JP2005032390A - Manufacturing method of glass master disk for information recording carrier - Google Patents

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義徳 大津
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the manufacturing method of a glass master disk which can produce an optical disk in which spike noise is suppressed by being enabled be coated with photoresist uniformly. <P>SOLUTION: In this method, the surface of a disk-shaped glass substrate 5 having a flat surface is ground into a mirror face using abrasive particles and the abrasive particles remaining on the surface of the glass substrate 5 are wiped off and the surface of the glass substrate 5 from which the abrasive particles are wiped off is made to be oleophilic. Then, after the glass substrate 5 is arranged on a turntable 3 on whose surroundings a circle type net 6 is arranged and photoresist diluted to predetermined viscosity is dropped on the surface of the glass substrate which is made to be oleophilic, a photoresist layer having predetermined thickness is formed on the surface of the substrate which is made to be oleophilic by rotating the turntable 3 at a predetermined revolving speed. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、微細パターン形成に適した、光ディスク等の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a glass master for an information recording carrier such as an optical disk, which is suitable for forming a fine pattern.

従来、情報記録担体としては、ディスク状やカード状、テープ状のものが知られている。これらの情報記録担体のうち、例えば、光ディスクに代表されるように、高密度情報の再生または記録・再生を担う情報記録担体には、微細パターンが刻まれていることが多い。この微細パターンには、いわゆるトラックに代表される微細な溝(グルーブ)、微細なピット、またはホログラム等がある。   Conventionally, information recording carriers are known in the form of disks, cards, and tapes. Among these information record carriers, for example, as represented by an optical disc, an information record carrier responsible for reproducing or recording / reproducing high-density information is often engraved with a fine pattern. This fine pattern includes a fine groove (groove) represented by a so-called track, a fine pit, or a hologram.

情報記録担体としての光ディスクにおいては、例えば平坦なガラス基板上に形成したエネルギー線感応性樹脂にエネルギー線を照射して微細パターンを形成する。この方法は、カッティングと呼ばれる手法であり、エネルギー線とガラス原盤が相対運動する状態で、エネルギー線を連続照射した場合にはグルーブを形成することができ、間欠照射した場合にはピットを形成することができる。なお情報記録担体には、サイズが種々あり、これに対応して基板サイズは随時選択される。   In an optical disk as an information record carrier, for example, an energy beam sensitive resin formed on a flat glass substrate is irradiated with an energy beam to form a fine pattern. This method is a method called cutting, in which the energy beam and the glass master disk are in relative motion, and a groove can be formed when the energy beam is continuously irradiated, and a pit is formed when the energy beam is intermittently irradiated. be able to. There are various sizes of information record carriers, and the substrate size is selected at any time corresponding to this.

従来、光ディスクを形成する方法としては、図6に示す方法が知られている。   Conventionally, a method shown in FIG. 6 is known as a method of forming an optical disc.

同図に示すように、まず、平坦なガラス基板を用意し、これを研磨する(研磨工程:図6の(a))。次に、研磨剤を洗浄除去し、基板を拭きとる(拭き取り工程:図6の(b))。次に、基板表面を親油化する(親油化処理工程:図6の(c))。次に、基板上に、エネルギー線感応性樹脂層を形成する(エネルギー線感応性樹脂塗布工程:図6の(d))。このとき、レジスト塗布機を使用する(例えば、特許文献1参照。)。   As shown in the figure, a flat glass substrate is first prepared and polished (polishing step: FIG. 6A). Next, the abrasive is removed by washing, and the substrate is wiped off (wiping step: FIG. 6B). Next, the substrate surface is made oleophilic (an oleophilic treatment step: (c) of FIG. 6). Next, an energy ray sensitive resin layer is formed on the substrate (energy ray sensitive resin coating step: (d) of FIG. 6). At this time, a resist coating machine is used (for example, refer to Patent Document 1).

なお、基板上に直接エネルギー線感応性樹脂を塗布しない理由は、エネルギー線感応性樹脂自体が親油性であり、洗浄直後の親水性の基板表面には塗布できないためである。基板表面を親油化するには、シラン結合剤などが一般に用いられる。   The reason why the energy ray sensitive resin is not directly applied onto the substrate is that the energy ray sensitive resin itself is lipophilic and cannot be applied to the hydrophilic substrate surface immediately after cleaning. In order to make the substrate surface oleophilic, a silane binder or the like is generally used.

次に、エネルギー線感応性樹脂に情報で変調されたエネルギー線を照射してカッティングをする(カッティング工程:図6の(e))。次に、この基板よりスタンパーを作製する(スタンパー化工程:図6の(f))。次に、このスタンパーを用いて、射出成形により樹脂基板を作製し、さらにこの樹脂基板上に所定の記録膜、保護膜などを形成して光ディスクを得る(成形・成膜工程:図6の(g))。
実開昭62−35675号
Next, the energy beam sensitive resin is cut by irradiating the energy beam modulated with information (cutting process: (e) of FIG. 6). Next, a stamper is produced from this substrate (stampering step: (f) of FIG. 6). Next, using this stamper, a resin substrate is produced by injection molding, and a predetermined recording film, protective film, etc. are formed on the resin substrate to obtain an optical disc (molding / film forming step: ( g)).
Japanese Utility Model Sho 62-35675

ところで、これらの光ディスクを含む情報記録担体においては、情報の記憶容量、記録密度の向上が求められている。そのためには、情報記録担体を再生する際に、部分的又は全面に発生する読み取りエラー(スパイクノイズ)を減少させる必要があった。   By the way, in an information record carrier including these optical discs, improvement in information storage capacity and recording density is required. For this purpose, it is necessary to reduce reading errors (spike noise) occurring partially or entirely when reproducing the information record carrier.

この読み取りエラーの原因を調べたところ、基板上に塗布したエネルギー線感応性樹脂(フォトレジスト)膜の不均一性によることが判明した。そのため、フォトレジストの塗布が不完全であるとして、フォトレジストの材料検討、フォトレジスト塗布条件の検討を行ったが効果が認められなかった。また親油化処理に用いる薬剤も検討したが、依然としてフォトレジスト膜が不均一であり、読取りエラーを減少させることができないという問題があった。   When the cause of this reading error was investigated, it was found that it was due to non-uniformity of the energy ray sensitive resin (photoresist) film applied on the substrate. For this reason, the photoresist material and the photoresist coating conditions were examined on the assumption that the photoresist coating was incomplete, but no effect was found. Moreover, although the chemical | medical agent used for a lipophilic process was also examined, there existed a problem that a photoresist film was still non-uniform | heterogenous and reading error could not be reduced.

そこで、本発明は上記問題を解決して、エネルギー線感応性樹脂(フォトレジスト)を均一に塗布できるようにし、それにより、スパイクノイズによる読み取りエラーの発生が抑制された情報記録担体を作製できる情報記録担体用ガラス原盤の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention solves the above-mentioned problem, makes it possible to uniformly apply an energy ray-sensitive resin (photoresist), and thereby information capable of producing an information record carrier in which occurrence of reading errors due to spike noise is suppressed. It is an object of the present invention to provide a method for producing a glass master for a record carrier.

上記目的を達成する手段として、本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法は、平坦な表面を有する円板状のガラス基板と研磨盤との間に研磨粒子を含む水溶液を連続して流しながら前記ガラス基板と前記研磨盤との各表面を互いに押圧して、互いに逆の回転方向に回転運動させながら、前記ガラス基板の表面を鏡面に研磨する第1のステップと、
前記鏡面に加工された前記ガラス基板の表面に残存する前記研磨粒子を、活性剤を含む水溶液を流しながら平面微細メッシュで拭き取る第2のステップと、
前記研磨粒子の拭き取られた前記ガラス基板表面に所定厚さのシラン系結合剤を塗布して前記ガラス基板表面を親油化する第3のステップと、
前記ガラス基板を、その周囲に円形型ネットを配置したターンテーブル上に配置し、前記親油化されたガラス基板表面に所定粘度に希釈したエネルギー線感応性樹脂を滴下した後、前記ターンテーブルを所定回転数で回転させて、前記エネルギー線感応性樹脂を振り切った時に発生する不要な跳ね返り飛沫を前記円形型ネットに吸着させることにより、前記跳ね返り飛沫が前記親油化されたガラス基板表面に再付着するのを防止して、前記親油化されたガラス基板表面に所定厚さの前記エネルギー線感応性樹脂層を形成する第4のステップとを有することを特徴とする情報記録担体用ガラス原盤の製造方法である。
As a means for achieving the above object, the method for producing a glass master for an information recording carrier according to the present invention comprises continuously flowing an aqueous solution containing abrasive particles between a disk-shaped glass substrate having a flat surface and a polishing disk. A first step of polishing the surface of the glass substrate to a mirror surface while pressing each surface of the glass substrate and the polishing disk while rotating in opposite directions of rotation;
A second step of wiping the abrasive particles remaining on the surface of the glass substrate processed into the mirror surface with a planar fine mesh while flowing an aqueous solution containing an active agent;
A third step of applying a silane-based binder having a predetermined thickness to the glass substrate surface from which the abrasive particles have been wiped off to make the glass substrate surface oleophilic;
The glass substrate is placed on a turntable having a circular net around it, and after the energy ray sensitive resin diluted to a predetermined viscosity is dropped on the lipophilic glass substrate surface, the turntable is By rotating the energy ray sensitive resin at a predetermined rotational speed and adsorbing unnecessary splashing splash generated on the circular net, the splashing splash is re-applied to the lipophilic glass substrate surface. And a fourth step of forming the energy ray-sensitive resin layer having a predetermined thickness on the surface of the oleophilic glass substrate while preventing the adhesion to the glass substrate. It is a manufacturing method.

本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法は、ガラス基板の表面を研磨粒子の水溶液を掛けながら研磨する第1のステップと、前記ガラス基板の表面に残存する前記研磨粒子を、水溶液を流しながらメッシュを接触させて拭き取る第2のステップと、前記研磨粒子を拭き取った前記ガラス基板表面を親油化する第3のステップと、円形型ネットで取囲んだターンテーブル上に、前記ガラス基板を載せてエネルギー線感応樹脂を滴下した後、前記ターンテーブルを回転させて、前記エネルギー線感応性樹脂を振り切った時に発生する不要な跳ね返り飛沫を前記円形型ネットに吸着させることにより、前記跳ね返り飛沫が前記親油化されたガラス基板表面に再付着するのを防止して、前記ガラス基板表面上に所定厚さのエネルギー線感応性樹脂層を形成する第4のステップとを有することにより、余分な残存物のない均一なエネルギー線感光性樹脂層を形成した情報記録担体用ガラス原盤を得ることができ、これを用いて、スパイクノイズによる読み取りエラーが少ない情報記録担体を作製できるという情報記録担体用ガラス原盤の製造方法を提供できるという効果がある。   The method for producing a glass master for an information recording carrier of the present invention comprises a first step of polishing a glass substrate surface while applying an aqueous solution of abrasive particles, and an aqueous solution is passed through the abrasive particles remaining on the surface of the glass substrate. The glass substrate is placed on a turntable surrounded by a circular net, a second step of wiping the mesh while contacting it, a third step of oleophilicizing the surface of the glass substrate from which the abrasive particles have been wiped off. After dropping the energy ray sensitive resin on the surface, the turntable is rotated to adsorb unnecessary splashing splash generated when the energy ray sensitive resin is shaken off to the circular net. Preventing redeposition on the oleophilic glass substrate surface, energy beam sensitive tree having a predetermined thickness on the glass substrate surface And a fourth step of forming a layer, it is possible to obtain a glass master for an information record carrier on which a uniform energy ray-sensitive resin layer without any remaining residue is formed, and using this, spike noise can be obtained. There is an effect that it is possible to provide a method for producing a glass master for an information record carrier, in which an information record carrier with few reading errors due to the above can be produced.

以下、本発明の実施の形態につき、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings by way of preferred examples.

まず、本発明に至った経過を説明する。   First, the process leading to the present invention will be described.

スパイクノイズとは、エネルギー線感応性樹脂の形成されたガラス原盤の樹脂面上に残存した異物のために、その部分に、次のスタンパー化工程において、所望の溝やピットが形成されなくて、所望の情報が記録できず、そこから得られる異常な再生信号を示す。これは、信号再生の光ピックアップ出力をモニターした時に、電圧が急瞬に低下し、短時間で復帰する現象として観察される。すなわち急激な電圧降下の部分は、ノイズとして検出される。本願発明者は、情報記録担体のスパイクノイズを最小限にするために、ガラス原盤へのエネルギー線感応性樹脂塗布工程の諸条件について詳しく検討を行った。すなわち、レジストの流量、レジストの種類、塗布機(スピナー)の回転数、また、ステンレス製円形型ネットのメッシュ寸法などの主要パラメータについてである。これらのパラメータと、スパイクノイズ(読み取りエラー)との関係を詳細に検討した結果、スパイクノイズは、エネルギー線感応性樹脂の塗布の時に、この樹脂が再付着し、形成されるエネルギー感応性樹脂層の厚さが局部的に不均一になることによって発生することを発見し、本発明に至ったものである。   Spike noise is due to foreign matter remaining on the resin surface of the glass master on which the energy ray-sensitive resin is formed, and the desired groove or pit is not formed in that portion in the next stamper process. The desired information cannot be recorded, and an abnormal reproduction signal obtained therefrom is shown. This is observed as a phenomenon in which the voltage drops suddenly and recovers in a short time when the optical pickup output for signal reproduction is monitored. In other words, a sudden voltage drop portion is detected as noise. The inventor of the present application has studied in detail the conditions of the energy ray-sensitive resin coating process on the glass master in order to minimize the spike noise of the information record carrier. That is, the main parameters such as the resist flow rate, the resist type, the rotation speed of the coating machine (spinner), and the mesh size of the stainless steel circular net. As a result of examining the relationship between these parameters and spike noise (reading error) in detail, the spike noise is the energy sensitive resin layer that is formed when this resin is reattached when the energy ray sensitive resin is applied. It has been found that the thickness is caused by locally non-uniform thickness, leading to the present invention.

図1は、本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法の実施例を示す工程図である。   FIG. 1 is a process diagram showing an embodiment of a method for producing a glass master for an information record carrier of the present invention.

なお、同図には、ガラス原盤の作製から、そのガラス原盤を使用して、情報記録担体を作製するまでの工程を示してある。   In the figure, steps from the production of the glass master to the production of the information record carrier using the glass master are shown.

同図に示すように、本実施例の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法は、研磨工程と、拭き取り工程と、表面を親油化する工程と、ステンレス製円形ネットを使用してエネルギー線感応樹脂を形成する工程とからなる。情報記録担体を作製するには、さらに、カッティング工程と、スタンパー化工程と、成形・成膜工程とを必要とする。   As shown in the figure, the method for producing a glass master for an information recording carrier of the present example includes a polishing process, a wiping process, a process of making the surface oleophilic, and an energy ray sensitive using a stainless steel circular net. Forming a resin. In order to produce an information record carrier, a cutting process, a stamper process, and a molding / film forming process are further required.

まず、基板として、直径120mm、厚さ1.2mmである円板状のソーダ石灰ガラス(酸化珪素70wt%含有)を使用した。基板は、予め研磨によって、平行度20μm以下、平面度20μm以下の高精度に平坦仕上げされているものである。   First, a disk-shaped soda-lime glass (containing 70 wt% silicon oxide) having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm was used as a substrate. The substrate is previously polished and polished to a high accuracy with a parallelism of 20 μm or less and a flatness of 20 μm or less.

なお、基板としては、高精度に平坦化された所定形状の金属、セラミックなどを使用できる。例えば、珪素、アルミニウム又はステンレスなどの金属や、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン又は酸化アルミニウムなどを少なくとも含むセラミックを用いることができる。望ましくは酸化珪素を40%以上含むセラミック、より望ましくは酸化珪素を60%以上含むセラミックである。基板のサイズは、製造しようとする情報記録担体の外寸を考慮して選定する。例えば直径120mmの情報記録担体の場合、直径160〜240mm程度の基板を用意する。基板の厚さとしては、0.1mm〜30mmであり、望ましくは0.6mm〜20mm、更に望ましくは、1mm〜10mmが良い。また所定厚さを有するベース材に、上述の金属、セラミックなどを堆積したものであってもよい。   As the substrate, a metal, ceramic, or the like having a predetermined shape flattened with high accuracy can be used. For example, a metal such as silicon, aluminum, or stainless steel, or a ceramic including at least silicon oxide, silicon nitride, titanium oxide, or aluminum oxide can be used. A ceramic containing 40% or more of silicon oxide is desirable, and a ceramic containing 60% or more of silicon oxide is more desirable. The size of the substrate is selected in consideration of the outer dimensions of the information record carrier to be manufactured. For example, in the case of an information recording carrier having a diameter of 120 mm, a substrate having a diameter of about 160 to 240 mm is prepared. The thickness of the substrate is 0.1 mm to 30 mm, preferably 0.6 mm to 20 mm, and more preferably 1 mm to 10 mm. Alternatively, a base material having a predetermined thickness may be obtained by depositing the above-described metal, ceramic, or the like.

まず、この基板の表面を研磨し、表面を鏡面化する(研磨工程:図1の(a)参照。)。   First, the surface of the substrate is polished to make the surface mirror-like (polishing step: see FIG. 1A).

研磨方法としては、例えば、水平剪断力を加える機械的な方法を用いる。   As a polishing method, for example, a mechanical method for applying a horizontal shearing force is used.

具体的には垂直圧力を加えながら、自公転により基板表面に水平剪断力を付与できる装置と、基板より硬度の低い不織布からなるダミー基板を用いる。ダミー基板と基板間には、基板よりも硬度の高い、研磨剤である二酸化セリウムからなる微粉末を多量に含む水溶液(研磨液である。)を連続して流しておく。基板とダミー基板との間に常に研磨液を挟みながら、基板とダミー基板に相対運動を付与した。
なお、研磨液としては、例えば基板に40%以上の酸化珪素を含むセラミックを用いる場合には、二酸化セリウムの他に、アルミナ、シリカなどの酸化物微粉末を含む水溶液を用いることができる。
Specifically, a device capable of applying a horizontal shearing force to the substrate surface by self-revolution while applying a vertical pressure and a dummy substrate made of a nonwoven fabric having a lower hardness than the substrate are used. Between the dummy substrate and the substrate, an aqueous solution (polishing solution) containing a large amount of fine powder made of cerium dioxide, which is a polishing agent, having a hardness higher than that of the substrate is continuously flowed. While the polishing liquid was always sandwiched between the substrate and the dummy substrate, relative motion was imparted to the substrate and the dummy substrate.
For example, when a ceramic containing 40% or more of silicon oxide is used for the substrate, an aqueous solution containing fine oxide powders such as alumina and silica can be used in addition to cerium dioxide.

次に、研磨工程において取りきれていない微細な研磨粒子を拭き取る(拭き取り工程:図1の(b)参照。)。   Next, fine abrasive particles that have not been removed in the polishing step are wiped off (wiping step: see FIG. 1B).

具体的には、256μm以下のメッシュを有した親水性高分子からなる平面微細メッシュを、洗浄液を流しながら基板の表面に接触させて基板の表面を拭き取る。洗浄液としては、超純水と界面活性剤(商品名ママレモン)とを容積比で1:1に混合したものを使用する。   Specifically, the surface of the substrate is wiped by bringing a planar fine mesh made of a hydrophilic polymer having a mesh of 256 μm or less into contact with the surface of the substrate while flowing a cleaning liquid. As the cleaning solution, a mixture of ultrapure water and a surfactant (trade name Mama Lemon) in a volume ratio of 1: 1 is used.

この拭き取りにおいては、親水性高分子からなる平面微細メッシュを基板表面に接触させているので、接触圧力による研磨剤粒子の機械的除去作用があるとともに、平面微細メッシュとこれに捕獲された研磨剤粒子が強固に付着するので、ガラス盤への再付着が抑えられる。この効果を最大とするのは、この拭き取り工程で水溶液を同時に供給する場合であり、さらに、メッシュをコットン等の親水性の高分子で構成する場合である。   In this wiping, a planar fine mesh made of a hydrophilic polymer is brought into contact with the substrate surface, so that there is a mechanical removal action of abrasive particles by the contact pressure, and the planar fine mesh and the abrasive trapped in this. Since the particles adhere firmly, reattachment to the glass plate is suppressed. This effect is maximized when the aqueous solution is simultaneously supplied in this wiping process, and when the mesh is made of a hydrophilic polymer such as cotton.

なお、洗浄液としては、アルカリ性水溶液や中性水溶液を用いることもできる。アルカリ性水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、リン酸水素ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液がある。中性水溶液としては、超純水がある。なお、これらに界面活性剤を添加してもよい。   As the cleaning liquid, an alkaline aqueous solution or a neutral aqueous solution can be used. Examples of the alkaline aqueous solution include a sodium hydroxide aqueous solution, a potassium hydroxide aqueous solution, a sodium hydrogen phosphate aqueous solution, and an ammonia aqueous solution. An example of the neutral aqueous solution is ultrapure water. A surfactant may be added to these.

また、使用する平面微細メッシュのメッシュ寸法であるが、後述するように光情報記録担体(光ディスク)を製造する場合において、珪素または酸化珪素を主成分とする基板を使用する際には、256μm以下とすると最大の効果が得られる。   In addition, the mesh size of the planar fine mesh used is 256 μm or less when a substrate mainly composed of silicon or silicon oxide is used in the production of an optical information recording carrier (optical disc) as described later. Then, the maximum effect is obtained.

次に、基板表面を親油化する(親油化処理工程:図1の(c)参照。)。   Next, the substrate surface is made oleophilic (an oleophilic treatment step: see FIG. 1C).

基板表面を親油化するために、分子内に親油性官能基と親水性官能基を共に有するシラン系結合剤、具体的にはヘキサメチルジシラザンを選択した。このヘキサメチルジシラザンの揮発性が高いことを利用して、密閉容器中でヘキサメチルジシラザン蒸気に基板を3分間さらす処理を行った。すなわち、密閉容器の底にヘキサメチルジシラザンを一定量張り、その上方に所定の間隔をおいて、基板を保持した。なお、ヘキサメチルジシラザン液表面と基板の拭き取り面は対向するように配置した。   In order to make the substrate surface lipophilic, a silane-based binder having both a lipophilic functional group and a hydrophilic functional group in the molecule, specifically, hexamethyldisilazane was selected. Taking advantage of the high volatility of this hexamethyldisilazane, the substrate was exposed to hexamethyldisilazane vapor for 3 minutes in a sealed container. That is, a fixed amount of hexamethyldisilazane was applied to the bottom of the sealed container, and the substrate was held at a predetermined interval above it. The hexamethyldisilazane liquid surface and the wiping surface of the substrate were arranged to face each other.

なお、親油化するための薬液として、シラン系結合剤の他に、チタネート系結合剤、アルミネート系結合剤、アミン系結合剤、4級アンモニウム結合剤を用いることができる。これらの薬液をそのまま基板表面に塗布するか、アルコール等の有機溶剤又は水に希釈して塗布する。薬液の揮発性が高い場合には、蒸気浴により塗布する方法をとってもよい。   In addition to the silane-based binder, a titanate-based binder, an aluminate-based binder, an amine-based binder, and a quaternary ammonium binder can be used as the chemical solution for lipophilicity. These chemical solutions are applied to the substrate surface as they are, or diluted with an organic solvent such as alcohol or water. If the chemical solution is highly volatile, a method of applying by a steam bath may be used.

次に、親油化した基板表面に、ステンレス製円形型ネットを配置したレジスト塗布機を用いてエネルギー感応性樹脂を塗布し、情報記録担体用ガラス原盤を得る(エネルギー製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程:図1の(d)参照。)。   Next, an energy sensitive resin is applied to the surface of the oleophilic substrate using a resist coater in which a stainless steel circular net is arranged to obtain a glass master for an information recording carrier (using an energy circular net). (Application process of energy ray sensitive resin: see FIG. 1 (d)).

ここで、図2乃至図4により、エネルギー感応性樹脂の塗布に使用するレジスト塗布機について説明する。   Here, with reference to FIGS. 2 to 4, a resist coating machine used for coating the energy sensitive resin will be described.

図2は、実施例において使用するレジスト塗布機の概略構成図である。図3は、ステンレス製円形型ネットの概略構成図である。図4は、ステンレス製円形型ネットの部分拡大図である。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a resist coating machine used in the embodiment. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a stainless steel circular net. FIG. 4 is a partially enlarged view of a stainless steel circular net.

図2に示すように、レジスト塗布機10は、操作部1(ベースを兼ねる)上に、モータ7を固定配置してあり、モータ7の回転軸4には所定の直径dのターンテーブル3が設けられている。ターンテーブル3には複数のサイズがあり、交換可能となっている。ターンテーブル3は、ここに配置される基板5を固定できる構造(真空吸着)を有している。ターンテーブル3の外側には、ステンレス製円形型ネット6が配置されている。その外周部に、飛沫防止カバー2が設けられている。   As shown in FIG. 2, the resist coating machine 10 has a motor 7 fixedly disposed on an operation unit 1 (also serving as a base), and a turntable 3 having a predetermined diameter d is provided on a rotating shaft 4 of the motor 7. Is provided. The turntable 3 has a plurality of sizes and can be exchanged. The turntable 3 has a structure (vacuum suction) that can fix the substrate 5 disposed here. A stainless-steel circular net 6 is arranged outside the turntable 3. A splash prevention cover 2 is provided on the outer periphery.

図3及び図4に示す様に、ステンレス製円形型ネット6は、直径1mmのワイヤ16を縦横各ピッチ3mmで方形状に編み込んで形成したネットを直径Dの円筒型に成形したものである。これを、以下、メッシュサイズ3mmのステンレス製円形型ネット6という。   As shown in FIGS. 3 and 4, the stainless steel circular net 6 is obtained by forming a net formed by braiding wires 16 having a diameter of 1 mm into a square shape with a pitch of 3 mm in each of vertical and horizontal pitches into a cylindrical shape having a diameter D. This is hereinafter referred to as a stainless steel circular net 6 having a mesh size of 3 mm.

ここで、ターンテーブル3の直径dの約2倍をステンレス製円形型ネット6の直径Dとする。また、ステンレス製円形型ネット6の上端面とターンテーブル3の上面との間隔Hは30mm程度となるようにしておく。ターンテーブル3の上面のほうが低くなっている。厚い基板5を用いる場合には、この基板5の上面とステンレス製円形型ネット6の上端との間隔は、25mm程度になるように調整する。   Here, the diameter D of the stainless steel circular net 6 is about twice the diameter d of the turntable 3. The distance H between the upper end surface of the stainless steel circular net 6 and the upper surface of the turntable 3 is set to about 30 mm. The upper surface of the turntable 3 is lower. When the thick substrate 5 is used, the distance between the upper surface of the substrate 5 and the upper end of the stainless steel circular net 6 is adjusted to be about 25 mm.

上述のレジスト塗布機10のターンテーブル3に表面を親油化した基板5を配置し、エネルギー線感応性樹脂として粘度1mPa・sである紫外線に感光するフォトレジスト(以下、単にレジストともいう)を、基板5に連続滴下して、その後、ターンテーブル3を500〜1500rpmで回転させ、フォトレジストを基板5上に均一に塗布した。この後、残存溶液を除去するために近接ホットプレートにより、90度C、5分間のベーキングを行った。   A substrate 5 having a lipophilic surface is disposed on the turntable 3 of the resist coating machine 10 described above, and a photoresist (hereinafter also simply referred to as a resist) that is sensitive to ultraviolet rays having a viscosity of 1 mPa · s is used as an energy ray sensitive resin. Then, the solution was continuously dropped onto the substrate 5, and then the turntable 3 was rotated at 500 to 1500 rpm to uniformly apply the photoresist onto the substrate 5. Thereafter, in order to remove the remaining solution, baking was performed at 90 ° C. for 5 minutes using a proximity hot plate.

ここで、レジスト塗布機10に、飛沫防止カバー2とは別に、ステンレス製円形型ネット6を配置したのは、レジスト塗布時に、レジストの飛び跳ねによる基板表面へのレジストの再付着を防止するためである。   Here, the reason why the stainless steel circular net 6 is arranged in the resist coating machine 10 in addition to the splash prevention cover 2 is to prevent the resist from reattaching to the substrate surface due to the resist jumping during the resist coating. is there.

図4に模式的に示すように、レジスト塗布時に、飛び跳ねたレジスト8がステンレス製円形型ネット6のメッシュ9に強固に付着するので、基板5への再付着がおさえられ、後述するように、最終的に作製される光ディスクにおいて、ディフェクトを減少することができる。   As schematically shown in FIG. 4, the resist 8 that has jumped at the time of resist application adheres firmly to the mesh 9 of the stainless steel circular net 6, so that reattachment to the substrate 5 is suppressed. Defects can be reduced in the finally produced optical disk.

なお、エネルギー線感応性樹脂としては、例えば、波長10nm〜1500nmの電磁波(γ線、X線、極端紫外線、遠紫外線、紫外線、可視光、赤外線など)に感応する有機材料や、粒子線(α線、β線、陽子線、中性子線、電子線など)に感応する有機材料から選ばれる、前者の有機材料の代表例としては、感光性色素があり、特に好適なものとして紫外線又は遠紫外線感光型のフォトレジストがある。また後者の有機材料の代表例としては電子線(EB)レジストなどがある。   Examples of the energy ray sensitive resin include organic materials sensitive to electromagnetic waves (γ rays, X rays, extreme ultraviolet rays, far ultraviolet rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, etc.) having a wavelength of 10 nm to 1500 nm, and particle beams (α A representative example of the former organic material selected from organic materials sensitive to X-ray, β-ray, proton beam, neutron beam, electron beam, etc. is a photosensitive dye, and UV or far-UV sensitivity is particularly preferable. There is a type of photoresist. A typical example of the latter organic material is an electron beam (EB) resist.

これらのエネルギー線感応性樹脂を塗布するに際しては、所定の粘度になるように、これら材料を有機溶剤に希釈して塗布する。有機溶剤としては、乳酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ピルビン酸エチル、メチル−3−メトキシプロピオネート、メチル−3−エトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルアミルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノンなどを用いることができる。   When applying these energy ray sensitive resins, these materials are diluted with an organic solvent and applied so as to have a predetermined viscosity. As organic solvents, ethyl lactate, butyl acetate, ethyl cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol methyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethyl pyruvate, methyl-3-methoxypropionate, methyl-3-ethoxy Propionate, ethyl ethoxypropionate, methyl amyl ketone, 2-heptanone, cyclohexanone, etc. can be used.

これらのエネルギー線感応性樹脂を塗布する方法としては、スピンコーティング法の他に、ナイフコーティング法、バーコート法、浸漬引き上げ法などを用いることができる。そして、塗布した後には、希釈用の溶剤を除去するためにベーキングを施してもよい。   As a method for applying these energy ray sensitive resins, a knife coating method, a bar coating method, a dip pulling method, and the like can be used in addition to the spin coating method. And after apply | coating, you may give baking in order to remove the solvent for dilution.

以上のようにして、情報記録担体用ガラス原盤を得る。   As described above, a glass master for an information record carrier is obtained.

次に、エネルギー線感応性樹脂を塗布した基板に情報により強度変調したエレルギー線を照射して、エネルギー線感応性樹脂のカッティングを行う(カッティング工程:図1の(e)参照。)。   Next, the energy ray-sensitive resin is cut by irradiating the substrate coated with the energy ray-sensitive resin with an energy line whose intensity is modulated by information (cutting process: see FIG. 1E).

ここで、具体的には266nmの波長のレーザを用い、公知の方法で、25GB相当の記録密度、すなわちトラックピッチ0.32μm、最短ピット長0.185μmであるD8−15変調信号のピット列をカッティングする。   Here, specifically, a pit string of a D8-15 modulated signal having a recording density equivalent to 25 GB, that is, a track pitch of 0.32 μm and a shortest pit length of 0.185 μm is obtained by a known method using a laser having a wavelength of 266 nm. Cutting.

次に、公知の方法により、カッティングされたエネルギー線感応性樹脂の表面に、所定厚さのニッケルをスパッタして、導電膜とし、続いて所定の厚さまで電鋳メッキをし、スタンパーを得る(スタンパー工程:図1の(f)参照。)。   Next, by a known method, a predetermined thickness of nickel is sputtered on the surface of the cut energy beam sensitive resin to form a conductive film, and subsequently electroformed to a predetermined thickness to obtain a stamper ( Stamper process: see FIG. 1 (f)).

次に、公知の方法により、このスタンパーを用いて、ポリカーボネート樹脂を射出成形して、ポリカーボネート樹脂基板を作製し、上記のピット列の形成されている樹脂基板表面上に反射膜を付け、さらに厚さ100μmのポリカーボネート樹脂を貼り付け、本実施例に係る光ディスクを作製した(成形・成膜工程:図1の(g)参照。)。   Next, using this stamper, a polycarbonate resin is injection-molded by a known method to produce a polycarbonate resin substrate, and a reflective film is attached on the surface of the resin substrate on which the pit rows are formed, and the thickness is further increased. A polycarbonate resin having a thickness of 100 μm was pasted to produce an optical disc according to this example (molding / film formation process: see FIG. 1G).

次に、この本実施例に係る光ディスクを再生測定し信号波形とスパイクノイズ個数を調べた。具体的には、直径120mmの光ディスクにおいて、特定の半径(以下、Rともいう)29.0mm、31.4mm、34.5mm、38.0mm、42.8mm、47.7mm、51.6mm、53.7mm及び55.2mmの各半径位置の一周に現れるスパイクノイズの個数を求めた。光ディスクにレーザを照射し、反射して検出される光強度が100%であれば、ディフェクト(欠陥)によるスパイクノイズがなく、光量が減少していれば欠陥ありとしてカウントした。光量が50%以上と光量が50%以下の場合に分けて、スパイクノイズを欠陥としてカウントし、1周中に10個以上ある場合をNGとする判定基準とした。   Next, the optical disk according to this example was measured for reproduction, and the signal waveform and the number of spike noises were examined. Specifically, in an optical disk having a diameter of 120 mm, a specific radius (hereinafter also referred to as R) 29.0 mm, 31.4 mm, 34.5 mm, 38.0 mm, 42.8 mm, 47.7 mm, 51.6 mm, 53 The number of spike noises appearing in one round of each radial position of 0.7 mm and 55.2 mm was obtained. When the intensity of light detected by irradiating an optical disk with a laser and reflecting it was 100%, there was no spike noise due to a defect (defect), and when the amount of light decreased, it was counted as a defect. Spike noise was counted as a defect when the amount of light was 50% or more and the amount of light was 50% or less, and the case where there were 10 or more in one round was determined as NG.

スパイクノイズの測定結果は、R29.0mmではなし、R31.0mmでは合計3個、R34.5mmでは合計1個、R38.0mmでは合計1個、R42.8mmでは合計4個、R47.7mmでは合計1個、R51.6mmでは合計3個、R53.7mmでは合計2個、R55.2mmでは合計2個であり、判定基準をクリアするものである。   The spike noise measurement results are not for R29.0mm, 3 for R31.0mm, 1 for R34.5mm, 1 for R38.0mm, 4 for R42.8mm, and 4 for R47.7mm One, a total of 3 for R51.6 mm, 2 for R53.7 mm, and 2 for R55.2 mm, satisfy the criteria.

この結果を表1に示す。また、この光ディスクの半径方向とスパイクノイズの関係を示すグラフ図を図5の(a)に示す。なお、このグラフ図では代表的なスパイクノイズを示してある。図5において、横軸はディスクノ半径位置を、縦軸は再生信号の光減衰量をそれぞれ示す。光減衰量が0の横線はノイズのない信号を示し、それより下方に出ている縦の線はスパイクノイズを示しその長さがノイズの大きさ(光減衰量の大きさ)を示す。   The results are shown in Table 1. FIG. 5A is a graph showing the relationship between the radial direction of the optical disk and spike noise. In this graph, typical spike noise is shown. In FIG. 5, the horizontal axis represents the disk radius position, and the vertical axis represents the optical attenuation of the reproduction signal. A horizontal line with a light attenuation of 0 indicates a signal without noise, and a vertical line extending downward from the horizontal line indicates spike noise and its length indicates the magnitude of noise (the magnitude of light attenuation).

なお、この光ディスクと同様に他に同様の9枚の光ディスクを作製し、スパイクノイズを測定したが、いずれも判定基準をクリアし、良品と判定されるものであった。   Similarly to this optical disc, nine other optical discs were produced and spike noise was measured. However, all of the optical discs passed the judgment criteria and were judged as non-defective products.

(比較例1) (Comparative Example 1)

本実施例に係る光ディスクにおいて、ステンレス製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程において、メッシュサイズ3mmのステンレス製円形型ネットに代えて、メッシュサイズ1mm(ワイヤ直径0.3mm、ピッチ1mm)のステンレス製円形型ネットを用いた以外は、本実施例に係る光ディスクと同様にして作製して、比較例1の光ディスクを得た。   In the optical disk according to the present embodiment, in the energy ray-sensitive resin coating process using a stainless steel circular net, the mesh size is 1 mm (wire diameter 0.3 mm, pitch 1 mm) instead of the stainless steel circular net with a mesh size of 3 mm. The optical disc of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as the optical disc according to the present example except that the stainless steel circular net was used.

本実施例に係る光ディスクと同様にして、比較例1の光ディスクのスパイクノイズを測定した。   The spike noise of the optical disc of Comparative Example 1 was measured in the same manner as the optical disc according to this example.

スパイクノイズの測定結果は、R29.0mmでは合計72個、R31.0mmでは合計66個、R34.5mmでは合計60個、R38.0mmでは合計66個、R42.8mmでは合計75個、R47.7mmでは合計93個、R51.6mmでは合計110個、R53.7mmでは合計129個、R55.2mmでは合計144個であり、判定基準をクリアしない、不良品である。   The spike noise measurement results are 72 for R29.0mm, 66 for R31.0mm, 60 for R34.5mm, 66 for R38.0mm, 75 for R42.8mm, and R47.7mm. Is a total of 93, R51.6 mm is a total of 110, R53.7 mm is a total of 129, and R55.2 mm is a total of 144.

この結果を上の表1に示す。また、この比較例1の光ディスクの半径方向とスパイクノイズの関係を示すグラフ図を図5の(b)に示す。なお、このグラフ図では、検出された全てではなく、代表的なスパイクノイズを示してある。
(比較例2)
The results are shown in Table 1 above. FIG. 5B is a graph showing the relationship between the radial direction of the optical disc of Comparative Example 1 and spike noise. In this graph, representative spike noise is shown, not all detected.
(Comparative Example 2)

本実施例に係る光ディスクにおいて、ステンレス製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程において、メッシュサイズ3mmのステンレス製円形型ネットに代えて、メッシュサイズ10mm(ワイヤ直径2mm、ピッチ10mm)のステンレス製円形型ネットを用いた以外は、本実施例に係る光ディスクと同様にして作製して、比較例2の光ディスクを得た。   In the optical disk according to the present embodiment, in the energy ray-sensitive resin coating process using a stainless steel circular net, the mesh size is 10 mm (wire diameter 2 mm, pitch 10 mm) instead of the stainless steel circular net with a mesh size of 3 mm. The optical disk of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as the optical disk according to this example except that a stainless steel circular net was used.

本実施例に係る光ディスクと同様にして、比較例2の光ディスクのスパイクノイズを測定した。   The spike noise of the optical disk of Comparative Example 2 was measured in the same manner as the optical disk according to this example.

スパイクノイズの測定結果は、R29.0mmでは合計129個、R31.0mmでは合計134個、R34.5mmでは合計144個、R38.0mmでは合計116個、R42.8mmでは合計100個、R47.7mmでは合計63個、R51.6mmでは合計70個、R53.7mmでは合計64個、R55.2mmでは合計56個であり、判定基準をクリアしない、不良品である。   The measurement results of spike noise are 129 in total for R29.0 mm, 134 in total for R31.0 mm, 144 in total for R34.5 mm, 116 in total for R38.0 mm, 100 in total for R42.8 mm, and R47.7 mm Is a total of 63, R51.6 mm is a total of 70, R53.7 mm is a total of 64, and R55.2 mm is a total of 56.

この結果を上の表1に示す。
(比較例3)
The results are shown in Table 1 above.
(Comparative Example 3)

本実施例に係る光ディスクにおいて、ステンレス製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程において、メッシュサイズ3mmのステンレス製円形型ネットを用いない以外は、本実施例に係る光ディスクと同様にして作製して、比較例3の光ディスクを得た。   In the optical disk according to the present embodiment, in the energy ray sensitive resin coating process using the stainless steel circular net, the same procedure as that of the optical disk according to the present embodiment is performed except that the stainless circular net having a mesh size of 3 mm is not used. The optical disk of Comparative Example 3 was obtained.

本実施例に係る光ディスクと同様にして、比較例3の光ディスクのスパイクノイズを測定した。   The spike noise of the optical disk of Comparative Example 3 was measured in the same manner as the optical disk according to this example.

スパイクノイズの測定結果は、R29.0mmでは合計110個、R31.0mmでは合計148個、R34.5mmでは合計164個、R38.0mmでは合計118個、R42.8mmでは合計92個、R47.7mmでは合計69個、R51.6mmでは合計71個、R53.7mmでは合計61個、R55.2mmでは合計61個であり、判定基準をクリアしない、不良品である。   The measurement results of spike noise are 110 in total for R29.0 mm, 148 in total for R31.0 mm, 164 in total for R34.5 mm, 118 in total for R38.0 mm, 92 in total for R42.8 mm, and R47.7 mm Is a total of 69, R51.6 mm is a total of 71, R53.7 mm is a total of 61, and R55.2 mm is a total of 61.

この結果を上の表1に示す。   The results are shown in Table 1 above.

エネルギー線感応性樹脂の塗布方法として、メッシュサイズ3mmのステンレス製円形型ネットを使用した実施例に係る光ディスクにおいては、信号波形の乱れてはなく、どの測定位置でもスパイクノイズが10個以下に抑えられている。   In the optical disk according to the embodiment using a stainless steel circular net having a mesh size of 3 mm as a method for applying the energy ray sensitive resin, the signal waveform is not disturbed, and spike noise is suppressed to 10 or less at any measurement position. It has been.

メッシュサイズ1mmのステンレス製円形型ネットを用いた比較例1の光ディスクでは、信号波形が乱れており急激な電圧降下が多く、スパイクノイズも100個以上確認できるほどであった。   In the optical disk of Comparative Example 1 using a stainless steel circular net having a mesh size of 1 mm, the signal waveform was disturbed, there were many rapid voltage drops, and 100 or more spike noises could be confirmed.

メッシュサイズ10mmのステンレス製円形型ネットを使用した比較例2では、信号波形が乱れており急激な電圧降下が多く、スパイクノイズも100個以上確認できるほどであった。   In Comparative Example 2 using a stainless steel circular net with a mesh size of 10 mm, the signal waveform was disturbed, there were many rapid voltage drops, and 100 or more spike noises could be confirmed.

ステンレス製円形型ネット無しの比較例3でも、信号波形が乱れており急激な電圧降下が多く、スパイクノイズも100個以上確認できるほどであった。   Even in Comparative Example 3 without the stainless steel circular net, the signal waveform was disturbed, there were many rapid voltage drops, and 100 or more spike noises could be confirmed.

以上より、エネルギー線感応樹脂を塗布する際には、メッシュサイズ3mmのステンレス製円形型ネットをターンテーブルの外周に配置することにより、最終的に作製する光ディスクにおけるスパイクノイズを大幅に低減でき、カッティング工程においても微細パターン形成も均一に行うことができ、最終的に、スパイクノイズが所定の半径の一周あたり10個以下である光ディスクを安定して製造することができる。   From the above, when applying the energy ray sensitive resin, by placing a stainless steel circular net with a mesh size of 3 mm on the outer periphery of the turntable, the spike noise in the optical disc to be finally produced can be greatly reduced, and cutting Fine patterns can be uniformly formed in the process, and finally, an optical disk having spike noise of 10 or less per round of a predetermined radius can be manufactured stably.

なお、基板の大きさとしては直径120mmとして説明したが、これに限らず、直径32mm、51mm、65mm、80mm、88mm、130mm、160mm、165mm、200mm、240mm、300mmなどであってもよい。また基板の厚みは1.2mmとしたがこれに限らず、0.6mm、5mm、6mm、10mmなどであってもよい。基板の材質としては、酸化珪素40%以上を含む基板としてソーダ石灰ガラスを用いたが、これに限るものではなく、珪素、ウエハー、石英ガラス(酸化珪素100%)も用いることができる。   The substrate has been described as having a diameter of 120 mm, but is not limited thereto, and may be 32 mm, 51 mm, 65 mm, 80 mm, 88 mm, 130 mm, 160 mm, 165 mm, 200 mm, 240 mm, and 300 mm. Moreover, although the thickness of the board | substrate was 1.2 mm, it is not restricted to this, 0.6 mm, 5 mm, 6 mm, 10 mm etc. may be sufficient. As the material of the substrate, soda lime glass is used as a substrate containing 40% or more of silicon oxide. However, the material is not limited to this, and silicon, wafer, quartz glass (silicon oxide 100%) can also be used.

本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法の実施例を示す工程図である。It is process drawing which shows the Example of the manufacturing method of the glass original disc for information record carriers of this invention. 実施例において使用するレジスト塗布機の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the resist coating machine used in an Example. ステンレス製円形ネットの概略構成図である。It is a schematic block diagram of a stainless steel circular net. ステンレス製円形ネットの部分拡大図である。It is the elements on larger scale of a stainless steel circular net. 光ディスクの信号波形を示すグラフ図である。It is a graph which shows the signal waveform of an optical disk. 従来例の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法を示す工程図である。It is process drawing which shows the manufacturing method of the glass original disc for information record carriers of a prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

1 操作部
2 飛沫防止カバー
3 ターンテーブル
4 回転軸
5 ガラス原盤
6 ステンレス製円形型ネット
7 モータ
8 レジスト
10 レジスト塗布機
16 ワイヤ

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Operation part 2 Splash prevention cover 3 Turntable 4 Rotating shaft 5 Glass master 6 Stainless steel circular net 7 Motor 8 Resist 10 Resist coating machine 16 Wire

Claims (1)

平坦な表面を有する円板状のガラス基板と研磨盤との間に研磨粒子を含む水溶液を連続して流しながら前記ガラス基板と前記研磨盤との各表面を互いに押圧して、互いに逆の回転方向に回転運動させながら、前記ガラス基板の表面を鏡面に研磨する第1のステップと、
前記鏡面に加工された前記ガラス基板の表面に残存する前記研磨粒子を、活性剤を含む水溶液を流しながら平面微細メッシュで拭き取る第2のステップと、
前記研磨粒子の拭き取られた前記ガラス基板表面に所定厚さのシラン系結合剤を塗布して前記ガラス基板表面を親油化する第3のステップと、
前記ガラス基板を、その周囲に円形型ネットを配置したターンテーブル上に配置し、前記親油化されたガラス基板表面に所定粘度に希釈したエネルギー線感応性樹脂を滴下した後、前記ターンテーブルを所定回転数で回転させて、前記エネルギー線感応性樹脂を振り切った時に発生する不要な跳ね返り飛沫を前記円形型ネットに吸着させることにより、前記跳ね返り飛沫が前記親油化されたガラス基板表面に再付着するのを防止して、前記親油化されたガラス基板表面に所定厚さの前記エネルギー線感応性樹脂層を形成する第4のステップとを有することを特徴とする情報記録担体用ガラス原盤の製造方法。

While continuously flowing an aqueous solution containing abrasive particles between a disk-shaped glass substrate having a flat surface and a polishing disk, the surfaces of the glass substrate and the polishing disk are pressed against each other and rotated in opposite directions. A first step of polishing the surface of the glass substrate into a mirror surface while rotating in a direction;
A second step of wiping the abrasive particles remaining on the surface of the glass substrate processed into the mirror surface with a planar fine mesh while flowing an aqueous solution containing an active agent;
A third step of applying a silane-based binder having a predetermined thickness to the glass substrate surface from which the abrasive particles have been wiped off to make the glass substrate surface oleophilic;
The glass substrate is placed on a turntable having a circular net around it, and after the energy ray sensitive resin diluted to a predetermined viscosity is dropped on the lipophilic glass substrate surface, the turntable is By rotating the energy ray sensitive resin at a predetermined rotational speed and adsorbing unnecessary splashing splash generated on the circular net, the splashing splash is re-applied to the lipophilic glass substrate surface. And a fourth step of forming the energy ray-sensitive resin layer having a predetermined thickness on the surface of the oleophilic glass substrate while preventing the adhesion to the glass substrate. Manufacturing method.

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