JP2004355785A - 光ディスク及び光ディスク装置 - Google Patents

Abstract

【課題】次世代光ディスクにおいて有効な光透過層厚及び光透過層屈折率の範囲を規定し、高密度記録に適した光ディスクを提供する。
【解決手段】光ディスクの光透過層の屈折率が１．４５〜１．７５の範囲に設定され、光透過層に入射されるレーザ光を照射するレンズの開口数が０．６５に設定され、レーザ光の波長範囲が３９５〜４１５ｎｍの範囲に設定される。更に収差が一定許容値以内となるように、光透過層の厚さｔが、収差の許容値に基づいて決定される定数ｔ１，ｔ２と、屈折率ｎの関数ｆ（ｎ）を用いて、ｆ（ｎ）−ｔ１≦ｔ≦ｆ（ｎ）＋ｔ２の範囲に設定される。
【選択図】 図５

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は高密度記録が可能な光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように近年では、情報の高密度記録が可能な光ディスクとして、片面１層容量が４．７ＧＢを有するＤＶＤが実用化されている。ＤＶＤには再生専用のＤＶＤ−ＲＯＭ、書きかえ可能なＤＶＤ−ＲＡＭ等の種類がある。ＤＶＤでは、０．６ｍｍ厚の透明基板（以下、光透過層と記載する）上に情報記録層を形成し、レーザ光を光透過層を透過させて情報記録面上に集光することにより、情報の書き込みや読み取りを行う構成となっている。このときのビームを集光するための対物レンズの開口数（ＮＡ）は０．６を基準としている。また、この光透過層の屈折率ｎは、波長６５０ｎｍに対して、ｎ＝１．４５〜１．６５の範囲に指定されており、この条件にあった光透過層材料が選択される。光透過層材料としてはポリカーボネートが一般的に用いられており、この場合の屈折率はｎ＝１．５８となっている。
【０００３】
ＤＶＤの光透過層の厚さは上述のように０．６ｍｍを基準としているが、実際には、ディスクの製造上厚さのばらつきが生じることは避けられないことである。ＤＶＤを記録再生する光学系において、光透過層が厚さの標準値を０．６ｍｍとして設計されている場合、基板厚が０．６ｍｍからずれて製作されると、収差が発生してしまう。光学系の収差はビームスポット径を増大させ、信号再生に悪影響を与えるためシステム上一定値以下に抑える必要がある。
【０００４】
光透過層の厚さ誤差に起因する光学系の収差は、光透過層の標準値からのずれと光透過層屈折率の標準値からのずれの両者によって決まる。従って、ＤＶＤの場合には、光透過層の厚さ誤差に起因する光学系の収差を一定値以下に抑えるため、光透過層厚の範囲をその屈折率との２次元範囲として規定している。この範囲については例えば特開平８−２７３１９９に開示されている。すなわち、屈折率ｎ＝１．４５〜１．６５の範囲に対して、標準値に対する光透過層厚の誤差を±０．０３ｍｍとした場合、横軸に屈折率、縦軸に光透過層厚をとったとき、屈折率ｎがレンズ負荷仕様（標準値）よりも小さくなる場合には光透過層厚を増加させる方向にずらした形の範囲で規定しているが、大きくなる場合には光透過層厚は変化しない範囲で規定している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の公知例の規定では、次の観点から適切でない。
【０００６】
現在、ＤＶＤを更に高密度化させる技術開発が各社で進められている。光ディスクの情報記録面上に照射される集束光のスポットサイズは、波長に比例し、光を集束させるための対物レンズの絞り角を示すＮＡに反比例する。従って記録密度向上を目指して集束光のスポットサイズの縮小化を行うためには、光源波長を短くし、対物レンズのＮＡを大きくする必要が有る。
【０００７】
このとき、光透過層の屈折率は光源波長に依存するため、光透過層厚の範囲をその屈折率との２次元範囲として新たに規定する必要がある。次世代光ディスクの光源波長とＮＡと光透過層厚の例としては、波長λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．６５、光透過層厚＝０．６ｍｍが挙げられる。
【０００８】
そこで本発明は、次世代光ディスクにおいて有効な光透過層厚及び光透過層屈折率の範囲を規定し、高密度記録に適した光ディスクを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の光ディスクは、基板上に形成された情報記録層を光透過層で覆って構成され、前記光透過層の厚さ及び屈折率の各標準値からのずれによる収差が一定許容値以内となるように、前記光透過層の厚さ及び屈折率の範囲が設定される光ディスクであって、前記光透過層の屈折率ｎの関数ｆ（ｎ）と、前記光透過層における収差の許容値に基づいて決定される定数ｔ１，ｔ２とを用いて、前記光透過層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１≦ｔ≦ｆ（ｎ）＋ｔ２の範囲に設定され、前記光透過層の屈折率が１．４５〜１．７５の範囲に設定され、前記光透過層に入射されるレーザ光を照射するレンズの開口数が０．６５に設定され、前記関数ｆ（ｎ）が定数Ａ１、Ａ２、Ａ３を用いて以下のように示される。
【００１０】
【数５】

【００１１】
本発明の一実施の形態において、前記光透過層に入射されるレーザ光の波長は３９５〜４１５ｎｍの範囲に設定され、前記定数Ａ１は０．２６２００、Ａ２は−０．３２４００、Ａ３は０．００５９５である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。
【００１３】
本発明における光ディスク１の断面図の例を図１に示す。ポリカーボネートから成る基板２上（図中では下）に例えば相変化記録膜を含む情報記録層３が形成される。なお、光ディスク１が再生専用ディスクの場合には相変化記録膜の代わりに金属反射膜による情報記録層３が形成される。次に、この情報記録層３上（図中では下）に厚さｔの光透過層４が形成されている。光透過層４は例えばポリカーボネートである。
【００１４】
次に、本ディスクを記録再生する光ディスク装置の構成例を図２に示す。光源には短波長の半導体レーザ２０が用いられる。その出射光の波長は、一般に３９５ｎｍ〜４１５ｎｍ（４０５±１０ｎｍ）の範囲の紫色波長帯のものである。半導体レーザ光源２０からの出射光１００は、コリメートレンズ２１により平行光となり偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板２３を透過した後、対物レンズ２５に入射する。その対物レンズのＮＡは、例えば０．６〜０．７の範囲のものである。その後、出射光１００は光ディスク１の光透過層４を透過し、情報記録層３に集光される。
【００１５】
光ディスク１の情報記録層３による反射光１０１は、再び光ディスク１の光透過層４を透過し、対物レンズ２５、λ／４板２３を透過し、偏光ビームスプリッタ２２で反射された後、光検出光学系２６を透過して光検出器２７に入射する。光検出器２７の受光部は通常複数に分割されており、それぞれの受光部から光強度に応じた電流を出力する。出力された電流は、図示しないＩ／Ｖアンプにより電圧に変換された後、演算回路１１により、ＲＦ信号及びフォーカス誤差信号及びトラック誤差信号などに演算処理される。
【００１６】
これら誤差信号に基づいて、サーボドライバ１０はレンズ駆動コイル１２を駆動し、レンズ２５をフォーカス方向（レンズ光軸方向）及びトラッキング方向（ディスク半径方向）に移動する。この結果、情報記録層３の目標トラック上にビームスポットが発生される。
【００１７】
ここで、光透過層４の厚さが標準値（例えば０．６ｍｍ）の時には対物レンズ２５にほぼ平行光として入射するように設計されている。しかし、光透過層４の厚さが標準値からずれている場合には光透過層４の厚み誤差に起因する球面収差が生じる。このとき、光ディスク１の情報記録層３上の集光スポット形状が歪むため、安定かつ正確な記録再生が困難となる。
【００１８】
次世代の光ディスク装置は、従来の光ディスク装置と比較して短波長化・高ＮＡ化されているため、次世代光ディスクを製造する上ではＤＶＤやＣＤの規定をそのまま適用することは誤った結果を生むこととなる。そこで、本発明の光ディスク１は光ディスク装置の短波長化・高ＮＡ化を考慮した光透過層４の厚さ誤差及び屈折率の範囲を有することを特徴とする。
【００１９】
次世代光ディスクシステムの仕様として、例えば光源波長４０５ｎｍ、対物レンズ２５のＮＡ＝０．６５を用いた場合を考える。光ディスクの光透過層の屈折率が１．６０、厚さが０．６ｍｍのレンズ負荷に対して、完全に収差の補正がなされた理想的な対物レンズを用いて光ビーム１００を記録層３上に集光させ、ビームスポットを生じさせた様子を図３に示す。このとき波面は整っており、波面収差すなわち波面の歪みは生じていない。しかし、レンズ系の残留球面収差等により波面収差が生じていると、図中の点線で示す曲線６のように理想的なビームスポットは発生しない。
【００２０】
上記したような理想的な対物レンズに対して、種々の光透過層屈折率ｎ、光透過層厚ｔの光ディスク１を用いた場合に生ずる波面収差のｒｍｓ（二乗平均）値を算出した結果を図４に示す。図４は横軸に光透過層屈折率ｎ、縦軸に光透過層厚ｔをとり、座標平面上のそれぞれの点における波面収差のｒｍｓ値を等高線表示してある。等高線の刻みは、光源波長（λ＝４０５［ｎｍ］）の１／１００である。図４において二重丸の中心は標準仕様、すなわち対物レンズ２５の負荷仕様値（ここではレンズを設計するときのディスクに関する光学的標準値）のポイントで、厚さｔ＝６００μｍ、屈折率ｎ＝１．６０である。ここで収差は最小となる。
【００２１】
この結果より種々の光透過層屈折率及び厚さのディスクを用いた場合、残留収差量を一定値とするには、屈折率がレンズ負荷仕様値より大きくなる方向又は小さくなる方向にずれる場合には、光透過層厚を標準値よりやや増加させた方が良いことが分かる。従って、次世代ＤＶＤの光ディスクの光透過層規定として、光透過層厚の誤差許容範囲は光透過層屈折率の標準値１．６０からのずれの絶対値に応じて変化させるように規定することが必要となる。
【００２２】
本発明の一実施形態に係る光ディスクの光透過層の屈折率と厚さの範囲は図５に示した範囲となる。これは、以下の領域を示している。
【００２３】
【数６】

【００２４】
図４の波面収差量の等高線は縦軸方向にほぼ平行に並んでおり、その曲線は上式（３）に一定のオフセットを与えた曲線として示すことができる。従って、収差の許容値が決まれば光透過層厚と屈折率の範囲を、該許容値をオフセットｔ１、ｔ２に対応させて上式（１）〜（３）により定めることができる。
【００２５】
本実施形態の場合、図５に示す範囲は、図４における収差が０．０３λｒｍｓ以下の範囲とほぼ一致している。つまり、厚さ誤差±１３μｍ（ｔ１、ｔ２＝１３μｍ）の範囲は、収差が０．０３λｒｍｓ以下の範囲に対応する。従って、図５に示す範囲の光ディスクを規定することで、光透過層厚と屈折率の標準値（一例として、ｔ＝０．６ｍｍ、ｎ＝１．６０）からのずれによる収差を、ほぼ０．０３λｒｍｓ以下という条件に保つことができる。
【００２６】
収差の許容値は光ディスクに対して記録又は再生を行う光ディスク装置の性能あるいは許容収差に応じて決まる値である。このとき、収差の許容値に応じてｔ１、ｔ２を変化させることで光透過層厚の範囲を調整すればよい。例えば、許容できる収差が０．０５λの場合、上記式においてｔ１，ｔ２＝２２μｍとすることで適正な範囲を指定することができる（図６参照）。尚、現在の光ディスク製造上、ｔ１、ｔ２を１０μｍ以下にすることは困難である。従って、ｔ１、ｔ２の最小値は１０μｍ程度である。
【００２７】
一方、屈折率の範囲は光透過層２の材質と光源の波長によって決まるものであり、光ディスクの光透過層の材料として有効なものが含まれる範囲を規定することになる。この場合、１．４５〜１．７５程度とすることで、ポリカーボネートなど光ディスクの光透過層として有効な材料の紫色波長帯での屈折率をカバーすることができる。
【００２８】
更に、本発明の別の実施形態に係る光ディスクの光透過層の厚さと屈折率の範囲は図７に示した範囲を持つ。これは、図５で示した実施形態の光ディスクの範囲とほぼ同様ではあるが、領域を曲線ではなく直線で囲んだ範囲としたものである。その効果は前記の実施形態の光ディスクと同等である。
【００２９】
又、更に、本発明の他の実施形態に係る光ディスクの光透過層の厚さと屈折率の範囲が図１１に示される。図１１においては、図７と部分的に異なる値により光透過層の厚さと屈折率の範囲が定義されているが、その範囲は大きく異なることはない。すなわち、屈折率１．５及び１．７の点で範囲が定義されている。更に、ポリカーボネート等の光ディスクの光透過層として有効な材料の紫色波長帯において、屈折率をカバーすることができるという同等の効果を有している。
【００３０】
次に、本発明の別の実施形態に係る光ディスク５１の断面図の例を図８に示す。ポリカーボネートから成る基板５２上（図中では下）に例えば相変化記録膜を含む情報記録層５３が形成される。その上には透明性の中間層５４が形成され、更にその上に別の情報記録層５５が形成される。なお、情報記録層５３及び５５は共に金属反射膜による再生専用層でも良いし、共に記録再生可能層であっても良いし、その一方のみが再生専用層でもう一方が記録再生可能層であっても良い。次に、この情報記録層５５の上に光透過層５６が形成されている。光透過層５６は例えばポリカーボネイトである。製造工程としては、例えば情報記録層５３が形成された基板５２と、情報記録層５４が形成された光透過層５６が、紫外線硬化樹脂等の粘着剤（中間層５４となる）を介して接着される。
【００３１】
上記の中間層５４の役割は、一方の情報記録層を再生している場合に他方の情報記録層からの情報の漏れ込み（クロストーク）を光学的に遮断することである。その意味では、２層の情報記録層の間隔はできるだけ離れていた方がよく、中間層５４の厚さは厚い方がよいことになる。しかし、その場合には記録再生する光学系に負担がかかることになる。すなわち、対物レンズの負荷として光透過層表面から中間層の中心までの厚さを規定した場合には、どちらの情報記録層を記録再生する場合でも、中間層の半分の厚さの厚み誤差による収差が発生するからである。従って、記録再生光学系の収差という観点からは中間層の厚さは薄い方が良いことになる。つまり、中間層の厚さは情報記録層間のクロストークと記録再生光学系の収差におけるトレードオフ関係の妥協点に定められることになる。
【００３２】
次世代光ディスクシステムの仕様として、例えば光源波長４０５ｎｍ、対物レンズ２５のＮＡ＝０．６５を用いた場合、上記のトレードオフを考えて中間層の厚さは２０μｍ〜３０μｍ程度が適当である。２層ディスクの光透過層の厚さ規定としては、光透過層５６の厚さの最小値と、光透過層５６と該光透過層に接する情報記録層５５と中間層５４の厚さの合計値の最大値で表すのが良い。このときの光ディスクの光透過層の厚さと屈折率の範囲は図９に示した範囲となる。なお、これまでの実施形態と同様に光ディスクの光透過層の屈折率が１．６０、厚さが０．６ｍｍのレンズ負荷、及びシステムの許容収差が０．０５λを仮定している。規定された領域は次に示す範囲である。
【００３３】
屈折率ｎ：１．４５≦ ｎ ≦１．７５
光透過層厚：ｆ（ｎ）−ｔ１ 以上
光透過層＋情報記録層５５＋中間層５４の厚さ：ｆ（ｎ）＋ｔ２以下
ｔ１，ｔ２＝２２μｍ
ｆ（ｎ）は式（３）の通り
この様に、中間層の厚さを考慮して許容収差が０．０５λに設定されているため、１層の場合と比べて厚さ方向の範囲は広くなる。又、中間層の屈折率は、光透過層５６の屈折率の＋０．０乃至−０．１５の範囲に設定されるものである。
【００３４】
更に、本発明の別の実施形態の光ディスクの光透過層の厚さと屈折率の範囲は図１０に示した範囲を持つ。これは、図９で示した実施形態の光ディスクの範囲とほぼ同様ではあるが、領域を曲線ではなく直線で囲んだ範囲としたものである。その効果は前記の実施形態の光ディスクと同等である。
【００３５】
又、更に、本発明の他の実施形態に係る光ディスクの光透過層の厚さと屈折率の範囲が図１２に示される。図１２においては、図１０と部分的に異なる値により光透過層の厚さと屈折率の範囲が定義されているが、その範囲は大きく異なることはない。すなわち、屈折率１．５及び１．７の点で範囲が定義されている。更に、ポリカーボネート等の光ディスクの光透過層として有効な材料の紫色波長帯において、屈折率をカバーすることができるという同等の効果を有している。
【００３６】
なお、上記２つの実施形態は情報記録層が２層の場合を示したが、２層以上の情報記録層を持つ光ディスクにも適用可能であることは言うまでもない。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、次世代光ディスクにおいて有効な光透過層厚及び光透過層屈折率の範囲を規定し、高密度記録に適した光ディスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される第１の光ディスクの構造を示す断面図。
【図２】本発明の光ディスクを記録再生する光ディスク装置を示す構成図。
【図３】記録層上に光ビームを集光させ、ビームスポットが生じる様子を示す図。
【図４】光ディスクの光透過層の屈折率と厚さの関係を、波面収差をパラメータとして示す図。
【図５】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０３λｒｍｓの場合に設定される範囲を示す図。
【図６】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０５λｒｍｓの場合に設定される範囲を示す図。
【図７】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０３λｒｍｓ近傍の場合に設定される直線近似範囲を示す図。
【図８】本発明が適用される第２の光ディスクの構造を示す断面図。
【図９】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０５λｒｍｓの場合に第２の光ディスクに設定される範囲を示す図。
【図１０】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０５λｒｍｓ近傍の場合に設定される直線近似範囲を示す図。
【図１１】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０３λｒｍｓ近傍の場合に設定される他の直線近似範囲を示す図。
【図１２】本発明の一実施形態に係る光透過層の屈折率と厚さの範囲を示し、許容収差が０．０５λｒｍｓ近傍の場合に設定される他の直線近似範囲を示す図。
【符号の説明】１…光ディスク、２…基板、３…記録層、４…光透過層、２０…半導体レーザ、２１…コリメートレンズ、２２…ビームスプリッタ、２３…λ／４板、２５…対物レンズ、２６…光検出光学系、２７…光検出器、１１…演算回路、１２…レンズ駆動コイル、１０…サーボドライバ。

Claims (18)

1. 基板上に形成された情報記録層を光透過層で覆って構成され、前記光透過層の厚さ及び屈折率の各標準値からのずれによる収差が一定許容値以内となるように、前記光透過層の厚さ及び屈折率の範囲が設定される光ディスクであって、
   前記光透過層の屈折率ｎの関数ｆ（ｎ）と、前記光透過層における収差の許容値に基づいて決定される定数ｔ１，ｔ２とを用いて、前記光透過層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１≦ｔ≦ｆ（ｎ）＋ｔ２の範囲に設定され、
   前記光透過層の屈折率が１．４５〜１．７５の範囲に設定され、
   前記光透過層に入射されるレーザ光を照射するレンズの開口数が０．６５に設定され、
   前記関数ｆ（ｎ）が定数Ａ１、Ａ２、Ａ３を用いて、
   

   

   にて示されることを特徴とする光ディスク。
2. 前記光透過層の屈折率が１．５〜１．７の範囲に設定されることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
3. 前記光透過層に入射されるレーザ光の波長が３９５〜４１５ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
4. 前記定数Ａ１は０．２６２００、Ａ２は−０．３２４００、Ａ３は０．００５９５であることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
5. 前記定数ｔ１，ｔ２の最小値が、実質的に１０μｍに設定されることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
6. 前記定数ｔ１，ｔ２が、実質的に１３μｍに設定されることを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
7. 前記ｆ（ｎ）−ｔ１及びｆ（ｎ）＋ｔ２が示す曲線の所定位置をサンプルし、各サンプル点を直線で結んだ領域を、前記光透過層の厚さｔの範囲としたことを特徴とする請求項１記載の光ディスク。
8. 基板上に、複数の情報記録層を相互間に光透過性を有する中間層を挟んで積層し、更にその上を光透過層で覆ってなる光ディスクにおいて、
   前記光透過層の屈折率ｎの関数ｆ（ｎ）と、前記光透過層、情報記録層及び中間層でなる層における収差の許容値に基づいて決定される定数ｔ１，ｔ２とを用いて、
   前記光透過層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１以上に設定され、
   前記光透過層と中間層と前記基板に最も近い情報記録層を除く情報記録層との合計の厚さがｆ（ｎ）＋ｔ２以下に設定され、
   前記光透過層の屈折率が１．４５〜１．７５の範囲に設定され、
   前記中間層の屈折率は、前記光透過層の屈折率の＋０．０乃至−０．１５の範囲に設定され、
   前記光透過層に入射されるレーザ光を照射するレンズの開口数が０．６５に設定され、
   前記関数ｆ（ｎ）が定数Ａ１、Ａ２、Ａ３を用いて、
   

   

   にて示されることを特徴とする光ディスク。
9. 前記光透過層の屈折率が１．５〜１．７の範囲に設定されていることを特徴とする請求項８記載の光ディスク。
10. 前記光透過層に入射されるレーザ光の波長が３９５〜４１５ｎｍの範囲に設定されていることを特徴とする請求項８記載の光ディスク。
11. 前記定数Ａ１は０．２６２００、Ａ２は−０．３２４００、Ａ３は０．００５９５であることを特徴とする請求項８記載の光ディスク。
12. 前記定数ｔ１，ｔ２の最小値が、実質的に１０μｍに設定されることを特徴とする請求項８記載の光ディスク。
13. 前記定数ｔ１，ｔ２が、実質的に２２μｍに設定されることを特徴とする請求項８記載の光ディスク。
14. 前記ｆ（ｎ）−ｔ１が示す曲線の所定位置をサンプルし、各サンプル点を結ぶ直線が示す厚さを、対応する屈折率における前記光透過層の厚さｔの最小値と設定し、
    前記ｆ（ｎ）＋ｔ２が示す曲線の所定位置をサンプルし、各サンプル点を結ぶ直線が示す厚さを、対応する屈折率における前記光透過層と中間層と前記基板に最も近い情報記録層を除く情報記録層との合計の厚さの最大値と設定したことを特徴とする請求項８記載の光ディスク。
15. 基板上に形成された情報記録層を光透過層で覆って構成され、前記光透過層の厚さ及び屈折率の各標準値からのずれによる収差が一定許容値以内となるように、前記光透過層の厚さ及び屈折率の範囲が設定される光ディスクであって、
    前記光透過層の屈折率ｎの関数ｆ（ｎ）と、前記光透過層における収差の許容値に基づいて決定される定数ｔ１，ｔ２とを用いて、前記光透過層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１≦ｔ≦ｆ（ｎ）＋ｔ２の範囲に設定され、
    前記光透過層の屈折率が１．４５〜１．７５の範囲に設定され、
    前記光透過層に入射されるレーザ光を照射するレンズの開口数が０．６５に設定され、
    前記関数ｆ（ｎ）が定数Ａ１、Ａ２、Ａ３を用いて、
    

    

    にて示されることを特徴とする光ディスクに対して、波長が３９５〜４１５ｎｍのレーザ光を照射する半導体レーザ素子と、
    前記半導体レーザ素子からのレーザ光を光ディスクに照射することで記録処理及び再生処理を行う処理部と、
    を具備することを特徴とする光ディスク装置。
16. 前記光透過層の屈折率が１．５〜１．７の範囲に設定されていることを特徴とする請求項１５記載の光ディスク装置。
17. 基板上に、複数の情報記録層を相互間に光透過性を有する中間層を挟んで積層し、更にその上を光透過層で覆ってなる光ディスクにおいて、
    前記光透過層の屈折率ｎの関数ｆ（ｎ）と、前記光透過層、情報記録層及び中間層でなる層における収差の許容値に基づいて決定される定数ｔ１，ｔ２とを用いて、
    前記光透過層の厚さｔがｆ（ｎ）−ｔ１以上に設定され、
    前記光透過層と中間層と前記基板に最も近い情報記録層を除く情報記録層との合計の厚さがｆ（ｎ）＋ｔ２以下に設定され、
    前記光透過層の屈折率が１．４５〜１．７５の範囲に設定され、
    前記中間層の屈折率は、前記光透過層の屈折率の±０．１の範囲に設定され、
    前記光透過層に入射されるレーザ光を照射するレンズの開口数が０．６５に設定され、
    前記関数ｆ（ｎ）が定数Ａ１、Ａ２、Ａ３を用いて、
    

    

    にて示されることを特徴とする光ディスクに対して、波長が３９５〜４１５ｎｍのレーザ光を照射する半導体レーザ素子と、
    前記半導体レーザ素子からのレーザ光を光ディスクに照射することで記録処理及び再生処理を行う処理部と、
    を具備することを特徴とする光ディスク装置。
18. 前記光透過層の屈折率が１．５〜１．７の範囲に設定されていることを特徴とする請求項１７記載の光ディスク装置。

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