JP2005072285A - 平行平板型プラズマcvd装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 反応室内に電力を印加する電極と、これに対向するプレートとを配するとともに電極とプレートとの間でプラズマを発生させ、前記プレートの上に載置した基板に成膜する平行平板型プラズマCVD装置において、前記プレートの一部分に切欠部を設けたことを特徴とする平行平板型プラズマCVD装置。
【選択図】 図1
Description
2・・・プレート
3・・・基板位置決めピン
4・・・切欠部(周囲)
5・・・切欠部(中央)
6・・・カート
7・・・ロード室
8・・・反応室
9・・・アンロード室
10・・・ヒータ
11・・・搬送機構
12・・・RF電源
13・・・電極板
14・・・マスフローメータ
15・・・リーク弁
16・・・仕切弁
17・・・金属枠
18・・・プレート固定冶具
19・・・プレート上基板が載置されない箇所
20・・・プレート上基板が載置されない箇所
Claims (3)
- 反応室内に電力を印加する電極と、これに対向するプレートとを配するとともに電極とプレートとの間でプラズマを発生させ、前記プレートの上に載置した基板に成膜する平行平板型プラズマCVD装置において、前記プレートの一部分に切欠部を設けたことを特徴とする平行平板型プラズマCVD装置。
- 前記切欠部は前記プレートに複数あることを特徴とする請求項1に記載の平行平板型プラズマCVD装置。
- 前記成膜を行う反応室にはヒータが取り付けられていることを特徴とする請求項1に記載の平行平板型プラズマCVD装置。
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