JP2005063529A - Semiconductor memory device - Google Patents

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Hironori Kishimoto
宏規 岸本
Yoshiyuki Atoi
良之 後井
Toshiyuki Ochiai
利之 落合
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device whose defect analyzing time is shortened. <P>SOLUTION: This device is provided with a plurality of word lines and a plurality of bit line pairs, and a memory cell array arranged at the intersection point between the word and bit lines, and a means for simulatively or actually causing a specific memory cell arrays to go out of order. A mask is prepared which is capable of prefixing a memory cell state to a High or Low failure state, by fixing one of the bit lines connected to the specific memory cell to Low and the other to High. Alternatively, a fuse circuit containing a logical gate is prepared for two bit lines connected to the specific memory cell, the bit lines are controlled by cutting the fuse, and the memory cell is fixed in a High or Low failure state, when the word lines connected to the memory cell are asserted. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

この発明は、半導体記憶装置に関し、特にその検査技術に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to an inspection technique thereof.

半導体集積装置の高集積化、微細化が進むことにより、単機能な大規模集積回路(LSI)を複合化した多機能な1チップシステムLSI開発が活発化している。それにともない、LSI検査とその検査による不良判定品の解析は複雑化、高工数化してきており、高効率化が望まれている。   With the progress of higher integration and miniaturization of semiconductor integrated devices, development of multifunctional one-chip system LSIs that combine single-function large-scale integrated circuits (LSIs) has become active. Along with this, LSI inspection and analysis of defective judgment products by the inspection have become more complicated and more man-hours are required, and higher efficiency is desired.

LSI検査項目の中で不良率の高い検査項目の1つとして、半導体記憶装置(SRAM)の検査が挙げられる。LSI検査の歩留まり向上のため、通常、次に述べるプロセスをとる。検査不良LSIに対して不良箇所を特定し、不良原因を究明し、その結果を製造プロセス、回路設計にフィードバックを行っている。   One of the inspection items with a high defect rate among LSI inspection items is inspection of a semiconductor memory device (SRAM). In order to improve the yield of LSI inspection, the following process is usually taken. A defective part is identified for an inspection defective LSI, the cause of the defect is investigated, and the result is fed back to the manufacturing process and circuit design.

半導体記憶装置に対する不良箇所の特定方法としてしばしば用いられる手法に、FBM(フェイルビットマップ)手法がある。FBMには、半導体記憶装置の不良箇所が半導体記憶装置上のどこのカラム、どこのロウに存在しているのかが物理配置として表現されており、通常、半導体記憶装置の検査の結果と、半導体記憶装置のアドレスと、その物理配置との対応表によって作成される。この作成されたFBMから不良箇所が特定され、不良原因の究明、その結果のフィードバックが実施される。
特開平7−12900号公報
As a method often used as a method for identifying a defective portion in a semiconductor memory device, there is an FBM (Fail Bitmap) method. The FBM expresses as a physical arrangement where a defective portion of a semiconductor memory device exists in which column and in which row on the semiconductor memory device. Usually, the result of inspection of the semiconductor memory device and the semiconductor It is created by a correspondence table between storage device addresses and their physical locations. A defective part is identified from the created FBM, the cause of the defect is investigated, and the result is fed back.
Japanese Patent Laid-Open No. 7-12900

上記FBM手法により不良箇所が特定される訳であるが、作成されたFBM自体が誤っていることがあり、誤っている場合には膨大な工数を必要とするのが課題であった。誤ったFMBが作成されてしまうのは、次に述べる原因による。一つは、半導体記憶装置の検査結果に問題がある場合である。これは、誤った検査パターン、誤った検査仕様、検査装置の不具合などに起因する。もう一つは半導体記憶装置のアドレスと、その物理配置との対応表の間違いである。これは、半導体記憶装置の仕様書の不備などに起因する。以上のように、作成されたFBM自体に誤りが混入する可能性は高い。にもかかわらず、従来の半導体記憶装置には、アドレスと、その物理配置とを明確に関連付けるしくみがなかったため、FBMの正誤の判断は、FBMが指し示している箇所を物理解析し、実際にLSIを開封して観察して見なければできないのが現状である。FBMが誤っていると判明した際には、検査パターン、半導体記憶装置のアドレスと、その物理配置との対応表などの再確認を行って不具合を取り除き、FBMを再作成し、そしてまた物理解析する、というプロセスをとる。それでもまだFBMが誤っている場合には、上記のプロセスが延々繰り返され、膨大な工数が必要となる。   Although the defective part is specified by the FBM method, the created FBM itself may be wrong, and if it is wrong, a huge amount of man-hours is required. The reason why an incorrect FMB is created is as follows. One is a case where there is a problem in the inspection result of the semiconductor memory device. This is due to an incorrect inspection pattern, an incorrect inspection specification, a defect in the inspection apparatus, and the like. The other is an error in the correspondence table between the address of the semiconductor memory device and its physical arrangement. This is due to incomplete specifications of the semiconductor memory device. As described above, there is a high possibility that an error is mixed in the created FBM itself. Nevertheless, the conventional semiconductor memory device does not have a mechanism for clearly associating an address with its physical layout. Therefore, the FBM's correct / incorrect determination is made by physically analyzing the location pointed to by the FBM, It is the present situation that can not be done without opening and observing. When it is determined that the FBM is incorrect, the inspection pattern, the address of the semiconductor memory device, and the correspondence table between the physical arrangement and the like are reconfirmed, the defect is removed, the FBM is recreated, and the physical analysis is performed again. Take the process of If the FBM is still wrong, the above process is repeated endlessly, and enormous man-hours are required.

本発明は、上記のような課題を鑑みてなされたもので、アドレスと特定の故障箇所の物理配置とを関連付けることにより、FBMの確認を効果的に行い、検査工数を削減することのできる半導体記憶装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems. By associating an address with a physical arrangement of a specific failure location, a semiconductor capable of effectively confirming an FBM and reducing the number of inspection steps. An object is to provide a storage device.

上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載の半導体記憶装置は、複数のワード線、及び複数のビット線対と、前記ワード線と前記ビット線との交差点に配置されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイのうち、特定のメモリセルの記憶状態を擬似的もしくは実際に故障状態に固定させる固定手段とを備えたことを特徴とするものである。   In order to solve the above problems, a semiconductor memory device according to claim 1 of the present invention includes a plurality of word lines, a plurality of bit line pairs, and a memory arranged at an intersection of the word lines and the bit lines. The memory cell array includes a cell array and fixing means for fixing a storage state of a specific memory cell to a faulty state in a pseudo or actual manner.

また、本発明の請求項2に記載の半導体記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルの故障状態にを予めマスクにより作製することを特徴とするものである。   The semiconductor memory device according to claim 2 of the present invention is the semiconductor memory device according to claim 1, wherein the fixing means prepares in advance a failure state of the specific memory cell with a mask. It is what.

本発明の請求項3に記載の半導体記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該特定のメモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれのヒューズ回路を備え、前記ワード線方向に配置されているヒューズ回路を切断することにより、前記特定のメモリセルの記憶状態をHighまたはLowの故障状態に固定することを特徴とするものである。   The semiconductor memory device according to a third aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the fixing unit is configured to operate the specific memory cell in a word line direction connected to the specific memory cell. Each of the bit line pairs controlling the storage state of the memory device is provided with a respective fuse circuit, and the fuse circuit disposed in the word line direction is cut to change the storage state of the specific memory cell to High or Low. It is characterized by being fixed to a state.

本発明の請求項4に記載の半導体記憶装置は、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該メモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれの論理ゲートを備え、特定の検査状態に設定するときには、前記半導体記憶装置の外部から入力されてくる制御信号により、前記ビット線対をHighまたはLowに制御して、前記特定のメモリセルの記憶状態を、HighまたはLowの故障状態に固定することを特徴とするものである。   A semiconductor memory device according to a fourth aspect of the present invention is the semiconductor memory device according to the first aspect, wherein the fixing means stores the memory cell in the direction of the word line connected to the specific memory cell. When the bit line pair that controls the state is provided with each logic gate and is set to a specific inspection state, the bit line pair is set to High or Low by a control signal input from the outside of the semiconductor memory device. By controlling, the storage state of the specific memory cell is fixed to a high or low failure state.

本発明の請求項1にかかる半導体記憶装置によれば、複数のワード線、及び複数のビット線対と、前記ワード線と前記ビット線との交差点に配置されたメモリセルアレイと、前記メモリセルアレイのうち、特定のメモリセルの記憶状態を擬似的もしくは実際に故障状態に固定させる固定手段とを備えるようにしたので、前記半導体記憶装置の不良箇所特定の際、アドレスと、固定手段により故障状態に設定された特定のメモリセルの物理配置とを関連付けることが可能となり、FBMの確認を効果的に行うことができ、従来手法と比較して検査工数の短縮に貢献することができる。   According to the semiconductor memory device of the first aspect of the present invention, a plurality of word lines, a plurality of bit line pairs, a memory cell array disposed at an intersection of the word lines and the bit lines, and the memory cell array Among them, there is provided fixing means for fixing the storage state of a specific memory cell in a pseudo or actual failure state. Therefore, when specifying a defective portion of the semiconductor memory device, the failure state is determined by the address and the fixing means. It becomes possible to associate the physical arrangement of a specific memory cell that has been set, FBM can be confirmed effectively, and it is possible to contribute to shortening the inspection man-hour compared with the conventional method.

本発明の請求項2にかかる半導体記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルの故障状態を予めマスクにより作製するようにしたので、半導体記憶素子内の任意の特定されたメモリセルの状態をLowまたはHighの故障状態に固定することができ、作成されたFBMの確認に有効であり、従来手法と比較して工数の短縮に貢献することができる。   According to a semiconductor memory device of a second aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the fixing unit is configured to previously prepare a failure state of the specific memory cell using a mask. The state of any specified memory cell in the semiconductor memory element can be fixed to a low or high failure state, which is effective for confirming the created FBM and contributes to a reduction in man-hours compared with the conventional method. can do.

本発明の請求項3にかかる半導体記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該特定のメモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれのヒューズ回路を備え、前記ワード線方向に配置されているヒューズ回路を切断することにより、前記特定のメモリセルの記憶状態をHighまたはLowの故障状態に固定するようにしたので、マスクを別途設けなくとも、ヒューズの切断により、特定メモリセルをLowまたはHighの故障状態に固定することができ、作成されたFBMの確認に有効であり、経費削減に貢献できる。   According to a semiconductor memory device of a third aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the fixing means is configured to connect the specific memory in a direction of a word line connected to the specific memory cell. Each bit line pair that controls the memory state of the cell is provided with a respective fuse circuit, and the fuse circuit arranged in the word line direction is cut, whereby the memory state of the specific memory cell is set to High or Low. Since it is fixed in the failure state, the specific memory cell can be fixed in the failure state of Low or High by cutting the fuse without providing a mask separately, which is effective in confirming the created FBM. It can contribute to cost reduction.

更に、本発明の請求項4にかかる半導体記憶装置によれば、請求項1に記載の半導体記憶装置において、前記固定手段は、前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該メモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれの論理ゲートを備え、特定の検査状態に設定するときには、前記半導体記憶装置の外部から入力されてくる制御信号により、前記ビット線対をHighまたはLowに制御して、前記特定のメモリセルの記憶状態を、HighまたはLowの故障状態に固定するようにしたので、半導体記憶装置外部からの信号制御により、半導体記憶装置を破壊することなく特定のメモリセルをHighまたはLowの故障状態に固定することができ、半導体記憶装置は検査のためのみならず、通常の装置としての使用にも耐えうるため、経費削減に貢献することができる。   Furthermore, according to a semiconductor memory device of a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, the fixing means is configured to connect the memory in a direction of a word line connected to the specific memory cell. Each bit line pair that controls the memory state of the cell is provided with a respective logic gate, and when the bit line pair is set to a specific inspection state, the bit line pair is set to High by a control signal input from the outside of the semiconductor memory device. Alternatively, the memory state of the specific memory cell is fixed to a high or low failure state by controlling to Low, so that the semiconductor memory device is specified without being destroyed by signal control from the outside of the semiconductor memory device. The memory cell can be fixed to a high or low failure state, and the semiconductor memory device can be used not only for inspection but also as a normal device. Because to withstand the use of Te, it can contribute to cost reduction.

(実施の形態1)
本発明の実施の形態1による半導体記憶装置は、特定のメモリセル故障を予めマスクにより作製するものに関する。
(Embodiment 1)
The semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention relates to a semiconductor memory device in which a specific memory cell failure is previously produced using a mask.

まず、図4に、従来の半導体記憶装置の基本構成例を示す。図4において、ロウ方向のワード線100、101を選択するロウ・デコーダ102と、ビット線109〜112と、メモリセル部103〜106、半導体記憶装置への書き込みデータ入力ポートの一部である107、108とを示している。メモリセル部は、2つのインバータを直列に繋げたラッチ回路を有しており、左右一対の2本ビット線の制御により、2つの安定状態を確保することができ、これによりHighまたはLowを判別している。また、特定メモリセルの選択は、ロウ・デコーダにより、特定のビット線およびワード線が選択されることにより行われる。   First, FIG. 4 shows a basic configuration example of a conventional semiconductor memory device. In FIG. 4, a row decoder 102 for selecting word lines 100 and 101 in the row direction, bit lines 109 to 112, memory cell portions 103 to 106, and 107 which is a part of a write data input port to the semiconductor memory device. , 108. The memory cell portion has a latch circuit in which two inverters are connected in series, and two stable states can be ensured by controlling a pair of left and right bit lines, thereby discriminating between High and Low. doing. The specific memory cell is selected by selecting a specific bit line and word line by the row decoder.

図1は、本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図1において、特定のメモリセルであるメモリセル部103は、独自の2本のビット線を有しており、トランジスタAに繋がるビット線を定電圧に、トランジスタBに繋がるビット線をグランドに接続することで、トランジスタAの一端、及びトランジスタBの一端をそれぞれHighまたはLowに固定することができる。ローデコーダ102の選択によりメモリセル部103につながるワード線がアサートされるときは、ラッチ回路がビット線からデータをラッチする。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention.
In FIG. 1, the memory cell unit 103 which is a specific memory cell has two unique bit lines, and the bit line connected to the transistor A is connected to a constant voltage and the bit line connected to the transistor B is connected to the ground. Thus, one end of the transistor A and one end of the transistor B can be fixed to High or Low, respectively. When the word line connected to the memory cell unit 103 is asserted by the selection of the row decoder 102, the latch circuit latches data from the bit line.

このように、本発明の実施の形態1による半導体記憶装置では、半導体記憶装置に通常動作をさせるためのマスクとは別に、特定のメモリセルに繋がるビット線のどちらかをLowに、もう片方をHighに固定することにより、該特定のメモリセルの状態を予めHighまたはLowに固定させるためのマスクを用意して作製するようにしたので、半導体記憶素子内の任意の特定されたメモリセルの状態をLowまたはHighの故障状態に固定できるため、アドレスと、特定の故障状態のメモリセルの物理配置を容易に関連付けることにより、作成されたFBMの確認を効果的に行うことが可能となり、従来手法と比較して検査工数の短縮に貢献することができる。   As described above, in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention, apart from the mask for causing the semiconductor memory device to perform normal operation, one of the bit lines connected to a specific memory cell is set to Low and the other is set to the other. Since the mask for fixing the state of the specific memory cell to High or Low in advance is prepared by fixing to High, the state of any specified memory cell in the semiconductor memory element is prepared. Can be fixed to a low or high failure state, and it is possible to effectively confirm the created FBM by easily associating the address and the physical arrangement of the memory cell in a specific failure state. This can contribute to shortening the inspection man-hours.

(実施の形態2)
図2は、本実施の形態2による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図2において、メモリセル103の記憶状態を制御している一対のビット線109、110に対して、論理ゲート201、211、セレクタS1〜S4、及びヒューズを含むヒューズ回路113、114を備えている。また、半導体記憶装置のその他の構成は、前述実施の形態1と同様であるため、その説明を省略する。
(Embodiment 2)
FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of the semiconductor memory device according to the second embodiment.
In FIG. 2, logic gates 201 and 211, selectors S1 to S4, and fuse circuits 113 and 114 including fuses are provided for a pair of bit lines 109 and 110 that control the storage state of the memory cell 103. . Further, since the other configuration of the semiconductor memory device is the same as that of the first embodiment, description thereof is omitted.

2つのヒューズを接続しているときは、セレクタS1〜S4は、Highの制御信号により、常に入力107を選択するため、メモリセル103の動作は、ヒューズ回路が備えられていないときと同様に、動作する。即ち、ヒューズを接続しているときは、図2の回路は、図4の回路と等価になる。   When two fuses are connected, the selectors S1 to S4 always select the input 107 according to the High control signal, so that the operation of the memory cell 103 is the same as when the fuse circuit is not provided. Operate. That is, when the fuse is connected, the circuit of FIG. 2 is equivalent to the circuit of FIG.

次に、本実施の形態2による半導体記憶装置の、ヒューズの切断による故障状態の設定について、説明する。   Next, setting of a failure state by cutting a fuse in the semiconductor memory device according to the second embodiment will be described.

特定の検査状態では、113または114に接続されているヒューズを切断すれば、メモリセルをHighまたはLowに固定することができる。   In a specific inspection state, the memory cell can be fixed to High or Low by cutting the fuse connected to 113 or 114.

例えば、113に接続されているヒューズのみを切断すると、セレクタS1〜S4への制御信号が接地されるため、Lowとなる。ビット線109側では、セレクタS1は、Lowの制御信号により、OR論理ゲート201の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、114に接続されているヒューズを切断していないため、OR論理ゲート201の出力はHighを保ち、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらず、常にHighに固定される。   For example, when only the fuse connected to 113 is cut, the control signal to the selectors S1 to S4 is grounded and thus becomes Low. On the bit line 109 side, the selector S1 selects the output of the OR logic gate 201 by the Low control signal and outputs it to the bit line 109 connected to the transistor A. In addition, since the fuse connected to 114 is not cut, the output of the OR logic gate 201 is kept high, so that one end of the transistor A is always fixed to high regardless of the state change of the input 107. .

また、ビット線110側では、セレクタS3は、Lowの制御信号により、NOR論理ゲート211の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。また、114に接続されているヒューズを切断していないため、NOR論理ゲート211の出力はLowを保ち、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらずに、常にLowに固定される。   On the bit line 110 side, the selector S3 selects the output of the NOR logic gate 211 by the Low control signal and outputs it to the bit line 110 connected to the transistor B. Further, since the fuse connected to 114 is not cut, the output of the NOR logic gate 211 is kept low, so that one end of the transistor B is always fixed to low regardless of the state change of the input 107. The

従って、メモリセル103に繋がるワード線をアサートすると、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。   Therefore, when the word line connected to the memory cell 103 is asserted, the storage state of the memory cell can be fixed to High or Low.

なお、セレクタS2、S4は、Lowの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれHigh、Lowに固定されながら、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。   Note that the selectors S2 and S4 select the input 107 again according to the Low control signal and output it to the bit lines 109 and 110, respectively. Accordingly, one end of the transistors A and B is fixed to High and Low, respectively, and does not affect other memory cells.

また、113、114に接続されているヒューズを共に切断する場合、セレクタS1〜S4への制御信号が接地されるため、Lowとなる。ビット線109側では、セレクタS1は、Lowの制御信号により、OR論理ゲート201の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、両方のヒューズを切断したため、OR論理ゲート201の出力はLowを保ち、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらず、常にLowに固定される。   Further, when both the fuses connected to 113 and 114 are cut, the control signal to the selectors S1 to S4 is grounded, so it becomes Low. On the bit line 109 side, the selector S1 selects the output of the OR logic gate 201 by the Low control signal and outputs it to the bit line 109 connected to the transistor A. Since both fuses are cut, the output of the OR logic gate 201 is kept low, so that one end of the transistor A is always fixed to low regardless of the state change of the input 107.

ビット線110側では、セレクタS3は、Lowの制御信号により、NOR論理ゲート211の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。両方のヒューズを切断したため、NOR論理ゲート211の出力はHighを保ち、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらず、常にHighに固定される。   On the bit line 110 side, the selector S3 selects the output of the NOR logic gate 211 by the Low control signal and outputs it to the bit line 110 connected to the transistor B. Since both fuses are blown, the output of the NOR logic gate 211 remains High, so that one end of the transistor B is always fixed to High regardless of the state change of the input 107.

従って、113、114に接続されているヒューズを全部切断する場合でも、前記メモリセルに繋がるワード線をアサートすると、メモリセルをHighまたはLowに固定することができる。   Therefore, even when all the fuses connected to 113 and 114 are cut, the memory cell can be fixed to High or Low by asserting the word line connected to the memory cell.

なお、セレクタS2、S4は、Lowの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれLow、Highに固定されながらも、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。   Note that the selectors S2 and S4 select the input 107 again according to the Low control signal and output it to the bit lines 109 and 110, respectively. Therefore, one end of the transistors A and B is fixed to Low and High, respectively, but does not affect other memory cells.

このように、本実施の形態2による半導体記憶装置では、特定のメモリセル103の記憶状態を制御する一対のビット線109、110に対して、セレクタ、論理ゲート、及びヒューズを含むヒューズ回路113、114をそれぞれ備えるようにしたので、113または114に接続されているヒューズを切断することにより、メモリセルをHighまたはLow状態にするためのビット線の制御を行い、前記メモリセルに繋がるワード線をアサートすると、メモリセルをHighまたはLowの故障状態に固定することができる。従って、本実施の形態2による半導体記憶装置では、マスクを別途設けなくても、ヒューズの切断により、特定のメモリセルをHigh又はLowの故障状態に固定できるため、作成されたFBMの確認に有効であり、経費削減に貢献することができる。   Thus, in the semiconductor memory device according to the second embodiment, a fuse circuit 113 including a selector, a logic gate, and a fuse for a pair of bit lines 109 and 110 that control the storage state of a specific memory cell 103, 114 is provided, so that the fuse connected to 113 or 114 is cut to control the bit line for setting the memory cell to a high or low state, and the word line connected to the memory cell is controlled. When asserted, the memory cell can be fixed to a high or low fault state. Therefore, in the semiconductor memory device according to the second embodiment, a specific memory cell can be fixed to a high or low failure state by cutting a fuse without providing a mask separately, which is effective in confirming the created FBM. It can contribute to cost reduction.

また、上記のビット線の制御は、固定されたメモリセル以外のメモリセルには何の影響も与えない。   Further, the above bit line control has no effect on memory cells other than fixed memory cells.

(実施の形態3)
図3は、本実施の形態3による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。
図3において、メモリセル103の記憶状態を制御している一対のビット線109、110に対して、論理ゲート301、311、セレクタS1〜S4を備えている。論理ゲート301、311は、半導体記憶装置の外部からの制御信号、FMBモード及びHigh/Low制御信号を入力とする。また、半導体記憶装置のその他の構成は、前述実施の形態1と同様であるため、その説明を省略する。
(Embodiment 3)
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of the semiconductor memory device according to the third embodiment.
In FIG. 3, logic gates 301 and 311 and selectors S1 to S4 are provided for a pair of bit lines 109 and 110 that control the storage state of the memory cell 103. The logic gates 301 and 311 receive a control signal from the outside of the semiconductor memory device, an FMB mode, and a High / Low control signal. Further, since the other configuration of the semiconductor memory device is the same as that of the first embodiment, description thereof is omitted.

FMBモードがLowのとき、即ち、通常動作のとき、セレクタS1〜S4は、Lowの制御信号により、常に入力107を選択するため、メモリセル103の動作は、論理ゲート301、311、セレクタS1〜S4が備えられていない時と同様に、動作する。即ち、このときの図2の回路は、図4の回路と等価になる。   When the FMB mode is Low, that is, in normal operation, the selectors S1 to S4 always select the input 107 according to the Low control signal, so that the operation of the memory cell 103 is performed by the logic gates 301 and 311 and the selectors S1 to S1. It operates in the same way as when S4 is not provided. That is, the circuit of FIG. 2 at this time is equivalent to the circuit of FIG.

次に、本実施の形態3による半導体記憶装置における故障状態の設定について、説明する。   Next, the setting of the failure state in the semiconductor memory device according to the third embodiment will be described.

特定の検査状態では、FMBモードをHighにし、High/Low制御信号をいずれかの1つの状態に設定すれば、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。   In a specific inspection state, the storage state of the memory cell can be fixed to High or Low by setting the FMB mode to High and setting the High / Low control signal to any one state.

例えば、FMBモードがHigh、High/Low制御信号がHighの場合、ビット線109側では、セレクタS1は、Highの制御信号により、AND論理ゲート301の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、AND論理ゲート301は、HighのFMBモード信号と、HighのHigh/Low制御信号の反転信号が入力されている、Lowの信号を出力し、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらずに、Lowに固定される。   For example, when the FMB mode is High and the High / Low control signal is High, on the bit line 109 side, the selector S1 selects the output of the AND logic gate 301 according to the High control signal and is connected to the transistor A. Output to the bit line 109. The AND logic gate 301 outputs a Low signal to which the High FMB mode signal and the inverted signal of the High High / Low control signal are input. Therefore, one end of the transistor A is in the state of the input 107. Regardless of the change, it is fixed to Low.

また、ビット線110側では、セレクタS3は、Highの制御信号により、AND論理ゲート311の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。また、AND論理ゲート311は、HighのFMBモード信号と、HighのH/igh/Low制御信号が入力されている、Highの信号を出力し、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらず、Highに固定される。   On the bit line 110 side, the selector S3 selects the output of the AND logic gate 311 according to the High control signal and outputs it to the bit line 110 connected to the transistor B. The AND logic gate 311 outputs a High signal to which a High FMB mode signal and a High H / High / Low control signal are input. Therefore, one end of the transistor B changes the state of the input 107. Regardless, it is fixed to High.

従って、メモリセル103に繋がるワード線をアサートすると、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。   Therefore, when the word line connected to the memory cell 103 is asserted, the storage state of the memory cell can be fixed to High or Low.

なお、セレクタS2、S4は、Highの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれLow、Highに固定されながらも、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。   Note that the selectors S2 and S4 select the input 107 again according to the High control signal and output it to the bit lines 109 and 110, respectively. Therefore, one end of the transistors A and B is fixed to Low and High, respectively, but does not affect other memory cells.

また、FMBモードがHigh、High/Low制御信号がLowの場合、ビット線109側では、セレクタS1は、Highの制御信号により、AND論理ゲート301の出力を選択してトランジスタAに接続されているビット線109に出力する。また、AND論理ゲート301は、HighのFMBモード信号と、LowのHigh/Low制御信号の反転信号が入力されている、Highの信号を出力し、よって、トランジスタAの一端は、入力107の状態変化に関わらず、Highに固定される。   When the FMB mode is High and the High / Low control signal is Low, on the bit line 109 side, the selector S1 selects the output of the AND logic gate 301 and is connected to the transistor A by the High control signal. Output to the bit line 109. The AND logic gate 301 outputs a High signal to which a High FMB mode signal and an inverted signal of a Low High / Low control signal are input. Therefore, one end of the transistor A is in the state of the input 107. Regardless of the change, it is fixed to High.

ビット線110側では、セレクタS3は、Highの制御信号により、AND論理ゲート311の出力を選択してトランジスタBに接続されているビット線110に出力する。また、AND論理ゲート311は、HighのFMBモード信号と、LowのH/igh/Low制御信号が入力されている、Lowの信号を出力し、よって、トランジスタBの一端は、入力107の状態変化に関わらず、Lowに固定される。   On the bit line 110 side, the selector S3 selects the output of the AND logic gate 311 by the High control signal and outputs it to the bit line 110 connected to the transistor B. The AND logic gate 311 outputs a Low signal to which the High FMB mode signal and the Low H / high / Low control signal are input, so that one end of the transistor B changes the state of the input 107. Regardless, it is fixed to Low.

従って、メモリセル103に繋がるワード線をアサートすると、メモリセルの記憶状態をHighまたはLowに固定することができる。   Therefore, when the word line connected to the memory cell 103 is asserted, the storage state of the memory cell can be fixed to High or Low.

なお、セレクタS2、S4は、Highの制御信号により、再度入力107を選択してそれぞれビット線109、110に出力する。従って、トランジスタA、Bの一端はそれぞれHigh、Lowに固定されながらも、他のメモリセルに影響を及ぼすことはない。   Note that the selectors S2 and S4 select the input 107 again according to the High control signal and output it to the bit lines 109 and 110, respectively. Therefore, one end of the transistors A and B is fixed to High and Low, respectively, but does not affect other memory cells.

このように、本実施の形態3による半導体記憶装置では、特定のメモリセル103の記憶状態を制御するビット線対109、110に対して、セレクタ、論理ゲート等を備えて、特定の検査状態に設定するときには半導体記憶装置の外部の2つの制御信号により、前記ビット線の制御を行うことにより、上記特定メモリセル103の状態をHighまたはLowに固定することができる。従って、本実施の形態3による半導体記憶装置では、半導体記憶装置外部からの信号制御により、半導体記憶装置を破壊することなく特定のメモリセルをHighまたはLowの故障状態に固定できるため、作成されたFBMの確認に有効であり、例えば、新規半導体プロセス立ち上げ後など、本発明による機能を使用しなくなった場合には、通常の装置としての使用にも耐えうるため、経費削減に貢献することができる。   As described above, in the semiconductor memory device according to the third embodiment, the bit line pair 109, 110 that controls the storage state of the specific memory cell 103 is provided with a selector, a logic gate, and the like to be in a specific inspection state. When setting, the state of the specific memory cell 103 can be fixed to High or Low by controlling the bit line by two control signals outside the semiconductor memory device. Therefore, the semiconductor memory device according to the third embodiment is created because a specific memory cell can be fixed in a high or low failure state without destroying the semiconductor memory device by signal control from the outside of the semiconductor memory device. This is effective for FBM confirmation. For example, when the function according to the present invention is not used after the start of a new semiconductor process, it can withstand use as a normal device, which contributes to cost reduction. it can.

また、上記ビット線の制御は、固定されたメモリセル以外のメモリセルには何の影響も与えない。   The control of the bit line has no effect on memory cells other than fixed memory cells.

本発明に係る半導体記憶装置は、アドレスと特定の故障箇所の物理配置とを関連づけることにより不良箇所特定ためのFBMの確認を効果的に行い、検査工数を削減することができる効果を有しており、半導体記憶装置の不良解析時間を短縮させる半導体記憶装置として有用である。   The semiconductor memory device according to the present invention has an effect of effectively checking the FBM for specifying the defective part by associating the address with the physical arrangement of the specific faulty part and reducing the inspection man-hours. Therefore, it is useful as a semiconductor memory device that shortens the failure analysis time of the semiconductor memory device.

本発明の実施の形態1による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態2による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the semiconductor memory device by Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態3による半導体記憶装置の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the semiconductor memory device by Embodiment 3 of this invention. 従来の半導体記憶装置の構成を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the structure of the conventional semiconductor memory device.

符号の説明Explanation of symbols

100、101 ワード線
102 ロウ・デコーダ
103〜106 メモリセル部
107、108 データ入力ポート
109〜112 ビット線対
113、114 ヒューズ回路
201 OR論理ゲート
211 NOR論理ゲート
301、311 AND論理ゲート
S1〜S4 セレクタ
100, 101 Word line 102 Row decoder 103-106 Memory cell unit 107, 108 Data input port 109-112 Bit line pair 113, 114 Fuse circuit 201 OR logic gate 211 NOR logic gate 301, 311 AND logic gate S1-S4 selector

Claims (4)

複数のワード線、及び複数のビット線対と、
前記ワード線と前記ビット線との交差点に配置されたメモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイのうち、特定のメモリセルの記憶状態を擬似的もしくは実際に故障状態に固定させる固定手段と、を備えた、
ことを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of word lines and a plurality of bit line pairs;
A memory cell array disposed at an intersection of the word line and the bit line;
Fixing means for fixing a memory state of a specific memory cell in the memory cell array in a pseudo or actually faulty state,
A semiconductor memory device.
請求項1に記載の半導体記憶装置において、
前記固定手段は、
前記特定のメモリセルの故障状態を予めマスクにより作製する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1,
The fixing means includes
Producing a failure state of the specific memory cell in advance with a mask,
A semiconductor memory device.
請求項1に記載の半導体記憶装置において、
前記固定手段は、
前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該特定のメモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれのヒューズ回路を備え、
前記ワード線方向に配置されているヒューズ回路を切断することにより、前記特定のメモリセルの記憶状態をHighまたはLowの故障状態に固定する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1,
The fixing means includes
With respect to the direction of the word line connected to the specific memory cell, each bit line pair that controls the storage state of the specific memory cell includes a respective fuse circuit,
By cutting the fuse circuit arranged in the word line direction, the storage state of the specific memory cell is fixed to a high or low failure state.
A semiconductor memory device.
請求項1に記載の半導体記憶装置において、
前記固定手段は、
前記特定のメモリセルと接続されているワード線方向について、該メモリセルの記憶状態を制御しているビット線対にそれぞれの論理ゲートを備え、
特定の検査状態に設定するときには、前記半導体記憶装置の外部から入力されてくる制御信号により、前記ビット線対をHighまたはLowに制御して、前記特定のメモリセルの記憶状態を、HighまたはLowの故障状態に固定する、
ことを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1,
The fixing means includes
With respect to the direction of the word line connected to the specific memory cell, each bit line pair that controls the storage state of the memory cell includes a respective logic gate,
When setting to a specific inspection state, the bit line pair is controlled to be High or Low by a control signal input from the outside of the semiconductor memory device, and the storage state of the specific memory cell is set to High or Low. To fix the failure state of
A semiconductor memory device.
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