JP2004504731A - 高パワー電子部品を実装するための窒化ケイ素基板を有する熱交換器 - Google Patents
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Abstract
熱交換器は、窒化ケイ素基板を含む。電子部品を、その基板に、表面実装することができる。熱交換器内の流体通路によって、冷媒が、流体通路の中を流れることができ、電子部品から熱を運び去ることができる。
Description
【0001】
【発明の背景】
本発明は、高パワー電子部品を実装するための基板だけでなく、熱交換器にも関連する。より詳細には、本発明は、高パワー電子部品によって発生した熱の放散に関連する。
【0002】
例えば、絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ、ダイオード、マイクロプロセッサ、メモリ・チップなどの様な高パワー電子部品は、動作中に発熱する。この熱は、通常、これらの部品に対するダメージを防ぐために放散させる。
【0003】
電子部品に直接取り付けられ、プリント回路基板に固定されるヒート・シンクが、通常、放熱に使用される。しかし、これらの電子部品のパワー密度が、増加し続けると、従来のヒート・シンク(例えば、ヒート・パイプ、アルミニウム・フィン)は、放熱に対して実用的でなくなる。
【0004】
熱は、液冷の熱交換器によって、放散させることができる。しかし、典型的な熱交換器材料のそれぞれは、以下の特性を備えているわけではない:強度、熱伝導性、電子部品の膨張率に匹敵する膨張率(COE:Coefficient Of Expansion)。これらの3つの特性を備える熱交換器は、通常、複数種の材料からなる。このような熱交換器は、通常、複雑で、重くて、高価である。
【0005】
【発明の概要】
本発明の1つの態様によれば、装置は、窒化ケイ素基板を含む熱交換器と、その基板外面上の電子部品アタッチメント層とを備える。本発明の他の態様によれば、高パワー電子部品を実装するための物品は、補強マイクロ構造(in−situ reinforced microstructure)を有する窒化ケイ素基板と、その基板表面上の選択的なメタライゼーションとを備える。
【0006】
本発明のさらに他の態様によれば、熱交換器は、フレームと、そのフレームに接合された第1基板及び第2基板とを備える。フレームと第1及び第2の基板とによって、流体の通路が規定される。第1基板は、窒化ケイ素からなる。
【0007】
[発明の詳細な説明]
図1及び図2を参照すると、熱交換器10は、フレーム12と、そのフレーム12に接合された第1基板14及び第2基板16とを備える。基板14及び16は、ロウ(鑞)付け、又は、漏れ防止シールを形成する他のプロセスによって、フレーム12に結合してもよい。フレーム12と第1基板14及び第2基板16とによって、流体の通路が規定される。通路に対する入口18及び出口20は、フレーム12、又は基板14、又は基板16の中に、形成しても良い。第1基板14は、窒化ケイ素からなる。また、フレーム12及び第2基板16も、窒化ケイ素からなっていても良い。
【0008】
熱交換器10はさらに、流体通路内に配置され第1基板14に熱的に結合された放熱要素22を備える。放熱要素22は、良好な熱伝達特性を示す何らかの材料(例えば銅、カーボン・フォーム(carbon foam)、モリブデン)からなるブロック又はシートであっても良い。シートに波形を付けることによって、露出表面積が増えて、熱伝達能力が改善される。例えば、放熱要素22は、第1基板14と第2基板16との間にロウ付けされた、波形が付けられた銅製シートであっても良い。
【0009】
選択的なメタライゼーション26は、第1基板14の外面上に形成しても良い。選択的なメタライゼーションは、電気的な相互接続と、高パワー電子部品24用の実装パッドとを含んでも良い。例えば、活性金属ロウ付け合金(例えばチタン系合金、バナジウム系合金)の薄片、ペースト又は予備形成物は、第1基板14の外面上に形成し、電子部品24用の実装パッドへとパターン形成しても良い。場合によっては、必要な電流密度を得るために、ロウ付け合金の上に、銅を形成しても良い。その代わりに、電気的な相互接続及び実装パッドは、第1基板14上に、厚膜プロセスを用いて導電性インクを塗布することによって、又は、パラジウム・クロムもしくはニッケル・クロムをスパッタリングすることによって、形成しても良い。
【0010】
選択的なメタライゼーション26は、活性金属ロウ付け合金ペーストを第1基板14上に所望のパターンでスクリーン印刷することによって、形成しても良い。次に、第1基板14及びロウ付け合金ペーストは、真空炉内において、ロウ付け合金を溶かして第1基板14の表面を濡らす温度で、熱せられる。ロウ付け合金ペーストは、重量で約2/3の銀と、重量で約1/3の銅と、微量のチタンとを含んでいても良い。
【0011】
ニッケル系合金(例えば、ニッケル・ボロン又はニッケル・リンなど)の保護コーティング28を、第1基板14の外面上の導電性金属の上に、つけても良い。保護コーティング28は、導電性金属の酸化を防止する。保護コーティング28は、厚みが約0.00076cm(0.0003インチ)であっても良く、無電解メッキ・プロセスによって、つけても良い。金の薄膜コーティングを、保護コーティング28の上に、つけても良い。
【0012】
例えば、絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ、ダイオード、マイクロプロセッサ、メモリ・チップなどの電子部品24、及び他の発熱要素を、選択的なメタライゼーションの実装パッドに、表面実装しても良い。例えば、部品24を、実装パッドに、ロウ付け又はハンダ付けしても良い。
【0013】
電子部品24は、動作中に発熱する。その熱は、アタッチメント層26及び第1基板14を通って、放熱要素22まで伝達される。その間に、空気又はガス冷媒を、流体通路を通して(入口18及び出口20を介して)循環させる。熱は、放熱要素22から冷媒へ移動し、冷媒によって、熱が運び去られる。閉じた冷却回路を用いる場合、熱交換器10の出口20を出た冷媒は、(例えば他の熱交換器によって)冷却され、熱交換器10の入口18に戻しても良い。
【0014】
好ましくは、第1基板14は、「AS800」窒化ケイ素(Honeywell International社から販売される)で形成される。「AS800」窒化ケイ素は、補強マイクロ構造を有し、その構造は、その材料の強度及び熱伝導度を、他のタイプの窒化ケイ素よりも高くする。「AS800」窒化ケイ素は、熱伝導度が、約80〜90W/mKであり、室温曲げ強さが、約735Mpa(4点曲げ試験)であり、破壊靱性が、約8.1Mpa(m)1/2である。
【0015】
これらの特性によって、第1基板14の厚みを、約0.0254cm(0.010インチ)〜0.635cm(0.250インチ)とすることができ、より好ましくは、0.0635cm(0.025インチ)〜0.254cm(0.100インチ)とすることができる。このように厚みが薄いために、窒化ケイ素の熱インピーダンスを最小限にして、熱を部品24から放熱要素22へ移すことができる。第1基板14が厚すぎると、放熱要素22への熱の流れが、妨げられる。
【0016】
また「AS800」窒化ケイ素の膨張率(約100万分の1.54/cm/℃(約100万の3.9/インチ/℃))は、半導体シリコンの膨張率に、非常に近い。熱的な不一致が、殆どないので、電子部品24を、第1基板14に直接、表面実装することができる。
【0017】
窒化ケイ素片(例えば、フレーム12並びに基板14及び基板16)は、キャスティング、プレシング、又はモールディング・プロセスによって、形成しても良い。入口18及び出口20のための開口部を、窒化ケイ素内に、レーザ加工しても良い。
【0018】
窒化ケイ素片は、「WESGO TICUSIL」などの活性金属ロウ付け合金を用いて、一度にロウ付けしても良い。例えば、熱交換器10は、第1基板14上に「TICUSIL」薄片(又は覆うことが可能な(screenable)ペースト)の第1シート30を配置し、薄片の第1シート30上にフレーム12及び放熱要素22を配置し、フレーム12及び放熱要素22上に「TICUSIL」薄片の第2シート32を配置し、薄片の第2シート32上に第2基板16を配置し、そしてアセンブリ全体を一度にロウ付けすることによって、組み立てても良い。
【0019】
熱交換器10を組み立てた後、エンド・ユーザは、電子部品24を、第1基板14上のメタライゼーション26に、表面実装することができる。熱交換器10は、構造物及び冷媒配管に、固定しても良い。
【0020】
基板14及び基板16の幾何形状及び面積、ならびに基板14及び基板16間の距離は、用途によって特定される。例えば、基板14及び基板16は、幾何形状が、矩形であっても良い。
【0021】
選択的なメタライゼーション34を、第2基板16上にも形成して、電子部品24を、そのメタライゼーション34に実装しても良い。こうすることによって、電子部品24を、熱交換器10の基板14及び基板16の両方に実装することができる。
【0022】
熱交換器10の流体通路を、放熱要素22によって、複数の経路に分割しても良い。例えば、第1基板14と第2基板16との間に延びるフィン状の放熱要素によって、複数の経路が形成される。
【0023】
熱交換器10は、放熱要素22がなくても、機能することができる。しかし、放熱要素22によって熱移動が増大される。
熱交換器10は、第1基板14と第2基板16との間にロウ付けされた放熱要素22に限定されない。代替的な放熱要素は、一方又は両方の基板と一体的に形成されていても良い。例えば、フィン状のパターン104を、第1基板102の内面にスタンプ(stamp)しても良い(図3参照)。
【0024】
さらに他の放熱要素は、第1基板14の内面を、金属ロウ付け合金(例えば「WESGO TICUSIL」ロウ付け用合金)によって、メタライズすることによって実施することができる。第1基板14及び第2基板16を、低温ロウ付け用合金(例えば「WESGO CUSILTIN−10」薄片)を用いることによって、フレーム12に接合する。
【0025】
熱交換器は、別個に形成された基板及びフレームに限定されない。例えば基板の一方を、フレームと一体的に形成しても良い。
熱交換器は、窒化ケイ素からなるフレーム及び第2基板に限定されない。例えば、第1基板を、モリブデンなどの金属からなる熱交換器コアに接合しても良い。しかし、窒化ケイ素フレーム及び窒化ケイ素基板であれば、熱係数が良く合っているために、より丈夫な設計となる。
【0026】
選択的なメタライゼーションではない電子部品アタッチメント層を、基板上に形成しても良い。例えば、電子部品アタッチメント層は、部品24を基板202に直接固定する粘着物204であっても良いし(図4参照)、基板302を他の基板306に接合できる固体金属シート304であっても良い(図5参照)。
【0027】
電子部品アタッチメント層には、窒化ケイ素基板402に(例えば粘着物によって)接合された第1の表面と選択的なメタライゼーション406を備える第2の表面とを有するポリアミド板404さえ含まれていても良い(図6参照)。このような組合せは、熱伝導度が、従来の銅−モリブデン−銅板よりも良好である。ポリアミド板404は、たとえ、窒化ケイ素基板402の両側に接合されていても良い。
【0028】
窒化ケイ素のタイプは、「AS800」に限定されない。例えば「GS−44」窒化ケイ素を用いても良い。「GS−44」窒化ケイ素は、やはりHoneywell International社から販売されているのであるが、一般に「AS800」窒化ケイ素よりも、強度は高いが熱伝導度は低い。
【0029】
複数の熱交換器10を配列して、より大きな基板を形成しても良い。電気的な相互接続を用いて、異なる熱交換器10の選択的なメタライゼーションを接続することもできる。
【0030】
以上、本発明を特定の実施形態を参照して説明してきたが、本発明はそれに限定されるものではない。むしろ本発明は、添付の特許請求の範囲に基づいて解釈される。
【図面の簡単な説明】
【図1】
本発明による装置を示す分解図である。
【図2】
装置を示す断面図である。
【図3】
装置に関する代替的な窒化ケイ素基板を示す断面図である。
【図4】
装置に関する代替的な電子部品アタッチメント層を示す断面図である。
【図5】
2つの窒化ケイ素基板と、それらの基板間の代替的な電子部品アタッチメント層とを示す断面図である。
【図6】
窒化ケイ素基板と、代替的な電子部品アタッチメント層とを示す断面図である。
【発明の背景】
本発明は、高パワー電子部品を実装するための基板だけでなく、熱交換器にも関連する。より詳細には、本発明は、高パワー電子部品によって発生した熱の放散に関連する。
【0002】
例えば、絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ、ダイオード、マイクロプロセッサ、メモリ・チップなどの様な高パワー電子部品は、動作中に発熱する。この熱は、通常、これらの部品に対するダメージを防ぐために放散させる。
【0003】
電子部品に直接取り付けられ、プリント回路基板に固定されるヒート・シンクが、通常、放熱に使用される。しかし、これらの電子部品のパワー密度が、増加し続けると、従来のヒート・シンク(例えば、ヒート・パイプ、アルミニウム・フィン)は、放熱に対して実用的でなくなる。
【0004】
熱は、液冷の熱交換器によって、放散させることができる。しかし、典型的な熱交換器材料のそれぞれは、以下の特性を備えているわけではない:強度、熱伝導性、電子部品の膨張率に匹敵する膨張率(COE:Coefficient Of Expansion)。これらの3つの特性を備える熱交換器は、通常、複数種の材料からなる。このような熱交換器は、通常、複雑で、重くて、高価である。
【0005】
【発明の概要】
本発明の1つの態様によれば、装置は、窒化ケイ素基板を含む熱交換器と、その基板外面上の電子部品アタッチメント層とを備える。本発明の他の態様によれば、高パワー電子部品を実装するための物品は、補強マイクロ構造(in−situ reinforced microstructure)を有する窒化ケイ素基板と、その基板表面上の選択的なメタライゼーションとを備える。
【0006】
本発明のさらに他の態様によれば、熱交換器は、フレームと、そのフレームに接合された第1基板及び第2基板とを備える。フレームと第1及び第2の基板とによって、流体の通路が規定される。第1基板は、窒化ケイ素からなる。
【0007】
[発明の詳細な説明]
図1及び図2を参照すると、熱交換器10は、フレーム12と、そのフレーム12に接合された第1基板14及び第2基板16とを備える。基板14及び16は、ロウ(鑞)付け、又は、漏れ防止シールを形成する他のプロセスによって、フレーム12に結合してもよい。フレーム12と第1基板14及び第2基板16とによって、流体の通路が規定される。通路に対する入口18及び出口20は、フレーム12、又は基板14、又は基板16の中に、形成しても良い。第1基板14は、窒化ケイ素からなる。また、フレーム12及び第2基板16も、窒化ケイ素からなっていても良い。
【0008】
熱交換器10はさらに、流体通路内に配置され第1基板14に熱的に結合された放熱要素22を備える。放熱要素22は、良好な熱伝達特性を示す何らかの材料(例えば銅、カーボン・フォーム(carbon foam)、モリブデン)からなるブロック又はシートであっても良い。シートに波形を付けることによって、露出表面積が増えて、熱伝達能力が改善される。例えば、放熱要素22は、第1基板14と第2基板16との間にロウ付けされた、波形が付けられた銅製シートであっても良い。
【0009】
選択的なメタライゼーション26は、第1基板14の外面上に形成しても良い。選択的なメタライゼーションは、電気的な相互接続と、高パワー電子部品24用の実装パッドとを含んでも良い。例えば、活性金属ロウ付け合金(例えばチタン系合金、バナジウム系合金)の薄片、ペースト又は予備形成物は、第1基板14の外面上に形成し、電子部品24用の実装パッドへとパターン形成しても良い。場合によっては、必要な電流密度を得るために、ロウ付け合金の上に、銅を形成しても良い。その代わりに、電気的な相互接続及び実装パッドは、第1基板14上に、厚膜プロセスを用いて導電性インクを塗布することによって、又は、パラジウム・クロムもしくはニッケル・クロムをスパッタリングすることによって、形成しても良い。
【0010】
選択的なメタライゼーション26は、活性金属ロウ付け合金ペーストを第1基板14上に所望のパターンでスクリーン印刷することによって、形成しても良い。次に、第1基板14及びロウ付け合金ペーストは、真空炉内において、ロウ付け合金を溶かして第1基板14の表面を濡らす温度で、熱せられる。ロウ付け合金ペーストは、重量で約2/3の銀と、重量で約1/3の銅と、微量のチタンとを含んでいても良い。
【0011】
ニッケル系合金(例えば、ニッケル・ボロン又はニッケル・リンなど)の保護コーティング28を、第1基板14の外面上の導電性金属の上に、つけても良い。保護コーティング28は、導電性金属の酸化を防止する。保護コーティング28は、厚みが約0.00076cm(0.0003インチ)であっても良く、無電解メッキ・プロセスによって、つけても良い。金の薄膜コーティングを、保護コーティング28の上に、つけても良い。
【0012】
例えば、絶縁ゲート・バイポーラ・トランジスタ、ダイオード、マイクロプロセッサ、メモリ・チップなどの電子部品24、及び他の発熱要素を、選択的なメタライゼーションの実装パッドに、表面実装しても良い。例えば、部品24を、実装パッドに、ロウ付け又はハンダ付けしても良い。
【0013】
電子部品24は、動作中に発熱する。その熱は、アタッチメント層26及び第1基板14を通って、放熱要素22まで伝達される。その間に、空気又はガス冷媒を、流体通路を通して(入口18及び出口20を介して)循環させる。熱は、放熱要素22から冷媒へ移動し、冷媒によって、熱が運び去られる。閉じた冷却回路を用いる場合、熱交換器10の出口20を出た冷媒は、(例えば他の熱交換器によって)冷却され、熱交換器10の入口18に戻しても良い。
【0014】
好ましくは、第1基板14は、「AS800」窒化ケイ素(Honeywell International社から販売される)で形成される。「AS800」窒化ケイ素は、補強マイクロ構造を有し、その構造は、その材料の強度及び熱伝導度を、他のタイプの窒化ケイ素よりも高くする。「AS800」窒化ケイ素は、熱伝導度が、約80〜90W/mKであり、室温曲げ強さが、約735Mpa(4点曲げ試験)であり、破壊靱性が、約8.1Mpa(m)1/2である。
【0015】
これらの特性によって、第1基板14の厚みを、約0.0254cm(0.010インチ)〜0.635cm(0.250インチ)とすることができ、より好ましくは、0.0635cm(0.025インチ)〜0.254cm(0.100インチ)とすることができる。このように厚みが薄いために、窒化ケイ素の熱インピーダンスを最小限にして、熱を部品24から放熱要素22へ移すことができる。第1基板14が厚すぎると、放熱要素22への熱の流れが、妨げられる。
【0016】
また「AS800」窒化ケイ素の膨張率(約100万分の1.54/cm/℃(約100万の3.9/インチ/℃))は、半導体シリコンの膨張率に、非常に近い。熱的な不一致が、殆どないので、電子部品24を、第1基板14に直接、表面実装することができる。
【0017】
窒化ケイ素片(例えば、フレーム12並びに基板14及び基板16)は、キャスティング、プレシング、又はモールディング・プロセスによって、形成しても良い。入口18及び出口20のための開口部を、窒化ケイ素内に、レーザ加工しても良い。
【0018】
窒化ケイ素片は、「WESGO TICUSIL」などの活性金属ロウ付け合金を用いて、一度にロウ付けしても良い。例えば、熱交換器10は、第1基板14上に「TICUSIL」薄片(又は覆うことが可能な(screenable)ペースト)の第1シート30を配置し、薄片の第1シート30上にフレーム12及び放熱要素22を配置し、フレーム12及び放熱要素22上に「TICUSIL」薄片の第2シート32を配置し、薄片の第2シート32上に第2基板16を配置し、そしてアセンブリ全体を一度にロウ付けすることによって、組み立てても良い。
【0019】
熱交換器10を組み立てた後、エンド・ユーザは、電子部品24を、第1基板14上のメタライゼーション26に、表面実装することができる。熱交換器10は、構造物及び冷媒配管に、固定しても良い。
【0020】
基板14及び基板16の幾何形状及び面積、ならびに基板14及び基板16間の距離は、用途によって特定される。例えば、基板14及び基板16は、幾何形状が、矩形であっても良い。
【0021】
選択的なメタライゼーション34を、第2基板16上にも形成して、電子部品24を、そのメタライゼーション34に実装しても良い。こうすることによって、電子部品24を、熱交換器10の基板14及び基板16の両方に実装することができる。
【0022】
熱交換器10の流体通路を、放熱要素22によって、複数の経路に分割しても良い。例えば、第1基板14と第2基板16との間に延びるフィン状の放熱要素によって、複数の経路が形成される。
【0023】
熱交換器10は、放熱要素22がなくても、機能することができる。しかし、放熱要素22によって熱移動が増大される。
熱交換器10は、第1基板14と第2基板16との間にロウ付けされた放熱要素22に限定されない。代替的な放熱要素は、一方又は両方の基板と一体的に形成されていても良い。例えば、フィン状のパターン104を、第1基板102の内面にスタンプ(stamp)しても良い(図3参照)。
【0024】
さらに他の放熱要素は、第1基板14の内面を、金属ロウ付け合金(例えば「WESGO TICUSIL」ロウ付け用合金)によって、メタライズすることによって実施することができる。第1基板14及び第2基板16を、低温ロウ付け用合金(例えば「WESGO CUSILTIN−10」薄片)を用いることによって、フレーム12に接合する。
【0025】
熱交換器は、別個に形成された基板及びフレームに限定されない。例えば基板の一方を、フレームと一体的に形成しても良い。
熱交換器は、窒化ケイ素からなるフレーム及び第2基板に限定されない。例えば、第1基板を、モリブデンなどの金属からなる熱交換器コアに接合しても良い。しかし、窒化ケイ素フレーム及び窒化ケイ素基板であれば、熱係数が良く合っているために、より丈夫な設計となる。
【0026】
選択的なメタライゼーションではない電子部品アタッチメント層を、基板上に形成しても良い。例えば、電子部品アタッチメント層は、部品24を基板202に直接固定する粘着物204であっても良いし(図4参照)、基板302を他の基板306に接合できる固体金属シート304であっても良い(図5参照)。
【0027】
電子部品アタッチメント層には、窒化ケイ素基板402に(例えば粘着物によって)接合された第1の表面と選択的なメタライゼーション406を備える第2の表面とを有するポリアミド板404さえ含まれていても良い(図6参照)。このような組合せは、熱伝導度が、従来の銅−モリブデン−銅板よりも良好である。ポリアミド板404は、たとえ、窒化ケイ素基板402の両側に接合されていても良い。
【0028】
窒化ケイ素のタイプは、「AS800」に限定されない。例えば「GS−44」窒化ケイ素を用いても良い。「GS−44」窒化ケイ素は、やはりHoneywell International社から販売されているのであるが、一般に「AS800」窒化ケイ素よりも、強度は高いが熱伝導度は低い。
【0029】
複数の熱交換器10を配列して、より大きな基板を形成しても良い。電気的な相互接続を用いて、異なる熱交換器10の選択的なメタライゼーションを接続することもできる。
【0030】
以上、本発明を特定の実施形態を参照して説明してきたが、本発明はそれに限定されるものではない。むしろ本発明は、添付の特許請求の範囲に基づいて解釈される。
【図面の簡単な説明】
【図1】
本発明による装置を示す分解図である。
【図2】
装置を示す断面図である。
【図3】
装置に関する代替的な窒化ケイ素基板を示す断面図である。
【図4】
装置に関する代替的な電子部品アタッチメント層を示す断面図である。
【図5】
2つの窒化ケイ素基板と、それらの基板間の代替的な電子部品アタッチメント層とを示す断面図である。
【図6】
窒化ケイ素基板と、代替的な電子部品アタッチメント層とを示す断面図である。
Claims (10)
- 窒化ケイ素第1基板(14、102、202、302、402)を含む熱交換器(10)と、
前記基板の外面上の電子部品アタッチメント層(26、204、304、404)と、
を備える装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記熱交換器(10)が、流体通路を規定し、更に、前記流体通路内に放熱要素(22)を含む、装置。 - 請求項2に記載の装置において、前記放熱要素(104)が、前記基板(102)と一体的である、装置。
- 請求項1に記載の装置において、
前記熱交換器(10)が更に、窒化ケイ素からなるフレーム(12)及び第2基板(16)を含み、
前記第1及び第2基板(12、14)が、前記フレーム(16)に接合され、
前記第1及び第2基板及びフレームが、流体の通路を規定する、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記第1基板(14、102、202、302、402)が、補強マイクロ構造を有する、装置。 - 請求項5に記載の装置において、
前記第1基板(14、102、202、302、402)の厚さが、約0.0635cm(0.025インチ)〜0.254cm(0.100インチ)である、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記電子部品アタッチメント層が、導電性金属からなる選択的なメタライゼーション(26)を含む、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記電子部品アタッチメント層が、導電性金属からなるシート(304)を含む、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記電子部品アタッチメント層が、粘着物(204)を含む、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記電子部品アタッチメント層が、選択的なメタライゼーションを有するポリアミド板(404)を含む、装置。
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