JP2004358587A - スラリー供給装置、スラリーの供給方法および研磨方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スラリー原液槽1又は2と、スラリー調合槽3と、スラリー原液槽1又は2とスラリー調合槽3とを繋ぐ配管9と、スラリー調合槽3から研磨装置へスラリーを供給する供給管11と、粒度センサー5とを備えるスラリー供給装置を提供する。ここで、粒度センサー5はスラリーの砥粒径、もしくは砥粒密度をモニターし、粒度センサー5がスラリー原液槽1又は2、もしくはスラリー調合槽3に備えられていることに特徴がある。その結果、研磨時における欠陥のあるスラリー供給を防ぎ、安定した研磨を行うことにより、マイクロスクラッチの形成を防止する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばシリコン半導体基板製造に際して行う化学機械研磨(CMP)等の平坦化工程等において用いられる研磨装置に関し、特に研磨液の供給装置及び研磨液の供給方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
一般に、シリコン半導体基板など平板状の被加工材表面を平坦化する際に、CMP(Chemical Mechanical Polishing)装置が使用されている。
【0003】
具体的には、銅を用いた埋め込み配線(ダマシン配線)を例に、CMPを用いた配線構造の形成方法について図面を参照しながら説明する。
【0004】
まず図2(a)に示すように、層間絶縁膜にドライエッチングにより配線溝を形成する。
【0005】
次に、図2(b)に示すように、配線溝を含む酸化膜の上にバリア層、シード層(図示せず)を堆積させ、めっき法を用いて配線、例えばCu膜を埋め込んでいく。
【0006】
その後、図2(c)に示すように、CMP法を用いて配線溝からはみ出した余剰なCu膜を除去し、配線を形成する。
【0007】
このような技術として、例えば特許文献1に示される方法が知られている。
【0008】
【特許文献1】
特開2001−156029号公報([0020]〜[0031])
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかし従来方法によると、CMP工程において研磨面の腐食、研磨面上でのスクラッチの発生、研磨スラリー中に含まれる研磨粒子の凝集などにより、被研磨面に表面欠陥が発生する場合がある。
【0010】
具体的には、図3(a)に示すように、配線溝からはみ出した絶縁膜に対して、スラリーを用いて研磨を行う。ここで、凝集した砥粒粒子を有する研磨スラリー(2次粒子)を用いて研磨が行われた場合に、図3(b)に示すように、研磨面により大きな傷(マイクロスクラッチ)が発生する。このような傷が被研磨面に形成された状態で研磨を続けると、図3(c)に示すように、マイクロスクラッチによって形成された傷にCu膜が埋め込まれる。配線の微細化が進み配線間幅がより狭くなるにつれこの現象は顕著となり、この形成された傷が配線間をまたがると、配線リーク、または配線間ショートが発生してしまう場合がある。
【0011】
そこで本発明では、CMP工程において使用するスラリーに含まれる、研磨粒子の粒径、もしくは粒度を調整することにより、マイクロスクラッチの形成を防止し、安定した研磨方法を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、スラリー原液槽1又は2と、スラリー調合槽3と、スラリー原液槽1又は2とスラリー調合槽3とを繋ぐ配管9と、スラリー調合槽3から研磨装置へスラリーを供給する供給管11と、粒度センサー5とを備え、粒度センサー5はスラリーの砥粒径、もしくは砥粒密度をモニターし、粒度センサー5がスラリー原液槽1又は2、もしくはスラリー調合槽3に備えられていることを特徴とする、スラリー供給装置を提供する。
【0013】
その結果、原液槽1又は2、もしくはスラリー調合槽3におけるスラリー粒度をモニターすることにより、スラリーの槽毎にスラリーの状態を監視することができ、2次粒子が存在する槽の特定が可能となる。
【0014】
また、上記スラリー供給装置に加えて、原液槽、もしくは調合槽に、槽にスラリーを供給する供給口と、槽内のスラリーを前記配管へ流す流出口とを有し、槽内のスラリーを排出する排出口、もしくは槽内のスラリーを循環させるポンプを備えていることを特徴とする、スラリー供給装置を提供する。
【0015】
その結果、2次粒子が発見された槽のスラリーを入れ替えることにより、2次粒子のないスラリーを適宜供給出来る、または槽内のスラリーを循環させることが出来るため、2次粒子の発生を抑制することが出来る。また、ポンプを用いて槽内のスラリーを循環させることにより、スラリーの凝集を防ぐことが出来る。
【0016】
さらに、上記スラリー供給装置においてモニターを、スラリー供給ラインのスラリー原液槽、スラリー調合槽及び各スラリー槽間を繋ぐ配管に設置する。
【0017】
その結果、2次粒子が形成された箇所を特定することが出来るため、装置復旧に必要な時間やメンテナンス時間を短縮出来る。
【0018】
以上より、本発明によると、2次粒子が形成された箇所を特定し、アラームを発し装置を停止させること、あるいはスラリー供給ラインを自動で切り換えること、あるいは循環させることで2次粒子の発生を予防することにより、ウェハ研磨前にスラリー起因による研磨不良の発生を防ぐことができる。その結果、マイクロスクラッチの発生原因となる凝集粒子が研磨時に供給されないため、配線間リーク、または配線間ショートの発生を防止し、歩留まりの高いデバイスを提供することが出来る。
【0019】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【0020】
図1に本発明に基づく光学式砥粒濃度センサーをCMPスラリー供給ラインに適用したモニタリング管理の概略構成を示す。
【0021】
図1において、1はスラリー原液槽A、2はスラリー原液槽B、3はスラリー調合槽、4はポンプ、5は光学式砥粒濃度センサー、6はドレインバルブ、7はモニタリング装置、8はスラリー循環用配管、9はスラリー供給用配管、10はセンサー信号ライン、11はスラリードレイン配管を表している。
【0022】
次に、モニタリング管理を行いながらCMP工程時に供給されるスラリーを調整する方法について、図1を参照しながら説明する。
【0023】
まず、スラリー原液槽A1をモニターすることについて説明する。
【0024】
スラリー原液槽A1内にスラリー原液を、スラリー原液配管12を通って供給口から供給する。
【0025】
その後、スラリー原液槽A1に供給されたスラリーは、槽内循環用ポンプ4によりスラリー循環用配管8内を通ってスラリー原液槽1内のスラリーが循環する。この時、光学式スラリー砥粒濃度センサー5により原液槽内の砥粒濃度及び砥粒粒子径が測定される。
【0026】
ここで測定された光学式スラリー砥粒濃度センサー信号は、センサー信号ライン10を通ってモニタリング装置7でモニタリングされる。このモニタリング結果が、予め設定された砥粒濃度の濃度レンジを外れた場合、もしくは設定された砥粒粒子径よりも大きな砥粒粒子径の粒子がカウントされた場合には、アラームを発生させて異常を知らせる。このようにスラリーの粒度に関して問題が発生した場合には、ドレインバルブ6を開き、スラリー原液槽A1から2次粒子を含むスラリーを排出する。その後、ドレインバルブ6を締め、2次粒子の存在しない新しい原液スラリーを供給口から原液槽内に供給する。なお、モニタリング装置7において、アラームが発生すると自動的にドレインバルブ6が開き、原液槽1内のスラリーを入れ替えるように設定しておいても良い。
【0027】
また、スラリー原液槽A1(常備槽)に対し、スラリー原液槽B2(予備槽)を備えてもよい。スラリー原液槽が複数存在することにより、常備槽であるA1に異常が生じた場合、原液槽内のスラリーを入れ替える前に、予備槽に切り替え、原液スラリーを供給することが出来る。例えば、モニタリング装置7において予め設定された砥粒濃度の濃度レンジを外れた場合、もしくは設定された砥粒粒子径よりも大きな砥粒粒子径の粒子がカウントされた場合に、アラームを発生させ、スラリー原液の供給を自動的に予備槽である原液槽B2に切り替える。その結果、原液スラリーに2次粒子等の欠陥があったとしても、予備槽に切り替えることで、直ちに欠陥のない絵スラリーを供給することが出来るため、効率よくスラリーの調整を行うことが出来、光学式スラリー砥粒濃度センサー5を用いてスラリー原液槽内のスラリー管理を行うことができる。
【0028】
次に、供給用配管9もしくは調合槽3のスラリー粒度をモニターすることについて説明する。
【0029】
スラリー原液槽A1またはスラリー原液槽B2から供給されるスラリーは、スラリー供給用配管9を通ってスラリー調合槽3に供給される。本実施形態では、スラリー供給用配管9内の調合槽3に近い部分に光学式スラリー砥粒濃度センサー5を設置し、スラリー供給用配管9内の砥粒濃度及び砥粒粒子径を測定する。ここで測定された光学式スラリー砥粒濃度センサー信号はセンサー信号ライン10を通ってモニタリング装置7でモニタリングされる。このようにモニタリングした結果、予め設定された砥粒濃度の濃度レンジを外れる(例えば7〜15wt%)、または設定された砥粒粒子径よりも大きな砥粒粒子(例えば50nm以上)がカウントされる等の異常を検知すると、アラームを上げて異常を知らせる。このようにスラリーの粒度に関して問題が発生した場合には、スラリー調合槽3にスラリーが供給されないように、供給用配管9からのスラリーの供給を停止させる。その後、供給用配管9内にあるスラリー中の2次粒子を除去する。例えば、供給用配管9と調合槽3の接続部を一度切り離して供給用配管9を洗浄し、配管内に付着もしくは残留した不純物や2次粒子を除去する。その後、再び供給用配管9と調合槽3を接続する。従って、この光学式スラリー砥粒濃度センサー5によってスラリー供給用配管9内のスラリーの状態管理を行うことにより、2次粒子を含むスラリーが調合槽3へ供給されるのを防ぐことが出来る。
【0030】
続いて、スラリー調合槽のモニタリングについて説明する。
【0031】
スラリー調合槽3内に、スラリー原液がスラリー供給用配管9を通って供給され、予め設定された混合比でスラリー原液とDIW(脱イオン水)などが調合される。
【0032】
その後、スラリー調合槽3内のスラリーは槽内循環用ポンプ4を使用することで、循環用配管8を通して調合槽3内のスラリーが循環する。この時、光学式スラリー砥粒濃度センサー5により調合槽3内の砥粒濃度及び砥粒粒子径が測定される。この測定結果である光学式スラリー砥粒濃度センサー信号は、センサー信号ライン10を通してモニタリング装置7に伝達され、粒径及び粒度が予め設定された砥粒濃度の濃度レンジを外れる(例えば7〜15wt%)、もしくは砥粒粒子径よりも大きな砥粒粒子(例えば50nm以上)がカウントされる等の異常を検知した場合には、アラームが発生する。このようにスラリーの粒度に関して問題が発生した場合には、欠陥のあるスラリーが研磨面へ供給されないように、調合槽3からのスラリーの供給を停止させる。その後、ドレインバルブ6を開いて、欠陥のあるスラリーを調合槽3から排出し、2次粒子のないスラリーを新しく原液槽1Aもしくは2Bから供給する。なお、アラームが発生したら、ポンプ4を用いて自動的にドレインバルブ6を開き、欠陥のあるスラリーを排出した後、新たに原液スラリーを調合槽3内に供給させても良い。その結果、この光学式スラリー砥粒濃度センサー5によってスラリー調合槽3内のスラリーの状態管理を行うことにより、研磨時に2次粒子等を含むスラリーが供給されるのを未然に防ぐことが出来る。
【0033】
次に、調合槽3からウェハ上のスラリー供給口の間にある供給用配管13のモニタリングについて説明する。
【0034】
調合槽3のスラリーは、スラリー供給用配管13を通ってウェハ上のスラリー供給口に供給される。スラリー供給用配管9においてスラリーがウェハ上に供給されるユースポイントの直前に光学式スラリー砥粒濃度センサー5を設置することにより、スラリー供給用配管13内の砥粒濃度及び砥粒粒子径を測定することが出来る。ここでも、光学式スラリー砥粒濃度センサー信号はセンサー信号ライン10によってモニタリング装置7でモニタリングされ、予め設定された砥粒濃度の濃度レンジを外れる場合(例えば7〜15wt%)、もしくは設定された砥粒粒子径よりも大きな砥粒粒子がカウントされる場合(例えば50nm以上)等の異常を検知すると、アラームを発生し異常を知らせる。このようにスラリーの粒度に関して問題が発生した場合には、欠陥のあるスラリーが研磨面へ供給されないように、スラリー供給用配管9からのスラリーの供給を停止させる。その結果、この光学式スラリー砥粒濃度センサー5によってスラリー調合槽3内のスラリーの状態管理を行うことにより、研磨時に2次粒子等を含むスラリーが供給されるのを未然に防ぐことが出来る。
【0035】
なお、本実施形態の装置では、原液槽もしくはスラリー調合槽にポンプを設置することにより、適宜スラリーを槽内で循環させることが出来る。その結果、槽内ではスラリーに含まれる砥粒が絶えず、もしくは定期的に移動しているので、砥粒同士は凝集しにくくなっており、粗大粒子の発生を防ぐことが出来る。
【0036】
【発明の効果】
以上本発明によると、スラリー原液槽、スラリー調合槽、もしくはスラリー配管の各箇所に粒度モニターを設置することにより、各箇所でスラリーに発生する異常を検知することが出来る。また、各箇所のモニター結果を集中的に管理するモニタリング装置を設置することにより、その異常が発生する箇所を容易に特定することが出来る。つまり、各スラリー槽ごとに砥粒濃度センサーを取り付けて信号を統合しモニタリング管理を行うことにより、問題発生箇所の特定が可能となり、装置復旧に必要な時間やメンテナンス時間を短縮でき、また過度のスラリー槽およびスラリー配管の洗浄回数を減らしメンテナンスコストを引き下げることができる。
【0037】
従って、本発明の研磨液の供給装置、研磨液の供給方法および研磨方法によれば、研磨時に2次粒子などの凝集した粒子を含む欠陥のあるスラリーが研磨時に供給されないため、スクラッチの発生を抑制でき、配線配線間のショートを防止できる。
【0038】
また、センサーにより粒子濃度を測定しているので、均一な粒子濃度のスラリーを供給できるため、均一な研磨レートで研磨を行うことが出来る。
【0039】
なお、本発明では、Cu−CMP、バリア層CMPの後に溶液を用いてバフ研磨を行うステップ、抑制剤溶液又は脱イオン水を用いてリンスするステップ、研磨スラリーを使用してバフ研磨を行うステップ、もしくは抑制剤溶液又は脱イオン水でリンスを行うことにより欠陥を低減するステップ等において、特に効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に基づくスラリー供給ラインの概略構成図
【図2】配線形成方法の工程断面図
【図3】配線間ショートの発生を示す工程断面図
【符号の説明】
1 スラリー原液槽A
2 スラリー原液槽B
3 スラリー調合槽
4 ポンプ
5 光学式砥粒濃度センサー
6 ドレインバルブ
7 モニタリング装置
8 スラリー循環用配管
9 スラリー供給用配管
10 センサー信号ライン
11 スラリードレイン配管
12 スラリー原液配管
13 スラリー供給用配管
Claims (12)
- スラリー原液槽と、スラリー調合槽と、前記スラリー原液槽と前記スラリー調合槽とを繋ぐ配管と、前記スラリー調合槽から研磨装置へスラリーを供給する供給管と、粒度センサーとを備え、
前記粒度センサーはスラリーの砥粒径、もしくは砥粒密度をモニターし、前記粒度センサーは、前記スラリー原液槽、もしくは前記スラリー調合槽に備えられていることを特徴とする、スラリー供給装置。 - 前記スラリー原液槽は、槽にスラリーを供給する供給口と、槽内のスラリーを前記配管へ流す流出口とを有し、
前記スラリー原液槽内のスラリーを排出する排出口、もしくは前記スラリー原液槽内のスラリーを循環させるポンプを備えていることを特徴とする、請求項1記載のスラリー供給装置。 - 前記スラリー調合槽は、前記配管から原液スラリーを供給する原液供給口と、調合液を供給する調合液供給口と、前記調合液を前記供給管へ流す調合液流出口とを有し、
前記スラリー調合槽内のスラリーを排出する排出口、もしくは前記スラリー調合槽内のスラリーを循環させるポンプを備えていることを特徴とする、請求項1記載のスラリー供給装置。 - 前記粒度センサーが、前記配管の前記スラリー調合槽の近くに配置されることを特徴とする、請求項1記載のスラリー供給装置。
- 前記スラリー原液槽は少なくとも2個以上あり、一方は予備槽であることを特徴とする、請求項1記載のスラリー供給装置。
- スラリー原液槽に原液スラリーを供給しスラリー原液を貯蔵する工程と、
前記スラリー原液槽から配管を通してスラリー調合槽へスラリーを流出する工程と、
流出されたスラリーを、スラリー調合槽においてスラリー調合液を用いて調合する工程と、
調合されたスラリーを研磨装置へ供給する工程とを備え、
前記スラリー原液槽、前記配管、もしくは前記スラリー調合槽において、スラリーの粒度をモニターする工程を備えることを特徴とする、スラリーの供給方法。 - 前記スラリーを貯蔵する工程、もしくは前記スラリーを調合する工程において、スラリー粒度をモニターし、前記スラリー原液、もしくは前記スラリー調合液の粒度が使用当初と比較して変化した場合に、前記スラリー原液槽内、もしくは前記スラリー調合槽内のスラリーを循環させることを特徴とする、請求項6記載のスラリー供給方法。
- 前記スラリーを貯蔵する工程においてスラリー粒度をモニターし、前記スラリー原液の粒度が使用当初と比較して大きく変化した場合に、前記スラリー原液を排出し、新しい原液に入れ替えることを特徴とする、請求項6記載のスラリー供給方法。
- 前記スラリーを調合する工程においてスラリー粒度をモニターし、前記スラリー調合液の粒度が使用当初と比較して大きく変化した場合に、前記スラリー調合液を排出し、予備のスラリー原液槽に切り替えてスラリー原液を供給することを特徴とする、請求項6記載のスラリー供給方法。
- 前記スラリー原液槽から配管を通してスラリー調合槽へスラリーを流出する工程においてスラリー粒度をモニターし、前記スラリー原液の粒度が使用当初と比較して大きく変化した場合に、
前記調合槽へのスラリーの供給を停止し、前記配管を洗浄した後スラリー原液を供給することを特徴とする、請求項6記載のスラリー供給方法。 - 前記粒度センサーを、前記スラリー原液槽、前記スラリー調合槽、前記スラリー原液槽と前記スラリー調合槽を繋ぐ配管、にそれぞれ配置し、前記粒度センサーからの情報を一箇所でモニターすることを特徴とする、請求項6記載のスラリー供給方法。
- 前記粒度センサーは、砥粒径、及び砥粒密度を測定出来ることを特徴とする、請求項1又は6記載のスラリー供給方法。
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