JP2005041871A - 4置換ベンゼン化合物 - Google Patents

4置換ベンゼン化合物 Download PDF

Info

Publication number
JP2005041871A
JP2005041871A JP2004201413A JP2004201413A JP2005041871A JP 2005041871 A JP2005041871 A JP 2005041871A JP 2004201413 A JP2004201413 A JP 2004201413A JP 2004201413 A JP2004201413 A JP 2004201413A JP 2005041871 A JP2005041871 A JP 2005041871A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
formula
compound
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004201413A
Other languages
English (en)
Inventor
Hisaya Wada
久弥 和田
Hajime Asanuma
肇 浅沼
Masakazu Sato
正和 佐藤
Yuiko Matsunaga
結子 松永
Takeshi Koami
武史 小網
Hideaki Amada
英明 天田
Akiko Ikeda
明子 池田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taisho Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP2004201413A priority Critical patent/JP2005041871A/ja
Publication of JP2005041871A publication Critical patent/JP2005041871A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)
  • Quinoline Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Other In-Based Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)

Abstract

【課題】
WNT−5A産生抑制作用を有する優れた毛乳頭細胞増殖促進剤、より具体的には優れた発毛促進剤・育毛剤を提供すること。
【解決手段】式
【化1】
Figure 2005041871

(式中、R1はニトロ基を示し、R2は水素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基等を示し、R3は式 −S(O)nR31で表される基、ハロゲン原子、式 −COR32又は式 −NR3435で表される基を示し、R4は、式
【化2】
Figure 2005041871

(式中、Xは、窒素原子又はニトロオキシ基を示し、R41及びR42は、同一又は異なって、炭素原子数1〜18のアルキル基又は置換基を有する炭素原子数1〜18のアルキル基を示すか、隣接するXと一緒になって、式
【化3】
Figure 2005041871

(式中p、qはそれぞれ1〜5の整数を示し、Yはメチレン基、酸素原子等を示し、R51及びR52は、同一又は異なって、水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、アリール基等を示す。)を示す。)で表される4置換ベンゼン化合物又はその塩である。
【選択図】 なし

Description

本発明は、新規な4置換ベンゼン化合物、並びに4置換ベンゼン化合物を有効成分とするWNT-5A産生抑制剤、毛乳頭細胞増殖促進剤、発毛剤又は育毛剤に関する。
ヒト毛髪毛包は、角化細胞、毛乳頭細胞、繊維芽細胞及び脂腺細胞等の様々な上皮系及び真皮間様系の細胞から構成されており、これらの細胞間相互作用を介して、毛髪の成長サイクル(毛周期)が調節されている。毛の本体は、毛包角化細胞の増殖/分化(角化)により形成されるが、この毛包角化細胞の増殖、分化及びアポトーシスを制御し、毛周期調節の中心的な役割を担っているのは、毛乳頭である。したがって、発毛剤/育毛剤を開発する上で毛乳頭細胞に対する作用を研究することは重要と考えられる。しかし、これまでに毛乳頭細胞の増殖能及び毛周期調節能を制御する分子機構については、ほとんど明らかにされていない。
一方、WNT-5Aは、WNTファミリーに属する分泌性糖蛋白質である。WNTファミリーには、約20種類の分子が存在し、各分子は線虫から哺乳類まで広く保存されている。これらWNTsは、胎生期の体軸形成や器官形成を制御する重要な細胞間シグナル分子であることが知られている(非特許文献1・非特許文献2)。WNTsの受容体は、7回膜貫通型のFrizzledで、ヒトでは10種類存在する(非特許文献1・非特許文献2)。WNTとFrizzledの結合の組み合わせに依存して、3種類のシグナル伝達経路(WNT/β−カテニン経路、PCP経路、WNT/Ca2+経路)が存在する(非特許文献1)。
近年、WNT/β-カテニン経路が毛包形成に重要であることが明らかにされた(非特許文献3・非特許文献4・非特許文献5・非特許文献6・非特許文献7)。1998年には、安定化β-カテニンの皮膚におけるトランスジェニックマウスが作製され、このマウスは毛包新生が亢進し多毛となることが報告された(非特許文献4)。また、2000年には、毛乳頭細胞の毛包誘導能の維持に、WNT/β-カテニンシグナルが重要であることが報告された(非特許文献6)。
しかし、WNT-5Aからのシグナル伝達は、β-カテニン経路ではなく、Ca2+経路を介することが明らかにされている(非特許文献8・非特許文献9)。しかし、WNT-5Aと毛包新生との関連性については何ら報告はない。
この他、アフリカツメガエルWNT−5A mRNA をヒトFrizzled5 mRNAとともにアフリカツメガエル初期胚に注入すると二次体軸が誘導する(非特許文献10)、一方、WNT-1やWNT-8 mRNAの注入により誘導される二次体軸形成をWNT−5Aが抑制するという報告(非特許文献11)やアフリカツメガエルWNT−5Aは、ラットFrizzled2と結合し、Ca2+経路を介してCamKII(Ca2+/calmodulin-dependent protein kinase II)とPKC(protein kinase II)が活性化されるなどの報告(非特許文献9)があるが、生理的な意味は未だ解明されておらず、WNT−5Aと発毛/育毛との関連性についても何ら報告はない。
Annu.Rev.Cell Dev.Biol.14,59−88(1998) Genes&Dev.11,3286−3305(1997) Genes & Dev. 8, 2691-2703 (1994) Cell 95, 605-614 (1998) Dev. Biol. 207, 133-149 (1999) Genes & Dev. 14, 1181-1185 (2000) Cell 105, 533-545 (2001) Dev. Biol. 182, 114-120 (1997) Curr. Biol. 9, 695-698 (1999) Science275,1652-1654(1997) J.Cell Biol.133,1123-1137(1996)
本発明の目的は、新規な4置換ベンゼン化合物、並びに4置換ベンゼン化合物を有効成分とするWNT-5A産生抑制剤、毛乳頭細胞増殖促進剤、発毛剤又は育毛剤を提供することにある。
本発明者らは上記目的のため鋭意研究を行った結果、ある特定の置換基を有する4置換ベンゼン化合物が、WNT-5Aの産生を抑制し、毛乳頭細胞増殖を促進し、発毛を促進及び育毛を促進すること見出し、本発明を完成した。
本発明は、優れたWNT-5A産生抑制作用を有し。WNT-5A産生抑制剤として有用であり、具体的には毛乳頭細胞増殖促進剤として有用であり、より具体的には発毛促進剤として有用である。
すなわち、本発明は、
Figure 2005041871
(式中、R1はニトロ基を示し、
2は水素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基、置換基を有する炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、置換基を有する炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、アリール基、テトラヒドロナフチル基、オキソラニル基、オキサニル基、炭素原子数6〜18のビシクロアルキル基、インダニル基又はベンゾオキサニル基を示し、R3は式 −S(O)nR31(式中、nは0、1又は2を示し、n=0の時、R31は複素環基を示し、n=1又は2の時、R31は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数1〜18の置換アルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、アリール基又は複素環基を示す。)で表される基、ハロゲン原子、式 −COR32(式中、R32はヒドロキシ基又は炭素原子数1〜6個を示す。)又は式 −NR3435(式中、R34及びR35は、同一又は異なって、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。)で表される基を示し、
4は、式
Figure 2005041871
(式中、Xは、窒素原子又は式 N−Oを示し、R41及びR42は、同一又は異なって、炭素原子数1〜6のアルキル基又は置換基を有する炭素原子数1〜6のアルキル基を示すか、隣接するXと一緒になって式
Figure 2005041871
(式中p、qはそれぞれ1〜5の整数を示し、Yはメチレン基、酸素原子、硫黄原子又は式 N-Z(式中、Zは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜8のアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1〜4のアルカノイル基を示す。)を示し、R51及びR52は、同一又は異なって水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、アリール基、ベンジル基、炭素原子数2〜6のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数2〜6のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のジアルキルアミノカルボニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数1〜4のヒドロキシアルキル基、ジフェニルヒドロキシメチル基又はN-メチルアセトアミド基を示す。)を示す。)で表される4置換ベンゼン化合物又はその塩である。
3は、式 −S(O)nR31(式中、n、R31は前記と同意義である。)であることが好ましく、更に好ましくは、式
Figure 2005041871
であり、nは、0、1又は2であるが、より好ましくは、n=1である。
41及びR42は、好ましくは、共にメチル基である。
本発明の他の形態としては、式(I)で表される4置換ベンゼン化合物を有効成分とするWNT-5A産生抑制剤である。
また、本発明の他の形態としては、式(I)で表される4置換ベンゼン化合物を有効成分とする毛乳頭細胞増殖促進剤である。
さらに、本発明の他の形態としては、式(I)で表される4置換ベンゼン化合物を有効成分とする発毛剤又は育毛剤である。
本発明において、炭素原子数1〜18アルキル基とは、炭素原子数1〜18の直鎖又は分枝状のアルキル基であり、好ましくは炭素原子数1〜8個の直鎖又は分枝状のアルキル基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基又はウンデシル基があげられる。
置換基を有する炭素原子数1〜18のアルキル基とは、炭素原子数1〜18のアルコキシ基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、炭素原子数2〜6のアルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アリールオキシ基、炭素原子数8〜18のビシクロアルキル基、、アダマンチル基、フリル基、2−オキソピロリジニル基、オキソラニル基、オキセタニル基、オキサニル基、ジオキサニル基及びジオキサラニル基ベンゾジオキサニル基からなる群から選ばれる基で置換された炭素数1〜18個の直鎖状又は分枝状のアルキル基であり、好ましくはアリール基又はアリールオキシ基で置換された炭素原子数1〜18の直鎖状又は分枝状のアルキル基であり、さらに好ましくはアリール基又はアリールオキシ基で置換された炭素原子数1〜3のアルキル基である。
炭素原子数3〜8のシクロアルキル基とは、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシル基又はシクロオクチル基であり、好ましくはシクロペンチル基又はシクロヘキシル基である。
置換基を有する炭素原子数3〜8のシクロアルキル基とは、炭素原子数1〜8のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数3〜8のシクロアルキル基で置換された炭素原子数3〜8のシクロアルキル基である。
炭素原子数2〜6のアルコキシカルボニル基とは、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基又はヘキシルオキシカルボニル基である。
アリール基とは、例えば、フェニル基、「炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数2〜6のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1〜6のアミド基、ベンジル基、フェニル基、フェネチル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基及び炭素原子数1〜4のアルコキシ基」からなる群から選ばれる基で置換されたフェニル基、ナフチル基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたナフチル基、テトラヒドロナフチル基又はインダニル基である。
「炭素原子数1〜8のアルキル基、炭素原子数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、トリフルオロメトキシ基、トリフルオロメチル基、炭素原子数2〜6のアルコキシカルボニル基、炭素原子数1〜6のアミド基、ベンジル基、フェニル基、フェネチル基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基及び炭素原子数1〜4のアルコキシ基」からなる群から選ばれる基で置換されたフェニル基とは、例えば、2−,3−又は4−クロロフェニル基;2−,3−又は4−ブロモフェニル基;2−,3−又は4−フルオロフェニル基;2,4−ジクロロフェニル基;2,4−ジブロモフェニル基;2,4−ジフルオロフェニル基;2−フルオロ−4−ブロモフェニル基、2,5,6−トリフルオロフェニル着;2−,3−又は4−メチルフェニル基;2−,3−又は4−メトキシフェニル基;2−,3−又は4−トリフルオロメチルフェニル基;2−,3−又は4−アミノフェニル基;2−,3−又は4−メチルアミノフェニル基;2−,3−又は4−ジメチルアミノフェニル基;2−,3−又は4−ニトロフェニル基である。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子又は臭素原子である。
複素環基とは、例えば、ピリジル基、N-オキソピリジル基、フリル基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたフリル基、キノリル基、トリフルオロメチルキノリル基、ピリミジル基、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されたピリミジル基、イミダゾイル基、フラニル基、チオフェニル基、チアゾリル基、ピリミジル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ベンゾフラン基、ベンズイミダゾリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ベンゾチアジアゾリル基、インドリル基、N−メチルインドリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチオフェニル基又はベンゾイソオキサゾリル基であり、好ましくはピリジル基又はN-オキソピリジル基であり、さらに好ましくはピリジル基である。
ビシクロアルキル基とは、例えば、ノルボルナン−2−イル基、ピナン−1−イル基又は2−メチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン−2−イル基である。
式(I)の化合物は、例えば以下の反応式に要約する方法により製造できる。
製造例(1):R1がニトロ基、R3がハロゲン原子及び−S(O)nR21、Rは上記と同意義である化合物の製造法(下記の反応式中、Raはアリール基と水素原子を除くR2であり、RbはR41と同意義であり、RcはR42と同意義であり、RdはR31と同意義であり、Reは水素原子を除くR2と同意義であり、Rfは水素原子及び炭素原子数1〜6のアルキル基であり、Xaはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基及びp−トルエンスルホニルオキシ基などの脱離基であり、haloはハロゲン原子であり、n'は1又は2の整数である。nは0、1又は2である。)
Figure 2005041871
工程1:式(1)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、0℃から100℃の間の温度にてRa−Xaと反応させ、式(2)の化合物を得る。塩基としては、水素化ナトリウム、水素化カリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が用いられる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトン、アセトニトリルなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程1':式(1)の化合物とアルコール(Ra−OH)を適当な溶媒中、−20℃から100℃の間の温度にてホスフィン試薬及びアゾ試薬と反応させ(Mitsunobu反応)、式(2)の化合物を得る。ホスフィン試薬としては、トリフェニルホスフィン、トリ−n−ブチルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリトリルホスフィン、ジフェニル−2−ピリジルホスフィンなどが用いられる。アゾ試薬としては、ジエチルアゾジカルボキシレート、ジイソプロピルアゾジカルボキシレート、ジ−tert−ブチルアゾジカルボキシレート、1,1’−アゾビス(N,N−ジメチルホルムアミド)、1,1’−(アゾジカルボニル)ジピペリジンなどが用いられる。溶媒としては、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、アセトニトリルなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程2:式(2)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、0℃から100℃の間の温度にて2級アミン(RbRcNH)と反応させ、式(3)の本発明化合物を得る。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基が用いられる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトニトリルなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程3:式(3)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下又は非存在下、0℃から100℃の間の温度にてチオール(Rd−SH)又はチオールのアルカリ金属塩(ナトリウム塩又はカリウム塩)と反応させ、式(4)の本発明化合物を得る。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が用いられる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリルなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程4:式(4)の化合物を適当な溶媒中、−20℃から100℃の間の温度にて酸化剤と反応させ、式(5)、式(6)、式(7)及び式(8)の本発明化合物を得る。また、式(5)の化合物を同様に酸化剤と反応させて式(7)の化合物を得ることができる。同様に式(7)の化合物と酸化剤を反応させて式(8)の化合物を得ることができる。酸化剤としては、m−クロロ過安息香酸、マグネシウムモノパーフタレート6水和物、過酢酸、過ぎ酸などの有機過酸、過酸化水素、尿素過酸化水素付加物/無水フタル酸、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなどの無機及び有機過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン、N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシンイミド、クロラミン−T、次亜塩素酸tert−ブチル、ヨードベンゼンジアセテート、臭素−1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン付加錯体などが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素、トルエン、アセトニトリル、アセトン、メタノール、tert−ブタノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、酢酸、水などの単一溶媒又はこれらの混合溶媒が用いられる。
Figure 2005041871
工程5:式(4)の化合物のRaが、メトキシメチル基又は4−メトキシベンジル基などの酸性条件にて脱保護される保護基である場合、式(4)の化合物を適当な溶媒中、0℃から100℃の間の温度にて酸と反応させ、式(9)の本発明化合物を得る。酸としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸などの鉱酸、ぎ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ピリジニウムp−トルエンスルホネート、カンファースルホン酸などの有機酸が用いられる。溶媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、水、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムなどの単一溶媒又はこれらの混合溶媒が用いられる。
工程6:式(9)の化合物を工程1又は工程1'と同様の方法でRa-Xa又はRa-OHと反応させることにより、式(4)の本発明化合物を得る。
Figure 2005041871
工程7:式(3)の化合物を適当な溶媒中、−20℃から100℃の間の温度にて酸化剤と反応させ、式(10)の本発明化合物を得る。酸化剤としては、m−クロロ過安息香酸、マグネシウムモノパーフタレート6水和物、過酢酸、過ぎ酸などの有機過酸、過酸化水素、尿素過酸化水素付加物/無水フタル酸などの無機及び有機過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウムなどが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、メタノール、tert−ブタノール、酢酸、水などの単一溶媒又はこれらの混合溶媒が用いられる。
工程8:式(10)の化合物を工程3と同様の方法でチオール(Rd−SH)又はチオールのアルカリ金属塩(ナトリウム塩又はカリウム塩)と反応させ、式(11)の本発明化合物を得る。
Figure 2005041871
工程9:式(2)の化合物を適当な溶媒中、0℃から100℃の間の温度にて塩基と反応させ、式(12)の化合物を得る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基が用いられる。溶媒としては、ジメチルスルホキシド、N,N−ジメチルホルムアミド、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどの有機溶媒と水の混合溶媒などが用いられる。
工程10:式(12)の化合物を工程3と同様の方法でチオール(Rd−SH)又はチオールのアルカリ金属塩(ナトリウム塩又はカリウム塩)と反応させ、式(13)の本発明化合物を得る。
工程11:式(13)の化合物を適当な溶媒中、−20℃から100℃の間の温度にて酸化剤と反応させ、式(14)の本発明化合物を得る。酸化剤としては、m−クロロ過安息香酸、マグネシウムモノパーフタレート6水和物、過酢酸、過ぎ酸などの有機過酸、過酸化水素、尿素過酸化水素付加物/無水フタル酸、tert−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなどの無機及び有機過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン、N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシンイミド、クロラミン−T、次亜塩素酸tert−ブチル、ヨードベンゼンジアセテート、臭素−1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン付加錯体などが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、四塩化炭素、トルエン、アセトニトリル、アセトン、メタノール、tert−ブタノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、酢酸、水などの単一溶媒又はこれらの混合溶媒が用いられる。
工程12:式(13)又は式(14)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、0℃から100℃の間の温度にてスルホニル化剤と反応させ、式(15)の本発明化合物を得る。スルホニル化剤としては、無水トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、無水メタンスルホン酸、メタンスルホニルクロライド、p−トルエンスルホニルクロライド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロライドなどが用いられる。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの無機塩基などが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、アセトン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミドなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程13:式(15)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下又は非存在下、0℃から120℃の間の温度にて2級アミン(HNRbRc)と反応させ、式(5)、式(6)又は式(4)の本発明化合物を得る。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機塩基が用いられる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
Figure 2005041871
工程14:アルコール又はフェノール化合物(Re−OH)及びチオール(Rd−SH)を用いて、特開2000−7626号に記載の方法にて合成した式(16)の化合物を適当な溶媒中、0℃から100℃の間の温度にてアルデヒド化合物(Rf−CHO)及び還元剤と反応させ、式(17)の本発明化合物を得る。還元剤としては、ぎ酸、水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、デカボラン(14)などが用いられる。溶媒としては、ぎ酸、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタンなどが用いられる。
工程15:式(17)の化合物を工程4と同様の方法で酸化剤と反応させ、式(5)〜式(8)の化合物のRaがReであり、Rb及びRcがともにCHRfである本発明化合物を得る。
製造例(2):R1がニトロ基、R3がCOR32、R4がXR4142である化合物の製造法(下記の反応式中、Ra、Re、Rf、Xaは前記と同義である。Rgは炭素原子数1〜6のアルキル基であり、Rhはフェニル基、置換フェニル基及びピリジル基である。)
Figure 2005041871
工程16:式(18)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、0℃から100℃の間の温度にてアルコール又はフェノール化合物(Re−OH)と反応させ、引き続きヨウ化メチル又はジメチル硫酸と反応させて式(19)の化合物を得る。塩基としては、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機塩基、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基などが用いられる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、テトラヒドロフランなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程17:式(19)の化合物を適当な溶媒中、0℃から100℃の間の温度にてニトロ基を還元してアミノ基にする一般的な方法にて反応させ、式(20)の化合物を得る。ニトロ基を還元する方法としては、パラジウム又は白金などの触媒を用いた接触還元、鉄、亜鉛、塩化スズなどの金属試薬を用いる還元等が挙げられる。溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、酢酸エチル、酢酸、N,N−ジメチルホルムアミドなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程18:式(20)の化合物を適当な溶媒中、塩基存在下、0℃から100℃の間の温度にて無水酢酸又は塩化アセチルと反応させ、式(21)の化合物を得る。塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、4−ジメチルアミノピリジンなどが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ピリジンなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程19:式(21)の化合物を適当な溶媒中、0℃から100℃の間の温度にてニトロ化試薬と反応させ、式(22)の化合物を得る。ニトロ化試薬としては、硝酸、硝酸−硫酸、発煙硝酸、硝酸ナトリウム、硝酸カリウムなどが用いられる。溶媒としては、酢酸、無水酢酸、硫酸、クロロホルム、トルエンなどが用いられる。
工程20:式(22)の化合物をアルコール化合物(Rg−OH)中、酸存在下、0℃から100℃の間の温度にて反応させ、式(23)の化合物を得る。酸としては、塩酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硫酸、硝酸、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸などが用いられる。
工程21:式(23)の化合物を上記記載の方法と同様にアルデヒド化合物(Rf−CHO)及び還元剤と反応させ、式(24)の本発明化合物を得る。
工程22:式(24)の化合物を適当な溶媒中、0℃から100℃の間の温度にて塩基と反応させ、式(25)の本発明化合物を得る。塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基が用いられる。溶媒としては、メタノール、エタノール、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどの有機溶媒と水の混合溶媒などが用いられる。
工程23:式(25)の化合物を適当な溶媒中、縮合剤の存在下、0℃から100℃の間の温度にてアミン化合物(Rh−NH)と反応させ、式(26)の本発明化合物を得る。縮合剤としては1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩と1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,1’−カルボニルビス−1H−イミダゾールなどが用いられる。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミドなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。又は、式(25)のカルボン酸を一般的に用いられる方法にて酸ハロゲン化物又は混合酸無水物に変換後、適当な溶媒中、アミン化合物(Rh−NH)と塩基存在下反応させ、式(26)の本発明化合物を得る。塩基としては、トリエチルアミン、ピリジンなどが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルムなどの反応に不活性な溶媒などが用いられる。
工程24:式(24)及び式(26)の化合物を適当な溶媒中、−20℃から100℃の間の温度にて酸化剤と反応させ、それぞれ対応する本発明の式(28)及び式(27)の化合物を得る。酸化剤としては、m−クロロ過安息香酸、マグネシウムモノパーフタレート6水和物、過酢酸、過ぎ酸などの有機過酸、過酸化水素、尿素過酸化水素付加物/無水フタル酸などの無機及び有機過酸化物、過ヨウ素酸ナトリウムなどが用いられる。溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、メタノール、tert−ブタノール、酢酸、水などの単一溶媒又はこれらの混合溶媒が用いられる。
下記の実施例及び試験例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明は何ら実施例に限定されるものではない。
油性水素化ナトリウム( 60% , 2.52 g )をヘキサンで洗浄し、N,N−ジメチルホルムアミド( 17 ml )を加えた。この混合液に2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロフェノール( 10.00 g )をN,N−ジメチルホルムアミド( 32 ml )に溶解した溶液及びクロロメチルメチルエーテル( 5.10 ml )を氷冷下で順次滴下し、室温で1時間45分攪拌した。反応液を2M塩酸水溶液( 100 ml )に注ぎ、酢酸エチルで抽出した後、食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物( 12.42 g )を 酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロフェノール メトキシメチルエーテル( 10.07 g , mp 72.0〜73.0℃ )を得た。
2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロフェノール メトキシメチルエーテル( 10.00 g )、トリエチルアミン( 7.00 ml )及びN,N−ジメチルホルムアミド( 42 ml )の混合物にジメチルアミン水溶液( 50% , 5.30 ml )を氷冷下で加えた後、室温で14時間攪拌した。反応液に氷冷下で水を加え、析出物をろ取して水で洗浄し、本発明の化合物1194( 10.91 g , mp 89.0〜91.0℃ )を得た。
Figure 2005041871
窒素雰囲気下、化合物1194( 10.86 g )、4−メルカプトピリジン( 6.95 g )及びN,N−ジメチルホルムアミド( 100 ml )の混合物に無水炭酸カリウム( 9.51 g )を氷冷下で加えた。室温で15時間攪拌した後、60℃で9時間攪拌した。反応液を室温に戻した後、酢酸エチル及び水を加え、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製して本発明の化合物6( 13.59 g )を得た。
1H-NMR (200 MHz,CDCl3 )δ:2.82 ( 6H, s ), 3.37 ( 3H, s ), 5.11 ( 2H, s ), 7.09 ( 2H, dd, J=4.8 and 1.8 Hz ), 7.15 ( 1H, s ), 7.66 ( 1H, s ), 8.46 ( 2H, d, J=4.8Hz )
Figure 2005041871
化合物6( 19.95 g )及びメタノール( 200 ml )の混合物に濃塩酸( 40 ml )を氷冷下で加え、室温で26時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム及び少量の酢酸エチルを加えて析出した固体をろ取して本発明の化合物7( 15.32 g , mp 222〜226℃ )を得た。
Figure 2005041871
化合物7( 1.10 g )、トリフェニルホスフィン( 1.32 g )、5−(ヒドロキシメチル)−イソフタル酸ジエチル( 1.24 g )及びテトラヒドロフラン( 20 ml )の混合物にアゾジカルボン酸ジエチル( 40%トルエン溶液、2.23 ml )を氷冷下で加え、室温で6時間攪拌した。反応液に酢酸エチル、水及び2M塩酸水溶液を加え、水層を分離した。水層に炭酸水素ナトリウムを加えて塩基性にした後、酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をNH型のシリカゲル(富士シリシア化学株式会社製 Chromatorex)カラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)にて精製して本発明の化合物33( 1.38 g )を得た。
Figure 2005041871
化合物33( 1.38 g )及びクロロホルム( 15 ml )の混合物にm−クロロ過安息香酸( 70% , 646 mg )を氷冷下で加え、室温で1時間20分攪拌した。反応液をNH型のシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム)、引き続きシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1〜1:4)にて精製して本発明の化合物55( 798 mg , mp 151.5-153℃ )を得た。
Figure 2005041871
化合物55( 792 mg )及び1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール( 8 ml )の混合物にm−クロロ過安息香酸( 70% , 342 mg )を氷冷下で加え、室温で45分間攪拌した。溶媒を減圧下留去して得た残渣をクロロホルムに溶解し、5%水酸化ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をNH型のシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=20:1)にて精製し、本発明の化合物90[ 463 mg , mp 151〜154℃ (dec.)]を得た。
Figure 2005041871
2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロアニソール( 3.010 g )をジメチルスルホキシド( 30 ml )に溶解した溶液に水酸化カリウム水溶液[ KOH:2.477 g ;H2O:9.9 ml ]を加え、室温にて18時間攪拌した。反応混合物に水及び10%塩酸を加えて酸性とし、析出した固体をろ取して水洗し、5−クロロ−4−メトキシ−2−ニトロフェノール( 2.902 g , mp 123.5〜124.5℃ )を得た。
5−クロロ−4−メトキシ−2−ニトロフェノール( 2.292 g )をN,N−ジメチルホルムアミド( 20 ml )に溶解した溶液に15%メチルメルカプタンナトリウム水溶液( 15.941 g )を氷冷下滴下し、60℃にて3時間攪拌した。反応混合物に水及び10%塩酸を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を食塩水にて洗浄して無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去して得た粗生成物を酢酸エチル−ヘキサンにて再結晶して下記化合物( 2.110 g , mp 144〜149℃ )を得た。
Figure 2005041871
上記化合物( 0.509 g )をクロロホルム( 7 ml )に溶解した溶液に氷冷下、m−クロロ過安息香酸( 70% , 0.587 g )を加え、30分間攪拌した。反応混合物に水及び10%塩酸を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を食塩水にて洗浄して無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=15:1)にて精製してメタノールから再結晶し、下記化合物( 0.391 g , mp 171〜172.5℃ )を得た。
Figure 2005041871
上記化合物( 8.518 g )を塩化メチレン( 210 ml )に溶解した溶液に氷冷下、ピリジン( 4.5 ml )及び無水トリフルオロメタンスルホン酸( 7.25 ml )を加え、10分間攪拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を食塩水にて洗浄して無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=40:1)にて精製して酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し、下記化合物( 8.044 g , mp 148〜150℃ )を得た。
Figure 2005041871
上記化合物( 0.509 g )をアセトニトリル( 8 ml )に溶解した溶液に氷冷下、ピペリジン( 0.35 ml )を加え、室温にて19時間攪拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルにて抽出し、有機層を食塩水にて洗浄して無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。溶媒を留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製し、本発明の化合物928( 0.367 g , mp 103〜105℃ )を得た。
Figure 2005041871
油性水素化ナトリウム( 60% , 19.0 g )をヘキサンで洗浄した後にN,N−ジメチルホルムアミド( 500 ml )を加え、シクロヘキサノール( 23.8 g )を室温で滴下した。室温で1時間40分攪拌した後に2−クロロ−5−ニトロ安息香酸( 40 g )を室温で加えた。室温でさらに5時間攪拌した後にヨウ化メチル( 20 ml )を加え、室温で16.5時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、希塩酸及び食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製して2−シクロへキシルオキシ−5−ニトロ安息香酸メチル( 49.0 g )を得た。
2−シクロへキシルオキシ−5−ニトロ安息香酸メチル( 12.6 g )、鉄粉( 25 g )及び2−プロパノール( 10 ml )の混合物に85℃で1M 塩化アンモニウム水溶液( 10 ml )を加え、15分間攪拌した。不溶物をセライトろ過により除去し、不溶物をクロロホルムで洗浄した。ろ液を減圧下濃縮して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、2−シクロへキシルオキシ−5−アミノ安息香酸メチル( 8.4 g )を得た。
5−アミノ−2−シクロへキシルオキシ安息香酸メチル( 8.4 g )及び2−プロパノール( 80 ml )の混合物に無水酢酸( 3.78 g )を室温で加えた。室温で12時間攪拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:4)にて精製して5−アセトアミド−2−シクロへキシルオキシ安息香酸メチル( 9.63 g )を得た。
5−アセトアミド−2−シクロへキシルオキシ安息香酸メチル( 8.16 g )及び酢酸( 40 ml )の混合物に60℃で発煙硝酸( 1.16 ml )を加え、45分間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え、水及び食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=65:35)にて精製して5−アセトアミド−2−シクロへキシルオキシ−4−ニトロ安息香酸メチル( 5.2 g , mp 107.5〜109.0℃ )を得た。
5−アセトアミド−2−シクロへキシルオキシ−4−ニトロ安息香酸メチル( 5.19 g )及びメタノール( 50 ml )の混合物に濃硫酸( 2 ml )を室温で加えた後に2.5時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製して5−アミノ−2−シクロへキシルオキシ−4−ニトロ安息香酸メチル( 4.51 g , mp 115.5〜117.0℃ )を得た。
5−アミノ−2−シクロへキシルオキシ−4−ニトロ安息香酸メチル( 4.34 g )及びギ酸( 40 ml )の混合物に37%ホルムアルデヒド水溶液( 11 ml )を室温で加えた後に2.5時間加熱還流した。反応液を氷冷し、酢酸エチルを加えた後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=3:2)にて精製して本発明の化合物1198( 3.02 g )を得た。
1H-NMR (200MHz, CDCl3) δ :1.30-2.00( 10H, m ), 2.82( 6H, s ), 3.92( 3H, s ), 4.17-4.30( 1H, m ), 7.37( 1H, s ), 7.47( 1H, s )
Figure 2005041871
化合物1198( 2.8 g )及びエタノール( 10 ml )の混合物に水酸化ナトリウム水溶液( NaOH:1.74 g ;H2O:10 ml )を室温で加えた。室温で4時間攪拌した後に希塩酸を加えて酸性にし、酢酸エチルで抽出して有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して本発明の化合物1196( 2.50 g ,mp 107.0〜109.0℃ )を得た。
Figure 2005041871
化合物1196( 774 mg )、アニリン( 290 mg )及びN,N−ジメチルホルムアミド( 10 ml )の混合物に1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物( 407 mg )及び1−[3−(ジメチルアミノ)プロピル]−3−エチルカルボジイミド塩酸塩( 722 mg )を室温で加えた。80℃で4時間攪拌した後に酢酸エチルを加えて水及び食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=7:3)にて精製して本発明の化合物1201( 902 mg , mp 126.0〜128.5℃ )を得た。
Figure 2005041871
化合物1201( 676 mg )及びクロロホルム( 10 ml )の混合物に氷冷下、m−クロロ過安息香酸( 70% , 565 mg )を加えた。室温で2時間15分攪拌した後に反応液をNH型シリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=30:1〜クロロホルム:メタノール=30:1)にて精製し、本発明の化合物1202( 656 mg , mp 197.0〜199.0℃ )を得た。
Figure 2005041871
4−シクロヘキシルオキシ−2−ニトロ−5−(4−ピリジルスルフェニル)アニリン( 9.47 g )及びギ酸( 100ml )の混合物に37%ホルムアルデヒド水溶液( 20ml )を室温で加えた後に2時間加熱還流した。反応液を氷冷し、酢酸エチルを加えた後に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製し、粗結晶( 8.2 g )を得た。粗結晶をクロロホルム−ヘキサンにて再結晶して本発明の化合物2( 3.76 g 、mp 63.0〜67.0℃ )を得た。
Figure 2005041871
上記実施例1から実施例14と同様の操作により、次に示す表 Aから表 Pに示す化合物1から化合物1225を得た。それぞれの化合物について、融点、プロトン核磁気共鳴スペクトルデータ(H−NMR:δ)、大気圧化学イオン化質量スペクトルデータ(APCIMS:m/z)又はエレクトロスプレーイオン化質量スペクトルデータ(ESIMS:m/z)を示す。
化合物62のd- 体である化合物1237と化合物62のl- 体である化合物1238の合成
(1)2−クロロ−4−フルオロ−5−ニトロフェノール( 20.0 g )とトリフェニルホスフィン( 36.7 g )とシクロヘキサンメタノール( 15.5 g )の塩化メチレン( 300 ml )溶液に氷冷下40%ジエチルアゾジカルボキシレートのトルエン溶液( 62 ml )を滴下し、室温で14時間半攪拌した。反応混合物の溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:クロロホルム=1:1)にて精製して1−クロロ−2−シクロヘキシルメトキシ−5−フルオロ−4−ニトロベンゼン( 28.7 g, mp 99.0-101.0℃ )を得た。
(2)1−クロロ−2−シクロヘキシルメトキシ−5−フルオロ−4−ニトロベンゼン( 28.48 g )のジメチルスルホキシド( 250 ml )溶液に20%水酸化カリウム水溶液( 75 ml )を加え室温で6時間半攪拌した。反応混合物を2Mの塩酸水溶液( 600 ml )に氷冷下注ぎ込み、析出物を濾取して水で洗浄し乾燥させ、5−クロロ−4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロフェノール( 28.26 g )を得た。
1H NMR ( 200MHz, CDCl3 ) δ : 0.94-2.00 ( 11H, m), 3.80 ( 2H, d, J = 6.0 Hz ), 7.20 ( 1H, s ), 7.51 ( 1H, s ), 10.34 ( 1H, s )
(3)5−クロロ−4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロフェノール( 14.00 g )と4−メルカプトピリジン( 8.17 g )のジメチルホルムアミド( 120 ml )溶液に氷冷下トリエチルアミン( 14.88 g )を滴下し、室温で16時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル、水を加え、水層を2Mの塩酸水溶液で中和した。有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精製して4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルチオ)フェノール[ 15.68 g, mp 79.0-82.0℃ (dec.)]を得た。
(4)4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルチオ)フェノール( 15.53 g )のクロロホルム( 300 ml )溶液にm−クロロ過安息香酸( 70% , 10.61 g )を氷冷下で加え、氷冷下で1時間攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製してラセミ体の4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルスルフィニル)フェノール( 11.76 g, mp 121.5-123.0℃ )を得た。
(5)ピリジン( 9.45 ml )とクロロホルム( 100 ml )の混合溶液にトリホスゲン( 6.95 g )を氷冷下で加え、L−プロリン−t−ブチルエステル( 10.00 g )のクロロホルム( 100 ml )溶液を滴下し氷冷下で1時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、1M 塩酸水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して未精製の(S)−1−クロロカルボニル−ピロリジン−2−カルボン酸t−ブチルエステル( 13.14 g )を得た。
(6)未精製の(S)−1−クロロカルボニル−ピロリジン−2−カルボン酸t−ブチルエステル( 12.96 g )のジメチルホルムアミド( 65 ml )溶液に4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルスルフィニル)フェノール( 6.50 g )のジメチルホルムアミド( 65 ml )溶液を加え、炭酸カリウム( 3.59 g )を氷冷下加え、80℃で40分間攪拌した。反応混合物を氷中に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出し、有機層を食塩水にて洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:アセトン=15:1)で精製しジアステレオマーを分離し、Rf値の高い低極性の下記中間体A1( 2.78 g )とRf値の低い高極性の下記中間体A2( 1.21 g )を得た。
中間体A1:1H NMR ( 300MHz, CDCl3 ) δ : 0.96-1.42 ( 5H, m ), 1.48 ( 9H, m ), 1.66-2.42 ( 10H, m ), 3.45-4.00 ( 4H, m ), 4.37 ( 1H, m ), 7.51 ( 1H, s ), 7.61 ( 2H, ddd, J = 1.5, 4.5 and 10.2 Hz ), 7.82 ( 1H, d, J = 21.8 Hz ), 8.73 ( 2H, m )
中間体A2:1H NMR ( 300MHz, CDCl3 ) δ 0.96-1.42 ( 5H, m ), 1.48 ( 9H, d, J = 12.7 Hz ), 1.66-2.42 ( 10H, m ), 3.52 ( 2H, m ), 3.84 ( 1H, dd, J = 6.9 and 9.0 Hz ), 3.95 ( 1H, dd, J = 5.6 and 9.0 Hz ), 4.39 ( 1H, m ), 7.51 ( 1H, d, J = 3.3 Hz ), 7.64 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5 Hz ), 7.82 ( 1H, d, J = 20.5 Hz ), 8.74 ( 2H, m )
中間体A1,A2
Figure 2005041871
(7)中間体A1( 2.63 g )のエタノール( 23 ml )溶液にヒドラジン一水和物( 1.78 ml )を加え室温で73時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え、更に2M塩酸水溶液を加えて中性にし、有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で溶出後、ヘキサン/酢酸エチルで再結晶し、光学活性体である中間体B1; 4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルスルフィニル)フェノール( 461 mg , mp 121.0-123.5℃ )を得た。
中間体A2( 1.096 g )のエタノール( 9.6 ml )溶液にヒドラジン一水和物( 0.93 ml )を加え室温で70時間攪拌した。反応混合物に水と酢酸エチルを加え、更に2M塩酸水溶液を加えて中性にし、有機層を食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製し、光学活性体である中間体B2; 4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルスルフィニル)フェノール( 438 mg )を得た。
中間体B1,B2:1H NMR ( 300MHz, CDCl3 ) δ : 0.98-1.43 ( 5H, m ), 1.68-1.98 ( 6H, m ), 3.79 ( 1H, dd, J = 6.9 and 8.9 Hz ), 3.92 ( 1H, dd, J = 5.8 and 8.9 Hz ), 7.52 ( 1H, s ), 7.65 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5 Hz ), 7.74 ( 1H, s ), 8.73 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5 Hz ), 10.34 ( 1H, s )
中間体B1,B2
Figure 2005041871
(8)光学活性体である中間体B1; 4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルスルフィニル)フェノール( 454 mg )のクロロホルム( 6.4 ml )溶液にピリジン( 0.393 ml )とトリフルオロメタンスルホン酸無水物( 0.260 ml )を氷冷下で加え氷冷下15分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=7:1)で精製し、光学活性体である中間体C1;トリフルオロメタンスルホン酸4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニルエステル( 476 mg )を得た。
光学活性体である中間体B2; 4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−イルスルフィニル)フェノール( 420 mg )のクロロホルム( 6 ml )溶液にピリジン( 0.360 ml )とトリフルオロメタンスルホン酸無水物( 0.237 ml )を氷冷下で加え氷冷下15分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で順次洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:酢酸エチル=7:1)で精製し、光学活性体である中間体C2;トリフルオロメタンスルホン酸4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニルエステル( 374 mg )を得た。
中間体C1,C2:1H NMR ( 300MHz, CDCl3 ) δ : 0.98-1.45 ( 5H, m ), 1.68-1.98 ( 6H, m ), 3.90 ( 1H, dd, J = 7.0 and 8.9 Hz ), 4.02 ( 1H, dd, J = 5.6 and 8.9 Hz ), 7.60 ( 1H, s ), 7.62 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5 Hz ), 7.98 ( 1H, s ), 8.77 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5 Hz )
中間体C1,C2
Figure 2005041871
(9)光学活性体である中間体C1;トリフルオロメタンスルホン酸4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニルエステル( 451 mg )とジメチルアミン塩酸塩( 109 mg )のアセトニトリル( 5 ml )溶液にトリエチルアミン( 372 μl )を加え50℃で7時間攪拌した。更にジメチルアミン塩酸塩( 21.3 mg )とトリエチルアミン( 74 μl )を加え50℃で1時間半攪拌した。反応混合物から溶媒を留去して得た粗生成物をNH型のシリカゲル(富士シリシア製 Chromatorex)にてクロロホルムを展開溶媒に用いて溶出し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製し、光学活性体である中間体D1;[4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニル]ジメチルアミン( 267 mg )を得た。
光学活性体である中間体C2;トリフルオロメタンスルホニン酸4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニルエステル( 364 mg )とジメチルアミン塩酸塩( 115 mg )のアセトニトリル( 4 ml )溶液にトリエチルアミン( 399μl )を加え50℃で7時間半攪拌した。反応混合物から溶媒を留去して得た粗生成物をNH型のシリカゲル(富士シリシア製 Chromatorex)にてクロロホルムを展開溶媒に用いて溶出し、さらにシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=1:2)で精製し、光学活性体である中間体D2;[4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニル]ジメチルアミン( 222 mg )を得た。
中間体D1,D2:1H NMR ( 300MHz, CDCl3 ) δ : 0.94-1.40 ( 5H, m ), 1.67-1.94 ( 6H, m ), 2.88 ( 6H, s ), 3.75 ( 1H, dd, J = 6.8 and 9.0 Hz ), 3.87 ( 1H, dd, J = 5.8 and 9.0 Hz ), 7.29 ( 1H, s ), 7.61 ( 1H, s ), 7.64 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5 Hz), 8.73 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.5Hz )
中間体D1,D2
Figure 2005041871
(10)光学活性体である中間体D1;[4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニル]ジメチルアミン( 258 mg )の1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール( 3 ml )の混合物にm−クロロ過安息香酸( 70 % , 151 mg )を氷冷下で加え室温で1時間半攪拌した。溶媒を減圧下留去して得た残渣をクロロホルムに溶解し、5%水酸化ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をNH型のシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=20:1)で精製し、化合物62のd- 体である化合物1237( 199 mg, [α]23 D = +145.0°( c = 0.5, MeOH ) )を得た。
光学活性体である中間体D2;[4−シクロヘキシルメトキシ−2−ニトロ−5−(ピリジン−4−スルフィニル)フェニル]ジメチルアミン( 218 mg )の1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール( 2.5 ml )の混合物にm−クロロ過安息香酸( 70 % , 125 mg )を氷冷下で加え室温で2時間攪拌した。溶媒を減圧下留去して得た残渣をクロロホルムに溶解し、5%水酸化ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得た粗生成物をNH型のシリカゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム:メタノール=20:1)で精製し、化合物62のl- 体である化合物1238( 134 mg, [α]23 D = -137.0°( c = 0.5, MeOH ) )を得た。
化合物1237,1238:1H NMR ( 300MHz, CDCl3 ) δ : 0.93-1.41 ( 5H, m ), 1.64-1.92 ( 6H, m ), 3.73 ( 3H, s ), 3.74 ( 3H, s ), 3.84 ( 1H, dd, J = 6.9 and 9.1 Hz ), 3.94 ( 1H, dd, J = 5.7 and 9.1 Hz ), 6.97 ( 1H, s ), 7.60 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.4 Hz), 8.09 ( 1H, s ), 8.77 ( 2H, dd, J = 1.6 and 4.4 Hz )
化合物1237,1238
Figure 2005041871
上記実施例6と同様の操作により表Tに示す化合物1239(化合物95のd- 体)、化合物1240(化合物95のl- 体)、化合物1241(化合物96のd- 体)、化合物1242(化合物96のl- 体)を得た。
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871

Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
Figure 2005041871
試験例1:毛乳頭細胞増殖促進活性
ヒト毛乳頭細胞は、東洋紡から購入し、12%FBSを添加したMEM(インビトロジェン)を用いて培養した。検体は、表 Q に示す番号の化合物を用いた。
継代5回目の毛乳頭細胞を、 1.5×104cells/wellとなるようにスフェロイド培養用96穴プレートに播種し、一晩培養した。化合物無添加培地、又は化合物添加培地と交換し、更に72時間、培養を行った。培養終了時の細胞数を Cell counting kit(和光純薬)を用いて測定した。即ち、培養終了5時間前に培地の1/10量のWST-1試薬を培地に添加し、培養終了時、培地の吸光度(O.D. 450nm/620nm)を測定した。細胞数と吸光度は、細胞数0.25〜4×104cells/wellの範囲で正の相関関係が認められた。
WNT-5A mRNA量減少活性を有する化合物が、毛乳頭細胞の増殖に及ぼす影響を、表 Q に示す。表中の値は、対照群6well、化合物添加群3wellの平均値である。対照群と化合物添加群との比較にはスチューデントのt検定を用いた。
*:P<0.05, **:P<0.01, ***:P<0.001
WNT-5A mRNA量減少活性を有する化合物はいずれも、4μMにおいて顕著な毛乳頭細胞増殖促進活性を示した。
Figure 2005041871
試験例2:WNT-5A mRNA量減少活性(QuantiGene法によるmRNAの定量)
ヒト毛乳頭細胞は、東洋紡から購入し、12%FBSを添加したMEM(インビトロジェン)を用いて培養した。検体は、表 R に示す番号の化合物を用いた。
継代5回目の毛乳頭細胞を、1×104cells/wellとなるように96穴プレートに播種し、一晩培養した。化合物無添加培地、又は化合物添加培地と培地交換し、更に24時間、培養を行った。培養終了後、QuantiGene High Volume Kit(バイエルメディカル)を用いて、Branched DNA(bDNA) Signal Amplification法(Drug Metabolism and Disposition 28(5),608-616(2000))により、WNT-5A及びGAPDHのmRNA量を定量した。即ち、QuantiGene High Volume Kit添付のプロトコールに従い、Lysis Mixtureを用いて細胞を溶解し、溶解液をCapture plateに添加した。更に、WNT-5A又はGAPDH特異的なプローブセットを添加し、53℃で20時間、反応させた。0.03% Lauryl Sulfateを含む0.1×SSCを用いてプレートを洗浄後、bDNAからなる増幅プローブを添加し、46℃で1時間反応させた。プレートを洗浄後、続いてAlkaline Phosphatase標識した標識プローブを添加し、46℃で1時間反応させた。プレートを洗浄後、基質Lumi-Phos Plusを添加し、46℃で30分間反応後、化学発光量をWALLAC 1420ARVOSXを用いて測定した。
WNT-5A特異的なプローブセットは、ヒトWNT-5A mRNAの蛋白質翻訳領域の塩基配列に基づいて設計した。Capture Extender(CE)として10本のプローブ(配列番号12−21)を、 Label Extender(LE)として31本のプローブ(配列番号22−52)を、Blockerとして9本のプローブ(配列番号53−60)を使用した。
また、GAPDH特異的なプローブセットとして、bDNA probe set for human GAPDH (XenoTech LLC, B0960)を使用した。
WNT-5A及びGAPDHのmRNA量は、化合物無添加対照に対する相対値(%)として表し、mRNA量を50%に減少させる化合物濃度(IC50値)を算出して、化合物によるmRNA減少活性の指標とした。
WNT-5A及びGAPDHのmRNA量に及ぼす化合物の影響を表 R に示す。表中の値は2wellの平均値である。これらの化合物は、毛乳頭細胞において、WNT-5A mRNA量を減少させた。最も活性の強い化合物のIC50値は0.12μMであった。WNT-5A mRNA量減少のIC50値においては、同時に測定したGAPDH mRNA量には減少が認められなかった。
Figure 2005041871

Claims (9)


  1. Figure 2005041871
    (式中、R1はニトロ基を示し、
    2は水素原子、炭素原子数1〜18のアルキル基、置換基を有する炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、置換基を有する炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、アリール基、テトラヒドロナフチル基、オキソラニル基、オキサニル基、炭素原子数6〜18のビシクロアルキル基、インダニル基又はベンゾオキサニル基を示し、
    3は式 −S(O)nR31(式中、nは0、1又は2を示し、n=0の時、R31は複素環基を示し、n=1又は2の時、R31は炭素原子数1〜18のアルキル基、炭素原子数1〜18の置換アルキル基、炭素原子数3〜8のシクロアルキル基、アリール基又は複素環基を示す。)で表される基、ハロゲン原子、式 −COR32(式中、R32はヒドロキシ基又は炭素原子数1〜6個を示す。)又は式 −NR3435(式中、R34及びR35は、同一又は異なって、水素原子、炭素原子数1〜6のアルキル基、アリール基、又は複素環基を示す。)で表される基を示し、
    4は、式
    Figure 2005041871
    (式中、Xは、窒素原子又はニトロオキシ基(式 N+−O-を示す。)を示し、R41及びR42は、同一又は異なって、炭素原子数1〜18のアルキル基又は置換基を有する炭素原子数1〜18のアルキル基を示すか、隣接するXと一緒になって、式
    Figure 2005041871
    (式中p、qはそれぞれ1〜5の整数を示し、Yはメチレン基、酸素原子、硫黄原子又は式 N-Z(式中、Zは水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数2〜8のアルコキシカルボニル基又は炭素原子数1〜4のアルカノイル基を示す。)を示し、R51及びR52は、同一又は異なって水素原子、炭素原子数1〜4のアルキル基、アリール基、ベンジル基、炭素原子数2〜6のアルコキシアルコキシ基、炭素原子数2〜6のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜8のジアルキルアミノカルボニル基、ヒドロキシ基、炭素原子数1〜4のヒドロキシアルキル基、ジフェニルヒドロキシメチル基又はN-メチルアセトアミド基を示す。)で表される基を示す。)で表される4置換ベンゼン化合物又はその塩。
  2. 3が、式 −S(O)nR31(式中、n、R31は前記と同意義である。)である請求項1記載の4置換ベンゼン化合物又はその塩。
  3. 3が、式
    Figure 2005041871
    (式中、nは0、1又は2である。)である請求項1記載の4置換ベンゼン化合物又はその塩。
  4. 2が、炭素原子数1〜6のアルキル基又は炭素原子数1〜6の置換アルキル基である請求項3記載の4置換ベンゼン化合物又はその塩。
  5. 3が、式
    Figure 2005041871
    (式中、nが1の正数である。)である請求項4記載の4置換ベンゼン化合物又はその塩。
  6. 41及びR42が共にメチル基である請求項5記載の4置換ベンゼン化合物又はその塩。
  7. 請求項1〜6記載の4置換ベンゼン化合物を有効成分とするWNT−5A産生抑制剤。
  8. 請求項1〜6記載の4置換ベンゼン化合物を有効成分とする毛乳頭細胞増殖促進剤。
  9. 請求項1〜6記載の4置換ベンゼン化合物を有効成分とする発毛剤又は育毛剤。
JP2004201413A 2003-07-10 2004-07-08 4置換ベンゼン化合物 Pending JP2005041871A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004201413A JP2005041871A (ja) 2003-07-10 2004-07-08 4置換ベンゼン化合物

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003194878 2003-07-10
JP2004201413A JP2005041871A (ja) 2003-07-10 2004-07-08 4置換ベンゼン化合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2005041871A true JP2005041871A (ja) 2005-02-17

Family

ID=34277252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004201413A Pending JP2005041871A (ja) 2003-07-10 2004-07-08 4置換ベンゼン化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2005041871A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006073181A1 (ja) * 2005-01-07 2006-07-13 Noevir Co., Ltd. 細胞賦活剤、細胞死抑制剤、および細胞死促進剤
WO2012015790A1 (en) * 2010-07-29 2012-02-02 Eastman Chemical Company Esters of o-substituted hydroxy carboxylic acids and preparations thereof
US8329938B2 (en) 2011-02-21 2012-12-11 Eastman Chemical Company Hydroxyalkanoic acid and hydroxyalkanoice acid oligomer esters of retinol
US8613940B2 (en) 2010-09-03 2013-12-24 Eastman Chemical Company Carbonate derivatives as skin care

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006073181A1 (ja) * 2005-01-07 2006-07-13 Noevir Co., Ltd. 細胞賦活剤、細胞死抑制剤、および細胞死促進剤
WO2012015790A1 (en) * 2010-07-29 2012-02-02 Eastman Chemical Company Esters of o-substituted hydroxy carboxylic acids and preparations thereof
US8846723B2 (en) 2010-07-29 2014-09-30 Eastman Chemical Company Esters of O-substituted hydroxy carboxylic acids and preparations thereof
US9532938B2 (en) 2010-07-29 2017-01-03 Eastman Chemical Company Esters of O-substituted hydroxy carboxylic acids and preparations thereof
US8613940B2 (en) 2010-09-03 2013-12-24 Eastman Chemical Company Carbonate derivatives as skin care
US8329938B2 (en) 2011-02-21 2012-12-11 Eastman Chemical Company Hydroxyalkanoic acid and hydroxyalkanoice acid oligomer esters of retinol

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9895355B2 (en) Methods of treating androgen receptor-mediated disorders with imidazoline derivatives
CN113811300A (zh) Tead转录因子的新型小分子抑制剂
KR20160144506A (ko) 리신 특이적 데메틸라제-1의 억제제
CN108779096A (zh) 一类氟取代的环丙胺类化合物及其制备方法、药物组合物和用途
JP2009509986A5 (ja)
EA015632B1 (ru) Агонисты fxr
US20090306064A1 (en) Substituted Piperidines as Renin Inhibitors
EA004432B1 (ru) Производные 4,5-диарил-3(2h)-фуранона как ингибиторы циклооксигеназы-2
KR20110036699A (ko) 페닐 및 벤조디옥시닐 치환 인다졸 유도체
WO2005075469A1 (en) Thiazolyl-hydroxamic acids and thiadiazolyl-hydroxamic acids, and use thereof for treating diseases associated with histone deacetylase enzymatic activity
WO2013093508A2 (en) Wnt pathway inhibitors
WO2007042669A2 (fr) DERIVES DE LA 4-AMIN0-QUINAZ0LINE, LEUR PREPARATION ET LEUR APPLICATION EN THERAPEUTIQUE COMME MODULATEURS DU RECEPTEUR MCHl
JPWO2021020429A1 (ja) Lpa1受容体を拮抗するウレア化合物
WO2007042668A1 (fr) Derives de la 1-amino-isoquinoline, leur preparation et leur application en therapeutique dans le traitement d&#39; un dysfonctionnement lie au recepteur 1 de la mch
WO2010007944A1 (ja) 含窒素二環性複素環化合物
CA2555970A1 (en) Therapeutic amide derivatives
CA2784600A1 (en) New inhibitors of cyclophilins and uses thereof
Wang et al. Synthesis and antidiabetic performance of β-amino ketone containing nabumetone moiety
Li et al. Synthesis and fungicidal activity of new fluorine-containing mandelic acid amide compounds
JP2005041871A (ja) 4置換ベンゼン化合物
WO2005014588A1 (en) Substituted thienyl-hydroxamic acids having histone deacetylase activity
Kumar et al. Design and synthesis of optically pure 3-aryl-6-methyl-2-thioxotetrahydropyrimidin-4 (1 H)-ones as anti-prostate cancer agents
Pan et al. Dioxane-involving reaction for the synthesis of 3-aryl-1-(2-(vinyloxy) ethoxy) isoquinolines catalyzed by AgOTf
JP6021148B2 (ja) Lst−1及び/又はlst−2によって輸送される化合物
AU2009301797B2 (en) Indazole derivative