JP2005076212A - 地盤改良体造成装置及びその工法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対象地盤に形成された削孔内にて硬化材を噴射することにより固化体を造成すべく、前進後退可能かつ回転可能なロッド部11とモニター部12とを有する地盤改良体造成装置10において、モニター部12が軸に対して垂直に互いに反対方向に延びる一対の攪拌翼13a,13bと、硬化材を噴射すべく側面に開口する少なくとも一対の噴射口14a,14bとを具備し、噴射口14a,14bの各々が、軸に垂直な方向に対して傾斜しつつ一対の攪拌翼13a,13bのいずれか一方の先端へ向けて硬化材を噴射可能に設けられる。
【選択図】図1
Description
(1)請求項1に係る地盤改良体造成装置は、対象地盤に形成された削孔内にて硬化材を噴射することにより固化体を造成すべく、前進後退可能かつ回転可能なロッド部と、該ロッド部に接続されるモニター部とを有する地盤改良体造成装置であり、前記モニター部が、前記ロッド部の軸に対して垂直に互いに反対方向に延びる一対の攪拌翼と、前記硬化材を噴射すべく側面に開口する少なくとも一対の噴射口とを具備する。
そして、前記少なくとも一対の噴射口の各々が、前記ロッド部の軸に垂直な方向に対して傾斜しつつ前記一対の攪拌翼のいずれか一方の先端へ向けて前記硬化材を噴射可能に設けられることを特徴とする。
図1は、本発明による地盤改良体造成装置10の一実施例を概略的に示す部分的斜視図である。地盤改良体造成装置10は、地上に設置された地盤改良機(図示せず)により対象地盤中を前進後退駆動及び回転駆動(矢印R)される。地盤改良体造成装置10は、地上に設置される図示しないプラント装置から送られる水又は硬化材の供給口を具備するスイベル部(図示せず)と、スイベル部から送られる水又は硬化材を移送する管を内蔵するロッド部11と、ロッド部11から送られる水又は硬化材を噴射する側面の噴射口14a(図では裏面側にあるため見えていない)、14bを具備するモニター部12とを回転軸(ロッド部の軸C)に沿って連結してなる。一例として、ロッド部の径は90〜140mm、噴射口の径は、例えば2.1〜3.4mmである。尚、本明細書では、地盤改良体造成装置10について、図1における上方側を「基部側」と、下方側を「先端側」と表現することとする。
11 ロッド部
12 モニター部
13a、13b 攪拌翼
14a〜14d 噴射口
15 掘削ビット
30 硬化材
60a〜60d 固化体
Claims (4)
- 対象地盤に形成された削孔内にて硬化材を噴射することにより固化体を造成すべく、前進後退可能かつ回転可能なロッド部と、該ロッド部に接続されるモニター部とを有する地盤改良体造成装置において、
前記モニター部が、前記ロッド部の軸に対して垂直に互いに反対方向に延びる一対の攪拌翼と、前記硬化材を噴射すべく側面に開口する少なくとも一対の噴射口とを具備し、
前記少なくとも一対の噴射口の各々が、前記ロッド部の軸に垂直な方向に対して傾斜しつつ前記一対の攪拌翼のいずれか一方の先端へ向けて前記硬化材を噴射可能に設けられることを特徴とする
地盤改良体造成装置。 - 前記噴射口が一対設けられる場合に、その1つが前記ロッド部の軸上の前記攪拌翼より基部側に設けられ、かつ他の1つが該攪拌翼より先端側に設けられることを特徴とする請求項1に記載の地盤改良体造成装置。
- 前記噴射口が二対設けられる場合に、その一対が前記ロッド部の軸上の前記攪拌翼より基部側にて該ロッド部の軸に対してそれぞれ反対方向に向けて設けられ、他の一対が該攪拌翼より先端側にて該ロッド部の軸に対してそれぞれ反対方向に向けて設けられることを特徴とする請求項1に記載の地盤改良体造成装置。
- 前進後退可能かつ回転可能なロッド部と、該ロッド部に接続されるモニター部とを有する地盤改良体造成装置を用いて対象地盤に形成された削孔内にて硬化材を噴射することにより固化体を造成する地盤改良体造成工法において、
前記モニター部に、前記ロッド部の軸に対して垂直に互いに反対方向に延びる一対の攪拌翼と、前記硬化材を噴射すべく側面に開口する少なくとも一対の噴射口とを設け、
前記少なくとも一対の噴射口の各々から、前記ロッド部の軸に垂直な方向に対して傾斜しつつ前記一対の攪拌翼のいずれか一方の先端へ向けて前記硬化材を噴射することを特徴とする
地盤改良体造成工法。
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JP2003305073A JP2005076212A (ja) | 2003-08-28 | 2003-08-28 | 地盤改良体造成装置及びその工法 |
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Cited By (3)
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JP2010285788A (ja) * | 2009-06-11 | 2010-12-24 | Flowtechno Corp | 地盤硬化層造成工法とその装置 |
JP6127256B1 (ja) * | 2015-12-30 | 2017-05-17 | 基盤技研株式会社 | 高圧噴射ノズル装置およびそれが装着された地盤改良装置 |
JP6141555B1 (ja) * | 2017-03-12 | 2017-06-07 | 基盤技研株式会社 | 高圧噴射ノズル装置およびそれが装着された地盤改良装置 |
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2003
- 2003-08-28 JP JP2003305073A patent/JP2005076212A/ja active Pending
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JP2018150706A (ja) * | 2017-03-12 | 2018-09-27 | 基盤技研株式会社 | 高圧噴射ノズル装置およびそれが装着された地盤改良装置 |
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