JP2004535068A - 気密封止された外部共振器レーザ・システムおよび方法 - Google Patents

Abstract

【課題】気密封止されたコンテナ内の外部共振器レーザおよび外部共振器レーザを気密封止する方法。
【解決手段】複数の選択可能な波長チャネルにおける送信を可能にするために、外部共振器レーザが様々なメカニズムによって同調可能となる。
【選択図】図１

Description

【技術分野】
【０００１】
本発明は、気密封止された外部共振器レーザ・システムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバによるテレコミュニケーションは、帯域幅の増加のデマンドに常に対応している。一例として、高密度波長分割多重方式（ＤＷＤＭ）によって帯域幅の拡張が達成され、ＤＷＤＭにおいて、複数の異なるデータ・ストリームが単一の光ファイバ内に同時に存在し、各データ・ストリームの変調が異なるチャネル上に出現する。各データ・ストリームは、特定のチャネル波長で作動する半導体トランスミッタ・レーザーに対応する出力ビームに変調され、半導体レーザからの変調出力が、それぞれのチャネルの送信のために単一の光ファイバに纏められる。国際電気通信連合（ＩＴＵ）は、現在約０．４ナノメートル、即ち約５０ＧＨｚのチャネルセパレーションを定めている。このチャネルセパレーションに依れば、現在利用可能なファイバおよびファイバ・アンプの帯域幅の範囲内において、単一の光ファイバによって１２８までのチャネルを伝搬する事が可能である。ファイバ技術における改良と、より広い帯域幅へと常に増加するデマンドによって、将来的にはチャネルセパレーションがより狭くなる事が予想される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ＤＷＤＭシステムにおいて使用されるトランスミッタ・レーザーは、通常、ＩＴＵ波長グリッドを画定する基準エタロンと共に、フィードバック制御ループに関連した基準エタロンによって作動する分散形フィードバック（ＤＦＢ）レーザに基づいている。個々のＤＦＢレーザの製造の際の統計的な変動によって、チャネル中心波長の分布が波長グリッドを横切ってしまい、また、したがって、個々のＤＦＢトランスミッタは単一のチャネルあるいは少数の隣接したチャネルだけにしか使用出来ない。連続波長可変外部共振器レーザが、この問題を克服するために開発されている。
【０００４】
連続波長可変テレコミュニケーション用レーザの到来によって、テレコミュニケーション送信システムに新たな複雑さが発生した。特に、このようなレーザの同調の様態は、使用の際の汚染および劣化に対して影響を受けやすい複数の光学部の表面を含む。以前、連続的に波長可変電気通信レーザに適切な保護を提供するシステムは利用可能ではなかった。このため、このようなレーザのコストは高く、性能寿命は短かった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、コンテナ内に気密封止されたテレコミュニケーション・レーザー装置、および気密封止されたレーザ・システムを使用するレーザ方法を提供する。一般的に、本発明の装置は、外部共振器レーザ、および不活性雰囲気下で外部共振器レーザを収容するために形成される気密封止可能なコンテナを備える。外部共振器レーザは、複数の選択可能な波長チャネルでの送信が出来る様に、様々なメカニズムによって波長が可変であって良い。
【０００６】
外部共振器レーザはゲイン媒体とエンドミラーを備えていて良い。ゲイン媒体は、第１出力面および反射防止コーティングが施されている第２出力面を含むダイオード・エミッタ・チップを備えていて良い。第１の出力面およびエンドミラーが、外部共振器の境界を定め、外部共振器内において、ゲイン媒体の第２出力面が、外部共振器の光路に沿ってコヒーレントなビームをエンドミラーまで放射する。チャネル・セレクタあるいは同様の同調部材が、外部共振器内におけるエンドミラーとエミッタ・チップの間の光路中に位置しても良い。
【０００７】
気密封止可能なコンテナは、エンドミラー、ゲイン媒体および同調素子を備える外部共振器レーザを収容する。不活性雰囲気の下で外部共振器レーザを気密封止する事によって、ゲイン媒体の反射防止（ＡＲ）コーティング、チャネル・セレクタおよび他の光学コンポーネントの表面を保護する事が出来る。気密封止されていない状態において起こり得る外部共振器レーザに関する部品の光学表面上への汚染物質の付着によって、外部共振器レーザのパフォーマンスを低下させ、重要な光学表面の劣化を促進するような収差を引き起こす。本発明によって提供されるように、外部共振器レーザを気密封止することによって、レーザの光学表面の腐食および汚染を防ぐための制御された環境が達成される。
【０００８】
本発明で使用可能な波長可変外部共振器レーザは、グリッド・ジェネレータ、エンドミラーとチャネル・セレクタを調節するために構成された同調装置、および同調とレーザの運転に関与する様々な他の部品を更に備えても良い。これらの部品の多くはレーザ運転中に多量の気体を発生する特性を持ち得、揮発性炭化水素が外部共振器レーザの様々な光学の表面を汚染し、および（または）劣化させ得る。この点において、外部共振器レーザは、注意深い材料選定および気体を放出し得る材料の使用の最小化によって、潤滑材、接着剤、ケーブル絶縁材、および揮発分と残留水分を含んだ他の部品による気体の放出に関連する問題を最小限にするか排除するべく構成される。
【０００９】
ある実施形態において、１つ以上の活性炭ドレンが気密封止された筐体内に封止され、外部共振器レーザの部品から放出される気体によって生成される揮発性炭化水素を収集するために配置されて良い。活性炭ドレンは、レーザの運転中に放出される揮発性有機化合物を吸収またはトラッピングするために、活性炭の大きな表面を形成する。外部共振器レーザの組み立て中に、もしくは気密封止可能な筐体を封止する際に用いられるエポキシ樹脂および潤滑剤から放出される有機炭化水素も、活性炭ドレンによってトラッピングされる。活性炭ドレンによって、波長可変外部共振器レーザの光学表面に、性能を低下させる有機汚染物質が気密封止された筐体において存在しない状態を維持する事が可能になる。
【００１０】
他の実施形態において、１つ以上の水分トラップが気密封止可能なコンテナ内に含まれ、外部共振器レーザの中に存在するポリイミドまたは他の水分を含む絶縁材または材料から放出される水蒸気を集めるために配置されて良い。このような放出された水分は、もしトラッピングされなければ、外部共振器レーザの重要な光学表面上に凝縮し、外部共振器レーザの性能を低下させ、部品の腐食を促進し得る。水分の凝縮は、レーザが使用されていない時の「クールダウン」期間の後に特に問題となる。水分トラップの材料は、様々な乾燥剤を含んで良い。水分トラップは、外部共振器レーザの運転中の性能を低下させて気密封止された筐体内のレーザ部品の腐食を促進する水分が光学の表面および他の場所に凝縮する事を防ぐ。
【００１１】
一実施形態において、気密封止されたコンテナ内にシーリングされた不活性気体は、窒素を含む。ヘリウム、アルゴン、クリプトン、キセノン、あるいは窒素とヘリウムの混合、ネオンとヘリウムの混合、クリプトンとヘリウムの混合、あるいはキセノンとヘリウムの混合を含む様々な混合物の様な不活性気体が気密封止された筐体に収容されていても良い。封止されたコンテナの機密度をテストおよび監視する事を可能にするために、ヘリウムが不活性気体に加えられても良い。気密封止されたコンテナ内に含まれる不活性気体または混合気体は、特定の屈折率あるいは他の光学的性質によって選定されても良い。
【００１２】
本発明の装置は、波長可変外部共振器レーザの光学系の汚染を避けるために、放出された凝縮水分および揮発性炭化水素の双方をトラッピングする犠牲表面を気密封止された筐体内に備えても良い。犠牲表面は、レーザの運転中に周囲の表面よりも低い温度に保たれるように構成され、冷却源によって能動的に冷却され、および（または）、揮発性炭化水素および水蒸気を誘引するヒートシンクの役割をすることにより、受動的に冷却するような材料で作られていて良い。
【００１３】
ある実施形態において、重要な光学表面を選択的に加熱する事が、汚染物質の凝縮を防ぐために使用されても良い。このような加熱は、電力がゲイン媒体に供給されておらず、外部共振器レーザが使用されていない時の凝縮を防ぐために、クールダウン期間中に用いられて良い。レーザが使用されていない際のゲイン媒体の出力面上の反射防止コーティング上への凝集を防ぐべくゲイン媒体の出力面を比較的高温度を保つために、気密封止された筐体の内部または外部に配置された１つ以上の熱源が、ゲイン媒体に電力が供給されていない時に外部共振器レーザのゲイン媒体を加熱するために使用されて良い。この方式による加熱はエンドミラー、同調可能な部材または敏感な光学表面を有する他の要素に対して用いられ、これらの温度を気密封止されたコンテナ内の活性炭ドレン、水分トラップおよび（または）犠牲表面よりも高温に保ち、これらの光学表面の汚染を更に防いでも良い。
【００１４】
本発明は、気密封止された光ファイバ・フィードスルーを貫通して気密封止されたコンテナに延長し、外部共振器レーザの出力面に光学的に接続されて光学出力をそこから受信する光ファイバを備えるテレコミュニケーション・レーザシステムにおいて実施されて良い。気密封止可能なコンテナは、その構成において変化し得るものの、一般には、光ファイバが気密封止可能なコンテナの側面から挿入され得るように構成される。外部共振器レーザの運転に必要な様々な電線が、気密筐体の側面の気密フィードスルーを貫通して気密コンテナへ延長しても良い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図面をより詳細に参照して、説明の目的のために、本発明は図１〜図７に示される装置および方法によって実施される。本願明細書に開示されている基礎概念から逸脱する事無く、本装置が構成に関して、および部分の詳細について変化し得、本方法が、その詳細およびイベントの順序について変化し得ると言う事は言うまでもない。本発明は、外部共振器レーザと共に使用される例によって主に開示される。
【００１６】
図面をより詳細に参照して、説明の目的のために、本発明は図１〜図７に示される装置によって実施される。本願明細書に開示されている基礎概念から逸脱する事無く、本装置が構成に関して、および部分の詳細について変化し得、本方法が、その詳細および行為の順序について変化し得ると言う事は言うまでもない。本発明は、外部共振型ダイオード・レーザ（ＥＣＤＬ）パッケージおよびＥＣＤＬを気密封止する方法に関して主に開示される。しかしながら、本発明が他のレーザ装置あるいは光学系と共に使用されてもよいことは、当業者にとっては非常に明白であろう。本願明細書に使用される用語は、特定の実施形態について記載するためだけに使用されているのであって、制限する事を意図していないと言う事が更に理解されるべきである。
【００１７】
ここで図１を参照して、気密封止されたコンテナ１１に収容された外部共振器レーザ１０を備えるテレコミュニケーション・レーザー装置８が示される。外部共振器レーザ１０は、ゲイン媒体１２と、エンド、即ち外部反射部材、即ちエンドミラー１４を備える。ゲイン媒体１２は、反射防止（ＡＲ）コーティングが施された正面１６および一部反射する裏面１８を有する従来のファブリーペロー型ダイオード・エミッタ・チップを備えていても良い。外部共振器レーザは、裏面１８およびエンドミラー１４によって境界が定められる。外部共振器の光軸と同一直線上に整列される光路２２を画定するために、ゲイン媒体１２は、コヒーレントなビームを正面１６から放射し、放射されたビームはレンズ２０によってコリメートされる。同様に、ゲイン媒体１２の正面と裏面１６、１８は、外部共振器の光軸と心合する。外部共振器レーザ１０の出力を光ファイバ２３へカップリングするために、従来の出力光学系（図示されない）が裏面１８に対応付けられる。コンテナ１１内に外部共振器レーザ１０を収容するために、コンテナ１１はコンテナを気密封止するための蓋（図示されない）を備える。コンテナ１１の形状にほぼ一致するように、蓋の形状はほぼフラットでかつ矩形状であって良い。蓋は、融合、はんだ付けあるいは他の気密封止技術によってコンテナ１１に結合するようになされている耐酸化性金属またはＮｉ／Ａｕのような合金でめっき、またはコーティングされて良い。
【００１８】
外部共振器レーザ１０はグリッド・ジェネレータ部材および同調部材を備え、これらは、ゲイン媒体１２とエンドミラー１４の間の光路２２の中に位置するグリッド・エタロン２４およびウェッジ・エタロン２６として図１においてそれぞれ示される。通常、グリッド・エタロン２４は、光路２２上において、同調部材２６の前方に位置し、平行な反射面２８、３０を備える。グリッド・エタロン２４は干渉フィルタとして作用し、グリッド・エタロン２４の屈折率、および、面２８、３０の間隔によって決められるグリッド・エタロン２４の光学厚さによって、例えばＩＴＵ（国際電気通信連合）グリッドの様な選択された波長グリッドの中央部分の波長と一致する波長において、通信帯域内における複数の最小値が生じる。もしくは、他の波長グリッドが選択されても良い。グリッド・エタロンは、ＩＴＵグリッドのグリッド線間の間隔に対応する自由スペクトル領域（ＦＳＲ）を有する。従って、グリッド・エタロン２４は波長グリッドのグリッドラインのそれぞれを中心とする複数の通過帯域を供給するように作動する。グリッド・エタロン２４は、波長グリッドの各チャネル間の外部共振器レーザの隣接するモードを抑制するようなフィネス（自由スペクトル領域÷半値全幅（ＦＷＨＭ））を有する。
【００１９】
グリッド・エタロン２４は固体、液体、または気体の平行平板によって離間されたエタロンであって良く、温度制御による熱膨張と収縮によって面２８、３０間の光学厚さの正確な寸法を画定することによって同調されて良い。もしくは、グリッド・エタロン２４は、面２８、３０の間の光学厚さを変えるために傾斜させる事により同調されても良いし、あるいは電気光学的エタロン材料へ電界を印加する事により同調されても良い。外部共振器レーザ１０の運転中の熱の変動によって発生し得る選択されたグリッド中の変化を防ぐために、グリッド・エタロン２４が温度制御されても良い。もしくは、グリッド・エタロン２４は、ダイバー等によって本願と共に出願された「グリッド・ジェネレータの連続同調を伴った外部共振器レーザ」という名称の米国特許出願番号第０９／９００４７４号に記載されるようなレーザの運転に際して、能動的に同調されてもよい。前述の開示は、参照によって本願に援用される。グリッド・エタロン以外の様々な他のタイプのグリッド・ジェネレータが、外部共振器レーザ１０と共に使用されてもよい。
【００２０】
ウェッジ・エタロン２６もまた干渉フィルタとして機能し、平行では無い反射面３２、３４によってテーパ状の形状を有する。例えば、ウェッジ・エタロン２６は、テーパ状の透過基板、隣接した透過基板の反射面間のテーパ状のエアギャップ、あるいは薄膜のウェッジ干渉フィルタを備えても良い。図１に示されるウェッジ・エタロン２６は、外部共振器レーザに関する本発明において使用され得る同調部材あるいはチャネル・セレクタの一例に過ぎない。ウェッジ・エタロン２６は、グレーチング装置および電気光学的装置のようなエタロン以外の様々な同調部材と置換されても良い。チャネル・セレクタとしてエアギャップ・ウェッジ・エタロンを使用する例が米国特許第６１０８３５５号明細書に記載されており、該明細書中において、「ウェッジ」とは隣接した基板によって画定されたテーパ状のエアギャップである。グレーチングの角度調整によって同調される枢動的に調整可能なグレーチング装置をチャネル・セレクタとして使用する事、また、電圧を選択的に印加する事によって同調される電気光学的な同調チャネル・セレクタを外部共振器レーザに使用する事が、２００１年３月２１日に出願された発明者アンドリュー・ダイバーによる米国特許出願番号第０９／８１４６４６号に記載されている。並進的に同調された傾斜した薄膜干渉フィルタを使用する事が、ホプキンス等によって本願と共に出願された「傾斜した薄膜ウェッジ干渉フィルタ、およびレーザ同調に対して使用する際の方法」という名称の米国特許出願番号第０９／８１４６４６号および米国特許出願番号第０９／９９０４１２号に記載される。前述の開示は、参照によって本願に援用される。
【００２１】
幾つかの例における外部共振器レーザ１０の様々な光学要素間の相対的なサイズ、形状、および距離は、明瞭性を保つために誇張して示されている場合があり、必ずしも等縮尺であるとは限らない。外部共振器レーザ１０は、焦点を合わせる要素、およびコリメーション要素と言った追加の要素（図示されず）を備えても良く、外部共振器レーザ１０の様々な要素に関連した偽フィードバックを除去するように構成される偏光光学系を備えていても良い。
【００２２】
ウェッジ・エタロン２６によって画定される通過帯域は、グリッド・エタロン２４によって画定される通過帯域よりも実質的に広く、その一周期は、グリッド・エタロン２４によって画定される最短波長のチャネルと最長波長のチャネルの間の波長との差と実質的に対応する。換言すれば、ウェッジ・エタロン２６の自由スペクトル領域は、グリッド・エタロン２４によって画定された波長の全ての波長領域と対応する。ウェッジ・エタロン２６は、特定の選択されたチャネルに隣接するチャネルを抑制するようなフィネスを有する。
【００２３】
ウェッジ・エタロン２６は、ウェッジ・エタロン２６の面３２、３４間の光学厚さを変える事により、複数の通信チャネルの中から１つを選択するために使用される。
これは、ｘ軸に沿ってウェッジ・エタロン２６を変位させることにより達成される。ｘ軸は、ウェッジ・エタロン２６のテーパの方向と平行であり、光路２２および外部共振器レーザ１１の光軸に対して垂直である。ウェッジ・エタロン２６によって画定される通過帯域のそれぞれによってチャネルが選択可能となり、また、ウェッジが光路２２中に押し込まれる方向に変位するにつれて、光路２２に沿って移動するビームはウェッジ・エタロン２６のより厚い部分を貫通することになり、これによって、より長い波長チャネルにおける、相対する面３２、３４間の建設的干渉が得られる。ウェッジ・エタロン２６が光路２２から引き出される方向に変位するにつれて、ビームはウェッジ・エタロン２６より薄い部分を貫通し、より短い波長チャネルに対応する光路２２用の通過帯域を露出する。上述したように、ウェッジ・エタロン２６の自由スペクトル領域は、グリッド・エタロン２４の完全な波長の範囲に対応している。その結果、全ての波長グリッドの領域において、通信帯域内の単一のロスミニマムが同調される事が可能である。
グリッド・エタロン２４およびウェッジ・エタロン２６からゲイン媒体１２への統合化されたフィードバックによって、選択されたチャネルの中心波長においてレーザ光線を発することを可能にする。全同調レンジに渡って、ウェッジ・エタロン２６の自由スペクトル領域はグリッド・エタロン２４の自由スペクトル領域より広い。
【００２４】
ウェッジ・エタロン２６は、選択されたチャンネルに応じてウェッジ・エタロン２６を調整可能に位置決めするように構成・構築された駆動部材３６を含む同調装置により位置を変えられることによって同調される。駆動部材３６は、ウェッジ・エタロン２６の精密並進運動に好適なハードウェアと共にステッパーモータを備えても良い。もしくは、駆動部材は、直流サーボモーター、ソレノイド、ボイスコイル・アクチュエーター、圧電アクチュエーター、超音波ドライバ、形状記憶デバイス、または同様の往復型アクチュエーターのように、様々なタイプのアクチュエーターを含んでも良い。アクチュエーターの種類は上記されてものに限定されない。
【００２５】
駆動部材３６は制御装置３８に動作可能なように接続され、制御装置３８は、駆動部材３６によるウェッジ・エタロン２６の位置決めを制御する信号を供給する。制御装置３８はデータ処理装置およびメモリ（図示されない）を備えて良く、選択可能なチャネル波長に対応するウェッジ・エタロン２６の位置情報のルックアップテーブルが内部に保存される。制御装置３８は駆動部材３６の内部にあっても良いし、外部にあって、外部共振器レーザ１０の他の要素の位置決めおよびサーボ機能と共有されても良い。図示される制御装置は気密封止されたコンテナ１１の外部に存在するが、コンテナ１１の内部に存在しても良い。
【００２６】
外部共振器レーザ１０が異なる通信チャネルに同調される時、制御装置３８はルックアップテーブル中の位置データに応じて駆動部材３６に信号を送り、駆動部材３６はウェッジ・エタロン２６を正確な位置まで移動させ、光路２２中に位置するウェッジ・エタロン２６の位置における光学厚さが、選択されたチャネルのための建設的干渉が得られるようになされる。ドライバ３６によってウェッジ・エタロン２６を正確・確実に位置調整するために、直線エンコーダ４０がウェッジ・エタロン２６および駆動部材３６に関して使用されてもよい。
【００２７】
ウェッジ・エタロン２６の同調の最中に、他の同調メカニズム（図示されない）を用いて、エンドミラー１４の位置を調整することによって、レーザ共振器の長さが同調されても良い。この他の同調メカニズムは、直流サーボ電動機、ソレノイド、ボイスコイル・アクチュエーター、圧電アクチュエーター、超音波ドライバ、形状記憶デバイス、あるいは他のタイプのアクチュエーターを含んで良い。本願と平行して出願され、参照によって本願に援用された、発明者ライス等による「外部共振器の能動的温度同調を伴うレーザ装置」という名称の米国特許出願番号第０９／９００４４３号に開示されているように、一実施形態において、エンドミラー１４は、エンドミラーに接続された補償要素を選択的に加熱または冷却する事によって位置決めされても良い。ゲイン媒体の両端で監視された電圧に由来した誤差信号による電気光学部材を備えた外部レーザ共振器の同調が、本願と平行して出願された、発明者ダイバー等による「ゲイン媒体の両端の電圧によるレーザ損失の評価および調整」という名称の米国特許出願番号第０９／９９０４２６号によって開示され、参照によって本願に援用される。
【００２８】
ウェッジ・エタロン２６は、光学上検知可能で、ウェッジ・エタロン２６が最長または最短のチャネル波長に位置決めされた際にウェッジ・エタロン２６の位置を確認するために用いられる不透明領域４２、４４を、ウェッジ・エタロン２６の両端に備えていても良い。不透明領域４２、４４は、ウェッジ・エタロンの位置決めにおいて使用可能なエンコーダ・メカニズムを付加的に提供する。不透明領域４２、４４が光路２２に進入するようにウェッジ２６が位置決めされる時、不透明領域４２、４４は、光路に沿ってビームを遮断または減衰する。以下詳細される通り、この光の減衰は検知可能である。ウェッジ・エタロン２６上の不透明領域４２、４４の位置は正確に決定され得るので、制御装置３８は不透明領域４２、４４が何時光路２２に進入するかを予想する事が出来る。予想されたポイント以外に光路２２中の不透明領域の４２、４４が出現すると言う事は、エンコーダのエラーを表しており、また、制御装置３８は、光路２２中の不透明領域４２、４４の検知された位置に基づいて、適切な補正を行う事が出来る。別の不透明領域（図示されない）が、ウェッジ・エタロン２６の任意の他の位置に更に含まれていても良い。
【００２９】
気密コンテナ１１内にある、水分、および揮発性有機物または炭化水素のような汚染物質に敏感な外部共振器レーザ１０の光学部品の表面は、ＡＲコーティングされているゲイン媒体１２の表面１６、エンドミラー１４、グリッド・エタロン２４の反射面２８、３０ウェッジ・エタロン２６の平行ではない反射面３２、３４、コリメーターレンズ２０の表面を含むが、これに限定されない。図示されておらず、汚染に対して敏感な外部共振器レーザ１０の他の重要な光学部品の表面として、偏光およびダイクロイック光学部品および他のコリメーション部品が挙げられる。気密封止が可能なコンテナ１１の内部に外部共振器レーザ１０を気密封止することは、テレコミュニケーション・レーザー装置１０を管理された環境に配置することによって、外部共振器レーザ１１および他の敏感な部品を保護する。
【００３０】
筐体１１内を封止した後の外部共振器レーザ１０の他の要素の気体放出によって生ずる揮発性有機物および炭化水素を吸着またはトラッピングするために、レーザ装置１０は、気密封止された筐体１１内に少なくとも１つの活性炭ドレン４８を備える。活性炭ドレン４８は、接着材、潤滑剤、絶縁材あるいは以下詳細に記述されるようにコンテナ１１内に存在する他の有機材を含む部品から放出され得る揮発性有機化合物をトラッピングし保持するために、活性炭の大きな表面を形成する。
【００３１】
外部共振器レーザ１０をコンテナ１１内に気密封止した後に、湿気を吸収し、外部共振器レーザ１０の敏感な光学部品の表面上に水分が凝縮するのを妨げるために、水分トラップ５０が、気密封止されたコンテナ１１内にさらに提供される。例えば、水蒸気は、コンテナ１１内の運転中に、外部共振器レーザの中に存在するポリイミドあるいは他の絶縁材から放出され得る。水分トラップ５０は、多孔性容器に入れられた乾燥シリカ、硫酸カルシウムおよび（または）他の種類の一般的な乾燥剤を含んでいて良い。
【００３２】
波長可変外部共振器レーザ１０の光学系の汚染を回避するために、本発明の封止された筐体１１は、水分の凝縮と、放出される揮発性炭化水素の両方をトラッピングするために犠牲となる犠牲表面５２を更に備えていても良い。犠牲表面５２は外部の冷却源によって冷却され、および（または）、高温度の表面に囲まれるか隣接している中において、揮発性有機物および水蒸気の凝縮を選択的に誘引するヒートシンクとして動作し得るような材料で製作または構成されても良い。
【００３３】
外部共振器レーザ１０が使用されておらず、ゲイン媒体１２に電力が供給されていない時に、出力面１６のＡＲコーティングのために上昇させられた温度を維持し、表面上の凝縮を防ぐために、熱源５４がゲイン媒体を加熱するために使用されても良い。図示されるように、熱源５４は、ゲイン媒体１２に接続された熱電制御装置を有する。ゲイン媒体１２における面１６、１８の間の幅である光学厚さを熱的に制御するために、熱電制御装置５４がさらにゲイン媒体１２の運転中に使用されても良い。気密封止された筐体１１を高温に保ち、汚染物質が選択された部品上に凝縮するのを防ぐために、１つ以上の発熱体（図示されない）が、気密封止された筐体１１の内部または外部に配置されても良い。従って、活性炭ドレン４８、水分トラップ５０および（または）犠牲表面５２の温度よりもエンドミラー１４あるいはチャネル・セレクタ２６を高い温度に維持し、光学表面３２、３４の汚染を防ぐために、エンドミラー１４あるいはチャネル・セレクタ２６に関して加熱が用いられてもよい。外部共振器レーザ中の重要な光学部品および光学表面への選択的な加熱もまた、ダイバー等によって本願と共に出願された「選択的な温度制御を伴う外部共振器レーザ」という名称の米国特許出願番号第０９／９００４２９号に記載され、参照によって本願に援用される。
【００３４】
本発明の気密封止されたコンテナ１１は、光ファイバ２３がコンテナ１１に入る箇所を気密封止するための光ファイバ・フィードスルー５６と、コンテナ１１の壁を貫通する電線またはインタフェース５９用の少なくとも１つの電線フィードスルー５８を備える。以下詳述されるように、通常は複数の電線が気密コンテナ１１へ貫通する。ファイバ・フィードスルー５６は、図７に関して以下詳述される。
【００３５】
図２は、裏面１８およびエンドミラー１４によって画定されるグリッド・エタロン２４、ウェッジ・エタロン２６、および外部共振器の通過帯域の関係の一例を示すグラフである。図２は、外部共振器通過帯域ＰＢ１、グリッド・エタロン通過帯域ＰＢ２およびウェッジ・エタロン通過帯域ＰＢ３を示す。相対ゲインが縦軸に、波長が横軸に示される。図から明らかなように、ウェッジ・エタロン２６の自由スペクトル領域（ＦＳＲ_{Ｃｈａｎｎｅｌ Ｓｅｌ}）は、グリッド・エタロン２４の自由スペクトル領域（ＦＳＲ_{Ｇｒｉｄ Ｇｅｎ}）より大きく、グリッド・エタロン２４の自由スペクトル領域（ＦＳＲ_{Ｇｒｉｄ Ｇｅｎ}）は、外部共振器の自由スペクトル領域（ＦＳＲ_{Ｃａｖｉｔｙ}）より大きい。外部共振器通過帯域ＰＢ１のピークは、グリッド・エタロン２４の波長グリッドによって画定された通過帯域ＰＢ２の中心波長と周期的に一致する。全ての波長グリッドの通過帯域ＰＢ２に渡って広がるウェッジ・エタロン２６の通過帯域ＰＢ３のピークは１つである。図２に示される特定の例において、波長グリッドは、０．５ｎｍ（６２ＧＨｚ）間隔で離間し、最短波長チャネルが１５３２ｎｍ、最長波長チャネルが１５６３．５ｎｍであって、６４個のチャネルに渡って延長している。
【００３６】
グリッド・エタロン２４およびウェッジ・エタロン２６のフィネスは、隣接しているモードまたはチャネルの減衰を決定する。上述されたように、フィネスは、自由スペクトル領域を半値全幅で割った値と等しい。即ち、フィネス＝ＦＳＲ／ＦＷＨＭである。グリッド・エタロン通過帯域ＰＢ２の半値全幅が図２ｂに示され、ウェッジ・エタロン通過帯域ＰＢ３の半値全幅が図２ｃに示される。外部共振器内におけるグリッド・エタロン２４およびウェッジ・エタロン２６の位置の調整によって、サイドモード抑圧比が向上する。
【００３７】
１５４９．５ｎｍおよびそれに隣接する１５５０ｎｍに中心が合わせられたチャネル間におけるウェッジ・エタロン２６の通過帯域ＰＢ３の同調の例が、図３のグラフによって示される。また、グリッド・エタロン２４によって生成されたチャネルの選択と、隣接するチャネルまたはモードの減衰も示されている。図２に示される外部共振器の通過帯域ＰＢ１は、明瞭性を保つために図３においては省略される。グリッド・エタロン２４は、グリッド・チャネル間隔に対応する外部共振器の周期的な縦モードを選択する一方で、隣接するモードは拒絶する。ウェッジ・エタロン２６は、該波長グリッド中の特定のチャネルを選択し、他の全てのチャネルを拒絶する。選択されたチャネルあるいはレーザ光線のモードは、チャネル間隔のプラスマイナス約半分の範囲のフィルタ・オフセットにより、１つの特定のチャネルに画定される。チャネルのオフセットがより大きい場合、レーザ光線のモードは隣接するチャネルへとジャンプする。
【００３８】
図３ａにおいて、ウェッジ・エタロン通過帯域ＰＢ３のピークは、１５４９．５ｎｍのグリッド・チャネルに合わせられている。１５４９．５ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関する相対ゲインは高いが、その一方で隣接している１５４９．０ｎｍおよび１５５０．０ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関する相対ゲインレベルは、選択された１５４９．５ｎｍのチャネルに比べて抑圧されている。１５５０．５ｎｍおよび１５４８．５ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関するゲインは一層抑圧されている。１点鎖線は、ウェッジ・エタロン２６によって抑圧されていない状態の通過帯域ＰＢ２の相対ゲインを示す。
【００３９】
図３ｂはウェッジ・エタロン通過帯域ＰＢ３が、チャネル切り替えの最中に１５４９．５ｎｍおよび１５５０．０ｎｍのチャネルの間に位置する状態を示す。１５４９．５ｎｍおよび１５５０．０ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関する相対ゲインは両方とも高く、どちらも抑制されていない。１５４９．０ｎｍおよび１５５０．５ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関する相対ゲインのレベルは、１５４９．５ｎｍおよび１５５０．０ｎｍのチャネルに比べれば抑圧されている。１点鎖線は、ウェッジ・エタロン２６によって抑圧されていない状態の通過帯域ＰＢ２の相対ゲインを示す。
【００４０】
図３ｃは、ピークが１５５０．０ｎｍのグリッド・チャネルに合わせられているウェッジ・エタロン通過帯域ＰＢ３を示し、１５５０．０ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関する相対ゲインは高いが、その一方で隣接している１５４９．５ｎｍおよび１５５０．５ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関する相対ゲインレベルは、選択された１５２０．０ｎｍのチャネルに比べて抑圧されており、１５５１．０ｎｍおよび１５４９．０ｎｍにおける通過帯域ＰＢ２に関するゲインは更に抑圧されている。再び、１点鎖線は、ウェッジ・エタロン２６によって抑圧されていない状態の通過帯域ＰＢ２の相対ゲインを示す。
【００４１】
図３に示し、また上述した様態で外部共振器レーザ１０を正確に同調するためには、レーザの運転中に多量の気体を発生する特性を有する様々な種類の要素が必要であり、従って、揮発性有機化合物と水分が、外部共振器レーザ１０の様々な光学部品の表面を汚染し得る要素から拡散し得る。図４および図５は、気密封止された容器内の多量に気体を発生する様々な部品をより明白に示した、密閉容器中の外部共振器レーザ装置６１の別の実施形態を示す。同様の参照番号は、同様の部品を示すために使用される。明瞭性を保つため、電線５９は図５からは省略される。コンテナ１１は、さらに気密封止可能な蓋を有するが、明瞭性を保つために図示されない。
【００４２】
図４および５に示された外部共振器レーザ装置６１において、選択されたチャネルに従ってウェッジ・エタロン２６を調整可能に位置決めするように組み立て・構成されたステッパーモータ６２として、駆動部材３６が提供される。ステッパーモータはモータ・ブラケット６４にマウントされ、ベアリング６７にマウントされたねじ式シャフト６６を回転させる。ねじ式シャフト６６は、ブラケット７０によってウェッジ・エタロン２６に結合されるねじ式半割りナット６８を駆動する。もしくは、駆動部材３６は、直流サーボモーター、ソレノイド、ボイスコイル・アクチュエーター、圧電アクチュエーター、超音波ドライバ、形状記憶デバイス、または同様のアクチュエーター（図示されず）のように、様々なタイプのアクチュエーターを含んでも良い。アクチュエーターの種類は上記にものに限定されない。潤滑剤の使用を最小限にし、半割ナット３８のような部品にデルリン（登録商標）ナイロンのような低摩擦で気体を発生しにくい材料を使用する事によって、駆動部材３６は、装置６１の運転中の気体の発生を最小限にするようになされている。コンテナ１１の内部の絶縁材の表面が表出する面積を最小限にするために、モータ６２内の内部コンダクタ（図示されない）の長さはでできるだけ短くされる。
【００４３】
半割りナット６８はブラケット７０に結合され、ブラケット７０はステージ７２に結合される。ステージ７２はウェッジ・エタロン２６を支持し、ウェッジ・エタロン２６の位置調整を可能にするために、ウェッジ・エタロン２６をレール７４に沿って滑動可能に移動させる。シャフト６６がステッパーモータ６２によって回されるとともに、半割りナット６７は螺動による相互作用によってシャフト６６に沿って移動させられる。半割りナット６８の動作によって、駆動装置ブラケット７０およびステージ７２が、ウェッジ・エタロン２６を位置決めするためのレールに沿って駆動される。
【００４４】
ステッパーモータ６２によるウェッジ・エタロン２６の並進運動用の制御装置として作動するＥＥＰＲＯＭチップ（図示されない）を支持するために、セラミック基盤７８がコンテナ１１にはんだ付けされる。また、上述されたように、制御装置は外部に存在しても良い。レーザー・エンドミラー（図示されない）に接続された位相変調器８３（図４）に電力を供給するために、トランス８０がセラミック基盤８２上に支持される。直線エンコーダ４０が、エンコーダ・スケール８４に隣接するようにコンテナ１１にマウントされ、ウェッジ・エタロン２６の位置調整を監視するために使用される。光検出器８５（図４）がレーザ光路の中の位相変調器８３の後方に位置し、レーザ性能を監視するために使用される。
【００４５】
ステッパーモータ６２と同様に、エンコーダ８４およびトランス８０は、レーザ運転中に気密コンテナ１１内における気体放出を最小限にするために設計・構成される。この点において、他の気密コンテナ内の全ての箇所と同様に、エンコーダ８４およびトランス８０の絶縁材は最小化され、気体放出性の低いものが選択される。
【００４６】
穴８６（図４）がコンテナ１１中に提供され、電線フィードスルー５８（図１）を使用することによって、穴８６貫通して延長する電線５９を気密封止する事が出来るようになされる。フィードスルー５８は、穴８６に嵌入するガラススリーブを備え、それに電線５９が挿入される。フィードスルー５８および電線５９は、高温に曝される事によって穴８６へ溶融して密閉される。この方式による電線の気密封止は、コンテナ１１内の全ての熱に敏感な部品を導入する前に実行される。
【００４７】
気密封止可能な筐体１１は、外部共振器レーザ６１を封止した後にさびまたは腐食が、筐体１１内に発生するのを防ぐために金属めっきされる。気密封止筐体１１は、コバール（登録商標）Ｎｉ−Ｆｅ−Ｃｏ合金、またはあるいは気密筐体に適している良好な耐食性および成形性を有する他の金属・合金で出来ていでも良い。清潔かつ耐腐食性を有する表面を得るために、気密の筐体１１は、金、または他の耐腐食性金属・合金でめっきされる。筐体１１は、クラス１００より清潔なクリーンルーム内のように、起こり得る汚染に対して保護されている条件の下で金属めっきされる。可能な場合、気密コンテナ１１内に接着材を使用することは避けられる。また、フラックスレスはんだが接合のために用いられる。樹脂を含んでいる基盤から気体が放出される事を避けるために、回路基板８８、８２および７８は、繊維ガラス強化樹脂の代わりにセラミックで作られており、フラックスレスはんだプロセスによってコンテナ１１に直接取り付けられる。内部のレーザ装置６１の周囲の気密封止された筐体を成形するために、蓋８９（その一部のみが図５に示される）は、コンテナ１１の形に略一致し、レーザ装置６１を内部に収容する気密封止された筐体を形成するために、コンテナ１１を気密封止するためのＮｉ−Ａｕめっきを含んでいる。
【００４８】
装置６１の重要な光学部品の表面の多くは、レーザ・サブアセンブリ・モジュール９０の別個または離間した温度制御されている基板に設置されても良い。図６は、図５のレーザ・サブアセンブリ９０の略図である。サブアセンブリ・モジュール９０において、他の外部共振器レーザ部品を支持する１つまたは複数の基盤とは別個かつ離間している基板９２上にレーザ出力部材を配置する事が可能である。サブアセンブリ９０は、出力面１６、１８を備えたダイオード・エミッタ・チップ１２と、面１６、１８にそれぞれ光学的に結合したコリメーターレンズ２０、９６と、ドッグボーン状材１００と、サーミスタ１０２と、光アイソレータ１０４と、ファイバ・フォーカス・レンズ１０６と、ファイバ・フェルール１０８とを備え、これらはレーザ出力サブアセンブリ９２上にマウントされる。
【００４９】
出力サブアセンブリ９０の基板９２は熱電制御装置（示されない）に結合され、熱電制御装置はサーミスタ１０２を経由して基板９２の温度を監視し、基板９２および基板９２上の出力サブアセンブリ部品の温度が制御される。ダイオード面１６および１８、コリメーター２０、９６および１０６の表面はレーザ装置６１の重要な光学部品の表面の一部であり、これらの部品が単一の温度制御された基板９２に搭載される事によって、水分あるいは放出された揮発性有機化合物が光学部品の表面上に凝縮することを防ぐべく、部品の集合的な温度制御をする事が出来る。
【００５０】
基板９２は、アルミニウム窒化物および（または）炭化けい素のような高い熱伝導率の材料を含んでも良い。温度制御されたサブアセンブリ９０は、さらに基板９２上における部品の最適なアライメントを維持するために、温度制御を使用する事が出来る。この点において、基板９２のＣＴＥ（熱膨張率）は、ダイオード・エミッタ１２のＣＴＥと一致しても良い。さらに、サブアセンブリ９０によって提供されるような選択された光学部品の温度を制御する事で、重要な光学部品および光学部品の表面だけを選択的に加熱するので、装置６１の電力消費を最小化する。
【００５１】
様々な他の光学要素が基板９２上に、あるいは他の温度制御された基板（図示されない）上にマウントされる事により、選択的な温度制御の支配下に入り得る。例えば、グリッド・ジェネレータ２４および（または）低解像度のスペクトロメータ（図示されない）が基板９２に配置されても良い。外部共振器レーザ中の光学要素を選択的に温度制御することもまた、ダイバー等によって本願と共に出願された「選択的な温度制御を伴う外部共振器レーザ」という名称の米国特許出願番号第０９／９００４２９号に記載され、参照によって本願に援用される。
【００５２】
光ファイバ２３に関する気密封止はファイバ・フィードスルー装置５６によって提供され、図７において概略的に示される。ファイバ・フィードスルー５６は光ファイバ２３を気密封止するように構成される。光ファイバ２３の外部ジャケット１１０および内部ジャケット１１２は、内部ジャケット１１２および外部ジャケット１１０の絶縁材から気体が放出される事を避けるために筐体１１へ延長するファイバ２３の部分から取り除かれる。フェルール１１４はコンテナ１１の壁を貫通して延長し、ファイバ２３はフェルール１１４を貫通する。コンテナ１１の内側１１５において、ジャケット１１０、１１２が除かれたファイバ２３は、はんだプラグ１１６によって融合され封止される。光ファイバ２３およびフェルール１１４の内表面は、容易にはんだ付け出来る様に金属化されていても良い。エポキシプラグ１１７は、コンテナ１１の外側１１８に隣接した適当な位置にファイバ２３を保持する。ファイバ・フィードスルー５６は、取り扱い上の損傷を防ぐため、ファイバに引張応力を加えて支持するように構成される。
【００５３】
気密封止された外部共振器レーザ装置６１の製作において、材料からの気体放出を抑制するために、潤滑剤、接着材、ケーブル絶縁材、および揮発性物質および残留水分を含んでいる他の材料の使用は最小限にされる。気密封止されたレーザ６１の中で最も気体を放出する傾向にある部品は、ステッパーモータ６２、エンコーダ４０およびトランス８０である。可能な限り、気体放出を避けるための材料選定が実行される。装置６１の様々な部品の準備および組み立ては、クリーンルームの中で行なわれても良く、および（または）、外部共振器レーザの筐体６１を気密封止するのに先立って様々な部品から残余の水分および揮発性の有機炭化水素を取り除くために、１回以上の真空ベーキングおよび（または）不活性雰囲気の下でのベーキングが実行されても良い。詳細には、１回以上の真空ベーキング、およびそれに続いて不活性気体によるパージが、気密封止可能な蓋８９を含んだ組み立てられた装置６１全体に対して実行されても良い。
【００５４】
筐体内の内側の全ての部品を気密封止するために、最終真空ベーキング／不活性気体によるパージに続いて、不活性かつ水分が制御された雰囲気下で、蓋が筐体に気密封止される。水分を制御する事によって、コンテナ１１に乾燥した不活性ガスを供給し、シーリング後のコンテナ１１内の水分量が最小である事を保証する。コンテナへ蓋を気密封止する多数の方法が従来技術において周知であり、かつ使用可能である。気密封止のために使用される不活性気体は窒素、アルゴン、ヘリウム、クリプトン、キセノンあるいは他の不活性ガス、またはその様々な混合物を含んでいて良い。
【００５５】
本発明は特定の実施例に関して記載された一方、本発明の真の精神と範囲から逸脱することなく、さまざまな修正がなされ得、均等物によって置換され得る事が当業者によって理解されるべきである。加えて、特定の状況、材料、組成物、プロセス、工程段階を、本発明の目的、精神および範囲に適応させるために、多くの変更が成され得る。この種の変更の全てが、添付の特許請求の範囲の範囲内であることが意図されている。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】気密封止された外部共振器レーザ装置の概略図である。
【図２】或る波長グリッド内の選択されたチャネルに関するウェッジ・エタロン・チャネルセレクター、グリッド・ジェネレータ・エタロンおよび外部共振器に関する、図１に関して説明された外部共振器レーザの通過帯域特性の例を示すグラフである。
【図３】或る波長グリッド内の複数のチャネルにおける、図１に関して説明された外部共振器レーザの同調に対するゲイン応答の例を示すグラフである。
【図４】カバーが取り払われた状態の、気密封止可能な筐体内の外部共振器レーザの斜視図である。
【図５】エンドミラーが省略された状態の、図４に示された外部共振器レーザおよび気密封止可能な筐体の平面図である。
【図６】図５の気密封止可能な外部共振器レーザのレーザ・サブアセンブリの略図である。
【図７】図５の気密封止可能な外部共振器レーザの光ファイバ・フィードスルーの略図である。

Claims (37)

1. 外部共振器レーザと、
   前記外部共振器レーザを不活性気体の中で収容するように構成される気密封止可能なコンテナとを備えるレーザ装置。
2. 前記不活性気体の水分量が制御されている、請求項１に記載の装置。
3. 前記外部共振器レーザは波長が可変である、請求項１に記載の装置。
4. 前記外部共振器レーザが、第１および第２出力面を含むゲイン媒体を備え、
   前記第２出力面に反射防止コーティングが施されている、請求項３に記載の装置。
5. 前記外部共振器レーザがエンドミラーを更に備え、
   前記エンドミラーおよび前記ゲイン媒体の前記第１出力面が外部共振器を画定し、
   前記ゲイン媒体が、前記第２出力面から出力パスに沿ってビームを放射する、請求項４に記載の装置。
6. 前記気密封止可能なコンテナの内部において、前記エンドミラーに動作可能なように接続され、前記エンドミラーを調節するように構成される同調装置を更に備える、請求項５に記載の装置。
7. 前記外部共振器レーザがグリッド・ジェネレータを備える、請求項３に記載の装置。
8. 前記外部共振器レーザがチャネル・セレクタを備える、請求項１に記載の装置。
9. 前記チャネル・セレクタに移動可能なように接続され、前記チャネル・セレクタを調節するように構成される同調装置をさらに備える、請求項８に記載の装置。
10. 前記気密封止可能なコンテナの内側に位置する活性炭ドレンを更に備える、請求項１に記載の装置。
11. 前記気密封止可能なコンテナの内側に位置する水分トラップを更に備える、請求項１に記載の装置。
12. 前記不活性気体は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、窒素とヘリウムの混合、ネオンとヘリウムの混合、クリプトンとヘリウムの混合、およびキセノンとヘリウムの混合の中から選択される気体である、請求項１に記載の装置。
13. 前記気密封止可能なコンテナ内に延長し、前記外部共振器からの光出力を受信するべく配置された光ファイバと、
    前記光ファイバを気密封止するように構成されたファイバ・フィードスルーとを更に備える、請求項３に記載の装置。
14. レーザ装置であって、
    （ａ） 第１出力面、および表面に反射防止コーティングが施された第２出力面を有するゲイン媒体と、
    （ｂ） エンドミラーとを備え、
    前記ゲイン媒体の前記第１出力面および前記エンドミラーが外部共振器を画定し、前記ゲイン媒体が前記外部共振器の内部の光路に沿ってビームを放射し、前記エンドミラーが前記光路中に配置され、
    前記レーザ装置が更に、
    （ｃ）不活性かつ水分が制御された雰囲気において前記外部共振器を収容する気密封止されたコンテナを備える、装置。
15. 前記エンドミラーに動作可能なように接続され、前記エンドミラーを調節するように構成される同調装置を更に備え、
    前記同調装置が前記気密封止可能なコンテナの内部に位置する、請求項１４に記載の装置。
16. 前記外部共振器レーザがグリッド・ジェネレータを更に備え、
    前記グリッド・ジェネレータが、前記外部共振器の前記光路中に位置する、請求項１４に記載の装置。
17. チャネル・セレクタを更に備え、
    前記チャネル・セレクタが、前記外部共振器の前記光路中に位置する、請求項１４に記載の装置。
18. 前記チャネル・セレクタに移動可能なように接続され、前記チャネル・セレクタを調節するように構成される同調装置を更に備え、
    前記同調装置が前記気密封止可能なコンテナの内部に位置する、請求項１７に記載の装置。
19. 前記気密封止されたコンテナの内側に位置する活性炭ドレンを更に備える、請求項１４に記載の装置。
20. 前記気密封止されたコンテナの内側に位置する水分トラップを更に備える、請求項１４に記載の装置。
21. 前記不活性気体は、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、窒素とヘリウムの混合、ネオンとヘリウムの混合、クリプトンとヘリウムの混合、およびキセノンとヘリウムの混合の中から選択される気体である、請求項１４に記載の装置。
22. （ａ）外部共振器レーザを提供するステップと、
    （ｂ）前記外部共振器レーザを、気密封止されるコンテナ内に不活性雰囲気において気密封止するステップとを備える、レーザを製造する方法。
23. 前記外部共振器レーザが、
    反射防止表面を有するゲイン媒体と
    前記ゲイン媒体から放射されたビームによって画定される光路中に位置するエンドミラーとを備える、請求項２２に記載の方法。
24. 前記外部共振器レーザが、前記エンドミラーに動作可能なように接続され、前記エンドミラーを調節するように構成される同調装置を備える、請求項２３に記載の方法。
25. 前記外部共振器レーザがグリッド・ジェネレータを備える、請求項２２に記載の方法。
26. 前記外部共振器レーザがチャネル・セレクタを備える、請求項２２に記載の方法。
27. 前記外部共振器レーザが同調装置を備え、前記同調装置が、前記チャネル・セレクタに移動可能なように接続され、前記チャネル・セレクタを調節するように構成される、請求項２６に記載の方法。
28. 前記気密封止ステップに先立って、前記外部共振器レーザを真空ベーキングするステップを更に備える、請求項２２に記載の方法。
29. 前記気密封止ステップに先立って、前記外部共振器レーザの少なくとも１個の多量の気体を放出する部品を真空ベーキングするステップを更に備える、請求項２２に記載の方法。
30. 前記外部共振器レーザに隣接する前記気密封止されたコンテナ中に活性炭ドレンを提供するステップと、
    前記活性炭ドレンで揮発性有機炭化水素を吸収するステップとを更に備える、請求項２２に記載の方法。
31. 前記外部共振器レーザに隣接する前記気密封止されたコンテナ中に水分トラップを提供するステップと、
    前記水分トラップ上に水分を凝縮させるステップとを更に備える、請求項２２に記載の方法。
32. 前記同調装置がステッパーモータを備える、請求項２７に記載の方法。
33. （ａ）外部共振器レーザと、
    （ｂ）前記外部共振器レーザを不活性雰囲気において気密封止する手段とを備える、レーザ装置。
34. 前記不活性雰囲気中の揮発性有機化合物を吸着する手段を更に備える、請求項３３に記載の装置。
35. 前記不活性雰囲気中の気体から水分をトラッピングする手段を更に備える、請求項３３に記載の装置。
36. 前記外部共振器レーザを同調する手段を更に備える、請求項３３に記載の装置。
37. 前記外部共振器レーザおよび前記同調する手段が、前記気密封止する手段に収容される、請求項３６に記載の装置。

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