JP2005057188A - Semiconductor laser device, integrated optical pickup, and optical disc - Google Patents

Semiconductor laser device, integrated optical pickup, and optical disc Download PDF

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一彦 安達
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To make laser beams emitted from two kinds of semiconductor laser chips come close with respect to their positions for sharing an optical system for DVD and CD by integrating the two semiconductor laser chips, which emit the laser beams of different wavelengths. <P>SOLUTION: A plurality of semiconductor laser chips 3, 4, which emit the beams of different wavelengths, are mounted on the surface of a supporting body 2 with their light emitting points 3a, 4a in face to face with each other, while a hole 6 is so formed in the supporting body 2 as to be positioned between the semiconductor laser chips 3, 4, which are positioned in face to face with each other. A reflector 5 having two reflecting planes 5a that reflect laser beams emitted from the semiconductor laser chips 3, 4 is mounted in the hole 6 such that the reflecting planes 5a are set at 45° with respect to the surface of the supporting body 2. The laser beams emitted respectively from the semiconductor laser chips 3, 4 advance with their positions closer after they are reflected by the reflecting planes 5a of the reflector 5. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、半導体レーザ装置、集積化光ピックアップ及び光ディスク装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor laser device, an integrated optical pickup, and an optical disk device.

近年、次世代の光ディスクとしてDVDが注目されているが、DVDを再生可能な、又は、再生及び書込可能なプレイヤーにおいては、CDに対しても再生、又は、再生及び書込可能な機能を併せ持つことが望ましい。そのためには、DVD用の波長の短い(635nm又は650nm)赤色半導体レーザチップと、CD用の波長の長い(780nm)近赤外半導体レーザチップとを搭載した光ピックアップが必要とされている。さらに、装置の小型化のためには、2種類の半導体レーザチップを一つのパッケージの中に組み込んだ集積化光ピックアップの実現が期待されている。   In recent years, DVD has been attracting attention as a next-generation optical disc, and a player capable of reproducing or reproducing and writing to DVD has a function capable of reproducing or reproducing and writing on CD. It is desirable to have both. For this purpose, there is a need for an optical pickup on which a short wavelength (635 nm or 650 nm) red semiconductor laser chip for DVD and a long wavelength (780 nm) near infrared semiconductor laser chip for CD are mounted. Furthermore, in order to reduce the size of the apparatus, it is expected to realize an integrated optical pickup in which two types of semiconductor laser chips are incorporated in one package.

しかし、2つの半導体レーザチップを一つのパッケージに組み込んで光学系を共通化するためには、2つ半導体レーザチップの発光点間隔をできるだけ接近させる必要があり、その間隔を300μm以下、望ましくは100μm以下としなければならない。   However, in order to integrate two semiconductor laser chips into one package and to share an optical system, it is necessary to make the intervals between the light emitting points of the two semiconductor laser chips as close as possible, and the interval is 300 μm or less, preferably 100 μm. Must be:

従来、2つの半導体レーザチップの発光点間隔を狭くした半導体レーザ装置の発明としては、特許文献1に開示された発明が知られている。この特許文献1に開示された発明を図13に示す。この発明は、波長の異なるレーザ光を出射する2つの半導体レーザチップ101,102の発光点103,104が端部に偏った位置に形成され、2つの半導体レーザチップ101,102は発光点103,104が近接するように配置されている。   Conventionally, the invention disclosed in Patent Document 1 is known as an invention of a semiconductor laser device in which the interval between light emitting points of two semiconductor laser chips is narrowed. The invention disclosed in Patent Document 1 is shown in FIG. In the present invention, the light emitting points 103 and 104 of the two semiconductor laser chips 101 and 102 that emit laser beams having different wavelengths are formed at positions deviated toward the ends. 104 are arranged so as to be close to each other.

また、2つの半導体レーザチップの発光点間隔を狭くした他の半導体レーザ装置の発明としては、特許文献2に開示された発明が知られている。この特許文献2に開示された発明を図14に示す。この発明は、波長が異なるレーザ光を出射する2つの半導体レーザチップ111,112が支持体113上に設けられ、これらの半導体レーザチップ111,112の間に断面形状が三角形のミラー114が形成されている。支持体113がシリコンで形成され、この支持体113を異方性エッチングすることによりミラー114が形成されている。半導体レーザチップ111,112から出射されたレーザ光はミラー114の反射面で反射され、近接して位置する平行光となって進行する。   As another semiconductor laser device in which the interval between the light emitting points of two semiconductor laser chips is narrowed, the invention disclosed in Patent Document 2 is known. The invention disclosed in Patent Document 2 is shown in FIG. In the present invention, two semiconductor laser chips 111 and 112 that emit laser beams having different wavelengths are provided on a support 113, and a mirror 114 having a triangular cross section is formed between the semiconductor laser chips 111 and 112. ing. The support 113 is formed of silicon, and the mirror 114 is formed by anisotropically etching the support 113. Laser light emitted from the semiconductor laser chips 111 and 112 is reflected by the reflecting surface of the mirror 114 and travels as parallel light positioned in the vicinity.

特開平11−112089号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-112089

特開平11−39684号公報JP 11-39684 A

図13に示した特許文献1に開示された発明では、2つの半導体レーザチップの101,102は少なくとも30μm程度の間隔をあける必要があるので、発光点103,104の間隔を100μm程度とするためには、発光点103,104の位置を半導体レーザチップ101,102のチップ外形端から35μm程度の位置に形成する必要がある。しかし、発光点103,104の位置がチップ外形端に近すぎるため、チップの分離工程で欠けが発生したときに発光点103,104が破損してしまい、歩留まりが低下している。   In the invention disclosed in Patent Document 1 shown in FIG. 13, since the two semiconductor laser chips 101 and 102 need to be spaced at least about 30 μm, the distance between the light emitting points 103 and 104 is about 100 μm. In this case, it is necessary to form the light emitting points 103 and 104 at a position of about 35 μm from the outer edge of the semiconductor laser chips 101 and 102. However, since the positions of the light emitting points 103 and 104 are too close to the outer edge of the chip, the light emitting points 103 and 104 are damaged when chipping occurs in the chip separation process, and the yield is reduced.

図14に示した特許文献2に開示された発明では、実際にはシリコン表面に異方性エッチングで45°の斜面をもつ断面形状が三角形のミラー114を形成することは難しく、現実的ではない。   In the invention disclosed in Patent Document 2 shown in FIG. 14, it is actually difficult to form a mirror 114 having a triangular cross section with a 45 ° slope by anisotropic etching on the silicon surface, which is not practical. .

以上のように、DVDとCDとの光学系を兼用するための波長の異なる2種類の半導体レーザチップを集積化した半導体レーザ装置、その半導体レーザ装置を含んだ光ピックアップの実現は困難である。   As described above, it is difficult to realize a semiconductor laser device in which two types of semiconductor laser chips having different wavelengths for use as both DVD and CD optical systems are integrated, and an optical pickup including the semiconductor laser device.

本発明の目的は、DVDとCDとの光学系を兼用するための波長の異なる2種類の半導体レーザチップを集積化した半導体レーザ装置及びその半導体レーザ装置を含んだ集積化光ピックアップを提供することである。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor laser device in which two types of semiconductor laser chips having different wavelengths for use in DVD and CD optical systems are integrated, and an integrated optical pickup including the semiconductor laser device. It is.

請求項1記載の発明の半導体レーザ装置は、支持体と、レーザ光の発光点を有する面を対向させて前記支持体の表面に配置され、それぞれ異なる波長のレーザ光を出射する複数の半導体レーザチップと、対向して配置された前記半導体レーザチップの間に位置付けられて前記支持体に形成された穴と、前記半導体レーザチップから出射されたレーザ光を反射する2つの反射面を有し、前記反射面が前記支持体の表面に対して45°になるように前記穴に装着された反射体と、を具備する。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser device comprising: a plurality of semiconductor lasers arranged on the surface of the support so that the support and a surface having a laser light emitting point are opposed to each other and emitting laser beams of different wavelengths A hole formed in the support body positioned between the chip and the semiconductor laser chip disposed opposite to the chip, and two reflecting surfaces for reflecting the laser light emitted from the semiconductor laser chip, And a reflector mounted in the hole such that the reflection surface is 45 ° with respect to the surface of the support.

したがって、各半導体レーザチップの発光点から出射された波長の異なるレーザ光は、反射体の反射面に当たって反射され、支持体の表面に対して垂直方向に進行する。反射体と半導体レーザチップとの相対位置関係を最適化することにより、反射体の反射面で反射されて進行する波長が異なるレーザ光の間隔を任意の狭い間隔に設定することが可能となる。   Therefore, laser beams having different wavelengths emitted from the light emitting points of the respective semiconductor laser chips are reflected by the reflecting surface of the reflector and travel in a direction perpendicular to the surface of the support. By optimizing the relative positional relationship between the reflector and the semiconductor laser chip, it is possible to set an interval between laser beams having different wavelengths that are reflected by the reflecting surface of the reflector and travel to an arbitrarily narrow interval.

請求項2記載の発明は、請求項1記載の半導体レーザ装置において、前記反射体は、シリコンを主成分とする材料で四角柱状に形成されている。   According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first aspect, the reflector is formed in a quadrangular prism shape with a material mainly composed of silicon.

したがって、一方の反射面はシリコン表面を使い、他方の反射面はエッチング面を使うことで、平坦度の優れた反射面をもつ反射体を作製することができる。   Therefore, a reflector having a reflective surface with excellent flatness can be manufactured by using a silicon surface for one reflective surface and an etched surface for the other reflective surface.

請求項3記載の発明は、請求項1又は2記載の半導体レーザ装置において、前記支持体と前記反射体とは、シリコンを主成分とする材料で形成されている。   According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first or second aspect, the support and the reflector are made of a material mainly composed of silicon.

したがって、支持体と反射体とが共にシリコンを主成分とする材料で形成されているので、支持体と反射体との熱膨張係数が近いために環境温度が変化した際にも熱応力を抑えることができ、支持体への反射体の取り付け精度が維持される。   Therefore, since both the support and the reflector are made of a material mainly composed of silicon, the thermal stress is suppressed even when the environmental temperature changes because the thermal expansion coefficients of the support and the reflector are close. And the accuracy of attaching the reflector to the support is maintained.

請求項4記載の発明は、請求項1ないし3のいずれか一記載の半導体レーザ装置において、前記穴の内周面には、前記支持体の表面に対して45°の角度で傾斜する傾斜面が形成されている。   According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to any one of the first to third aspects, the inner peripheral surface of the hole is an inclined surface inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support. Is formed.

したがって、四角柱状の反射体を穴に装着したとき、反射体の外周面である反射面を穴の傾斜面に当接させることにより、反射体の反射面が支持体の表面に対して45°の角度に精度良く維持される。   Therefore, when the rectangular prismatic reflector is mounted in the hole, the reflecting surface of the reflector is brought into contact with the inclined surface of the hole so that the reflecting surface of the reflector is 45 ° with respect to the surface of the support. The angle is maintained with high accuracy.

請求項5記載の発明は、請求項4記載の半導体レーザ装置において、前記穴の前記傾斜面の部分は、断面形状が90°のダイヤモンドブレードによる研削加工で形成されている。   According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the fourth aspect, the portion of the inclined surface of the hole is formed by grinding with a diamond blade having a cross-sectional shape of 90 °.

したがって、正確な断面形状の穴を簡単に形成できる。   Therefore, a hole having an accurate cross-sectional shape can be easily formed.

請求項6記載の発明は、請求項4記載の半導体レーザ装置において、前記穴の前記傾斜面の部分は、異方性エッチングにより形成されている。   According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the fourth aspect, the inclined surface portion of the hole is formed by anisotropic etching.

したがって、正確な断面形状の穴を簡単に形成できる。   Therefore, a hole having an accurate cross-sectional shape can be easily formed.

請求項7記載の発明は、請求項1ないし3のいずれか一記載の半導体レーザ装置において、前記穴の内周面には階段状面が形成され、この階段状面の段差部先端を結ぶ線が前記支持体の表面に対し45°の角度で傾斜している。   According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to any one of the first to third aspects, a stepped surface is formed on the inner peripheral surface of the hole, and a line connecting the tips of the stepped portions of the stepped surface. Is inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support.

したがって、四角柱状の反射体を穴に装着したとき、反射体の外周面である反射面を穴の階段状面の段差部先端に当接させることにより、反射体の反射面が支持体の表面に対して45°の角度に精度良く維持される。   Therefore, when a rectangular prismatic reflector is mounted in the hole, the reflecting surface, which is the outer peripheral surface of the reflector, is brought into contact with the tip of the stepped portion of the stepped surface of the hole so that the reflecting surface of the reflector becomes the surface of the support. With respect to the angle, the angle of 45 ° is maintained with high accuracy.

請求項8記載の発明は、請求項1ないし7のいずれか一記載の半導体レーザ装置において、前記半導体レーザチップからの光出力を検出する受光部が前記支持体上に設けられている。   According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to any one of the first to seventh aspects, a light receiving portion for detecting a light output from the semiconductor laser chip is provided on the support.

したがって、半導体レーザチップと半導体レーザチップからの光出力を検出する受光部とを集積化して小型化を達成できる。   Therefore, the semiconductor laser chip and the light receiving unit that detects the light output from the semiconductor laser chip can be integrated to achieve miniaturization.

請求項9記載の発明の集積化光ピックアップは、請求項1ないし8のいずれか一記載の半導体レーザ装置と、前記半導体レーザチップから出射されたレーザ光を光ディスク上に集光させる対物レンズと、前記光ディスクからの反射光を受光する受光素子と、前記光ディスクからの反射光を前記受光素子に向けて屈曲させるホログラム素子と、を具備する。   An integrated optical pickup according to a ninth aspect of the invention is a semiconductor laser device according to any one of the first to eighth aspects, an objective lens for condensing the laser light emitted from the semiconductor laser chip on an optical disc, A light receiving element that receives reflected light from the optical disk, and a hologram element that bends the reflected light from the optical disk toward the light receiving element.

したがって、複数種類の光ディスクに対応した複数の半導体レーザチップが集積化されているため、集積化光ピックアップの小型化が実現される。   Therefore, since a plurality of semiconductor laser chips corresponding to a plurality of types of optical disks are integrated, the integrated optical pickup can be miniaturized.

請求項10記載の発明の光ディスク装置は、光ディスクを回転させる回転駆動機構と、請求項9記載の集積化光ピックアップと、前記光ディスクの種類に応じて前記集積化光ピックアップから出射されるレーザ光の種類を選択する選択出射手段と、を具備する。   An optical disc device according to a tenth aspect of the present invention is a rotary drive mechanism for rotating an optical disc, an integrated optical pickup according to a ninth aspect, and a laser beam emitted from the integrated optical pickup according to the type of the optical disc. Selective emission means for selecting the type.

したがって、光ディスク装置に小型の集積化光ピックアップを搭載することによって、光ディスク装置は小型化される。   Therefore, by mounting a small integrated optical pickup on the optical disk apparatus, the optical disk apparatus can be reduced in size.

請求項1記載の発明の半導体レーザ装置によれば、反射体と半導体レーザチップとの相対位置関係を最適化することにより、反射体の反射面で反射されて進行する波長が異なるレーザ光の間隔を任意の狭い間隔に設定することができる。   According to the semiconductor laser device of the first aspect of the present invention, by optimizing the relative positional relationship between the reflector and the semiconductor laser chip, the interval between the laser beams having different wavelengths traveling by being reflected by the reflecting surface of the reflector is different. Can be set to any narrow spacing.

請求項2記載の発明によれば、請求項1記載の半導体レーザ装置において、前記反射体は、シリコンを主成分とする材料で四角柱状に形成されているので、一方の反射面はシリコン表面を使い、他方の反射面はエッチング面を使うことで、平坦度の優れた反射面をもつ反射体を作製することができる。   According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first aspect, the reflector is formed in a quadrangular prism shape with a material having silicon as a main component. By using an etched surface as the other reflecting surface, a reflector having a reflecting surface with excellent flatness can be produced.

請求項3記載の発明によれば、請求項1又は2記載の半導体レーザ装置において、前記支持体と前記反射体とは、シリコンを主成分とする材料で形成されているので、支持体と反射体との熱膨張係数が近いために環境温度が変化した際にも熱応力を抑えることができ、支持体への反射体の取り付け精度を維持することができる。   According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to the first or second aspect, the support and the reflector are made of a material mainly composed of silicon. Since the thermal expansion coefficient with the body is close, thermal stress can be suppressed even when the environmental temperature changes, and the accuracy of attaching the reflector to the support can be maintained.

請求項4記載の発明によれば、請求項1ないし3のいずれか一記載の半導体レーザ装置において、前記穴の内周面には、前記支持体の表面に対して45°の角度で傾斜する傾斜面が形成されているので、四角柱状の反射体を穴に装着したとき、反射体の外周面である反射面を穴の傾斜面に当接させることにより、反射体の反射面が支持体の表面に対して45°の角度となるように精度良く維持することができる。   According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to any one of the first to third aspects, the inner peripheral surface of the hole is inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support. Since the inclined surface is formed, when the rectangular prismatic reflector is mounted in the hole, the reflecting surface, which is the outer peripheral surface of the reflector, is brought into contact with the inclined surface of the hole so that the reflecting surface of the reflector becomes the support. Can be maintained with high accuracy so as to be at an angle of 45 ° with respect to the surface.

請求項5記載の発明によれば、請求項4記載の半導体レーザ装置において、前記穴の前記傾斜面の部分は、断面形状が90°のダイヤモンドブレードによる研削加工で形成されているので、正確な断面形状の穴を簡単に形成できる。   According to the invention of claim 5, in the semiconductor laser device of claim 4, the inclined surface portion of the hole is formed by grinding with a diamond blade having a cross-sectional shape of 90 °. A hole having a cross-sectional shape can be easily formed.

請求項6記載の発明によれば、請求項4記載の半導体レーザ装置において、前記穴の前記傾斜面の部分は、異方性エッチングにより形成されているので、正確な断面形状の穴を簡単に形成できる。   According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device of the fourth aspect, since the inclined surface portion of the hole is formed by anisotropic etching, a hole having an accurate sectional shape can be easily formed. Can be formed.

請求項7記載の発明によれば、請求項1ないし3のいずれか一記載の半導体レーザ装置において、前記穴の内周面には階段状面が形成され、この階段状面の段差部先端を結ぶ線が前記支持体の表面に対し45°の角度で傾斜しているので、四角柱状の反射体を穴に装着したとき、反射体の外周面である反射面を穴の階段状面の段差部先端に当接させることにより、反射体の反射面が支持体の表面に対して45°の角度となるように精度良く維持することができる。   According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to any one of the first to third aspects, a stepped surface is formed on the inner peripheral surface of the hole, and the tip of the stepped portion of the stepped surface is formed. Since the connecting line is inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support, when the rectangular prismatic reflector is mounted in the hole, the reflection surface, which is the outer peripheral surface of the reflector, is stepped on the stepped surface of the hole. By abutting on the tip of the part, the reflecting surface of the reflector can be maintained with high accuracy so that the angle of the reflection surface is 45 ° with respect to the surface of the support.

請求項8記載の発明によれば、請求項1ないし7のいずれか一記載の半導体レーザ装置において、前記半導体レーザチップからの光出力を検出する受光部が前記支持体上に設けられているので、半導体レーザチップと半導体レーザチップからの光出力を検出する受光部とを集積化して小型化を達成できる。   According to an eighth aspect of the present invention, in the semiconductor laser device according to any one of the first to seventh aspects, a light receiving portion for detecting a light output from the semiconductor laser chip is provided on the support. The semiconductor laser chip and the light receiving unit for detecting the light output from the semiconductor laser chip can be integrated to achieve miniaturization.

請求項9記載の発明の集積化光ピックアップによれば、複数種類の光ディスクに対応した複数の半導体レーザチップが集積化されているため、集積化光ピックアップの小型化を実現できる。   According to the integrated optical pickup of the ninth aspect of the invention, since a plurality of semiconductor laser chips corresponding to a plurality of types of optical disks are integrated, the integrated optical pickup can be miniaturized.

請求項10記載の発明の光ディスク装置によれば、小型の集積化光ピックアップを搭載することによって小型化を図ることができる。   According to the optical disk device of the invention described in claim 10, it is possible to reduce the size by mounting a small integrated optical pickup.

本発明の第1の実施の形態を図1ないし図5に基づいて説明する。図1は半導体レーザ装置を示す正面図、図2はその平面図である。   A first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a front view showing a semiconductor laser device, and FIG. 2 is a plan view thereof.

この半導体レーザ装置1は、支持体2と、2つの半導体レーザチップ3,4と、反射体5とを主要な構成して形成されている。   The semiconductor laser device 1 is formed of a support 2, two semiconductor laser chips 3 and 4, and a reflector 5 as main components.

支持体2は放熱性に優れたシリコンを用いた板状の部材であり、その表面に半導体レーザチップ3,4が実装されている。この支持体2には、実装された半導体レーザチップ3,4の間に位置付けられて穴6が形成され、この穴6の中に反射体5が装着されている。   The support 2 is a plate-like member using silicon that is excellent in heat dissipation, and semiconductor laser chips 3 and 4 are mounted on the surface thereof. A hole 6 is formed in the support 2 between the mounted semiconductor laser chips 3 and 4, and a reflector 5 is mounted in the hole 6.

半導体レーザチップ3,4は異なる波長のレーザ光B1,B2を出射する構成であり、半導体レーザチップ3からはDVD用の波長の短い(635nm又は650nm)レーザ光B1が出射され、半導体レーザチップ4からはCD用の波長の長い(780nm)レーザ光B2が出射される。半導体レーザチップ3,4は、それぞれレーザ光B1,B2が出射される発光点3a,4aを対向させて実装されている。   The semiconductor laser chips 3 and 4 emit laser beams B1 and B2 having different wavelengths. The semiconductor laser chip 3 emits laser light B1 having a short wavelength (635 nm or 650 nm) for DVD. Emits a laser beam B2 having a long wavelength (780 nm) for CD. The semiconductor laser chips 3 and 4 are mounted with the light emitting points 3a and 4a from which the laser beams B1 and B2 are emitted facing each other.

支持体2に形成されている穴6は、支持体2の表面側と裏面側とを貫通して形成されており、その断面形状は表面側が狭い逆Y字形とされている。この穴6の内周面には、支持体2の表面に対して45°の角度で傾斜する傾斜面6aが形成されている。   The hole 6 formed in the support body 2 is formed so as to penetrate the front surface side and the back surface side of the support body 2, and the cross-sectional shape thereof is an inverted Y shape with a narrow front surface side. An inclined surface 6 a that is inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support 2 is formed on the inner peripheral surface of the hole 6.

反射体5は、シリコンを材料して一辺が200μmの四角柱状に形成されており、周囲の4面のうちの2面が反射面5aとされている。反射体5は支持体2の裏面側から穴6に挿入されて接着固定されている。穴6に挿入された反射体5は、反射面5aが傾斜面6aに当接され、反射面5aの一部が支持体2の表面側へ露出している。反射面5aにおける支持体2の表面側に露出した部分には、レーザ光B1,B2が出射される発光点3a,4aが対向している。   The reflector 5 is made of silicon and is formed in a quadrangular prism shape with a side of 200 μm, and two of the four surrounding surfaces are reflective surfaces 5a. The reflector 5 is inserted into the hole 6 from the back side of the support 2 and is fixedly bonded. In the reflector 5 inserted into the hole 6, the reflecting surface 5 a is in contact with the inclined surface 6 a, and a part of the reflecting surface 5 a is exposed to the surface side of the support 2. The light emitting points 3a and 4a from which the laser beams B1 and B2 are emitted are opposed to the portion of the reflecting surface 5a exposed on the surface side of the support 2.

穴6を形成する工程を図4に基づいて説明する。支持体2の表面側からエッチングにより凹部6bを形成する(図4(a))。ついで、先端部の断面形状が90°であるダイヤモンドブレード7を用いて支持体2の裏面側から凹部6bに向けて研削加工し、逆Y字形の穴6が完成する(図4(b)、(c))。   The process of forming the hole 6 will be described with reference to FIG. A recess 6b is formed by etching from the surface side of the support 2 (FIG. 4A). Next, a diamond blade 7 having a tip section of 90 ° is ground from the back surface side of the support 2 toward the recess 6b to complete the inverted Y-shaped hole 6 (FIG. 4B). (C)).

反射体5は、シリコンを用いて1辺が200μmの四角柱状に形成されており、このような微小構造物は、シリコンの異方性エッチング技術を用いて作製される。半導体材料のシリコンでは、特定のエッチング液において特定の結晶方位にエッチングが進行する異方性を持っている。このようなエッチングは異方性エッチングとして知られている。本発明の反射体5は、シリコン表面を第一の反射面として利用し、異方性エッチングによる垂直なエッチング面を第二の反射面として利用することができる。具体的には、(110)面のシリコン基板を異方性エッチングすることで形成することができる。   The reflector 5 is formed in a quadrangular prism shape having a side of 200 μm using silicon, and such a microstructure is manufactured by using an anisotropic etching technique of silicon. Silicon as a semiconductor material has anisotropy in which etching proceeds in a specific crystal orientation in a specific etching solution. Such etching is known as anisotropic etching. In the reflector 5 of the present invention, the silicon surface can be used as the first reflecting surface, and the vertical etching surface by anisotropic etching can be used as the second reflecting surface. Specifically, it can be formed by anisotropically etching a (110) plane silicon substrate.

反射体5の製作工程を図5を参照して説明する。反射体5を形成する基板8として(110)面のシリコン基板を採用する。この基板8に対してマスクを用いて異方性エッチングを行い、所定幅の開口9を形成する(図5(a))。マスク材料としてはシリコン酸化膜あるいはシリコン窒化膜を用い、エッチング液としては、23.4wt%KOH、13.3wt%イソプロピルアルコール、63.3wt%HOを使用する。図5(a)に示すように、基板8は所定の間隔で垂直にエッチングされた短冊状となる。 The manufacturing process of the reflector 5 will be described with reference to FIG. As the substrate 8 on which the reflector 5 is formed, a (110) plane silicon substrate is employed. The substrate 8 is anisotropically etched using a mask to form an opening 9 having a predetermined width (FIG. 5A). A silicon oxide film or a silicon nitride film is used as a mask material, and 23.4 wt% KOH, 13.3 wt% isopropyl alcohol, and 63.3 wt% H 2 O are used as an etchant. As shown in FIG. 5A, the substrate 8 has a strip shape which is vertically etched at a predetermined interval.

その後、マスクを除去し、反射面となる面に0.01μm程度のチタンを蒸着し、さらに0.1μm以上の金を蒸着する。この時、シリコンの基板8の表面であった面8aと、エッチングにより形成された面8bとに斜め45°からチタン、金を蒸着する(図5(b))。最後に、図5(c)に図示するように開口9が形成され、チタン及び金を蒸着された基板8を所定の長さに切り出すことにより、2面に反射面5aを有する反射体5が形成される。   Thereafter, the mask is removed, about 0.01 μm of titanium is vapor-deposited on the surface to be the reflective surface, and gold of 0.1 μm or more is further vapor-deposited. At this time, titanium and gold are vapor-deposited at an angle of 45 ° onto the surface 8a which was the surface of the silicon substrate 8 and the surface 8b formed by etching (FIG. 5B). Finally, as shown in FIG. 5 (c), an opening 9 is formed, and a reflector 8 having reflective surfaces 5a on two surfaces is obtained by cutting a substrate 8 on which titanium and gold are deposited to a predetermined length. It is formed.

このようにして異方性エッチングで得られた面8bに形成された反射面5aの平坦度と、基板8の表面側の面8aに形成された反射面5aとの平坦度とを評価した結果、ほとんど差がなかった。   As a result of evaluating the flatness of the reflecting surface 5a formed on the surface 8b obtained by anisotropic etching in this way and the flatness of the reflecting surface 5a formed on the surface 8a on the surface side of the substrate 8 There was almost no difference.

四角柱状の反射体5を穴6に装着し、その反射面5aを支持体2の表面に対して45°の角度で傾斜した傾斜面6aに当接させることにより、反射面5aは支持体2の表面に対して45°の角度で固定される。   The reflecting surface 5a is attached to the support 2 by attaching the reflecting member 5 having a square columnar shape to the hole 6 and bringing the reflecting surface 5a into contact with the inclined surface 6a inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the supporting member 2. It is fixed at an angle of 45 ° with respect to the surface.

このように構成された半導体レーザ装置1では、半導体レーザチップ3,4の発光点3a,4aから出射されたレーザ光B1,B2が、反射体5の反射面5aに当たって反射し、支持体2の表面に対して垂直方向に進行する。このとき、反射体5と半導体レーザチップ3,4との相対位置関係を最適化することにより、例えば、支持体2の表面側へ露出する反射面5aの露出寸法を調整することにより、支持体2の表面から垂直方向に進行するレーザ光B1,B2の間隔を任意の間隔に設定することが可能となる。   In the semiconductor laser device 1 configured as described above, the laser beams B1 and B2 emitted from the light emitting points 3a and 4a of the semiconductor laser chips 3 and 4 strike the reflecting surface 5a of the reflector 5 and are reflected. Progress in a direction perpendicular to the surface. At this time, by optimizing the relative positional relationship between the reflector 5 and the semiconductor laser chips 3 and 4, for example, by adjusting the exposed dimension of the reflecting surface 5a exposed to the surface side of the support 2, the support The interval between the laser beams B1 and B2 traveling in the vertical direction from the surface 2 can be set to an arbitrary interval.

反射面5aで反射した後に支持体2の表面から垂直方向に進行するレーザ光B1,B2の間隔と、穴6、反射体5の寸法等について、図3を参照して詳しく説明する。取り出したい二つのレーザ光B1,B2の間隔d0を100μmとし、反射体5の周囲の4面の一辺の長さLを200μm、半導体レーザチップ3,4の発光点3a,4aと反射面5aとの距離d1を50μm、半導体レーザチップ3,4の実装時の支持体2の端部からの突き出し量d2を5μm、支持体2の表面から半導体レーザチップ3,4の発光点3a,4aまでの高さt0を5μmとすると、半導体レーザチップ3,4間距離d3は200μm、穴6における支持体2の表面側の開口部距離d4は210μm(d0+2d1+2d2)となり、穴6の表面開口部側の厚さt1は50μm(d4/2−d0/2−t0)となる。支持体2の厚さとしては支持体2が穴6から裏面側に突出しない厚さt0が必要で、約√2×L以上、例えば、350μm程度、裏面側の開口幅d5も同じく反射体5を装着できるように√2×L、例えば、300μm程度となる。   The distance between the laser beams B1 and B2 that travel in the vertical direction from the surface of the support 2 after being reflected by the reflecting surface 5a, the dimensions of the holes 6, the reflector 5, and the like will be described in detail with reference to FIG. The distance d0 between the two laser beams B1 and B2 to be extracted is 100 μm, the length L of one side of the four surfaces around the reflector 5 is 200 μm, the light emitting points 3a and 4a and the reflecting surface 5a of the semiconductor laser chips 3 and 4 The distance d1 is 50 μm, the protruding amount d2 from the end of the support 2 when the semiconductor laser chips 3 and 4 are mounted is 5 μm, and from the surface of the support 2 to the light emitting points 3a and 4a of the semiconductor laser chips 3 and 4 When the height t0 is 5 μm, the distance d3 between the semiconductor laser chips 3 and 4 is 200 μm, the opening distance d4 on the surface side of the support 2 in the hole 6 is 210 μm (d0 + 2d1 + 2d2), and the thickness of the hole 6 on the surface opening side. The length t1 is 50 μm (d4 / 2−d0 / 2−t0). The thickness of the support 2 needs to be a thickness t0 at which the support 2 does not protrude from the hole 6 to the back surface side, and is approximately √2 × L or more, for example, about 350 μm, and the opening width d5 on the back surface side is also the reflector 5. √2 × L, for example, about 300 μm.

本発明の第2の実施の形態を図6及び図7にも基づいて説明する。なお、図1ないし図5において説明した部分と同じ部分は同じ符号で示し、説明も省略する(以下の実施の形態でも同じ)。図6は半導体レーザ装置を示す正面図、図7はその平面図である。   A second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those described in FIGS. 1 to 5 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is also omitted (the same applies to the following embodiments). FIG. 6 is a front view showing the semiconductor laser device, and FIG. 7 is a plan view thereof.

本実施の形態では、支持体2に形成される穴6の内周面に、階段状面11が形成されている。この階段状面11は、段差部先端を結ぶ線が、支持体2の表面に対して45°の角度で傾斜するように形成されている。   In the present embodiment, a stepped surface 11 is formed on the inner peripheral surface of the hole 6 formed in the support 2. The stepped surface 11 is formed so that the line connecting the tips of the stepped portions is inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support 2.

穴6に装着された反射体5は、反射面5aが階段状面11の段差部先端に当接され、反射面5aの一部が支持体2の表面側へ露出している。反射面5aにおける支持体2の表面側に露出した部分には、レーザ光が出射される発光点3a,4aが対向している。   In the reflector 5 mounted in the hole 6, the reflecting surface 5 a is in contact with the tip of the step portion of the stepped surface 11, and a part of the reflecting surface 5 a is exposed to the surface side of the support 2. The light emitting points 3a and 4a from which the laser light is emitted are opposed to the portion of the reflecting surface 5a exposed on the surface side of the support 2.

階段状面11は、先端部が矩形状に形成されたダイヤモンドブレードを用いて支持体2を研削加工することにより形成されている。   The stepped surface 11 is formed by grinding the support 2 using a diamond blade whose tip is formed in a rectangular shape.

本実施の形態では、反射体5を穴6に装着したとき、反射体5の反射面5aが穴6の階段状面11の段差部先端に当接し、反射面5aの一部が支持体2の表面側へ露出する。このとき、反射面5aは支持体2の表面に対して45°の角度を維持される。   In the present embodiment, when the reflector 5 is mounted in the hole 6, the reflecting surface 5 a of the reflector 5 comes into contact with the tip of the stepped surface 11 of the stepped surface 11 of the hole 6, and a part of the reflecting surface 5 a is the support 2. It is exposed to the surface side. At this time, the reflection surface 5 a is maintained at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support 2.

このため、半導体レーザチップ3,4の発光点3a,4aから出射されて反射面5aで反射されたレーザ光B1,B2は、支持体2の表面に対して垂直方向に進行する。このとき、反射体5と半導体レーザチップ3,4との相対位置関係を最適化することにより、例えば、支持体2の表面側へ露出する反射面5aの露出寸法を調整することにより、支持体2の表面から垂直方向に進行するレーザ光B1,B2の間隔を任意の狭い間隔に設定することが可能となる。   For this reason, the laser beams B 1 and B 2 emitted from the light emitting points 3 a and 4 a of the semiconductor laser chips 3 and 4 and reflected by the reflecting surface 5 a travel in a direction perpendicular to the surface of the support 2. At this time, by optimizing the relative positional relationship between the reflector 5 and the semiconductor laser chips 3 and 4, for example, by adjusting the exposed dimension of the reflecting surface 5a exposed to the surface side of the support 2, the support The interval between the laser beams B1 and B2 traveling in the vertical direction from the surface 2 can be set to an arbitrarily narrow interval.

本発明の第3の実施の形態を図8及び図9に基づいて説明する。図8は半導体レーザ装置を示す正面図、図9はその平面図である。   A third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a front view showing the semiconductor laser device, and FIG. 9 is a plan view thereof.

本実施の形態では、支持体2の穴6がシリコンに対する異方性エッチングにより形成されている。   In the present embodiment, the hole 6 of the support 2 is formed by anisotropic etching with respect to silicon.

穴6を異方性エッチングで形成する場合、シリコンの(100)面は異方性エッチングすることで54°の斜面が形成されることが知られている。そこで(011)方向を軸として(100)面に9°オフアングルした支持体2を異方性エッチングすることにより、一方の斜面が支持体2の表面に対して45°の角度で傾斜する傾斜面6aとなり、他方の斜面が支持体2の表面に対して63°の角度で傾斜する傾斜面6cとなる。   When the hole 6 is formed by anisotropic etching, it is known that a slope of 54 ° is formed on the (100) plane of silicon by anisotropic etching. Therefore, by tilting the support 2 that is 9 ° off-angled to the (100) plane with the (011) direction as an axis, one slope is inclined at an angle of 45 ° with respect to the surface of the support 2. It becomes the surface 6a, and the other inclined surface becomes the inclined surface 6c inclined at an angle of 63 ° with respect to the surface of the support 2.

穴6に装着された反射体5は、一方の反射面5aが傾斜面6aに当接され、傾斜面6cに対して反射体5の一つのコーナー部分が当接されている。   In the reflector 5 mounted in the hole 6, one reflecting surface 5a is in contact with the inclined surface 6a, and one corner portion of the reflector 5 is in contact with the inclined surface 6c.

穴6に装着された反射体5の一部は支持体2の表面側へ露出しており、このとき、傾斜面6aと反射面5aとが当接することにより、反射面5aは支持体2の表面に対して45°の角度を維持される。   A part of the reflector 5 mounted in the hole 6 is exposed to the surface side of the support 2, and at this time, the reflective surface 5 a is brought into contact with the reflection surface 5 a so that the reflection surface 5 a An angle of 45 ° with the surface is maintained.

このため、半導体レーザチップ3,4の発光点3a,4aから出射されて反射面5aで反射されたレーザ光B1,B2は、上述した第1又は第2の実施の形態と同じように、支持体2の表面に対して垂直方向に進行する。   Therefore, the laser beams B1 and B2 emitted from the light emitting points 3a and 4a of the semiconductor laser chips 3 and 4 and reflected by the reflecting surface 5a are supported in the same manner as in the first or second embodiment described above. It proceeds in a direction perpendicular to the surface of the body 2.

本発明の第4の実施の形態を図10及び図11に基づいて説明する。本実施の形態は、上述した半導体レーザ装置1を用いた集積化光ピックアップ21を示したものである。この集積化光ピックアップ21では、半導体レーザチップ3,4からの出力光を検出する受光部22,23が半導体レーザ装置1の一部として支持体2上に実装されている。さらに、DVDやCD等の光ディスク(図示せず)から反射光を受光する受光素子24,25が支持体2上に実装されている。   A fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, an integrated optical pickup 21 using the semiconductor laser device 1 described above is shown. In this integrated optical pickup 21, light receiving portions 22 and 23 for detecting output light from the semiconductor laser chips 3 and 4 are mounted on the support 2 as a part of the semiconductor laser device 1. Furthermore, light receiving elements 24 and 25 that receive reflected light from an optical disk (not shown) such as a DVD or CD are mounted on the support 2.

集積化光ピックアップ21の他の構成部品としては、半導体レーザチップ3,4から出射されたレーザ光B1,B2を光ディスク上に集光させる対物レンズ26、光ディスクから反射光を受光素子24,25に向けて屈曲させるホログラム素子27等が設けられている。   Other components of the integrated optical pickup 21 include an objective lens 26 for condensing the laser beams B1 and B2 emitted from the semiconductor laser chips 3 and 4 on the optical disk, and reflected light from the optical disk to the light receiving elements 24 and 25. A hologram element 27 or the like that is bent toward the screen is provided.

この集積化光ピックアップ21によれば、複数種類の光ディスクに対応した複数の半導体レーザチップ3,4、受光部22,23、受光素子24,25が実装され、支持体2の上方にホログラム素子27や対物レンズ26が配置されており、集積化光ピックアップ21の小型化を達成することができる。   According to this integrated optical pickup 21, a plurality of semiconductor laser chips 3 and 4, light receiving portions 22 and 23, and light receiving elements 24 and 25 corresponding to a plurality of types of optical disks are mounted, and the hologram element 27 is disposed above the support 2. And the objective lens 26 are arranged, and the miniaturization of the integrated optical pickup 21 can be achieved.

本発明の第5の実施の形態を図12に基づいて説明する。本実施の形態は、第4の実施の形態の集積化光ピックアップ21を搭載する光ディスク装置31の一例である。図12は本実施の形態における光ディスク装置31が備える各部の電気的接続を概略的に示すブロック図である。   A fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The present embodiment is an example of an optical disk device 31 on which the integrated optical pickup 21 of the fourth embodiment is mounted. FIG. 12 is a block diagram schematically showing the electrical connection of each part provided in the optical disc apparatus 31 in the present embodiment.

図12に示すように、光ディスク装置31は、光ディスクDを任意の回転速度で回転させる回転駆動機構の主要部を構成するスピンドルモータ32、このスピンドルモータ32の制御を行う回転制御部33、光ディスクDの記録面に対してレーザ光B1,B2を出射して光ディスクDの記録面で反射されたレーザ光B1,B2を受光する集積化光ピックアップ21、この集積化光ピックアップ21を光ディスクDの半径方向に移動させるスライダモータ34、このスライダモータ34の制御を行うスライダモータ制御部35、集積化光ピックアップ21の制御を行う光ピックアップ制御部36、集積化光ピックアップ21からの信号を処理する信号処理部37、各種プログラム及び格納データを演算処理し各部の動作を制御するCPU38、リード/ライト処理プログラムや制御プログラム等の固定的データを予め格納する記憶媒体であるROM39、光ディスクDから読み出したリードデータ及び光ディスクDに書き込むライトデータ等を一時的に格納する記憶手段であるRAM40等を備えている。このような光ディスク装置31は、外部インターフェース(図示せず)を介して上位装置であるホストコンピュータ41に接続されている。   As shown in FIG. 12, the optical disc apparatus 31 includes a spindle motor 32 that constitutes a main part of a rotation drive mechanism that rotates the optical disc D at an arbitrary rotational speed, a rotation control unit 33 that controls the spindle motor 32, and an optical disc D. An integrated optical pickup 21 that emits laser beams B1 and B2 to the recording surface and receives the laser beams B1 and B2 reflected on the recording surface of the optical disc D, and this integrated optical pickup 21 is used in the radial direction of the optical disc D. Slider motor 34 to be moved, slider motor control section 35 for controlling the slider motor 34, optical pickup control section 36 for controlling the integrated optical pickup 21, and signal processing section for processing signals from the integrated optical pickup 21 37, a CPU 38 that performs arithmetic processing on various programs and stored data and controls the operation of each unit; ROM 39 which is a storage medium for storing fixed data such as read / write processing programs and control programs in advance, and RAM 40 which is a storage means for temporarily storing read data read from optical disk D, write data to be written to optical disk D, and the like. Etc. Such an optical disk device 31 is connected to a host computer 41 which is a host device via an external interface (not shown).

なお、光ピックアップ制御部36及びCPU38が集積化光ピックアップ21に光ディスクDの種類に応じていずれか一方のレーザ光B1又はB2を択一的に選択出射させる選択出射手段として機能する。すなわち、選択出射手段は、集積化光ピックアップ21中の半導体レーザチップ3,4を光ディスクDの種類に応じて択一的に選択駆動する。   The optical pickup controller 36 and the CPU 38 function as selective emission means for selectively selectively emitting either one of the laser beams B1 or B2 to the integrated optical pickup 21 according to the type of the optical disk D. That is, the selective emission means selectively drives the semiconductor laser chips 3 and 4 in the integrated optical pickup 21 according to the type of the optical disk D.

このような構成において、光ディスク装置31による光ディスクDに対するデータのリード/ライト動作について説明する。ホストコンピュータ41から光ディスク装置31にリード/ライトコマンドが入力されると、光ディスク装置31のCPU38は、ROM39に格納されたリード/ライト処理プログラムに基づいてリード/ライト処理を実行する。   In such a configuration, a data read / write operation with respect to the optical disc D by the optical disc apparatus 31 will be described. When a read / write command is input from the host computer 41 to the optical disc device 31, the CPU 38 of the optical disc device 31 executes read / write processing based on a read / write processing program stored in the ROM 39.

CPU38は、回転制御部33によりスピンドルモータ32を駆動制御して光ディスクDを回転させ、スライダモータ制御部35によりスライダモータ34を駆動制御して集積化光ピックアップ21を光ディスクDの半径方向に移動させながら、光ピックアップ制御部36により集積化光ピックアップ21を駆動制御して光ディスクDの記録面に対しレーザ光B1,B2を出射し、光ディスクDの記録面に反射されたれレーザ光B1,B2を受光してリード/ライトを実行する。このとき、CPU38は、一時的にRAM40に格納されたリードデータをホストコンピュータ41に送信し、ライトデータをホストコンピュータ41から一時的にRAM40に格納する処理も行う。   The CPU 38 drives and controls the spindle motor 32 by the rotation control unit 33 to rotate the optical disc D, and drives and controls the slider motor 34 by the slider motor control unit 35 to move the integrated optical pickup 21 in the radial direction of the optical disc D. However, the integrated optical pickup 21 is driven and controlled by the optical pickup control unit 36 to emit laser beams B1 and B2 to the recording surface of the optical disc D, and receive the laser beams B1 and B2 reflected by the recording surface of the optical disc D. Then, read / write is executed. At this time, the CPU 38 also performs processing of transmitting the read data temporarily stored in the RAM 40 to the host computer 41 and temporarily storing the write data from the host computer 41 in the RAM 40.

なお、光ディスクDがDVDである場合には、選択出射手段により半導体レーザチップ3が選択駆動されてレーザ光B1が出射され、光ディスクDがCDである場合には、選択出射手段により半導体レーザチップ4が選択駆動されてレーザ光B2が出射される。   When the optical disc D is a DVD, the semiconductor laser chip 3 is selectively driven by the selective emission means to emit laser light B1, and when the optical disc D is a CD, the semiconductor laser chip 4 is selected by the selective emission means. Are selectively driven to emit laser light B2.

したがって、第4の実施の形態の小型の集積化光ピックアップ21を光ディスク装置31に搭載することによって、光ディスク装置31が小型化される。   Therefore, by mounting the small integrated optical pickup 21 of the fourth embodiment on the optical disk device 31, the optical disk device 31 is reduced in size.

本発明の第1の実施の形態の半導体レーザ装置を示す縦断正面図である。1 is a longitudinal sectional front view showing a semiconductor laser device according to a first embodiment of the present invention. その平面図である。FIG. その一部を拡大して示す縦断正面図である。It is a longitudinal front view which expands and shows a part. 支持体に穴を形成する工程を示す正面図である。It is a front view which shows the process of forming a hole in a support body. 反射体を形成する工程を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the process of forming a reflector. 本発明の第2の実施の形態の半導体レーザ装置を示す縦断正面図である。It is a vertical front view which shows the semiconductor laser apparatus of the 2nd Embodiment of this invention. その平面図である。FIG. 本発明の第3の実施の形態の半導体レーザ装置を示す縦断正面図である。It is a vertical front view which shows the semiconductor laser apparatus of the 3rd Embodiment of this invention. その平面図である。FIG. 本発明の第4の実施の形態の集積化光ピックアップを示す縦断正面図である。It is a vertical front view which shows the integrated optical pick-up of the 4th Embodiment of this invention. その一部を示す平面図である。It is a top view which shows the part. 本発明の第5の実施の形態の光ディスク装置を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the optical disk apparatus of the 5th Embodiment of this invention. 従来例の半導体レーザ装置を示す正面図である。It is a front view which shows the semiconductor laser apparatus of a prior art example. 他の従来例の半導体レーザ装置を示す縦断正面図である。It is a vertical front view which shows the semiconductor laser apparatus of another prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体レーザ装置
2 支持体
3 半導体レーザチップ
3a 発光点
4 半導体レーザチップ
4a 発光点
5 反射体
5a 反射面
6 穴
6a 傾斜面
7 ダイヤモンドブレード
11 階段状面
21 集積化光ピックアップ
22 受光部
23 受光部
24 受光素子
25 受光素子
26 対物レンズ
27 ホログラム素子

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor laser apparatus 2 Support body 3 Semiconductor laser chip 3a Light emission point 4 Semiconductor laser chip 4a Light emission point 5 Reflector 5a Reflective surface 6 Hole 6a Inclined surface 7 Diamond blade 11 Stair-shaped surface 21 Integrated optical pickup 22 Light receiving part 23 Light receiving part 24 light receiving element 25 light receiving element 26 objective lens 27 hologram element

Claims (10)

支持体と、
レーザ光の発光点を有する面を対向させて前記支持体の表面に配置され、それぞれ異なる波長のレーザ光を出射する複数の半導体レーザチップと、
対向して配置された前記半導体レーザチップの間に位置付けられて前記支持体に形成された穴と、
前記半導体レーザチップから出射されたレーザ光を反射する2つの反射面を有し、前記反射面が前記支持体の表面に対して45°になるように前記穴に装着された反射体と、
を具備する半導体レーザ装置。
A support;
A plurality of semiconductor laser chips that are arranged on the surface of the support so that the surfaces having the light emitting points of the laser light face each other and emit laser light of different wavelengths, and
A hole formed between the semiconductor laser chips disposed opposite to each other and formed in the support;
A reflector having two reflecting surfaces that reflect the laser light emitted from the semiconductor laser chip, and the reflector is mounted in the hole so that the reflecting surface is 45 ° with respect to the surface of the support;
A semiconductor laser device comprising:
前記反射体は、シリコンを主成分とする材料で四角柱状に形成されている請求項1記載の半導体レーザ装置。 The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the reflector is formed in a quadrangular prism shape using a material mainly composed of silicon. 前記支持体と前記反射体とは、シリコンを主成分とする材料で形成されている請求項1又は2記載の半導体レーザ装置。 3. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the support and the reflector are made of a material mainly composed of silicon. 前記穴の内周面には、前記支持体の表面に対して45°の角度で傾斜する傾斜面が形成されている請求項1ないし3のいずれか一記載の半導体レーザ装置。 4. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein an inclined surface that is inclined at an angle of 45 ° with respect to a surface of the support is formed on an inner peripheral surface of the hole. 5. 前記穴の前記傾斜面の部分は、断面形状が90°のダイヤモンドブレードによる研削加工で形成されている請求項4記載の半導体レーザ装置。 The semiconductor laser device according to claim 4, wherein the inclined surface portion of the hole is formed by grinding with a diamond blade having a cross-sectional shape of 90 °. 前記穴の前記傾斜面の部分は、異方性エッチングにより形成されている請求項4記載の半導体レーザ装置。 The semiconductor laser device according to claim 4, wherein the inclined surface portion of the hole is formed by anisotropic etching. 前記穴の内周面には階段状面が形成され、この階段状面の段差部先端を結ぶ線が前記支持体の表面に対し45°の角度で傾斜している請求項1ないし3のいずれか一記載の半導体レーザ装置。 4. A stepped surface is formed on the inner peripheral surface of the hole, and a line connecting the tips of the stepped portions of the stepped surface is inclined at an angle of 45 [deg.] With respect to the surface of the support. A semiconductor laser device according to claim 1. 前記半導体レーザチップからの光出力を検出する受光部が前記支持体上に設けられている請求項1ないし7のいずれか一記載の半導体レーザ装置。 8. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a light receiving portion that detects a light output from the semiconductor laser chip is provided on the support. 請求項1ないし8のいずれか一記載の半導体レーザ装置と、
前記半導体レーザチップから出射されたレーザ光を光ディスク上に集光させる対物レンズと、
前記光ディスクからの反射光を受光する受光素子と、
前記光ディスクからの反射光を前記受光素子に向けて屈曲させるホログラム素子と、
を具備する集積化光ピックアップ。
A semiconductor laser device according to any one of claims 1 to 8,
An objective lens for condensing the laser beam emitted from the semiconductor laser chip on the optical disc;
A light receiving element for receiving reflected light from the optical disc;
A hologram element that bends reflected light from the optical disc toward the light receiving element;
An integrated optical pickup comprising:
光ディスクを回転させる回転駆動機構と、
請求項9記載の集積化光ピックアップと、
前記光ディスクの種類に応じて前記集積化光ピックアップから出射されるレーザ光の種類を選択する選択出射手段と、
を具備する光ディスク装置。
A rotational drive mechanism for rotating the optical disc;
An integrated optical pickup according to claim 9,
Selective emission means for selecting the type of laser light emitted from the integrated optical pickup according to the type of the optical disc;
An optical disc apparatus comprising:
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006324409A (en) * 2005-05-18 2006-11-30 Sharp Corp Semiconductor laser device and optical pickup device therewith
JP2013143480A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Seiko Epson Corp Light-emitting device, manufacturing method of the same and projector
US9859681B2 (en) 2015-05-13 2018-01-02 Ricoh Company, Ltd. Optical device and light irradiation apparatus

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05175593A (en) * 1991-12-20 1993-07-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Method and device for coating end face edge of optical semiconductor
JPH0918087A (en) * 1995-06-27 1997-01-17 Nec Corp Multi-beam semiconductor laser device
JPH1140898A (en) * 1997-07-23 1999-02-12 Nec Corp Semiconductor optical device, manufacture and mounting structure there for
JP2000251308A (en) * 1999-02-24 2000-09-14 Sony Corp Integrated optical element, optical head, and recording and/or reproducing device
JP2001319360A (en) * 2000-03-03 2001-11-16 Ricoh Co Ltd Module for integrated optical pickup and optical pickup
JP2002026441A (en) * 2000-05-11 2002-01-25 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Optoelectronic module assembly having improved heat sink
JP2002092922A (en) * 2000-09-11 2002-03-29 Ricoh Co Ltd Module for integrated optical pickup, and optical pickup
JP2002368345A (en) * 2001-06-06 2002-12-20 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser module and optical pickup module
JP2002368324A (en) * 2001-06-08 2002-12-20 Ricoh Co Ltd Light source device and optical pickup
JP2003022556A (en) * 2001-07-06 2003-01-24 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser module and module of integrated optical pickup
JP2003091848A (en) * 2001-09-17 2003-03-28 Ricoh Co Ltd Optical element
JP2003188454A (en) * 2001-12-17 2003-07-04 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser device and integrated optical pickup

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05175593A (en) * 1991-12-20 1993-07-13 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Method and device for coating end face edge of optical semiconductor
JPH0918087A (en) * 1995-06-27 1997-01-17 Nec Corp Multi-beam semiconductor laser device
JPH1140898A (en) * 1997-07-23 1999-02-12 Nec Corp Semiconductor optical device, manufacture and mounting structure there for
JP2000251308A (en) * 1999-02-24 2000-09-14 Sony Corp Integrated optical element, optical head, and recording and/or reproducing device
JP2001319360A (en) * 2000-03-03 2001-11-16 Ricoh Co Ltd Module for integrated optical pickup and optical pickup
JP2002026441A (en) * 2000-05-11 2002-01-25 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Optoelectronic module assembly having improved heat sink
JP2002092922A (en) * 2000-09-11 2002-03-29 Ricoh Co Ltd Module for integrated optical pickup, and optical pickup
JP2002368345A (en) * 2001-06-06 2002-12-20 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser module and optical pickup module
JP2002368324A (en) * 2001-06-08 2002-12-20 Ricoh Co Ltd Light source device and optical pickup
JP2003022556A (en) * 2001-07-06 2003-01-24 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser module and module of integrated optical pickup
JP2003091848A (en) * 2001-09-17 2003-03-28 Ricoh Co Ltd Optical element
JP2003188454A (en) * 2001-12-17 2003-07-04 Ricoh Co Ltd Semiconductor laser device and integrated optical pickup

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006324409A (en) * 2005-05-18 2006-11-30 Sharp Corp Semiconductor laser device and optical pickup device therewith
JP2013143480A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Seiko Epson Corp Light-emitting device, manufacturing method of the same and projector
US9859681B2 (en) 2015-05-13 2018-01-02 Ricoh Company, Ltd. Optical device and light irradiation apparatus

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