JP2004356656A - 半導体発光素子 - Google Patents
半導体発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004356656A JP2004356656A JP2004262508A JP2004262508A JP2004356656A JP 2004356656 A JP2004356656 A JP 2004356656A JP 2004262508 A JP2004262508 A JP 2004262508A JP 2004262508 A JP2004262508 A JP 2004262508A JP 2004356656 A JP2004356656 A JP 2004356656A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- layer
- light
- island
- emitting device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】半導体発光素子20を構成する下地層2を、AlN層から構成し、第1のクラッド層3を前記高結晶AlN層よりも格子定数の大きいn−GaNから構成する。また、発光層5をi−GaNからなる基層17と、この基層中に、互いに孤立するようにして形成されたi−AlGaInNからなる島状結晶12−1〜12−5とから構成する。そして、基層17及び島状結晶12−1〜12−5の少なくとも一方に、少なくとも一種の希土類元素を含有させる。
【選択図】図2
Description
Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含む窒化物半導体からなる基層中に、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含み、前記窒化物半導体よりも面内格子定数の大きい追加の窒化物半導体からなる、それぞれが孤立した複数の島状結晶を含んでなる発光層を具え、
前記基層を構成する前記窒化物半導体のバンドギャップ(BG1)、及び前記島状結晶を構成する前記追加の窒化物半導体のバンドギャップ(BG2)がBG1>BG2の関係を満たし、
前記発光層を構成する前記基層及び前記複数の島状結晶の少なくとも一方は、希土類元素及び遷移金属元素から選ばれる少なくとも一種の元素を添加元素として含有し、発光層全体として任意の色度の光を生成するようにしたことを特徴とする。
図1は、本発明の第1の半導体発光素子の一例を示す断面図である。図1に示す半導体発光素子20は、基板1と、この基板1上に第1の窒化物半導体としてAlNからなる下地層2と、この下地層2上に形成された第2の窒化物半導体としてn−AlGaNからなる第1の導電層3とを含む。
2インチ径の厚さ430μmのサファイア基板をH2SO4+H2O2で前処理した後、MOCVD装置の中に設置した。MOCVD装置には、ガス系としてNH3系、TMA、TMG、SiH4が取り付けてある。
実施例1と同様にして厚さ20Å、平均直径100Åの、Er、Tm、Pr、及びEuをドープしたIn0.1Ga0.9N島状結晶を作製した後、この島状結晶の表面に前記固体源からEu、Er、及びTmの分子線を照射し、前記島状結晶の界面にこれらの希土類元素を吸着させた以外は、実施例1と同様にして半導体発光素子を作製した。
2 下地層
3 第1の導電層
4 第1のクラッド層
5 発光層
6 第2のクラッド層
7 第2の導電層
8,9 電極
12−1〜12−5,13−1〜13−5,14−1〜14−5,15−1〜15−5 島状結晶
17,18 基層
19 吸着元素
20 半導体発光素子
Claims (5)
- Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含む窒化物半導体からなる基層中に、Al、Ga、及びInの少なくとも一つを含み、前記窒化物半導体よりも面内格子定数の大きい追加の窒化物半導体からなる、それぞれが孤立した複数の島状結晶を含んでなる発光層を具え、
前記基層を構成する前記窒化物半導体のバンドギャップ(BG1)、及び前記島状結晶を構成する前記追加の窒化物半導体のバンドギャップ(BG2)がBG1>BG2の関係を満たし、
前記発光層を構成する前記基層及び前記複数の島状結晶の少なくとも一方は、希土類元素及び遷移金属元素から選ばれる少なくとも一種の元素を添加元素として含有し、発光層全体として任意の色度の光を生成するようにしたことを特徴とする、半導体発光素子。 - 希土類元素及び遷移金属元素から選ばれる少なくとも一種の元素を、前記基層及び前記島状結晶間の界面に吸着したことを特徴とする、請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記複数の島状結晶は、前記発光層を構成する前記基層中において複数の段状に分布していることを特徴とする、請求項1又は2に記載の半導体発光素子。
- 前記発光層を構成する基層及び島状結晶の少なくとも一方は、青色領域の光を発する第1の希土類元素と、緑色領域の光を発する第2の希土類元素と、赤色領域の光を発する第3の希土類元素とを含み、発光層全体として白色光を生成することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載の半導体発光素子。
- 前記添加元素の含有量が0.01〜7原子%であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一に記載の半導体発光素子
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004262508A JP4351600B2 (ja) | 2000-12-04 | 2004-09-09 | 半導体発光素子 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000367941 | 2000-12-04 | ||
JP2001013432 | 2001-01-22 | ||
JP2001087738 | 2001-03-26 | ||
JP2001106576 | 2001-04-05 | ||
JP2004262508A JP4351600B2 (ja) | 2000-12-04 | 2004-09-09 | 半導体発光素子 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001322926A Division JP3872327B2 (ja) | 2000-12-04 | 2001-10-22 | 半導体発光素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004356656A true JP2004356656A (ja) | 2004-12-16 |
JP4351600B2 JP4351600B2 (ja) | 2009-10-28 |
Family
ID=34069386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004262508A Expired - Lifetime JP4351600B2 (ja) | 2000-12-04 | 2004-09-09 | 半導体発光素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4351600B2 (ja) |
-
2004
- 2004-09-09 JP JP2004262508A patent/JP4351600B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4351600B2 (ja) | 2009-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
USRE40485E1 (en) | Semiconductor light-emitting element | |
JP4063520B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
KR20040012754A (ko) | Sic 기판 상에 형성된 gan 기반 led | |
JP2006295132A (ja) | 発光装置 | |
JP2015177025A (ja) | 光半導体素子 | |
CN105742415A (zh) | 紫外GaN基LED外延结构及其制造方法 | |
JP2006303259A (ja) | 窒化物半導体発光素子と窒化物半導体の成長方法 | |
JP6222684B2 (ja) | 赤色発光半導体素子とその製造方法 | |
JP3888668B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
US8278129B2 (en) | Manufacturing method of nitride semi-conductor layer, and a nitride semi-conductor light emitting device with its manufacturing method | |
JP4471694B2 (ja) | 半導体発光素子の製造方法 | |
JP5896454B2 (ja) | 赤色発光半導体素子とその製造方法 | |
JP3819713B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP4458870B2 (ja) | 蛍光発光装置、蛍光発光素子、および蛍光体 | |
JPH0797300A (ja) | 窒化ガリウム系結晶の熱処理方法 | |
JP4503316B2 (ja) | 多色光の発光方法 | |
JP4351600B2 (ja) | 半導体発光素子 | |
JP2004288757A (ja) | 半導体発光素子 | |
JP6450061B2 (ja) | 赤色発光半導体素子とその製造方法 | |
JP2004186509A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体装置 | |
CN117747725A (zh) | 一种长波长InGaN基发光二极管的外延结构及其制备方法 | |
JP4107889B2 (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
JP2009176759A (ja) | 窒化ガリウム系化合物半導体、発光素子、照明装置及び窒化ガリウム系化合物半導体の製造方法 | |
JP2003209285A (ja) | 3−5族化合物半導体の製造方法及び発光素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040909 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060418 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060602 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070522 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070720 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20070720 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090217 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090420 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090616 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090721 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090724 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4351600 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S201 | Request for registration of exclusive licence |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R314201 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130731 Year of fee payment: 4 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |