JP2005032360A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

【課題】磁気記録媒体の高記録密度化を図る上で、強磁性粒子の集合体であるカラムの相互の適切な位置関係を明らかとする。
【解決手段】非磁性支持体上にカラム構造の磁性層を有する磁気記録媒体において、前記カラム構造を、平均粒径５〜１０ｎｍの強磁性金属粒子が３〜７個連なった構造の複数のカラムと、前記カラムを囲み前記カラム間を互いに分離するように配置された非磁性粒子で構成し、かつ、膜厚み方向に隣接する前記カラムの中心間距離Ｘと、膜面内方向に隣接する前記カラムの中心間距離Ｙの比で定義される値Ｙ/Ｘを０．５以上とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、磁気記録媒体に関し、特に、蒸着型の磁気記録媒体であって、強磁性粒子と非磁性粒子からなるカラム構造の薄膜記録媒体に関する。

例えばビデオテープレコーダー（ＶＴＲ）等の分野においては、高画質化を図るために、高記録密度化が一層強く要求されている。これに対応する磁気記録媒体として、金属材料あるいは合金材料からなる強磁性材料をめっきや真空薄膜形成手段によって非磁性支持体上に直接被着させて磁性層を形成した、いわゆる金属磁性薄膜型の磁気記録媒体が提案され、注目を集めている。

ここで、合金材料としてはＣｏ-Ｎｉ合金、Ｃｏ−Ｃｒ合金、Ｃｏ−Ｏ等が挙げられ、真空薄膜形成手段としては、具体的には真空蒸着法、スパッタリング法あるいはイオンプレーティング法等が挙げられる。また、非磁性支持体としては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリアミドあるいはポリイミドフィルム等が用いられる。

この金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、磁性塗料の塗布によって得られる塗布型の磁気記録媒体に比較して、保磁力や残留磁化、角型比等に優れ、短波長での電磁変換特性にも優れる。また、強磁性材料を直接被着させるため、磁性層の厚みを極めて薄くできる。これにより、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さくなり、良好な電磁変換特性が得られる。さらに、磁性層中に非磁性の結合剤や添加剤を混入する必要がないため、磁性材料の充填密度が高まり、磁束密度を高くすることができる。このように、金属磁性薄膜型の磁気記録媒体は、多くの利点を有する。

真空蒸着法によって磁性層が形成される蒸着型の磁気テープ（蒸着テープ）は、生産効率が高いだけでなく、特性も安定している。このことから、蒸着テープはハイバンド８ｍｍ用テープ、民生用デジタルビデオ用テープ、あるいはコンピューターデータ記録用テープ（例えばＡＩＴやＭａｍｍｏｔｈ）として、すでに実用化されている。

薄膜型磁気記録媒体の電磁変換特性をさらに向上させ、より大きな再生出力を得られるようにするため、強磁性金属材料を非磁性支持体に対し斜めに入射させて被着させる真空斜方蒸着法が提案されている。斜方蒸着テープにおいて、磁性粒子は複数の柱状の集合体（カラム）を構成し、このようなカラムが非磁性支持体上に並べられた構造となることが知られている。

一般に、このような磁性層の構造は、カラム構造と呼ばれている。従来、カラム構造としては、強磁性粒子と非磁性粒子がランダムに集合し、一つのカラムを構成するものが知られていた。強磁性粒子と非磁性粒子がランダムに集合したカラムにおいて、強磁性粒子の粒径は一般に１０ｎｍ程度である。

磁気記録媒体の記録密度を向上させるため、さらに高再生出力で、低ノイズの媒体が必要とされている。斜方蒸着テープにおいて、これらの要求を満たすためには、磁気記録媒体のカラム構造を適切に制御する必要がある。このような観点でカラム構造を規定した磁気記録媒体は、特許文献１に開示されている。

特許文献１記載の磁気記録媒体の磁性層は、強磁性粒子が連なったカラムと、カラム間を分離するように配置された非磁性粒子を含む。このカラムは強磁性粒子が３個以上連なった構造を有し、カラムの径は約１５ｎｍ以下である。強磁性粒子はカラムの長手方向に結晶配向し、強磁性粒子の粒径は約１０ｎｍ以下である。

また、特許文献２には、磁性層の成膜レートが強磁性粒子の粒径およびそのばらつきと、カラム構造に影響することが開示されている。特許文献２には、成膜レートを０．５μｍ／ｓ以上、好適には１．０μｍ／ｓ以上とすることにより、強磁性粒子の粒径とそのばらつきが小さくなり、再生出力およびＳ／Ｎ比が向上することが記載されている。上記の特許文献１および２では、磁性層として例えばＣｏ−Ｏ薄膜が形成される。

以上のように、磁気記録媒体の記録密度を向上させる目的で、カラム構造の検討がなされているが、磁性層の膜厚み方向および膜面内方向におけるカラム間隔について規定した磁気記録媒体は開示されていない。このようなカラム間隔によっても、斜方蒸着テープの電磁変換特性は変化する。したがって、磁性粒子の粒径やカラムを構成する磁性粒子の数だけでなく、カラム同士の位置関係についても検討し、適切に制御する必要がある。
特開２００３−６８３１号公報 特開２００３−５９０４０号公報

解決しようとする問題点は、磁気記録媒体の高記録密度化を図る上で、強磁性粒子の集合体であるカラムの相互の適切な位置関係が明らかとなっていない点である。

本発明は、磁気記録媒体の電磁変換特性を向上させるため、磁性層を構成するカラムの膜厚み方向における中心間距離Ｘと膜面内方向における中心間距離Ｙの比Ｙ／Ｘを０．５以上に規定したことを最も主要な特徴とする。好適には、前記カラムは前記強磁性金属粒子が３〜７個連なった構造を有する。好適には、前記強磁性金属粒子の平均粒径は５〜１０ｎｍである。前記磁性層の膜厚は１００ｎｍ以下である。

本発明の磁気記録媒体は、上記の比Ｙ／Ｘを０．５以上としたことにより、電磁変換特性が向上する。これにより、磁気記録媒体の記録密度の向上が可能となる。また、磁性層の膜厚が１００ｎｍ以下であることにより、磁気抵抗効果型磁気ヘッドや巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドの信号検出感度に適合し、これらの高感度ヘッドを記録信号の再生に用いることが可能となる。これによっても、記録密度を向上させることができる。

以下に、本発明の磁気記録媒体の実施の形態について、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態の磁気記録媒体の断面図である。図１に示すように、非磁性支持体１上に磁性層２が形成されている。磁性層２の上層に保護膜３、さらにトップコート層４が形成されている。磁性層２は真空斜方蒸着によって形成され、強磁性粒子または強磁性粒子と非磁性粒子が連なったカラム５を含む構造（斜方柱状構造）となっている。

図２は図１の磁性層２を模式的に示す断面図の一例である。磁性層２は強磁性粒子１１と非磁性粒子１２を含む。強磁性粒子１１が３〜５個連なって一つのカラムが構成される。非磁性粒子１２は、強磁性粒子１１からなるカラムの間に充填されている。このような強磁性粒子と非磁性粒子は、電子線回折や等価型電子顕微鏡を用いた高分解能観察により識別できる。また、これらの手法と元素マッピングの手法とを組み合わせて、磁性層の微細構造が解析される。元素マッピングの手法としてはエネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）やエネルギーフィルター法が挙げられる。

電磁変換特性を良好とするには、一つのカラムの径（カラム径）１３は１５ｎｍ以下であることが好ましい。また、強磁性粒子１１の平均粒径は１０ｎｍ以下、さらに好適には５〜１０ｎｍであることが好ましい。強磁性粒子をさらに微細化すると、超常磁性を示すようになり、残留磁化がなくなる。強磁性粒子が超常磁性を示す粒径は、磁気異方性を用いて理論的に計算することが可能である。例えば、コバルト粒子の場合には、粒径がほぼ２．６ｎｍ以下になると、超常磁性を示すようになり、磁気記録を行うことはできなくなる。

強磁性粒子の粒径を上記の範囲内とすることにより、磁気記録媒体の記録密度を上げ、ノイズを低減することが可能となる。また、磁性粒子が連なったカラムは直線状ではなく、わずかに曲がった形状となるが、カラム内の磁性粒子のｃ軸方向のばらつきが２０°以内となるように磁性粒子を結晶配向させる。

図２の例において、強磁性粒子１１はＣｏ粒子であり、非磁性粒子１２は酸素含有量が高いＣｏＯ粒子である。ＣｏＯは反強磁性体で、ネール温度が約３００Ｋであることが知られている。ネール温度が室温に極めて近いため、Ｃｏの磁気異方性に大きな影響を及ぼすことはない。

図２に示すように、膜厚み方向に隣接するカラムの中心間の距離１４の平均値を、膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘとする。また、膜面内方向に隣接するカラムの中心間の距離１５の平均値を、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙとする。本発明の磁気記録媒体によれば、比Ｙ／Ｘを０．５以上とする。比Ｙ／Ｘが０．５未満の場合、良好な電磁変換特性が得られない。

ヘッドの飽和を防止して、ヘッドの検出感度に対応した再生を行うには、異方性磁気抵抗効果型ヘッド（ＡＭＲヘッド）で再生する場合、磁性層２の残留磁化量Ｍｒと膜厚δとの積Ｍｒ・δの値を７〜２５ｍＡとすることが好ましい。また、巨大磁気抵抗効果型ヘッド（ＧＭＲヘッド）で再生する場合には、積Ｍｒ・δの値を５〜１５ｍＡとすることが好ましい。

磁性層２の残留磁化量Ｍｒは、強磁性粒子の密度や種類によって変動するが、積Ｍｒ・δの値を上記の範囲内とするには、磁性層の膜厚δを、ＡＭＲヘッドで再生する場合に１００ｎｍ以下、さらに好適には４０〜６０ｎｍとする。また、ＧＭＲヘッドで再生する場合は膜厚δを８０ｎｍ以下、さらに好適には２０〜４０ｎｍとする。

図３は、本実施形態の磁気記録媒体の磁性層を形成するための蒸着装置を表す概略図である。図３に示すように、非磁性支持体１は供給リール２１から供給され、クーリングドラム２２上で非磁性支持体１に磁性層が斜方蒸着される。クーリングドラム２２は、例えば−２０°程度に冷却され、これにより非磁性支持体１の熱変形が防止されている。磁性層が蒸着された非磁性支持体１は、巻き取りリール２３によって巻き取られる。電子銃２４からルツボ２５内の蒸着源２６に電子ビーム２７を照射して、磁性層を成膜する。蒸着源２６としては、前述した各種金属磁性材料が用いられる。蒸着雰囲気は、バルブ２８を介して接続された真空ポンプにより、例えば１×１０^−１〜１×１０^−３Ｐａ程度に減圧される。

斜方蒸着を行う際に、蒸着雰囲気に少なくとも酸素ガス導入管２９から酸素ガスを導入し、磁性層を例えばＣｏ−Ｏ薄膜、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ薄膜等の酸素含有膜としてもよい。これにより、磁性層の結晶粒が微細化され、媒体ノイズを低減することができる。酸素ガス導入管２９は、金属蒸気の非磁性支持体１に対する入射角が例えば４５°となる部分の近傍に酸素を導入する。これと異なる位置、例えば金属蒸気の非磁性支持体１に対する入射角が９０°となる部分の近傍等に、他の酸素ガス導入管を配置してもよい。

本実施形態の磁気記録媒体の非磁性支持体１の材料としては、ポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリカーボネート等に代表されるような高分子材料が用いられる。

また、磁性層２を構成する金属磁性材料としては、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等の強磁性材料やＣｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｃｏ−Ｐｔ系合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｐｔ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ系合金等や、Ｃｏ−Ｃｒ系合金等が挙げられる。

図示しないが、非磁性支持体１と磁性層２との間には、適当なバリア層を設けてもよい。バリア層としては例えばＣｒ薄膜やＳｉＯ_２膜等、非磁性材料からなる層が用いられる。図１に示すように、磁性層２上層には保護膜３を形成することが望ましい。保護膜３の材料としてはグラファイト、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）、ダイヤモンド、ＳｉＯ_２等を用いることができるが、薄膜強度からはＤＬＣが特に好ましい。保護膜３は例えばスパッタ法や化学気相成長法（ＣＶＤ法）により形成できる。

磁気記録媒体の走行性や耐久性を向上させるため、保護膜３の上層にトップコート層４を形成してもよい。トップコート層４は、例えばフッ素系潤滑剤、好適にはパーフルオロポリエーテル構造を有するフッ素系潤滑剤などの公知の潤滑剤を溶剤に溶解させ、磁気記録媒体の最表面に塗布することにより形成できる。トップコート層４は潤滑剤以外の添加剤を含有してもよい。また、磁気記録媒体の走行性や耐久性を向上させるため、非磁性支持体１の磁性層２と反対側の面に、例えばカーボンブラックを含有するバックコート層（不図示）を形成してもよい。

上記の図１に示す磁気テープを、以下のように作製した。まず、非磁性支持体１となる高分子フィルム上に、斜方蒸着法によりＣｏ−Ｏ系の磁性層２を膜厚５０ｎｍで形成した。斜方蒸着は、テープライン速度を１００ｍ／min.として、酸素ガスを蒸着雰囲気に２箇所から導入して行った。トータル酸素導入量は０．６５ｓｌｍとした。また、蒸着時真空度は７×１０^−２Ｐａとした。磁性層２上に、ＣＶＤ法により保護膜３を形成し、その上にトップコート４を施した。

実施例１の磁気テープの磁気特性は、飽和磁束密度Ｂｓが４５０ｍＴ、保磁力Ｈｃが１３０ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０．５μｍ（キャリア周波数１２ＭＨｚ）としてＡＭＲヘッドで再生した場合、比較例１（後述）を基準にして再生出力で＋２．２ｄＢ、Ｃ／Ｎ比で＋３．０ｄＢという結果が得られた。Ｃ／Ｎ測定におけるノイズレベルは、記録波長０．５μｍ（キャリア周波数１２ＭＨｚ）を記録した場合におけるスペクトラムにおける、１０ＭＨｚのノイズレベルと１４ＭＨｚのノイズレベルの平均値とした。

この磁気テープの断面試料をミクロトーム法により作製し、透過型電子顕微鏡で観察した。得られた高分解能像にフーリエ変換による画像処理を行い、磁性粒子（Ｃｏ）と非磁性粒子（ＣｏＯ）の分離を試みたところ、図２のようなカラム構造となっていた。図２に示すように、強磁性粒子１１がほぼ１列に並び、それらを非磁性粒子１２が分離していた。

強磁性粒子１１の粒径は５〜１０ｎｍの間に分布し、平均粒径は７ｎｍであった。また、強磁性粒子１１により構成されたカラムの径１３は６〜１１ｎｍであった。強磁性粒子の繋がりは平均して３〜５個であった。さらに、膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘ１４と、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙ１５の比Ｙ/Ｘは０．５であった。

トータル酸素量を０．７ｓｌｍとしたことを除き、実施例１と同様に磁気テープを作製し、評価を行った。磁気特性は飽和磁束密度Ｂｓが４５０ｍＴ、保磁力Ｈｃが１５０ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０.５μｍとしてＡＭＲヘッドで再生した場合、比較例１を基準にして再生出力で＋２．０ｄＢ、Ｃ／Ｎ比で＋２．５ｄＢという結果が得られた。

断面試料を透過型電子顕微鏡で観察した結果、図４に示すようなカラム構造となっていた。実施例１と同様に、強磁性粒子３１がほぼ１列に並び、それらを非磁性粒子３２が分離していた。強磁性粒子３１の径の分布と平均粒径およびカラムの径３３は、実施例１と同様であった。実施例１と比較すると、磁性粒子の繋がりがやや多く、６〜７個の繋がりが見られた。また、膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘ３４と、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙ３５の比Ｙ/Ｘは、実施例１に比べてやや大きく０．６であった。

テープライン速度を５０ｍ／min.として、磁性層２の膜厚を１００nｍとし、トータル酸素導入量を０．３３ｓｌｍとしたことを除き、実施例１と同様に磁気テープを作製し、評価を行った。磁気特性は飽和磁束密度Ｂｓが４５０ｍＴ、保磁力Ｈｃが１１０ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０.５μｍとしてＡＭＲヘッドで再生した場合、比較例１を基準にして再生出力で＋３．０ｄＢ、Ｃ／Ｎ比で＋２．５ｄＢという結果が得られた。

断面試料を透過型電子顕微鏡で観察した結果、図２に示すようなカラム構造となっていた。実施例１〜２と同様に、強磁性粒子１１がほぼ１列に並び、それらを非磁性粒子１２が分離していた。強磁性粒子１１の径の分布と平均粒径は、実施例１〜２と同様であった。また、強磁性粒子１１により構成されたカラムの径１３は６〜９ｎｍであった。強磁性粒子の繋がりは実施例１と同程度であり、平均して３〜５個であった。また、膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘ１４と、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙ１５の比Ｙ/Ｘは、実施例１と同程度であり０．５であった。

トータル酸素導入量を０．４０ｓｌｍとしたことを除き、実施例３と同様に磁気テープを作製し、評価を行った。磁気特性は飽和磁束密度Ｂｓが４００ｍＴ、保磁力Ｈｃが１３０ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０.５μｍとしてＡＭＲヘッドで再生した場合、比較例１を基準にして再生出力で＋３．２ｄＢ、Ｃ／Ｎ比で＋２．２ｄＢという結果が得られた。

断面試料を透過型電子顕微鏡で観察した結果、図４に示すようなカラム構造となっていた。実施例１〜３と同様に、強磁性粒子３１がほぼ１列に並び、それらを非磁性粒子３２が分離していた。強磁性粒子３１の径の分布と平均粒径は、実施例１〜３と同様であった。また、強磁性粒子３１により構成されたカラムの径３３は６〜１１ｎｍであった。強磁性粒子の繋がりは実施例１よりやや多く、平均して６〜７個であった。また、膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘ３４と、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙ３５の比Ｙ/Ｘは、実施例２と同程度であり０．６であった。

以下に、比較例を示す。
（比較例１）
酸素ガスを蒸着雰囲気に１箇所から導入し、トータル酸素導入量は０．６ｓｌｍとしたことを除き、実施例１と同様に磁気テープを作製し、評価を行った。磁気特性は飽和磁束密度Ｂｓが４５０ｍＴ、保磁力Ｈｃが１００ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０.５μｍとしてＡＭＲヘッドで再生した場合の再生出力およびＣ／Ｎは、他の試料の電磁変換特性の基準としたため、ともに０ｄＢである。

断面試料を透過型電子顕微鏡で観察した結果、図５に示すようなカラム構造となっていた。比較例１のカラム構造は、実施例１〜４の磁性構造に見られるような、磁性粒子がほぼ１列に並んだカラム構造とは異なった。

比較例１の場合、図５に示すように、強磁性粒子４１と非磁性粒子４２とのランダムな集合体によりカラムが形成されていた。強磁性粒子４１の繋がりは見られなかった。強磁性粒子４１の径はほぼ５〜１０ｎｍの間に分布していたが、カラム径４３は１５〜２５ｎｍであり、実施例の試料に比較して明らかに太かった。比較例では、強磁性粒子の繋がりが見られなかったため、膜厚み方向において隣接する強磁性粒子の中心間の距離Ｘ４４の平均値と、膜面内方向において隣接する強磁性粒子の中心間の距離Ｙ４４の比Ｙ／Ｘを求めた。比較例１の比Ｙ／Ｘは、実施例１と同程度で０．５であった。

（比較例２）
酸素ガスを蒸着雰囲気に１箇所から導入し、トータル酸素導入量は０．２８ｓｌｍとしたことを除き、実施例３と同様に磁気テープを作製し、評価を行った。磁気特性は飽和磁束密度Ｂｓが４５０ｍＴ、保磁力Ｈｃが９０ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０.５μｍとしてＡＭＲヘッドで再生した場合、比較例１を基準にして再生出力で＋１．５ｄＢ、Ｃ／Ｎ比で−２．０ｄＢという結果が得られた。

断面試料を透過型電子顕微鏡で観察した結果、比較例１と同様に、図５に示すようなカラム構造となっていた。すなわち、磁性粒子がほぼ一列に並んだカラム構造とは異なり、強磁性粒子４１と非磁性粒子４２とのランダムな集合体によりカラム構造が形成されていた。強磁性粒子４１の繋がりは見られなかった。強磁性粒子４１の径はほぼ５〜１０ｎｍの間に分布していたが、１２ｎｍ以上の大きい強磁性粒子４１も観察された。カラム径４３は比較例１と同様に１５〜２５ｎｍであり、実施例の試料に比較して明かに太かった。また、膜厚み方向に隣接する強磁性粒子の中心間距離Ｘ２４と、膜面内方向に隣接する強磁性粒子の中心間距離Ｙ２５の比で定義される値Ｙ/Ｘは、比較例１と同程度で０．５であった。

（比較例３）
テープライン速度を２００ｍ／min.として、トータル酸素量を１．１ｓｌｍとしたことを除き、実施例１と同様に磁気テープを作製し、評価を行った。磁気特性は飽和磁束密度Ｂｓが４８０ｍＴ、保磁力Ｈｃが９５ｋＡ／ｍであった。また、電磁変換特性は記録波長を０.５μｍとしてＡＭＲヘッドで再生した場合、比較例１を基準にして再生出力で＋１．０ｄＢ、Ｃ／Ｎ比で−１．０ｄＢという結果が得られた。

断面試料を透過型電子顕微鏡で観察した結果、図６に示すようなカラム構造となっていた。実施例１〜４と同様に、強磁性粒子５１がほぼ１列に並んでいて、それらを非磁性粒子５２が分離していた。強磁性粒子５１の径の分布と平均粒径は、実施例１〜４と同様であった。また、強磁性粒子５１により構成されたカラムの径５３は５〜１０ｎｍであった。強磁性粒子の繋がりは実施例１と同程度であり、平均して３〜５個であった。膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘ５４と、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙとの比Ｙ/Ｘは、実施例１〜４よりも小さく０．２であった。

上記の実施例１〜４および比較例１〜３の磁気テープの磁気特性および電磁変換特性を表１にまとめた。

表１に示すように、磁性層中で強磁性粒子がほぼ一列に並んだカラム構造をとり、強磁性粒子が３〜７個繋がり、かつ膜厚み方向のカラム中心間距離Ｘと、膜面内方向のカラム中心間距離Ｙの比Ｙ/Ｘが０．５以上である実施例１〜４では、比較例１〜３よりも磁気特性および電磁変換特性が優れていた。したがって、高密度記録に適した、高出力・低ノイズの磁気テープが得られた。

上記の本発明の実施形態によれば、特にＡＭＲヘッドで再生に適した、高再生出力かつ低ノイズの磁気記録媒体が得られる。本発明の磁気記録媒体の実施形態は、上記の説明に限定されない。例えば、ＧＭＲヘッド等、他の磁気抵抗効果型磁気ヘッドを用いて再生を行う磁気記録媒体に、本発明の磁気記録媒体の磁性層のカラム構造を形成してもよい。また、磁気テープに限らず、例えばディスク等の磁気記録媒体の磁性層に、上記の実施形態と同様なカラム構造を形成してもよい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。

磁気記録媒体の電磁変換特性が向上し、磁気記録媒体の高記録密度化が可能となる。

本発明の磁気記録媒体の一例を示す断面図である。 本発明の磁気記録媒体の磁性層の断面図である。（実施例１、３） 磁性層の形成に用いられる蒸着装置の概略図である。 本発明の磁気記録媒体の磁性層の断面図である。（実施例２、４） 比較例の磁気記録媒体の磁性層の断面図である。（比較例１、２） 比較例の磁気記録媒体の磁性層の断面図である。（比較例３）

符号の説明

１…非磁性支持体、２…磁性層、３…保護膜、４…トップコート層、５…カラム、１１、３１、４１、５１…強磁性粒子、１２、３２、４２、５２…非磁性粒子、１３、３３、４３、５３…カラム径、１４、３４、４４、５４…膜厚み方向のカラム（または強磁性粒子）中心間距離Ｘ、１５、３５、４５、５５…膜面内方向のカラム（または強磁性粒子）中心間距離Ｙ、２１…供給リール、２２…クーリングドラム、２３…巻き取りリール、２４…電子銃、２５…ルツボ、２６…蒸着源、２７…真空ビーム、２８…バルブ、２９…酸素ガス導入管

Claims (5)

1. 非磁性支持体上にカラム構造の磁性層を有する磁気記録媒体であって、前記カラム構造は、強磁性金属粒子の集合体である複数のカラムと、前記カラムを囲み前記カラム間を互いに分離するように配置された非磁性粒子で構成され、かつ、膜厚み方向に隣接する前記カラムの中心間距離Ｘと、膜面内方向に隣接する前記カラムの中心間距離Ｙの比で定義される値Ｙ/Ｘが０．５以上である
   磁気記録媒体。
2. 前記カラムは前記強磁性金属粒子が３〜７個連なった構造を有する
   請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 前記強磁性金属粒子の平均粒径は５〜１０ｎｍである
   請求項１記載の磁気記録媒体。
4. 前記磁性層の膜厚は１００ｎｍ以下である
   請求項１記載の磁気記録媒体。
5. 記録信号が磁気抵抗効果型磁気ヘッドまたは巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドを用いて再生される
   請求項４記載の磁気記録媒体。
   

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