NO163758B

NO163758B - PROCEDURE FOR THE formation of a photoresist layer.

Info

Publication number: NO163758B
Application number: NO81813613A
Authority: NO
Inventors: Richard L Wilkinson
Original assignee: Discovision Ass
Priority date: 1980-08-11
Filing date: 1981-10-26
Publication date: 1990-04-02
Also published as: NO813613L; NO163758C

Description

Foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte for dannelse av et fotoresistsjikt som angitt i innledningen til krav 1. The present invention relates to a method for forming a photoresist layer as stated in the introduction to claim 1.

Optisk lesbare reproduserte video-skiver er nyttige ved lagring av store mengder med informasjon, vanligvis i form av et frekvensmodulert (f.m.)-bærebølgesignal, med en høy opptegningstetthet. f.m.-signalet blir vanligvis opptegnet som en sekvens av med avstand anbrakte fordypninger eller ujevnheter anordnet i en rekke med hovedsakelig sirkulære og konsentriske opptegningsspor. Hver fordypning og tilliggende rom mellom fordypningene representerer en periode med f.m.-signal. Optically readable reproduced video discs are useful in storing large amounts of information, usually in the form of a frequency modulated (f.m.) carrier signal, with a high recording density. The f.m. signal is usually recorded as a sequence of spaced depressions or bumps arranged in an array of substantially circular and concentric recording tracks. Each depression and adjacent space between the depressions represents a period of f.m. signal.

Skivereproduksjoner blir i alminnelighet dannet ved hjelp av sprøytestøpningsinnretninger som benytter pregeskiver utledet fra originalplaten. En original opptegningsplate innbefatter vanligvis et glass-substrat som har en skiveformet, plan overflate med et tynt opptegningssjikt, slik som en metallfilm. Informasjon blir i alminnelighet opptegnet i oppteg-ningssj iktet ved å fokusere en intensitetsmodulert skrive-stråle på sjiktet ved å benytte en radialt bevegelig optisk linse når originalskiven blir dreiet ved en forutbestemt hastighet. Stråleintensiteten blir modulert i samsvar med f.m.-signalet for å tilveiebringe endringer større og mindre enn forutbestemt terskel, ved hvilken metallfilmen blir smeltet hvorved rekken med med avstand anbrakte fordypninger blir utformet i filmen. Rekker med fordypninger og mellomrom har fortrinnsvis en nominell driftssyklus på 50/50, hvorved signalet blir opptegnet med minimal annen harmonisk forvrengning. Disc reproductions are generally formed using injection molding machines that use embossing discs derived from the original disc. An original recording plate typically includes a glass substrate having a disk-shaped, planar surface with a thin recording layer, such as a metal film. Information is generally recorded in the recording layer by focusing an intensity-modulated writing beam onto the layer using a radially movable optical lens when the original disc is rotated at a predetermined speed. The beam intensity is modulated in accordance with the f.m. signal to provide changes greater than and less than a predetermined threshold, at which the metal film is melted whereby the series of spaced depressions are formed in the film. Rows of recesses and gaps preferably have a nominal duty cycle of 50/50, whereby the signal is recorded with minimal other harmonic distortion.

Foreliggende oppfinnelse angår en metode anvendt ved fremstilling av originalvideo-skiver av typen som har et fotoresistopptegningssjikt og fremgangsmåten for tilveie-bringelse av pregeplater fra slike originalplater. Originalplaten innbefatter et glass-substrat med en glatt, plan overflate, på hvilken et tynt, jevnt opptegningssjikt med fotoresist er avleiret. Et f.m.-informasjonssignal blir opptegnet i fotoresistopptegningssjiktet ved å benytte en intonsitetsmodulert skrivende lysstråle som tilveiebringer i tur og orden med avstand anbrakte eksponerte områder anordnet i en rekke med hovedsakelig sirkulære og konsentriske opptegningsspor. The present invention relates to a method used in the production of original video discs of the type which has a photoresist recording layer and the method for providing embossing plates from such original plates. The original plate includes a glass substrate with a smooth, planar surface, on which a thin, uniform recording layer of photoresist is deposited. An f.m. information signal is recorded in the photoresist recording layer using an intensity modulated writing light beam which provides alternately spaced exposed areas arranged in an array of substantially circular and concentric recording tracks.

Foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte for dannelse av et fotoresistsjikt som angitt i innledningen og hvis karakteristiske trekk fremgår av krav 1. Ytterligere trekk ved fremgangsmåten fremgår av krav 2. The present invention relates to a method for forming a photoresist layer as stated in the introduction and whose characteristic features appear in claim 1. Further features of the method appear in claim 2.

Mange andre trekk og fordeler ved oppfinnelsen vil fremgå av den følgende detaljerte beskrivelsen i forbindelse med tegningene, som ved hjelp av eksempler beskriver prinsippene ved oppfinnelsen, hvor: Fig. 1 viser et forenklet skjematisk diagram av innretningen for opptegning av et f.m.-informasjonssignal på en originalopptegningsplate, frembrakt i samsvar med foreliggende oppfinnelse. Fig. 2 viser et forstørret planriss av et segment av originalplaten på fig. 1, som viser en rekke med avstand anbrakte eksponerte områder anordnet i flere i det vesentlige sirkulære konsentriske opptegningsspor . Fig. 3 viser en kurve over den modulerte intensiteten til skrives.trålen i opptegningsinnretningen på fig. 1. Fig. 4 viser et snitt av en del av opptegningsoriginalplaten,, tatt langs et opptegningsspor og viser fotoresistopptegningssjiktet som skal bli eksponert alltid når intensiteten til skrivestrålen på fig. 3 overskrider en forutbestemt terskel. Fig. 5 viser et snitt av originalopptegningsplaten på fig. Many other features and advantages of the invention will be apparent from the following detailed description in connection with the drawings, which by means of examples describe the principles of the invention, where: Fig. 1 shows a simplified schematic diagram of the device for recording an FM information signal on a original recording plate, produced in accordance with the present invention. Fig. 2 shows an enlarged plan view of a segment of the original plate in fig. 1, which shows a series of spaced apart exposed areas arranged in several substantially circular concentric recording tracks. Fig. 3 shows a curve of the modulated intensity of the print beam in the recording device of fig. 1. Fig. 4 shows a section of a part of the recording original plate, taken along a recording track and shows the photoresist recording layer to be exposed whenever the intensity of the writing beam in fig. 3 exceeds a predetermined threshold. Fig. 5 shows a section of the original drawing plate in fig.

4, etter fremkallingen, for å fjerne områdene som ligger med avstand fra hverandre og som er eksponerte . 4, after development, to remove the areas which are spaced apart and which are exposed.

Fig. 6 viser et perspektivriss av en dreibar innretning; Fig. 6 shows a perspective view of a rotatable device;

benyttet for å påføre fotoresistopptegningssjiktet på originalopptegningsplaten på fig. 1. used to apply the photoresist recording layer to the original recording plate of fig. 1.

Det skal nå henvises til tegningene, og spesielt til fig. 1 som viser en innretning for opptegning av et frekvensmodulert (f.m.)-informasjonssignal på en originalopptegningsplate 11. Originalplaten, de såkalte master'en, innbefatter et glassubstrat 13 med en glatt, plan øvre overflate på hvilken er anbrakt et fotoresistsjikt 15 som har en foreskrevet jevn tykkelse. Fotoresistsjiktet blir eksponert alltid når det blir truffet av en lysstråle som har en intensitet som overskrider en forutbestemt opptegningsterskel. Reference must now be made to the drawings, and in particular to fig. 1 which shows a device for recording a frequency-modulated (f.m.) information signal on an original recording plate 11. The original plate, the so-called master, includes a glass substrate 13 with a smooth, flat upper surface on which is placed a photoresist layer 15 having a prescribed uniform thickness. The photoresist layer is exposed whenever it is struck by a light beam having an intensity that exceeds a predetermined recording threshold.

Opptegningsinnretningen innbefatter en laserskriver 17 slik som en argon-ion-laser for frembringelse av en skrivende lysstråle 19 som har en foreskrevet intensitet og en intensitetsmodulator 21 for modulering av intensiteten til skrivestrålen i samsvar med et f.m.-informasjonssignal mottatt på linjen 23. Opptegningsinnretningen innbefatter videre en spindelmotor 25 for dreiing av originalopptegningsplaten 11 ved en foreskrevet vinkelhastighet, og en objektivlinse 27 for fokusering av den intensitetsmodulerte strålen på fotoresistsjiktet 15 til den roterende originalplaten. Objektivlinsen er anbrakt på en vogn (ikke vist) som er radialt bevegelig i forhold til originalplaten slik at den fokuserte strålen gir et spiralmønster på fotoresistsjiktet. The recording device includes a laser printer 17 such as an argon-ion laser for producing a writing light beam 19 having a prescribed intensity and an intensity modulator 21 for modulating the intensity of the writing beam in accordance with an f.m. information signal received on the line 23. The recording device further includes a spindle motor 25 for rotating the original recording plate 11 at a prescribed angular speed, and an objective lens 27 for focusing the intensity modulated beam on the photoresist layer 15 of the rotating original plate. The objective lens is mounted on a carriage (not shown) which is radially movable relative to the original plate so that the focused beam produces a spiral pattern on the photoresist layer.

Som vist på fig. 2, 3 og 4 blir den intensitetsmodulerte strålen 19 vekselvis større og mindre enn den forutbestemte opptegningsterskelen til fotoresistsjiktet 15 hvorved en serie med avstand anbrakte eksponerte områder 29 anordnet i flere 1 hovedsaken sirkulære og konsentriske opptegningsspor 31 blir utformet i sjiktet. Hvert eksponerte område og tilliggende mellomrom korresponderer med en periode for f.m.-signalet. Fig. 5 viser opptegnlngsoriginalplaten 11 etter fremkallingen for fjerning av eksponerte områder, idet platen nå er i egnet tilstand for bruk ved fremstilling av en matrise. As shown in fig. 2, 3 and 4, the intensity modulated beam 19 alternately becomes larger and smaller than the predetermined recording threshold of the photoresist layer 15 whereby a series of spaced apart exposed areas 29 arranged in several 1 mainly circular and concentric recording tracks 31 are formed in the layer. Each exposed area and adjacent space corresponds to a period of the f.m. signal. Fig. 5 shows the recording original plate 11 after the development for the removal of exposed areas, the plate now being in a suitable condition for use in the production of a matrix.

Originalplaten 11 blir til å begynne med preparert for bruk ved opptegningsinnretningen på fig. 1, som benytter en spesiell prosess hvor den øvre overflaten av glass-substratet 13 blir først slipt og polert, og så vasket. Fotoresistsjiktet 15 blir så dannet ved fordeling av en fotoresist-oppløsning på overflaten, som deretter blir tørket og brent på en foreskrevet måte. Etter brenningen er originalplaten i egnet stand for opptegning. Et tynt metallsjikt kan også dannes på substratet før dannelsen av det fotofølsomme sj iktet. The original plate 11 is initially prepared for use by the recording device in fig. 1, which uses a special process where the upper surface of the glass substrate 13 is first ground and polished, and then washed. The photoresist layer 15 is then formed by spreading a photoresist solution on the surface, which is then dried and fired in a prescribed manner. After burning, the original plate is in a suitable condition for recording. A thin metal layer can also be formed on the substrate before the formation of the photosensitive layer.

Nærmere bestemt blir den plane overflaten til glass-substratet 13 til å begynne med preparert ved første sliping av det på en vanlig måte ved å benytte en aluminiumoksyd-blanding som har omkring en ni-mikro-korn-størrelse. Overflaten blir så polert ved å benytte en zirkoniumoksyd-eller ceriumoksydpoleringsblanding med submikro-partikkel-størrelse. Man har funnet at ceriumoksyd polerer overflaten hurtigere, men er generelt vanskeligere å vaske. More specifically, the planar surface of the glass substrate 13 is initially prepared by first grinding it in a conventional manner using an alumina mixture having about a nine-micron grain size. The surface is then polished using a zirconium oxide or cerium oxide polishing compound with sub-micron particle size. It has been found that cerium oxide polishes the surface faster, but is generally more difficult to wash.

Den polerte overflaten til glass-substratet 13 blir så vasket ved en spesiell tre-trinns prosess. Først blir overflaten spylt med høyrenset, de-ionisert vann, og børstet med en fin børste for å fjerne mesteparten av poleringsblandingen. Det de-ioniserte vannet har fortrinnsvis en resistivitet på 18 mega-ohm centimeter. Den vaskede overflaten til glass-substratet 13 blir deretter undersøkt ved å undersøke med det blotte øye under et lys ned høy intensitet. Ved dette lyset vil defekter slik som skraper og mikroskopiske fordypninger komme tilsyne som punktkilder med spredt lys. Når en defekt er detektert blir et mikroskop benyttet for å måle dens størrelse. Dersom en defekt er større enn 25 pm, eller dersom antall defekter under 10 pm overskrider 1 pr. kvadrat-millimeter, blir substratet vraket og poleringen og vaske-sekvensen blir gjentatt. Overflaten blir så tørket med aceton for å fjerne ethvert spor av støv og olje påført under behandlingen. The polished surface of the glass substrate 13 is then washed by a special three-step process. First, the surface is rinsed with highly purified, de-ionized water, and brushed with a fine brush to remove most of the polishing compound. The de-ionized water preferably has a resistivity of 18 mega-ohm centimeters. The washed surface of the glass substrate 13 is then examined by examining with the naked eye under a high intensity light. With this light, defects such as scratches and microscopic indentations will appear as point sources with scattered light. When a defect is detected, a microscope is used to measure its size. If a defect is larger than 25 pm, or if the number of defects below 10 pm exceeds 1 per square millimetres, the substrate is scrapped and the polishing and washing sequence is repeated. The surface is then wiped with acetone to remove any traces of dust and oil applied during treatment.

Overflaten blir så spylt med en renseoppløsning og ved det tredje trinnet blir overflaten igjen spylt med de-ionisert vann i en periode på omkring 10 til 20 minutter. The surface is then rinsed with a cleaning solution and in the third step the surface is again rinsed with de-ionized water for a period of about 10 to 20 minutes.

Etter rensingen kan substratet 13 anbringes på et dreiebord som vist på fig. 6, og dreies med en vinkelhastighet på omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt for å tørke overflaten. Fig. 6 viser innretningen for bruk ved dannelse av fotoresistsjiktet 15 på det rensede substratet 13. Innretningen innbefatter en motor 33 hvis hastighet kan varieres for dreiing av substratet på en foreskrevet måte og en dreiearm 35 på hvilken der er anbrakt 3 fordelingsrør 37, 39 og 41 for fordeling av de-ionisert vann, en stanno-kloridoppløsning og en fotoresistoppløsning henholdsvis, i en foreskrevet rekkefølge. After cleaning, the substrate 13 can be placed on a turntable as shown in fig. 6, and is rotated at an angular speed of approximately 750-1000 revolutions per minute to dry the surface. Fig. 6 shows the device for use when forming the photoresist layer 15 on the cleaned substrate 13. The device includes a motor 33 whose speed can be varied for turning the substrate in a prescribed manner and a turning arm 35 on which 3 distribution pipes 37, 39 and 41 for dispensing de-ionized water, a stannous chloride solution and a photoresist solution respectively, in a prescribed order.

Substratet 13 blir først dreiet med en vinkelhastighet på omkring 75-100 omdreininger pr. minutt, mens stannokloriden blir fordelt på den rensede øvre overflaten gjennom for-delingsrøret 39. Dreiearmen 35 blir så dreiet manuelt slik at stannokloriden blir påført hele overflaten. Det antas at stannokloridmolekylene kleber til den rensede overflaten til substratet, og derved fremmer en påfølgende adhesjon av fotoresistoppløsningen. The substrate 13 is first rotated at an angular speed of about 75-100 revolutions per second. minute, while the stannous chloride is distributed on the cleaned upper surface through the distribution pipe 39. The turning arm 35 is then turned manually so that the stannous chloride is applied to the entire surface. It is believed that the stannous chloride molecules adhere to the cleaned surface of the substrate, thereby promoting a subsequent adhesion of the photoresist solution.

Vann blir så fordelt over overflaten gjennom fordelingsrøret 37 for å vaske rest-stannokloridoppløsningen og vinkelhastigheten til motoren 33 blir så øket til omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt for å tørke den vaskede overflaten. Overflaten er nå i egnet stand for fordeling av fotoresist-oppløsningen. Water is then distributed over the surface through the distribution pipe 37 to wash the residual stannous chloride solution and the angular speed of the motor 33 is then increased to about 750-1000 revolutions per minute. minute to dry the washed surface. The surface is now in a suitable condition for distribution of the photoresist solution.

Fotoresistoppløsningen er preparert ved fortynning av Shipley AZ 1350 fotoresistans med Shipley AZ tynner, som er antatt å innbefatte «cellosolve acetat" i et forhold på omkring 3 til 1. Dette gir en oppløsning som har en viskositet på omkring 1,3 centipoise, som så blir filtrert for å fjerne partikler større enn omkring en Vi pm. Viskositeten kan bli målt ved hjelp av vanlig kjent teknikk, slik som f.eks. ved å benytte et Canon-Finske viskometer. The photoresist solution is prepared by diluting Shipley AZ 1350 photoresist with Shipley AZ thinner, which is believed to contain "cellosolve acetate" in a ratio of about 3 to 1. This gives a solution having a viscosity of about 1.3 centipoise, which then is filtered to remove particles larger than about one Vi pm Viscosity can be measured using conventional techniques, such as using a Canon-Finnish viscometer.

Den fortynnede fotoresistoppløsningen blir så fordelt gjennom rørledningen 41 på preparatets overflate, mens substratet blir dreiet ved hjelp av motoren 33 ved en vinkelhastighet på omkring 75-100 omdreininger pr. minutt. Dreiearmen 35 blir så igjen dreiet manuelt slik at oppløsningen blir fordelt over hele substratets radius. Ved hastigheter under omkring 75 omdreininger pr. minutt, kan en film med i hovedsaken jevn tykkelse bli tilveiebrakt kun dersom en relativt lang fordelingstid blir benyttet, men dette øker likeledes forurensningen av sjiktet. Ved hastigheter over omkring 100 omdreininger pr. minutt kan imidlertid radiale streker og strømningsmerker oppstå som følgelig påvirker kvaliteten til den påfølgende opptegningen av informasjoner. Omkring 35 ml med fotoresistoppløsning er nødvendig for fullstendig å dekke et substrat som har en diameter på omkring 35,56 cm. The diluted photoresist solution is then distributed through the pipeline 41 onto the surface of the preparation, while the substrate is rotated by means of the motor 33 at an angular speed of about 75-100 revolutions per minute. minute. The turning arm 35 is then again turned manually so that the solution is distributed over the entire radius of the substrate. At speeds below about 75 revolutions per minute, a film of essentially uniform thickness can only be provided if a relatively long distribution time is used, but this also increases the contamination of the layer. At speeds above about 100 revolutions per minute, however, radial streaks and flow marks may occur which consequently affect the quality of the subsequent recording of information. About 35 ml of photoresist solution is required to completely cover a substrate having a diameter of about 35.56 cm.

Etter at fotoresistoppløsningen har blitt påført overflaten til substratet 13, blir vinkelhastigheten til motoren 33 øket til omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt inntil den har tørket. Dette gir en foreskrevet jevn tykkelse for fotoresistsjiktet 15. After the photoresist solution has been applied to the surface of the substrate 13, the angular speed of the motor 33 is increased to about 750-1000 revolutions per minute. minute until it has dried. This provides a prescribed uniform thickness for the photoresist layer 15.

Under hensyntagen til det faktum at tykkelsen til fotoresistsjiktet 15 er omvendt proporsjonalt med både omdreiningene pr. minutt og temperaturen, kan den spesifikke vinkelhastigheten ved hvilken substratet blir rotert for delvis tørking av fotoresistoppløsningen bli justert på enkel måte for å tilveiebringe foreskrevet tykkelse. Egnet vinkelhastighet kan bli bestemt på vanlig måte ved å benytte f.eks. et Tolansky-interferometer. Denne teknikken gir en indikasjon på den relative tykkelsen til sjiktet og ved å benytte en gjentagende prosess, hvor vinkelhastigheten blir suksessivt justert, kan den optimale hastigheten bli bestemt. Dersom viskositeten og temperaturen til fotoresistoppløsningen kan bli opprettholdt i det vesentlige jevn, er det kun sjelden nødvendig med denne vinkelhastighetskalibreringen. Det er foretrukket at sjiktet har en tykkelse på omkring 1150 Å til 1350 Å og de deretter produserte reproduksjonsskivene vil ha informasjons-lagringsfordypninger av tilsvarende høyde. Taking into account the fact that the thickness of the photoresist layer 15 is inversely proportional to both the revolutions per minute and the temperature, the specific angular rate at which the substrate is rotated for partial drying of the photoresist solution can be easily adjusted to provide prescribed thickness. Suitable angular velocity can be determined in the usual way by using e.g. a Tolansky interferometer. This technique gives an indication of the relative thickness of the layer and by using an iterative process, where the angular velocity is successively adjusted, the optimum velocity can be determined. If the viscosity and temperature of the photoresist solution can be maintained substantially constant, this angular velocity calibration is only rarely necessary. It is preferred that the layer has a thickness of around 1150 Å to 1350 Å and the subsequently produced reproduction disks will have information storage depressions of a corresponding height.

Dersom man har funnet at det tørkede fotoresistsjiktet 15 er defekt på en eller annen måte (f.eks. ved å inneholde radiale streker eller fremmede partikler) kan sjiktet bli fjernet ved å benytte et egnet løsningsmiddel slik som Shipley AZ tynner. Et nytt sjikt kan bli påført slik som ovenfor beskrevet. If it has been found that the dried photoresist layer 15 is defective in some way (e.g. by containing radial lines or foreign particles) the layer can be removed by using a suitable solvent such as Shipley AZ thinner. A new layer can be applied as described above.

Etter fjerningen fra dreiebordinnretningen på fig. 6, blir opptegningsoriginalplaten 11 brent for fullstendig tørking av fotoresistsjiktet 15 og derved maksimalisering av dens eksponente toleranse. Originalplaten blir fortrinnsvis brent ved omkring 80°C i omkring 20 minutter. Disse parametrene må bli holdt innenfor små toleranser for å minimalisere endringene i eksponerte toleranser når påfølgende oppretning av informasjon på et antall opptegningsorIginaler. After removal from the turntable device of fig. 6, the recording original plate 11 is fired to completely dry the photoresist layer 15 and thereby maximize its exponential tolerance. The original plate is preferably fired at about 80°C for about 20 minutes. These parameters must be kept within small tolerances to minimize the changes in exposed tolerances when subsequently setting up information on a number of drawing originals.

Da eksponeringsfølsomheten til hver opptegningsoriginal er litt forskjellig fra hverandre, er det ønskelig å optimali-sere toppintensiteten for den intensitetsmodulerte lysstrålen 19 (fig. 1) for hver original slik at f .m.-inf ormas j ons-signalet kan bli opptegnet med en optimal 50/50 driftssyklus. I samsvar med et annet trekk ved oppfinnelsen, blir et foreskrevet prøvesignal opptegnet på hver original 11 ved flere sett med tilliggende opptegningsspor, idet hvert sett er opptegnet med en annen toppintensitet. Etter at prøvesig-nalsporene har blitt fremkalt, ved å benytte en fremkallings-teknikk beskrevet ovenfor, blir opptegningsoriginalen undersøkt for å bestemme hvilket sporsett som har en driftssyklus nærmest den ønskede 50/50 verdien. Optimaltopp-intensiteten kan derved bli bestemt, og f.m.-informasjons-signalet kan deretter bli opptegnet med optimal driftssyklus på den øvrige ennå ikke eksponerte delen av opptegningsoriginalen . As the exposure sensitivity of each recording original is slightly different from one another, it is desirable to optimize the peak intensity of the intensity modulated light beam 19 (Fig. 1) for each original so that the f.m. information signal can be recorded with a optimal 50/50 duty cycle. In accordance with another feature of the invention, a prescribed test signal is recorded on each original 11 by several sets of adjacent recording tracks, each set being recorded with a different peak intensity. After the sample signal tracks have been developed, using a development technique described above, the recording original is examined to determine which set of tracks has a duty cycle closest to the desired 50/50 value. The optimal peak intensity can thereby be determined, and the f.m. information signal can then be recorded with an optimal duty cycle on the other not yet exposed part of the recording original.

Prøvesignalet har fortrinnsvis en konstant frekvens på omkring 7-8 MHz, og signalet blir fortrinnsvis opptegnet på 3 eller 4 sporsett hvor hvert sett opptegnes med en topp-stråleintensitet som varierer med omkring 5%. Hvert sett blir opptegnet i omkring 10 sekunder, som korresponderer med flere hundre opptegningsspor. Settene er også fortrinnsvis adskilt fra hverandre ved hjelp av smale bånd med ikke-eksponerte deler med fotoresistsjikt 15 og er anbrakt i et smalt område tilliggende den indre periferien av sjiktet. The sample signal preferably has a constant frequency of around 7-8 MHz, and the signal is preferably recorded on 3 or 4 track sets, where each set is recorded with a peak beam intensity that varies by around 5%. Each set is recorded for about 10 seconds, which corresponds to several hundred recording tracks. The sets are also preferably separated from each other by means of narrow bands with non-exposed parts with photoresist layer 15 and are placed in a narrow area adjacent to the inner periphery of the layer.

De påfølgende sett med fremkalte opptegningsspor kan bli lett undersøkt ved å benytte en leselysstråle (ikke vist) for avsøkning av hvert sett for å tilveiebringe en reflektert stråle som har en intensitet som er modulert i samsvar med det opptegnede prøvesignal. Den reflekterte strålen blir modulert i intensitet fordi refleksjonsfaktoren til uendrede deler med fotoresistsjikt 15 er på omkring 4$, mens derimot refleksjonsfaktoren til endrede deler av sjiktet er i det vesentlige null. Den modulerte strålen blir fortrinnsvis detektert og overvåket i en vanlig spektrumsanalysator for å bestemme tilstedeværelsen av annen harmonisk forvrengning. Denne forvrengningen er et minimum når prøvesignalet blir opptegnet med optimal 50/50 driftssyklus. The successive sets of developed recording tracks can be readily examined by using a reading light beam (not shown) to scan each set to provide a reflected beam having an intensity modulated in accordance with the recorded sample signal. The reflected beam is modulated in intensity because the reflection factor of unchanged parts with photoresist layer 15 is about 4$, while, on the other hand, the reflection factor of changed parts of the layer is essentially zero. The modulated beam is preferably detected and monitored in a conventional spectrum analyzer to determine the presence of other harmonic distortion. This distortion is a minimum when the sample signal is recorded with an optimal 50/50 duty cycle.

Det er ikke nødvendig at lesestrålen følger et enkelt opptegningsspor i hvert sett med spor, siden samme prøvesig-nalet blir opptegnet på tilliggende spor. Det må imidlertid bli tatt hensyn til at for å sikre at eksentrisiteten i opptegningsoriginalplaten 11 ikke bevirker at lesestrålen avsøker mer enn ett enkelt sett med spor av gangen. Lesestrålen er fortrinnsvis tilveiebrakt ved hjelp av en helium-neon-laser slik at dens bølgelengde ikke vil eksponere fotoresistsjiktet 15. It is not necessary for the reading beam to follow a single recording track in each set of tracks, since the same sample signal is recorded on adjacent tracks. However, care must be taken to ensure that the eccentricity in the recording original plate 11 does not cause the reading beam to scan more than one single set of tracks at a time. The reading beam is preferably provided by means of a helium-neon laser so that its wavelength will not expose the photoresist layer 15.

Ved å benytte opptegningsinnretningen på fig. 1 med toppintensiteten til skrivestrålen 19 justert til foreskrevet optimumsverdi, blir f.m.-informasjonssignalet så opptegnet på den øvrige ikke-eksponerte delen av fotoresistopptegningssjiktet 15. Opptegningsoriginalen 11 blir så fremkalt for å omforme hvert opptegningsspor til en rekke med avstand anbrakte fordypninger med jevn dybde og bredde og en kontinuerlig endrende lengde. By using the recording device in fig. 1 with the peak intensity of the writing beam 19 adjusted to a prescribed optimum value, the f.m. information signal is then recorded on the remaining unexposed portion of the photoresist recording layer 15. The recording original 11 is then developed to transform each recording track into a series of spaced depressions of uniform depth and width and a continuously changing length.

Den eksponerte opptegningsoriginalen 11 kan bli fremkalt ved en spesiell prosess hvor en rekke fluider blir fordelt på originalen, mens den blir dreiet ved hjelp av et dreiebord av den typen vist på fig. 6, ved en hastighet på omkring 75-100 omdreininger pr. minutt. Ved denne prosessen blir vann først fordelt på det på forhånd fuktede sjiktet, og både vann og en utviklingsoppløsning av foreskrevet normalitet blir fordelt for delvis å fremkalle sjiktet og tilslutt blir fremkaller-oppløsning alene fordelt for fullstendig fremkalling av sjiktet. Det fremkalte fotoresistsjiktet blir så vasket med vann for å fjerne rester av fremkallingsoppløsning, hvoretter vinkelhastigheten til den roterende originalskiven blir øket til omkring 750-1000 omdreininger pr. minutt for å tørke det fremkalte sjiktet. The exposed drawing original 11 can be developed by a special process where a number of fluids are distributed over the original, while it is rotated by means of a turntable of the type shown in fig. 6, at a speed of about 75-100 revolutions per minute. In this process, water is first dispensed onto the pre-moistened layer, and both water and a developing solution of prescribed normality are dispensed to partially develop the layer and finally developer solution alone is dispensed to fully develop the layer. The developed photoresist layer is then washed with water to remove residual developing solution, after which the angular speed of the rotating original disc is increased to about 750-1000 revolutions per minute. minute to dry the developed layer.

Den foretrukne fremkalleroppløsningen blir valgt fra en gruppe innbefattende kaliumhydroksyd og natriumhydroksyd og har en normalitet på omkring 0,230 til 0,240. Fortrinnsvis har trinnet med fordeling av både vann og fremkalleroppløs-ning en varighet på omkring 5 til 10 sekunder, trinnet med fordeling av fremkalleroppløsning alene omkring 20 sekunder, og trinnet med vasking en varighet på omkring 30 til 60 sekunder. The preferred developer solution is selected from a group including potassium hydroxide and sodium hydroxide and has a normality of about 0.230 to 0.240. Preferably, the step of distributing both water and developer solution has a duration of about 5 to 10 seconds, the step of distributing developer solution alone about 20 seconds, and the step of washing a duration of about 30 to 60 seconds.

En matrise, egnet for bruk ved støping av video-skivereproduksjoner, blir fremstilt fra den fremkalte opptegningsoriginalen 11. Matrisen kan bli fremstilt ved først dampavsetning av en jevn metallfilm på omkring 500-600 Å -tykkelse på fotoresistopptegningssjiktet 15, og så elektroplettering og en annen jevn metallfilm på omkring 0,38 mm tykkelse på den første filmen. Den underliggende overflaten til den første filmen tilpasser seg nøyaktig mønsteret til de med avstand anbrakte fordypninger dannet i fotoresistsjiktet, og de to filmene danner sammen et integrert metallsjikt. Dette integrerte metallsjiktet kan bli adskilt fra den underliggende opptegningsskiven og resterende fotoresistmaterlale fjernet ved å benytte en egnet fotoreslsttynner og derved dannelsen av matrisen. Begge metallflimene kan også være dannet av nikkel. A matrix, suitable for use in casting video disc reproductions, is prepared from the developed recording original 11. The matrix can be prepared by first vapor deposition of a uniform metal film of about 500-600 Å thickness on the photoresist recording layer 15, and then electroplating and another uniform metal film of about 0.38 mm thickness on the first film. The underlying surface of the first film precisely conforms to the pattern of the spaced depressions formed in the photoresist layer, and the two films together form an integrated metal layer. This integrated metal layer can be separated from the underlying recording disk and residual photoresist material removed by using a suitable photoresist thinner, thereby forming the matrix. Both metal films can also be formed from nickel.

Originalplatene innbefatter fotoresistopptegnlngssjikt hvor f.m.-informasjonssignaler kan bli opptegnet med høye signal/støyforhold og høy tetthet. Metallmatriser blir fremstilt av disse originalskivene for bruk ved støping av reproduksjoner av originaler. The original plates include photoresist recording layers where f.m. information signals can be recorded with high signal-to-noise ratios and high density. Metal matrices are made from these original disks for use in casting reproductions of originals.

Selv om oppfinnelsen er beskrevet i detalj , er det klart at fagmannen på området kan utføre flere modifikasjoner uten at dette avviker fra hensikten og rammen av oppfinnelsen. Although the invention has been described in detail, it is clear that the expert in the field can carry out several modifications without this deviating from the purpose and scope of the invention.

Claims

1. A method of forming a photoresist layer of a prescribed uniform thickness on a glass substrate for use in the manufacture of a master video disc, comprising dispensing a predetermined amount of photoresist of a predetermined viscosity onto a glass substrate having a flat annular surface, the substrate is rotated, and where the rotation of the photoresist-coated substrate takes place at a speed sufficient to dry the photoresist to a predetermined percentage of dryness, thereby forming a photoresist layer of uniform thickness, and firing the partially dried, photoresist-coated substrate at a predetermined temperature at a for a predetermined time duration to complete the drying of the photoresist layer, characterized in that, prior to the distribution of the photoresist on the substrate, an adhesion promoter is applied to the flat annular surface while the substrate is rotated, washing the surface with water while the substrate is rotated sufficiently to remove residual adhesion promoter promoting agent, with the exception of the molecules of the adhesion promoting agent adhered to the glass substrate surface, and rotating the substrate to dry the annular surface prior to application of the photoresist.

2. Method according to claim 1, characterized in that stannous chloride is used as adhesion promoter.