JP2005064313A - Probe card, probe equipment and method for manufacturing semiconductor device - Google Patents

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JP2005064313A JP2003294200A JP2003294200A JP2005064313A JP 2005064313 A JP2005064313 A JP 2005064313A JP 2003294200 A JP2003294200 A JP 2003294200A JP 2003294200 A JP2003294200 A JP 2003294200A JP 2005064313 A JP2005064313 A JP 2005064313A
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probe
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実 山口
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a probe card, a probe device and a semiconductor device for suppressing the deterioration of the strength of a connecting means, and for reducing the increase of a price even when the number of pins is increased. <P>SOLUTION: This probe device is configured to execute a probe test to a semiconductor wafer W, and provided with a probe card substrate 5, a recess arranged on the side face of the substrate 5, a conductive metallic sphere arranged in the recessed part, a mounting member 4 on which the substrate 5 is mounted, and to which the substrate 5 is connected through the conductive metallic sphere, a performance board 2 electrically connected to the member 4, a test head 1 electrically connected to this and a wafer holding mechanism for holding a semiconductor wafer. The mounting member 4 is formed with a hollow 4a, and the probe card substrate 5 is fit and mounted in the hollow, and an electrode pad is arranged on the internal surface of the hollow, and the electrode pad is brought into contact with the conductive metallic sphere, and the metallic sphere is connected through a conductive spring to the internal surface of the recess. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、プローブカード、プローブ装置及び半導体装置の製造方法に係わり、特に、ピン数が増加しても接続手段の強度低下を抑制し、価格上昇を軽減できるプローブカード、プローブ装置及び半導体装置の製造方法に関する。   The present invention relates to a probe card, a probe device, and a method for manufacturing a semiconductor device, and more particularly, to a probe card, a probe device, and a semiconductor device that can suppress a decrease in strength of connection means even if the number of pins increases and reduce a price increase. It relates to a manufacturing method.

半導体プロセス工程で半導体ウエハ上に多数のICチップを形成した場合には、その半導体ウエハのまま個々のICチップについて電気的特性の検査を行い、不良品をスクリーニングするようにしている。そして、この検査には通常、プローブ装置が用いられている。このプローブ装置は半導体ウエハ上の個々のICチップが有する電極パッドにプローブカードのプローブ針を接触させ、プローブ針から所定の電圧を印加することにより各ICチップの導通試験などの電気的検査を行って個々のICチップが電気的特性を有するか否かをテスタを介して試験する装置である。   When a large number of IC chips are formed on a semiconductor wafer in a semiconductor process step, the electrical characteristics of each IC chip are inspected as they are, and defective products are screened. In general, a probe device is used for this inspection. In this probe device, the probe needle of the probe card is brought into contact with the electrode pad of each IC chip on the semiconductor wafer, and a predetermined voltage is applied from the probe needle to perform electrical inspection such as continuity test of each IC chip. This is a device for testing whether or not each IC chip has electrical characteristics through a tester.

図6は、従来のプローブ装置におけるテストヘッドからプローブカードまでの接続関係を示す断面図である(特開平6−294818号公報)。
テストヘッド101はパフォーマンスボード103を介してプローブカード106に接続されている。プローブカード106はプローブ針107を有しており、パフォーマンスボード103はスプリング式軸104及びプローブカード受け基板105を有している。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a connection relationship from a test head to a probe card in a conventional probe device (Japanese Patent Laid-Open No. 6-294818).
The test head 101 is connected to the probe card 106 via the performance board 103. The probe card 106 has a probe needle 107, and the performance board 103 has a spring-type shaft 104 and a probe card receiving substrate 105.

パフォーマンスボード103はワイヤリングケーブル機構を保持しており、そこにプローブカード106が直接取り付くように構成している。この状態での信号の伝達ラインは、LSIテスタからの出力がテストヘッド101からポゴピン102を経由し、パフォーマンスボード103で受けた信号がパフォーマンスボード上配線111を通り、パフォーマンスボード103上のポゴピン102を経由してプローブカード106へ伝えられるものである。   The performance board 103 holds a wiring cable mechanism, and is configured such that the probe card 106 is directly attached thereto. In this state, the signal transmission line is such that the output from the LSI tester passes from the test head 101 via the pogo pin 102, the signal received by the performance board 103 passes through the performance board wiring 111, and the pogo pin 102 on the performance board 103 passes through the pogo pin 102. The information is transmitted to the probe card 106 via.

また、プローバ側におけるプローブカード106の固定方法については、プローバ側受け台109にプローブカード106のガイドピン108を設けることで位置の精度が補償され、直接プローブカード106をプローバ側に固定する必要はなく、固定はテストヘッド101の自重とテストヘッドのクランプ機構によって行えるものである。   As for the method of fixing the probe card 106 on the prober side, the position accuracy is compensated by providing the probe pin 106 guide pins 108 on the prober side cradle 109, and it is necessary to directly fix the probe card 106 to the prober side. The fixing can be performed by the weight of the test head 101 and the clamp mechanism of the test head.

特開平6−294818号公報(2〜3頁、図1)JP-A-6-294818 (2-3 pages, FIG. 1)

上述したように従来のプローブ装置では、プローブカード106とテストヘッド101の電気的接続にはバネ入りのポゴピン102を使用しており、このポゴピンはプローブカードの裏面と接触している。LCDドライバー用ICチップ等、近年のICチップはピン数が増える傾向にあるため、ICチップの電極パッドとテストヘッドとを電気的に接続する接続手段であるポゴピンの微細化を進める必要がある。しかし、ポゴピンを微細化するとポゴピンの強度が不足したり、価格が上昇してしまうことになる。   As described above, the conventional probe device uses the spring loaded pogo pin 102 for electrical connection between the probe card 106 and the test head 101, and this pogo pin is in contact with the back surface of the probe card. Since recent IC chips such as IC chips for LCD drivers have a tendency to increase the number of pins, it is necessary to advance miniaturization of pogo pins which are connection means for electrically connecting the electrode pads of the IC chip and the test head. However, if the pogo pins are made finer, the strength of the pogo pins will be insufficient and the price will increase.

本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、ピン数が増加しても接続手段の強度低下を抑制し、価格上昇を軽減できるプローブカード、プローブ装置及び半導体装置の製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in consideration of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a probe card, a probe device, and a semiconductor capable of suppressing a decrease in the strength of connection means and reducing an increase in price even if the number of pins increases. It is to provide a method for manufacturing an apparatus.

上記課題を解決するため、本発明に係るプローブカードは、半導体ウエハにプローブ試験を行うためのプローブカードであって、
プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、
を具備し、
前記接続端子は前記プローブカード基板をテストヘッドに接続するためのものである。
In order to solve the above problems, a probe card according to the present invention is a probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer,
A recess provided on the side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
Comprising
The connection terminal is for connecting the probe card substrate to a test head.

上記プローブカードによれば、プローブカード基板の側面に凹部を設け、この凹部内に接続端子を配置し、この接続端子によってプローブカード基板をテストヘッドに接続している。つまり、従来技術のようにポゴピンを用いることなく、凹部内に配置した接続端子をプローブカードとテストヘッドを接続する接続手段としている。従って、ICチップのピン数が増加しても接続手段の強度を十分確保することができる。また、プローブカード基板の側面の凹部と、この凹部内に配置した接続端子によって接続手段を構成しているため、接続手段を微細化しても価格上昇を軽減することが可能である。   According to the probe card, a concave portion is provided on the side surface of the probe card substrate, a connection terminal is disposed in the concave portion, and the probe card substrate is connected to the test head by the connection terminal. That is, the connection terminals arranged in the recesses are used as connection means for connecting the probe card and the test head without using pogo pins as in the prior art. Therefore, the strength of the connecting means can be sufficiently ensured even if the number of pins of the IC chip increases. In addition, since the connection means is constituted by the concave portion on the side surface of the probe card substrate and the connection terminal arranged in the concave portion, it is possible to reduce the price increase even if the connection means is miniaturized.

また、本発明に係るプローブカードにおいては、前記接続端子と前記凹部の内面に弾性体が繋げられていることも可能である。尚、前記弾性体は例えば導電性バネである。
また、本発明に係るプローブカードにおいては、前記接続端子が球形状又は楕円体形状を有することが好ましい。
また、本発明に係るプローブカードにおいては、前記プローブカード基板の側面に取り付けられ、前記プローブカード基板の側面を覆うように配置された、前記接続端子を押さえるリングをさらに具備することも可能である。
In the probe card according to the present invention, an elastic body may be connected to the inner surface of the connection terminal and the recess. The elastic body is, for example, a conductive spring.
In the probe card according to the present invention, it is preferable that the connection terminal has a spherical shape or an ellipsoidal shape.
The probe card according to the present invention may further include a ring that is attached to a side surface of the probe card substrate and is disposed so as to cover the side surface of the probe card substrate and that holds the connection terminal. .

本発明に係るプローブ装置は、半導体ウエハにプローブ試験を行うプローブ装置であって、
プローブカード基板と、
前記プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、
前記プローブカード基板が装着され、前記プローブカード基板が前記接続端子を介して接続される装着部材と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備する。
A probe apparatus according to the present invention is a probe apparatus that performs a probe test on a semiconductor wafer,
A probe card substrate;
A recess provided on a side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
The mounting member to which the probe card substrate is mounted, and the probe card substrate is connected via the connection terminal;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
It comprises.

上記プローブ装置によれば、プローブカード基板の側面に凹部を設け、この凹部内に接続端子を配置し、この接続端子を装着部材に接続してテストヘッドへの接続手段としている。つまり、従来技術のようにポゴピンを用いることなく、前記接続手段を用いてプローブカード基板とテストヘッドを接続している。従って、ICチップのピン数が増加しても前記接続手段の強度を十分確保することができる。また、プローブカード基板の側面の凹部と、この凹部内に配置した接続端子によって接続手段を構成しているため、接続手段を微細化しても価格上昇を軽減することが可能である。   According to the probe device, the concave portion is provided on the side surface of the probe card substrate, the connection terminal is disposed in the concave portion, and the connection terminal is connected to the mounting member to serve as the connection means to the test head. That is, the probe card substrate and the test head are connected using the connection means without using the pogo pins as in the prior art. Therefore, even if the number of pins of the IC chip increases, the strength of the connecting means can be sufficiently ensured. In addition, since the connection means is constituted by the concave portion on the side surface of the probe card substrate and the connection terminal arranged in the concave portion, it is possible to reduce the price increase even if the connection means is miniaturized.

また、本発明に係るプローブ装置においては、前記装着部材に設けられた窪みをさらに具備し、前記窪みに前記プローブカード基板が嵌め込まれて装着されていることも可能である。
また、本発明に係るプローブ装置においては、前記窪みの内面に配置された電極パッドをさらに具備し、前記電極パッドが前記接続端子に接触していることも可能である。
The probe device according to the present invention may further include a recess provided in the mounting member, and the probe card board may be fitted and mounted in the recess.
The probe device according to the present invention may further include an electrode pad disposed on the inner surface of the recess, and the electrode pad may be in contact with the connection terminal.

また、本発明に係るプローブ装置においては、前記接続端子と前記凹部の内面に繋げられた弾性体をさらに具備し、前記弾性体の反発力によって前記装着部材に前記プローブカード基板が固定されることも可能である。   The probe device according to the present invention further includes an elastic body connected to the connection terminal and the inner surface of the recess, and the probe card substrate is fixed to the mounting member by a repulsive force of the elastic body. Is also possible.

本発明に係るプローブ装置は、半導体ウエハにプローブ試験を行うプローブ装置であって、
プローブカード基板と、
前記プローブカード基板が装着される装着部材と、
前記装着部材に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置され、前記プローブカード基板に接続される接続端子と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備する。
A probe apparatus according to the present invention is a probe apparatus that performs a probe test on a semiconductor wafer,
A probe card substrate;
A mounting member to which the probe card substrate is mounted;
A recess provided in the mounting member;
A connection terminal disposed in the recess and connected to the probe card substrate;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
It comprises.

上記プローブ装置によれば、装着部材に凹部を設け、この凹部内に接続端子を配置し、この接続端子をテストヘッドへの接続手段としている。つまり、従来技術のようにポゴピンを用いることなく、前記接続手段を用いてプローブカード基板とテストヘッドを接続している。従って、ICチップのピン数が増加しても前記接続手段の強度を十分確保することができる。また、装着部材の内側面の凹部と、この凹部内に配置した接続端子によって接続手段を構成しているため、接続手段を微細化しても価格上昇を軽減することが可能である。   According to the probe device, the mounting member is provided with a recess, the connection terminal is disposed in the recess, and the connection terminal is used as a connection means to the test head. That is, the probe card substrate and the test head are connected using the connection means without using the pogo pins as in the prior art. Therefore, even if the number of pins of the IC chip increases, the strength of the connecting means can be sufficiently ensured. Further, since the connecting means is constituted by the concave portion on the inner surface of the mounting member and the connection terminal arranged in the concave portion, it is possible to reduce the price increase even if the connecting means is miniaturized.

また、本発明に係るプローブ装置においては、前記装着部材に設けられた窪みをさらに具備し、前記窪みに前記プローブカード基板が嵌め込まれて装着されていることも可能である。
また、本発明に係るプローブ装置においては、前記プローブカード基板の側面に配置された電極パッドをさらに具備し、前記電極パッドが前記接続端子に接触していることも可能である。
The probe device according to the present invention may further include a recess provided in the mounting member, and the probe card board may be fitted and mounted in the recess.
The probe device according to the present invention may further include an electrode pad disposed on a side surface of the probe card substrate, and the electrode pad may be in contact with the connection terminal.

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体ウエハに分割する前のICチップを作製する工程と、
前記半導体ウエハにプローブカードを用いてプローブ試験を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記プローブカードは、プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、を備え、
前記接続端子は前記プローブカード基板をテストヘッドに接続するためのものである。
A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of manufacturing an IC chip before being divided into semiconductor wafers,
Performing a probe test using a probe card on the semiconductor wafer;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
The probe card has a recess provided on a side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
The connection terminal is for connecting the probe card substrate to a test head.

上記半導体装置の製造方法によれば、プローブカード基板の側面に凹部を設け、この凹部内に接続端子を配置し、この接続端子をテストヘッドへの接続手段としているプローブカードを用いてプローブ試験を行っている。このため、ICチップのピン数が増加しても前記接続手段の強度を十分確保することができる。また、プローブカード基板の側面の凹部と、この凹部内に配置した接続端子によって接続手段を構成しているプローブカードを用いてプローブ試験を行っているため、接続手段を微細化しても価格上昇を軽減することが可能である。従って、半導体装置の製造コストを低減できる。   According to the manufacturing method of the semiconductor device, a probe test is performed using a probe card in which a concave portion is provided on a side surface of the probe card substrate, a connection terminal is disposed in the concave portion, and the connection terminal is used as a connection means to the test head. Is going. For this reason, even if the number of pins of the IC chip increases, the strength of the connecting means can be sufficiently ensured. In addition, since the probe test is performed using the probe card that constitutes the connection means by the concave portion on the side surface of the probe card substrate and the connection terminal arranged in the concave portion, the price increases even if the connection means is miniaturized. It can be reduced. Therefore, the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced.

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体ウエハに分割する前のICチップを作製する工程と、
前記半導体ウエハにプローブ装置を用いてプローブ試験を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記プローブ装置は、プローブカード基板と、
前記プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、
前記プローブカード基板が装着され、前記プローブカード基板が前記接続端子を介して接続される装着部材と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備する。
A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of manufacturing an IC chip before being divided into semiconductor wafers,
Performing a probe test on the semiconductor wafer using a probe device;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
The probe device includes a probe card substrate,
A recess provided on a side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
The mounting member to which the probe card substrate is mounted, and the probe card substrate is connected via the connection terminal;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
It comprises.

本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体ウエハに分割する前のICチップを作製する工程と、
前記半導体ウエハにプローブ装置を用いてプローブ試験を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記プローブ装置は、プローブカード基板と、
前記プローブカード基板が装着される装着部材と、
前記装着部材に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置され、前記プローブカード基板に接続される接続端子と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備する。
A method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention includes a step of manufacturing an IC chip before being divided into semiconductor wafers,
Performing a probe test on the semiconductor wafer using a probe device;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
The probe device includes a probe card substrate,
A mounting member to which the probe card substrate is mounted;
A recess provided in the mounting member;
A connection terminal disposed in the recess and connected to the probe card substrate;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
It comprises.

発明を実施するための形態BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1によるプローブ装置を概略的に示す構成図である。図2は、図1に示すプローブ装置においてプローブカードとその装着部材との電気的接続部分を示す断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a configuration diagram schematically showing a probe apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view showing an electrical connection portion between the probe card and its mounting member in the probe apparatus shown in FIG.

図1に示すように、プローブ装置は、テストヘッド1と、このテストヘッド1の下方で図示せぬ装置本体内に順次配設されたパフォーマンスボード2と、このパフォーマンスボード2と接続されたプローブカード5を備えている。
上記テストヘッド1の内部には被検査体としての半導体ウエハW上のICチップに電圧を印加する試料用電源やICチップからの出力を測定部に取り込むための入力部などからなるピンエレクトロニクス6が内蔵されている。このピンエレクトロニクス6はパフォーマンスボード2上に搭載された複数の電子部品回路7に対して電気的に接続されている。これらの電子部品回路7は、例えばマトリックス・リレー、ドライバー回路等からなる各種測定回路として構成されている。尚、前記半導体ウエハWには分割する前のICチップが複数作製されている。
As shown in FIG. 1, the probe apparatus includes a test head 1, a performance board 2 sequentially disposed in the apparatus main body (not shown) below the test head 1, and a probe card connected to the performance board 2. 5 is provided.
Inside the test head 1 is a pin electronics 6 comprising a sample power source for applying a voltage to an IC chip on a semiconductor wafer W as an object to be inspected and an input unit for taking the output from the IC chip into the measurement unit. Built in. The pin electronics 6 is electrically connected to a plurality of electronic component circuits 7 mounted on the performance board 2. These electronic component circuits 7 are configured as various measurement circuits including, for example, a matrix relay, a driver circuit, and the like. A plurality of IC chips before being divided are produced on the semiconductor wafer W.

パフォーマンスボード2の下側にはプローブカード5を装着する装着部材4が設けられている。この装着部材4の下側には、プローブカード5を嵌め込むための窪み4aが設けられている。この窪み4aの底部にはゴムなどのクッション材からなるスペーサ13が配置されている。窪み4a内にはプローブカード5が嵌め込まれている。前記スペーサ13はプローブカード5の上面に対応するように位置し、それにより、プローブカード5の上面の広い面積をスペーサ13で下方へ加圧できるようになっている。尚、装着部材4は、プローブカード5をパフォーマンスボード2に電気的に接続するものである。   A mounting member 4 for mounting the probe card 5 is provided below the performance board 2. A depression 4 a for fitting the probe card 5 is provided below the mounting member 4. A spacer 13 made of a cushion material such as rubber is disposed at the bottom of the recess 4a. A probe card 5 is fitted in the recess 4a. The spacer 13 is positioned so as to correspond to the upper surface of the probe card 5, whereby a large area of the upper surface of the probe card 5 can be pressed downward by the spacer 13. The mounting member 4 is for electrically connecting the probe card 5 to the performance board 2.

図2に示すように、プローブカード基板の側面には複数の凹部5aが設けられており、凹部5aの内面は曲面を有している。凹部5a内には接続端子としての導電性金属球3が配置されており、凹部5aの内面の曲面は導電性金属球3の外面にほぼ対応した面となっている。導電性金属球3は、導電性バネ10によって凹部5aの内面に繋げられると共にプローブカード5と電気的に接続されている。プローブカード基板には、その側面の周囲を覆うように樹脂製リング12が取り付けられている。樹脂製リング12は、導電性金属球3を押さえるリングであり、導電性金属球3の一部を露出させるための穴が開けられている。そして、導電性バネ10が凹部5aの内面と導電性金属球3の間で反発する力により、樹脂製リング12の穴から導電性金属球3の一部が突出して露出するようになっている。   As shown in FIG. 2, a plurality of recesses 5a are provided on the side surface of the probe card substrate, and the inner surface of the recess 5a has a curved surface. A conductive metal ball 3 as a connection terminal is disposed in the recess 5 a, and the curved surface of the inner surface of the recess 5 a is a surface that substantially corresponds to the outer surface of the conductive metal ball 3. The conductive metal ball 3 is connected to the inner surface of the recess 5 a by a conductive spring 10 and is electrically connected to the probe card 5. A resin ring 12 is attached to the probe card substrate so as to cover the periphery of the side surface. The resin ring 12 is a ring that holds the conductive metal sphere 3, and has a hole for exposing a part of the conductive metal sphere 3. A part of the conductive metal ball 3 protrudes from the hole of the resin ring 12 and is exposed by the force of the conductive spring 10 repelling between the inner surface of the recess 5 a and the conductive metal ball 3. .

前記導電性金属球3は、種々の材質を用いることが可能であるが、例えばステンレス製の球の表面を金メッキしたものを用いても良い。また、前記導電性バネ10は、種々の材質を用いることが可能であるが、例えばステンレス製のバネの表面を金メッキしたものを用いても良い。   The conductive metal sphere 3 can be made of various materials. For example, a surface of a stainless steel sphere plated with gold may be used. The conductive spring 10 can be made of various materials. For example, a stainless steel spring whose surface is gold-plated may be used.

前記装着部材4の窪み4aの内側面には複数の電極パッド15が設けられており、電極パッド15はプローブカード5の凹部5aに対向する位置に配置されている。つまり、図2に示すように、プローブカード5を装着部材4の窪み4aに嵌め込むと、樹脂製リング12の穴から突出して露出した導電性金属球3が電極パッド15に接触するようになっている。従って、プローブカード5は、導電性バネ10、導電性金属球3、電極パッド15、装着部材4内の配線11等を介してパフォーマンスボード2内の接続手段8に電気的に接続されるように構成され、この接続手段8は電子部品回路7に接続されるように構成されている。よって、テストヘッド1は、パフォーマンスボード2及び装着部材4を介してプローブカード5と電気的に接続できるように構成されている。   A plurality of electrode pads 15 are provided on the inner side surface of the recess 4 a of the mounting member 4, and the electrode pads 15 are arranged at positions facing the recesses 5 a of the probe card 5. That is, as shown in FIG. 2, when the probe card 5 is fitted into the recess 4 a of the mounting member 4, the exposed conductive metal ball 3 protruding from the hole of the resin ring 12 comes into contact with the electrode pad 15. ing. Accordingly, the probe card 5 is electrically connected to the connection means 8 in the performance board 2 via the conductive spring 10, the conductive metal ball 3, the electrode pad 15, the wiring 11 in the mounting member 4, and the like. The connection means 8 is configured to be connected to the electronic component circuit 7. Therefore, the test head 1 is configured to be electrically connected to the probe card 5 via the performance board 2 and the mounting member 4.

図1に示すプローブカード5は、半導体ウエハWにおける複数のICチップを同時に測定することが可能なものである。プローブカードの下面側には中央部にプローブ針固定用のモールド樹脂からなる固定リング(図示せず)が配置されている。さらに、プローブカードの下面側には、複数のプローブ針14が固定リングの周囲に沿って固定されており、その固定された基端がプリント配線(図示せず)、ジャンパー配線(図示せず)、導電性バネ10を介して導電性金属球3に接続されている。   The probe card 5 shown in FIG. 1 is capable of simultaneously measuring a plurality of IC chips on the semiconductor wafer W. On the lower surface side of the probe card, a fixing ring (not shown) made of a mold resin for fixing the probe needle is arranged at the center. Further, a plurality of probe needles 14 are fixed along the periphery of the fixing ring on the lower surface side of the probe card, and the fixed base ends thereof are printed wiring (not shown) and jumper wiring (not shown). The conductive metal ball 3 is connected via a conductive spring 10.

また、プローブ針14のアーム部がプローブカードの中央部の下方に向かって伸張されている。各プローブ針14のアーム部はその先端がプローブカードとほぼ垂直になるように略L字型に折り曲げられている。このアーム部の先端は、ウエハWのICチップの電極パッドに接触する触針部を有している。各プローブ針14のアーム部の一部である中間節部は、前記固定リングの樹脂で固定保持され、各プローブ針14がしっかりと位置決め保持されている。   Further, the arm portion of the probe needle 14 extends downward from the center portion of the probe card. The arm portion of each probe needle 14 is bent into a substantially L shape so that the tip thereof is substantially perpendicular to the probe card. The tip of this arm part has a stylus part that contacts the electrode pad of the IC chip of the wafer W. The intermediate joint portion which is a part of the arm portion of each probe needle 14 is fixed and held by the resin of the fixing ring, and each probe needle 14 is firmly positioned and held.

プローブカード5に対して半導体ウエハWをアライメントするアライメント機構について説明する。プローブカード5の下方には略円形状のステージ27が設けられ、このステージ27の上面に配設されたウエハチャック28により半導体ウエハWを水平に保持するようになっている。このウエハチャック28の内部には加熱装置29及び冷却媒体の循環路30が温度調整機構として設けられ、検査時に必要に応じて加熱装置29により半導体ウエハWを例えば150℃まで加熱でき、また循環路30を流れる冷却媒体により半導体ウエハWを例えば−10℃まで冷却できるようになっている。   An alignment mechanism for aligning the semiconductor wafer W with respect to the probe card 5 will be described. A substantially circular stage 27 is provided below the probe card 5, and the semiconductor wafer W is horizontally held by a wafer chuck 28 disposed on the upper surface of the stage 27. Inside the wafer chuck 28, a heating device 29 and a cooling medium circulation path 30 are provided as a temperature adjustment mechanism, and the semiconductor wafer W can be heated to, for example, 150 ° C. by the heating apparatus 29 as necessary during inspection. The semiconductor wafer W can be cooled to, for example, −10 ° C. by the cooling medium flowing through 30.

また、上記ステージ27はウエハチャック28を水平方向、上下方向及びθ方向で駆動させる駆動機構(図示せず)を有し、半導体ウエハWのアライメント時に駆動機構の駆動によりステージ27がレール31,32上でX、Y方向へ移動すると共にウエハチャック28がθ方向で回転し、更に、上下方向へ昇降するようになっている。更に、ウエハチャック28にはターゲット板33が取り付けられており、その上方に配設された光学的撮像装置34,35及び静電容量センサ36によりターゲット板33及び所定のICチップを検出し、この検出信号に基づいてプローブカード5と半導体ウエハW上のICチップの位置を演算するようになっている。そして、この演算結果に基づいてステージ27の駆動機構が駆動制御されて半導体ウエハW上の検査すべきICチップをプローブカード5にアライメントするようにしてある。   The stage 27 has a drive mechanism (not shown) for driving the wafer chuck 28 in the horizontal direction, the vertical direction, and the θ direction, and the stage 27 is moved to the rails 31 and 32 by the drive of the drive mechanism when the semiconductor wafer W is aligned. The wafer chuck 28 is moved in the X and Y directions and the wafer chuck 28 is rotated in the θ direction, and further moved up and down. Further, a target plate 33 is attached to the wafer chuck 28, and the target plate 33 and a predetermined IC chip are detected by the optical imaging devices 34 and 35 and the electrostatic capacity sensor 36 disposed above the target plate 33. Based on the detection signal, the positions of the probe card 5 and the IC chip on the semiconductor wafer W are calculated. Based on the calculation result, the drive mechanism of the stage 27 is driven and controlled so that the IC chip to be inspected on the semiconductor wafer W is aligned with the probe card 5.

次に、動作について説明する。例えば150℃の温度下で半導体ウエハWの電気的検査を行う場合には、加熱装置29を作動させ半導体ウエハWを加熱し、例えば150℃に温度設定し、その温度を維持する。次いで、ターゲット板33、光学的撮像装置34,35及び静電容量センサ36などから得られた検出データに基づいてステージ27が駆動して半導体ウエハWをプローブカード5に対してアライメントする。   Next, the operation will be described. For example, when the electrical inspection of the semiconductor wafer W is performed at a temperature of 150 ° C., the heating device 29 is operated to heat the semiconductor wafer W, for example, set to a temperature of 150 ° C., and the temperature is maintained. Next, the stage 27 is driven based on detection data obtained from the target plate 33, the optical imaging devices 34 and 35, the capacitance sensor 36, and the like, and the semiconductor wafer W is aligned with the probe card 5.

アライメント終了後、ウエハチャック28を上昇させて半導体ウエハW上のICチップの各電極パッドにプローブ針14の針先を接触させ、更にウエハチャック28を所定量オーバードライブさせてプローブ針14と電極パッドとを導通可能な状態にする。ウエハチャック28を上昇させてオーバードライブさせた際、装着部材4の窪み4a底部のスペーサ13によってプローブカードの上面の広い面積が加圧される。   After the alignment is completed, the wafer chuck 28 is raised to bring the probe tip of the probe needle 14 into contact with each electrode pad of the IC chip on the semiconductor wafer W, and the wafer chuck 28 is overdriven by a predetermined amount to probe probe 14 and the electrode pad. To a state where conduction is possible. When the wafer chuck 28 is raised and overdriven, a large area of the upper surface of the probe card is pressed by the spacer 13 at the bottom of the recess 4a of the mounting member 4.

この導通可能な状態でテストヘッド1から所定の電気信号を送信し、パフォーマンスボード2、装着部材4、プローブ針14及び電極パッドを介してICチップに電気信号を入力すると、この入力信号に基づいた出力信号がICチップから装着部材4及びパフォーマンスボード2の電子部品回路7を介してピンエレクトロニクス6に取り込まれ、ICチップの電気的検査が行われる。   When a predetermined electrical signal is transmitted from the test head 1 in this conductive state and an electrical signal is input to the IC chip via the performance board 2, the mounting member 4, the probe needle 14 and the electrode pad, the input signal is based on the input signal. An output signal is taken into the pin electronics 6 from the IC chip via the mounting member 4 and the electronic component circuit 7 of the performance board 2, and the electrical inspection of the IC chip is performed.

上記実施の形態1によれば、プローブカード5の側面に導電性金属球3を埋め込み、導電性金属球3を装着部材4の窪み4aの電極パッド15に接続してテストヘッド1への接続手段としている。つまり、従来技術のようにポゴピンを用いることなく、図2に示すように導電性金属球3と電極パッド15との接続によりプローブカード5とテストヘッド1を接続している。従って、ICチップのピン数が増加しても導電性金属球3と電極パッド15との接続手段の強度を十分確保することができる。また、プローブカード側面の凹部5aと、この凹部内に配置した導電性金属球3と、それに接触した電極パッド15によって接続手段を構成しているため、接続手段を微細化しても価格上昇を軽減することが可能である。   According to the first embodiment, the conductive metal ball 3 is embedded in the side surface of the probe card 5, and the conductive metal ball 3 is connected to the electrode pad 15 in the recess 4 a of the mounting member 4 to connect to the test head 1. It is said. That is, the probe card 5 and the test head 1 are connected by connecting the conductive metal ball 3 and the electrode pad 15 as shown in FIG. Therefore, even if the number of pins of the IC chip increases, the strength of the connection means between the conductive metal sphere 3 and the electrode pad 15 can be sufficiently ensured. Further, since the connecting means is constituted by the concave portion 5a on the side surface of the probe card, the conductive metal sphere 3 arranged in the concave portion, and the electrode pad 15 in contact with the conductive metal ball 3, the increase in price is reduced even if the connecting means is miniaturized. Is possible.

また、本実施の形態では、装着部材4に窪み4aを設け、この窪み4aにプローブカード5を嵌め込む構成としている。そして、プローブカード5の側面の凹部5aに導電性金属球3を配置し、導電性金属球3と凹部5aの内面とを導電性バネ10で繋いでいるため、プローブカード5を窪み4aに嵌め込んだ際、導電性バネ10の反発力によってプローブカード5を窪み4aに固定することができる。従って、装着部材4にプローブカード5を装着するのが極めて容易となる。   In the present embodiment, the mounting member 4 is provided with a recess 4a, and the probe card 5 is fitted into the recess 4a. Since the conductive metal sphere 3 is disposed in the concave portion 5a on the side surface of the probe card 5 and the conductive metal sphere 3 and the inner surface of the concave portion 5a are connected by the conductive spring 10, the probe card 5 is fitted in the recess 4a. When it is inserted, the probe card 5 can be fixed to the recess 4 a by the repulsive force of the conductive spring 10. Therefore, it is very easy to mount the probe card 5 on the mounting member 4.

尚、上記実施の形態1では、樹脂製リング12を用いているが、樹脂製に限定されるものではなく、他の材質を用いることも可能であり、例えばウレタン又は硬めのゴムからなるリングを用いることも可能である。   In the first embodiment, the resin ring 12 is used. However, it is not limited to the resin ring, and other materials can be used. For example, a ring made of urethane or hard rubber is used. It is also possible to use it.

(実施の形態2)
図3は、本発明の実施の形態2によるプローブ装置においてプローブカードとその装着部材との電気的接続部分を示す断面図であり、図2と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。また、プローブ装置の全体構成は実施の形態1と同様であるので、説明を省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 3 is a cross-sectional view showing an electrical connection portion between the probe card and its mounting member in the probe device according to the second embodiment of the present invention. The same parts as those in FIG. Only explained. Moreover, since the whole structure of a probe apparatus is the same as that of Embodiment 1, description is abbreviate | omitted.

図3に示すように、凹部5a内には接続端子としての導電性金属楕円体(導電性金属からなる卵形状を有するもの)16が配置されており、凹部5aの内面の曲面は導電性金属楕円体16の外面にほぼ対応した面となっている。導電性楕円体16は、導電性バネ10によって凹部5aの内面に繋げられると共にプローブカード5と電気的に接続されている。
上記実施の形態2においても実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
As shown in FIG. 3, a conductive metal ellipsoid (having an egg shape made of conductive metal) 16 as a connection terminal is disposed in the recess 5a, and the curved surface on the inner surface of the recess 5a is a conductive metal. The surface substantially corresponds to the outer surface of the ellipsoid 16. The conductive ellipsoid 16 is connected to the inner surface of the recess 5 a by the conductive spring 10 and is electrically connected to the probe card 5.
In the second embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

(実施の形態3)
図4は、本発明の実施の形態3によるプローブ装置においてプローブカードとその装着部材との電気的接続部分を示す断面図であり、図2と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。また、プローブ装置の全体構成は実施の形態1と同様であるので、説明を省略する。
(Embodiment 3)
4 is a cross-sectional view showing an electrical connection portion between a probe card and its mounting member in a probe apparatus according to Embodiment 3 of the present invention. The same parts as those in FIG. Only explained. Moreover, since the whole structure of a probe apparatus is the same as that of Embodiment 1, description is abbreviate | omitted.

図4に示すように、装着部材4の窪み4aの内側面には複数の凹部5aが設けられており、凹部5aの内面は曲面を有している。凹部5a内には接続端子としての導電性金属球3が配置されており、凹部5aの内面の曲面は導電性金属球3の外面にほぼ対応した面となっている。導電性金属球3は、導電性バネ10によって凹部5aの内面に繋げられると共に装着部材の配線11と電気的に接続されている。前記窪み4aの内側面の周囲を覆うように樹脂製リング12が取り付けられている。樹脂製リング12は、導電性金属球3を押さえるリングであり、導電性金属球3の一部を露出させるための穴が開けられている。そして、導電性バネ10が凹部5aの内面と導電性金属球3の間で反発する力により、樹脂製リング12の穴から導電性金属球3の一部が突出して露出するようになっている。   As shown in FIG. 4, a plurality of recesses 5a are provided on the inner surface of the recess 4a of the mounting member 4, and the inner surface of the recess 5a has a curved surface. A conductive metal ball 3 as a connection terminal is disposed in the recess 5 a, and the curved surface of the inner surface of the recess 5 a is a surface that substantially corresponds to the outer surface of the conductive metal ball 3. The conductive metal sphere 3 is connected to the inner surface of the recess 5a by a conductive spring 10 and is electrically connected to the wiring 11 of the mounting member. A resin ring 12 is attached so as to cover the periphery of the inner surface of the recess 4a. The resin ring 12 is a ring that holds the conductive metal sphere 3, and has a hole for exposing a part of the conductive metal sphere 3. A part of the conductive metal ball 3 protrudes from the hole of the resin ring 12 and is exposed by the force of the conductive spring 10 repelling between the inner surface of the recess 5 a and the conductive metal ball 3. .

プローブカード5の側面には複数の電極パッド15が設けられており、電極パッド15は前記窪み4aの内側面の凹部5aに対向する位置に配置されている。つまり、図4に示すように、プローブカード5を装着部材4の窪み4aに嵌め込むと、樹脂製リング12の穴から突出して露出した導電性金属球3が電極パッド15に接触するようになっている。従って、プローブカード5は、電極パッド15、導電性金属球3、導電性バネ10、装着部材4内の配線11等を介してパフォーマンスボード2内の接続手段8に電気的に接続されるように構成され、この接続手段8は電子部品回路7に接続されるように構成されている。
上記実施の形態3においても実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
A plurality of electrode pads 15 are provided on the side surface of the probe card 5, and the electrode pads 15 are arranged at positions facing the concave portions 5a on the inner side surface of the recess 4a. That is, as shown in FIG. 4, when the probe card 5 is fitted into the recess 4 a of the mounting member 4, the exposed conductive metal ball 3 protruding from the hole of the resin ring 12 comes into contact with the electrode pad 15. ing. Accordingly, the probe card 5 is electrically connected to the connection means 8 in the performance board 2 via the electrode pad 15, the conductive metal ball 3, the conductive spring 10, the wiring 11 in the mounting member 4, and the like. The connection means 8 is configured to be connected to the electronic component circuit 7.
In the third embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

(実施の形態4)
図5は、本発明の実施の形態4によるプローブ装置においてプローブカードとその装着部材との電気的接続部分を示す断面図であり、図4と同一部分には同一符号を付し、異なる部分についてのみ説明する。また、プローブ装置の全体構成は実施の形態1と同様であるので、説明を省略する。
(Embodiment 4)
FIG. 5 is a cross-sectional view showing an electrical connection portion between a probe card and its mounting member in a probe device according to Embodiment 4 of the present invention. The same parts as those in FIG. Only explained. Moreover, since the whole structure of a probe apparatus is the same as that of Embodiment 1, description is abbreviate | omitted.

図5に示すように、凹部5a内には接続端子としての導電性金属楕円体(導電性金属からなる卵形状を有するもの)16が配置されており、凹部5aの内面の曲面は導電性金属楕円体16の外面にほぼ対応した面となっている。導電性楕円体16は、導電性バネ10によって凹部5aの内面に繋げられると共に装着部材4内の配線11と電気的に接続されている。   As shown in FIG. 5, a conductive metal ellipsoid (having an egg shape made of conductive metal) 16 as a connection terminal is disposed in the recess 5a, and the curved surface on the inner surface of the recess 5a is a conductive metal. The surface substantially corresponds to the outer surface of the ellipsoid 16. The conductive ellipsoid 16 is connected to the inner surface of the recess 5 a by the conductive spring 10 and is electrically connected to the wiring 11 in the mounting member 4.

上記実施の形態4においても実施の形態3と同様の効果を得ることができる。
尚、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、導電性金属球3は真球形状でなくてもよく、球に近い形状であれば良い。また、導電性金属楕円体16は正確な楕円体形状でなくてもよく、楕円体に近い形状であれば良い。
In the fourth embodiment, the same effect as in the third embodiment can be obtained.
The present invention is not limited to the above embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, the conductive metal sphere 3 does not have to be a true sphere, but may be a shape close to a sphere. In addition, the conductive metal ellipsoid 16 does not have to be an accurate ellipsoid shape, but may be any shape as long as it is close to an ellipsoid.

本発明の実施の形態1によるプローブ装置を概略的に示す構成図。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The block diagram which shows schematically the probe apparatus by Embodiment 1 of this invention. 実施の形態1によるプローブカードとその装着部材を示す断面図。Sectional drawing which shows the probe card by Embodiment 1, and its mounting member. 実施の形態2によるプローブカードとその装着部材を示す断面図。Sectional drawing which shows the probe card by Embodiment 2, and its mounting member. 実施の形態3によるプローブカードとその装着部材を示す断面図。Sectional drawing which shows the probe card by Embodiment 3, and its mounting member. 実施の形態4によるプローブカードとその装着部材を示す断面図。Sectional drawing which shows the probe card by Embodiment 4, and its mounting member. 従来のプローブ装置の一部を示す断面図。Sectional drawing which shows a part of conventional probe apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1…テストヘッド、2…パフォーマンスボード、3…導電性金属球、4…装着部材、4a…窪み、5…プローブカード、5a…凹部、6…ピンエレクトロニクス、7…電子部品回路、8…接続手段、10…導電性バネ、11…配線、12…樹脂製リング、13…スペーサ、14…プローブ針、15…電極パッド、16…導電性金属楕円体、27…ステージ、28…ウエハチャック、29…加熱装置、30…冷却媒体の循環路、31,32…レール、33…ターゲット板、34,35…光学的撮像装置、36…静電容量センサ、W…半導体ウエハ、101…テストヘッド、102…ポゴピン、103…パフォーマンスボード、104…スプリング式軸、105…プローブカード受け基板、106…プローブカード、107…プローブ針、108…ガイドピン、109…プローバ側受け台、111…配線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Test head, 2 ... Performance board, 3 ... Conductive metal ball, 4 ... Mounting member, 4a ... Depression, 5 ... Probe card, 5a ... Recessed part, 6 ... Pin electronics, 7 ... Electronic component circuit, 8 ... Connection means DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Conductive spring, 11 ... Wiring, 12 ... Resin ring, 13 ... Spacer, 14 ... Probe needle, 15 ... Electrode pad, 16 ... Conductive metal ellipsoid, 27 ... Stage, 28 ... Wafer chuck, 29 ... Heating device, 30 ... circulation path of cooling medium, 31,32 ... rail, 33 ... target plate, 34,35 ... optical imaging device, 36 ... capacitance sensor, W ... semiconductor wafer, 101 ... test head, 102 ... Pogo pin, 103 ... Performance board, 104 ... Spring-type shaft, 105 ... Probe card receiving substrate, 106 ... Probe card, 107 ... Probe needle, 108 Guide pins, 109 ... Prober side cradle, 111 ... wire

Claims (14)

半導体ウエハにプローブ試験を行うためのプローブカードであって、
プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、
を具備し、
前記接続端子は前記プローブカード基板をテストヘッドに接続するためのものであるプローブカード。
A probe card for performing a probe test on a semiconductor wafer,
A recess provided on the side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
Comprising
The connection terminal is a probe card for connecting the probe card substrate to a test head.
前記接続端子と前記凹部の内面に弾性体が繋げられている請求項1に記載のプローブカード。 The probe card according to claim 1, wherein an elastic body is connected to the inner surface of the connection terminal and the recess. 前記接続端子が球形状又は楕円体形状を有する請求項1又は2に記載のプローブカード。 The probe card according to claim 1, wherein the connection terminal has a spherical shape or an ellipsoidal shape. 前記プローブカード基板の側面に取り付けられ、前記プローブカード基板の側面を覆うように配置された、前記接続端子を押さえるリングをさらに具備する請求項1乃至3のいずれか一項に記載のプローブカード。 4. The probe card according to claim 1, further comprising a ring that is attached to a side surface of the probe card substrate and is disposed so as to cover the side surface of the probe card substrate, and holds the connection terminal. 5. 半導体ウエハにプローブ試験を行うプローブ装置であって、
プローブカード基板と、
前記プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、
前記プローブカード基板が装着され、前記プローブカード基板が前記接続端子を介して接続される装着部材と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備するプローブ装置。
A probe apparatus for performing a probe test on a semiconductor wafer,
A probe card substrate;
A recess provided on a side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
The mounting member to which the probe card substrate is mounted, and the probe card substrate is connected via the connection terminal;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
A probe apparatus comprising:
前記装着部材に設けられた窪みをさらに具備し、前記窪みに前記プローブカード基板が嵌め込まれて装着されている請求項5に記載のプローブ装置。 The probe apparatus according to claim 5, further comprising a recess provided in the mounting member, wherein the probe card substrate is fitted and mounted in the recess. 前記窪みの内面に配置された電極パッドをさらに具備し、前記電極パッドが前記接続端子に接触している請求項6に記載のプローブ装置。 The probe device according to claim 6, further comprising an electrode pad disposed on an inner surface of the recess, wherein the electrode pad is in contact with the connection terminal. 前記接続端子と前記凹部の内面に繋げられた弾性体をさらに具備し、前記弾性体の反発力によって前記装着部材に前記プローブカード基板が固定される請求項6又は7に記載のプローブ装置。 8. The probe device according to claim 6, further comprising an elastic body connected to the connection terminal and an inner surface of the recess, wherein the probe card board is fixed to the mounting member by a repulsive force of the elastic body. 半導体ウエハにプローブ試験を行うプローブ装置であって、
プローブカード基板と、
前記プローブカード基板が装着される装着部材と、
前記装着部材に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置され、前記プローブカード基板に接続される接続端子と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備するプローブ装置。
A probe apparatus for performing a probe test on a semiconductor wafer,
A probe card substrate;
A mounting member to which the probe card substrate is mounted;
A recess provided in the mounting member;
A connection terminal disposed in the recess and connected to the probe card substrate;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
A probe apparatus comprising:
前記装着部材に設けられた窪みをさらに具備し、前記窪みに前記プローブカード基板が嵌め込まれて装着されている請求項9に記載のプローブ装置。 The probe device according to claim 9, further comprising a recess provided in the mounting member, wherein the probe card substrate is fitted and mounted in the recess. 前記プローブカード基板の側面に配置された電極パッドをさらに具備し、前記電極パッドが前記接続端子に接触している請求項10に記載のプローブ装置。 The probe device according to claim 10, further comprising an electrode pad disposed on a side surface of the probe card substrate, wherein the electrode pad is in contact with the connection terminal. 半導体ウエハに分割する前のICチップを作製する工程と、
前記半導体ウエハにプローブカードを用いてプローブ試験を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記プローブカードは、プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、を備え、
前記接続端子は前記プローブカード基板をテストヘッドに接続するためのものである半導体装置の製造方法。
A step of producing an IC chip before being divided into semiconductor wafers;
Performing a probe test using a probe card on the semiconductor wafer;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
The probe card has a recess provided on a side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
The method of manufacturing a semiconductor device, wherein the connection terminal is for connecting the probe card substrate to a test head.
半導体ウエハに分割する前のICチップを作製する工程と、
前記半導体ウエハにプローブ装置を用いてプローブ試験を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記プローブ装置は、プローブカード基板と、
前記プローブカード基板の側面に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置された接続端子と、
前記プローブカード基板が装着され、前記プローブカード基板が前記接続端子を介して接続される装着部材と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備する半導体装置の製造方法。
A step of producing an IC chip before being divided into semiconductor wafers;
Performing a probe test on the semiconductor wafer using a probe device;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
The probe device includes a probe card substrate,
A recess provided on a side surface of the probe card substrate;
A connection terminal disposed in the recess,
The mounting member to which the probe card substrate is mounted, and the probe card substrate is connected via the connection terminal;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
半導体ウエハに分割する前のICチップを作製する工程と、
前記半導体ウエハにプローブ装置を用いてプローブ試験を行う工程と、
を具備する半導体装置の製造方法であって、
前記プローブ装置は、プローブカード基板と、
前記プローブカード基板が装着される装着部材と、
前記装着部材に設けられた凹部と、
前記凹部内に配置され、前記プローブカード基板に接続される接続端子と、
前記装着部材に電気的に接続されるパフォーマンスボードと、
前記パフォーマンスボードに電気的に接続されるテストヘッドと、
前記半導体ウエハを保持するウエハ保持機構と、
を具備する半導体装置の製造方法。
A step of producing an IC chip before being divided into semiconductor wafers;
Performing a probe test on the semiconductor wafer using a probe device;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
The probe device includes a probe card substrate,
A mounting member to which the probe card substrate is mounted;
A recess provided in the mounting member;
A connection terminal disposed in the recess and connected to the probe card substrate;
A performance board electrically connected to the mounting member;
A test head electrically connected to the performance board;
A wafer holding mechanism for holding the semiconductor wafer;
A method for manufacturing a semiconductor device comprising:
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