JP2004361218A - Method for measuring surface profile and/or film thickness and its apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明膜で覆われた測定対象面の凹凸形状および厚みを測定する表面形状および/または膜厚測定方法およびその装置に係り、特に、白色光を用いて非接触で測定対象表面形状および/または膜厚を測定する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のこの種の装置として、半導体ウエハや液晶表示器用ガラス基板などの精密加工品の凹凸形状を白色光の干渉を用いて測定する方法を利用した表面形状測定装置が広く知られている。
【0003】
すなわち、白色光源からの白色光を測定対象物の測定対象面と参照面とに照射しながら、測定対象面の距離を変動させることにより測定対象面と参照面とを反射する反射光の光路差を生じさせて、このときの干渉光の強度値を所定間隔でサンプリングする。このサンプリングにより得られ強度値群に基づいて干渉縞波形ピークの特性値群を求め、この特性値をローパスフィルタにより平滑化処理して求まる包絡線からそれぞれのピーク位置情報を求める。この求まったピーク位置情報から測定対象物の表面高さを求める。(特許文献1参照)
【0004】
【特許文献1】
米国特許公報USP5,133,601
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これら従来例の場合には、測定対象物の表面高さなどを精度よく求めることができないといった問題がある。
【0006】
すなわち、物体の表面が透明膜で覆われている場合、白色光は、透明膜の表面と、透明膜を透過して透明膜の裏面と接合している測定対象物の表面とで反射する2つの反射光が発生する。この反射光が重畳した状態で取得した複数枚の画像における所定画素の強度値を強度波形で表すと、表面が透明膜で覆われていない物体を測定したときのように、単純な単峰性ピークとならず、透明膜の表面と測定対象物の表面に対応した2個のピークが発生する。
【0007】
例えば、透明膜が薄い場合には、透明膜の表面と測定対象物の表面からの反射光の波形が略重畳した状態となり、それぞれのピークが波形上に重なった状態で現れる。このような場合には、従来の1個のピークの位置情報を求める方法では、単純にローパスフィルタにより2個のピークを1個のピークとしてみなして平滑化処理をしてピーク位置情報を求めることになる。
【0008】
したがって、測定対象物の正確な表面高さのピーク位置情報を得ることもできないし、透明膜の下にある測定対象物の表面高さのピーク位置情報をも正確に得ることができないといった問題がある。
【0009】
また、これらピーク位置情報を正確に求めて測定対象物の表面高さおよび透明膜の表面高さを求めた後でなければ、透明膜の膜厚を正確に求めることができないといった問題もある。
【0010】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、透明膜に覆われた測定対象物の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象物の表面高さ、および透明膜の膜厚を精度よく求めることのできる表面形状および/または膜厚測定方法及びその装置を提供することを主たる目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、白色光源からの白色光を透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに照射しながら、前記測定対象面と参照面との距離を変動させることにより、測定対象面と参照面から反射して同一光路を戻る反射光によって干渉縞の変化を生じさせ、このときの干渉光の強度値に基づいて測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求める前記測定対象面の表面形状および/または膜厚測定方法において、
前記特定周波数帯域の白色光が照射された前記測定対象面と参照面との距離を変動させる第1の過程と、
前記測定対象面と参照面との距離を変動させる過程で、測定対象面の画像を所定間隔で連続して取得する第2の過程と、
前記所定間隔で連続して取得した複数枚の画像の各画素における干渉光の強度値群の変化を求める第3の過程と、
前記求めた強度値群の変化の平均値を求める第4の過程と、
測定対象物と同じ対象物について予め求めた干渉光の強度値の平均値と透明膜の膜厚の相関関係に基づいて前記第4の過程で実測により求めた強度値の平均値から透明膜の膜厚を求める第5の過程と、
前記求めた強度値群から包絡線に相当する特性値群を取得する第6の過程と、
前記特性値群の示す波形データから特性関数を求め、この特性関数に基づいて前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求める第7の過程と、
前記求めたピーク位置情報に基づいて、測定対象面の表面高さを求める第8の過程と、
前記第5の過程で求めた透明膜の膜厚と、前記第8の過程で求めた測定対象面の表面高さとから透明膜の表面高さを求める第9の過程と
を備えたことを特徴とするものである。
【0012】
(作用・効果) 請求項1に記載の発明によれば、白色光源から発生した白色光を測定対象面と参照面とに照射する。透明膜の表面および表面側と接合している物体の表面である測定対象面と参照面とでそれぞれ反射した白色光の光路差に応じて干渉した干渉縞が発生する。ここで、測定対象面と参照面との距離を変動させることにより、それぞれの光路差を変化させて干渉縞を変化させながら所定間隔で連続して複数枚の測定対象面の画像を取得し、画像ごとの各画素における干渉光の強度値群の変化を求める。この強度値群の変化から平均値を求める。次に、測定対象物と同じ対象物について予め求めた干渉光の強度値の平均値と透明膜の相関関係に基づいて、実測によって求まった強度値群の平均値から透明膜の膜厚を求める。また、同時に取得した強度値群から包絡線に相当する特性値群を取得し、この特性値群の示す波形データから特性関数を求める。この特性関数からは、測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報が求められ、このピーク位置情報に基づいて、測定対象面の表面高さが求められる。求まった測定対象面の表面高さと実測により求めた透明膜の膜厚を利用する。つまり、それぞれの値を加算することによって透明膜の表面高さが求められる。すなわち、干渉光の強度値群の平均値を利用することにより、正確に透明膜の膜厚を求めることができ、この透明膜の膜厚を利用することによって、透明膜の表面高さもより正確にもとめることができる。
【0013】
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記第9の過程で求める透明膜の表面高さ(h)は、透明膜の膜厚(D)と透明膜の屈折率(n)の関係から予め求めた透明膜の膜厚の補正量を含む膜厚f(n,D)を前記第8の過程で求めた測定対象面の表面高さ(ha)に加算して求めた値であることを特徴とするものである。
【0014】
また、請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記透明膜の補正量を含む透明膜の膜厚f(n,D)は、f(n,D)=n×Dの関係式で表されることを特徴とするものである。
【0015】
(作用・効果)請求項2および請求項3に記載の発明によれば、透明膜の表面高さ(h)は、透明膜の膜厚(D)と透明膜の屈折率(n)とから求まる透明膜の膜厚の補正量を含む透明膜の膜厚f(n,D)が測定対象面の表面高さ(h)に加算される(請求項2)。このときの補正量を含む透明膜の膜厚f(n,D)は、f(n,D)=n×Dの関係式で表すことができる(請求項3)。したがって、透明膜の表面高さをより一層に精度よく求めることができる。
【0016】
また、請求項4に記載の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記第7の過程で求める特性関数は、包絡線または2乗包絡線であることを特徴とするものである。
【0017】
(作用・効果)請求項4に記載の発明によれば、特性関数として、包絡線または2乗包絡線が利用される。したがって、干渉縞波形のノイズ成分を除去した状態でピーク位置情報を求めることができる。したがって、測定対象面の表面高さを精度よく求めることができ、ひいては、透明膜の表面高さも精度よく求めることができる。
【0018】
また、請求項5に記載の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記特性関数は、帯域通過型標本化定理に基づいて求めることを特徴とするものである。
【0019】
(作用・効果)請求項5に記載の発明によれば、帯域通過型標本化定理を利用することによって、サブナイキストのサンプリング間隔で取得された特性値群から特性関数を容易に復元することができる。
【0020】
また、請求項6に記載の発明は、請求項2ないし請求項5のいずれかに記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記透明膜の膜厚の補正量を規定するためのパラメータとして、反射率が既知の測定対象物の試料を用いて装置パラメータを予め求めておくことを特徴とするものである。
【0021】
また、請求項7に記載の発明は、請求項2ないし請求項6のいずれかに記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記透明膜の膜厚の補正量を規定するためのパラメータとして、膜厚が既知の測定対象物の試料を用いて装置パラメータを予め求めておくことを特徴とするものである。
【0022】
(作用・効果)請求項6および請求項7に記載の発明によれば、測定対象物の表面が透明膜で覆われているので、その透明膜の膜厚の補正量を規定するのに反射率が既知の透明膜および測定対象物のそれぞれの試料を用いて(請求項6)、または膜厚が既知の透明膜の試料を用いて(請求項7)装置パラメータを予め求めておくことにより、透明膜の膜厚、測定対象面の高さ、および透明膜の表面高さをより一層精度よく求めることができる。
【0023】
また、請求項8に記載の発明は、請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記第1の過程の前に、さらに前記白色光源からの白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限する過程を備えたことを特徴とするものである。
【0024】
また、請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、異なる複数の特定周波数帯域を用いること特徴とするものである。
【0025】
(作用・効果)請求項8および請求項9に記載の発明によれば、白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限することにより、測定対象面からの反射光をより精度よく検出することができる。なお、異なる複数の特定周波数帯域を用いることが好ましい(請求項9)。すなわち、強度値の平均値から透明膜の膜厚を求める第5の過程において、一般には、複数の膜厚の候補値が存在する。対象の膜厚値が十分に狭い範囲内に存在することが既知の場合には、一義的に透明膜の膜厚を特定できるが、それが不可能な場合には、複数の特定周波数帯域を用いて透明膜の膜厚の候補を求め、全ての帯域に共通する膜厚の候補を選択することで、精度よく透明膜の膜厚を特定することができる。
【0026】
また、請求項10に記載の発明は、透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに照射する白色光を発生させる白色光源と、前記測定対象面と参照面との距離を変動させる変動手段と、前記白色光が照射された測定対象面と参照面との距離の変動に伴って測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって干渉縞の変化を生じさせるとともに前記測定対象面を撮像する撮像手段と、前記撮像された測定対象面上の複数の特定箇所における干渉光の強度値を取り込むサンプリング手段と、前記サンプリング手段によって取り込まれた特定箇所ごとの複数個の強度値である各干渉光強度値群を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された各干渉光強度値群に基づいて特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求める演算手段とを備えた表面形状および/または膜厚測定装置において、
前記白色光源から発生した白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限する周波数帯域制限手段を備え、
前記サンプリング手段は、前記変動手段による前記測定対象面と参照面との距離の変動に伴って測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じた干渉縞の変化に応じた特定箇所の干渉光の強度値を、前記特定周波数帯域の帯域幅に応じたサンプリング間隔で順次取込み、
前記記憶手段は、前記サンプリング間隔で取り込まれた複数個の強度値である干渉光強度値群を記憶し、
前記演算手段は、測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および/または透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを以下の処理にしたがって求める
(1)前記記憶手段に記憶された各画素における干渉光から干渉光強度値群の変化を求め、
(2)前記求めた干渉光の強度値群の変化の平均値を求め、
(3)測定対象物と同じ対象物について予め求めた干渉光の強度値の平均値と透明膜の膜厚の相関関係に基づいて前記第4の過程で実測により求めた強度値の平均値から透明膜の膜厚を求め、
(4)前記求めた強度値群から包絡線に相当する特性値群を求め、
(5)前記特性値群から特性関数を求め、この特性関数に基づいて測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求め、
(6)前記求めたピーク位置情報に基づいて、測定対象面の表面高さを求め、
(7)前記求めた透明膜の膜厚と、測定対象面の表面高から透明膜の表面高さを求めることを特徴とするものである。
【0027】
(作用・効果)白色光源は、透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに白色光を照射する。変動手段は、測定対象面と参照面との距離とを変動させる。撮像手段は、白色光が照射された測定対象面と参照面との相対的距離の変動に伴って発生する干渉縞の変化とともに前記測定対象面を撮像する。サンプリング手段は、撮像された測定対象面上の複数の特定箇所における干渉光の強度値を取り込む。記憶手段は、サンプリング手段によって取り込まれた特定箇所ごとの複数個の強度値である各干渉光強度値群を記憶する。演算手段は、記憶手段に記憶された各画素における実測による干渉光強度値群から干渉光の強度値の変化を求め、この強度値群の平均値を求める。次に、測定対象物と同じ対象物から予め求めた干渉光の強度値群の平均値と透明膜の膜厚の相関関係に基づいて実測により求めた強度値群の平均値から透明膜の膜厚を求める。同時に、強度値群から包絡線に相当する特性値群を求めて特性関数を作成し、この特定関数に基づいて測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求める。ピーク位置情報に基づいて測定対象面の表面高さが求められる。これら求めた透明膜の膜厚と測定対象面の表面高さとを利用する。つまり、それぞれの値を加算することによって、透明膜の表面高さを求めることができる。すなわち、請求項1に記載の方法を好適に実現することができる。
【0028】
また、請求項11に記載の発明は、請求項10に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記演算手段は、さらに透明膜の膜厚と透明膜の屈折率とに基づいて透明膜の表面高さを補正演算処理することを特徴とするものである。
【0029】
(作用・効果)請求項11に記載の発明によれば、演算処理手段で、さらに透明膜の膜厚と透明膜の屈折率に基づいて透明膜の表面高さを補正演算することにより、透明膜の表面高さをより精度よく求めることができる。すなわち、請求項2および請求項3に記載の方法を好適に実現することができる。
【0030】
また、請求項12に記載の発明は、請求項10または請求項11に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から前記撮像手段までの光路に取り付けられる、特定周波数帯域の白色光だけを通過させるバンドパスフィルタであることを特徴とするものである。
【0031】
(作用・効果)請求項12に記載の発明によれば、白色光源から撮像手段までの光路に取り付けられたバンドパスフィルタは、特定周波数帯域の白色光のみを通過させる。これにより、撮像手段では、特定周波数帯域の白色光による干渉縞および測定対象面が撮像される。したがって、装置構成を簡素化することができるとともに、任意の周波数帯域を通過させるバンドパスフィルタを利用することによって、特定周波数帯域を任意の周波数帯域にすることもできる。
【0032】
また、請求項13に記載の発明は、請求項10または請求項11に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から発せられた白色光の周波数帯域を特定周波数帯域にまで狭める、前記白色光源から前記撮像手段までの光学系であることを特徴とするものである。
【0033】
(作用・効果)請求項13に記載の発明によれば、白色光源から撮像手段までの光学系は、白色光源から発生した白色光が撮像手段に届くまでの間に、その白色光の周波数帯域を特定周波数帯域にまで狭める。これにより、撮像手段では、特定周波数帯域の白色光による干渉縞および測定対象面が撮像される。したがって、装置構成をより簡素化することができる。
【0034】
また、請求項14に記載の発明は、請求項10または請求項11に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記周波数帯域制限手段は、特定周波数帯域の白色光を感知する前記撮像手段の周波数感度であることを特徴とするものである。
【0035】
(作用・効果)請求項14に記載の発明によれば、撮像手段は、その周波数特性によって、特定周波数帯域の白色光による干渉縞および測定対象面を撮像する。したがって、装置構成をより簡素化することができる。
【0036】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施例について具体的に説明をする。
図1は、本発明の実施例に係る表面形状測定装置の概略構成を示す図である。
【0037】
この表面形状測定装置は、半導体ウエハ、ガラス基板や金属基板などの測定対象物30の表面を覆った透明膜31および透明膜31の裏面側と接合している測定対象物30に形成された微細なパターンに、特定周波数帯域の白色光を照射する光学系ユニット1と、光学系ユニット1を制御する制御系ユニット2とを備えて構成されている。
【0038】
光学系ユニット1は、測定対象面30A、31Aおよび参照面15に照射する白色光を発生させる白色光源10と、白色光源10から白色光を平行光にするコリメートレンズ11と、特定周波数帯域の白色光だけを通過させるバンドパスフィルタ12と、バンドパスフィルタ12を通過してきた白色光を測定対象物30の方向に反射する一方、測定対象物30の方向からの白色光を通過させるハーフミラー13と、ハーフミラー13で反射されてきた白色光を集光する対物レンズ14と、対物レンズ14を通過してきた白色光を、参照面15へ反射させる参照光と、測定対象面30A、31Aへ通過させる測定光とに分けるとともに、参照面15で反射してきた参照光と測定対象面30A、31Aで反射してきた測定光とを再びまとめて、干渉縞を発生させるビームスプリッタ17と、参照面15で参照光を反射させるために設けられたミラー16と、参照光と測定光とがまとめられた白色光を結像する結像レンズ18と、干渉縞とともに測定対象面30Aを撮像するCCDカメラ19とを備えて構成されている。
【0039】
白色光源10は、例えば白色光ランプなどであり、比較的広い周波数帯域の白色光を発生させる。この白色光源10から発生された白色光は、コリメートレンズ11によって平行光とされ、バンドパスフィルタ12に入射する。
【0040】
バンドパスフィルタ12は、特定周波数帯域の白色光だけを通過させるためのフィルタであり、白色光源10からCCDカメラ19までの光路に取り付けられる。好ましくは、白色光源10からの白色光が参照面15への参照光と測定対象面30Aの測定光に分かれる位置までの間の光路に取り付けられる。この実施例では、例えばコリメートレンズ11と、ハーフミラー13との間の光路に取り付けられている。バンドパスフィルタ12としては、例えば中心波長が600nmの帯域通過型光学干渉フィルタなどを利用する。このバンドパスフィルタ12を通過した白色光は、その周波数帯域が狭められ、特定周波数帯域の白色光だけがバンドパスフィルタ12を通過する。
【0041】
ハーフミラー13は、バンドパスフィルタ12を通過してきた特定周波数帯域の白色光を測定対象物30の方向に向けて反射する一方、測定対象物30の方向から戻ってきた白色光を通過させるものである。このハーフミラー13で反射された特定周波数帯域の白色光は、対物レンズ14に入射する。
【0042】
対物レンズ14は、入射してきた白色光を焦点Pに向けて集光するレンズである。この対物レンズ14によって集光される白色光は、参照面15を通過し、ビームスプリッタ17に到達する。
【0043】
ビームスプリッタ17は、対物レンズ14で集光される白色光を、参照面15で反射させるために、ビームスプリッタ17の例えば上面で反射させる参照光と、測定対象面30A、31Aで反射させるために、ビームスプリッタ17を通過させる測定光とに分けるとともに、それら参照光と測定光とを再びまとめることによって、干渉縞を発生させるものである。ビームスプリッタ17に達した白色光は、ビームスプリッタ17の上面で反射された参照光と、ビームスプリッタ17を通過する測定光とに分けられ、その参照光は参照面15に達し、その測定光は透明膜31で覆われた測定対象物30の透明31膜の表面、および透明膜の裏面と接合した測定対象物30の表面である測定対象面30Aに達する。
【0044】
参照面15には、参照光をビームスプリッタ17の方向に反射させるためのミラー16が取り付けられており、このミラー16によって反射された参照光は、ビームスプリッタ17に達し、さらに、この参照光はビームスプリッタ17によって反射される。
【0045】
ビームスプリッタ17を通過した測定光は、焦点PおよびP’に向けて集光され、測定対象面30A,31A上で反射する。この反射した2つの測定光は、ビームスプリッタ17に達して、そのビームスプリッタ17を通過する。
【0046】
ビームスプリッタ17は、参照光と測定光とを再びまとめる。このとき、参照面15とビームスプリッタ17との間の距離L1と、ビームスプリッタ17と測定対象面30A、31Aとの間の距離L2との、距離の違いによって光路差が生じる。この光路差に応じて、参照光と測定光とは干渉し合うことで、干渉縞が生じる。この干渉縞が生じた状態の白色光は、ハーフミラー13を通過し、結像レンズ18によって結像されて、CCDカメラ19に入射する。
【0047】
CCDカメラ19は、干渉縞が生じた状態の白色光とともに、測定光によって映し出される測定対象面30A,31Aの焦点P、P’付近の画像を撮像する。この撮像した画像データは、制御系ユニット2によって収集される。また、後述で明らかになるが、本願発明の変動手段に相当する制御系ユニット2の駆動部24によって、例えば光学系ユニット1が上下左右に変動される。特に、光学系ユニット1が上下方向に駆動されることによって、距離L1と距離L2との距離が変動される。これにより、距離L1と距離L2との距離の差に応じて、干渉縞が徐々に変化する。CCDカメラ19によって、後述する所定のサンプリング間隔ごとに、干渉縞の変化とともに測定対象面30A、31Aの画像が撮像され、その画像データが制御系ユニット2によって収集される。CCDカメラ19は、本発明における撮像手段に相当する。
【0048】
制御系ユニット2は、表面形状測定装置の全体を統括的に制御や、所定の演算処理を行うためのCPU20と、CPU20によって逐次収集された画像データやCPU20での演算結果などの各種のデータを記憶するメモリ21と、サンプリング間隔やその他の設定情報を入力するマウスやキーボードなどの入力部22と、測定対象面30Aの画像などを表示するモニタ23と、CPU20の指示に応じて光学系ユニット1を上下左右に駆動する例えば3軸駆動型のサーボモータなどの駆動機構で構成される駆動部24とを備えるコンピュータシステムで構成されている。なお、CPU20は、本発明におけるサンプリング手段および演算手段に、メモリ21は本発明における記憶手段に、駆動部25は本発明における変動手段にそれぞれ相当する。
【0049】
CPU20は、いわゆる中央処理装置であって、CCDカメラ19、メモリ21及び駆動部24を制御するとともに、CCDカメラ19で撮像した干渉縞を含む測定対象面30Aの画像データに基づいて、測定対象物30の特定箇所の透明膜31の表面高さ、測定対象物30の表面高さ、および透明膜31の膜厚Dとを求める演算処理を行う。この処理については後で詳細に説明する。さらに、CPU20には、モニタ23と、キーボードやマウスなどの入力部22とが接続されており、操作者は、モニタ23に表示される操作画面を観察しながら、入力部22から各種の設定情報の入力を行う。また、モニタ23には、測定対象面30Aの測定終了後に、測定対象面30A、31Aの表面高さ、透明膜31の膜厚D、および測定対象面の凹凸形状などを数値や画像として表示される。
【0050】
駆動部24は、光学系ユニット1内の参照面15とビームスプリッタ17との間の固定された距離L1と、ビームスプリッタ17と測定対象面30Aとの間の可変の距離L2との距離の差を変化させるために、光学系ユニット1を直交3軸方向に変動させる装置であり、CPU20からの指示によって光学系ユニット1をX,Y,Z軸方向に駆動する例えば3軸駆動型のサーボモータを備える駆動機構で構成されている。なお、駆動部24は、本発明における変動手段に相当し、本発明における相対的距離とは、参照面15から測定対象面30Aまでの距離すなわち距離L1および距離L2を示す。本実施例では、光学系ユニット1を動作させるが、例えば測定対象物30が載置される図示していないテーブルを直交3軸方向に変動させるようにしてもよい。
【0051】
以下、本実施例の特徴部分である表面形状測定装置全体で行なわれる処理を図2のフローチャートを参照しながら具体的に説明する。
【0052】
[第1実施例]
本実施例では、中心周波数が600nmのバンドパスフィルタ12を挿入し、測定対象物30であるSi基板の表面に透明膜31として約0.45μmの酸化膜(SiO2)を形成したものを用いて測定した場合を例に採って説明する。なお、図7は、バンドパスフィルタ12を通過した白色光の波長スペクトルの分布を示した図である。
【0053】
<ステップS1> 条件設定
光学系ユニットをz軸方向に移動させるための走査速度や走査レンジなどの種々の条件設定や、測定対象と同じ対象物の試料を用いて干渉光の強度値の平均値と透明膜31の膜厚の相関関係を予め求め、その関係式等を入力設定する。
【0054】
本実施例の場合、種々の条件として、例えばバンドパスフィルタ12によって特定周波数帯域が制限された白色光の中心周波数を600nmとする。
【0055】
干渉光の強度値の平均値と透明膜31の膜厚の相関関係による関係式は、次のようにして求まる。
【0056】
透明膜内を透過する白色光および測定対象面30Aで反射する白色光(反射光)は、その透明膜内で多重に反射する。しかし、本実施例では、この多重反射による干渉光の強度が十分に小さいことから無視し、測定対象面30Aで1回反射した場合を仮定している。このときの観測輝度g(強度値)は、次式で表される。
【0057】
【数1】
【0058】
ここで、zpは測定対象面30Aの表面高さ、Dは透明膜31の膜厚、α=2k(空気の屈折率=1と仮定する)、kは角波数、nsは膜屈折率、klは照射される光の波数の下限値、kuは照射される光の波数の上限値、P,Q,R,Sは装置と対象膜物性により決まるパラメータである。
【0059】
上記式(1)から求まる強度値gの交流成分(AC成分)をf、直流成分(DC成分)をCとすると、各成分は次式で表すことができる。
【0060】
【数2】
【0061】
【数3】
【0062】
すなわち、式(3)において、右辺にはピーク高さzpが含まれず、透明膜の膜厚Dの未知のパラメータである。したがって、強度値の実測値C(D)が与えられると、膜厚Dが求まることが分かる。
【0063】
また、装置条件と透明膜の膜厚の条件が与えられると、強度値の平均値Cと膜厚Dとの関係は図3および図4(図3のレンジ拡大図)のように求めることができる。求められた強度値の平均値Cと透明膜の膜厚Dの関係を図3および図4に示すように直線近似し、制御系ユニット2のメモリ21などに予め設定保存しておく。
【0064】
なお、図3および図4において、強度平均曲線は、照明光の波長λ、透明膜の屈折率をnとした場合、(λ/2)/nの周期を持つ。本実施例では、略200nmの周期である。
【0065】
<ステップS2> 測定データ取得
光学系ユニット1は、白色光源10から発生される白色光をバンドパスフィルタ12によって特定周波数帯域に制限した白色光を測定対象面30A、31Aおよび参照面15に照射する。このバンドパスフィルタ12または後述する測定光および参照光に分けるまでの光学系によって特定周波数に制限するまでが、本発明における請求項8に記載の第1の過程の前の過程に相当する。
【0066】
また、CPU20は、予め所定の測定場所に移動された光学系ユニット1をz軸方向に移動を開始させるための変動開始の指示を駆動部24に与える。駆動部24は、図示しないステッピングモータなどの駆動系を駆動して、光学系ユニット1をz軸方向に予め決められた距離だけ移動させる。これにより、参照面15と測定対象面30Aとの距離が変動される。この過程が本発明における第1の過程に相当する。
【0067】
CPU20は、光学系ユニット1がサンプリング間隔だけ移動するたびに、CCD19で撮像される干渉縞を含む測定対象面30A、の画像データを収集して、メモリ21に順次記憶する。光学系ユニット1が予め決められた距離だけ移動することで、メモリ21には光学系ユニット1の移動距離およびサンプリング間隔によって決まる複数枚の画像データが記憶される。この過程が本発明における第2の過程に相当する。
【0068】
<ステップS3> 特定箇所の干渉光強度値群を取得
例えば、操作者がモニタ23に表示される測定対象面30Aを観察しながら、その測定対象面30A、31Aの高さを測定したい複数の特定箇所を入力部22から入力する。CPU20は、入力された複数の特定箇所を把握して、測定対象面30Aを撮像した画像上の前記複数の特定箇所に相当する画素の濃度値すなわち特定箇所における干渉光の強度値を、複数枚の画像データからそれぞれ取込む。これにより、各特定箇所における複数個の強度値(干渉光強度値群)が得られる。この過程が、本発明における第3の過程に相当する。
【0069】
<ステップS4> 強度値群から平均値を求める
CPU20は、図5に示すように、離散的に取得した特定箇所における干渉光強度値群に基づいて、干渉光の強度値を求める。なお、この過程が本発明における第4の過程に相当する。
【0070】
<ステップS5> 透明膜の膜厚を求める
ステップS4で求めた強度値の平均値を予め設定入力した式(3)の直線近似式を利用して透明膜31の膜厚Dを求める。
【0071】
本実施例では、強度値の平均値が71.5となったので、この強度値の平均値から、図3の関係を使って膜厚Dが0.4〜0.5μmの間と仮定すると、膜厚Dが0.46μmと求められる。
【0072】
なお、この過程が、本発明における第5の過程に相当する。
【0073】
<ステップS6> 強度値の平均値から特性値を求める
CPU20は、ステップS4で干渉光強度値群に基づいて求めた干渉光の強度値の平均値を利用し、干渉光強度値群の各強度値から平均値を減算した各値(調整値群)を求める。つまり、図6に示すように、干渉縞波形から直流成分を除去し、交流成分のみを残す。
【0074】
調整値をさらに2乗し、強度値をプラス側に強調した特性値を求める。なお、ステップS6は、本発明における第6の過程に相当する。
【0075】
<ステップS7> ピーク位置の取得
CPU20は、ステップS6で求まる特性値群と利用し、2乗包絡線または包絡線である特性関数を作成する。この作成としては、例えば帯域通過型標本化定理によって波形を復元してもよいし、バンドパスフィルタによって特性値を平準化して求めるようにしてもよい。この作成した特性関数から特性値がピークとなる箇所を読み取る。つまり、測定対象面30Aのピーク位置として取得画像の枚数目(数値)を読み取る。
【0076】
<ステップS8a> 表面形状の測定
CPU20は、求めたピーク位置が撮像された画像の枚数目の値(数値)に予め設定した既知の標本点間隔の積をとることによって測定対象面30Aの表面高さを求める。ステップS8のここまでが、本発明における第8の過程に相当する。
【0077】
次に、この測定対象面30Aの表面高さにステップS5で求めた透明膜31の膜厚Dを加算することにより、透明膜31の表面高さを求める。なお、ステップS8は、本発明における第9の過程に相当する。
【0078】
<ステップS9> 全特定箇所が終了?
CPU20は、全ての特定箇所が終了するまで、ステップS3〜S8の処理を繰り返し行い、全ての特定箇所の高さを求める。
【0079】
<ステップS10> 表示
CPU20は、モニタ23に透明膜31の特定箇所の透明膜31の表面高さや測定対象面30Aの表面高さ、膜厚Dの情報を表示したり、それら各特定箇所の高さの情報に基づいた3次元または2次元の画像を表示したりする。操作者は、これらの表示を観察することで、測定対象物30の測定対象面30Aや透明膜31の表面31Aの凹凸形状を把握することができる。
【0080】
ところで、図3および図4に示すように、C(D)は、白色光(照明光)波長λ、透明膜31の屈折率nとして(λ/2)/nの周期を持つ。本実施例では、約200nmの周期である。
【0081】
したがって、強度値の平均値Cが与えられた時、一般に、複数の透明膜31の膜厚Dの候補が存在ずる。対象の膜厚Dの値が十分に狭い範囲に存在することが既知の場合には、一義的に膜厚Dを決定できる。
【0082】
なお、上述のように一義的に膜厚を求めづらい場合には、異なる複数の特定周波数帯域の波長で同様の測定を行い、複数の測定結果から共通する膜厚Dの候補を選択することで、一義的に透明膜31の膜厚Dを決定できる。
【0083】
上述した実施例によれば、透明膜31で覆われた測定対象物30と同じ対象物の干渉光の強度値の平均値と透明膜31の膜厚Dの相関関係による式(3)を予め求めて設定入力し、実測によって求めた強度値を、この式(3)に代入して演算処理することによって、透明膜31の膜厚Dを精度よく求めることができる。また、干渉光の強度値群から包絡線に相当する特性値群を取得し、この特性値群の示す波形データから特性関数としての2乗包絡線を求める。この2乗包絡線のピーク位置情報を求め、このピーク位置情報に基づいて、測定対象面30Aの特定箇所の表面高さが求められる。この求まる測定対象面30Aの表面高さと透明膜31の膜厚Dの加算から透明膜31の表面高さを求めることができる。つまり、透明膜31の凹凸形状を、透明膜31の膜厚Dと測定対象面30Aの表面高さから測定することができる。
【0084】
[第2実施例]
本実施例では、透明膜表面での反射光の影響により発生するピーク位置のズレ量を厳密に補正し、透明膜31の表面高さを正しく求める場合について説明する。
【0085】
以下、原理について説明する。
【0086】
上記式(2)の強度値gの交流成分をfとして表した式(2)をcos関数と振幅成分の積として変形する。
【0087】
f(z;zp,D)=m(z;zp,D)cos{β(z−zp)+A(z)}…(4)
【0088】
包絡線関数rの2乗を次式(5)により定義する。
r(z;zp,D)= [m(z;zp,D)]2 … (5)
【0089】
この式(5)から求まるピーク位置zpは、透明膜の影響によって正確な値ではなくズレ量を含んだピーク位置zp’である。
【0090】
式(2)によると、ピーク位置情報zpは、z−zpの関係でしか現れていない。したがって、zpの値が変化した場合に、関数f自体は変形せずに、ピーク位置がz軸方向に平行移動することを意味する。その結果、2乗包絡線関数自体も同じ特性を有することになる。
【0091】
よって、zp=0のときにおける2乗包絡線関数rのピーク位置zp’(0)は、真のピーク位置zp=0からのズレ量であり、zpが0以外の場合のズレ量と同一である。つまり、zp−zp’=0−zp’(0)の関係となる。したがって、ズレ量を含まない真のピーク位置は次式(6)で表される。
【0092】
zp=zp’―zp’(0) … (6)
【0093】
このことから、上記式(6)において右辺第2項は、透明膜31の膜厚Dが既知の場合、補正項として予め求めておくことができる。すなわち、zp=0のときのfをf0と、rをr0と定義すると、上記式(4)および(5)は次式(7)および(8)として表すことができ、式(7)および(8)がズレ量を補正したピーク位置を求める演算式となる。
【0094】
【数4】
【0095】
r0(z;D)= [m(z;0,D)]2 … (8)
【0096】
上記式において、膜厚Dが既知の場合、r0はzのみの関数となるので、ピーク位置zp’(0)を求めることができるのである。
【0097】
透明膜31の表面高さのズレ量は、透明膜31の膜厚Dと透明膜の屈折率nとの関係に依存することが分かる。したがって、求めるべき真の透明膜31の表面高さhは、h=ha+f(n,D)の関係で表すことができる。ここで、haは、実測によって求まる測定対象面30Aの表面高さ、f(n,D)は膜厚の補正量を含む透明膜の膜厚(以下、適宜に「補正量」という)である。
【0098】
また、補正量f(n,D)は、近似的にはn×Dの積算により求めることもできる。このことは、発明者達の実験シミュレーションによって以下のように確認されている。
なお、透明膜と測定対象面の複数の組み合わせにおいて、以下の表1に示す3通りについて実験シミュレーションを行った。
【0099】
【表1】
【0100】
上記の表1の条件によって行った実験シミュレーションの結果を示す図8〜 10における透明膜31の膜厚Dと補正量の関係は、測定対象面30Aの表面30Aからの反射光が実験例1から実験例3のように強くなるにつれて補正量f(n,D)=n×Dの関係に近似することが分かった。
【0101】
次に、本実施例の表面形状測定装置全体で行なわれる処理を図2のフローチャートを参照しながら具体的に説明する。なお、本実施例では、第1実施例と共通する処理(ステップS1〜ステップS6)につていの説明は省略する。
【0102】
<ステップS7> ピーク位置の取得
CPU20は、ステップS6で求まる特性値群と利用し、包絡線または2乗包絡線である特性関数を作成する。この作成としては、例えば帯域通過型標本化定理によって波形を復元してもよいし、バンドパスフィルタによって特性値を平準化して求めるようにしてもよい。この作成した特性関数から特性値がピークとなる箇所を読み取る。つまり、測定対象面30Aのピーク位置として取得画像の枚数目(数値)を読み取る。
【0103】
<ステップS8b> 表面形状の測定
CPU20は、実測によって求まったピーク位置を利用して測定対象面30Aの表面高さを求める。測定対象面30Aの表面高さは、例えば、ピーク位置の撮像された画像の枚数目の数値と標本点間隔の積算処理により求める。
【0104】
次に、実測により求まった測定対象面30Aの表面高さに対してピーク位置のズレ量によって影響する透明膜31の表面高さのズレ量を補正する。つまり、予め求めた補正量f(n,D)を測定対象面30Aの表面高さに加算することにより、真の透明膜31の表面高さを求める。なお、ステップS8bは、本発明における第9の過程および請求項2に記載の方法に相当する。
【0105】
以下、ステップS9およびステップS10は、第1実施例のステップS9およびステップS10と同じ処理であるので、ここでの具体的な説明は省略する。
【0106】
以上のように、測定対象面30Aを覆う透明膜31の影響によるピーク位置のズレ量を補正することによって、正確な透明膜31の表面高さを求めることができる。
【0107】
本発明は上述した実施例のものに限らず、次のように変形実施することもできる。
(1)上記各実施例では、測定対象面30Aの画像データを撮像した後で、特定箇所の干渉光の強度値を取得するように構成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、撮像した画像上の特定箇所に相当する画素における強度値をリアルタイムに取得して、それら干渉光の強度値を順次メモリ21に記憶するように構成することもできる。
【0108】
(2)上記各実施例では、白色光源から発せられた白色光の周波数帯域を、バンドパスフィルタ11によって特定周波数帯域に帯域制限したが、本発明はこれに限定されるものではなく、白色光源からの白色光が撮像手段であるCCDカメラ19までの光学系(光源、レンズ、各ミラーを含む)によって白色光源からの白色光の周波数帯域が帯域制限されることを利用して、その周波数帯域を予め把握しておき、その帯域制限された周波数帯域を本発明における特定周波数帯域とすることもできる。
【0109】
(3)上記各実施例では、撮像手段であるCCDカメラ19の周波数特性によって制限される周波数帯域を特定周波数帯域として、その特定周波数帯域を予め把握しておき、その帯域制限された周波数帯域を本発明における特定周波数帯域とすることもできる。
【0110】
(4)上記各実施例では、撮像手段としてCCDカメラ19を用いたが、例えば、特定箇所の干渉光の強度値のみを撮像(検出)することに鑑みれば、一列または平面状に構成された受光素子などで撮像手段を構成することもできる。
【0111】
(5)上記各実施例では、白色光源10から白色光をコリメートレンズ11で平行光にした後に、バンドパスフィルタ12を設けて特定周波数帯域の白色光を通過させるように構成していたが、バンドパスフィルタ12を備えない構成のものであってもよい。
【0112】
(6)上記各実施例において、特性関数および補正量を規定するためのパラメータを予め求めて設定しおくことが好ましい。このパラメータとしては、例えば、反射率が既知の測定対象物30の試料を用いて求めた装置パラメータや、膜厚が既知の測定対象物30の試料を用いて求めた装置パラメータなどが挙げられる。これら各種パラメータを予め設定することによって、透明膜の膜厚、測定対象面Aの高さ、および透明膜の表面高さをより一層精度よく求めることができる。
【0113】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、白色光を透明膜で覆われた測定対象面と参照面との距離を変動させながら照射し、取得した特定箇所における干渉光の強度値群を取得する。この強度値群から干渉光の強度値の変化の実測値による平均値を求める。つまり、測定対象物と同じ対象物の干渉光の強度値の平均値と透明膜の膜厚の関係について予め求めた相関関係に基づいて、この実測値による強度値の平均値から透明膜の膜厚を求めることができる。また、干渉光の強度値群から包絡線または2乗包絡線に相当する特性値を求めて特性関数を作成し、この特性関数から測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報が得られ、このピーク維持情報に基づいて測定対象面の表面高さを求めることができる。さらに、求まった透明膜の膜厚と測定対象面の表面高さから透明膜の表面高さを求めることができる。
【0114】
したがって、予め求めた干渉光の強度値の平均値と透明膜の膜厚との関係による相関関係を利用することによって、実測によって求めた干渉光の強度値の平均値から透明膜の膜厚を容易、かつ精度よく求めることができ、ひいては、測定対象面の表面高さおよび透明膜の表面高さも精度よく求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例に係る表面形状測定装置の概略構成を示す図である。
【図2】第1および第2実施例の表面形状測定装置における処理を示すフローチャートである。
【図3】強度値の平均値と膜厚との関係を示した図である。
【図4】図3の拡大図である。
【図5】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図6】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図7】バンドパスフィルタを通過した白色光のスペクトル分布を示した図である。
【図8】透明膜の表面高さの補正量を求めるシミュレーションを示した図である。
【図9】透明膜の表面高さの補正量を求めるシミュレーションを示した図である。
【図10】透明膜の表面高さの補正量を求めるシミュレーションを示した図である。
【符号の説明】
1 … 光学系ユニット
2 … 制御系ユニット
10 … 白色光源
11 … コリメートレンズ
13 … ハーフミラー
14 … 対物レンズ
15 … 参照面
16 … ミラー
17 … ビームスプリッタ
18 … 結像レンズ
19 … CCDカメラ
20 … CPU
21 … メモリ
22 … 入力部
23 … モニタ
24 … 駆動部
30 … 測定対象物
30A… 測定対象面(測定対象物)
31 … 透明膜
31A… 測定対象面(透明膜)
D … 膜厚(透明膜)[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method and an apparatus for measuring a surface shape and / or a film thickness for measuring the unevenness and thickness of a surface to be measured covered with a transparent film, and in particular, to a non-contact surface shape of a measurement object using white light. And / or a technique for measuring film thickness.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art As a conventional apparatus of this type, a surface shape measuring apparatus utilizing a method of measuring the uneven shape of a precision processed product such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display using interference of white light is widely known.
[0003]
That is, while irradiating white light from a white light source to the measurement target surface and the reference surface of the measurement target, the optical path difference of the reflected light that reflects the measurement target surface and the reference surface by changing the distance between the measurement target surfaces Is generated, and the intensity value of the interference light at this time is sampled at predetermined intervals. A characteristic value group of the interference fringe waveform peak is obtained based on the intensity value group obtained by the sampling, and each peak position information is obtained from an envelope obtained by performing a smoothing process on the characteristic value by a low-pass filter. The surface height of the measurement object is obtained from the obtained peak position information. (See Patent Document 1)
[0004]
[Patent Document 1]
US Patent Publication USP 5,133,601
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of these conventional examples, there is a problem that the surface height or the like of the measurement target cannot be accurately obtained.
[0006]
That is, when the surface of the object is covered with the transparent film, the white light is reflected by the surface of the transparent film and the surface of the measuring object that has passed through the transparent film and joined to the back surface of the transparent film. One reflected light is generated. When the intensity value of a predetermined pixel in a plurality of images obtained in a state where the reflected light is superimposed is represented by an intensity waveform, a simple unimodal characteristic is obtained as when an object whose surface is not covered with a transparent film is measured. Instead of peaks, two peaks corresponding to the surface of the transparent film and the surface of the object to be measured are generated.
[0007]
For example, when the transparent film is thin, the waveform of the light reflected from the surface of the transparent film and the surface of the object to be measured is substantially superimposed, and each peak appears on the waveform. In such a case, in the conventional method of obtaining the position information of one peak, simply determining the two peaks as one peak by a low-pass filter and performing smoothing processing to obtain the peak position information become.
[0008]
Therefore, there is a problem that it is not possible to obtain accurate peak position information of the surface height of the measurement target object, and it is not possible to accurately obtain peak position information of the surface height of the measurement target object below the transparent film. is there.
[0009]
Further, there is also a problem that the thickness of the transparent film cannot be accurately obtained unless the surface height of the measuring object and the surface height of the transparent film are obtained by accurately obtaining the peak position information.
[0010]
The present invention has been made in view of such circumstances, and the surface height of the transparent film at a specific location of the measurement target covered with the transparent film, the surface height of the measurement target, and the transparent film A main object of the present invention is to provide a method and an apparatus for measuring a surface shape and / or film thickness capable of accurately determining a film thickness.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has the following configuration to achieve such an object.
That is, the invention according to
A first step of changing a distance between the measurement target surface and the reference surface irradiated with the white light of the specific frequency band;
In the process of changing the distance between the measurement target surface and the reference surface, a second process of continuously acquiring images of the measurement target surface at predetermined intervals,
A third step of determining a change in the intensity value group of the interference light in each pixel of the plurality of images continuously acquired at the predetermined interval;
A fourth step of calculating an average value of the change of the determined intensity value group;
Based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light and the film thickness of the transparent film obtained in advance for the same object as the measurement object, the average value of the intensity values obtained by the actual measurement in the fourth step is used to calculate the value of the transparent film. A fifth process for determining the film thickness,
A sixth process of acquiring a characteristic value group corresponding to an envelope from the obtained intensity value group;
A seventh step of obtaining a characteristic function from the waveform data indicated by the characteristic value group and obtaining peak position information related to a distance between the measurement target surface and the reference surface based on the characteristic function;
An eighth step of obtaining the surface height of the measurement target surface based on the obtained peak position information;
A ninth step of obtaining the surface height of the transparent film from the thickness of the transparent film obtained in the fifth step and the surface height of the measurement target surface obtained in the eighth step;
It is characterized by having.
[0012]
(Operation / Effect) According to the first aspect of the present invention, the white light generated from the white light source is irradiated on the measurement target surface and the reference surface. Interference fringes are generated according to the optical path differences of the white light reflected on the surface to be measured, which is the surface of the object bonded to the surface of the transparent film and the surface side, and the reference surface. Here, by changing the distance between the measurement target surface and the reference surface, a plurality of images of the measurement target surface are continuously acquired at predetermined intervals while changing the interference fringes by changing the respective optical path differences, A change in the intensity value group of the interference light at each pixel for each image is obtained. An average value is obtained from the change in the intensity value group. Next, based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light previously obtained for the same object as the measurement object and the transparent film, the thickness of the transparent film is obtained from the average value of the intensity value group obtained by actual measurement. . Further, a characteristic value group corresponding to an envelope is acquired from the intensity value group acquired at the same time, and a characteristic function is obtained from waveform data indicated by the characteristic value group. From this characteristic function, peak position information relating to the distance between the measurement target surface and the reference surface is determined, and the surface height of the measurement target surface is determined based on the peak position information. The obtained surface height of the measurement target surface and the thickness of the transparent film obtained by actual measurement are used. That is, the surface height of the transparent film is obtained by adding the respective values. In other words, the thickness of the transparent film can be accurately determined by using the average value of the intensity value group of the interference light, and the surface height of the transparent film can be more accurately determined by using the thickness of the transparent film. Can be stopped.
[0013]
According to a second aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring method according to the first aspect, the surface height (h) of the transparent film determined in the ninth step is determined by changing the thickness of the transparent film. The film thickness f (n, D) including the correction amount of the film thickness of the transparent film obtained in advance from the relationship between the thickness (D) and the refractive index (n) of the transparent film is calculated for the surface to be measured obtained in the eighth step. It is a value obtained by adding to the surface height (ha).
[0014]
According to a third aspect of the present invention, in the surface shape and / or thickness measuring method according to the second aspect, the thickness f (n, D) of the transparent film including the correction amount of the transparent film is f It is characterized by being expressed by a relational expression of (n, D) = n × D.
[0015]
According to the second and third aspects of the present invention, the surface height (h) of the transparent film is determined by the thickness (D) of the transparent film and the refractive index (n) of the transparent film. The thickness f (n, D) of the transparent film including the obtained correction amount of the thickness of the transparent film is added to the surface height (h) of the surface to be measured (claim 2). The thickness f (n, D) of the transparent film including the correction amount at this time can be expressed by a relational expression of f (n, D) = n × D (claim 3). Therefore, the surface height of the transparent film can be obtained with higher accuracy.
[0016]
According to a fourth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring method according to any one of the first to third aspects, the characteristic function determined in the seventh step is an envelope or 2nd characteristic function. It is characterized by being a power envelope.
[0017]
(Operation / Effect) According to the invention described in
[0018]
According to a fifth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring method according to any one of the first to fourth aspects, the characteristic function is obtained based on a band-pass sampling theorem. It is characterized by the following.
[0019]
According to the fifth aspect of the present invention, the characteristic function can be easily restored from the characteristic value group obtained at the sub-Nyquist sampling interval by using the band-pass sampling theorem. it can.
[0020]
According to a sixth aspect of the present invention, in the surface shape and / or thickness measuring method according to any one of the second to fifth aspects, a parameter for defining a correction amount of the thickness of the transparent film is provided. The apparatus parameters are obtained in advance by using a sample of a measurement object whose reflectance is known.
[0021]
According to a seventh aspect of the present invention, in the surface shape and / or thickness measuring method according to any one of the second to sixth aspects, a parameter for defining a correction amount of the thickness of the transparent film is provided. The apparatus parameters are obtained in advance by using a sample of a measurement target whose film thickness is known.
[0022]
According to the sixth and seventh aspects of the present invention, since the surface of the object to be measured is covered with the transparent film, the reflection is used to define the correction amount of the thickness of the transparent film. The apparatus parameters can be obtained in advance by using a transparent film having a known rate and a sample of the object to be measured (Claim 6) or using a sample of a transparent film having a known film thickness (Claim 7). In addition, the thickness of the transparent film, the height of the surface to be measured, and the surface height of the transparent film can be obtained with higher accuracy.
[0023]
According to an eighth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring method according to any one of the first to seventh aspects, before the first step, further, the method further comprises: The method includes a step of limiting a frequency band of white light to a specific frequency band.
[0024]
According to a ninth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring method according to the eighth aspect, a plurality of different specific frequency bands are used.
[0025]
(Function / Effect) According to the invention described in
[0026]
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a white light source for generating white light for irradiating a measurement target surface and a reference surface covered with a transparent film, and a variation for changing a distance between the measurement target surface and the reference surface. Means for causing interference fringe changes by reflected light returning from the measurement target surface and the reference surface along the same optical path with the variation in the distance between the measurement target surface and the reference surface irradiated with the white light. Imaging means for imaging the measurement target surface, sampling means for capturing the intensity values of the interference light at a plurality of specific locations on the imaged measurement target surface, and a plurality of Storage means for storing each interference light intensity value group which is an intensity value, and the surface height of the transparent film at a specific location and the surface height of the surface to be measured based on each interference light intensity value group stored in the storage means , And transparent In the surface shape and / or thickness measuring device and a computing means for determining at least one of the thickness of the film,
A frequency band limiting unit that limits a frequency band of white light generated from the white light source to a specific frequency band,
The sampling means responds to a change in interference fringes caused by reflected light returning from the measurement target surface and the reference surface and returning along the same optical path as the distance between the measurement target surface and the reference surface fluctuates due to the fluctuation means. The intensity value of the interference light at the specific location is sequentially captured at sampling intervals according to the bandwidth of the specific frequency band,
The storage means stores an interference light intensity value group which is a plurality of intensity values taken in at the sampling interval,
The calculating means obtains at least one of the surface height of the transparent film at a specific location on the measurement target surface, the surface height of the measurement target surface, and / or the thickness of the transparent film according to the following processing.
(1) calculating a change in the interference light intensity value group from the interference light at each pixel stored in the storage means,
(2) calculating an average value of the change of the obtained interference light intensity value group;
(3) From the average value of the intensity values obtained by actual measurement in the fourth step based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light previously obtained for the same object as the measurement object and the thickness of the transparent film. Find the thickness of the transparent film,
(4) A characteristic value group corresponding to an envelope is obtained from the obtained intensity value group,
(5) A characteristic function is determined from the characteristic value group, and peak position information relating to a distance between the measurement target surface and the reference surface is determined based on the characteristic function.
(6) The surface height of the measurement target surface is determined based on the determined peak position information,
(7) The surface height of the transparent film is obtained from the thickness of the transparent film thus obtained and the surface height of the surface to be measured.
[0027]
(Operation / Effect) The white light source emits white light to the measurement target surface and the reference surface covered with the transparent film. The change unit changes the distance between the measurement target surface and the reference surface. The imaging means captures an image of the measurement target surface together with a change in interference fringes generated due to a change in the relative distance between the measurement target surface irradiated with white light and the reference surface. The sampling means captures the intensity values of the interference light at a plurality of specific locations on the surface to be measured which are imaged. The storage unit stores a plurality of interference light intensity value groups, which are a plurality of intensity values for each specific location, which are taken in by the sampling unit. The calculating means obtains a change in the intensity value of the interference light from the actually measured interference light intensity value group at each pixel stored in the storage means, and obtains an average value of the intensity value group. Next, based on the correlation between the average value of the intensity value group of the interference light and the film thickness of the transparent film obtained in advance from the same object as the measurement object, the film thickness of the transparent film is obtained from the average value of the intensity value group obtained by actual measurement. Find the thickness. At the same time, a characteristic value group corresponding to an envelope is obtained from the intensity value group to create a characteristic function, and peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface is obtained based on the specific function. The surface height of the measurement target surface is obtained based on the peak position information. The obtained thickness of the transparent film and the surface height of the surface to be measured are used. That is, the surface height of the transparent film can be obtained by adding the respective values. That is, the method described in
[0028]
According to an eleventh aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring device according to the tenth aspect, the arithmetic means further includes a transparent film based on the thickness of the transparent film and the refractive index of the transparent film. The method is characterized in that the surface height of the film is corrected and processed.
[0029]
According to the eleventh aspect of the present invention, the arithmetic processing means further corrects and calculates the surface height of the transparent film based on the thickness of the transparent film and the refractive index of the transparent film, thereby obtaining a transparent film. The surface height of the film can be determined more accurately. That is, the method described in
[0030]
According to a twelfth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring device according to the tenth or eleventh aspect, the frequency band limiting unit is provided in an optical path from the white light source to the imaging unit. It is a bandpass filter to be attached, which allows only white light of a specific frequency band to pass.
[0031]
According to the twelfth aspect of the present invention, the band-pass filter attached to the optical path from the white light source to the imaging means passes only white light in a specific frequency band. Accordingly, the imaging unit captures an image of the interference fringes and the measurement target surface due to the white light in the specific frequency band. Therefore, the device configuration can be simplified, and the specific frequency band can be changed to an arbitrary frequency band by using a band-pass filter that allows an arbitrary frequency band to pass.
[0032]
According to a thirteenth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring device according to the tenth or eleventh aspect, the frequency band limiting means may control a frequency of the white light emitted from the white light source. An optical system from the white light source to the imaging means for narrowing a band to a specific frequency band.
[0033]
According to the thirteenth aspect of the present invention, the optical system from the white light source to the image pickup means performs the frequency band of the white light before the white light generated from the white light source reaches the image pickup means. To a specific frequency band. Accordingly, the imaging unit captures an image of the interference fringes and the measurement target surface due to the white light in the specific frequency band. Therefore, the device configuration can be further simplified.
[0034]
According to a fourteenth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring device according to the tenth or eleventh aspect, the frequency band limiting unit senses white light in a specific frequency band. It is characterized by the frequency sensitivity of the means.
[0035]
(Operation / Effect) According to the invention described in
[0036]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a surface shape measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
[0037]
This surface profile measuring device is a
[0038]
The
[0039]
The
[0040]
The
[0041]
The
[0042]
The
[0043]
The
[0044]
A
[0045]
The measurement light that has passed through the
[0046]
The
[0047]
The
[0048]
The
[0049]
The
[0050]
The
[0051]
Hereinafter, the processing performed by the entire surface shape measuring apparatus, which is a characteristic part of the present embodiment, will be specifically described with reference to the flowchart of FIG.
[0052]
[First embodiment]
In the present embodiment, a band-
[0053]
<Step S1> Condition setting
Various conditions such as a scanning speed and a scanning range for moving the optical system unit in the z-axis direction, and the average value of the intensity of the interference light and the film thickness of the
[0054]
In the case of the present embodiment, as various conditions, for example, the center frequency of white light whose specific frequency band is limited by the band-
[0055]
The relational expression based on the correlation between the average value of the intensity of the interference light and the thickness of the
[0056]
The white light transmitted through the transparent film and the white light (reflected light) reflected on the
[0057]
(Equation 1)
[0058]
Here, zp is the surface height of the
[0059]
Assuming that an AC component (AC component) of the intensity value g obtained from the above equation (1) is f and a DC component (DC component) is C, each component can be represented by the following equation.
[0060]
(Equation 2)
[0061]
[Equation 3]
[0062]
That is, in equation (3), the right side does not include the peak height zp, and is an unknown parameter of the thickness D of the transparent film. Therefore, it is understood that the film thickness D is obtained when the measured value C (D) of the intensity value is given.
[0063]
Further, given the conditions of the apparatus and the condition of the film thickness of the transparent film, the relationship between the average value C of the intensity values and the film thickness D can be obtained as shown in FIGS. 3 and 4 (enlarged view of FIG. 3). it can. The relationship between the obtained average value C of the intensity values and the film thickness D of the transparent film is linearly approximated as shown in FIGS. 3 and 4, and set and stored in the
[0064]
In FIGS. 3 and 4, the intensity average curves have a period of (λ / 2) / n, where n is the wavelength of the illumination light and n is the refractive index of the transparent film. In this embodiment, the period is approximately 200 nm.
[0065]
<Step S2> Obtain measurement data
The
[0066]
Further, the
[0067]
Each time the
[0068]
<Step S3> Acquire interference light intensity value group at specific location
For example, while observing the
[0069]
<Step S4> Find average value from intensity value group
As shown in FIG. 5, the
[0070]
<Step S5> Obtain the thickness of the transparent film
The film thickness D of the
[0071]
In this embodiment, since the average value of the intensity values is 71.5, it is assumed from the average value of the intensity values that the film thickness D is between 0.4 and 0.5 μm using the relationship of FIG. And the film thickness D is required to be 0.46 μm.
[0072]
This step corresponds to the fifth step in the present invention.
[0073]
<Step S6> A characteristic value is obtained from the average value of the intensity values.
The
[0074]
The adjustment value is further squared to obtain a characteristic value in which the intensity value is emphasized on the plus side. Step S6 corresponds to a sixth process in the present invention.
[0075]
<Step S7> Acquisition of peak position
The
[0076]
<Step S8a> Measurement of surface shape
The
[0077]
Next, the surface height of the
[0078]
<Step S9> Are all specific locations completed?
The
[0079]
<Step S10> Display
The
[0080]
As shown in FIGS. 3 and 4, C (D) has a white light (illumination light) wavelength λ and a period of (λ / 2) / n as a refractive index n of the
[0081]
Therefore, when the average value C of the intensity values is given, there are generally a plurality of candidates for the thickness D of the
[0082]
When it is difficult to determine the film thickness uniquely as described above, the same measurement is performed at a plurality of different wavelengths of a specific frequency band, and a common film thickness D candidate is selected from a plurality of measurement results. The thickness D of the
[0083]
According to the above-described embodiment, the equation (3) based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light of the same object as the
[0084]
[Second embodiment]
In this embodiment, a case will be described in which the amount of deviation of the peak position caused by the influence of the reflected light on the transparent film surface is strictly corrected, and the surface height of the
[0085]
Hereinafter, the principle will be described.
[0086]
Equation (2) in which the AC component of the intensity value g in Equation (2) above is expressed as f is modified as a product of a cos function and an amplitude component.
[0087]
f (z; zp, D) = m (z; zp, D) cos {β (z−zp) + A (z)} (4)
[0088]
The square of the envelope function r is defined by the following equation (5).
r (z; zp, D) = [m (z; zp, D)] 2 … (5)
[0089]
The peak position zp obtained from the equation (5) is not an accurate value due to the influence of the transparent film, but a peak position zp ′ including a shift amount.
[0090]
According to the equation (2), the peak position information zp appears only in a relation of z-zp. Therefore, when the value of zp changes, it means that the peak position moves in parallel in the z-axis direction without changing the function f itself. As a result, the square envelope function itself has the same characteristics.
[0091]
Therefore, the peak position zp ′ (0) of the squared envelope function r when zp = 0 is a deviation amount from the true peak position zp = 0, and is the same as the deviation amount when zp is other than 0. is there. That is, the relationship is zp-zp '= 0-zp' (0). Therefore, the true peak position that does not include the shift amount is expressed by the following equation (6).
[0092]
zp = zp′−zp ′ (0) (6)
[0093]
Accordingly, the second term on the right side in the above equation (6) can be obtained in advance as a correction term when the thickness D of the
[0094]
(Equation 4)
[0095]
r0 (z; D) = [m (z; 0, D)] 2 … (8)
[0096]
In the above equation, if the film thickness D is known, r0 is a function of only z, so that the peak position zp '(0) can be obtained.
[0097]
It can be seen that the amount of deviation of the surface height of the
[0098]
Further, the correction amount f (n, D) can be approximately obtained by integrating n × D. This is confirmed by the inventors' experimental simulations as follows.
For a plurality of combinations of the transparent film and the surface to be measured, three types of experimental simulations shown in Table 1 below were performed.
[0099]
[Table 1]
[0100]
The relationship between the film thickness D of the
[0101]
Next, processing performed by the entire surface shape measuring apparatus of the present embodiment will be specifically described with reference to the flowchart of FIG. In the present embodiment, description of the processing (steps S1 to S6) common to the first embodiment will be omitted.
[0102]
<Step S7> Acquisition of peak position
The
[0103]
<Step S8b> Measurement of surface shape
The
[0104]
Next, the shift amount of the surface height of the
[0105]
Hereinafter, Steps S9 and S10 are the same processing as Steps S9 and S10 of the first embodiment, and thus a specific description thereof will be omitted.
[0106]
As described above, by correcting the shift amount of the peak position due to the influence of the
[0107]
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be modified as follows.
(1) In each of the above embodiments, the configuration is such that the intensity value of the interference light at the specific location is acquired after the image data of the
[0108]
(2) In each of the above embodiments, the frequency band of the white light emitted from the white light source is band-limited to the specific frequency band by the band-
[0109]
(3) In each of the above embodiments, the frequency band limited by the frequency characteristics of the
[0110]
(4) In each of the embodiments described above, the
[0111]
(5) In each of the above embodiments, the white light from the
[0112]
(6) In each of the above embodiments, it is preferable that parameters for defining the characteristic function and the correction amount are obtained in advance and set. The parameters include, for example, device parameters obtained using a sample of the
[0113]
【The invention's effect】
As is apparent from the above description, according to the present invention, the white light is irradiated while changing the distance between the measurement target surface covered with the transparent film and the reference surface, and the intensity value of the interference light at the specific location acquired is obtained. Get the group. From this group of intensity values, an average value of a change in the intensity value of the interference light is obtained by an actually measured value. That is, based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light of the same object as the measurement object and the thickness of the transparent film determined in advance, the film thickness of the transparent film is calculated from the average value of the intensity values based on the actually measured values. The thickness can be determined. In addition, a characteristic function corresponding to an envelope or a squared envelope is obtained from the group of intensity values of the interference light, and a characteristic function is created. From this characteristic function, peak position information relating to the distance between the measurement target surface and the reference surface is obtained. Thus, the surface height of the measurement target surface can be obtained based on the peak maintenance information. Further, the surface height of the transparent film can be obtained from the obtained film thickness of the transparent film and the surface height of the surface to be measured.
[0114]
Therefore, by utilizing the correlation based on the relationship between the average value of the intensity value of the interference light obtained in advance and the thickness of the transparent film, the thickness of the transparent film can be calculated from the average value of the intensity values of the interference light obtained by the actual measurement. It can be easily and accurately obtained, and thus the surface height of the surface to be measured and the surface height of the transparent film can also be accurately obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a surface profile measuring apparatus according to the present embodiment.
FIG. 2 is a flowchart showing processing in the surface shape measuring devices of the first and second embodiments.
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between an average intensity value and a film thickness.
FIG. 4 is an enlarged view of FIG. 3;
FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining a process of obtaining a peak position of a specific function.
FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a process of obtaining a peak position of a specific function.
FIG. 7 is a diagram illustrating a spectral distribution of white light that has passed through a band-pass filter.
FIG. 8 is a diagram showing a simulation for obtaining a correction amount of a surface height of a transparent film.
FIG. 9 is a diagram showing a simulation for obtaining a correction amount of a surface height of a transparent film.
FIG. 10 is a diagram illustrating a simulation for obtaining a correction amount of a surface height of a transparent film.
[Explanation of symbols]
1 Optical unit
2 Control unit
10 White light source
11… Collimating lens
13… half mirror
14… Objective lens
15… Reference plane
16… Mirror
17… Beam splitter
18… imaging lens
19… CCD camera
20 ... CPU
21… memory
22 ... input section
23… Monitor
24… drive unit
30 ... measurement object
30A ... Measurement target surface (measurement target)
31… transparent film
31A ... Measurement target surface (transparent film)
D ... film thickness (transparent film)
Claims (14)
前記特定周波数帯域の白色光が照射された前記測定対象面と参照面との距離を変動させる第1の過程と、
前記測定対象面と参照面との距離を変動させる過程で、測定対象面の画像を所定間隔で連続して取得する第2の過程と、
前記所定間隔で連続して取得した複数枚の画像の各画素における干渉光の強度値群の変化を求める第3の過程と、
前記求めた強度値群の変化の平均値を求める第4の過程と、
測定対象物と同じ対象物について予め求めた干渉光の強度値の平均値と透明膜の膜厚の相関関係に基づいて前記第4の過程で実測により求めた強度値の平均値から透明膜の膜厚を求める第5の過程と、
前記求めた強度値群から包絡線に相当する特性値群を取得する第6の過程と、
前記特性値群の示す波形データから特性関数を求め、この特性関数に基づいて前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求める第7の過程と、
前記求めたピーク位置情報に基づいて、測定対象面の表面高さを求める第8の過程と、
前記第5の過程で求めた透明膜の膜厚と、前記第8の過程で求めた測定対象面の表面高さとから透明膜の表面高さを求める第9の過程と
を備えたことを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。While irradiating white light from a white light source to the measurement target surface and the reference surface covered with the transparent film, by changing the distance between the measurement target surface and the reference surface, the light is reflected from the measurement target surface and the reference surface. A change in interference fringes is caused by reflected light returning along the same optical path, and the surface height of the transparent film at a specific location on the surface to be measured based on the intensity value of the interference light at this time, the surface height of the surface to be measured, and In the method for measuring the surface shape and / or film thickness of the surface to be measured for obtaining at least one of the film thicknesses of the transparent film,
A first step of changing a distance between the measurement target surface and the reference surface irradiated with the white light of the specific frequency band;
In the process of changing the distance between the measurement target surface and the reference surface, a second process of continuously acquiring images of the measurement target surface at predetermined intervals,
A third step of determining a change in the intensity value group of the interference light in each pixel of the plurality of images continuously acquired at the predetermined interval;
A fourth step of calculating an average value of the change of the determined intensity value group;
Based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light and the film thickness of the transparent film obtained in advance for the same object as the measurement object, the average value of the intensity values obtained by the actual measurement in the fourth step is used to calculate the value of the transparent film. A fifth process for determining the film thickness,
A sixth process of acquiring a characteristic value group corresponding to an envelope from the obtained intensity value group;
A seventh step of obtaining a characteristic function from the waveform data indicated by the characteristic value group and obtaining peak position information related to a distance between the measurement target surface and the reference surface based on the characteristic function;
An eighth step of obtaining the surface height of the measurement target surface based on the obtained peak position information;
A ninth step of obtaining the surface height of the transparent film from the thickness of the transparent film obtained in the fifth step and the surface height of the measurement target surface obtained in the eighth step. Surface shape and / or film thickness measurement method.
前記第9の過程で求める透明膜の表面高さ(h)は、透明膜の膜厚(D)と透明膜の屈折率(n)の関係から予め求めた透明膜の膜厚の補正量を含む透明膜の膜厚f(n,D)を前記第8の過程で求めた測定対象面の表面高さ(ha)に加算して求めた値であることを特徴する表面形状および/または膜厚測定方法。In the surface shape and / or film thickness measuring method according to claim 1,
The surface height (h) of the transparent film determined in the ninth step is determined by the correction amount of the transparent film thickness previously determined from the relationship between the transparent film thickness (D) and the refractive index (n) of the transparent film. A surface shape and / or film obtained by adding a film thickness f (n, D) of the transparent film to the surface height (ha) of the surface to be measured obtained in the eighth step. Thickness measurement method.
前記透明膜の補正量を含む透明膜の膜厚f(n,D)は、f(n,D)=n×Dの関係式で表されることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。In the surface shape and / or film thickness measuring method according to claim 2,
The film thickness f (n, D) of the transparent film including the correction amount of the transparent film is represented by a relational expression of f (n, D) = nxD, and Measuring method.
前記第7の過程で求める特性関数は、包絡線または2乗包絡線であることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。The surface shape and / or film thickness measuring method according to any one of claims 1 to 3,
The method for measuring a surface shape and / or a film thickness, wherein the characteristic function obtained in the seventh step is an envelope or a squared envelope.
前記特性関数は、帯域通過型標本化定理に基づいて求めることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。The method for measuring a surface shape and / or film thickness according to any one of claims 1 to 4,
The said characteristic function is calculated | required based on the band pass type sampling theorem, The surface shape and / or the film thickness measuring method characterized by the above-mentioned.
前記透明膜の膜厚の補正量を規定するためのパラメータとして、反射率が既知の測定対象物の試料を用いて装置パラメータを予め求めておくことを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。The surface shape and / or film thickness measuring method according to any one of claims 2 to 5,
As a parameter for defining a correction amount of the film thickness of the transparent film, an apparatus parameter is obtained in advance by using a sample of a measurement object whose reflectance is known, wherein a surface shape and / or a film thickness measurement is performed. Method.
前記透明膜の膜厚の補正量を規定するためのパラメータとして、膜厚が既知の測定対象物の試料を用いて装置パラメータを予め求めておくことを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。The method for measuring a surface shape and / or film thickness according to any one of claims 2 to 6,
As a parameter for defining the correction amount of the film thickness of the transparent film, an apparatus parameter is obtained in advance by using a sample of a measurement target whose film thickness is known, wherein the surface shape and / or the film thickness measurement are characterized. Method.
前記第1の過程の前に、さらに前記白色光源からの白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限する過程を備えたことを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。The method for measuring a surface shape and / or film thickness according to claim 1,
A surface shape and / or film thickness measuring method, further comprising a step of limiting a frequency band of white light from the white light source to a specific frequency band before the first step.
異なる複数の特定周波数帯域を用いることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。In the surface shape and / or film thickness measuring method according to claim 8,
A method for measuring a surface shape and / or a film thickness, wherein a plurality of different specific frequency bands are used.
前記白色光源から発生した白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限する周波数帯域制限手段を備え、
前記サンプリング手段は、前記変動手段による前記測定対象面と参照面との距離の変動に伴って測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じた干渉縞の変化に応じた特定箇所の干渉光の強度値を、前記特定周波数帯域の帯域幅に応じたサンプリング間隔で順次取込み、
前記記憶手段は、前記サンプリング間隔で取り込まれた複数個の強度値である干渉光強度値群を記憶し、
前記演算手段は、測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および/または透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを以下の処理にしたがって求める
(1)前記記憶手段に記憶された各画素における干渉光から干渉光強度値群の変化を求め、
(2)前記求めた干渉光の強度値群の変化の平均値を求め、
(3)測定対象物と同じ対象物について予め求めた干渉光の強度値の平均値と透明膜の膜厚の相関関係に基づいて前記第4の過程で実測により求めた強度値の平均値から透明膜の膜厚を求め、
(4)前記求めた強度値群から包絡線に相当する特性値群を求め、
(5)前記特性値群から特性関数を求め、この特性関数に基づいて測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求め、
(6)前記求めたピーク位置情報に基づいて、測定対象面の表面高さを求め、
(7)前記求めた透明膜の膜厚と、測定対象面の表面高さから透明膜の表面高さを求めることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。A white light source that generates white light that irradiates the measurement target surface and the reference surface covered with the transparent film, a variation unit that changes a distance between the measurement target surface and the reference surface, and a measurement that is irradiated with the white light. Imaging means for imaging the measurement target surface while causing interference fringe changes by reflected light returning from the same optical path as reflected from the measurement target surface and the reference surface with a change in the distance between the target surface and the reference surface, A sampling unit that captures the intensity values of interference light at a plurality of specific locations on the imaged measurement target surface, and a group of interference light intensity values that are a plurality of intensity values for each specific location captured by the sampling unit. A storage unit for storing, and at least one of a surface height of the transparent film at a specific location, a surface height of the surface to be measured, and a film thickness of the transparent film based on each interference light intensity value group stored in the storage unit. one In the surface shape and / or thickness measuring device and a calculation means for calculating a
A frequency band limiting unit that limits a frequency band of white light generated from the white light source to a specific frequency band,
The sampling means responds to a change in interference fringes caused by reflected light returning from the measurement target surface and the reference surface and returning along the same optical path as the distance between the measurement target surface and the reference surface fluctuates due to the fluctuation means. The intensity value of the interference light at the specific location is sequentially captured at sampling intervals according to the bandwidth of the specific frequency band,
The storage means stores an interference light intensity value group which is a plurality of intensity values taken in at the sampling interval,
The calculating means obtains at least one of the surface height of the transparent film at a specific location on the surface to be measured, the surface height of the surface to be measured, and / or the film thickness of the transparent film according to the following processing (1). Determining the change in the interference light intensity value group from the interference light at each pixel stored in the storage means,
(2) calculating an average value of the change of the obtained interference light intensity value group;
(3) From the average value of the intensity values obtained by actual measurement in the fourth step based on the correlation between the average value of the intensity values of the interference light previously obtained for the same object as the measurement object and the thickness of the transparent film. Find the thickness of the transparent film,
(4) A characteristic value group corresponding to an envelope is obtained from the obtained intensity value group,
(5) A characteristic function is determined from the characteristic value group, and peak position information relating to a distance between the measurement target surface and the reference surface is determined based on the characteristic function.
(6) The surface height of the measurement target surface is determined based on the determined peak position information,
(7) A surface shape and / or film thickness measuring device, wherein the surface height of the transparent film is obtained from the obtained film thickness of the transparent film and the surface height of the surface to be measured.
前記演算手段は、さらに透明膜の膜厚と透明膜の屈折率とに基づいて透明膜の表面高さを補正演算処理することを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。The surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 10,
The surface shape and / or film thickness measuring device, wherein the calculating means further performs a correction calculation process on the surface height of the transparent film based on the film thickness of the transparent film and the refractive index of the transparent film.
前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から前記撮像手段までの光路に取り付けられる、特定周波数帯域の白色光だけを通過させるバンドパスフィルタであることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 10 or 11,
The surface shape and / or film thickness measuring device, wherein the frequency band limiting unit is a band-pass filter attached to an optical path from the white light source to the imaging unit and allows only white light in a specific frequency band to pass. .
前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から発せられた白色光の周波数帯域を特定周波数帯域にまで狭める、前記白色光源から前記撮像手段までの光学系であることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 10 or 11,
The surface shape and / or an optical system from the white light source to the imaging unit, wherein the frequency band limiting unit narrows a frequency band of white light emitted from the white light source to a specific frequency band. Film thickness measuring device.
前記周波数帯域制限手段は、特定周波数帯域の白色光を感知する前記撮像手段の周波数感度であることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 10 or 11,
The surface shape and / or film thickness measuring device is characterized in that the frequency band limiting unit is a frequency sensitivity of the imaging unit that senses white light in a specific frequency band.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003159379A JP4192038B2 (en) | 2003-06-04 | 2003-06-04 | Surface shape and / or film thickness measuring method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004361218A true JP2004361218A (en) | 2004-12-24 |
JP4192038B2 JP4192038B2 (en) | 2008-12-03 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003159379A Expired - Lifetime JP4192038B2 (en) | 2003-06-04 | 2003-06-04 | Surface shape and / or film thickness measuring method and apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4192038B2 (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
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JP2020503526A (en) * | 2017-01-09 | 2020-01-30 | ケーエルエー コーポレイション | Transparent film error correction pattern in wafer shape system |
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CN110118533A (en) * | 2018-02-05 | 2019-08-13 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | A kind of 3 D detection method and detection device |
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Publication number | Publication date |
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JP4192038B2 (en) | 2008-12-03 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A521 | Written amendment |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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