JP2005005505A - Multilayered wiring board and its manufacturing method - Google Patents

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Hideki Terasawa
英己 寺澤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To be able to respond to an increase in signal transmission speed within a substrate and to an increase in capacity. <P>SOLUTION: A multilayered wiring board 11 has such a structure that many insulation layers 12 formed of a thermoplastic resin material with a wiring pattern 13 are stacked, with an optical electric circuit 16 embedded within the insulation layers 12. The optical electric circuit 16 is composed of a light emitting device 17, a photo detector 18, and an optical fiber 19 for connecting these components. In manufacturing the multilayered wiring board 11, a thermoplastic resin sheet 21 which will become the insulation layer 12 is formed with the wiring pattern 13 to fabricate a substrate 20. Several such substrates 20 are stacked up and down, with the components 17, 18, and 19 constituting the optical electric circuit 16 being positioned between the substrates 20, and thereafter heat press is carried out. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、配線パターンが設けられた複数の絶縁層を、積層状態に備えて構成される多層配線基板及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、多層配線基板においては、実装される素子間の接続は、各層に設けられた導体パターンと、層間をつなぐ層間接続部とで実現されている。本出願人は、この種の多層配線基板の絶縁層を構成する材料に、従来のエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂に代えて、熱可塑性樹脂製のシートを用いるようにした製造方法を開発し、先に出願している(例えば特許文献1参照)。
【0003】
この製造方法では、図6に概略的に示すように、絶縁層となる熱可塑性樹脂製のシート1の表面に銅箔をパターニングして導体パターン2を設けると共に、シート1に形成されたビアホール1a内に導電ペースト3を充填して基材4を形成する工程が実行される(a)。そして、前記基材4を多数枚積層し、一括して熱プレスすることにより、基材4(シート1)同士が融着すると共に導電ペースト3が硬化し、もって、多層の絶縁層5間に導体パターン2及び層間接続部6を有する多層配線基板7が得られるのである(b)。
【0004】
尚、本発明に関係する別の先行技術として、下記の特許文献2がある。この特許文献2には、光通信に用いられるプリント配線板において、プリント配線板の端部に光コネクタを取付けると共に、プリント配線板に形成された開孔部に光電気変換素子を取付け、それらの間を接続する光ファイバーケーブルをプリント配線板に埋込む構成を採用することにより、プリント配線板上に実装する他の部品の実装範囲を広げ、また光ファイバーケーブルの破損を防止することが示されている。
【0005】
【特許文献1】
特開2002−246718号公報
【0006】
【特許文献2】
特開平1−292886号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近年、上記したような多層配線基板7にて実現する機能は、非常に高機能化してきており、実装される素子も、数百MHz〜数GHzで動作する高機能CPUや、高速、大容量のメモリ等の大量の情報を高速に入出力するものとなってきている。また、これに伴い、それら素子を接続するバスラインや信号線も、多ビット化や、伝送特性の良いもの、損失の少ないもの、ノイズの少ないもの等が求められてきており、配線パターンのパターニングや材料についての工夫もなされている。
【0008】
しかしながら、上記した多層配線基板7のように、配線パターン(導体パターン2及び層間接続部6)に金属配線を採用したものでは、▲1▼配線間容量などの寄生成分による信号の遅延、▲2▼同要因による信号波形のなまり、▲3▼配線抵抗による損失、▲4▼並列配線数の限界、▲5▼配線間クロストーク、等の問題があり、それらを根本的に解決することができない。つまり、金属配線を採用する限り、信号伝送の高速化、大容量化に限界があり、いずれ、素子の高性能化に基板が対応できなくなることが予測される。
【0009】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、基板内の信号伝送の高速化、大容量化に対応することが可能な多層配線基板及びその製造方法を提供する事にある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明の多層配線基板は、配線パターンに電気的に接続された光電気回路を、絶縁層内に埋込んだ形態で備えるところに特徴を有する(請求項1の発明)。これによれば、基板に実装される素子間の信号伝送を、光信号により行なうことができるので、信号伝送を高速且つ低ノイズで安定して行なうことができる。この結果、基板内の信号伝送の高速化、大容量化に対応することが可能となる。また、光電気回路は絶縁層内に埋込まれるので、基板の表面を部品実装等に有効に利用することが可能となり、言換えれば基板の小型化を図ることができる。
【0011】
この場合、上記光電気回路を、配線パターンに電気的に接続された光電変換素子及びそれに接続された光ファイバを含んで構成することができる(請求項2の発明)。これにより、例えば、基板に実装された素子の電気信号を、光電変換素子(発光素子)によって光信号に変換し、その光信号を導波路としての光ファイバを通して伝送し、別の光電変換素子(受光素子)によって再び電気信号に変換するといった光伝送経路により信号を伝送することができる。
【0012】
このとき、上記光電気回路を、更に光学機能素子を含んだものとすれば(請求項3の発明)、光伝送経路を自在に折曲げるなどバラエティに富んだ光電気回路(光伝送経路)を構成することができ、これと共に、光電気回路の構成部品の配置の自由度が増し、位置決め性や組付け性が向上するなどのメリットを得ることができる。尚、光学機能素子としては、ミラー、ハーフミラー、レンズ、プリズム、回折格子、光スイッチ、光アイソレータ、偏光板、液晶モジュールなどがある。
【0013】
さらに、上記光電変換素子に、波長多重器や分波器を設ける構成としても良く(請求項4の発明)、これにより、光信号の伝送の多重化を図ることができ、構成の複雑化(光ファイバの本数の増加)を抑えながら、並列的に多量のデータを伝送することができる。
【0014】
そして、本発明の多層配線基板の製造方法は、熱可塑性樹脂からなり絶縁層を構成するシートに配線パターンを設けて基材を形成する基材形成工程と、その基材を多数枚積層する積層工程と、積層された基材を一括して加熱しながら加圧することにより一体化する熱プレス工程とを含むと共に、積層工程において、基材間に光電気回路を構成する部品を位置決め状態で配置することにより、配線パターンに電気的に接続された光電気回路を、絶縁層内に埋込まれた形態で設けるようにしたところに特徴を有する(請求項5の発明)。
【0015】
これによれば、熱可塑性樹脂のシートを主体とした基材を複数枚積層する際に、基材間に光電気回路の構成部品を位置決め状態で配置することにより、工程を特に複雑化することなく、絶縁層内に光電気回路を埋込んだ形態で備える多層配線基板を容易に製造することができる。また、このような製造方法を用いることにより、例えば数十層もの多層の基板を一括して製造できて生産性が大幅に向上すると共に、熱硬化性樹脂を用いた場合と比較して寸法精度が高く、リサイクル性にも優れるなどの多大なメリットを得ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化したいくつかの実施例について、図1ないし図5を参照しながら説明する。
(1)第1の実施例
まず、図1ないし図3を参照して、本発明の第1の実施例(請求項1、2、5に対応)について述べる。
【0017】
図1(b)は、本実施例に係る多層配線基板11を概略的に示している。この多層配線基板11は、後述する熱可塑性樹脂材料からなる多数の絶縁層12を積層して構成されており、それら各絶縁層12には、配線パターン13が設けられている。前記配線パターン13は、例えば銅箔からなり絶縁層12の表面(上面)に設けられる表面導体パターン14と、層間の表面導体パターン14を上下に電気的に接続する層間接続部15とを含んでいる。尚、図1では、便宜上、絶縁層12を2層のみに簡略化して図示しているが、実際には、この絶縁層12の層数としては例えば十数層〜数十層の多層に構成することができる。
【0018】
そして、前記絶縁層12内には、光電気回路16が埋込まれた形態で設けられる。図1(a)にも示すように、本実施例では、この光電気回路16は、図で左右に位置して設けられた一対の光電変換素子としての発光素子17及び受光素子18、並びに、左右方向に延びてそれらの間を接続する導波路としての光ファイバ19から構成されている。尚、図1では、便宜上、発光素子17、受光素子18、光ファイバ19の厚みを、絶縁層12の1層分の厚みよりも小さくしているが、絶縁層12の複数層に跨るように設けることもできる。
【0019】
このとき、前記発光素子17及び受光素子18は、夫々絶縁層12内にて前記配線パターン13(層間接続部15)に電気的に接続されている。また、図示はしないが、多層配線基板11の表面(表面導体パターン14が露出している側の面)には、例えば高機能CPUや大容量メモリ等の必要な電子部品が実装されるようになっており、以て、光電気回路16を含んだ所定の電子回路が構成されるようになっている。
【0020】
ここで、上記構成の多層配線基板11を製造するための本実施例に係る製造方法について述べる。多層配線基板11を製造するにあたっては、まず、図2にも示すような基材20を形成する基材形成工程が実行される。この基材20は、図2(e)に示すように、前記多層配線基板11の各絶縁層12を構成する結晶転移型の熱可塑性樹脂からなるシート(フィルム)21に配線パターン13を設けて構成される。
【0021】
この時点では、前記シート21に設けられる配線パターン13は、シート21の表面に、必要な表面導体パターン14を形成すると共に、シート21の要所に形成されたビアホール21a(図2(c)参照)内に導電ペースト22を充填して構成される。前記ビアホール21a内の導電ペースト22が、後に層間接続部15となる。
【0022】
前記シート21は、例えばポリエーテルエーテルケトン(PEEK)樹脂35〜65重量%と、ポリエーテルイミド(PEI)樹脂35〜65重量%とを含んだ材料からなり(商品名「PAL−CLAD」)、厚みが例えば25〜75ミクロンの、多層配線基板11の大きさ(形状)に対応した矩形状をなしている。この樹脂材料は、図3に示すように、例えば200℃付近では軟質となるが、それより低い温度でも高い温度でも硬質となる(さらに高い温度(約400℃)では溶解する)性状を呈し、また、高温から温度低下する際には、200℃付近でも硬質を保つものとなっている。
【0023】
図2は、この基材20を製作する手順を示している。まず、(a)に示すように、シート21の表面(上面)に貼付けられた導体箔この場合例えば厚さ18ミクロンの銅箔23に対して、エッチングにより表面導体パターン14を形成する工程が実行される。(b)に示すように、この表面導体パターン14の形成後、シート21の裏面(下面)には、例えばポリエチレンナフタレート(PEN)製の保護フィルム24が貼付される。
【0024】
次いで、(c)に示すように、保護フィルム24側からの例えば炭酸ガスレーザの照射により、シート21の要所に表面導体パターン14を底面とする有底のビアホール21aを形成する工程が実行される。この場合、炭酸ガスレーザの出力及び照射時間の調整により、表面導体パターン14に穴が開かないようにしている。尚、このビアホール21aの形成には、炭酸ガスレーザ以外にもエキシマレーザ等も使用可能である。また、ドリル加工等の機械的加工も可能であるが、微細な穴を開けるためには、レーザ加工が望ましい。
【0025】
引続き、(d)に示すように、前記ビアホール21a内に、導電ペースト22を充填する工程が実行される。この導電ペースト22は、銅、銀、スズ等の金属粒子に、バインダ樹脂や有機溶剤を加えて混練してペースト状としたものであり、例えばメタルマスクを用いたスクリーン印刷によりビアホール21a内に印刷充填される。導電ペースト22の充填後、(e)に示すように、シート21から保護フィルム24が剥がされ、基材20が完成する。
【0026】
さて、上記のようにして多層配線基板11の各層を構成するための基材20が形成されると、次に、それら複数枚の基材20を、多層配線基板11の最終形態に応じた形態に上下に積層する積層工程が実行される。この積層工程においては、図1(a)に示すように、多数枚(図では便宜上2枚)の基材20が、上下に積層されるのであるが、これと共に、基材20間の所定位置に、上記光電気回路16を構成する部品、即ち、発光素子17、受光素子18、光ファイバ19が位置決め状態で配置される。
【0027】
このとき、詳しく図示はしないが、前記光ファイバ19は、両端部に端末処理が施されており、発光素子17及び受光素子18のホルダに形成された結合穴に、その両端部が差込まれた状態で結合されるようにすることもできる。また、発光素子17及び受光素子18は、その各電極端子が層間接続部15に接触するように位置合せされる。
【0028】
更に、図示はしないが、この積層の際には、図1で最上層を構成する基材20の上面(表面導体パターン13の露出面)側には、例えばポリエチレンナフタレート(PEN)製のフィルムからなるカバーレイヤが配置されるようになっている。このカバーレイヤは、例えば弾性率が1〜1000MPaのものが使用される。尚、前記光電気回路16を構成する部品の厚みによっては、基材20(シート21)に、予めそれら部品が配置される部位に位置して切欠穴を設けるようにしても良い。
【0029】
次いで、上記した積層物を一括して熱プレスする工程が実行される。この熱プレス工程では、上記積層物が真空加圧プレス機にセットされ、例えば200〜350℃に加熱されながら、0.1〜10Mpaの圧力で上下方向に加圧される。このとき、上記各基材20を構成するシート21は、図3に示すような温度に対する弾性率変化を生ずるので、この熱プレスの工程により、各シート21が熱により一旦軟化した状態で加圧されることによって相互に融着し、その後結晶化(硬化)して一体化するようになる。また、これと共に、ビアホール21a内の導電ペースト22が硬化して層間接続部15が形成されるようになる。この熱プレス工程後、前記カバーレイヤは取外される。
【0030】
これにて、図1(b)に示すように、発光素子17及び受光素子18が夫々配線パターン13に電気的に接続されると共に、それらの間が光ファイバ19によって接続された状態で、絶縁層12内に埋込まれるようになり、以て、光電気回路16を埋込まれた形態で備える多層配線基板11が構成されるのである。この多層配線基板11の表面には、前述のように、例えば高機能CPUや大容量メモリ等の必要な電子部品が実装される。
【0031】
以上のように構成された本実施例の多層配線基板11にあっては、実装された電子部品間の信号伝送を、光電気回路16を用いた光信号により行なうことができる。この場合、ある電子部品の電気信号を、発光素子17によって光信号に変換し、その光信号を光ファイバ19を通して伝送し、受光素子18によって再び電気信号に変換するといった光伝送経路により信号を伝送することができる。
【0032】
従って、従来のような金属配線のみによって電気信号を伝送していたものと異なり、▲1▼配線間容量などの寄生成分による信号の遅延、▲2▼同要因による信号波形のなまり、▲3▼配線抵抗による損失、▲4▼並列配線数の限界、▲5▼配線間クロストーク、等の問題を解決でき、信号伝送を高速且つ低ノイズで安定して行なうことができる。この結果、本実施例によれば、多層配線基板11内の信号伝送の高速化、大容量化に対応することが可能となる。また、光電気回路16は絶縁層12内に埋込まれるので、多層配線基板11の表面を部品実装等に有効に利用することが可能となり、言換えれば多層配線基板11の小型化を図ることができるものである。
【0033】
そして、本実施例の多層配線基板11の製造方法によれば、熱可塑性樹脂のシート21を主体とした基材20を複数枚積層する際に、基材20間の所定位置に光電気回路16の構成部品17〜19を配置し、熱プレスを行うことにより、工程を特に複雑化することなく、絶縁層12内に電気的配線と同時に光電気回路16を埋込んだ形態で備える多層配線基板11を容易に製造することができる。しかも、このような製造方法を用いることにより、例えば数十層もの多層配線基板11を一括して製造できて生産性が大幅に向上すると共に、熱硬化性樹脂やセラミックを用いた場合と比較して寸法精度が高く、リサイクル性にも優れるなどの多大なメリットを得ることができるものである。
【0034】
(2)他の実施例
図4は、本発明の第2の実施例(請求項3に対応)を示している。尚、以下に述べる第2、第3の実施例においては、基材20の構成や、多層配線基板の各製造工程などについては、上記第1の実施例と共通するので、上記第1の実施例と共通する部分については、同一符号を付して新たな図示や詳しい説明を省略し、以下、異なる点についてのみ述べる。
【0035】
即ち、本発明の第2の実施例に係る多層配線基板31は、図4(b)に示すように、配線パターン13(表面導体パターン14及び層間接続部15)が設けられた複数の絶縁層12を積層して構成されていると共に、絶縁層12内に、光電気回路32が埋込まれた形態で設けられている。
【0036】
図4(a)にも示すように、本実施例では、前記光電気回路32は、図で左側に設けられた光電変換素子としての発光素子17、一端(左端)がその発光素子17に接続され図で右方に延びる光ファイバ19、光学機能素子としての45°ミラー33、光電変換素子としての受光素子34から構成されている。前記光ファイバ19の他端(右端)が前記45°ミラー33に接続され、前記受光素子34はその45°ミラー33の下面側に重なるように配置されている。
【0037】
このとき、前記受光素子34の受光部は図で上面側に設けられており、45°ミラー33は、光ファイバ19を通して伝送された光信号を下方に90°折曲げて受光素子34に入力させるようになっている。尚、前記発光素子17及び受光素子34は、夫々絶縁層12内にて配線パターン13(層間接続部15)に電気的に接続されていることは勿論である。
【0038】
このように構成された多層配線基板31を製造するにあたっては、やはり、基材20を形成する基材形成工程を経た後、図4(a)に示すように、基材20を多数枚積層する積層工程が実行されるのであるが、基材20間の所定位置に、上記光電気回路32を構成する部品、即ち、発光素子17、光ファイバ19、45°ミラー33、受光素子34が位置決め状態で配置される。そして、積層物を一括して熱プレスする工程が実行されることにより、図4(b)に示すように、光電気回路32を絶縁層12内に埋込まれた形態で備える多層配線基板31が構成されるのである。
【0039】
この第2の実施例の多層配線基板31においては、上記第1の実施例の多層配線基板11と同様に、実装された電子部品間の信号伝送を、光電気回路32を用いた光信号により行なうことができるので、従来のような金属配線のみによって電気信号を伝送していたものと異なり、信号伝送を高速且つ低ノイズで安定して行なうことができる。この結果、多層配線基板31内の信号伝送の高速化、大容量化に対応することが可能となり、また、多層配線基板31の小型化を図ることができる。
【0040】
そして、本実施例では、光電気回路32を光学機能素子(45°ミラー33)を含んで構成したので、光伝送経路を自在に折曲げるなどバラエティに富んだ光電気回路32(光伝送経路)を構成することができ、これと共に、光電気回路32の構成部品の配置の自由度が増し、位置決め性や組付け性が向上するなどのメリットを得ることができる。
【0041】
本実施例では、45°ミラー33を設けたことによって、受光素子34を汎用のもの(素子の面方向に受光部を有するもの)を用いることができて安価に済ませ得ると共に、積層工程におけるその位置合せも容易となる効果が得られる。尚、光学機能素子としては、上記ミラー33の他にも、ハーフミラー、レンズ、プリズム、回折格子、光スイッチ、光アイソレータ、偏光板、液晶モジュールなどを採用することができる。
【0042】
図5は、本発明の第3の実施例(請求項4に対応)に係る多層配線基板41の構成を概略的に示している。この多層配線基板41は、配線パターン13(表面導体パターン14及び層間接続部15)が設けられた複数の絶縁層12を積層して構成されていると共に、絶縁層12内に、光電気回路42が埋込まれた形態で設けられている。本実施例では、光電気回路42は、波長多重器(WDM)43及び分波器44を備えて構成される。
【0043】
即ち、前記波長多重器43は、多層配線基板41内の図で左寄り部位に前後方向に延びて設けられ、その左側に、波長が少しずつ異なる光信号を出力する複数個(図では便宜上4個)の光電変換素子たる発光素子45が前後に並んで設けられる。前記波長多重器43には、図で手前側に位置して1本の光ファイバ46の一端部(左端部)が接続されている。
【0044】
そして、前記分波器44は、多層配線基板41内の図で右端手前側部位に左右方向に延びて設けられ、その下面側に光電変換素子たる受光素子47が設けられている。この分波器44には、前記光ファイバ46の他端部(右端部)が接続されている。図示はしないが、前記受光素子47は、左右に並んで複数(この場合4個)の受光部47aを有して構成されている。
【0045】
詳しい図示及び説明は省略するが、前記波長多重器43は、例えばハーフミラーからなり、前記各発光素子45から出力された複数の異なる波長の光信号を多重化して前記光ファイバ46に出力するようになっている。
【0046】
また、前記分波器44は、例えばフィルタ形のものからなり、前記光ファイバ46を通して入力された光信号(波長多重信号)を波長に応じて選択的に透過あるいは反射することによって分波し、前記受光素子47の各受光部47aに導くようになっている。尚、前記各発光素子45及び受光素子47は、夫々絶縁層12内にて配線パターン13(層間接続部15)に電気的に接続されていることは勿論である。
【0047】
このように構成された多層配線基板41を製造するにあたっては、やはり、基材20を多数枚積層する積層工程において、図5(a)に示すように、基材20間の所定位置に、上記光電気回路42を構成する部品43〜47が位置決め状態で配置され、積層物を一括して熱プレスする工程が実行されることにより、図5(b)に示すように、光電気回路42を絶縁層12内に埋込まれた形態で備える多層配線基板41が構成されるのである。
【0048】
この第3の実施例の多層配線基板41においては、上記第1の実施例の多層配線基板11等と同様に、実装された電子部品間の信号伝送を、光電気回路42を用いた光信号により行なうことができるので、従来のような金属配線のみによって電気信号を伝送していたものと異なり、信号伝送を高速且つ低ノイズで安定して行なうことができる。この結果、多層配線基板41内の信号伝送の高速化、大容量化に対応することが可能となり、また、多層配線基板41の小型化を図ることができる。
【0049】
そして、本実施例では、光電気回路42を波長多重器43及び分波器44を備えて構成したので、光信号の伝送の多重化を図ることができ、構成の複雑化(光ファイバ46の本数の増加)を抑えながら、並列的に多量のデータを伝送することが可能となり、より一層の信号伝送の高速化、大容量化を図ることができるものである。
【0050】
尚、上記実施例では、絶縁層(基材のシート)を構成する結晶転移型の熱可塑性樹脂として、PEEK樹脂とPEI樹脂とを混合したものを採用したが、PEEK樹脂単体、あるいはPEI樹脂単体、さらにはそれらにフィラーを添加したものや、LCP樹脂(液晶ポリマー)等を採用することも可能である。その他、本発明は上記した各実施例に限定されるものではなく、例えば、光電気回路の構成については種々の変形が可能であることは勿論であり、また本発明の多層配線基板の絶縁層は必ずしも熱可塑性樹脂製のものに限定されないなど、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施し得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示すもので、基材の積層時の様子(a)及び完成した多層配線基板(b)を概略的に示す縦断正面図
【図2】基材形成工程を説明するための図
【図3】熱可塑性樹脂材料の温度変化と弾性率との関係を示す図
【図4】本発明の第2の実施例を示す図1相当図
【図5】本発明の第3の実施例を示すもので、多層配線基板の積層時の様子を示す概略的平面図(a)及び多層配線基板の概略的縦断正面図(b)
【図6】従来例を示す図1相当図
【符号の説明】
図面中、11,31,41は多層配線基板、12は絶縁層、13は配線パターン、16,32,42は光電気回路、17,45は発光素子(光電変換素子)、18,34,47は受光素子(光電変換素子)、19,46は光ファイバ、20は基材、21はシート、33はミラー(光学機能素子)、43は波長多重器、44は分波器を示す。
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a multilayer wiring board configured by providing a plurality of insulating layers provided with wiring patterns in a laminated state, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
In general, in a multilayer wiring board, the connection between mounted elements is realized by a conductor pattern provided in each layer and an interlayer connection portion connecting the layers. The present applicant has developed a manufacturing method in which a sheet made of a thermoplastic resin is used instead of a conventional thermosetting resin such as an epoxy resin as a material constituting the insulating layer of this type of multilayer wiring board. Have been filed earlier (see, for example, Patent Document 1).
[0003]
In this manufacturing method, as schematically shown in FIG. 6, a copper foil is patterned on the surface of a thermoplastic resin sheet 1 serving as an insulating layer to provide a conductor pattern 2, and a via hole 1 a formed in the sheet 1. A step of filling the inside with the conductive paste 3 to form the substrate 4 is executed (a). Then, by laminating a large number of the base materials 4 and hot-pressing them together, the base materials 4 (sheets 1) are fused together, and the conductive paste 3 is cured. A multilayer wiring board 7 having the conductor pattern 2 and the interlayer connection 6 is obtained (b).
[0004]
In addition, there exists the following patent document 2 as another prior art relevant to this invention. In Patent Document 2, in a printed wiring board used for optical communication, an optical connector is attached to an end of the printed wiring board, and a photoelectric conversion element is attached to an opening formed in the printed wiring board. It has been shown that by adopting a configuration that embeds the optical fiber cable that connects between them in the printed wiring board, the mounting range of other components mounted on the printed wiring board is expanded, and damage to the optical fiber cable is prevented. .
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-2002-246718 [0006]
[Patent Document 2]
JP-A-1-292886
[Problems to be solved by the invention]
By the way, in recent years, the functions realized by the multilayer wiring board 7 as described above have become very sophisticated, and the mounted elements can be high-performance CPUs operating at several hundred MHz to several GHz, A large amount of information such as a large-capacity memory is being input / output at high speed. As a result, bus lines and signal lines that connect these elements are also required to have multiple bits, good transmission characteristics, low loss, low noise, etc. There are also ideas about materials and materials.
[0008]
However, in the case where metal wiring is used for the wiring pattern (conductor pattern 2 and interlayer connection portion 6) as in the multilayer wiring board 7 described above, (1) signal delay due to parasitic components such as capacitance between wirings, (2) There are problems such as rounding of signal waveform due to the same factor, (3) loss due to wiring resistance, (4) limit of the number of parallel wirings, and (5) crosstalk between wirings, which cannot be fundamentally solved. . That is, as long as the metal wiring is employed, there is a limit to the speeding up of signal transmission and the increase in capacity, and it is predicted that the board will not be able to cope with the higher performance of the element.
[0009]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a multilayer wiring board capable of dealing with high-speed signal transmission and large capacity in the board, and a method for manufacturing the same.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The multilayer wiring board of the present invention is characterized in that a photoelectric circuit electrically connected to a wiring pattern is provided in a form embedded in an insulating layer (invention of claim 1). According to this, since signal transmission between elements mounted on the substrate can be performed by optical signals, signal transmission can be performed stably at high speed and with low noise. As a result, it is possible to cope with an increase in signal transmission speed and capacity in the substrate. Further, since the photoelectric circuit is embedded in the insulating layer, the surface of the substrate can be effectively used for component mounting or the like, in other words, the substrate can be miniaturized.
[0011]
In this case, the photoelectric circuit can be configured to include a photoelectric conversion element electrically connected to the wiring pattern and an optical fiber connected to the photoelectric conversion element (invention of claim 2). Thereby, for example, an electrical signal of an element mounted on a substrate is converted into an optical signal by a photoelectric conversion element (light emitting element), the optical signal is transmitted through an optical fiber as a waveguide, and another photoelectric conversion element ( The signal can be transmitted through an optical transmission path that is converted again into an electrical signal by the light receiving element).
[0012]
At this time, if the photoelectric circuit further includes an optical function element (the invention of claim 3), a variety of photoelectric circuits (optical transmission path) such as a flexible optical transmission path can be formed. In addition to this, the degree of freedom of arrangement of components of the photoelectric circuit is increased, and advantages such as improved positioning and assembling can be obtained. Examples of the optical functional element include a mirror, a half mirror, a lens, a prism, a diffraction grating, an optical switch, an optical isolator, a polarizing plate, and a liquid crystal module.
[0013]
Further, the photoelectric conversion element may be provided with a wavelength multiplexer or a demultiplexer (invention of claim 4), whereby the optical signal transmission can be multiplexed and the configuration becomes complicated ( A large amount of data can be transmitted in parallel while suppressing an increase in the number of optical fibers.
[0014]
And the manufacturing method of the multilayer wiring board of the present invention includes a base material forming step of forming a base material by providing a wiring pattern on a sheet made of a thermoplastic resin and constituting an insulating layer, and a lamination in which a large number of the base materials are stacked. A process and a hot pressing process that integrates by heating and pressing the laminated substrates together, and in the lamination process, the components constituting the photoelectric circuit are arranged in a positioning state between the substrates Accordingly, the photoelectric circuit electrically connected to the wiring pattern is provided in a form embedded in the insulating layer (invention of claim 5).
[0015]
According to this, when laminating a plurality of base materials mainly composed of a sheet of thermoplastic resin, the process is particularly complicated by arranging the components of the photoelectric circuit between the base materials in a positioned state. In addition, it is possible to easily manufacture a multilayer wiring board provided with a photoelectric circuit embedded in an insulating layer. In addition, by using such a manufacturing method, for example, several tens of layers of a multi-layer substrate can be manufactured at a time, and the productivity is greatly improved, and the dimensional accuracy compared with the case of using a thermosetting resin. Therefore, it is possible to obtain great merits such as high recyclability.
[0016]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Several embodiments embodying the present invention will be described below with reference to FIGS.
(1) First Embodiment First, a first embodiment of the present invention (corresponding to claims 1, 2, and 5) will be described with reference to FIGS.
[0017]
FIG. 1B schematically shows a multilayer wiring board 11 according to this embodiment. The multilayer wiring board 11 is formed by laminating a large number of insulating layers 12 made of a thermoplastic resin material, which will be described later, and each of the insulating layers 12 is provided with a wiring pattern 13. The wiring pattern 13 is made of, for example, copper foil and includes a surface conductor pattern 14 provided on the surface (upper surface) of the insulating layer 12 and an interlayer connection portion 15 that electrically connects the surface conductor patterns 14 between the layers up and down. Yes. In FIG. 1, for the sake of convenience, the insulating layer 12 is shown in a simplified form of only two layers, but in actuality, the number of layers of the insulating layer 12 is, for example, a multi-layer of ten to several dozen layers. can do.
[0018]
A photoelectric circuit 16 is embedded in the insulating layer 12. As shown in FIG. 1A, in this embodiment, the photoelectric circuit 16 includes a light emitting element 17 and a light receiving element 18 as a pair of photoelectric conversion elements provided on the left and right sides in the figure, and It comprises an optical fiber 19 as a waveguide extending in the left-right direction and connecting between them. In FIG. 1, for convenience, the thickness of the light emitting element 17, the light receiving element 18, and the optical fiber 19 is smaller than the thickness of one layer of the insulating layer 12, but extends across a plurality of layers of the insulating layer 12. It can also be provided.
[0019]
At this time, the light emitting element 17 and the light receiving element 18 are electrically connected to the wiring pattern 13 (interlayer connection portion 15) in the insulating layer 12, respectively. Although not shown, necessary electronic components such as a high-performance CPU and a large-capacity memory are mounted on the surface of the multilayer wiring board 11 (the surface on which the surface conductor pattern 14 is exposed). Thus, a predetermined electronic circuit including the photoelectric circuit 16 is configured.
[0020]
Here, a manufacturing method according to this embodiment for manufacturing the multilayer wiring board 11 having the above-described configuration will be described. In manufacturing the multilayer wiring board 11, a base material forming step for forming the base material 20 as shown in FIG. 2 is first performed. As shown in FIG. 2 (e), the base material 20 is provided with a wiring pattern 13 on a sheet (film) 21 made of a crystal transition type thermoplastic resin that constitutes each insulating layer 12 of the multilayer wiring board 11. Composed.
[0021]
At this time, the wiring pattern 13 provided on the sheet 21 forms the necessary surface conductor pattern 14 on the surface of the sheet 21 and the via holes 21a formed in the important points of the sheet 21 (see FIG. 2C). ) Is filled with a conductive paste 22. The conductive paste 22 in the via hole 21a becomes the interlayer connection portion 15 later.
[0022]
The sheet 21 is made of, for example, a material containing 35 to 65% by weight of polyetheretherketone (PEEK) resin and 35 to 65% by weight of polyetherimide (PEI) resin (trade name “PAL-CLAD”), A rectangular shape corresponding to the size (shape) of the multilayer wiring board 11 having a thickness of, for example, 25 to 75 microns is formed. As shown in FIG. 3, this resin material becomes soft at, for example, around 200 ° C., but becomes hard at a lower temperature or higher temperature (dissolves at a higher temperature (about 400 ° C.)). Further, when the temperature is lowered from a high temperature, it remains hard even at around 200 ° C.
[0023]
FIG. 2 shows a procedure for manufacturing the base material 20. First, as shown to (a), the process which forms the surface conductor pattern 14 by etching with respect to the conductor foil affixed on the surface (upper surface) of the sheet | seat 21 in this case, for example, the copper foil 23 of thickness 18 microns is performed. Is done. As shown in (b), after the surface conductor pattern 14 is formed, a protective film 24 made of, for example, polyethylene naphthalate (PEN) is attached to the back surface (lower surface) of the sheet 21.
[0024]
Next, as shown in (c), a step of forming a bottomed via hole 21a having the surface conductor pattern 14 as a bottom surface at the main part of the sheet 21 is performed, for example, by irradiation with a carbon dioxide laser from the protective film 24 side. . In this case, a hole is not formed in the surface conductor pattern 14 by adjusting the output of the carbon dioxide laser and the irradiation time. In addition to the carbon dioxide laser, an excimer laser or the like can be used for forming the via hole 21a. In addition, mechanical processing such as drilling is possible, but laser processing is desirable for making fine holes.
[0025]
Subsequently, as shown in (d), a step of filling the via hole 21a with the conductive paste 22 is performed. The conductive paste 22 is a paste formed by adding a binder resin or an organic solvent to metal particles such as copper, silver, tin, etc., and is printed in the via hole 21a by screen printing using a metal mask, for example. Filled. After filling with the conductive paste 22, the protective film 24 is peeled off from the sheet 21 as shown in FIG.
[0026]
Now, when the base material 20 for constituting each layer of the multilayer wiring board 11 is formed as described above, next, the plurality of base materials 20 are formed according to the final form of the multilayer wiring board 11. A stacking process for stacking up and down is performed. In this laminating step, as shown in FIG. 1A, a large number (two for convenience in the figure) of base materials 20 are stacked one above the other. In addition, the components constituting the photoelectric circuit 16, that is, the light emitting element 17, the light receiving element 18, and the optical fiber 19 are arranged in a positioning state.
[0027]
At this time, although not shown in detail, the optical fiber 19 is subjected to terminal treatment at both ends, and both ends are inserted into coupling holes formed in the holders of the light emitting element 17 and the light receiving element 18. It can also be made to be combined in a state. The light emitting element 17 and the light receiving element 18 are aligned so that their electrode terminals are in contact with the interlayer connection 15.
[0028]
Further, although not shown in the drawings, a film made of, for example, polyethylene naphthalate (PEN) is formed on the upper surface (exposed surface of the surface conductor pattern 13) of the base material 20 constituting the uppermost layer in FIG. The cover layer which consists of is arranged. As this cover layer, for example, one having an elastic modulus of 1 to 1000 MPa is used. Depending on the thickness of the components constituting the optoelectric circuit 16, the base material 20 (sheet 21) may be provided with a notch hole in advance at a position where these components are arranged.
[0029]
Subsequently, the process of carrying out the hot press of the above-mentioned laminated body collectively is performed. In this hot pressing step, the laminate is set in a vacuum press machine, and is pressed up and down at a pressure of 0.1 to 10 MPa while being heated to 200 to 350 ° C., for example. At this time, the sheet 21 constituting each of the base materials 20 changes in elastic modulus with respect to the temperature as shown in FIG. 3, so that the sheet 21 is pressed in a state where the sheet 21 is once softened by heat. As a result, they are fused to each other and then crystallized (cured) to be integrated. At the same time, the conductive paste 22 in the via hole 21a is cured to form the interlayer connection 15. After this hot pressing step, the cover layer is removed.
[0030]
Thus, as shown in FIG. 1B, the light emitting element 17 and the light receiving element 18 are electrically connected to the wiring pattern 13 and insulated between them with the optical fiber 19 therebetween. Thus, the multilayer wiring substrate 11 having the photoelectric circuit 16 embedded therein is configured. As described above, necessary electronic components such as a high-performance CPU and a large-capacity memory are mounted on the surface of the multilayer wiring board 11.
[0031]
In the multilayer wiring board 11 of the present embodiment configured as described above, signal transmission between mounted electronic components can be performed by an optical signal using the photoelectric circuit 16. In this case, an electric signal of a certain electronic component is converted into an optical signal by the light emitting element 17, the optical signal is transmitted through the optical fiber 19, and the signal is transmitted through an optical transmission path that is converted again into an electric signal by the light receiving element 18. can do.
[0032]
Therefore, unlike the conventional case where an electric signal is transmitted only by metal wiring, (1) signal delay due to parasitic components such as capacitance between wirings, (2) signal waveform rounding due to the same factor, (3) Problems such as loss due to wiring resistance, (4) limit of the number of parallel wirings, and (5) crosstalk between wirings can be solved, and signal transmission can be performed stably at high speed with low noise. As a result, according to the present embodiment, it is possible to cope with an increase in signal transmission speed and capacity in the multilayer wiring board 11. Further, since the photoelectric circuit 16 is embedded in the insulating layer 12, the surface of the multilayer wiring board 11 can be effectively used for component mounting or the like. In other words, the multilayer wiring board 11 can be miniaturized. It is something that can be done.
[0033]
And according to the manufacturing method of the multilayer wiring board 11 of a present Example, when laminating | stacking the base material 20 which made the sheet | seat 21 of a thermoplastic resin the main body, the photoelectric circuit 16 is provided in the predetermined position between the base materials 20. The multilayer wiring board provided with the configuration in which the photoelectric circuit 16 is embedded in the insulating layer 12 simultaneously with the electrical wiring without arranging the components 17 to 19 and performing hot pressing, without particularly complicating the process. 11 can be manufactured easily. In addition, by using such a manufacturing method, for example, several tens of layers of the multilayer wiring board 11 can be manufactured collectively, and the productivity is greatly improved, and compared with the case where a thermosetting resin or ceramic is used. Therefore, it is possible to obtain great merits such as high dimensional accuracy and excellent recyclability.
[0034]
(2) Other Embodiments FIG. 4 shows a second embodiment (corresponding to claim 3) of the present invention. In the second and third embodiments described below, the configuration of the base material 20 and each manufacturing process of the multilayer wiring board are the same as those in the first embodiment. Portions common to the examples are denoted by the same reference numerals, new illustrations and detailed descriptions are omitted, and only different points will be described below.
[0035]
That is, as shown in FIG. 4B, the multilayer wiring board 31 according to the second embodiment of the present invention has a plurality of insulating layers provided with wiring patterns 13 (surface conductor patterns 14 and interlayer connection portions 15). 12 and a photoelectric circuit 32 is embedded in the insulating layer 12.
[0036]
As shown in FIG. 4A, in this embodiment, the photoelectric circuit 32 includes a light emitting element 17 as a photoelectric conversion element provided on the left side in the drawing, and one end (left end) connected to the light emitting element 17. In the figure, the optical fiber 19 extends rightward, a 45 ° mirror 33 as an optical functional element, and a light receiving element 34 as a photoelectric conversion element. The other end (right end) of the optical fiber 19 is connected to the 45 ° mirror 33, and the light receiving element 34 is arranged to overlap the lower surface side of the 45 ° mirror 33.
[0037]
At this time, the light receiving portion of the light receiving element 34 is provided on the upper surface side in the figure, and the 45 ° mirror 33 bends the optical signal transmitted through the optical fiber 19 by 90 ° downward and inputs it to the light receiving element 34. It is like that. Needless to say, the light emitting element 17 and the light receiving element 34 are electrically connected to the wiring pattern 13 (interlayer connection portion 15) in the insulating layer 12, respectively.
[0038]
In manufacturing the multilayer wiring board 31 configured as described above, a plurality of base materials 20 are laminated as shown in FIG. 4A after a base material forming step for forming the base material 20. Although the lamination process is executed, the components constituting the photoelectric circuit 32, that is, the light emitting element 17, the optical fiber 19, the 45 ° mirror 33, and the light receiving element 34 are positioned at predetermined positions between the base materials 20. It is arranged with. Then, a multilayer press substrate 31 having a photoelectric circuit 32 embedded in the insulating layer 12 as shown in FIG. Is constructed.
[0039]
In the multilayer wiring board 31 of the second embodiment, as in the multilayer wiring board 11 of the first embodiment, signal transmission between the mounted electronic components is performed by an optical signal using the photoelectric circuit 32. Since it can be performed, the signal transmission can be stably performed at high speed and with low noise, unlike the conventional case where the electrical signal is transmitted only by the metal wiring. As a result, it is possible to cope with an increase in signal transmission speed and capacity in the multilayer wiring board 31, and a reduction in the size of the multilayer wiring board 31 can be achieved.
[0040]
In this embodiment, since the photoelectric circuit 32 is configured to include the optical functional element (45 ° mirror 33), the variety of photoelectric circuits 32 (optical transmission path) such as a flexible optical transmission path is provided. At the same time, the degree of freedom of arrangement of the components of the photoelectric circuit 32 is increased, and advantages such as improved positioning and assembling can be obtained.
[0041]
In the present embodiment, by providing the 45 ° mirror 33, a general-purpose light receiving element 34 (having a light receiving portion in the surface direction of the element) can be used, and the cost can be reduced. The effect that alignment becomes easy is acquired. In addition to the mirror 33, a half mirror, a lens, a prism, a diffraction grating, an optical switch, an optical isolator, a polarizing plate, a liquid crystal module, and the like can be used as the optical functional element.
[0042]
FIG. 5 schematically shows the configuration of a multilayer wiring board 41 according to a third embodiment (corresponding to claim 4) of the present invention. The multilayer wiring board 41 is configured by laminating a plurality of insulating layers 12 provided with wiring patterns 13 (surface conductor patterns 14 and interlayer connection portions 15), and in the insulating layer 12, a photoelectric circuit 42. Are provided in an embedded form. In this embodiment, the photoelectric circuit 42 includes a wavelength multiplexer (WDM) 43 and a duplexer 44.
[0043]
That is, the wavelength multiplexer 43 is provided extending in the front-rear direction at the left side portion in the figure in the multilayer wiring board 41, and on the left side thereof is a plurality of optical signals (four in the figure for convenience) for outputting slightly different wavelengths. The light emitting element 45, which is a photoelectric conversion element), is provided side by side. One end portion (left end portion) of one optical fiber 46 is connected to the wavelength multiplexer 43 on the front side in the figure.
[0044]
The duplexer 44 is provided to extend in the left-right direction at a portion on the right-hand side in the drawing in the multilayer wiring board 41, and a light receiving element 47 as a photoelectric conversion element is provided on the lower surface side thereof. The other end (right end) of the optical fiber 46 is connected to the duplexer 44. Although not shown, the light receiving element 47 includes a plurality of (in this case, four) light receiving portions 47a arranged side by side.
[0045]
Although not shown or described in detail, the wavelength multiplexer 43 is formed of, for example, a half mirror, and multiplexes optical signals of different wavelengths output from the light emitting elements 45 and outputs the multiplexed signals to the optical fiber 46. It has become.
[0046]
The demultiplexer 44 is, for example, a filter type, and demultiplexes the optical signal (wavelength multiplexed signal) input through the optical fiber 46 by selectively transmitting or reflecting depending on the wavelength, The light receiving element 47 is guided to each light receiving portion 47a. Of course, each of the light emitting element 45 and the light receiving element 47 is electrically connected to the wiring pattern 13 (interlayer connection portion 15) in the insulating layer 12, respectively.
[0047]
In manufacturing the multilayer wiring board 41 configured as described above, in the laminating process of laminating a large number of base materials 20, as shown in FIG. The components 43 to 47 constituting the photoelectric circuit 42 are arranged in a positioning state, and the step of hot pressing the laminate is performed, whereby the photoelectric circuit 42 is changed as shown in FIG. A multilayer wiring board 41 provided in a form embedded in the insulating layer 12 is configured.
[0048]
In the multilayer wiring board 41 of the third embodiment, as in the multilayer wiring board 11 of the first embodiment, signal transmission between the mounted electronic components is performed using an optical circuit 42. Therefore, unlike the conventional case where the electrical signal is transmitted only by the metal wiring, the signal transmission can be stably performed at high speed and with low noise. As a result, it is possible to cope with an increase in signal transmission speed and capacity in the multilayer wiring board 41, and the multilayer wiring board 41 can be reduced in size.
[0049]
In this embodiment, since the optoelectric circuit 42 includes the wavelength multiplexer 43 and the demultiplexer 44, it is possible to multiplex the transmission of the optical signal and to make the configuration complicated (the optical fiber 46). It is possible to transmit a large amount of data in parallel while suppressing an increase in the number of signals, and further increase the speed and capacity of signal transmission.
[0050]
In the above embodiment, a mixture of PEEK resin and PEI resin is used as the crystal transition type thermoplastic resin constituting the insulating layer (base sheet). However, the PEEK resin alone or the PEI resin alone is used. Furthermore, it is also possible to employ those obtained by adding fillers to them, LCP resin (liquid crystal polymer), or the like. In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, the configuration of the photoelectric circuit can be variously modified, and the insulating layer of the multilayer wiring board of the present invention can be changed. Is not necessarily limited to those made of a thermoplastic resin, and can be implemented with appropriate modifications within a range not departing from the gist.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention, and is a longitudinal sectional front view schematically showing a state (a) at the time of stacking base materials and a completed multilayer wiring board (b). FIG. 3 is a diagram for explaining a forming process. FIG. 3 is a diagram showing a relationship between a temperature change and an elastic modulus of a thermoplastic resin material. FIG. 4 is a diagram corresponding to FIG. 1 showing a second embodiment of the present invention. FIG. 6 shows a third embodiment of the present invention, and is a schematic plan view (a) showing a state of multilayer wiring board being stacked and a schematic longitudinal front view (b) of the multilayer wiring board.
FIG. 6 is a view corresponding to FIG. 1 showing a conventional example.
In the drawing, 11, 31, 41 are multilayer wiring boards, 12 is an insulating layer, 13 is a wiring pattern, 16, 32, 42 are photoelectric circuits, 17, 45 are light emitting elements (photoelectric conversion elements), 18, 34, 47. Is a light receiving element (photoelectric conversion element), 19 and 46 are optical fibers, 20 is a base material, 21 is a sheet, 33 is a mirror (optical functional element), 43 is a wavelength multiplexer, and 44 is a demultiplexer.

Claims (5)

配線パターンが設けられた複数の絶縁層を、積層状態に備えて構成される多層配線基板であって、
前記配線パターンに電気的に接続された光電気回路を、前記絶縁層内に埋込まれた形態で備えることを特徴とする多層配線基板。
A multilayer wiring board configured to have a plurality of insulating layers provided with wiring patterns in a laminated state,
A multilayer wiring board comprising a photoelectric circuit electrically connected to the wiring pattern in a form embedded in the insulating layer.
前記光電気回路は、前記配線パターンに電気的に接続された光電変換素子及びそれに接続された光ファイバを含んで構成されていることを特徴とする請求項1記載の多層配線基板。2. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein the photoelectric circuit includes a photoelectric conversion element electrically connected to the wiring pattern and an optical fiber connected to the photoelectric conversion element. 前記光電気回路は、更に光学機能素子を含んで構成されていることを特徴とする請求項2記載の多層配線基板。3. The multilayer wiring board according to claim 2, wherein the photoelectric circuit further includes an optical functional element. 前記光電変換素子は、波長多重器及び/又は分波器を備えて構成されていることを特徴とする請求項2又は3記載の多層配線基板。4. The multilayer wiring board according to claim 2, wherein the photoelectric conversion element includes a wavelength multiplexer and / or a duplexer. 請求項1ないし4のいずれかに記載の多層配線基板を製造するための方法であって、
熱可塑性樹脂からなり前記絶縁層を構成するシートに、前記配線パターンを設けて基材を形成する基材形成工程と、
前記基材を多数枚積層する積層工程と、
積層された前記基材を一括して加熱しながら加圧することにより一体化する熱プレス工程とを含むと共に、
前記積層工程において、前記基材間に前記光電気回路を構成する部品を位置決め状態で配置することにより、前記配線パターンに電気的に接続された光電気回路を、前記絶縁層内に埋込まれた形態で設けるようにしたことを特徴とする多層配線基板の製造方法。
A method for producing the multilayer wiring board according to claim 1, comprising:
A base material forming step of forming a base material by providing the wiring pattern on a sheet made of a thermoplastic resin and constituting the insulating layer;
A laminating step of laminating a large number of the base materials;
Including a hot press step of integrating the stacked base materials by heating and pressurizing them together,
In the laminating step, the photoelectric circuit electrically connected to the wiring pattern is embedded in the insulating layer by arranging the components constituting the photoelectric circuit between the base materials in a positioning state. A method of manufacturing a multilayer wiring board, characterized in that the multilayer wiring board is provided in a different form.
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