JP2005063529A - Semiconductor memory device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、半導体記憶装置に関し、特にその検査技術に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to an inspection technique thereof.
半導体集積装置の高集積化、微細化が進むことにより、単機能な大規模集積回路(LSI)を複合化した多機能な1チップシステムLSI開発が活発化している。それにともない、LSI検査とその検査による不良判定品の解析は複雑化、高工数化してきており、高効率化が望まれている。 With the progress of higher integration and miniaturization of semiconductor integrated devices, development of multifunctional one-chip system LSIs that combine single-function large-scale integrated circuits (LSIs) has become active. Along with this, LSI inspection and analysis of defective judgment products by the inspection have become more complicated and more man-hours are required, and higher efficiency is desired.
LSI検査項目の中で不良率の高い検査項目の1つとして、半導体記憶装置(SRAM)の検査が挙げられる。LSI検査の歩留まり向上のため、通常、次に述べるプロセスをとる。検査不良LSIに対して不良箇所を特定し、不良原因を究明し、その結果を製造プロセス、回路設計にフィードバックを行っている。 One of the inspection items with a high defect rate among LSI inspection items is inspection of a semiconductor memory device (SRAM). In order to improve the yield of LSI inspection, the following process is usually taken. A defective part is identified for an inspection defective LSI, the cause of the defect is investigated, and the result is fed back to the manufacturing process and circuit design.
半導体記憶装置に対する不良箇所の特定方法としてしばしば用いられる手法に、FBM(フェイルビットマップ)手法がある。FBMには、半導体記憶装置の不良箇所が半導体記憶装置上のどこのカラム、どこのロウに存在しているのかが物理配置として表現されており、通常、半導体記憶装置の検査の結果と、半導体記憶装置のアドレスと、その物理配置との対応表によって作成される。この作成されたFBMから不良箇所が特定され、不良原因の究明、その結果のフィードバックが実施される。
上記FBM手法により不良箇所が特定される訳であるが、作成されたFBM自体が誤っていることがあり、誤っている場合には膨大な工数を必要とするのが課題であった。誤ったFMBが作成されてしまうのは、次に述べる原因による。一つは、半導体記憶装置の検査結果に問題がある場合である。これは、誤った検査パターン、誤った検査仕様、検査装置の不具合などに起因する。もう一つは半導体記憶装置のアドレスと、その物理配置との対応表の間違いである。これは、半導体記憶装置の仕様書の不備などに起因する。以上のように、作成されたFBM自体に誤りが混入する可能性は高い。にもかかわらず、従来の半導体記憶装置には、アドレスと、その物理配置とを明確に関連付けるしくみがなかったため、FBMの正誤の判断は、FBMが指し示している箇所を物理解析し、実際にLSIを開封して観察して見なければできないのが現状である。FBMが誤っていると判明した際には、検査パターン、半導体記憶装置のアドレスと、その物理配置との対応表などの再確認を行って不具合を取り除き、FBMを再作成し、そしてまた物理解析する、というプロセスをとる。それでもまだFBMが誤っている場合には、上記のプロセスが延々繰り返され、膨大な工数が必要となる。 Although the defective part is specified by the FBM method, the created FBM itself may be wrong, and if it is wrong, a huge amount of man-hours is required. The reason why an incorrect FMB is created is as follows. One is a case where there is a problem in the inspection result of the semiconductor memory device. This is due to an incorrect inspection pattern, an incorrect inspection specification, a defect in the inspection apparatus, and the like. The other is an error in the correspondence table between the address of the semiconductor memory device and its physical arrangement. This is due to incomplete specifications of the semiconductor memory device. As described above, there is a high possibility that an error is mixed in the created FBM itself. Nevertheless, the conventional semiconductor memory device does not have a mechanism for clearly associating an address with its physical layout. Therefore, the FBM's correct / incorrect determination is made by physically analyzing the location pointed to by the FBM, It is the present situation that can not be done without opening and observing. When it is determined that the FBM is incorrect, the inspection pattern, the address of the semiconductor memory device, and the correspondence table between the physical arrangement and the like are reconfirmed, the defect is removed, the FBM is recreated, and the physical analysis is performed again. Take the process of If the FBM is still wrong, the above process is repeated endlessly, and enormous man-hours are required.
本発明は、上記のような課題を鑑みてなされたもので、アドレスと特定の故障箇所の物理配置とを関連付けることにより、FBMの確認を効果的に行い、検査工数を削減することのできる半導体記憶装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems. By associating an address with a physical arrangement of a specific failure location, a semiconductor capable of effectively confirming an FBM and reducing the number of inspection steps. An object is to provide a storage device.
上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載の半導体記憶装置は、複数のワード線、及び複数のビット線対と、前記ワード線と前記ビット線との交差点に配置されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイのうち、特定のメモリセルの記憶状態を擬似的もしくは実際に故障状態に固定させる固定手段とを備えたことを特徴とするものである。
In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to
また、本発明の請求項2に記載の半導体記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルの故障状態にを予めマスクにより作製することを特徴とするものである。
The semiconductor memory device according to
本発明の請求項3に記載の半導体記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該特定のメモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれのヒューズ回路を備え、前記ワード線方向に配置されているヒューズ回路を切断することにより、前記特定のメモリセルの記憶状態をHighまたはLowの故障状態に固定することを特徴とするものである。 The semiconductor memory device according to a third aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the fixing unit is configured to operate the specific memory cell in a word line direction connected to the specific memory cell. Each of the bit line pairs controlling the storage state of the memory device is provided with a respective fuse circuit, and the fuse circuit disposed in the word line direction is cut to change the storage state of the specific memory cell to High or Low. It is characterized by being fixed to a state.
本発明の請求項4に記載の半導体記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該メモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれの論理ゲートを備え、特定の検査状態に設定するときには、前記半導体記憶装置の外部から入力されてくる制御信号により、前記ビット線対をHighまたはLowに制御して、前記特定のメモリセルの記憶状態を、HighまたはLowの故障状態に固定することを特徴とするものである。 A semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the fixing means stores the memory cell in the direction of the word line connected to the specific memory cell. When the bit line pair that controls the state is provided with each logic gate and is set to a specific inspection state, the bit line pair is set to High or Low by a control signal input from the outside of the semiconductor memory device. By controlling, the storage state of the specific memory cell is fixed to a high or low failure state.
本発明の請求項1にかかる半導体記憶装置によれば、複数のワード線、及び複数のビット線対と、前記ワード線と前記ビット線との交差点に配置されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイのうち、特定のメモリセルの記憶状態を擬似的もしくは実際に故障状態に固定させる固定手段とを備えるようにしたので、前記半導体記憶装置の不良箇所特定の際、アドレスと、固定手段により故障状態に設定された特定のメモリセルの物理配置とを関連付けることが可能となり、FBMの確認を効果的に行うことができ、従来手法と比較して検査工数の短縮に貢献することができる。 According to the semiconductor memory device of the first aspect of the present invention, a plurality of word lines, a plurality of bit line pairs, a memory cell array disposed at an intersection of the word lines and the bit lines, and the memory cell array Among them, there is provided fixing means for fixing the storage state of a specific memory cell in a pseudo or actual failure state. Therefore, when specifying a defective portion of the semiconductor memory device, the failure state is determined by the address and the fixing means. It becomes possible to associate the physical arrangement of a specific memory cell that has been set, FBM can be confirmed effectively, and it is possible to contribute to shortening the inspection man-hour compared with the conventional method.
本発明の請求項2にかかる半導体記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルの故障状態を予めマスクにより作製するようにしたので、半導体記憶素子内の任意の特定されたメモリセルの状態をLowまたはHighの故障状態に固定することができ、作成されたFBMの確認に有効であり、従来手法と比較して工数の短縮に貢献することができる。 According to a semiconductor memory device of a second aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the fixing unit is configured to previously prepare a failure state of the specific memory cell using a mask. The state of any specified memory cell in the semiconductor memory element can be fixed to a low or high failure state, which is effective for confirming the created FBM and contributes to a reduction in man-hours compared with the conventional method. can do.
本発明の請求項3にかかる半導体記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該特定のメモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれのヒューズ回路を備え、前記ワード線方向に配置されているヒューズ回路を切断することにより、前記特定のメモリセルの記憶状態をHighまたはLowの故障状態に固定するようにしたので、マスクを別途設けなくとも、ヒューズの切断により、特定メモリセルをLowまたはHighの故障状態に固定することができ、作成されたFBMの確認に有効であり、経費削減に貢献できる。 According to a semiconductor memory device of a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the fixing means is configured to connect the specific memory in a direction of a word line connected to the specific memory cell. Each bit line pair that controls the memory state of the cell is provided with a respective fuse circuit, and the fuse circuit arranged in the word line direction is cut, whereby the memory state of the specific memory cell is set to High or Low. Since it is fixed in the failure state, the specific memory cell can be fixed in the failure state of Low or High by cutting the fuse without providing a mask separately, which is effective in confirming the created FBM. It can contribute to cost reduction.
更に、本発明の請求項4にかかる半導体記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該メモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれの論理ゲートを備え、特定の検査状態に設定するときには、前記半導体記憶装置の外部から入力されてくる制御信号により、前記ビット線対をHighまたはLowに制御して、前記特定のメモリセルの記憶状態を、HighまたはLowの故障状態に固定するようにしたので、半導体記憶装置外部からの信号制御により、半導体記憶装置を破壊することなく特定のメモリセルをHighまたはLowの故障状態に固定することができ、半導体記憶装置は検査のためのみならず、通常の装置としての使用にも耐えうるため、経費削減に貢献することができる。 Furthermore, according to a semiconductor memory device of a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the fixing means is configured to connect the memory in a direction of a word line connected to the specific memory cell. Each bit line pair that controls the memory state of the cell is provided with a respective logic gate, and when the bit line pair is set to a specific inspection state, the bit line pair is set to High by a control signal input from the outside of the semiconductor memory device. Alternatively, the memory state of the specific memory cell is fixed to a high or low failure state by controlling to Low, so that the semiconductor memory device is specified without being destroyed by signal control from the outside of the semiconductor memory device. The memory cell can be fixed to a high or low failure state, and the semiconductor memory device can be used not only for inspection but also as a normal device. Because to withstand the use of Te, it can contribute to cost reduction.
(実施の形態1)
本発明の実施の形態1による半導体記憶装置は、特定のメモリセル故障を予めマスクにより作製するものに関する。
(Embodiment 1)
The semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention relates to a semiconductor memory device in which a specific memory cell failure is previously produced using a mask.
まず、図4に、従来の半導体記憶装置の基本構成例を示す。図4において、ロウ方向のワード線100、101を選択するロウ・デコーダ102と、ビット線109〜112と、メモリセル部103〜106、半導体記憶装置への書き込みデータ入力ポートの一部である107、108とを示している。メモリセル部は、2つのインバータを直列に繋げたラッチ回路を有しており、左右一対の2本ビット線の制御により、2つの安定状態を確保することができ、これによりHighまたはLowを判別している。また、特定メモリセルの選択は、ロウ・デコーダにより、特定のビット線およびワード線が選択されることにより行われる。
First, FIG. 4 shows a basic configuration example of a conventional semiconductor memory device. In FIG. 4, a
図1は、本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図1において、特定のメモリセルであるメモリセル部103は、独自の2本のビット線を有しており、トランジスタAに繋がるビット線を定電圧に、トランジスタBに繋がるビット線をグランドに接続することで、トランジスタAの一端、及びトランジスタBの一端をそれぞれHighまたはLowに固定することができる。ローデコーダ102の選択によりメモリセル部103につながるワード線がアサートされるときは、ラッチ回路がビット線からデータをラッチする。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to
In FIG. 1, the
このように、本発明の実施の形態1による半導体記憶装置では、半導体記憶装置に通常動作をさせるためのマスクとは別に、特定のメモリセルに繋がるビット線のどちらかをLowに、もう片方をHighに固定することにより、該特定のメモリセルの状態を予めHighまたはLowに固定させるためのマスクを用意して作製するようにしたので、半導体記憶素子内の任意の特定されたメモリセルの状態をLowまたはHighの故障状態に固定できるため、アドレスと、特定の故障状態のメモリセルの物理配置を容易に関連付けることにより、作成されたFBMの確認を効果的に行うことが可能となり、従来手法と比較して検査工数の短縮に貢献することができる。 As described above, in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, apart from the mask for causing the semiconductor memory device to perform normal operation, one of the bit lines connected to a specific memory cell is set to Low and the other is set to the other. Since the mask for fixing the state of the specific memory cell to High or Low in advance is prepared by fixing to High, the state of any specified memory cell in the semiconductor memory element is prepared. Can be fixed to a low or high failure state, and it is possible to effectively confirm the created FBM by easily associating the address and the physical arrangement of the memory cell in a specific failure state. This can contribute to shortening the inspection man-hours.
(実施の形態2)
図2は、本実施の形態2による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図2において、メモリセル103の記憶状態を制御している一対のビット線109、110に対して、論理ゲート201、211、セレクタS1〜S4、及びヒューズを含むヒューズ回路113、114を備えている。また、半導体記憶装置のその他の構成は、前述実施の形態1と同様であるため、その説明を省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the semiconductor memory device according to the second embodiment.
In FIG. 2,
2つのヒューズを接続しているときは、セレクタS1〜S4は、Highの制御信号により、常に入力107を選択するため、メモリセル103の動作は、ヒューズ回路が備えられていないときと同様に、動作する。即ち、ヒューズを接続しているときは、図2の回路は、図4の回路と等価になる。
When two fuses are connected, the selectors S1 to S4 always select the
次に、本実施の形態2による半導体記憶装置の、ヒューズの切断による故障状態の設定について、説明する。 Next, setting of a failure state by cutting a fuse in the semiconductor memory device according to the second embodiment will be described.
特定の検査状態では、113または114に接続されているヒューズを切断すれば、メモリセルをHighまたはLowに固定することができる。 In a specific inspection state, the memory cell can be fixed to High or Low by cutting the fuse connected to 113 or 114.
例えば、113に接続されているヒューズのみを切断すると、セレクタS1〜S4への制御信号が接地されるため、Lowとなる。ビット線109側では、セレクタS1は、Lowの制御信号により、OR論理ゲート201の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、114に接続されているヒューズを切断していないため、OR論理ゲート201の出力はHighを保ち、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらず、常にHighに固定される。
For example, when only the fuse connected to 113 is cut, the control signal to the selectors S1 to S4 is grounded and thus becomes Low. On the
また、ビット線110側では、セレクタS3は、Lowの制御信号により、NOR論理ゲート211の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。また、114に接続されているヒューズを切断していないため、NOR論理ゲート211の出力はLowを保ち、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらずに、常にLowに固定される。
On the
従って、メモリセル103に繋がるワード線をアサートすると、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。
Therefore, when the word line connected to the
なお、セレクタS2、S4は、Lowの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれHigh、Lowに固定されながら、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。
Note that the selectors S2 and S4 select the
また、113、114に接続されているヒューズを共に切断する場合、セレクタS1〜S4への制御信号が接地されるため、Lowとなる。ビット線109側では、セレクタS1は、Lowの制御信号により、OR論理ゲート201の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、両方のヒューズを切断したため、OR論理ゲート201の出力はLowを保ち、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらず、常にLowに固定される。
Further, when both the fuses connected to 113 and 114 are cut, the control signal to the selectors S1 to S4 is grounded, so it becomes Low. On the
ビット線110側では、セレクタS3は、Lowの制御信号により、NOR論理ゲート211の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。両方のヒューズを切断したため、NOR論理ゲート211の出力はHighを保ち、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらず、常にHighに固定される。
On the
従って、113、114に接続されているヒューズを全部切断する場合でも、前記メモリセルに繋がるワード線をアサートすると、メモリセルをHighまたはLowに固定することができる。 Therefore, even when all the fuses connected to 113 and 114 are cut, the memory cell can be fixed to High or Low by asserting the word line connected to the memory cell.
なお、セレクタS2、S4は、Lowの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれLow、Highに固定されながらも、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。
Note that the selectors S2 and S4 select the
このように、本実施の形態2による半導体記憶装置では、特定のメモリセル103の記憶状態を制御する一対のビット線109、110に対して、セレクタ、論理ゲート、及びヒューズを含むヒューズ回路113、114をそれぞれ備えるようにしたので、113または114に接続されているヒューズを切断することにより、メモリセルをHighまたはLow状態にするためのビット線の制御を行い、前記メモリセルに繋がるワード線をアサートすると、メモリセルをHighまたはLowの故障状態に固定することができる。従って、本実施の形態2による半導体記憶装置では、マスクを別途設けなくても、ヒューズの切断により、特定のメモリセルをHigh又はLowの故障状態に固定できるため、作成されたFBMの確認に有効であり、経費削減に貢献することができる。
Thus, in the semiconductor memory device according to the second embodiment, a
また、上記のビット線の制御は、固定されたメモリセル以外のメモリセルには何の影響も与えない。 Further, the above bit line control has no effect on memory cells other than fixed memory cells.
(実施の形態3)
図3は、本実施の形態3による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図3において、メモリセル103の記憶状態を制御している一対のビット線109、110に対して、論理ゲート301、311、セレクタS1〜S4を備えている。論理ゲート301、311は、半導体記憶装置の外部からの制御信号、FMBモード及びHigh/Low制御信号を入力とする。また、半導体記憶装置のその他の構成は、前述実施の形態1と同様であるため、その説明を省略する。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of the semiconductor memory device according to the third embodiment.
In FIG. 3,
FMBモードがLowのとき、即ち、通常動作のとき、セレクタS1〜S4は、Lowの制御信号により、常に入力107を選択するため、メモリセル103の動作は、論理ゲート301、311、セレクタS1〜S4が備えられていない時と同様に、動作する。即ち、このときの図2の回路は、図4の回路と等価になる。
When the FMB mode is Low, that is, in normal operation, the selectors S1 to S4 always select the
次に、本実施の形態3による半導体記憶装置における故障状態の設定について、説明する。 Next, the setting of the failure state in the semiconductor memory device according to the third embodiment will be described.
特定の検査状態では、FMBモードをHighにし、High/Low制御信号をいずれかの1つの状態に設定すれば、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。 In a specific inspection state, the storage state of the memory cell can be fixed to High or Low by setting the FMB mode to High and setting the High / Low control signal to any one state.
例えば、FMBモードがHigh、High/Low制御信号がHighの場合、ビット線109側では、セレクタS1は、Highの制御信号により、AND論理ゲート301の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、AND論理ゲート301は、HighのFMBモード信号と、HighのHigh/Low制御信号の反転信号が入力されている、Lowの信号を出力し、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらずに、Lowに固定される。
For example, when the FMB mode is High and the High / Low control signal is High, on the
また、ビット線110側では、セレクタS3は、Highの制御信号により、AND論理ゲート311の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。また、AND論理ゲート311は、HighのFMBモード信号と、HighのH/igh/Low制御信号が入力されている、Highの信号を出力し、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらず、Highに固定される。
On the
従って、メモリセル103に繋がるワード線をアサートすると、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。
Therefore, when the word line connected to the
なお、セレクタS2、S4は、Highの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれLow、Highに固定されながらも、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。
Note that the selectors S2 and S4 select the
また、FMBモードがHigh、High/Low制御信号がLowの場合、ビット線109側では、セレクタS1は、Highの制御信号により、AND論理ゲート301の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、AND論理ゲート301は、HighのFMBモード信号と、LowのHigh/Low制御信号の反転信号が入力されている、Highの信号を出力し、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらず、Highに固定される。
When the FMB mode is High and the High / Low control signal is Low, on the
ビット線110側では、セレクタS3は、Highの制御信号により、AND論理ゲート311の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。また、AND論理ゲート311は、HighのFMBモード信号と、LowのH/igh/Low制御信号が入力されている、Lowの信号を出力し、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらず、Lowに固定される。
On the
従って、メモリセル103に繋がるワード線をアサートすると、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。
Therefore, when the word line connected to the
なお、セレクタS2、S4は、Highの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれHigh、Lowに固定されながらも、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。
Note that the selectors S2 and S4 select the
このように、本実施の形態3による半導体記憶装置では、特定のメモリセル103の記憶状態を制御するビット線対109、110に対して、セレクタ、論理ゲート等を備えて、特定の検査状態に設定するときには半導体記憶装置の外部の2つの制御信号により、前記ビット線の制御を行うことにより、上記特定メモリセル103の状態をHighまたはLowに固定することができる。従って、本実施の形態3による半導体記憶装置では、半導体記憶装置外部からの信号制御により、半導体記憶装置を破壊することなく特定のメモリセルをHighまたはLowの故障状態に固定できるため、作成されたFBMの確認に有効であり、例えば、新規半導体プロセス立ち上げ後など、本発明による機能を使用しなくなった場合には、通常の装置としての使用にも耐えうるため、経費削減に貢献することができる。
As described above, in the semiconductor memory device according to the third embodiment, the
また、上記ビット線の制御は、固定されたメモリセル以外のメモリセルには何の影響も与えない。 The control of the bit line has no effect on memory cells other than fixed memory cells.
本発明に係る半導体記憶装置は、アドレスと特定の故障箇所の物理配置とを関連づけることにより不良箇所特定ためのFBMの確認を効果的に行い、検査工数を削減することができる効果を有しており、半導体記憶装置の不良解析時間を短縮させる半導体記憶装置として有用である。 The semiconductor memory device according to the present invention has an effect of effectively checking the FBM for specifying the defective part by associating the address with the physical arrangement of the specific faulty part and reducing the inspection man-hours. Therefore, it is useful as a semiconductor memory device that shortens the failure analysis time of the semiconductor memory device.
100、101 ワード線
102 ロウ・デコーダ
103〜106 メモリセル部
107、108 データ入力ポート
109〜112 ビット線対
113、114 ヒューズ回路
201 OR論理ゲート
211 NOR論理ゲート
301、311 AND論理ゲート
S1〜S4 セレクタ
100, 101
Claims (4)
前記ワード線と前記ビット線との交差点に配置されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイのうち、特定のメモリセルの記憶状態を擬似的もしくは実際に故障状態に固定させる固定手段と、を備えた、
ことを特徴とする半導体記憶装置。 A plurality of word lines and a plurality of bit line pairs;
A memory cell array disposed at an intersection of the word line and the bit line;
Fixing means for fixing a memory state of a specific memory cell in the memory cell array in a pseudo or actually faulty state,
A semiconductor memory device.
前記固定手段は、
前記特定のメモリセルの故障状態を予めマスクにより作製する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。 The semiconductor memory device according to claim 1,
The fixing means includes
Producing a failure state of the specific memory cell in advance with a mask,
A semiconductor memory device.
前記固定手段は、
前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該特定のメモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれのヒューズ回路を備え、
前記ワード線方向に配置されているヒューズ回路を切断することにより、前記特定のメモリセルの記憶状態をHighまたはLowの故障状態に固定する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。 The semiconductor memory device according to claim 1,
The fixing means includes
With respect to the direction of the word line connected to the specific memory cell, each bit line pair that controls the storage state of the specific memory cell includes a respective fuse circuit,
By cutting the fuse circuit arranged in the word line direction, the storage state of the specific memory cell is fixed to a high or low failure state.
A semiconductor memory device.
前記固定手段は、
前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該メモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれの論理ゲートを備え、
特定の検査状態に設定するときには、前記半導体記憶装置の外部から入力されてくる制御信号により、前記ビット線対をHighまたはLowに制御して、前記特定のメモリセルの記憶状態を、HighまたはLowの故障状態に固定する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。 The semiconductor memory device according to claim 1,
The fixing means includes
With respect to the direction of the word line connected to the specific memory cell, each bit line pair that controls the storage state of the memory cell includes a respective logic gate,
When setting to a specific inspection state, the bit line pair is controlled to be High or Low by a control signal input from the outside of the semiconductor memory device, and the storage state of the specific memory cell is set to High or Low. To fix the failure state of
A semiconductor memory device.
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