JP2004320889A - 光電変換構造体 - Google Patents
光電変換構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004320889A JP2004320889A JP2003111086A JP2003111086A JP2004320889A JP 2004320889 A JP2004320889 A JP 2004320889A JP 2003111086 A JP2003111086 A JP 2003111086A JP 2003111086 A JP2003111086 A JP 2003111086A JP 2004320889 A JP2004320889 A JP 2004320889A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- conversion structure
- film
- lead
- photovoltaic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】光電変換構造体1は、光起電力材料の多結晶焼成体、単結晶のバルク薄片又は薄膜若しくは厚膜から成る膜構造体6、電極5、7とを備えており、光起電力材料は、光源からの光を照射することにより光起電力効果を発現させることのできる光起電力特性を有し、電極7は透光性のある電極材料を用いた。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光を用いた無索エネルギ−供給技術(電線を用いないで電力を供給する技術)に関し、特に光電エネルギ−変換素子(トランスデュ−サ)として膜形状の誘電体から成る膜構造体を用いた比較的小型の光電変換構造体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
ある種の強誘電体がもつ光起電力効果は、紫外線領域の光照射によりkV以上の非常に高い電圧を発生することを特徴としている。
【0003】
(1)多結晶焼成体のPLZTが光電変換素子として用いられいるものとして、次のような応用がこれまで提案されてきている。
▲1▼光スイッチ(例えば、非特許文献1参照。)
▲2▼光歩行ロボット(例えば、非特許文献2参照。)
▲3▼光マイクログリッパ(例えば、非特許文献3参照。)
▲4▼光駆動機構(例えば、非特許文献4参照。)
▲5▼静電型モータ(例えば、特許文献1参照。)
▲6▼無索電力供給方法(例えば、特許文献2参照。)
【0004】
(2)変換材料であるPLZT素子自体の特性向上のための技術開発が行われてきている(例えば、特許文献3〜5参照。)。
【0005】
(3)マイクロマシンに搭載される光電変換デバイスのうち、非晶質シリコンと結晶質シリコンを集積化して用いているものが報告されている(特許文献6参照。)。
【0006】
(4)自走式のマイクロマシンへのエネルギ−伝送法として光線、マイクロ波、音波を用い、マイクロマシンユニットへ搭載する受信素子としてアモルファス太陽電池を用いた電力供給方法が示されている(特許文献7参照。)。
【0007】
(5)ワイヤレスアクチュエ−タの駆動方法として、圧電素子の熱歪を用いたエネルギ−供給方法が示されている(特許文献8参照。)。
【0008】
【非特許文献1】
M.Tanimura and K.Uchino ; Sensors and Materials 1(1988)47−56
【非特許文献2】
K.Uchino ; J.Rob.Mech. 1(1989)124−127)
【非特許文献3】
服部、福田、丸橋、松浦、永守。日本機械学会論文集C59(1993)799−806
【非特許文献4】
H.Ishihara and T.Fukuda ; J.Rob.Mech. 11(1999)436−442
【特許文献1】
特開2002−078360号公報
【特許文献2】
特許3265479号公報
【特許文献3】
特許2716083号公報
【特許文献4】
特許3041409号公報
【特許文献5】
特許3106187号公報
【特許文献6】
特2965901号公報
【特許文献7】
特開平6−46539号公報
【特許文献8】
特開平7−111785号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、強誘電体の光起電力効果には応用を検討するにあたって、以下に示すような問題点が存在する。まず、上記従来技術(非特許文献1〜4、特許文献1〜8参照。)で用いられているセラミックス多結晶体のPLZT素子の場合には光起電力効果により発生する電圧はkV以上で高いものの、発生電流がnAのレベルで小さい。電流が少なくとも3桁程度大きくなることによって既存の電子機器との整合性が向上することが必要である。
【0010】
一方、電圧に関してはVレベルで十分応用可能である。特許文献5では単結晶材料が用いられているが、光起電力特性としては多結晶焼成体と同等の特性である。また従来は光起電力素子として多結晶焼結体(バルク体)や単結晶を用いてMEMS等の電子機器へ搭載する際に、接着剤等を使用する必要があり、品質保証やダンピングの観点から問題があった。
【0011】
そこで、MEMSプロセスや半導体製造プロセスと整合性の良い薄膜及び厚膜形成法による光起電力素子の形成が期待されている。さらに膜状の光電素子の場合、素子の分極方向を入射光と平行または垂直の2方向の方法が考えられる。このうち、入射光を膜厚方向から入射する方法では、上部電極に透光性を持たせる必要があり通常用いられる金属電極を用いることは出来ない。
【0012】
特許文献6のシリコン系光電素子を用いた場合には、デバイスのサイズが大型の宇宙構造体等には適しているものの、MEMSやナノテクノロジ−で利用する際にはサイズの微小化を図る点が困難である。
【0013】
特許文献7の光・マイクロ波・音波とアモルファス太陽電池を用いた方法では伝播モ−ドが限定されること、閉空間中でしか用いることが出来ないという問題点がある。
【0014】
特許文献8の熱を介した圧電体の利用法では、光エネルギ−からの変換過程が他の手法より多いために、エネルギ−ロスやシステムの構成要素が多くなるという問題点がある。また、熱工程を用いているために高速応答に対応できないこと、熱履歴の問題がある。
【0015】
本発明は、従来の上記問題点を解決することを目的とするものであり、コンパクトで大きな出力の得られる光電エネルギ−変換を行う光電エネルギ−変換構造体を実現することを課題とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために、光起電力材料の多結晶焼成体、単結晶のバルク薄片又は薄膜若しくは厚膜から成る膜構造体と、電極とを備えている光電変換構造体であって、上記光起電力材料は、光源からの光を照射することにより光起電力効果を発現させることのできる光起電力特性を有し、上記電極の少なくとも一方は透光性のある電極材料を用いたことを特徴とする光電変換構造体を提供する。
【0017】
上記光起電力材料は、鉛含有誘電体又は非鉛含有誘電体を使用することが好ましい。
【0018】
上記鉛含有誘電体又は非鉛含有誘電体は、多結晶体もしくは単結晶体の単独もしくは複数の化合物から成る母材材料を、単独又は微量添加物を単独もしくは複数加えて使用することが好ましい。
【0019】
上記鉛含有誘電体としては、PLZT、PZT、PMN、PbTiO3、PbTiO3−La(Zn2/3Nb1/3)O3又はPbTiO3−Pb(Mg1/2W1/2)O3を使用することが好ましい。
【0020】
上記非鉛含有誘電体としては、BaTiO3、LiNbO3、KNbO3、TaNbO3、ZnO、SbSI、RbZnBr4、TGS、PVDF、GaP、La2S3、Gd2S3、D2S3、CuPs5Br、Bi12SiO20、 Bi12GeO20、Bi12TiO20、Te、SiO2、HgS又は(Ba、Ca)TiO3を使用することが好ましい。
【0021】
上記微量添加物としては、タングステン、タンタル、ニオブ、鉄、銅、マグネシウム、ビスマス、イットリウム、モリブデン、バナジウム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マンガン、ニッケル、亜鉛、カルシウム、ストロンチウム、ケイ素、錫、セレン、ネオジウム、エルベニウム、ツリウム、ホフニウム、プラセオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロビウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム及びイッテルビウムから成る群から選択された1又は2以上を使用することが好ましい。
【0022】
上記光起電力効果を発現させるための光源は、ランプ光源にフィルタ−を利用したもの、半導体レ−ザを用いたもの又はレ−ザ光を用いたものであることを特徴とする。
【0023】
上記膜構造体は、ゾルゲル法、MOD法、スパッタリング、電子ビ−ム蒸着、レ−ザ蒸着法、MOCVD、CVD法、電気泳動法、界面重合法、水熱合成法、ガスデポジション法、エアロゾルデポジション法、スプレ−コ−ティング法又はスクリ−ン印刷法を単独もしくは複数用いて形成されたものであることを特徴とする。
【0024】
上記膜構造体が複数層縦方向に積層されて成り、出力電力を増幅することが可能であることを特徴とする。
【0025】
【発明の実施形態】
本発明に係る光電変換構造体の実施の形態について、実施例に基づいて図面を参照して以下に説明する。
【0026】
本発明に係る光電変換構造体の特徴をまず説明する。本発明に係る光電変換構造体は、MEMSやナノテクノロジ−デバイス等の小型のデバイスに適したものであり、光起電力効果を利用する無索電力供給用の光電変換素子(光電変換構造体とも言う。)として、誘電体材料の薄片又は薄膜若しくは厚膜から成る膜構造体を用いた構成を特徴とする。
【0027】
即ち、この光電変換構造体は、光起電力材料の多結晶焼成体、単結晶のバルク薄片又は薄膜若しくは厚膜から成る膜構造体と、電極とを備えている光電変換構造体であり、光起電力材料は、光源からの光を照射することにより光起電力効果を発現させることのできる光起電力特性を有する、そして、電極の少なくとも一方は透光性のある電極材料を用いた光電変換構造体である。
【0028】
光起電力材料は、鉛含有誘電体又は非鉛含有誘電体を使用する。そして、鉛含有誘電体又は非鉛含有誘電体は、多結晶体もしくは単結晶体の単独もしくは複数の化合物から成る母材材料を、単独又は微量添加物を単独もしくは複数加えて使用する。
【0029】
そして、鉛含有誘電体としては、PLZT、PZT、PMN、PbTiO3、PbTiO3−La(Zn2/3Nb1/3)O3又はPbTiO3−Pb(Mg1/2W1/2)O3を使用する。又、非鉛含有誘電体としては、BaTiO3、LiNbO3、KNbO3、TaNbO3、ZnO、SbSI、RbZnBr4、TGS、PVDF、GaP、La2S3、Gd2S3、D2S3、CuPs5Br、Bi12SiO20、 Bi12GeO20、Bi12TiO20、Te、SiO2、HgS又は(Ba、Ca)TiO3を使用する。
【0030】
そして、微量添加物としては、タングステン、タンタル、ニオブ、鉄、銅、マグネシウム、ビスマス、イットリウム、モリブデン、バナジウム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マンガン、ニッケル、亜鉛、カルシウム、ストロンチウム、ケイ素、錫、セレン、ネオジウム、エルベニウム、ツリウム、ホフニウム、プラセオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロビウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム及びイッテルビウムから成る群から選択された1又は2以上を使用する。
【0031】
本発明に係る光電変換構造体を構成する膜構造体の薄膜は、バルク体を100μm以下に研磨や切断で薄片化して製造してもよいし、ゾルゲル法、MOD法、スパッタリング、電子ビ−ム蒸着、レ−ザ蒸着法、MOCVD、CVD法、電気泳動法、界面重合法、水熱合成法、ガスデポジション法、スプレ−コ−ティング法、スクリ−ン印刷法等を単独もしくは複数用いて製造してもよい。
【0032】
そして、膜構造体の分極処理と電力取り出しのためには膜構造体を挟んで相対する電極を形成する必要がある。この際に、光の入射方向と分極方向が垂直である場合には金属電極を用いることが出来るが、平行である場合には電極の少なくとも一方には透光性のある電極を形成する必要があるため、鈴添加酸化インジウム、酸化ジルコニウム等を電極材料とした用いた構成とする。
【0033】
(実施例)
以下、この発明の実施例を説明する。図1は、膜構造体を使用した光電変換構造体1を示す図である。
【0034】
この光電変換構造体1は、下から順にシリコン(Si)基板1、酸化シリコン(SiO2)膜2、チタン(Ti)膜3と白金(Pt)膜4から成る下部電極5、膜構造体6、錫添加酸化インジウム(ITO)膜から成る上部電極7から構成されている。 膜構造体6は、PLZT膜(以下、「PLZT膜6」とする。)から構成し、PLZT膜6は、複数の薄膜から成る膜構造体とした。
【0035】
光電変換構造体1では、光の入射方向と分極方向は平行な状態で用いるために、上部電極7には、通常の金属電極ではなく、透光性のある材料を用いる必要があり、上述の通りITO膜(以下「ITO膜7」とする。)を用いた。
【0036】
次に光電変換構造体1の作成工程を説明する。シリコン基板1の表面に形成した酸化シリコン膜2は、熱拡散炉で1100度、20時間の熱処理をして作成したものであり、膜厚は約1.5μmである。
【0037】
この酸化シリコン膜2の上に下部電極5として、チタン膜3と白金膜4を順次スパッタリング法により形成した。ここで、チタン膜3は50nm、白金膜4は100nmに形成した。
【0038】
膜構造体であるPLZT膜6は、アルコラ−ト等の化合物を主原料としたMOD溶液材料を原料として、これをスピンコ−タ−上においた仕掛中の光電変換構造体1の白金膜4に表面上に滴下した。そして、スピンコ−タ−を500rpmから2000rpmで回転させることで、遠心力を利用し一層当たり約400nmの均一なPLZTの層を塗布する。
【0039】
こうしてPLZTの層の塗布を行ったものを、酸化焼成炉中で熱処理してPLZTを合成した。熱処理温度は、120℃で30分の乾燥、470℃で30分の仮焼成、600℃で60分の焼成を行う。これにより、ペロブスカイト構造を有するPLZTの層を作成することができる。このようなPLZTの層の作成工程を10回繰り返し、複数の層から成る厚さ4μmのPLZT膜6を形成する。図3は、以上の作成工程で作成された膜構造体を有する断面写真を示す。
【0040】
次に、上部電極7として、ITOをスパッタリング法により、PLZT膜6の上に約50nmの膜厚で成膜する。なお、この際にマスキングを行い、上部電極7の面積が10mm角になるようにする。
【0041】
こうして作成した光電変換構造体1に光起電力性を持たせるためには、電力の発生させた方向にあらかじめ電圧を印加することによって分極処理する必要がある。本実施例では、下部電極5と上部電極7の間に1Vの電圧を印加し、分極処理を行った。
【0042】
光電変換構造体1の光起電力特性の光強度依存性を図2に示す。光強度は最大で150mW/cm2であり、そのときに素子には1.7μA、0.85Vの光起電力が発生していた。
【0043】
このとき発生した光起電力を、通常の酸化物焼成法により作成した場合のPLZTの光起電力と比較すると次のようになる。電圧に関して、比較するために単位長さ当たりに発生する電圧を比較すると表1に示すようにほぼ同程度の値を示している。
【0044】
光起電力効果により発生する光起電圧は素子の電極間距離に比例し、発生電流は光の照射面積に比例する。このことを確認するために、4インチウェハ上へ上記の方法によりPLZT膜6が10μmである光電変換構造体を形成した。このとき、発生させることの出来た光起電力は電流が0.5mA、電圧が2Vとなり、上記の比例関係を確認することが出来た。
【0045】
以上、本発明に係る光電変換構造体の実施の形態を実施例に基づいて説明したが、本発明はこのような実施例に限定されることなく、特許請求の範囲記載の技術的事項の範囲内でいろいろな実施の態様があることは言うまでもない。
【0046】
【発明の効果】
以上の構成から成る本発明に係る光電変換構造体によれば、以下に記載されるような効果を奏する。
(1)本発明では、光起電力素子としての膜構造体を光エネルギ−無索伝送の受信素子等に用いることで、従来の方法に比べて3桁以上の出力電流を供給することがきる。この際、薄膜を大面積化することによってさらに大きな出力を得ることができる。
【0047】
(2)本発明によれば、従来のものに比べて、大電流が得られる。電圧出力は小さくなるものの、電流、電圧の出力レベルとしては既存の電子機器との整合性がつきやすい大きなものとなっている。さらに、開放系での利用が可能であり、電磁波との干渉が生じない。
【0048】
(3)本発明の薄膜から成る膜構造体は、薄膜形成技術を用いて作成可能であるためにMEMSへ適用が容易である。特に、高アスペクト比構造体、小型高速回転体、真空・水中での駆動機構等、電気配線の引き混みが困難な箇所へ電力を無索で供給するための手段として用いることができる。膜構造体を複数積層すれば電圧を増加することも可能である。
【0049】
(4)本発明に係る光電変換構造体は、光エネルギー変換素子として薄膜から成る膜構造体を利用しているから、照射した光がほぼ膜全体に当たることになる。このため、従来の焼結体の時のようなデッドボリュ−ムは無くなり、素子の利用効率が向上する。すなわち、従来技術で用いられていた焼結体は厚みが500μm程度以上あるために、照射された光で照射された反対面まで達していなかった。そのために光の到達していない部分の電気伝導率は暗導電率値のままであり、光導電率の寄与を受けることが出来なかった。一方、膜構造体の場合には、素子全体に光が到達しているために、全体の電気伝導率が大きくなることで、流れる電流が迅速かつ多くなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る光電変換構造体を説明する断面図である。
【図2】本発明に係る光電変換構造体の光起電力特性の光強度依存性の確認結果示すグラフである。
【図3】この膜構造体の断面写真を示す。
【図4】本発明に係る光電変換構造体の光起電力特性の光強度依存性の確認結果示すグラフである。
【符号の説明】
1 シリコン(Si)基板
2 酸化シリコン(SiO2)膜
3 チタン(Ti)膜
4 白金(Pt)膜
5 下部電極
6 膜構造体(PLZT膜)
7 錫添加酸化インジウム(ITO)から成る上部電極
Claims (9)
- 光起電力材料の多結晶焼成体、単結晶のバルク薄片又は薄膜若しくは厚膜から成る膜構造体と、電極とを備えている光電変換構造体であって、
上記光起電力材料は、光源からの光を照射することにより光起電力効果を発現させることのできる光起電力特性を有し、
上記電極の少なくとも一方は透光性のある電極材料を用いたことを特徴とする光電変換構造体。 - 上記光起電力材料は、鉛含有誘電体又は非鉛含有誘電体を使用することを特徴とする請求項1記載の光電変換構造体。
- 上記鉛含有誘電体又は非鉛含有誘電体は、多結晶体もしくは単結晶体の単独もしくは複数の化合物から成る母材材料を、単独又は微量添加物を単独もしくは複数加えて使用することを特徴とする請求項2記載の光電変換構造体。
- 上記鉛含有誘電体としては、PLZT、PZT、PMN、PbTiO3、PbTiO3−La(Zn2/3Nb1/3)O3 又はPbTiO3−Pb(Mg1/2W1/2)O3を使用することを特徴とする請求項2又は3記載の光電変換構造体。
- 上記非鉛含有誘電体としては、BaTiO3、LiNbO3、KNbO3、TaNbO3、ZnO、SbSI、RbZnBr4、TGS、PVDF、GaP、La2S3、Gd2S3、D2S3、CuPs5Br、Bi12SiO20、 Bi12GeO20、Bi12TiO20、Te、SiO2、HgS又は(Ba、Ca)TiO3を使用することを特徴とする請求項2又は3記載の光電変換構造体。
- 上記微量添加物としては、タングステン、タンタル、ニオブ、鉄、銅、マグネシウム、ビスマス、イットリウム、モリブデン、バナジウム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マンガン、ニッケル、亜鉛、カルシウム、ストロンチウム、ケイ素、錫、セレン、ネオジウム、エルベニウム、ツリウム、ホフニウム、プラセオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユウロビウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム及びイッテルビウムから成る群から選択された1又は2以上を使用することを特徴とする請求項3、4又は5記載の光電変換構造体。
- 上記光起電力効果を発現させるための光源は、ランプ光源にフィルタ−を利用したもの、半導体レ−ザを用いたもの又はレ−ザ光を用いたものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の光電変換構造体。
- 上記膜構造体は、ゾルゲル法、MOD法、スパッタリング、電子ビ−ム蒸着、レ−ザ蒸着法、MOCVD、CVD法、電気泳動法、界面重合法、水熱合成法、ガスデポジション法、エアロゾルデポジション法、スプレ−コ−ティング法又はスクリ−ン印刷法を単独もしくは複数用いて形成されたものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の光電変換構造体。
- 上記膜構造体が複数層縦方向に積層されて成り、出力電力を増幅することが可能であることを特徴とする請求項1〜9の何れか1項に記載の光電変換構造体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003111086A JP4147301B2 (ja) | 2003-04-16 | 2003-04-16 | 光電変換構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003111086A JP4147301B2 (ja) | 2003-04-16 | 2003-04-16 | 光電変換構造体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004320889A true JP2004320889A (ja) | 2004-11-11 |
JP4147301B2 JP4147301B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=33471736
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003111086A Expired - Lifetime JP4147301B2 (ja) | 2003-04-16 | 2003-04-16 | 光電変換構造体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4147301B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006093385A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光電変換構造体及びその製造方法 |
JPWO2007083842A1 (ja) * | 2006-01-20 | 2009-06-18 | 日本電気株式会社 | 光学素子、光集積デバイス、および光情報伝搬システム |
ITRM20100690A1 (it) * | 2010-12-23 | 2012-06-24 | Simone Brunetti | Pannello fotoinduttivo |
KR101469170B1 (ko) * | 2013-03-20 | 2014-12-04 | 인하대학교 산학협력단 | 상온진공분말분사 및 수열합성법을 이용한 다결정 티탄산납 후막의 제조방법 및 이를 통해 제조되는 다결정 티탄산납 후막 |
KR20210096336A (ko) * | 2020-01-28 | 2021-08-05 | 한국광기술원 | 광활성/전기활성 폴리머, 필름, 직물 구조체 및 광활성/전기활성 폴리머 제조 방법 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5147033B2 (ja) * | 2004-08-31 | 2013-02-20 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | センサ、センサアレイ、電流測定装置 |
CN109503151A (zh) * | 2018-12-17 | 2019-03-22 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种BaTiO3基铁电陶瓷材料及其制备方法和应用 |
-
2003
- 2003-04-16 JP JP2003111086A patent/JP4147301B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006093385A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光電変換構造体及びその製造方法 |
JPWO2007083842A1 (ja) * | 2006-01-20 | 2009-06-18 | 日本電気株式会社 | 光学素子、光集積デバイス、および光情報伝搬システム |
JP5024954B2 (ja) * | 2006-01-20 | 2012-09-12 | 日本電気株式会社 | 光学素子、光集積デバイス、および光情報伝搬システム |
ITRM20100690A1 (it) * | 2010-12-23 | 2012-06-24 | Simone Brunetti | Pannello fotoinduttivo |
KR101469170B1 (ko) * | 2013-03-20 | 2014-12-04 | 인하대학교 산학협력단 | 상온진공분말분사 및 수열합성법을 이용한 다결정 티탄산납 후막의 제조방법 및 이를 통해 제조되는 다결정 티탄산납 후막 |
KR20210096336A (ko) * | 2020-01-28 | 2021-08-05 | 한국광기술원 | 광활성/전기활성 폴리머, 필름, 직물 구조체 및 광활성/전기활성 폴리머 제조 방법 |
KR102385029B1 (ko) * | 2020-01-28 | 2022-04-11 | 한국광기술원 | 광활성/전기활성 폴리머, 필름, 직물 구조체 및 광활성/전기활성 폴리머 제조 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4147301B2 (ja) | 2008-09-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Ichiki et al. | Photovoltaic effect of lead lanthanum zirconate titanate in a layered film structure design | |
US8334454B2 (en) | Thin film photovoltaic device | |
US20130026382A1 (en) | Photovoltaic uv detector | |
Ichiki et al. | Photovoltaic properties of (Pb, La)(Zr, Ti) O3 films with different crystallographic orientations | |
JP4147301B2 (ja) | 光電変換構造体 | |
JP6179708B2 (ja) | 光電変換素子及び太陽電池セル | |
US20050161604A1 (en) | Electromagnetic radiation sensor and method for fabricating the same | |
Wang et al. | Fabrication of bimorph lead zirconate titanate thick films on metal substrates via the cold sintering-assisted process | |
US10115456B2 (en) | Multi-states nonvolatile opto-ferroelectric memory material and process for preparing the same thereof | |
JP5240807B2 (ja) | 光電変換構造体及びその製造方法 | |
JP5147033B2 (ja) | センサ、センサアレイ、電流測定装置 | |
WO2012063642A1 (ja) | 強誘電体薄膜、強誘電体薄膜の製造方法、圧電体素子の製造方法 | |
US6555886B1 (en) | Device having two perovskite crystalline layers that shows hysteresis and piezoelectric behavior | |
US9115031B2 (en) | Ceramic, and piezoelectric/electrostriction element | |
JP6146559B2 (ja) | 光電変換素子及び太陽電池セル | |
JP2001127358A (ja) | 固相エキシマデバイス及びその製造方法 | |
KR101213606B1 (ko) | 산화물 박막 소자의 제조방법 | |
JP2004064067A (ja) | 圧電/電歪膜型素子 | |
US9774295B2 (en) | Photoelectric conversion element and photovoltaic cell | |
Ichiki et al. | Preparation and photo-induced properties of lead lanthanum zirconate titanate multilayers | |
WO2019135911A1 (en) | Piezoelectric materials and devices and methods for preparing the same | |
Ichiki et al. | Formation and characteristics of photovoltaic PLZT ceramics in layered film | |
Ichiki et al. | Formation and its characteristics of PLZT layered film structure for transducers | |
KR101629472B1 (ko) | 플렉서블 나노제너레이터 제조방법 및 이에 의하여 제조된 플렉서블 나노제너레이터 | |
Kurokawa et al. | UV-light driven piezoelectric thin-film actuators |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071228 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080527 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4147301 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |