JP2005062094A - Lengthy low-energy electron beam irradiation equipment - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、印刷インクの乾燥処理、樹脂の表面改質処理、建材の表面加工処理、食品容器表面の殺菌処理等に使用される長尺低エネルギ電子線照射装置の構造に関し、特に、該装置で生成された電子線を大気中に放出させるための出射窓の保守機構に関する。 The present invention relates to a structure of a long low energy electron beam irradiation device used for printing ink drying treatment, resin surface modification treatment, building material surface processing treatment, food container surface sterilization treatment, etc. It is related with the maintenance mechanism of the exit window for releasing the electron beam produced | generated by (1) in air | atmosphere.
低エネルギ電子線照射装置とは、真空中で80keV〜300keVに加速した低エネルギの電子線を、出射窓を介して大気中の物質に照射させる装置である。電子線が物質表面に照射されると、被照射物質として、高分子材料では重合反応や架橋反応を起こし、細胞等では細胞の活性化(破壊)等を引き起こす。これを利用して、低エネルギ電子線照射装置の用途としては、印刷インクの乾燥硬化処理、樹脂の表面改質処理、建材の表面加工、食品容器表面の殺菌処理などに使用されている。 The low energy electron beam irradiation device is a device that irradiates a substance in the atmosphere with a low energy electron beam accelerated to 80 keV to 300 keV in a vacuum through an emission window. When an electron beam is irradiated onto the surface of a substance, as a substance to be irradiated, a polymer material causes a polymerization reaction or a crosslinking reaction, and a cell or the like causes cell activation (destruction). Utilizing this, the low energy electron beam irradiation device is used for printing ink drying and curing, resin surface modification, building material surface processing, food container surface sterilization, and the like.
図を用いて従来の低エネルギ電子線照射装置の構成の概略を説明すると、図13は、従来使用されている低エネルギ電子線照射装置100の構造を示す基本構成図、図14は、図13の矢視G−Gの拡大図で、出射窓102の構造を示す図である。図13に示す低エネルギ電子線照射装置100は、電子線発生部101と、この電子線発生部101を真空に保持するための真空容器103と、この真空容器103内の雰囲気を真空にするための真空排気装置104と、発生させた電子線を加速させるために真空容器103に絶縁タンク106を介して連結された電源タンク105と、加速された電子線107を大気中に放出させるための出射窓102から構成されている。なお、電子線発生原理については省略する。被処理物108は、出射窓102の下方に配置され、出射窓102から放出された電子線が表面に照射されるように構成されている。
The outline of the configuration of a conventional low energy electron beam irradiation apparatus will be described with reference to FIG. 13. FIG. 13 is a basic configuration diagram showing the structure of a conventionally used low energy electron
図14を参照するに、出射窓102は、真空容器103の下面、あるいは側面に配設されており、電子線107を透過させ且つ真空隔壁としての機能を有するTiあるいは同等機能を有する材質の薄膜109と、この薄膜109が内圧と大気圧との差圧で損傷しないように配設された桟110と、そして、これらに電子線107が照射されることによる発生した熱を除去するための冷却装置111とから構成されており、これらはユニット化されている。
Referring to FIG. 14, the
このように、ユニット化された出射窓に関しては、被照射物の搬送路の長手方向に直角な方向に沿って出射窓を案内するスライドガイドを取り付けると共に、スライドガイドの奥部の所定位置にストッパーを設け、出射窓の窓枠をスライドガイドに沿ってスライドさせ、窓枠の先端がストッパーに当接するまで押し込んで押圧棒によりクランプ板を下方から押圧して、真空容器の下面に出射窓を着脱自在に取り付けているものがある(例えば、特許文献1参照。)。
また、出射窓を備える出射室を固定側と可動側とに分割し、可動部側を昇降機構により上昇下降操作することで、出射窓の薄膜の交換作業を容易に行えるようにしているものがある(例えば、特許文献2参照。)。
さらに、走査管の下方の一部と薄膜を含む出射窓の部分を出射窓ユニットとして一体化し、走査管の他の部分及び筺体から出射窓ユニットを取り外し取り付けできるようにしているものもある(例えば、特許文献3参照。)。
In this way, with respect to the unitized exit window, a slide guide for guiding the exit window is attached along a direction perpendicular to the longitudinal direction of the conveyance path of the irradiated object, and a stopper is provided at a predetermined position in the back of the slide guide. Slide the window frame of the exit window along the slide guide, push it in until the tip of the window frame comes into contact with the stopper, press the clamp plate from below with the pressure bar, and attach and detach the exit window to the lower surface of the vacuum vessel Some are freely attached (see, for example, Patent Document 1).
In addition, the exit chamber provided with the exit window is divided into a fixed side and a movable side, and the movable part side is moved up and down by an elevating mechanism so that the exit window thin film can be easily replaced. (For example, refer to Patent Document 2).
In addition, there is a type in which a part below the scanning tube and a part of the exit window including the thin film are integrated as an exit window unit so that the exit window unit can be detached and attached from the other part of the scan tube and the housing (for example, , See Patent Document 3).
前述した低エネルギ電子線照射装置では、従来、照射幅は長尺なもので1m〜1.5mまでの装置が主流であったが、近年、被処理物の対象物が大型化し照射幅の長尺化(2m以上)が要求されている。また、低エネルギ電子線を用いるため、出射窓の加熱が問題となり、冷却機構を組込む必要性がある。従って、出射窓、電子線発生部及び真空容器等が大型重量化し、保守部品の交換や点検時に作業区域の確保が困難であったり、作業性の点で劣るという問題点があった。特に、出射窓に関しては、前述のとおり真空容器の下面あるいは側面に配設されるため、例えば、出射窓をユニットごと取り外すことなく、出射窓に付属する冷却装置の脱着、Ti薄膜の交換等の作業を行うことができない、あるいは、出射窓をユニットごと脱着する必要がある場合に、クレーン等の搬送機器を用いた保守作業の実施が困難であるなど、保守作業が極めて困難な場合が多かった。 Conventionally, in the low energy electron beam irradiation apparatus described above, the irradiation width is long, and apparatuses of 1 m to 1.5 m have been mainstream. However, in recent years, the object to be processed has become larger and the irradiation width is longer. Scaling (2m or more) is required. Further, since a low energy electron beam is used, heating of the exit window becomes a problem, and it is necessary to incorporate a cooling mechanism. Therefore, the emission window, the electron beam generator, the vacuum vessel, and the like are increased in weight and there are problems that it is difficult to secure a work area at the time of replacement and inspection of maintenance parts, and in terms of workability. In particular, since the exit window is disposed on the lower surface or side surface of the vacuum vessel as described above, for example, without removing the exit window together with the unit, the cooling device attached to the exit window can be removed, the Ti thin film can be replaced, etc. When work cannot be performed, or when it is necessary to remove and install the exit window as a unit, it is often difficult to perform maintenance work, such as it is difficult to perform maintenance work using a crane or other transport equipment. .
従って、本発明は、上述した従来の技術の問題を解決するためになされたもので、照射幅の長尺化に対し、出射窓の保守点検を容易にするための出射窓の保守機構を備える長尺低エネルギ電子線照射装置を提供することを主な目的とするものである。 Accordingly, the present invention has been made to solve the above-described problems of the prior art, and includes an exit window maintenance mechanism for facilitating maintenance and inspection of the exit window with respect to an increase in irradiation width. The main purpose is to provide a long low energy electron beam irradiation apparatus.
上述の目的を達成するため、本発明に係る長尺低エネルギ電子線照射装置は、内部に電子線発生部を収容に、一面に該電子線発生部で発生した電子線を照射する出射窓を有する真空容器と、該真空容器を軸中心に回転可能に保持する保持機構、及び、長手方向に移動し得る移動手段を有する可動式の架台と、該架台に対して前記真空容器を回転させる回転機構と、を備えてなることを特徴としている。 In order to achieve the above-mentioned object, the long low energy electron beam irradiation apparatus according to the present invention has an electron beam generator inside and an emission window for irradiating the electron beam generated by the electron beam generator on one side. A movable container having a vacuum container, a holding mechanism that rotatably holds the vacuum container about an axis, and a moving means that can move in a longitudinal direction, and a rotation that rotates the vacuum container relative to the frame And a mechanism.
本発明によれば、真空容器を保持機構を介し支持することで該真空容器を軸中心に回転できるようにしたことにより、真空容器下面、あるいは側面に配設された出射窓を、真空容器に取り付けた状態で保守作業しやすい位置(例えば上側)に移動でき、冷却装置の取り外しやTi薄膜の交換を容易にする。 According to the present invention, by supporting the vacuum container via the holding mechanism so that the vacuum container can be rotated about the axis, the emission window disposed on the lower surface or the side surface of the vacuum container can be attached to the vacuum container. It can be moved to a position (for example, the upper side) where maintenance work is easy in the attached state, and the removal of the cooling device and the replacement of the Ti thin film are facilitated.
次に、本発明の好適な実施の形態を、添付図面を参照しながら説明するが、図中、同一符号は、同一又は対応部分を示すものとする。 Next, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the same reference numerals denote the same or corresponding parts.
図1は、本発明による長尺低エネルギ電子線照射装置1の基本構成図及び真空容器移動時の透視図であり、図2は、図1に示すA−A断面図、図3は、図1に示すB−B断面図である。長尺低エネルギ電子線照射装置1は、内部に電子線発生部(図示せず)を収納し且つこの電子線発生部を真空に保持するための真空容器2と、この真空容器2内の雰囲気を真空にするための真空排気装置3と、発生させた電子線を加速させるために真空容器2に絶縁タンク5を介して連結された電源タンク4と、加速された電子線を大気中に放出させるための出射窓6から構成されている。なお、電子線発生原理については省略する。被処理物8は、出射窓6の下方に配置され、出射窓6から放出された電子線が表面に照射されるように構成されており、所定の処理、例えば、印刷インクの乾燥硬化処理、樹脂の表面改質処理、建材の表面加工、食品容器表面の殺菌処理などを行う。
FIG. 1 is a basic configuration diagram of a long low-energy electron beam irradiation apparatus 1 according to the present invention and a perspective view when a vacuum vessel is moved. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A shown in FIG. It is BB sectional drawing shown in 1. FIG. A long low energy electron beam irradiation apparatus 1 includes a
真空容器2は、内部に電子線発生部を収容する円筒状の真空容器本体20と、真空排気装置3に連結されている真空排気容器21とに分割した構成になっている。真空容器本体20の真空排気容器21側には、この真空排気容器21のフランジ24の外径より大きい外径を有する大径部22aを備えるフランジ22が接合されており、両フランジを介して真空容器本体20と真空排気容器21とが結合されるようになっている。図13に示すように従来構造では、真空容器103に真空排気装置104が接続されていたため、真空容器103と絶縁タンク106(絶縁タンクが配設されていない場合もある)及び真空容器103と真空排気装置104をそれぞれ切離し、真空容器内容物の保守作業を行っていたが、本発明によれば、真空容器2を真空容器本体20及び真空排気容器21の二つに分割することで、真空容器及び真空容器内部構造物の保守作業に必要な切離し個所を1箇所にすることができる。一方、真空容器本体20のメンテナンス扉9側には、真空容器本体21の外径より大きい外径を有する大径部23aを備えるフランジ23が接合されている。これらのフランジ22及び23の大径部22a及び23aには、後述するキャスタ17が各々当接するように構成されている。なお、出射窓2は、真空容器本体20の下面に、既知の方法で着脱自在に取り付けられている。
The
本発明による長尺低エネルギ電子線照射装置1は、さらに、架台10を備えている。架台10は、真空容器本体20の軸方向の両端部を下側から支えることができるように長手方向長さを有する構造をしており、その足部11の下端には、リニアガイド51が取り付けられていて、土台に敷設されたリニアレール50の上を移動できるように構成されている。従って、リニアガイド51とリニアレール50とは、移動手段を構成している。移動手段としては、これに限定されるものではなく、土台上を架台10が移動できるものであれば、レール及び車輪、駆動輪を備えた自走台車、牽引など、如何なるものでも良い。架台10の上側、即ち、足部11の上側には、正方形状の矩形枠12が形成されており、矩形枠12の内側の隅部四箇所に、各々キャスタ13が取り付けられていて、このキャスタ13を介して真空容器2の真空容器本体20が架台10に回転可能に保持されている。これらのキャスタ13は、保持機構を構成している。保持機構は、これに限定されるものではなく、架台10に対して真空容器本体20が相対回転できるように保持できる構造であれば、ローラ、ベアリング、歯車など、如何なるものでも良い。
The long low energy electron beam irradiation apparatus 1 according to the present invention further includes a
一方側の矩形枠12、本実施例では、メンテナンス扉9側の矩形枠12の外方には、モータ14が固定されている。また、真空容器本体20には、プーリ15が取り付けられており、ベルト16を介して真空容器本体20を回転できるように構成してある。これらモータ14、プーリ15、及びベルト16により回転機構を構成している。回転機構としては、これに限定されるものではなく、モータ14の動力を伝達して真空容器本体20を回転できれば、例えば、真空容器本体20の外側に歯車を嵌め込むなど、如何なる構成であっても良い。なお、図示してないが、エンコーダなどの検出器を用いて回転角度の一検出や制御を行うことができることは言うまでもない。
A
架台10の上方、例えば矩形枠12の上端部には、一対の相対する矩形枠12の各々外向きに突出する方向にキャスタ17が取り付けられている。このキャスタは、真空容器本体20のフランジ22及び23の大径部22a及び23aに当接しており、真空容器本体20の両端部に配設されたフランジ22及びフランジ23を架台10に設けたキャスタ17で位置決めする構造となっている。従って、真空容器本体20の両フランジ22及び23と架台に取り付けられたキャスタ17とは、位置決め手段を構成する。この位置決め手段により、移動手段によって架台10を移動させる場合にも、真空容器本体20の軸方向の位置ずれを起こすことがない。また、回転機構によって真空容器本体20を回転させる場合にも、キャスタ17がガイドとなり、回転の安定性が向上する。なお、位置決め手段は、真空容器本体20と架台10との間における長手方向の相対移動を防止することができ、且つ架台10に対する真空容器本体20の軸中心周りの回転運動を許容することができれば、如何なる構造でも良い。例えば、真空容器本体20には、その外径に溝を切り、架台10には、この溝に係合する係合ピンを取り付けることにより、軸方向移動を防止すると共に回転運動を許容することができる。
A
上述した構成の長尺低エネルギ電子線照射装置1の保守点検作業を簡単に説明すると、最初に、真空容器2を真空排気容器21と真空容器本体20との接続部(フランジ22及び24)で取り外し、移動手段によって架台10をリニアレール50に沿って図1における点線部分まで軸方向(長手方向)に移動させる。この際、架台10に保持されている真空容器本体20は、架台10に取り付けられたキャスタ17により架台10に対して位置決めされているため、軸方向に位置ずれを起こすことがない。その後、回転機構のモータ14を駆動することにより、ベルト16及びプーリ15を介して、キャスタ12により回転可能に保持されている真空容器本体20が軸中心に回転され、真空容器本体20の下面、あるいは側面に配設されている出射窓6を保守・点検し易い位置に移動する。保守点検が終了した後は、手順を逆にして、まず出射窓6が下面に向くように真空容器本体20を回転させた後、架台10を軸方向に移動させて、真空容器2の真空容器本体20と真空排気容器21とのフランジを整合させて、両フランジを組み付けて作業は完了する。
The maintenance and inspection work of the long low energy electron beam irradiation apparatus 1 having the above-described configuration will be briefly described. First, the
以上のように、本発明により長尺化された低エネルギ電子線照射装置は、上述したように構成されているため、次のような作用と効果を奏する。
(1)長尺低エネルギ電子線照射装置1の真空容器2の真空容器本体20を可動式の架台10に設置したキャスタ13により支持すると共に回転機構(14、15、16)を設けたことにより、例えば上側に出射窓6が配置されるように真空容器2の真空容器本体20を回転させ電子線用の出射窓6をユニットごと取り外すことなく、出射窓に付属する冷却装置の脱着、Ti薄膜の交換等の作業を容易に実施できる。また、出射窓6をユニットごと脱着する必要がある場合には、クレーン等の搬送機器を用いた保守作業を容易に実施できる。
(2)架台10にモータ14を、真空容器2の真空容器本体20にプーリ15を各々取り付け、ベルト16を介して動力を伝達する機構を設けることで、真空容器本体20の回転及び任意の回転角度における保持が可能となる。
(3)真空排気装置3が配設される部分を真空排気容器21として真空容器2の真空容器本体20とは別構造としたことにより、出射窓6及び真空容器内構造物(電子線発生部)の保守時において、真空排気装置3を取り外して移動させることなく、真空排気容器6と真空容器本体20との接続フランジ22及び24を切離すのみで、上記の出射窓及び電子線発生部等の保守作業が可能となる。
(4)真空容器2の真空容器本体20の両端に取り付けられたフランジ22及び23を、架台10に設けたキャスタ17で位置決めする位置決め手段を設けたことにより、保守作業時の架台移動による真空容器の真空容器本体と架台との位置ずれを防止することを可能とした。
As described above, since the low-energy electron beam irradiation apparatus elongated according to the present invention is configured as described above, the following operations and effects are achieved.
(1) By supporting the vacuum vessel
(2) By attaching a
(3) The portion where the vacuum evacuation device 3 is disposed is a
(4) By providing positioning means for positioning the
実施例2は、架台10に対して真空容器2の真空容器本体20を回転させる別の回転機構を示すもので、真空容器本体20を支持するキャスタ13を駆動伝達機として用いた例である。ここで、図4は、真空容器2の真空容器本体20を回転させる別の回転機構を示す外観図であり、図5は、図4のJ部の拡大図、図6は、図4の矢視C−C断面図である。
The second embodiment shows another rotating mechanism for rotating the vacuum container
実施例2では、実施例1において矩形枠12の内側四隅に配設されたキャスタ13の下側の1つもしくは2つをローラ19とし、ギヤ18及びチェーン25を介してモータ9の駆動力を伝達する構成とする。このような構成により、モータ9が駆動すると、真空容器本体20が回転する。なお、この実施例では、駆動力伝達にチェーン25を用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、直接歯車を噛み合わせても良いし、ローラ19自体をモータで駆動しても良い。このように、実施例2では、架台10に配設された、真空容器2の荷重を受けるキャスタ13を駆動力伝達機とすることで、実施例1のように真空容器2の真空容器本体20にプーリ15を取り付けるような加工を必要とせず、真空容器2の真空容器本体20を回転させることができる。即ち、真空容器本体20を回転可能に保持する保持機構に、真空容器本体20へ回転駆動力を伝達する回転機構を兼ね備えさせたものである。
In the second embodiment, one or two of the
本実施例3は、通常運転時には、真空容器2の真空容器本体20は架台30に直接固定されるが、保守作業時には真空容器を架台30から切離し、保守用の真空容器保持・回転冶具を取り付け、真空容器の真空容器本体を保持回転させることを可能とした構造に関するものである。ここで、図7は、保持機構及び回転機構の別の実施例を示す外観図で、図8は、図7のD−D矢示図の拡大図、図9は、図7のE−E矢示図の拡大図である。
In the third embodiment, the
本実施例3の架台30には、通常運転時に真空容器2の真空容器本体20を直接支持し得る支持柱32が、長手方向に離間配置された足部31の上側に各々一対ずつ取り付けられており、この支持柱32は、台部32aと受け部32bとから構成されている。また、支持治具33は、支持台34を介して架台30に着脱自在に取り付けられるように構成されていて、図示しないジャッキ機構を備えている。支持治具33の上端には、軸受板33aが取り付けられており、後述するフランジの回転用軸を回転可能に保持するようになっている。あんた、メンテナンス扉側(図7における紙面右側)の支持台34には、支持治具33に保持されたフランジの軸に取り付けたギヤ37に噛合し得るギヤ付きモータ38が取り付けられている。
A pair of
真空容器本体20の真空排気容器21側のフランジ22には、図7に示すように、真空容器本体20と真空排気容器21との接続部を切り離した後に取り付けることができる回転用の軸35aを有するフランジ35が取り付けられる。一方、メンテナンス扉側にも、メンテナンス扉を取り外した後に取り付けることができる回転用の軸36aを有するフランジ36が取り付けられる。
As shown in FIG. 7, the
以上のような構成によれば、保守作業時においては、まず、真空容器本体20と真空排気容器21との接続部を切り離した後に、フランジ22にフランジ35を取り付けると共に、メンテナンス扉を取り外してフランジ36を取り付ける。それから、フランジ35及びフランジ36を支持するジャッキ機構を持つ支持冶具33を支持台34を介して架台30に各々取り付ける。この際に、フランジ36の軸36aにギヤ37を取り付ける。それから支持治具33のジャッキ機構で真空容器本体20を持ち上げて支持柱32から真空容器本体20を切り離し、フランジ36の軸36aに取り付けたギヤ37をモータ38により駆動させて真空容器本体20を回転させる。このような構成を備える実施例3によれば、通常運転の状態において、真空容器の回転構造等を設置するスペースが確保できないような場合であっても、回転用の軸を有するフランジと、それらを支持する支持冶具とを真空容器等へ保守時に取り付けることにより、真空容器を回転可能にすることができ、実施例1と同様の効果が得られる。
According to the above configuration, at the time of maintenance work, first, after disconnecting the connecting portion between the
実施例3によれば、真空容器20の両端のフランジ面に取り付けられる回転軸35a及び36aを有するフランジ35及び36と、これらの軸35a及び36aを支持し且つ架台30に取り付けられるジャッキ機構を有する支持冶具33とにより、真空容器を軸中心に回転可能に保持できるので、これらフランジ35及び36と支持治具33とにより保持機構を構成する。また、軸36aに取り付けられたギヤ37とモータ38とにより、架台30に対して真空容器を回転させることができるので、これらギヤ37とモータ38とにより回転機構を構成する。このように、保持機構は、架台とは別体に形成され、回転機構は、架台及び真空容器とは別体に形成され、各々保守作業時に、架台及び真空容器に取り付けられるようになっている。
According to the third embodiment, the
なお、軸受板33aの軸保持構造は、軸受板33aに穿孔された穴に軸35aを挿入するようになっているが、軸受板に上側が開放しているU字溝を設け、フランジの軸を下から保持できるように構成することもできる。この場合には、メンテナンス扉側のギヤ37は、最初からフランジ36の軸36aに取り付けておくことができる。また、支持柱32にジャッキ機構を組み入れて、支持治具33で真空容器本体20を保持した後、支持柱を下降させて真空容器本体20と架台30とを切り離して、真空容器本体20を回転させるようにすることもできる。
The shaft holding structure of the
実施例4は、真空容器本体20と架台40との調芯と、真空容器本体20の回転時の支持とを、真空排気容器21側の大型化したフランジ22の大径部22aを一対のキャスタ44で挟むことにより行うように構成したものである。別の見方をすれば、実施例1における架台10に取り付けられたキャスタ17と、このキャスタが当接するフランジ22及び23とで構成する位置決め手段の別の実施例を示すものである、ここで、図10は、真空容器の調芯と支持を真空容器側の大型化したフランジをキャスタで挟むことで行う構造の外観図で、図11は、図10のK部の拡大図、図12は、図10のF−F矢示図の拡大図である。
In the fourth embodiment, the alignment of the vacuum vessel
実施例4の架台40は、基本的構成は、実施例1の架台10とほぼ同様であるが、足部41の上側に取り付けられた矩形枠42は、真空排気容器21との接続部であるフランジ22側を支持する足部41にのみ形成されている。この足部41の真空容器本体20の下側には、水平方向外向きにキャスタ台43が突設されており、このキャスタ台43の上側に、フランジ22の大径部22aを挟み込むように一対のキャスタ44が配設されている。
The basic structure of the
以上のように、フランジ22の大径部22aを一対のキャスタ44で挟み込むことにより、真空容器2の真空容器本体20の調芯と、真空容器本体20の回転時における支持が容易であり、また、移動手段によって架台40を移動させる場合にも、真空容器本体20の軸方向の位置ずれを起こすことがない。このような簡易な位置決め手段を採用することにより、真空容器2の架台40の構造を大幅に簡素にすることができる。即ち、実施例4においては、片側のフランジ22を一対のキャスタ44で挟み込むことにより位置決め手段を構成しているため、実施例1におけるメンテナンス扉側の大径フランジ23や、この大径フランジ23側を支持する矩形枠12なども省略することができる。また、位置決め手段は、メンテナンス扉側に配設することも可能であるが、実施例4のように真空排気容器側に配設すれば、メンテナンス扉側には、フランジを設ける必要がなくなるため、円筒状の真空容器本体20の外径に合う円盤状のメンテナンス扉45を取り付けるだけでよく、さらに構造が簡素化することができる。
このように、位置決め手段は、真空容器の少なくとも一側のフランジを、このフランジに接続されるフランジの外径よりも大径化し、その余剰部分(大径部)へ架台に取り付けられたキャスタを当接させるような構造にしてあり、特に、この実施例4においては、フランジの余剰部分を一対のキャスタで挟み込む構造にしてある。
As described above, by sandwiching the large-
Thus, the positioning means increases the diameter of the flange on at least one side of the vacuum vessel larger than the outer diameter of the flange connected to the flange, and the caster attached to the gantry to the surplus portion (large diameter portion). In particular, the fourth embodiment has a structure in which the surplus portion of the flange is sandwiched between a pair of casters.
1 長尺低エネルギ電子線照射装置
2 真空容器
3 真空排気装置
4 電源タンク
5 絶縁タンク
6 出射窓
8 被処理物
10 架台
11 足部
12 矩形枠
13 キャスタ
14 モータ
15 プーリ
16 ベルト
17 キャスタ
18 ギヤ
19 ローラ
20 真空容器本体
21 真空排気容器
22、23 フランジ
22a、23a 大径部
24 フランジ
25 チェーン
30 架台
31 足部
32 支持柱
33 支持治具
33a 軸受部
34 支持台
35、36 フランジ
35a、36a 軸
37 ギヤ
38 モータ
40 架台
41 足部
42 矩形枠
43 キャスタ台
44 キャスタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Long low energy electron
Claims (7)
該真空容器を軸中心に回転可能に保持する保持機構、及び、長手方向に移動し得る移動手段を有する可動式の架台と、
該架台に対して前記真空容器を回転させる回転機構と、を備えてなる長尺低エネルギ電子線照射装置。 A vacuum vessel having an exit window for irradiating the electron beam generated by the electron beam generator on one side, containing the electron beam generator inside,
A holding mechanism that rotatably holds the vacuum vessel about its axis, and a movable gantry having moving means that can move in the longitudinal direction;
A long low energy electron beam irradiation apparatus comprising: a rotation mechanism that rotates the vacuum vessel relative to the gantry.
前記回転機構は、前記架台及び前記真空容器とは別体に形成されており、
保守作業時に、前記保持機構及び回転機構を、前記架台及び前記真空容器に取り付ける請求項1乃至3の内のいずれか1項に記載の長尺低エネルギ電子線照射装置。 The holding mechanism is formed separately from the gantry,
The rotating mechanism is formed separately from the gantry and the vacuum vessel,
The long low energy electron beam irradiation apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the holding mechanism and the rotation mechanism are attached to the gantry and the vacuum vessel during maintenance work.
前記回転機構は、前記一対のフランジの内のいずれか一方のフランジの回転軸に取り付けられる駆動力伝達手段と、架台に取り付けられる駆動源とからなり、
前記ジャッキ機構を作動させて前記真空容器を前記架台から持ち上げて、前記真空容器を任意の位置まで回転可能にする請求項4に記載の長尺低エネルギ電子線照射装置。 The holding mechanism includes a pair of flanges having a rotation shaft attached to both ends of the vacuum vessel, and a support jig having a jack mechanism that supports the rotation shaft and is attached to the gantry.
The rotating mechanism includes a driving force transmitting means attached to a rotating shaft of one of the pair of flanges, and a driving source attached to a gantry,
The long low energy electron beam irradiation apparatus according to claim 4, wherein the jack mechanism is operated to lift the vacuum container from the mount so that the vacuum container can be rotated to an arbitrary position.
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---|---|---|---|
JP2003295246A JP2005062094A (en) | 2003-08-19 | 2003-08-19 | Lengthy low-energy electron beam irradiation equipment |
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EP2246045A1 (en) | 2007-08-13 | 2010-11-03 | McNeil-PPC, Inc. | Method for stabilizing phenylephrine |
-
2003
- 2003-08-19 JP JP2003295246A patent/JP2005062094A/en not_active Withdrawn
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