JP2005050968A - Electric circuit component and its producing process - Google Patents

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JP2005050968A
JP2005050968A JP2003204901A JP2003204901A JP2005050968A JP 2005050968 A JP2005050968 A JP 2005050968A JP 2003204901 A JP2003204901 A JP 2003204901A JP 2003204901 A JP2003204901 A JP 2003204901A JP 2005050968 A JP2005050968 A JP 2005050968A
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Japan
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electric circuit
substrate
plating
groove
circuit component
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Kenji Kitaoka
賢治 北岡
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Cluster Technology Co Ltd
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Cluster Technology Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high density electric circuit or a component having a high density three-dimensional electric circuit, and to provide its producing process. <P>SOLUTION: The process for producing an electric circuit component comprises steps (a) for forming a nonconductive trench structure on a substrate by curing UV-curing resin at a desired position on the substrate, (b) for forming a coating of solution containing a plating medium entirely on the surface of the substrate having the trench structure, (c) for depositing the metallic catalyst in the solution containing a plating medium on the bottom face of the trench by irradiating the bottom part of the coating existing on the bottom of the trench with light, (d) for removing the coating, and (e) for depositing a conductive substance, by plating, in the opening of the trench structure at the position where the metallic catalyst is precipitated. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度電気回路あるいは高密度三次元電気回路を有する部品およびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
光硬化性樹脂溶液中で光の照射位置を所定のパターンに沿って移動させて三次元の構造物を製造する、光造形法が知られている(特許文献1参照)。この方法では、光の照射によって、光硬化性樹脂が硬化して固体となった硬化部分と未硬化の液状部分とを生じさせ、この未硬化の液状部分を除去することにより、3次元構造物を得ることができる。さらに、紫外線を用いる1光子吸収光造形法の代わりに、2光子吸収光造形法を行うことにより、光造形法の精度をより高くすることもできる(特許文献2参照)。
【0003】
このような光造形法によって得られた三次元構造物に電気回路を設ける方法も知られている(特許文献3参照)。この特許文献3の方法では、光造形法によって得られた三次元構造物の表面をメッキし、レジストを塗布し、エッチングを行って、電気回路を形成している。しかし、この方法では、電気回路は、構造物の表面上に設けられるのみである。一般には、三次元電気回路を形成するためには、電気回路を厚さ方向で接続しなければならず、上下の電気回路間に存在する非導電性構造物への穿孔および金属ピンの埋め込みなどの工程が必要となる。
【0004】
【特許文献1】
特開昭56−144478号公報
【特許文献2】
特公昭63−40650号公報
【特許文献3】
特開平10−12995号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、高密度電気回路あるいは高密度三次元電気回路を有する部品およびその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光造形法の特徴を応用して基板上に溝構造を形成し、その溝内にメッキにより導電性物質を析出させて、電気回路を形成し得るという事実に基づく。
【0007】
本発明は、電気回路部品の製造方法を提供し、この方法は、
(a)光造形法により、基板上の所望の位置で光硬化性樹脂を硬化させて、該基板上に非導電性の溝構造を形成する工程;
(b)該溝構造を有する基板の表面全体に、メッキ触媒含有溶液のコート膜を形成する工程;
(c)該溝の底面に存在している該コート膜の底部に光を照射することによって、該溝の底面に該メッキ触媒含有溶液中の金属触媒を析出させる工程;
(d)該コート膜を除去する工程;および
(e)メッキ法により、該金属触媒が析出した位置の該溝構造の開口部に導電性物質を析出させる工程;
を含む。
【0008】
好適な実施態様では、上記工程(a)から上記工程(e)までを所定回数繰り返す工程をさらに含む。
【0009】
より好適な実施態様では、上記工程(c)において上記金属触媒を析出させる光は、フェムト秒レーザーである。
【0010】
さらに好適な実施態様では、上記光造形法において、フェムト秒レーザーを用いる。
【0011】
より好適な実施態様では、上記メッキは、無電解メッキである。
【0012】
本発明はまた、上記のいずれかの方法によって製造された、電気回路部品を提供する。
【0013】
【発明の実施の形態】
本発明の電気回路部品の製造方法は、以下の工程:
(a)光造形法により、基板上の所望の位置で光硬化性樹脂を硬化させて、該基板上に非導電性の溝構造を形成する工程;
(b)該溝構造を有する基板の表面全体に、メッキ触媒含有溶液のコート膜を形成する工程;
(c)該溝の底面に存在している該コート膜の底部に光を照射することによって、該溝の底面に該メッキ触媒含有溶液中の金属触媒を析出させる工程;
(d)該コート膜を除去する工程;および
(e)メッキ法により、該金属触媒が析出した位置の該溝構造の開口部に導電性物質を析出させる工程;
を含む。
【0014】
以下、本発明の電気回路部品の製造方法を、工程の順に説明する。
【0015】
まず、工程(a)では、光造形法により、基板上の所望の位置で光硬化性樹脂を硬化させて、該基板上に非導電性の溝構造を形成する。
【0016】
本発明において、基板とは、電気回路部品を構成する部材であって、その表面に電気回路を形成しようとする部材をいい、その形状は特に限定されない。導電性物質でも非導電性物質でもよく、それらが混在していてもよい。例えば、予めその表面に電極や電気回路が形成されていてもよい。
【0017】
光造形法に用いられる光硬化性樹脂は、非導電性であれば特に限定されない。例えば、AZ CTP−100(クラリアントジャパン(株)製)およびACR10(東洋合成工業(株)製)が挙げられる。
【0018】
光造形法において光硬化性樹脂に照射される光は、樹脂を硬化させるに必要な波長およびエネルギーレベルを有していればよく、その種類は特に限定されない。光硬化性樹脂は、一般に、紫外線波長に大きな吸収を有するため、例えば、紫外線を集光照射する。光造形の加工精度を高めるためには、レーザーを用いることが好ましい。例えば、1光子の吸収により光硬化性樹脂の硬化反応が誘起されるレーザーとしては、He−Cdレーザー、Arイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザーが挙げられる。また多光子吸収現象により光硬化性樹脂の硬化反応が誘起されるレーザーとしては、例えば、フェムト秒レーザー(例えば、TiドープAlレーザー)が挙げられる。集光照射による多光子過程によりビームスポットよりも小さなポイントを硬化することができる点で、フェムト秒レーザーを使用することがより好ましい。
【0019】
このような光造形法により、基板上で電気回路を形成しようとする位置が溝となるように、光硬化性樹脂で溝構造を形成する。溝構造を形成する工程において、基板上の所望の位置で光硬化性樹脂を硬化させることから、この位置は溝にはなり得ず、したがって「基板上の所望の位置」とは、後の工程で電気回路が形成されない部分を意図する。溝構造の形成の際、基板は、光硬化性樹脂溶液に浸した状態で光照射を行ってもよい。あるいは、スピンコートなどによって光硬化性樹脂を基板上に薄くコーティングすれば、溝の深さを浅くすることもできる。溝の深さおよび幅は、その目的に応じて適宜決定され、通常、それぞれ5〜100μmおよび0.05〜5μmである。
【0020】
次いで、工程(b)では、上記溝構造を有する基板の表面全体に、メッキ触媒含有溶液のコート膜を形成する。
【0021】
ここで、メッキ触媒含有溶液は、メッキ用の触媒を付与するための溶液をいう。メッキ触媒含有溶液としては、例えば、金属イオン含有溶液、金属錯体溶液が挙げられ、触媒としてPd、Ptなどを含む溶液が使用され得る。好ましくは、無電解メッキの2液法で使用される活性化溶液が用いられる。より好ましくは、感光性の触媒含有溶液が使用され得る。
【0022】
この工程(b)においては、上記工程(a)で形成した基板上の溝構造の表面全体に上記メッキ触媒含有溶液を薄く塗布して、コート膜を形成させる。塗布する方法は、特に限定されない。通常、無電解メッキにおいては、触媒付与の前処理として基板表面をエッチングするが、本発明においては、必ずしもエッチングする必要はない。
【0023】
次いで、工程(c)では、上記溝の底面に存在しているコート膜の底部に光を照射することによって、溝の底面にメッキ触媒含有溶液中の金属触媒を析出させる。
【0024】
この工程で使用される光は、金属を析出させ得るエネルギーを有し、かつ溝の底部を正確に照射できる光であればよく、上記工程(a)の光造形法で用いた光と同じでも異なっていてもよい。照射の精度の点で、フェムト秒レーザーを用いることが好ましい。
【0025】
次に、工程(d)では、コート膜を除去する。上記工程(c)において、光照射によって金属触媒が溝の底部に析出し、一方、コート膜は液状のままで基板上に存在している。したがって、このコート膜を、例えば、水洗することによって除去する。
【0026】
次いで、工程(e)では、メッキ法により、金属触媒が析出した溝の開口部に導電性物質を析出させる。
【0027】
この工程におけるメッキ法は、無電解メッキ法、または無電解メッキ法に続く電解メッキ法であり得る。工程が少ない点で、無電解メッキ法が好ましい。析出させる導電性物質は、金属であり、好ましくは、銅、銀、金、白金、ニッケルなどが挙げられる。メッキ法は、当業者が通常行う条件で行われる。代表的には、これらの金属を含むメッキ液に基板全体を浸漬して、溝内に底部から開口部まで金属を析出させる。
【0028】
このようにして、基板上の溝構造の溝内に、導電性物質からなる電気回路が形成され、電気回路部品が得られる。本発明の電気回路部品はレーザーによって加工され得るため、高密度の電気回路を形成することができる。
【0029】
さらに、上記工程(a)から(e)までのサイクルを繰り返すことによって、三次元電気回路を製造することができる。すなわち、上記工程(a)から(e)までの1回目のサイクルにより形成された電気回路部品を基板として、上記工程(a)から(e)までのサイクルを行うと、最初のサイクルで形成された電気回路の上に、新たな電気回路が形成され得る。通常、電気回路は、先のサイクルで形成されたものとは異なるパターンで形成される。このサイクルを数回繰り返すことによって、三次元的に複雑な構造の電気回路を有する電気回路部品を製造することができる。
【0030】
以下、図面を用いて、本発明の方法をより具体的に説明する。ただし、図面には例示にすぎず、本発明は、この図面によって限定されない。
【0031】
図1の(a1)−1に示すように、この例においては、基板10上に予め平面電極20が設けられている。この平面電極20が設けられた基板10上に、図1の(a1)−2に示すように、光硬化性樹脂溶液30をコーティングする。次いで、フェムト秒レーザー90をレンズ92を通して、例えば矢印の方向にスキャンさせながら集光照射し、基板上の所望の位置で光硬化性樹脂を硬化させて、光硬化性樹脂成形体40を形成する(図1の(a1)−3)。次いで、未硬化の光硬化性樹脂溶液30を除去して、光硬化性樹脂成形体40からなる溝構造を有する基板を得る(図1の(a1)−4)。この図1に示す工程が、本発明の方法における光造形の工程(a)に相当する。
【0032】
次に、図2の(b1)に示すように、溝構造を有する基板の表面全体に、メッキ触媒含有溶液のコート膜50を形成する。この溝の底面に存在しているコート膜50の底部に、例えば、フェムト秒レーザー90を照射することによって、溝の底面にメッキ触媒含有溶液中の金属触媒60を析出させる(図2(c1))。金属触媒60の析出後、コート膜50を除去し、触媒を溝の底面に有する基板を得る(図2(d1))。次いで、この基板を、無電解メッキ液に浸漬し、溝内に導電性物質70を析出させて、電気回路を形成する(図2(e1))。このようにして、基板10上の溝構造の溝内に、導電性物質70からなる電気回路が形成された電気回路部品100が得られる。
【0033】
さらに、図3の(a2)に示すように、第1回目のサイクルで得られた電気回路部品100(図2(e1))を基板として用い、工程(a2)の光造形法によって、光硬化性樹脂成形体40からなる溝構造を形成する。次いで、メッキ触媒含有溶液のコート膜50を形成し、フェムト秒レーザー90によって金属触媒60を析出させる(図3(c2))。コート膜50を除去した後、無電解メッキ溶液に浸漬して導電性物質70を析出させ、三次元的な電気回路を有する電気回路部品100’が得られる(図3(e2))。同様に、光造形の工程(a)から無電解メッキの工程(e)までを繰り返すことにより、さらに複雑な電気回路を形成することができる(図3(a3)および(e3))。
【0034】
【発明の効果】
本発明によれば、穿孔などを行うことなく、三次元的複雑な電気回路を有する電気回路部品を製造することができる。また、レーザーなどを用いて形成すべき回路の幅や深さを精度よく調節できるため、非常に微細な三次元構造の電気回路を形成することができる。したがって、高密度の三次元電気回路を有する電気回路部品の製造が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の電気回路部品の製造方法の工程(a)である光造形法の手順を説明するための、電気回路部品の断面模式図である。
【図2】本発明の電気回路部品の製造方法の工程(b)から(e)までを説明するための、電気回路部品の断面模式図である。
【図3】本発明の工程(a)から(e)までの繰り返しの電気回路部品の製造過程を表す、電気回路部品の断面模式図である。
【符号の説明】
10 基板
20 平面電極
30 光硬化性樹脂溶液
40 光硬化性樹脂成形体
50 メッキ触媒含有溶液のコート膜
60 金属触媒
70 導電性物質
90 フェムト秒レーザー
92 レンズ
100 電気回路が形成された電気回路部品
100’ 三次元的な電気回路を有する電気回路部品
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a component having a high-density electric circuit or a high-density three-dimensional electric circuit and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
There is known an optical modeling method in which a three-dimensional structure is manufactured by moving a light irradiation position in a photocurable resin solution along a predetermined pattern (see Patent Document 1). In this method, a light-cured resin is cured to form a cured portion and an uncured liquid portion which are solidified by light irradiation, and the uncured liquid portion is removed to remove a three-dimensional structure. Can be obtained. Furthermore, the accuracy of the optical modeling method can be further increased by performing the two-photon absorption optical modeling method instead of the one-photon absorption optical modeling method using ultraviolet rays (see Patent Document 2).
[0003]
A method of providing an electric circuit on a three-dimensional structure obtained by such an optical shaping method is also known (see Patent Document 3). In the method of Patent Document 3, an electric circuit is formed by plating the surface of a three-dimensional structure obtained by stereolithography, applying a resist, and performing etching. However, in this method, the electrical circuit is only provided on the surface of the structure. In general, in order to form a three-dimensional electric circuit, the electric circuit must be connected in the thickness direction, and drilling and embedding metal pins in a non-conductive structure existing between the upper and lower electric circuits. This process is required.
[0004]
[Patent Document 1]
JP 56-144478 A [Patent Document 2]
Japanese Patent Publication No. 63-40650 [Patent Document 3]
Japanese Patent Laid-Open No. 10-12995
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a component having a high-density electric circuit or a high-density three-dimensional electric circuit and a method for manufacturing the same.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The present invention is based on the fact that an electrical circuit can be formed by applying a feature of stereolithography to form a groove structure on a substrate and depositing a conductive material in the groove by plating.
[0007]
The present invention provides a method of manufacturing an electrical circuit component, the method comprising:
(A) a step of curing a photocurable resin at a desired position on the substrate by stereolithography to form a non-conductive groove structure on the substrate;
(B) forming a coating film of a plating catalyst-containing solution on the entire surface of the substrate having the groove structure;
(C) depositing a metal catalyst in the plating catalyst-containing solution on the bottom surface of the groove by irradiating the bottom of the coat film existing on the bottom surface of the groove with light;
(D) a step of removing the coating film; and (e) a step of depositing a conductive substance in the opening of the groove structure at a position where the metal catalyst is deposited by a plating method;
including.
[0008]
In a preferred embodiment, the method further includes a step of repeating the steps (a) to (e) a predetermined number of times.
[0009]
In a more preferred embodiment, the light for depositing the metal catalyst in the step (c) is a femtosecond laser.
[0010]
In a more preferred embodiment, a femtosecond laser is used in the stereolithography.
[0011]
In a more preferred embodiment, the plating is electroless plating.
[0012]
The present invention also provides an electric circuit component manufactured by any of the methods described above.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The method for producing an electric circuit component of the present invention includes the following steps:
(A) a step of curing a photocurable resin at a desired position on the substrate by stereolithography to form a non-conductive groove structure on the substrate;
(B) forming a coating film of a plating catalyst-containing solution on the entire surface of the substrate having the groove structure;
(C) depositing a metal catalyst in the plating catalyst-containing solution on the bottom surface of the groove by irradiating the bottom of the coat film existing on the bottom surface of the groove with light;
(D) a step of removing the coating film; and (e) a step of depositing a conductive substance in the opening of the groove structure at a position where the metal catalyst is deposited by a plating method;
including.
[0014]
Hereinafter, the manufacturing method of the electric circuit component of this invention is demonstrated in order of a process.
[0015]
First, in the step (a), the photocurable resin is cured at a desired position on the substrate by stereolithography to form a nonconductive groove structure on the substrate.
[0016]
In the present invention, the substrate is a member constituting an electric circuit component and means a member for forming an electric circuit on the surface thereof, and its shape is not particularly limited. A conductive material or a non-conductive material may be used, or they may be mixed. For example, an electrode or an electric circuit may be formed on the surface in advance.
[0017]
The photocurable resin used in the optical modeling method is not particularly limited as long as it is non-conductive. Examples thereof include AZ CTP-100 (manufactured by Clariant Japan Co., Ltd.) and ACR10 (manufactured by Toyo Gosei Co., Ltd.).
[0018]
The light irradiated to the photocurable resin in the optical modeling method is not particularly limited as long as it has a wavelength and an energy level necessary for curing the resin. Since the photocurable resin generally has a large absorption at the ultraviolet wavelength, for example, the ultraviolet ray is condensed and irradiated. In order to increase the processing accuracy of stereolithography, it is preferable to use a laser. For example, as a laser in which a curing reaction of a photocurable resin is induced by absorption of one photon, a He—Cd laser, an Ar ion laser, a YAG laser, and an excimer laser can be given. Examples of the laser in which the curing reaction of the photocurable resin is induced by the multiphoton absorption phenomenon include a femtosecond laser (for example, a Ti-doped Al 2 O 3 laser). It is more preferable to use a femtosecond laser in that a point smaller than the beam spot can be cured by a multiphoton process by focused irradiation.
[0019]
By such an optical modeling method, a groove structure is formed with a photo-curable resin so that a position where an electric circuit is to be formed on the substrate becomes a groove. In the step of forming the groove structure, since the photocurable resin is cured at a desired position on the substrate, this position cannot be a groove. Therefore, the “desired position on the substrate” means a subsequent step. The part where the electric circuit is not formed is intended. When forming the groove structure, the substrate may be irradiated with light in a state of being immersed in a photocurable resin solution. Alternatively, the groove depth can be reduced by thinly coating a photocurable resin on the substrate by spin coating or the like. The depth and width of the groove are appropriately determined according to the purpose, and are usually 5 to 100 μm and 0.05 to 5 μm, respectively.
[0020]
Next, in step (b), a coating film of a plating catalyst-containing solution is formed on the entire surface of the substrate having the groove structure.
[0021]
Here, the plating catalyst-containing solution refers to a solution for applying a plating catalyst. Examples of the plating catalyst-containing solution include a metal ion-containing solution and a metal complex solution, and a solution containing Pd, Pt or the like as a catalyst can be used. Preferably, an activation solution used in a two-component method of electroless plating is used. More preferably, a photosensitive catalyst-containing solution can be used.
[0022]
In this step (b), the plating catalyst-containing solution is thinly applied to the entire surface of the groove structure on the substrate formed in the step (a) to form a coat film. The method of applying is not particularly limited. Usually, in electroless plating, the substrate surface is etched as a pretreatment for applying a catalyst. However, in the present invention, it is not always necessary to etch.
[0023]
Next, in step (c), the metal catalyst in the plating catalyst-containing solution is deposited on the bottom of the groove by irradiating light to the bottom of the coat film existing on the bottom of the groove.
[0024]
The light used in this step may be any light as long as it has energy capable of precipitating metal and can accurately irradiate the bottom of the groove, and may be the same as the light used in the stereolithography of the above step (a). May be different. In view of irradiation accuracy, it is preferable to use a femtosecond laser.
[0025]
Next, in the step (d), the coat film is removed. In the step (c), the metal catalyst is deposited on the bottom of the groove by light irradiation, while the coat film remains in a liquid state on the substrate. Therefore, the coat film is removed by washing with water, for example.
[0026]
Next, in the step (e), a conductive material is deposited on the opening of the groove where the metal catalyst is deposited by plating.
[0027]
The plating method in this step may be an electroless plating method or an electrolytic plating method subsequent to the electroless plating method. The electroless plating method is preferable in that there are few steps. The conductive substance to deposit is a metal, Preferably, copper, silver, gold | metal | money, platinum, nickel etc. are mentioned. The plating method is performed under the conditions normally performed by those skilled in the art. Typically, the entire substrate is immersed in a plating solution containing these metals, and the metal is deposited in the groove from the bottom to the opening.
[0028]
In this way, an electric circuit made of a conductive material is formed in the groove of the groove structure on the substrate, and an electric circuit component is obtained. Since the electric circuit component of the present invention can be processed by a laser, a high-density electric circuit can be formed.
[0029]
Furthermore, a three-dimensional electric circuit can be manufactured by repeating the cycle from the steps (a) to (e). That is, when the cycle from the step (a) to the step (e) is performed using the electric circuit component formed in the first cycle from the step (a) to the step (e) as a substrate, it is formed in the first cycle. A new electric circuit can be formed on the electric circuit. Usually, the electrical circuit is formed in a pattern different from that formed in the previous cycle. By repeating this cycle several times, an electric circuit component having an electric circuit with a three-dimensionally complicated structure can be manufactured.
[0030]
Hereinafter, the method of the present invention will be described more specifically with reference to the drawings. However, the drawings are only examples, and the present invention is not limited to the drawings.
[0031]
As shown in (a1) -1 of FIG. 1, in this example, the planar electrode 20 is provided on the substrate 10 in advance. A photocurable resin solution 30 is coated on the substrate 10 provided with the planar electrode 20 as shown in (a1) -2 of FIG. Next, the femtosecond laser 90 is condensed and irradiated through the lens 92 while being scanned in the direction of the arrow, for example, and the photocurable resin is cured at a desired position on the substrate to form the photocurable resin molded body 40. ((A1) -3 in FIG. 1). Next, the uncured photocurable resin solution 30 is removed to obtain a substrate having a groove structure made of the photocurable resin molded body 40 ((a1) -4 in FIG. 1). The process shown in FIG. 1 corresponds to the optical modeling process (a) in the method of the present invention.
[0032]
Next, as shown in FIG. 2B1, a coating film 50 of a plating catalyst-containing solution is formed on the entire surface of the substrate having a groove structure. By irradiating, for example, a femtosecond laser 90 to the bottom of the coating film 50 existing on the bottom surface of the groove, the metal catalyst 60 in the plating catalyst-containing solution is deposited on the bottom surface of the groove (FIG. 2 (c1)). ). After deposition of the metal catalyst 60, the coat film 50 is removed to obtain a substrate having the catalyst on the bottom surface of the groove (FIG. 2 (d1)). Next, this substrate is immersed in an electroless plating solution, and a conductive material 70 is deposited in the groove to form an electric circuit (FIG. 2 (e1)). In this way, the electric circuit component 100 in which the electric circuit made of the conductive material 70 is formed in the groove of the groove structure on the substrate 10 is obtained.
[0033]
Further, as shown in (a2) of FIG. 3, the electrical circuit component 100 (FIG. 2 (e1)) obtained in the first cycle is used as a substrate, and photocuring is performed by the stereolithography of the step (a2). A groove structure made of the conductive resin molded body 40 is formed. Next, a coating film 50 of a plating catalyst-containing solution is formed, and a metal catalyst 60 is deposited by the femtosecond laser 90 (FIG. 3 (c2)). After removing the coating film 50, the conductive material 70 is deposited by dipping in an electroless plating solution, and an electric circuit component 100 ′ having a three-dimensional electric circuit is obtained (FIG. 3 (e2)). Similarly, a more complicated electric circuit can be formed by repeating from the stereolithography step (a) to the electroless plating step (e) (FIGS. 3A3 and 3E3).
[0034]
【The invention's effect】
According to the present invention, an electric circuit component having a three-dimensional complicated electric circuit can be manufactured without drilling or the like. In addition, since the width and depth of a circuit to be formed can be accurately adjusted using a laser or the like, an extremely fine three-dimensional electrical circuit can be formed. Therefore, it is possible to manufacture an electric circuit component having a high-density three-dimensional electric circuit.
[Brief description of the drawings]
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electric circuit component for explaining a procedure of an optical modeling method that is step (a) of the method for manufacturing the electric circuit component of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an electric circuit component for explaining steps (b) to (e) of the method for manufacturing the electric circuit component of the present invention.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of an electric circuit component showing a process of repeatedly manufacturing the electric circuit component from steps (a) to (e) of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Board | substrate 20 Planar electrode 30 Photocurable resin solution 40 Photocurable resin molding 50 Coated film 60 of plating catalyst containing solution Metal catalyst 70 Conductive substance 90 Femtosecond laser 92 Lens 100 Electric circuit component 100 on which an electric circuit is formed '' Electrical circuit component with 3D electrical circuit

Claims (6)

電気回路部品の製造方法であって、以下の工程:
(a)光造形法により、基板上の所望の位置で光硬化性樹脂を硬化させて、該基板上に非導電性の溝構造を形成する工程;
(b)該溝構造を有する基板の表面全体に、メッキ触媒含有溶液のコート膜を形成する工程;
(c)該溝の底面に存在している該コート膜の底部に光を照射することによって、該溝の底面に該メッキ触媒含有溶液中の金属触媒を析出させる工程;
(d)該コート膜を除去する工程;および
(e)メッキ法により、該金属触媒が析出した位置の該溝構造の開口部に導電性物質を析出させる工程;
を含む、方法。
An electrical circuit component manufacturing method comprising the following steps:
(A) a step of curing a photocurable resin at a desired position on the substrate by stereolithography to form a non-conductive groove structure on the substrate;
(B) forming a coating film of a plating catalyst-containing solution on the entire surface of the substrate having the groove structure;
(C) depositing a metal catalyst in the plating catalyst-containing solution on the bottom surface of the groove by irradiating the bottom of the coat film existing on the bottom surface of the groove with light;
(D) a step of removing the coating film; and (e) a step of depositing a conductive substance in the opening of the groove structure at a position where the metal catalyst is deposited by a plating method;
Including a method.
前記工程(a)から前記工程(e)までを所定回数繰り返す工程をさらに含む、請求項1に記載の方法。The method according to claim 1, further comprising the step of repeating the step (a) to the step (e) a predetermined number of times. 前記工程(c)において前記金属触媒を析出させる光が、フェムト秒レーザーである、請求項1または2に記載の方法。The method according to claim 1 or 2, wherein the light for depositing the metal catalyst in the step (c) is a femtosecond laser. 前記光造形法において、フェムト秒レーザーを用いる、請求項1から3のいずれかに記載の方法。The method according to any one of claims 1 to 3, wherein a femtosecond laser is used in the stereolithography. 前記メッキが、無電解メッキである、請求項1から4のいずれかに記載の方法。The method according to claim 1, wherein the plating is electroless plating. 請求項1から5のいずれかに記載の方法によって製造された、電気回路部品。An electric circuit component manufactured by the method according to claim 1.
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