JP2532590B2 - Optical disc master cleaning device - Google Patents
Optical disc master cleaning deviceInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ビデオディスク、ディジタルオーディオデ
ィスク、静止画・文書ファイルなどの光ディスクを作製
するための光ディスク原盤用洗浄装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disc master cleaning apparatus for producing optical discs such as video discs, digital audio discs, and still image / document files.
従来の技術 一般に光ディスクはその情報密度が極めて大きいこと
や、S/N比が大きく、ノイズが少ないことなどから情報
媒体として有望視され、ビデオディスクやディジタルオ
ーディオディスクとして商品化され、ディジタル信号を
記録，再生する光ディスクとしても近年研究開発が行な
われている。Conventional technology In general, optical discs are promising as information media because of their extremely high information density, large S / N ratio, and low noise, and they have been commercialized as video discs and digital audio discs to record digital signals. In recent years, research and development has been carried out as an optical disc for reproduction.
以下、図面を参照しながら上述した従来の光ディスク
原盤用洗浄装置の一例について説明する。第４図は、従
来の光ディスク原盤用洗浄装置の概要を示すものであ
る。第５図ａ〜ｆは、従来の洗浄装置による洗浄工程の
フローチャートを示すものである。第６図は、洗浄後光
ディスク原盤に密着剤液およびレジスト液を塗布する工
程のフローチャートを示すものである。第４図，第６図
において、１は洗浄液槽、２は純水槽、３はイソプロピ
ルアルコール槽、４はフロンベーパー槽、５は超音波振
動子、６は加熱器、７は密着剤、８はガラス盤、９はレ
ジストである。光ディスクの原盤には、通常基盤として
ガラス盤を用いこのガラス盤を超精密洗浄した後、ガラ
ス盤上に密着剤およびレジスト膜を施し、レーザ光によ
り信号を露光記録し現像することにより信号を形成する
方法により光ディスク原盤を作製している。ここで、光
ディスクに用いる原盤（ガラス盤）の超精密洗浄の方法
を示したのが第４図および第５図であり、これは洗剤槽
１により油脂や研磨剤などを取り除き、次に純水槽２で
洗剤を洗い流し、イソプロピルアルコール槽３で水をイ
ソプロピルアルコールに置換し、フロンベーパー槽４で
乾燥を行なうものである。また、レジスト膜を施す方法
を示したのが第６図である。これは超精密洗浄した光デ
ィスク原盤（ガラス盤）上にレジストの密着度を上げる
ためヘキサメチルジシラザン（HMDS）などの密着剤液を
滴し回転（スピン）により塗布する、あるいはデシケー
タなどの内でヘキサメチルジシラザンを蒸気（ベーパ
ー）により塗布し、その上にレジスト液を滴下し回転
（スピンコート）により塗布するものである。Hereinafter, an example of the above-described conventional optical disc master cleaning device will be described with reference to the drawings. FIG. 4 shows an outline of a conventional optical disc master cleaning device. 5A to 5F show a flowchart of the cleaning process by the conventional cleaning device. FIG. 6 shows a flow chart of the process of applying the adhesive liquid and the resist liquid to the optical disc master after cleaning. In FIGS. 4 and 6, 1 is a cleaning liquid tank, 2 is a pure water tank, 3 is an isopropyl alcohol tank, 4 is a Freon vapor tank, 5 is an ultrasonic vibrator, 6 is a heater, 7 is an adhesive, and 8 is A glass plate and 9 are resists. A glass plate is usually used as the base plate of the optical disc, and after this glass plate is ultra-precision cleaned, an adhesive and a resist film are applied on the glass plate, and a signal is formed by exposing and recording the signal with a laser beam and developing. An optical disk master is manufactured by the method described above. Here, FIGS. 4 and 5 show the method of ultra-precision cleaning of the master (glass plate) used for the optical disk. This is because the detergent tank 1 is used to remove oils and abrasives, and then the pure water tank. The detergent is washed away in 2, the water is replaced with isopropyl alcohol in the isopropyl alcohol tank 3, and the chlorofluorocarbon tank 4 is used for drying. Further, FIG. 6 shows a method of applying a resist film. This is done by dropping an adhesive liquid such as hexamethyldisilazane (HMDS) onto the optical disc master (glass disc) that has been ultra-precision cleaned and applying it by spin (spin), or in a desiccator or the like. Hexamethyldisilazane is applied by vapor (vapor), the resist solution is dropped on it and applied by spin (spin coating).
発明が解決しようとする課題 しかしながら、上記のような構成では、超精密洗浄後
に密着剤液とレジスト液の２つを塗布しなければなら
ず、従って塗布中にホコリや塗布回転中の液のはね返り
などにより欠陥が発生しやすい。また、密着剤のヘキサ
メチルジシラザンが大気中の湿気と反応しアンモンニア
ガスを発生しレジスト感度を低下したり、レジスト膜の
厚みムラや現像時のレジストの剥れなどが発生しやすく
なる。DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention However, in the above-mentioned configuration, it is necessary to apply two of the adhesive solution and the resist solution after the ultra-precision cleaning, and therefore, dust during the application and splash of the solution during the application rotation Defects are likely to occur due to such reasons. Further, hexamethyldisilazane as an adhesive agent reacts with moisture in the atmosphere to generate ammonia gas, which lowers the resist sensitivity, and uneven thickness of the resist film and peeling of the resist during development are likely to occur.
本発明は上記課題に鑑み、さらに高品質で高精度の光
ディスクを作製出来る光ディスク原盤用洗浄装置を提供
するものである。In view of the above problems, the present invention provides a cleaning apparatus for an optical disk master, which can manufacture an optical disk of higher quality and higher accuracy.
課題を解決するための手段 上記の課題を解決するために本発明の光ディスク原盤
用洗浄装置は、洗浄装置内にレジスト用の密着剤の槽を
設け、さらに槽において液を潤環ろ過するものである。Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the optical disk master cleaning apparatus of the present invention is provided with a tank of an adhesive agent for resist in the cleaning apparatus, and further liquid-circulation filtration is performed in the tank. is there.
作用 本発明は上記した構成により密着剤やレジストを均一
に塗布し、かつ光ディスク原盤の製造方法を簡素化する
ことにより欠陥などを少なくし品質を向上するものであ
る。Function The present invention is to uniformly coat the adhesive or the resist with the above-described structure and to simplify the manufacturing method of the optical disc master to reduce defects and improve the quality.
実 施 例 以下本発明の一実施例の光ディスク原盤用洗浄装置に
ついて図面を参照しながら説明する。Example An optical disc master cleaning apparatus according to an example of the present invention will be described below with reference to the drawings.
第１図は本発明第１の実施例における光ディスク原盤用
洗浄装置の構成を示すものである。第２図は第１図の内
特に密着剤液槽の構成を示したものである。第１図およ
び第２図において、11は洗浄液槽、12は純水槽、13はイ
ソプロピルアルコール槽、14は密着剤液槽、15はフロン
ベーパー槽、16は冷却コイル、17は密着剤液用タンク、
18は潤環ポンプ、19はフィルターを示すものである。洗
浄装置において、イソプロピルアルコール槽13とフロン
ベーパー槽15との間に密着剤液槽14を設けたものであ
る。密着剤液槽14においては、ヘキサメチルジシラザン
を１〜２％の濃度でフロン液に希釈した液を使用し、光
ディスク原盤用のガラス盤をイソプロピルアルコール槽
13に浸漬した後密着剤液槽14に30秒から１分間浸漬する
ことによりガラス盤表面に密着剤の膜を施すものであ
る。また、密着剤液槽内の密着剤は第２図に示すように
液を潤環ろ過することにより常にきれいにしておく。FIG. 1 shows the configuration of an optical disk master cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 shows the structure of the adhesive agent liquid tank in FIG. In FIGS. 1 and 2, 11 is a cleaning liquid tank, 12 is a pure water tank, 13 is an isopropyl alcohol tank, 14 is an adhesive agent tank, 15 is a Freon vapor tank, 16 is a cooling coil, 17 is an adhesive agent tank. ,
Reference numeral 18 is a ring pump, and 19 is a filter. In the cleaning device, an adhesive liquid tank 14 is provided between an isopropyl alcohol tank 13 and a CFC vapor tank 15. In the adhesive agent tank 14, a solution obtained by diluting hexamethyldisilazane into a CFC solution at a concentration of 1 to 2% is used, and a glass disk for an optical disk master is used in an isopropyl alcohol tank.
After being dipped in the adhesive layer 13, it is immersed in the adhesive agent bath 14 for 30 seconds to 1 minute to form a film of the adhesive agent on the surface of the glass plate. Further, the adhesive agent in the adhesive agent liquid tank is always cleaned by subjecting the solution to ring filtration as shown in FIG.
以下本発明の第２の実施例について図面を参照しなが
ら説明する。第３図は本発明第２の実施例における光デ
ィスク原盤用洗浄装置である。第３図において、21は洗
浄液槽、22は純水槽、23はイソプロピルアルコール槽、
24は密着剤液槽、25はフロンベーパー槽を示すものであ
る。第１図と異なるのは、密着剤液槽24が２つのイソプ
ロピルアルコール槽23の間にあることであり、このよう
にすることによって、フロンベーパー槽25へ密着剤液が
混入し蒸気（ベーパー）として再度ガラス盤に付着する
ことを防ぐようにしたものである。A second embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 3 shows an optical disk master cleaning apparatus according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 3, 21 is a cleaning liquid tank, 22 is a pure water tank, 23 is an isopropyl alcohol tank,
Reference numeral 24 is an adhesive agent tank, and 25 is a CFC vapor tank. The difference from FIG. 1 is that the adhesive solution tank 24 is between the two isopropyl alcohol tanks 23, and by doing so, the adhesive solution is mixed in the CFC vapor tank 25 and vapor (vapor). As a result, it is prevented from adhering to the glass plate again.
発明の効果 以上のように本発明は、光ディスク原盤用洗浄装置に
レジスト膜用の密着剤液槽を設け、さらに密着剤液を潤
環ろ過することにより密着剤およびレジスト膜を均一に
し、欠陥の付着を極端に少なくすることが出来、従って
高精度で高品質の光ディスク原盤を提供することが出来
る。EFFECTS OF THE INVENTION As described above, the present invention provides a cleaning device for an optical disk master with an adhesive solution tank for a resist film, and further wet-filters the adhesive solution to make the adhesive and the resist film uniform, thereby eliminating defects. Adhesion can be extremely reduced, and therefore an optical disc master with high accuracy and high quality can be provided.
第１図は本発明第１の実施例における光ディスク原盤用
洗浄装置の構成図、第２図は密着剤液槽の構成図、第３
図は本発明第２の実施例における光ディスク原盤用洗浄
装置の構成図、第４図は従来の光ディスク原盤用洗浄装
置の構成図、第５図は従来の洗浄装置の工程フローチャ
ート、第６図は従来のレジスト膜作製工程のフローチャ
ートを示すものである。 １……洗浄液槽、２……純水槽、３……イソプロピルア
ルコール槽、４……フロンベーパー槽、５……超音波振
動子、６……加熱器、７……密着剤、８……ガラス盤、
９……レジスト、11,21……洗浄液槽、12,22……純水
槽、13,23……イソプロピルアルコール槽、14,24……密
着剤液槽、15……冷却コイル、16……密着剤液用タン
ク、17……潤環ポンプ、18……フィルター。FIG. 1 is a block diagram of an optical disk master cleaning apparatus in the first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram of an adhesive agent liquid tank, and FIG.
FIG. 4 is a block diagram of an optical disk master cleaning device according to a second embodiment of the present invention, FIG. 4 is a block diagram of a conventional optical disk master cleaning device, FIG. 5 is a process flowchart of a conventional cleaning device, and FIG. It shows a flowchart of a conventional resist film manufacturing process. 1 ... Cleaning liquid tank, 2 ... Pure water tank, 3 ... Isopropyl alcohol tank, 4 ... Freon vapor tank, 5 ... Ultrasonic vibrator, 6 ... Heater, 7 ... Adhesive agent, 8 ... Glass Board,
9 ... Resist, 11,21 ... Cleaning liquid tank, 12,22 ... Pure water tank, 13,23 ... Isopropyl alcohol tank, 14,24 ... Adhesive agent liquid tank, 15 ... Cooling coil, 16 ... Adhesion Liquid agent tank, 17 …… moistening pump, 18 …… filter.
Claims (2)
このアルコール槽に続くレジスト用の密着剤液の槽を設
けてなることを特徴とする光ディスク原盤用洗浄装置。1. A water tank, and an alcohol tank following the water tank,
A cleaning device for an optical disk master, which is provided with a tank of an adhesive agent liquid for resist following the alcohol tank.
を設けてなることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の光ディスク原盤用洗浄装置。2. The cleaning apparatus for an optical disk master according to claim 1, wherein the adhesive agent tank is provided with a moist-ring filter for the adhesive agent solution.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161682A JP2532590B2 (en) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | Optical disc master cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63161682A JP2532590B2 (en) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | Optical disc master cleaning device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0212631A JPH0212631A (en) | 1990-01-17 |
| JP2532590B2 true JP2532590B2 (en) | 1996-09-11 |
Family
ID=15739843
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63161682A Expired - Fee Related JP2532590B2 (en) | 1988-06-29 | 1988-06-29 | Optical disc master cleaning device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2532590B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216058A (en) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Kobe Steel Ltd | Surface inspection method of magnesium containing material |
-
1988
- 1988-06-29 JP JP63161682A patent/JP2532590B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0212631A (en) | 1990-01-17 |
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