JP2004538131A - ホスホラノアルカン配位子を有する触媒を用いた酸化エチレンと合成ガスからの1,3−プロパンジオールの一段での製造 - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
本発明は酸化エチレンと合成ガスからの脂肪族1,3−ジオール、特に1,3−プロパンジオールの一段での合成に関する。より具体的には、本発明は、1,3−プロパンジオールの一段合成において、穏やかな条件下で良好な収率をもたらし、コストおよび性能の面での優位性を実証する触媒に関する。本発明の触媒は、エーテル溶媒中に溶解された、ビス(ホスホラノ)アルカン配位子の一部類と組み合わせた均一2金属コバルト−ルテニウム触媒を含む。
【背景技術】
【0002】
脂肪族1,3−ジオール、特に1,3−プロパンジオールは、ポリエステルおよびポリウレタン用のモノマー単位として、および環状化合物合成用の出発物質として多くの用途を有している。たとえば、CORTERRA(商標)ポリマーは、1,3−プロパンジオール(以下1,3−PDO)とテレフタール酸から製造される、抜群の特性を特徴とするポリエステルである。当業界では1,3−PDOを合成するための、効率的かつ経済的であり、プロセスの優位性を実証する新たなルートを見出すことに大きな関心がもたれている。
【0003】
米国特許第3463819号および同3456017号は、第3級ホスフィン改変コバルトカルボニル触媒を使用して、酸化エチレンをヒドロホルミル化し、1,3−プロパンジオールおよび3−ヒドロキシプロパナール(以下3−HPA)を製造する方法を教示している。
【0004】
米国特許第5304691号は、ルテニウム触媒と組み合わせたコバルト−第3級ホスフィン配位子を含む改良された触媒系を用いた酸化エチレンの3−ヒドロキシプロパナールおよび1,3−プロパンジオールへの一段でのヒドロホルミル化方法を開示している。米国特許第5304691号では、ヒドロホルミル化反応条件で、オキシラン、具体的には酸化エチレン(以下EO)、ジ第3級ホスフィン改変コバルトカルボニル触媒、ルテニウム助触媒、および合成ガス(一酸化炭素と水素)を不活性反応溶媒中で密に接触させることによって、1,3−PDOおよび3−HPAを製造している。1,2−ビス(9−ホスファビシクロノニル)エタンを二座配位子として配位したコバルト、および共触媒としてトリルテニウム(0)ドデカカルボニルまたはビス[ルテニウムトリカルボニルジクロリド]のどちらかを含む触媒を使用して、最大86〜87モル%のPDO収率を報告している。ジ第3級ホスフィン改変コバルトカルボニル触媒と助触媒を用いた3−ヒドロキシプロパナールの合成を開示している、米国特許第5304686号も参照されたい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
最小限の不純物と副生成物で1,3−PDOを一段で製造するには再循環を行い、1,3−PDO合成の間ならびに生成物の回収および再循環の間で良好な安定性を有する触媒系を必要とする。当技術分野では、1,3−PDOの一段製造において潜在的な利点を実証する代替の触媒系を特定することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上記のことにしたがって、本発明はヒドロホルミル化/水素化の触媒組成物に使用するための新規の配位子の一部類を提供する。本発明の配位子はコストと性能の潜在的な利点を提供する。本発明は、
a)1種または複数の、非配位コバルト化合物を含むコバルト成分と、
b)ホスホラノアルカン配位子で配位されたルテニウムカルボニル化合物を主な部分として含むルテニウム成分
とを含む触媒組成物を提供する。
【0007】
本発明の新規のオキシランヒドロホルミル化触媒は、コバルト−ルテニウム−ホスホラノアルカン錯体であると仮定される錯体を使用する。新触媒の1つの特徴的な点は、米国特許第5304691号の場合のようなコバルトではなく、ルテニウムに配位したホスホラノアルカン配位子を使用することである。多くのホスホラノアルカン配位子、特に二座のビス(ホスホラノ)アルカンが効果的である。
【0008】
本発明は、不活性溶媒中で本発明の触媒組成物の存在下、ヒドロホルミル化条件でオキシランと合成ガスを反応させることを含む、1,3−ジオール製造のための一段プロセスも提供する。
【0009】
具体的には、本発明は、
(a)酸化エチレン、一酸化炭素、水素、非活性反応溶媒、ならびに
(i)1種または複数の非配位コバルトカルボニル化合物、および
(ii)ホスホラノアルカン部分で配位されたルテニウムカルボニル化合物
を含む触媒組成物を反応混合物中で接触させるステップと、
(b)前記混合物を、溶媒の大部分、触媒組成物の少なくとも50重量%、および未反応酸化エチレンを含む上相部、および1,3−プロパンジオールの大部分を含む下相部を含む2相の反応生成混合物を生成するのに有効な時間、30〜150℃の温度および少なくとも690kPa(100psi)の圧力で加熱するステップ
とを含む1,3−プロパンジオールの調製方法を提供する。
【0010】
ここで本発明を、付属の図面を参照して実施例によって説明することとする。
【発明を実施するための最良の形態】
【0011】
不活性反応溶媒中に溶解されている、ビス(ホスホラノ)アルカン配位子の一部類と組み合わせた2金属コバルト−ルテニウム均一触媒系を使用して、
【0012】
【化1】
で表される、酸化エチレンから1,3−PDOへの一段での選択的ヒドロホルミル化/水素化を実証した。たとえば、メチルtert−ブチルエーテル(MTBE)中に溶解したコバルト−ルテニウム−1,2−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)エタン触媒は、EOと合成ガスからのその生成の際、仕込みEOベースで最大70モル%の収率の1,3−PDOをもたらすことができる。
【0013】
一般に、1,3−PDOを合成するための一段プロセスは、不活性反応溶媒の液相溶液中で、30〜150℃および高圧、好ましくは690〜27580kPa(100〜4000psi)で酸化エチレン、一酸化炭素と水素(合成ガス)、ならびに2金属触媒を密に接触させることを含む。この化学反応での重要な要素には、粗オキソ化生成物溶液からの効率的なPDO回収、および活性2金属触媒錯体の再循環が含まれる。
【0014】
本発明では、1,3−ジオールは、オキシラン、Co−Ru−ホスホラノアルカン錯体、反応溶媒、場合によって共触媒および/または助触媒を加圧反応器に仕込み、ヒドロホルミル化条件下で合成ガス(水素と一酸化炭素の混合物)を、適切には1:1〜8:1、好ましくは2:1〜6:1のH2:COモル比で、導入することによって製造する。
【0015】
本発明の方法は、回分形プロセス、連続プロセス、またはその組合せで実施することができる。
【0016】
本発明の好ましい実施形態では、分離した、混合したまたは段階的にした、EO、合成ガスおよび触媒のストリームを反応容器に仕込む。この反応器は、気泡塔または攪拌型オートクレーブなどの加圧反応容器でよく、回分式または連続式で運転することができる。
【0017】
最大10個の炭素原子、好ましくは最大6個の炭素原子のオキシラン、特に酸化エチレンは、本発明の触媒錯体の存在下で、合成ガスとヒドロホルミル化反応することによって、その対応する1,3−ジオールに転化することができる。
【0018】
本発明の本質的な部分はCo−Ru−ホスホラノアルカン錯体の使用である。本発明の錯体は、新規な部類のルテニウム改変触媒を含むと考えられる。この新規な部類の特徴とする点には、対イオンとしてコバルト化合物を有する、ホスホラノアルカン配位子で配位された酸化ルテニウム金属が含まれる。
【0019】
ルテニウム原子の酸化状態はすべて定まっているわけではなく(理論的には、ルテニウムは0〜8個の原子価を有することができる)、ヒドロホルミル化反応の過程でも変化しうる。したがって、ルテニウムとコバルトのモル比は比較的広い範囲で変化することができる。用いた錯体化ルテニウムのすべてを完全に酸化するために、十分なコバルト(0)を加えなければならない。過剰のコバルトを加えてよいが、特に重要ではない。Ru:Coのモル比は、4:1〜1:4、好ましくは2:1〜1:4、より好ましくは1:1〜1:2の範囲で変化できることが好ましい。
【0020】
多くのホスホラノアルカン配位子が、コバルト−ルテニウム触媒カップルを用いた一段でのPDO合成に有効であることが確認された。適切なホスホラノアルカンには以下の式IおよびIIのようなホスホラン置換アルカン化合物が含まれる。
【0021】
【化2】
(式中、式IおよびIIの両方で、Rは低級アルキル、トリフルオロメチル、フェニル、置換フェニル、アラルキル、または環置換アラルキルであり、nは1〜12の整数であり、かつ式IIではAがCCH3 CH、NまたはPである)。RがC1〜C6アルキルであり、nが1〜3である低級アルキルである、式IおよびIIの化合物が好ましい。Rがメチルでnが1〜3である、式IおよびIIの化合物が最も好ましい。
【0022】
そうした化合物の例には、これらに限定されないが、1,2−ビス(ホスホラノ)エタン、1,2−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)エタン、1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン、1,2−ビス[(2S,5S)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン、1,3−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)プロパン、トリス[(2,5−ジメチルホスホラノ)メチル]メタン、トリス[(2,5−ジメチルホスホラノ)エチル]アミンおよび1,1,1−トリス[(2,5−ジメチルホスホラノ)エチル]エタンが含まれる。
【0023】
特に有用なものは、本発明の実施例で実証するように、たとえば、1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン(BDMPE)、1,2−ビス[(2S,5S)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン、およびこの2つのラセミ混合物、ならびに1,2ビス(ホスホラノ)エタンなどの二座のビス(ホスホラノ)アルカンである。
【0024】
適切なコバルト源には、水素と一酸化炭素の雰囲気中での熱処理によって、ゼロ原子価状態に還元された塩類が含まれる。そうした塩の例には、たとえば、酢酸塩やオクタン酸塩などの炭素原子数6〜12個のアルカン酸塩などといったコバルトのカルボン酸塩が好ましいものとして含まれ、また塩化物、フッ化物、硫酸塩およびスルホン酸塩などの鉱酸のコバルト塩が含まれる。これらのコバルト塩の混合物も使用可能である。しかし、混合物を使用する場合は、混合物の少なくとも1成分は、6〜12個の炭素原子のアルカン酸コバルト、好ましくはオクタン酸コバルトであることが好ましい。還元を触媒の使用の前に実施することができ、また、ヒドロホルミル化域でのヒドロホルミル化プロセスと同時に実施することができる。
【0025】
最も良好な結果が得られる対イオンは、1875〜1900cm−1領域、特に1888cm−1領域に特徴的なIR吸収帯を有する、コバルトテトラカルボニルアニオン、[Co(CO)4]−などのコバルトカルボニルであると考えられる。しかし、活性触媒中のこのイオンはこれを改変したものでよい。コバルトカルボニルは、オクタン酸コバルトなどの出発コバルト源を合成ガスと反応させることによって生成させることができる。
【0026】
コバルト:ルテニウム:ホスホラノアルカン配位子のモル化学量論比は、0.5〜4モルのコバルト:0.25〜2モルのルテニウム:0.4〜3モルのホスホラノアルカン配位子の範囲が適切である。好ましい範囲は、1〜3モルのコバルト対0.3〜1.5モルのルテニウム対0.5〜2モルのホスホラノアルカン配位子、たとえば、1:0.7:1.2である。良好な働きを示した配合物は、たとえば、コバルト:ルテニウム:1,2−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)エタンの化学量論モル比が、それぞれ、1:0.67:1.2のものであった。非配位ルテニウムカルボニルは、はるかに有効性が劣ると考えられ、したがって、触媒調製のためには各ルテニウム原子を配位させることが求められる。ルテニウムとコバルトのモル比は1:4〜4:1であることが好ましい。
【0027】
本発明では、コバルト−ルテニウム−ホスホラノアルカン錯体の好ましい調製方法は、すべての触媒成分を同時に合せる自己集合法である。実施例1で実証するように、合成ガス条件下で適切なエーテル溶媒中に溶解されている場合、コバルト−ルテニウム−ホスホラノアルカン錯体を一段で自己集合によって生成させることができる。その条件、特に溶媒は、配位されたコバルト種ではなく配位されルテニウム種が生成するのに好都合なように選択する。Co−配位子種でなくRu−配位種が存在していることは、たとえばIR分析によって確認することができる。
【0028】
以下のような触媒の段階的または逐次的な設計での調製も本発明の範囲内である。段階的調製での第1ステップはRu−ホスホラノアルカン錯体の合成である。これは適当なルテニウム源、たとえばトリルテニウムドデカカルボニルを、選択された配位子と接触させることによって行うことができる。代替として、ルテニウムジカルボニルアセテートポリマーおよびルテニウム(II)トリカルボニルジクロリド、二量体などの、容易に入手できる他のルテニウムカルボニル誘導体を、トリルテニウムドデカカルボニルの代わりに使用することができる。他の代替案には、合成ガス雰囲気下で現場でルテニウムカルボニル種を生成することになる、より安価なルテニウム源の使用が含まれる。より安価なこれらのルテニウム源には、たとえば、酸化ルテニウム(IV)、水和物、塩化ルテニウム(III)およびルテニウム担持炭素を含むことができる。
【0029】
ホスホラノアルカン配位子とルテニウムのモル比は4:1〜1:2、好ましくは約2:1でよい。
【0030】
ルテニウム−ホスホラノアルカン錯体は、たとえば、トリルテニウムドデカカルボニルを、溶媒中で化学量論的量の選択された配位子と、25〜150℃、適切には100〜110℃の範囲の温度で、一酸化炭素または合成ガス雰囲気下1〜24時間(すなわち、完結するまで)で、反応させることによって作製することができる。この反応完結時に、場合によって、分画された物質として前記ルテニウム−配位子錯体を単離することができる。
【0031】
次いで、段階的方法では、Ru−配位子錯体を、レドックス反応によって適切なコバルト化合物と接触させ、この場合も上記の(クリティカルではない)条件で、Ru−Co−配位子錯体を生成させる。適切なコバルト源はオクタン酸コバルトであるが、他のコバルト錯体および塩も使用できる。たとえば、選択されたオクタン酸コバルト、もしあれば、場合によって促進剤を溶液に加え、次いでこれを高温(25〜150℃)で15分間〜24時間保持する。また、場合によって、新規のコバルト−ルテニウム−ホスホラノアルカン錯体を単離して特性を評価してよい。
【0032】
一般に、前記の活性なCo−Ru−ホスホラノアルカン錯体が自己集合により生成するにせよ段階的に生成するにせよ、これは金属−カルボニル領域、特に[Co(CO)4]−アニオンによる1875〜1900cm−1の領域での強力なコバルトカルボニルバンド、およびカチオン性ルテニウムカルボニル種によると仮定される1900〜2200cm−1の領域での3つまたは4つの一連のルテニウム−カルボニルバンドに特徴的なIR吸収帯を示す。
【0033】
これらの化合物から錯体を生成させる条件は決定的に重要ではない。温度および圧力は、ヒドロホルミル化反応について以下に示す範囲内、たとえば25〜150℃で変化してよい。合成ガスを錯体形成の間のガスキャップとして使用することができる。溶媒、好ましくはヒドロホルミル化反応で使用される溶媒を使用することが好ましい。明らかにこの溶媒は、その特性に影響を与えることなく、活性な触媒を溶解させることができなければならない。適切な溶媒には、ヒドロホルミル化プロセスでの使用のために以下に記すエーテル、具体的には、たとえばMTBEなどの分枝アルキルエーテルが含まれる。
【0034】
本発明の触媒組成物を用いる一段でのヒドロホルミル化/水素化では、供給原料中のオキシランとCo−Ru−配位子錯体との最適比率は、使用する個々の錯体に部分的に依存することになる。しかし、Co−Ru−配位子錯体中のオキシランとコバルトのモル比は、一般に2:1〜10,000:1であれば満足されるものであり、50:1〜500:1のモル比が好ましい。
【0035】
オキシランがEOである場合、EOは反応を通じて、反応混合物の全重量ベースで0.2重量%以上、一般に0.2〜20重量%、好ましくは1〜10重量%の範囲の濃度に保持することが好ましい。
【0036】
反応溶媒は不活性でなければならない。その意味は、反応の過程の間に溶媒が消費されないということである。本発明の方法に理想的な溶媒は、反応の過程の間は供給原料および生成物を溶解するが、温度を下げると相分離を起こさせるものということになる。適切な溶媒が米国特許第5304691号に記載されている。アルキルエーテル、具体的には分枝アルキルエーテル、より具体的には第3級炭素原子含有アルキルエーテルよって良好な結果を達成することができる。本発明を実証するために使用した溶媒はメチル−tert−ブチルエーテルであった。
【0037】
促進剤を使用することができる。適切な促進剤が、先に引用した米国特許第5304691号に記載されている。効果的に働き、容易に入手でき、かつEO転化の促進を実証した促進剤の例には、N,N−ジメチルドデシルアミンおよびトリエチルアミンなどの第3級アミン、ならびに酢酸ナトリウムなどのアルカリ塩類がある。
【0038】
供給原料ストリームの成分類を、本発明の触媒錯体の存在下で適切な反応溶媒中で接触させる。前記EO濃度を、たとえば段階的なEO添加によって維持しながら、本発明の方法を連続方式で実施することができる。
【0039】
最も良好な結果を得るためには、一段でのヒドロホルミル化/水素化は、高温高圧の条件下で実施する。反応温度は30〜150℃、好ましくは50〜125℃、最も好ましくは60〜110℃の範囲である。
【0040】
反応圧力(全圧、あるいは不活性なガス希釈剤を使用した場合は分圧)は少なくとも690kPa(100psi)でなければならない。適切な運転圧力は、690kPa(100psi)〜27,580kPa(4000psi)、好ましくは6900〜13,790kPa(1000〜2000psi)、最も好ましくは約10,340kPa(1500psi)±1725kPa(250psi)の範囲である。バッチプロセスの場合、反応は一般に1〜5時間以内に完結するはずである。
【0041】
ヒドロホルミル化反応が終了したら、選択的抽出、分別蒸留、相分離および選択的結晶化などの通常の方法によって生成混合物から1,3−PDOを回収する。未反応の出発物質、ならびに触媒および反応溶媒は、さらに使用するために再循環することができ、再循環することが好ましい。
【0042】
相分離誘発剤を添加することによって、反応混合物の分配を促進することができる。適切な誘発剤には、エチレングリコールなどのグリコール、および、たとえばドデカンなどの線状アルカンが含まれる。そうした誘発剤は、全反応混合物を基準として2〜10重量%、好ましくは4〜8重量%の範囲で反応混合物に添加することになる。他の方法には、1,3−プロパンジオールを反応混合物に添加し、生成物濃度を目標比率までもってゆく方法が含まれる。また、エタノール、プロパノールおよびイソプロパノールなどの類似した極性を有する、混和性のアルコールおよび薬剤を最初に添加し、次いで後続する相分離の誘発に先行して除去することもできる。
【0043】
工業的な運転では、本質的に完全に触媒を反応に再循環する、多数回循環での効率的な触媒回収を必要とすることになる。好ましい触媒回収方法には、先に記した2液相の混合物を分離すること、バルク溶媒相を反応器へ再循環すること、およびそれによって出発触媒の少なくとも60〜90重量%を戻すことが含まれる。
【0044】
プロセスの好ましい運転方法では、高温で均一な反応混合物をもたらし、混合物を冷却した時点で、触媒の多くを含有する上部溶媒相と、1,3−プロパンジオールの大部分を含有する下相部とに、反応混合物の分配を引き起こすように、オキシラン濃度、触媒濃度、溶媒、生成物濃度、反応温度などの反応条件を選択する。そうした分配は生成物の単離および回収、触媒の再循環ならびに溶媒系からの重質残分の除去を容易にする。この方法を相分離触媒再循環/生成物回収方法と称する。
【0045】
このプロセスでは、反応器内容物は、大気圧から反応圧力近傍の範囲の圧力で、沈降させるかまたは適切な容器に移送し、そこで若干もしくはかなり冷却した時点で、相当に1,3−プロパンジオール生成物リッチである、または触媒および溶媒にリッチである、実質的に異なる分離された相が形成される。供給原料材料とさらに反応させるために、コバルトールテニウムーホスホラノアルカン錯体と溶媒とがリッチである相は直接再循環する。生成物1、3−PDOを、通常の方法で生成物リッチ相から回収する。
【0046】
適切なエーテル溶媒中に溶解した場合、オクタン酸コバルトをトリルテニウムドデカカルボニルおよびビス(ホスホラノ)アルカン配位子と組み合わせて含有する配合物は、1,3−PDOの一段での合成をもたらした。MTBE中に溶解した、オクタン酸コバルト−トリルテニウムドデカカルボニル−1,2−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)エタン触媒先駆体は、EOと合成ガスから1,3−PDOを、70モル%超(EO仕込みベース)の収率で生成した。ここで、ヒドロホルミル化は4:1(H2/CO)ガスを用いて90℃で10,340kPa(1500psi)で実施する。一般に、液体生成物は2相を有し、所望の1,3−PDOは重い方の相(B)に濃縮されている(表の「相」の欄参照)。実施例1では、この重い方の相で、推定された1,3−PDO/HPA生成物比は約52で、1,3−PDO/EtOH比は83であり、アセトアルデヒド含有量はわずか0.2%である。
【0047】
前記オキソ化活性溶液は、一般に1850〜1900cm−1、1900〜2200cm−1の領域にある種の印となる(signature)赤外バンドを示す。MTBE中でのEOからの1,3−PDOへ合成の際のCo−Ru−BDMPE系について、これらのスペクトルを図1および2に示す。PDO合成を実施例15に示す。
【0048】
前記Co−Ru触媒溶液に過剰のBDMPEを添加しても、有意の1,3−PDO生成は得られず、また、1900−2200cm−1スペクトル領域での印となる赤外吸収帯も認められない(表3、実施例16参照)。
【0049】
以下の実施例は、本明細書に開示した本発明を例示する助けとなるであろう。実施例は例示の手段としてのみを目的とするものであり、本発明の範囲を制限するものと解釈されるべきでは全くない。当業者は、開示した本発明の趣旨を逸脱することなく、多くの変形形態が可能であることを認識するであろう。
【0050】
(実施例1)
1,3−PDOの調製
必要な温度および圧力の制御部を備えた100mlの攪拌式Parrオートクレーブに、オクタン酸コバルト228mg(0.66ミリモル)、1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン207mg(0.80ミリモル)、乾燥し窒素フラッシュしたメチルtert−ブチルエーテル(MTBE)23ml、トリルテニウムドデカカルボニル93mg(0.48ミリモルRu)、および酢酸ナトリウム17mg(0.21ミリモル)を仕込んだ。オートクレーブを密封し4/1(H2:CO)合成ガスで8960kPa(1300psi)に加圧し、攪拌しながら10,340kPa(1500psi)で130℃で3時間加熱した。加熱が完了した時点で、反応器と含有量を5℃に冷却しガス抜きを行った。反応器系に酸化エチレン(3.6gm、82ミリモル)を加え、4/1(H2:CO)合成ガスで8960kPa(1300psi)に再度加圧にした後、反応器を10,340kPa(1500psi)で90℃に5〜6時間加熱した。必要に応じて追加の合成ガスを供給した。
【0051】
約4℃に冷却し、ガス抜きを行った後、16.00gmのMTBE−溶媒リッチ相と5.07gmの1,3−プロパンジオールリッチ相を含む、21.07gmの2相液体生成物を捕集した。これらの2つの生成物液相(TおよびB)と続く反応器の洗浄水(24.1gm)とのgc分析では、仕込みEOベースで、71モル%の1,3−PDO収率を示した。さらに重い方の相(B)をgc分析した結果は、推定のPDO/HPA生成物比が約52、PDO/EtOH比が83であり、アセトアルデヒド含有量はわずか0.2%である。
(実施例2〜17)
実施例2〜17を実施例1の手順によって実施した。これらの運転では、コバルト−ルテニウム均一触媒を一連のビス(ホスホラノ)アルカン配位子と一緒に使用した。実験データのまとめを付属の表1〜4に示す。ここでW/Wは実験後のParr反応器の水洗浄を指し、NDは検出されなかったことを示す。
【0052】
1,3−PDOの合成を、
a)1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン[BDMPE(R,R)]、1,2−ビス[(2S,5S)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン[BDMPE(S,S)]、そのラセミ混合物、ならびに1,2−ビス(ホスホラノ)エタン(BPE)を含む一連のP−配位子、
b)ある範囲のコバルト:ルテニウム:ホスホラノの初期触媒比、
c)ある範囲の運転温度(80〜100℃)、および圧力(500〜1500psi;3550〜10,340kPa)、および
d)ある範囲の合成ガス(H2/CO)組成、
を用いて実証した。
【0053】
【表1】
【0054】
【表2】
【0055】
【表3】
【0056】
【表4】
【図面の簡単な説明】
【0057】
【図1】EOから1,3−PDOを合成するための一段での転化の間の、コバルト−ルテニウム−1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン(BDMPE)触媒(初期のCo−Ru−BDMPE比が1:0.67:1.2である)の典型的なIRスペクトルを示す図である。
【図2】EOから1,3−PDOへの合成間の、同じくコバルト−ルテニウム−1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン(BDMPE)触媒のカスケードプロットを示す図である。
Claims (10)
- (a)1種または複数の非配位コバルト化合物を含むコバルト成分と
(b)ホスホラノアルカン配位子で配位されたルテニウムカルボニル化合物を主要部分として含むルテニウム成分
とを含む触媒組成物。 - エーテル溶媒中に溶解した請求項1に記載の触媒組成物。
- IおよびIIの両方において、RがC1〜C6アルキルの低級アルキルであり、nが1〜3である請求項3に記載の組成物。
- 式IおよびIIにおいて、Rがメチルである請求項4に記載の組成物。
- ホスホラノアルカンが、1,2−ビス(ホスホラノ)エタン、1,2−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)エタン、1,2−ビス[(2R,5R)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン、1,2−ビス[(2S,5S)−2,5−ジメチルホスホラノ]エタン、1,3−ビス(2,5−ジメチルホスホラノ)プロパン、トリス[(2,5−ジメチルホスホラノ)メチル]メタン、トリス[(2,5−ジメチルホスホラノ)エチル]アミンおよび1,1,1−トリス[(2,5−ジメチルホスホラノ)エチル]エタンからなる群から選択される請求項1に記載の組成物。
- ルテニウム化合物が、ルテニウム(II)トリカルボニルクロリド、トリルテニウムドデカカルボニル、ルテニウムジカルボニルアセテートポリマー、塩化ルテニウム(III)、酸化ルテニウム(IV)またはその水和物、およびルテニウム担持炭素からなる群から選択される請求項1に記載の組成物。
- (a)酸化エチレン、一酸化炭素、水素、非活性反応溶媒、ならびに
(i)1種または複数の非配位コバルトカルボニル化合物、および
(ii)ホスホラノアルカン部分で配位されたルテニウムカルボニル化合物
を含む触媒組成物を反応混合物中で接触させるステップと、
(b)前記混合物を、溶媒の大部分、触媒組成物の少なくとも50重量%、および未反応酸化エチレンを含む上相部、ならびに1,3−プロパンジオールの大部分を含む下相部を含む2相の反応生成混合物を生成させるのに有効な時間、30〜150℃の温度および少なくとも690kPa(100psi)の圧力で加熱するステップ
とを含む1,3−プロパンジオールの調製方法。 - 触媒組成物を、合成ガス条件下で、すべての成分を同時に合せる自己集合法によって製造する請求項8に記載の方法。
- ルテニウム化合物を、合成ガスの存在下で25〜150℃の温度範囲でホスホラノアルカンと反応させ、その後コバルト化合物と25〜150℃の範囲の温度でレドックス反応を受けさせて、触媒組成物を段階的に製造する請求項8に記載の方法。
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