングリコールエチル類などが含まれる。
Various surfactants, organic solvents, and the like can be added to the developer and the replenisher as necessary for the purpose of promoting and suppressing developability, dispersing development residue, and improving the ink affinity of the printing plate image area.
It is preferable to add 1 to 20% by mass of a surfactant in the developer, and more preferably in the range of 3 to 10% by mass. When the addition amount is within this range, such a lithographic printing plate precursor can obtain a sufficient effect of improving developability, and there is no concern that the strength such as abrasion resistance of the image is lowered.
Preferred surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Specifically, for example, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, for example, sodium salt of isopropyl naphthalene sulfonic acid, sodium salt of isobutyl naphthalene sulfonic acid, polyoxyethylene glycol Higher alcohols having 8 to 22 carbon atoms such as sodium salt of mononaphthylethyl sulfate, sodium salt of dodene benzene sulfonic acid, alkyl aryl sulfonate such as sodium salt of metanitrobenzene sulfonic acid, secondary sodium alkyl sulfate, etc. sulfates, fatty alcohol phosphoric acid ester salts such as sodium salt of cetyl alcohol phosphate esters, e.g., C 17 H 33 CON ( H 3) CH 2 CH 2 SO 3 sulfonates of alkylamides such as Na, for example, sodium dioctylsulfosuccinate, sodium sulfo sulfonates of dibasic aliphatic esters such as succinic acid dihexyl ester, for example, lauryl Ammonium salts such as trimethylammonium chloride, lauryltrimethylammonium methosulfate, for example amine salts such as stearamide ethyl diethylamine acetate, polyhydric alcohols such as fatty acid monoester of glycerol, fatty acid monoester of pentaerythritol, for example, Examples include polyethylene glycol ethyls such as polyethylene glycol mononaphthyl ethyl and polyethylene glycol mono (noelphenol) ethyl.

好ましい有機溶剤としては、水に対する溶解度が約10質量%以下のものが挙げられ、更に好ましくは水に対する溶解度が5質量%以下のものから選ばれる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、3−フェニルプロパノール、1,4−フェニルブタノール、2,2−フェニルブタノール、1,2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキシベンジルアルコール、m―メトキシベンジルアルコール、p―メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノール、4−メチルシクロヘキサノール及び3−メチルシクロヘキサノール等を挙げることができる。有機溶媒の含有量は、使用時の現像液の総質量に対して1〜5質量%が好適である。その使用量は界面活性剤の使用量と密接な関係があり、有機溶媒の量が増すにつれ、界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界面活性剤の量が少ない状態で、有機溶媒の量を多く用いると有機溶媒が溶解せず、従って良好な現像性の確保が期待できなくなるからである。   Preferred organic solvents include those having a solubility in water of about 10% by mass or less, and more preferably those having a solubility in water of 5% by mass or less. For example, 1-phenylethanol, 2-phenylethanol, 3-phenylpropanol, 1,4-phenylbutanol, 2,2-phenylbutanol, 1,2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, o-methoxybenzyl alcohol, m -Methoxybenzyl alcohol, p-methoxybenzyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanol, 2-methylcyclohexanol, 4-methylcyclohexanol, 3-methylcyclohexanol and the like can be mentioned. The content of the organic solvent is preferably 1 to 5% by mass with respect to the total mass of the developer at the time of use. The amount used is closely related to the amount of surfactant used, and it is preferable to increase the amount of surfactant as the amount of organic solvent increases. This is because when the amount of the organic solvent is large and the amount of the surfactant is small, the organic solvent is not dissolved, and therefore it is impossible to expect good developability.

更に、現像液及び補充液には必要に応じて、消泡剤、硬水軟化剤のような添加剤を含有させることもできる。硬水軟化剤としては、例えば、Na227、Na533、Na333、Na24P(NaO3P)ΡO3Na2、カルゴン(ポリメタリン酸ナトリウム)などのポリリン酸塩、アミノポリカルボン酸類(例えば、エチレンジアミンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ジエチレントリアミンペンタ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;トリエチレンテトラミンヘキサ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;ニトリロトリ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ酢酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩)、他のポリカルボン酸類(例えば、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;2一ホスホノブタノントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)、有機ホスホン酸類(例えば、1−ホスホノエタントリカルボン酸−1,2、2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;1−ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウム塩、そのナトリウム塩;アミノトリ(メチレンホスホン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩など)を挙げることができる。このような硬水軟化剤の最適量は、使用される硬水の硬度及びその使用量に応じて変化するが、一般的には、使用時の現像液中に0.01〜5質量%、より好ましくは0.01〜0.5質量%の範囲で含有させ得る。 Furthermore, the developer and replenisher may contain additives such as an antifoaming agent and a hard water softening agent as necessary. The water softeners, e.g., Na 2 P 2 O 7, Na 5 P 3 O 3, Na 3 P 3 O 3, Na 2 O 4 P (NaO 3 P) ΡO 3 Na 2, Calgon (sodium polymetaphosphate) Such as polyphosphates, aminopolycarboxylic acids (eg, ethylenediaminetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; diethylenetriaminepentaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; triethylenetetraminehexaacetic acid, its potassium salt, its sodium salt Hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; nitrilotriacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,2-diaminocyclohexanetetraacetic acid, its potassium salt, its sodium salt; 1,3-diamino-2 -Propanol tetraacetic acid, its potassium salt, Sodium salt), other polycarboxylic acids (eg 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,4, potassium salt thereof, sodium salt thereof; 2-phosphonobutanone tricarboxylic acid-2,3,4, Potassium salt, sodium salt thereof, etc., organic phosphonic acids (eg, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-1,2,2, potassium salt, sodium salt thereof; 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, Potassium salt, sodium salt thereof; aminotri (methylenephosphonic acid), potassium salt thereof, sodium salt thereof and the like. The optimum amount of such a hard water softener varies depending on the hardness of the hard water used and the amount used, but is generally 0.01 to 5% by weight, more preferably in the developer at the time of use. May be contained in the range of 0.01 to 0.5% by mass.

更に、自動現像機を用いて、該平版印刷版を現像する場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液又は新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,882,246号明細書に記載されている方法で補充することが好ましい。   Further, when developing the lithographic printing plate using an automatic developing machine, the developing solution becomes fatigued according to the amount of processing. Therefore, the processing capacity can be recovered by using a replenishing solution or a fresh developing solution. Also good. In this case, it is preferable to replenish by the method described in US Pat. No. 4,882,246.

このような界面活性剤、有機溶剤及び還元剤等を含有する現像液としては、例えば、特開昭51−77401号公報に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、アルカリ剤及び水からなる現像液組成物、特開昭53−44202号公報に記載されている、ベンジルアルコール、アニオン性界面活性剤、及び水溶性亜硫酸塩を含む水性溶液からなる現像液組成物、特開昭55−155355号公報に記載されている、水に対する溶解度が常温において10質量%以下である有機溶剤、アルカリ剤、及び水を含有する現像液組成物等が挙げられ、本発明においても好適に使用される。   Examples of the developer containing such a surfactant, an organic solvent and a reducing agent include benzyl alcohol, anionic surfactant, alkali agent and water described in JP-A No. 51-77401. A developer composition comprising: an aqueous solution containing benzyl alcohol, an anionic surfactant, and a water-soluble sulfite described in JP-A-53-44202; -155355, a developer composition containing an organic solvent having a solubility in water of 10% by mass or less at normal temperature, an alkaline agent, and water, and the like, and is also preferably used in the present invention. The

以上記述した現像液及び補充液を用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の平版印刷版の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用いることができる。   The lithographic printing plate developed using the developer and replenisher described above is post-treated with a desensitizing solution containing rinsing solution containing a washing water, a surfactant and the like, gum arabic and starch derivatives. As the post-treatment of the planographic printing plate of the present invention, these treatments can be used in various combinations.

近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール等によって印刷版原版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、電気伝導度をセンサーにて感知し、自動的に補充することもできる。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
In recent years, automatic developing machines for printing plate materials have been widely used in the plate making and printing industries in order to rationalize and standardize plate making operations. This automatic developing machine is generally composed of a developing unit and a post-processing unit, and includes an apparatus for conveying a printing plate material, processing liquid tanks and a spray device. Each processing liquid pumped up is sprayed from a spray nozzle for development processing. Further, recently, a method is also known in which a printing plate precursor is immersed and conveyed in a processing liquid tank filled with a processing liquid by a submerged guide roll or the like. In such automatic processing, each processing solution can be processed while being supplemented with a replenisher according to the processing amount, operating time, and the like. In addition, the electrical conductivity can be detected by a sensor and replenished automatically.
In addition, a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused processing solution can also be applied.

以上のようにして得られた平版印刷版は、所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版としたい場合にはバーニング処理が施される。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスクィージ、或いは、スクィージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
The lithographic printing plate obtained as described above can be subjected to a printing process after applying a desensitized gum if desired. However, if it is desired to obtain a lithographic printing plate with higher printing durability, Processing is performed.
In the case of burning a lithographic printing plate, before burning, an adjustment as described in JP-B-61-2518, JP-A-55-28062, JP-A-62-31859, JP-A-61-159655 is used. It is preferable to treat with a surface liquid.
As its method, with a sponge or absorbent cotton soaked with the surface-adjusting liquid, it is applied onto a lithographic printing plate, or a method in which the printing plate is immersed and applied in a vat filled with the surface-adjusting liquid, Application by an automatic coater is applied. Further, it is more preferable to make the coating amount uniform with a squeegee or a squeegee roller after coating.

バーニング処理された平版印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いることができる。
The lithographic printing plate subjected to the burning treatment can be subjected to conventional treatments such as washing and gumming as needed, but a surface-conditioning solution containing a water-soluble polymer compound is used. In such a case, so-called desensitizing treatment such as gumming can be omitted.
The lithographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and can be used for printing a large number of sheets.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

〔実施例1〜11、比較例1、2〕
[基板の作製]
厚み0.3mmのアルミニウム版(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立て表面のエッチングを行い、水洗後、更に20%硝酸に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であった。
次にこの板を、7%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/m2の直流電極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥して基板[A]を作成した。
基板[A]を珪酸ナトリウム2重量%水溶液で25℃で15秒処理し、水洗して基板[B]を作成した。
[Examples 1 to 11, Comparative Examples 1 and 2]
[Production of substrate]
A 0.3 mm thick aluminum plate (material 1050) was washed with trichlorethylene and degreased, then this surface was etched using a nylon brush and a 400 mesh pumice-water suspension, washed with water, and further washed. It was immersed in 20% nitric acid for 20 seconds and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time was about 3 g / m 2 .
Next, this plate was provided with a DC electrode oxide film having a current density of 15 A / dm 2 and 3 g / m 2 using 7% sulfuric acid as an electrolytic solution, then washed with water and dried to prepare a substrate [A].
Substrate [A] was treated with a 2 wt% aqueous solution of sodium silicate at 25 ° C. for 15 seconds and washed with water to prepare substrate [B].

[中間層の形成]
次に下記の手順によりSG法の液状組成物(ゾル液)を調整した。
<ゾル液組成>
・メタノール 130g
・水 20g
・85重量%リン酸 16g
・テトラエトキシシラン 50g
・3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 60g
[Formation of intermediate layer]
Next, a SG method liquid composition (sol solution) was prepared by the following procedure.
<Sol solution composition>
・ Methanol 130g
・ Water 20g
・ 85% phosphoric acid 16g
・ Tetraethoxysilane 50g
・ 60 g of 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane

上記の各化合物を混合し、撹拌した。約5分で発熱が認められた。60分間反応させた後、内容物を別の容器へ移し、メタノール3000gを加えることにより、ゾル液を得た。
このゾル液をメタノール/エチレングリコール=9/1(重量比)で希釈して、上述の様に作製された基板[A]上に、基板上のSiの量が3mg/m2となるように塗布し、100℃にて1分間乾燥させ、基板[C]を得た。
The above compounds were mixed and stirred. An exotherm was observed in about 5 minutes. After reacting for 60 minutes, the contents were transferred to another container, and 3000 g of methanol was added to obtain a sol solution.
This sol solution is diluted with methanol / ethylene glycol = 9/1 (weight ratio) so that the amount of Si on the substrate is 3 mg / m 2 on the substrate [A] produced as described above. It apply | coated and dried at 100 degreeC for 1 minute, and board | substrate [C] was obtained.

[平版印刷版原版の形成]
上述の様に作成された基板[A]乃至基板[C]のいずれかを支持体とし、その表面に下記組成の記録層塗布液を塗布し、120℃で1分乾燥し、1.4g/m2の感光層を形成し、平版印刷版原版を得た。
[Formation of planographic printing plate precursor]
One of the substrates [A] to [C] prepared as described above is used as a support, a recording layer coating solution having the following composition is applied to the surface, dried at 120 ° C. for 1 minute, and 1.4 g / An m 2 photosensitive layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

<記録層塗布液>
・(A)赤外線吸収剤(表1に記載の化合物) 0.085g
・ラジカル重合開始剤(表1に記載の化合物) 0.23g
(実施例においては(B)成分に該当)
・(C)重合性化合物(表1に記載の化合物) 1.00g
・(D)バインダーポリマー(表1に記載の化合物) 1.05g
・(E)モノカルボン酸化合物 0.07g
(表1に記載の化合物、但し、実施例9〜11のみに添加)
・フッ素系ノニオン界面活性剤 0.025g
(F−177P 大日本インキ化学工業(株)製)
・エチルバイオレット−6Hnaps 0.040g
・メチルエチルケトン 9g
・1−メトキシ−2−プロパノール 10g
・メタノール 5g
<Recording layer coating solution>
-(A) Infrared absorber (compound described in Table 1) 0.085 g
-Radical polymerization initiator (compound described in Table 1) 0.23 g
(In the examples, it corresponds to the component (B))
-(C) Polymerizable compound (compound described in Table 1) 1.00 g
-(D) Binder polymer (compound described in Table 1) 1.05 g
・ (E) Monocarboxylic acid compound 0.07g
(Compounds listed in Table 1, but added only in Examples 9-11)
・ Fluorine nonionic surfactant 0.025g
(F-177P, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Ethyl violet-6Hnaps 0.040g
・ Methyl ethyl ketone 9g
・ 10 g of 1-methoxy-2-propanol
・ Methanol 5g

Figure 2005077984
Figure 2005077984

なお、実施例1〜11で用いたラジカル重合開始剤は、本発明の特徴的成分である(B)特定開始剤であり、比較例1、2で用いたラジカル重合開始剤は、本発明の範囲外のラジカル重合開始剤である。以下に、比較例でラジカル重合開始剤(H−1)、(H−2)の構造を示す。   In addition, the radical polymerization initiator used in Examples 1-11 is (B) specific initiator which is the characteristic component of this invention, and the radical polymerization initiator used in Comparative Examples 1 and 2 is the thing of this invention. It is a radical polymerization initiator outside the range. The structures of radical polymerization initiators (H-1) and (H-2) are shown below as comparative examples.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

以下に、本発明の実施例で用いた(A)赤外線吸収剤(IR−1)〜(IR−3)の構造を示す。   The structures of (A) infrared absorbers (IR-1) to (IR-3) used in the examples of the present invention are shown below.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

本発明の実施例で用いた(C)重合性化合物(M−1)、(M−2)は、以下のとおりである。
(M−1):新中村化学工業(株)社製 NKエステル A−BPE−4
(M−2):日本化薬(株)社製 KAYARAD D−310
(C) The polymerizable compounds (M-1) and (M-2) used in the examples of the present invention are as follows.
(M-1): Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. NK ester A-BPE-4
(M-2): KAYARAD D-310 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.

以下に、本発明の実施例で用いた(D)バインダーポリマー(P−1)、(P−2)の構造を示す。また、(P−3)は、下記(a)〜(d)のジイソシアネート及びジオールの縮合物であるポリウレタン樹脂である。
(a)4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート
(b)ヘキサメチレンジイソシアネート
(c)ポリプロピレングルコール(重量平均分子量:1000)
(d)2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸
(共重合モル比:a/b/c/d=40/10/15/35)
The structures of (D) binder polymers (P-1) and (P-2) used in the examples of the present invention are shown below. (P-3) is a polyurethane resin which is a condensate of diisocyanate and diol of the following (a) to (d).
(A) 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (b) hexamethylene diisocyanate (c) polypropylene glycol (weight average molecular weight: 1000)
(D) 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid (copolymerization molar ratio: a / b / c / d = 40/10/15/35)

Figure 2005077984
Figure 2005077984

以下に、本発明の実施例で用いた(E)モノカルボン酸化合物(E−1)、(E−2)の構造を示す。   The structures of (E) monocarboxylic acid compounds (E-1) and (E-2) used in the examples of the present invention are shown below.

Figure 2005077984
Figure 2005077984

[保護層の形成]
上述のように形成された記録層上に、ポリビニルアルコール(ケン化度:98モル%、重合度:550)の3質量%水溶液を、乾燥後の塗布量が2g/m2となるように塗布し、100℃で1分間乾燥して保護層を設けた。
以上のようにして、実施例1〜11、比較例1、2の平版印刷版原版を得た。
[Formation of protective layer]
A 3% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (degree of saponification: 98 mol%, degree of polymerization: 550) was applied on the recording layer formed as described above so that the application amount after drying was 2 g / m 2. And dried at 100 ° C. for 1 minute to provide a protective layer.
As described above, lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2 were obtained.

〔強制経時での現像性変動の評価〕
得られた実施例1〜11、比較例1、2の平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザーを搭載したCreo社製Trendsetter3244VXにて、出力4Wで外面ドラムの回転数を120回転として露光した。次いで、35℃の現像液(富士写真フイルム社製DV−2現像液/水=1/4)に浸漬して、現像部(非画像部)の残色率が3%以下になるまでに掛かった現像時間を求めた。
続いて、同様の平版印刷版原版を、強制経時条件、湿度75%、温度40℃で70時間放置した後、上記現像性の評価と同様の条件で露光および現像を行い、さらに上記と同様にして現像部(非画像部)の残色率が3%以下になるまでにかかった現像時間を求めた。
なお、非画像部の残色率は、X−Rite社製、Spectrodensitometerのシアン濃度により測定した。
[Evaluation of developability variation with forced aging]
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2 thus obtained were exposed using a Trend setter 3244VX manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser with an output of 4 W and an outer drum rotating speed of 120 revolutions. did. Next, it is immersed in a developer at 35 ° C. (DV-2 developer / water = 1/4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) until the residual color ratio of the developing part (non-image part) becomes 3% or less. The development time was determined.
Subsequently, the same lithographic printing plate precursor was allowed to stand for 70 hours at a forced aging condition, 75% humidity, and 40 ° C., and then exposed and developed under the same conditions as in the evaluation of the developability. Thus, the development time required until the remaining color ratio of the developing portion (non-image portion) became 3% or less was obtained.
The remaining color ratio of the non-image area was measured by the cyan density of Spectrodensitometer manufactured by X-Rite.

上記強制経時を行わなかった平版印刷版原版の現像時間と、強制経時後の平版印刷版原版の現像時間とを比較し、その差を求めた。強制経時あり、なしでの現像時間差が小さい程、経時での現像性変動が小さいことを表す。5秒以下は有効である。結果を表1に併記する。   The development time of the lithographic printing plate precursor not subjected to forced aging was compared with the development time of the lithographic printing plate precursor after forced aging, and the difference was determined. The smaller the development time difference with and without forced aging, the smaller the change in developability with time. 5 seconds or less is effective. The results are also shown in Table 1.

〔ディスクリミネーションの評価〕
実施例1〜11、比較例1、2の平版印刷版原版を、上記と同様の条件で露光し、35℃の現像液(富士写真フイルム社製DV−2現像液/水=1/4)に30秒間浸漬して現像を行い、平版印刷版を得た。
次いで、画像部と非画像部をそれぞれ、X−Rite社製、Spectrodensitometerのシアン濃度により測定した。
記録層を塗布していない版と、記録層を塗布した現像前の版をそれぞれ該シアン濃度により測定し、その濃度差を100%として、上記露光、現像後の画像部と非画像部との濃度差を比較した。96%以上を良好とする。結果を表1に併記した。
[Evaluation of Discrimination]
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2 were exposed under the same conditions as described above, and a developer at 35 ° C. (DV-2 developer / water = 1/4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) And developed for 30 seconds to obtain a lithographic printing plate.
Subsequently, the image part and the non-image part were measured by X-Rite Co. and Spectrodensitometer cyan density, respectively.
The plate without the recording layer applied and the plate with the recording layer applied before development were measured by the cyan density, and the density difference was taken as 100% to determine the difference between the exposed and developed image area and non-image area. Concentration differences were compared. 96% or more is considered good. The results are also shown in Table 1.

〔耐刷性の評価〕
実施例1〜11、比較例1、2の平版印刷版原版を、上記現像性の評価と同様の条件で露光し、同様の現像液を用いて、残色率(上記と同様の方法にて測定)が3%以下になるように時間を変更して現像を行った。
次いで、小森コーポレーション(株)製リスロン40印刷機で、インキとして、大日本インキ化学工業(株)製のValues−G墨Nを使用し、湿し水成分として、富士写真フイルム(株)製IF−102を4%使用して印刷を行なった。比較例1において、目視にて画像部のかすれや白抜けのないきれいな画像が得られた枚数を100として、実施例1〜11、比較例2の平版印刷版についてその相対値を求めた。結果を表1に併記する。
[Evaluation of printing durability]
The lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 and 2 were exposed under the same conditions as in the evaluation of the developability, and using the same developer, the residual color rate (in the same manner as described above) Development was carried out while changing the time so that (measurement) was 3% or less.
Next, Value-G ink N manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc. was used as the ink on a Lithlon 40 printing machine manufactured by Komori Corporation, and IF manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. as the dampening water component. Printing was performed using 4% of -102. In Comparative Example 1, the relative number of the lithographic printing plates of Examples 1 to 11 and Comparative Example 2 was determined, assuming that the number of images obtained by visually observing a clear image without blurring or white spots was 100. The results are also shown in Table 1.

表1の結果より、本発明の実施例1〜11の平版印刷版原版は、比較例1、2に比べ、高温高湿度などの厳しい雰囲気下で保存した場合においても経時的な現像性の低下が見られず、ディスクリミネーション、及び、耐刷性に優れていることが分かった。
また、(E)モノカルボン酸化合物を添加した実施例9〜11の平版印刷版原版は、(E)成分を添加しなかった他の実施例と比べ、現像性の経時安定性、ディスクリミネーション、及び、耐刷性が向上していることが確認された。
From the results shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 11 of the present invention have lower developability over time even when stored in a severe atmosphere such as high temperature and high humidity as compared with Comparative Examples 1 and 2. This was found to be excellent in discrimination and printing durability.
In addition, the lithographic printing plate precursors of Examples 9 to 11 to which (E) the monocarboxylic acid compound was added were more stable than the other examples to which the component (E) was not added. It was confirmed that the printing durability was improved.

Claims (8)

(A)波長700〜1300nmに吸収を有する色素と、
(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤と、
(C)エチレン性不飽和結合を有する化合物と、
を含有することを特徴とする重合性組成物。
(A) a dye having absorption at a wavelength of 700 to 1300 nm;
(B) a radical polymerization initiator having an alkali-soluble group;
(C) a compound having an ethylenically unsaturated bond;
A polymerizable composition comprising:
(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤が、オニウム塩構造を有することを特徴とする請求項1に記載の重合性組成物。 (B) The polymerizable composition according to claim 1, wherein the radical polymerization initiator having an alkali-soluble group has an onium salt structure. 更に、(D)バインダーポリマーを有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の重合性組成物。 The polymerizable composition according to claim 1, further comprising (D) a binder polymer. (D)バインダーポリマーが、下記一般式(I)で表される構造単位を有することを特徴とする請求項3に記載の重合性組成物。
Figure 2005077984
(一般式(I)中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子からなる群から選択される1以上の原子から構成された連結基を表し、その置換基を除いた原子数は2〜30である。Aは酸素原子又は−NR3−を表し、R3は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。)
The polymerizable composition according to claim 3, wherein (D) the binder polymer has a structural unit represented by the following general formula (I).
Figure 2005077984
(In General Formula (I), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents one or more atoms selected from the group consisting of a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, and a halogen atom. The number of atoms excluding the substituent is 2 to 30. A represents an oxygen atom or —NR 3 —, and R 3 represents a hydrogen atom or a monovalent group having 1 to 10 carbon atoms. And n represents an integer of 1 to 5.)
更に、(E)下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の重合性組成物。
Figure 2005077984
(一般式(1)中、Aは芳香族基または複素環基を表す。R1またはR2はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。なお、R1とR2、R1およびR2のいずれかとX、R1およびR2のいずれかとA、AとXは互いに結合して環構造を形成してもよい。Xは−O−、−S−、−SO2−、−NH−、−N(R3)−、−CH2−、−CH(R4)−、及び−C(R4)(R5)−から選択される2価の連結基を表し、R3、R4、R5はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表す。)
Furthermore, (E) The compound represented by following General formula (1) is contained, The polymeric composition of any one of Claim 1 thru | or 4 characterized by the above-mentioned.
Figure 2005077984
(In the formula (1), A is the respective .R 1 or R 2 represents an aromatic group or a heterocyclic group independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent. In addition, R 1 and R 2, R 1 and R 2 and X, R 1 and R 2 and A, A and X may be bonded to each other to form a ring structure, where X is —O—, —S—, —SO 2 —. , -NH -, - N (R 3) -, - CH 2 -, - CH (R 4) -, and -C (R 4) (R 5 ) - represents a divalent linking group selected from, R 3 , R 4 and R 5 each independently represents a hydrogen atom or a monovalent substituent.)
(B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤が、スルホニウム塩であることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の重合性組成物。 (B) The polymerizable composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the radical polymerization initiator having an alkali-soluble group is a sulfonium salt. (B)アルカリ可溶性基を有するラジカル重合開始剤が、スルホニウムカチオンとスルホン酸アニオンとからなるスルホニウム塩であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の重合性化合物。 (B) The polymerizable compound according to any one of claims 1 to 6, wherein the radical polymerization initiator having an alkali-soluble group is a sulfonium salt composed of a sulfonium cation and a sulfonate anion. 支持体上に、請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の重合性組成物を含有する記録層を有する画像記録材料。 An image recording material having a recording layer containing the polymerizable composition according to any one of claims 1 to 7 on a support.
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