JP2004319448A - Vacuum envelope for image display device, sealant for image display device, image display device, and sealing method of vacuum envelope for image display device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lead-free organic sealant capable of sealing at a temperature of lower than 400°C while having excellent strength at high temperatures. <P>SOLUTION: This organic sealant for sealing an envelope component for constituting a vacuum envelope for an image display device, is characterised in that the baked body of the organic sealant has a lowest viscosity of 10<SP>3</SP>Pas or less within the temperature range of 300°C to <400°C, and the baked body of the organic sealant satisfies, when the mass at 20°C is m<SB>20</SB>, and the mass at 400°C is m<SB>400</SB>, 0.99<m<SB>400</SB>/m<SB>20</SB>≤1.00. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、映像機器におけるテレビジョン放送受像機やモニター機器等に用いられる画像表示装置、具体的には陰極線管および電界放出型冷陰極を持つ画像表示装置、これらの製造に使用される画像表示装置用真空外囲器および有機系封着材、ならびに該有機系封着材を用いた画像表示装置用真空外囲器の封着方法に関する。   The present invention relates to an image display device used for a television broadcast receiver or a monitor device in a video device, specifically an image display device having a cathode ray tube and a field emission cold cathode, and an image display used for manufacturing the same. The present invention relates to a vacuum envelope for an apparatus, an organic sealing material, and a sealing method for a vacuum envelope for an image display apparatus using the organic sealing material.

一般的に、陰極線管(CRT)や電界放出型冷陰極を持つ画像表示装置(FED)(以下、これらをあわせて画像表示装置と称する)は、二つ以上の部材、具体的には、CRTの場合は、画像が映し出される画像表示パネル部(ガラスパネル部)と、電子銃を持つガラスファンネル部、FEDの場合は、典型的にはフロントパネル部(画像表示パネル部)、該フロントパネル部に対向して配置される冷陰極を持ったリアパネル部、および該フロントパネル部と該リアパネル部との間にあって周囲を包囲する外枠からなり、これらを封着することで製造され、真空外囲器を形成している。   Generally, an image display device (FED) having a cathode ray tube (CRT) or a field emission type cold cathode (hereinafter referred to collectively as an image display device) has two or more members, specifically, a CRT. In the case of an image display panel section (glass panel section) on which an image is projected, a glass funnel section having an electron gun, and in the case of FED, typically a front panel section (image display panel section), the front panel section A rear panel portion having a cold cathode disposed opposite to the outer panel, and an outer frame that surrounds and surrounds the front panel portion and the rear panel portion. A vessel is formed.

従来、これらの封着はフリットガラスをビークルと混合し、スラリーにした後、端面に塗布し、比較的低温で乾燥した後により高い温度で焼成するか、またはシート状にしたものを端面に取り付けて、焼成することなどで実施される。前記フリットガラスとしては鉛の含有量が高いPbO−B23−ZnO−SiO2系の結晶性低融点ハンダガラスが用いられている。このようなフリットガラスを用いた例は、特許文献1に記載されている。
封着後の外囲器は、内部を高真空にするため、およそ250〜380℃の高温で真空排気される。この際、封着部には外囲器内部が真空になることに起因する引張り性の応力(以下、これを真空応力と称する)と内外の温度差に起因する引張り性の応力(以下、これを熱応力と称する)とが負荷されるので、これらの応力に耐えうる強度が要求される。
また、画像表示装置の長期信頼性を確保する上で、前記封着部は0.3MPa以上の耐圧強度、高い気密性および絶縁性が必要とされている。
Conventionally, these seals are made by mixing frit glass with a vehicle, making it into a slurry, applying it to the end face, drying it at a relatively low temperature and then firing it at a higher temperature, or attaching a sheet to the end face. It is carried out by firing. As the frit glass, a PbO—B 2 O 3 —ZnO—SiO 2 based crystalline low melting point solder glass having a high lead content is used. An example using such a frit glass is described in Patent Document 1.
The envelope after sealing is evacuated at a high temperature of about 250 to 380 ° C. in order to make the inside high vacuum. At this time, the sealing portion has tensile stress (hereinafter referred to as vacuum stress) caused by the vacuum inside the envelope and tensile stress (hereinafter referred to as “vacuum stress”). Is called a thermal stress), and the strength to withstand these stresses is required.
Further, in order to ensure long-term reliability of the image display device, the sealing portion is required to have a pressure strength of 0.3 MPa or more, high airtightness, and insulation.

近年CRTでは大型化、フラット化が進み、内蔵されるシャドウマスクなど金属部材のわずかな変形が電子ビームの位置ずれを引き起こし、画像に悪影響を与えるようになった。そこで、以前は問題とならなかった封着工程での金属の熱変形がクローズアップされるようになり、封着温度の低温化が望まれている。こうした熱変形は封着温度を400℃未満にすることでほとんど抑止されることがわかってきている。
また、FEDの場合、真空外囲器内に配置される背面基板がカソード電極、抵抗層、エミッタ、絶縁層などの多層構造となっており、各層間の熱膨張特性の違いから、熱処理はなるべく低温でなされることが望まれている。また、エミッタの種類にもよるが、400℃以上の封着温度ではエミッタが酸化して電子放出特性が劣化する懸念がある。
したがって、400℃未満で封着できる封着材料が望まれている。
In recent years, the CRT has been increased in size and flattened, and slight deformation of a metal member such as a built-in shadow mask causes an electron beam misalignment, which adversely affects an image. Thus, the thermal deformation of the metal in the sealing process, which has not been a problem before, has been brought up, and a reduction in the sealing temperature is desired. It has been found that such thermal deformation is almost suppressed by setting the sealing temperature to less than 400 ° C.
In addition, in the case of FED, the back substrate disposed in the vacuum envelope has a multilayer structure such as a cathode electrode, a resistance layer, an emitter, and an insulating layer. It is desired to be done at low temperatures. Further, although depending on the type of emitter, there is a concern that at a sealing temperature of 400 ° C. or higher, the emitter is oxidized and the electron emission characteristics deteriorate.
Therefore, a sealing material that can be sealed at less than 400 ° C. is desired.

しかしながら、従来のフリットガラスを用いた封着においては、焼成温度が400℃以上必要であって、400℃未満の焼成温度で封着した場合には、封着部の強度が十分でなく、その後の高温真空排気工程で封着部が破壊する可能性が生じる問題や、真空外囲器の長期信頼性が確保できないといった問題があった。また、従来のフリットガラスは、PbOとして鉛を60質量%以上含んでいるが、環境に対する影響に鑑み、無鉛化することが望まれている。   However, in the sealing using the conventional frit glass, the firing temperature is required to be 400 ° C. or higher, and when the sealing is performed at the firing temperature of less than 400 ° C., the strength of the sealed portion is not sufficient. There is a problem that the sealing part may be broken in the high-temperature evacuation process, and that the long-term reliability of the vacuum envelope cannot be ensured. Moreover, although the conventional frit glass contains 60 mass% or more of lead as PbO, in view of the influence on the environment, it is desired to make it lead-free.

400℃未満で封着でき、かつ鉛を含まない封着材としては、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの有機系封着材が考えられる。このようなエポキシ樹脂等を使用した例は、特許文献1および特許文献2に記載されている。しかし、これら従来の有機系封着材は、(1)ガラスとの接着強度が十分でない、(2)高温で強度が不足する、(3)高温真空排気時に封着材自身が分解して、ガスを発生させて電子銃または冷陰極に悪影響を与える、(4)ガス透過性が高く高真空を保持できない、等の問題があった。他の有機系封着材の例として、ポリベンゾイミダゾール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリフェニル化合物を含む接着剤を用いた例が特許文献3ないし5に記載されており、ポリイミド樹脂と、パラヒドロキシ安息香酸にテレフタル酸、ビフェノール類、2,6−ナフタレンジカルボン酸、ヒドロキシナフトエ酸、イソフタル酸等を共重合させて得られる溶融液晶ポリマー樹脂を併用する、または該溶融液晶ポリマー樹脂を単独で使用する例が特許文献6に記載されている。しかし、これらの有機系封着材は、前述した(1)〜(4)の問題を解消するものではない。
また、鉛の代わりにビスマス化合物を用いたビスマス系のものや、リン酸塩を用いたリン酸塩系のもの等の無鉛無機系封着材料も提案されているが、(5)十分な強度が確保できない、(6)400℃未満での封着が難しいなどの問題があった。
As the sealing material that can be sealed at less than 400 ° C. and does not contain lead, organic sealing materials such as epoxy resins and silicone resins can be considered. Examples using such an epoxy resin are described in Patent Document 1 and Patent Document 2. However, these conventional organic sealing materials have (1) insufficient adhesive strength with glass, (2) insufficient strength at high temperature, (3) the sealing material itself decomposes during high-temperature evacuation, There are problems such as generating gas and adversely affecting the electron gun or the cold cathode, and (4) high gas permeability and inability to maintain a high vacuum. Examples of other organic sealing materials include polybenzimidazole resin, polyimide resin, and an example of using an adhesive containing a polyphenyl compound in Patent Documents 3 to 5, and polyimide resin and parahydroxybenzoic acid. Examples of using a molten liquid crystal polymer resin obtained by copolymerizing terephthalic acid, biphenols, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, hydroxynaphthoic acid, isophthalic acid, etc., or using the molten liquid crystal polymer resin alone. It is described in Patent Document 6. However, these organic sealing materials do not solve the problems (1) to (4) described above.
Lead-free inorganic sealing materials such as bismuth-based materials using bismuth compounds instead of lead and phosphate-based materials using phosphates have also been proposed, but (5) sufficient strength Cannot be secured, and (6) it is difficult to seal at less than 400 ° C.

特開昭52−124854号公報JP 52-124854 A 特開平4−245153号公報JP-A-4-245153 特開2000−21298号公報JP 2000-21298 A 特開2000−251768号公報JP 2000-251768 A 特開2000−251769号公報JP 2000-251769 A 特開平10−275573号公報JP-A-10-275573

以上、従来技術における問題点を鑑みて、本発明は、画像表示装置の製造工程において発生する真空応力および熱応力に対して封着部が十分な強度を有しており、製造工程の際に該封着部の割れ問題が生じることがない画像表示装置用真空外囲器を提供することを第1の目的とする。
該画像表示装置用真空外囲器は、封着部の電気絶縁破壊強度が十分であることが好ましく、また、該封着部が鉛フリーであることが好ましい。
As mentioned above, in view of the problems in the prior art, the present invention has a sufficient strength against the vacuum stress and thermal stress generated in the manufacturing process of the image display device. It is a first object of the present invention to provide a vacuum envelope for an image display device in which the problem of cracking of the sealing portion does not occur.
The vacuum envelope for the image display device preferably has a sufficient electrical breakdown strength at the sealing portion, and the sealing portion is preferably lead-free.

また、本発明は、400℃未満の温度で封着可能であり、その焼成体が画像表示装置の製造工程で経験する高温環境下で十分な強度を有する画像表示装置用の有機系封着材を提供することを第2の目的とする。
該有機系封着材は、その焼成体が画像表示装置の製造工程で経験する高温環境下で実質的に分解せず、したがって分解ガスを発生しないことが好ましい。
さらにまた、該有機系封着材は、画像表示装置の製造工程で経験する高温環境下において取扱性に優れることが好ましい。
The present invention also provides an organic sealant for an image display device that can be sealed at a temperature of less than 400 ° C. and has a sufficient strength in a high-temperature environment that the fired body experiences in the manufacturing process of the image display device. The second object is to provide the above.
It is preferable that the organic sealing material does not substantially decompose under the high temperature environment that the fired body experiences in the manufacturing process of the image display device, and therefore does not generate decomposition gas.
Furthermore, it is preferable that the organic sealing material is excellent in handleability in a high temperature environment experienced in the manufacturing process of the image display device.

また、本発明は、製造工程における封着部の割れ問題が生じることがなく、かつ表示特性に優れた画像表示装置を提供することを第3の目的とする。   It is a third object of the present invention to provide an image display device that does not cause a problem of cracking of the sealing part in the manufacturing process and has excellent display characteristics.

また、本発明は、操作が容易であり、かつ工程中に封着部の割れ問題が生じることがない画像表示装置用真空外囲器の封着方法を提供することを第4の目的とする。   It is a fourth object of the present invention to provide a sealing method for a vacuum envelope for an image display device that is easy to operate and does not cause a problem of cracks in the sealing portion during the process. .

本発明は、前述の目的を達成すべくなされたものであって、ガラスからなる画像表示部を少なくとも含んだ外囲器構成部材を、封着材層を介して封着させてなる真空外囲器であって、前記封着材層は、有機系封着材を焼成して得た有機系封着材層を含み、前記有機系封着材層と、該有機系封着材層を介して封着される外囲器構成部材と、からなる封着部の曲げ強度が、220℃において30MPa以上であることを特徴とする画像表示装置用真空外囲器を提供する。
前記画像表示装置用外囲器において、前記封着部は電気絶縁破壊強度が、3kV/mm以上であることが好ましい。
前記画像表示装置が陰極線管である場合、前記画像表示装置用外囲器の前記封着部は電気絶縁破壊強度が、15kV/mm以上であることが好ましい。
また、前記画像表示装置用真空外囲器において、前記有機封着材層は、実質的に鉛を含まないことが好ましい。
The present invention has been made to achieve the above-described object, and is a vacuum envelope obtained by sealing an envelope constituent member including at least an image display portion made of glass via a sealing material layer. The sealing material layer includes an organic sealing material layer obtained by firing an organic sealing material, and the organic sealing material layer is interposed between the organic sealing material layer and the organic sealing material layer. A vacuum envelope for an image display device is provided, wherein a bending strength of a sealing portion composed of an envelope constituent member to be sealed is 30 MPa or more at 220 ° C.
In the envelope for an image display device, it is preferable that the sealing portion has an electrical breakdown strength of 3 kV / mm or more.
When the image display device is a cathode ray tube, it is preferable that the sealing portion of the envelope for the image display device has an electrical breakdown strength of 15 kV / mm or more.
In the vacuum envelope for an image display device, it is preferable that the organic sealing material layer does not substantially contain lead.

また、本発明は、画像表示装置の真空外囲器を構成する外囲器構成部材を封着するための有機系の封着材であって、
前記有機系封着材は、300℃以上400℃未満の温度範囲における最低粘度が103Pa・s以下であり、
前記有機系封着材の焼成体は、20℃における質量をm20とし、400℃における質量をm400とするとき、0.99<m400/m20≦1.00となることを特徴とする画像表示装置用封着材を提供する。
Further, the present invention is an organic sealing material for sealing an envelope constituent member constituting a vacuum envelope of an image display device,
The organic sealing material has a minimum viscosity of 10 3 Pa · s or less in a temperature range of 300 ° C. or more and less than 400 ° C.,
The fired body of the organic sealing material is characterized in that when the mass at 20 ° C. is m 20 and the mass at 400 ° C. is m 400 , 0.99 <m 400 / m 20 ≦ 1.00. An image display device sealing material is provided.

前記画像表示装置用封着材は、前記有機系封着材の焼成体の示差走査熱量分析計(DSC)によるガラス転移温度が175℃以上であることが好ましい。
前記画像表示装置用封着材は、前記有機系封着材の焼成体の220℃における曲げ弾性率が100MPa以上であることが好ましい。
The sealing material for an image display device preferably has a glass transition temperature of 175 ° C. or higher by a differential scanning calorimeter (DSC) of the fired body of the organic sealing material.
The sealing material for an image display device preferably has a bending elastic modulus at 220 ° C. of the fired body of the organic sealing material of 100 MPa or more.

さらに、前記画像表示装置用封着材は、ポリイミド化合物またはポリアミド酸化合物を主成分とすることが好ましい。
前記画像表示装置用封着材は、ポリイミド化合物中のイミド基含有割合(イミド基分子量/ポリイミド分子量)またはポリアミド酸化合物中のアミド基含有割合(アミド基分子量/ポリアミド酸分子量)が10〜31%の範囲であることが好ましい。
Further, the sealing material for an image display device preferably contains a polyimide compound or a polyamic acid compound as a main component.
The sealing material for an image display device has an imide group content ratio (imide group molecular weight / polyimide molecular weight) in the polyimide compound or an amide group content ratio (amide group molecular weight / polyamic acid molecular weight) in the polyamic acid compound of 10 to 31%. It is preferable that it is the range of these.

前記画像表示装置用封着材は、下記式1ないし式3で示される構造を有するポリイミド化合物のうち、少なくとも1つを主成分とすることがより好ましい。

Figure 2004319448

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式1ないし式3中、Xはジアミン化合物の主骨格であり、X’はモノアミン化合物の主骨格であり、Yはテトラカルボン酸二無水物の主骨格であり、Y’はジカルボン酸無水物の主骨格である。なお、XおよびYは、より具体的には以下の意味を示す。
(A)Xが下記式4〜式8のうちのいずれか一つのとき、Yは下記式9〜式14のうちのいずれか一つである。下記式4〜式8において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。
(B)Xが下記式15のとき、は下記式16または式17である。下記式15において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。 More preferably, the sealing material for an image display device contains at least one of the polyimide compounds having a structure represented by the following formulas 1 to 3 as a main component.
Figure 2004319448

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In Formulas 1 to 3, X is the main skeleton of the diamine compound, X ′ is the main skeleton of the monoamine compound, Y is the main skeleton of tetracarboxylic dianhydride, and Y ′ is the dicarboxylic acid anhydride. The main skeleton. X and Y have the following meanings more specifically.
(A) When X is any one of the following formulas 4 to 8, Y is any one of the following formulas 9 to 14. In the following formulas 4 to 8, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 —, and —C (CH 3 ) 2. Each of n is independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.
(B) When X is the following formula 15, is the following formula 16 or formula 17. In the following formula 15, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 — and —C (CH 3 ) 2. N is each independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.

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また、前記画像表示装置用封着材は、下記式20で示される構造を有するポリアミド酸化合物を主成分とすることがより好ましい。

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式20において、Xが下記式4〜式8からなる群から選択されるいずれか一つのとき、Yは下記式9〜式14からなる群から選択されるいずれか一つであり、
Xが下記式15のとき、Yは下記式16または式17であり、
Xが下記式18のとき、Yは下記式19である。 More preferably, the sealing material for an image display device contains a polyamic acid compound having a structure represented by the following formula 20 as a main component.
Figure 2004319448
In Formula 20, when X is any one selected from the group consisting of the following Formula 4 to Formula 8, Y is any one selected from the group consisting of the following Formula 9 to Formula 14,
When X is the following formula 15, Y is the following formula 16 or formula 17,
When X is the following formula 18, Y is the following formula 19.

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上記式中、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは各々独立にCH3またはフェニル基である。
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In the above formula, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 — and —C (CH 3 ) 2 . One, n is each independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.

また、本発明は、外囲器構成部材が上記の画像表示装置用封着材により封着されていることを特徴とする画像表示装置用真空外囲器を提供する。
また、本発明は、上記の画像表示装置用真空外囲器を備えた画像表示装置を提供する。
In addition, the present invention provides a vacuum envelope for an image display device, wherein the envelope constituent member is sealed with the above-described sealing material for an image display device.
Moreover, this invention provides the image display apparatus provided with said vacuum envelope for image display apparatuses.

また、真空外囲器を構成する外囲器構成部材の封着面に、ポリイミド化合物もしくはポリアミド酸化合物を主成分とする有機系封着剤またはその溶液を塗布し、その後300℃以上400℃未満の範囲の温度に加熱することにより、前記有機系封着剤を焼成し、固化せしめて該外囲器構成部材を封着することを特徴とする画像表示装置用真空外囲器の封着方法を提供する。
さらに、前記有機系封着材は、上記式1ないし式3に示す構造を有するポリイミド化合物のうち、少なくとも1つを主成分とすることが好ましい。
さらにまた、前記有機系封着材は、上記式20に示す構造を有するポリアミド酸化合物を主成分とすることが好ましい。
Further, an organic sealing agent mainly composed of a polyimide compound or a polyamic acid compound or a solution thereof is applied to the sealing surface of the envelope constituent member constituting the vacuum envelope, and then 300 ° C. or higher and lower than 400 ° C. A method for sealing a vacuum envelope for an image display device, wherein the organic sealant is baked and solidified by heating to a temperature in the range of I will provide a.
Furthermore, it is preferable that the organic sealing material contains at least one of the polyimide compounds having the structures represented by the above formulas 1 to 3 as a main component.
Furthermore, the organic sealing material preferably contains a polyamic acid compound having a structure represented by the above formula 20 as a main component.

本発明の画像表示装置用真空外囲器は、画像表示装置の製造工程、特に真空外囲器の高温真空排気工程において発生する真空応力および熱応力に対して封着部が十分な曲げ強度を有しており、画像表示装置の製造工程での真空外囲器の封着部の割れ問題が解消されている。
本発明の画像表示装置用真空外囲器は、封着部の電気絶縁強度が優れており、画像表示装置用の真空外囲器として好ましい特性を有している。
本発明の画像表示装置用真空外囲器は、有機系の封着材で封着されているため鉛フリーであり、環境への影響が考慮されている。
The vacuum envelope for an image display device according to the present invention has a sufficient bending strength at the sealing portion against the vacuum stress and the thermal stress generated in the manufacturing process of the image display device, particularly in the high-temperature evacuation process of the vacuum envelope. Therefore, the cracking problem of the sealing portion of the vacuum envelope in the manufacturing process of the image display device is solved.
The vacuum envelope for an image display device of the present invention has excellent electrical insulation strength at the sealing portion, and has preferable characteristics as a vacuum envelope for an image display device.
The vacuum envelope for an image display device of the present invention is lead-free because it is sealed with an organic sealing material, and the influence on the environment is considered.

本発明の画像表示装置用封着材は、鉛を含まない有機系封着材であるため、環境への影響が考慮されており、かつ400℃未満の温度で封着可能であり、その焼成体が画像表示装置の製造工程で経験する高温環境下で十分な強度を有している。
また、本発明の画像表示装置用封着材は、その焼成体が画像表示装置の製造工程で経験する高温環境下で実質的に分解ガスを発生せず、製造される画像表示装置に悪影響を及ぼすことがない。
さらにまた、本発明の画像表示装置用封着材は、画像表示装置の製造工程で経験する高温環境下における取扱性が優れている。
Since the sealing material for an image display device of the present invention is an organic sealing material not containing lead, the influence on the environment is taken into consideration and the sealing is possible at a temperature of less than 400 ° C. The body has sufficient strength under the high temperature environment experienced in the manufacturing process of the image display device.
Further, the sealing material for an image display device of the present invention does not substantially generate decomposition gas in a high temperature environment that the fired body experiences in the manufacturing process of the image display device, and has an adverse effect on the manufactured image display device. There is no effect.
Furthermore, the sealing material for an image display device of the present invention is excellent in handleability in a high temperature environment experienced in the manufacturing process of the image display device.

本発明の画像表示装置は、製造工程において封着部の割れ問題が生じることがなく、かつ製造工程における封着材の焼成が400℃未満で行われるため、表示特性に優れている。   The image display device of the present invention is excellent in display characteristics because the sealing part is not cracked in the manufacturing process and the sealing material is baked at less than 400 ° C. in the manufacturing process.

本発明の画像表示装置用真空外囲器の封着方法は、操作が容易であり、かつ工程中に封着部の割れ問題が生じることがない。   The method for sealing a vacuum envelope for an image display device according to the present invention is easy to operate and does not cause a problem of cracking of the sealing portion during the process.

以下、本発明について図面を用いて詳細に説明する。
本発明において、画像表示装置とは、高真空下において、陰極(カソード)から放出され、高速で運動する電子を蛍光体に衝突させて、励起、発光させるいわゆるカソードルミネセンスタイプのものである。このようなカソードルミネセンスタイプの画像表示装置は、陰極線管(CRT)、電界放出型冷陰極を持つ画像表示装置(FED)によって代表される。
このような画像表示装置は、カソードルミネセンスを実現するため、内部が高真空になった真空外囲器を備えている。該真空外囲器内には、高速の電子ビームを放出するための駆動回路と、該電子ビームが衝突することで励起されて蛍光を生じる蛍光体が塗布された画像表示パネル部と、が設置されている。
本発明の画像表示装置について、従来のCRTおよびFEDの構成を例に、以下に詳細に説明する。ただし、本発明の画像表示装置は、CRTおよびFEDのみに限定されず、真空外囲器を備えた画像表示装置を広く含む。真空外囲器を備えた画像表示装置の他の例としては、例えば蛍光表示管(VFD)がある。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
In the present invention, the image display device is of a so-called cathodoluminescence type in which electrons emitted from a cathode (cathode) and moving at a high speed collide with a phosphor to excite and emit light under high vacuum. Such a cathode luminescence type image display device is represented by a cathode ray tube (CRT) and an image display device (FED) having a field emission cold cathode.
Such an image display device includes a vacuum envelope having a high vacuum inside in order to realize cathodoluminescence. In the vacuum envelope, there are installed a drive circuit for emitting a high-speed electron beam, and an image display panel unit coated with a phosphor that is excited when the electron beam collides to generate fluorescence. Has been.
The image display apparatus of the present invention will be described in detail below by taking the configuration of a conventional CRT and FED as an example. However, the image display device of the present invention is not limited to CRT and FED, but widely includes image display devices including a vacuum envelope. As another example of an image display device provided with a vacuum envelope, there is a fluorescent display tube (VFD), for example.

図1は、本発明の画像表示装置の1実施形態の一部切欠き側面図であり、画像表示装置1は、CRTとして構成されている。図1中、図面右側を前側とし、左側を後側とする。
図1において、画像表示装置1は、画像表示パネル部2と、ガラスファンネル部3と、で構成される真空外囲器(ガラスバルブ)11を備えている。真空外囲器11の前側を構成する画像表示パネル部2は、その前方に位置し、画像を表示するための略平面状の画像表示領域21と、該画像表示領域21を含むフェース部の側部から後方に延びるスカート部22よりなる。真空外囲器11の後側を構成するガラスファンネル部3の後端には、電子銃4を格納するネック31が設けられている。真空外囲器11を構成する画像表示パネル部2およびガラスファンネル部3は、通常ガラス製である。但し、画像表示パネル部2の画像表示領域21は、その全体がガラス製ではなく、その前側部分が光透過性の樹脂からなる複層材であってもよい。また、真空外囲器11の構成部材は、ガラス以外の無機材料製、具体的には例えば、セラミック製または金属製であってもよい。
図1の画像表示装置1では、この他、強度を保持するための防爆補強バンド17、電子銃16から放出される電子ビームとの相互作用により蛍光を発する蛍光体13、該蛍光を画像表示面21の側に反射するアルミニウム膜14、該電子ビームを蛍光体13の所定の位置にランディングさせるためのシャドウマスク15、該シャドウマスク15をスカート部22の内壁に固定するためのスタッドピン18等を含む。
FIG. 1 is a partially cutaway side view of an embodiment of an image display apparatus of the present invention, and the image display apparatus 1 is configured as a CRT. In FIG. 1, the right side of the drawing is the front side and the left side is the rear side.
In FIG. 1, the image display device 1 includes a vacuum envelope (glass bulb) 11 including an image display panel unit 2 and a glass funnel unit 3. The image display panel unit 2 constituting the front side of the vacuum envelope 11 is located in front of the vacuum envelope 11 and has a substantially planar image display region 21 for displaying an image, and the side of the face unit including the image display region 21. The skirt portion 22 extends rearward from the portion. A neck 31 for storing the electron gun 4 is provided at the rear end of the glass funnel portion 3 constituting the rear side of the vacuum envelope 11. The image display panel unit 2 and the glass funnel unit 3 constituting the vacuum envelope 11 are usually made of glass. However, the image display region 21 of the image display panel unit 2 may not be entirely made of glass, but may be a multilayer material made of a light-transmitting resin on the front side. Further, the constituent member of the vacuum envelope 11 may be made of an inorganic material other than glass, specifically, ceramic or metal.
In addition to the above, in the image display device 1 of FIG. 1, an explosion-proof reinforcement band 17 for maintaining strength, a phosphor 13 that emits fluorescence by interaction with an electron beam emitted from the electron gun 16, and the fluorescence on the image display surface An aluminum film 14 that reflects toward the side 21; a shadow mask 15 for landing the electron beam at a predetermined position of the phosphor 13; a stud pin 18 for fixing the shadow mask 15 to the inner wall of the skirt 22; Including.

本発明の画像表示装置1では、真空外囲器11の構成部材である画像表示パネル部2と、ガラスファンネル部3と、が有機系封着材層5を介して封着されている。有機系封着材層5は、後述する方法により、真空外囲器構成部材の封着面に有機系封着材を塗布またはフィルムとして取り付けた後、所望の条件で焼成させて得た有機系封着材の焼成体の層である。図1の画像表示装置1では、画像表示パネル部2のスカート部22の後側の端面と、ガラスファンネル部3の前側の端面と、が有機系封着材層5を介して封着されている。本発明の画像表示装置1では、真空外囲器11の封着部、具体的には有機系封着材層5と、該有機系封着材層5によって封着される真空外囲器構成部材の部分、図1ではスカート部22の後端部分およびファンネル部3の前端部分からなる封着部の曲げ強度が、220℃において30MPa以上である。   In the image display device 1 of the present invention, the image display panel unit 2 that is a constituent member of the vacuum envelope 11 and the glass funnel unit 3 are sealed through an organic sealing material layer 5. The organic sealing material layer 5 is obtained by applying an organic sealing material on the sealing surface of the vacuum envelope constituting member or attaching it as a film, followed by firing under desired conditions by a method described later. It is a layer of a fired body of a sealing material. In the image display device 1 of FIG. 1, the rear end face of the skirt portion 22 of the image display panel section 2 and the front end face of the glass funnel section 3 are sealed via the organic sealing material layer 5. Yes. In the image display device 1 of the present invention, the sealing portion of the vacuum envelope 11, specifically, the organic sealing material layer 5, and the vacuum envelope configuration sealed by the organic sealing material layer 5 The bending strength of the member portion, that is, the sealing portion composed of the rear end portion of the skirt portion 22 and the front end portion of the funnel portion 3 in FIG. 1, is 30 MPa or more at 220 ° C.

本発明において、画像表示装置の真空外囲器の封着部の曲げ強度とは、有機系封着材の焼成体からなる有機系封着材層5自体の曲げ強度と、該有機系封着材層5およびこれに隣接する外囲器構成部材の部分を含んだ封着部の曲げ強度の両方を意味している。本発明の画像表示装置は、真空外囲器の封着部の曲げ強度が220℃において30MPa以上であることを特徴とする。ここで曲げ強度は、例えば、後述する実施例に記載するように、JIS R1601に準じた方法で実施される4点曲げ試験の測定値として求めることができる。   In the present invention, the bending strength of the sealing portion of the vacuum envelope of the image display device is the bending strength of the organic sealing material layer 5 itself made of a fired body of the organic sealing material, and the organic sealing. It means both the bending strength of the sealing portion including the material layer 5 and the portion of the envelope constituent member adjacent thereto. The image display device of the present invention is characterized in that the bending strength of the sealing portion of the vacuum envelope is 30 MPa or more at 220 ° C. Here, the bending strength can be determined, for example, as a measurement value of a four-point bending test performed by a method according to JIS R1601, as described in the examples described later.

封着後の真空外囲器11は、内部を高真空にするために高温で真空排気される。この高温真空排気は、従来250〜380℃で実施されてきたが、従来技術のところでも述べたように、画像表示装置の製造時の熱処理は可能な限り低温で実施されることが好ましい。したがって、高温真空排気は、今後200〜330℃の温度で実施されると考えられる。この際、真空外囲器の封着部には、真空応力と熱応力と、が負荷される。本発明の画像表示装置は、真空外囲器の封着部の曲げ強度が、220℃において30MPa以上であるため、画像表示装置の製造工程、特に真空外囲器の高温真空排気工程の際に負荷される真空応力および熱応力に対して封着部が十分な強度を有しており、製造工程時、特に真空外囲器の高温真空排気工程時における封着部の割れ問題が解消されている。   The vacuum envelope 11 after sealing is evacuated at a high temperature in order to make the inside high vacuum. This high-temperature evacuation has been conventionally performed at 250 to 380 ° C. However, as described in the prior art, it is preferable that the heat treatment at the time of manufacturing the image display device is performed at the lowest possible temperature. Therefore, it is considered that the high-temperature evacuation will be performed at a temperature of 200 to 330 ° C. in the future. At this time, vacuum stress and thermal stress are applied to the sealing portion of the vacuum envelope. In the image display device of the present invention, since the bending strength of the sealing portion of the vacuum envelope is 30 MPa or more at 220 ° C., the manufacturing process of the image display device, particularly during the high-temperature evacuation process of the vacuum envelope. The sealing part has sufficient strength against the applied vacuum stress and thermal stress, and the cracking problem of the sealing part during the high temperature evacuation process of the vacuum envelope has been solved. Yes.

本発明の画像表示装置において、真空外囲器の封着部の220℃における曲げ強度は、40MPa以上であることがより好ましい。220℃における真空外囲器の封着部の曲げ強度が40MPa以上であれば、高温真空排気工程の際に負荷される真空応力および熱応力に対する強度が特に優れている。
本発明の画像表示装置において、真空外囲器の封着部が200〜330℃の温度範囲における曲げ強度が常に30MPa以上であることが好ましい。真空外囲器の封着部の曲げ強度が上記温度範囲で常に30MPa以上であれば、今後実施される高温真空排気工程の際に予想される温度領域において、封着部が常に十分な強度を有している。より好ましくは、200〜330℃の温度範囲における真空外囲器の封着部の曲げ強度が常に40MPa以上である。
In the image display device of the present invention, the bending strength at 220 ° C. of the sealing portion of the vacuum envelope is more preferably 40 MPa or more. If the bending strength of the sealed portion of the vacuum envelope at 220 ° C. is 40 MPa or more, the strength against vacuum stress and thermal stress applied during the high-temperature vacuum exhaust process is particularly excellent.
In the image display device of the present invention, it is preferable that the bending strength of the sealed portion of the vacuum envelope in a temperature range of 200 to 330 ° C. is always 30 MPa or more. If the bending strength of the sealed part of the vacuum envelope is always 30 MPa or more in the above temperature range, the sealed part always has sufficient strength in the temperature range expected in the high-temperature evacuation process to be performed in the future. Have. More preferably, the bending strength of the sealing part of the vacuum envelope in the temperature range of 200 to 330 ° C. is always 40 MPa or more.

図2は、本発明の画像表示装置の別の1実施形態の一部切欠き側面図であり、画像表示装置は、典型的なFEDとして構成されている。図2中、図面上側を前側とし、下側を後側とする。図2の画像表示装置1’では、その前側に位置するフロントパネル部(画像表示パネル部)2’と、その後側に、該フロントパネル部2’に対向した配置されるリアパネル部3’、該フロントパネル部2’と該リアパネル部3’の間に配置される外枠4と、で真空外囲器11’が構成されている。真空外囲器11’の構成部材であるフロントパネル部2’、リアパネル部3’および外枠4は、通常はガラス製である。但し、ガラス以外の無機材料製、例えばセラミック製または金属製であってもよい。ここで真空外囲器11’の構成部材同士の接合面は、有機系封着材層5を介して封着されている。したがって、フロントパネル部2’と、外枠4との接合面、およびリアパネル部3’と、外枠4との接合面は、有機系封着材層5を介して封着されている。画像表示装置1’において、リアパネル部3’は、電界放出型の電子源基板であり、その内側面、すなわちフロントパネル部2’に対向する面上には、陰極61および、該陰極61上に形成される電界放出型冷陰極62を有している。また、リアパネル部3’のフロントパネル部2’に対向する面上には、絶縁層64をはさんで電子流を制御するゲート電極63が形成されている。一方、フロントパネル部2’のリアパネル部3’に対向する面上には、陽極65および該電界放出型冷陰極62と対をなす蛍光体画素66が設けられている。
そして、本発明の第1実施形態の画像表示装置1と同様に、有機系封着材層と、該有機系封着材層と隣接する外囲器構成部材の部分からなる真空外囲器の封着部の曲げ強度は220℃において30MPa以上である。
FIG. 2 is a partially cutaway side view of another embodiment of the image display device of the present invention, the image display device being configured as a typical FED. In FIG. 2, the upper side of the drawing is the front side and the lower side is the rear side. In the image display device 1 ′ of FIG. 2, a front panel portion (image display panel portion) 2 ′ positioned on the front side thereof, and a rear panel portion 3 ′ disposed opposite to the front panel portion 2 ′ on the rear side thereof, A vacuum envelope 11 ′ is constituted by the front frame 2 ′ and the outer frame 4 disposed between the rear panel 3 ′. The front panel part 2 ′, the rear panel part 3 ′ and the outer frame 4 which are constituent members of the vacuum envelope 11 ′ are usually made of glass. However, it may be made of an inorganic material other than glass, for example, ceramic or metal. Here, the joint surfaces of the constituent members of the vacuum envelope 11 ′ are sealed through the organic sealing material layer 5. Therefore, the joint surface between the front panel portion 2 ′ and the outer frame 4 and the joint surface between the rear panel portion 3 ′ and the outer frame 4 are sealed through the organic sealing material layer 5. In the image display device 1 ′, the rear panel unit 3 ′ is a field emission type electron source substrate. On the inner side surface thereof, that is, on the surface facing the front panel unit 2 ′, the cathode 61 and the cathode 61 are provided. A field emission cold cathode 62 is formed. A gate electrode 63 for controlling the electron flow is formed across the insulating layer 64 on the surface of the rear panel portion 3 ′ facing the front panel portion 2 ′. On the other hand, a phosphor pixel 66 that is paired with the anode 65 and the field emission type cold cathode 62 is provided on the surface of the front panel portion 2 ′ that faces the rear panel portion 3 ′.
Then, similarly to the image display device 1 of the first embodiment of the present invention, a vacuum envelope comprising an organic sealing material layer and an envelope constituent member adjacent to the organic sealing material layer. The bending strength of the sealing part is 30 MPa or more at 220 ° C.

本発明の画像表示装置において、焼成して有機系封着材層をなす有機系封着材は、通常耐熱性接着剤として使用されるものであって、その焼成体が上記の特性を有するものを広く含む。なお、本発明の画像表示装置に使用可能な有機系封着材については、後に詳述する。   In the image display device of the present invention, the organic sealing material which is fired to form the organic sealing material layer is usually used as a heat-resistant adhesive, and the fired body has the above-mentioned characteristics. Including widely. The organic sealing material that can be used in the image display device of the present invention will be described in detail later.

本発明の画像表示装置において、真空外囲器の封着部は、電気絶縁性を有していることが必要である。したがって、真空外囲器の封着部は、電気絶縁破壊強度が、3kV/mm以上であることが好ましい。真空外囲器の封着部に求められる電気絶縁破壊強度は、画像表示装置の構成によっても異なる。具体的には、本発明の第1実施形態のように画像表示装置がCRTとして構成される場合、封着部の電気絶縁破壊強度は15kV/mm以上であることが好ましく、20kV/mm以上であることがより好ましく、25kV/mm以上であることがさらに好ましい。一方、本発明の第2実施形態のように画像表示装置がFEDとして構成される場合、封着部の電気絶縁破壊強度は、3kV/mm以上であることが好ましく、8kV/mm以上であることがさらに好ましい。
真空外囲器の封着部の電気絶縁破壊強度が上記であれば、画像表示装置の稼動時に絶縁不良を起こすおそれがない。
In the image display device of the present invention, the sealing portion of the vacuum envelope needs to have electrical insulation. Therefore, the sealing portion of the vacuum envelope preferably has an electrical breakdown strength of 3 kV / mm or more. The electrical breakdown strength required for the sealing portion of the vacuum envelope varies depending on the configuration of the image display device. Specifically, when the image display device is configured as a CRT as in the first embodiment of the present invention, the electrical breakdown strength of the sealing portion is preferably 15 kV / mm or more, and is 20 kV / mm or more. More preferably, it is more preferably 25 kV / mm or more. On the other hand, when the image display device is configured as an FED as in the second embodiment of the present invention, the electrical breakdown strength of the sealing portion is preferably 3 kV / mm or more, and 8 kV / mm or more. Is more preferable.
If the electrical breakdown strength of the sealing portion of the vacuum envelope is as described above, there is no possibility of causing an insulation failure during operation of the image display device.

本発明の画像表示装置は、外囲器構成部材の封着材として鉛を含まない有機系封着材を用いることを特徴とする。したがって、本発明の画像表示装置では、真空外囲器の封着部が実質的に鉛を含まないことが好ましい。ここで、「封着部が実質的に鉛を含まない」とは、封着部を構成する有機系封着材層における鉛含量が、外囲器構成部材であるガラスに通常不純物として付着している鉛が拡散する程度の量であり、具体的には、有機系封着材層を構成する有機系封着材の質量に対して、0.1質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.01質量%以下であり、0.001質量%以下であることがさらに好ましい。
本発明の画像表示装置において、上記の条件を満たすことを条件に、リン酸系またはビスマス系といった無鉛の無機系封着材を併用してもよい。このような無機系封着材は、画像表示装置が、より高温で、具体的には400℃以上、で封着することが必要な構成要素を含む場合や、特性のマッチングをとることが必要な場合等に好ましく使用される。
The image display device of the present invention is characterized in that an organic sealing material containing no lead is used as a sealing material for the envelope constituent member. Therefore, in the image display device of the present invention, it is preferable that the sealing portion of the vacuum envelope does not substantially contain lead. Here, “the sealing part is substantially free of lead” means that the lead content in the organic sealing material layer constituting the sealing part is usually adhered as an impurity to the glass constituting the envelope component. The amount of lead that is diffused is specifically 0.1 mass% or less with respect to the mass of the organic sealing material constituting the organic sealing material layer. Preferably it is 0.01 mass% or less, and it is further more preferable that it is 0.001 mass% or less.
In the image display device of the present invention, a lead-free inorganic sealing material such as phosphoric acid or bismuth may be used in combination, provided that the above conditions are satisfied. Such an inorganic sealing material requires that the image display device includes a component that needs to be sealed at a higher temperature, specifically, 400 ° C. or more, or to match characteristics. It is preferably used in such cases.

上述したように、本発明において、真空外囲器用の有機系封着材としては、耐熱性接着剤として通常使用される有機化合物であって、上記定義した真空外囲器の封着部の220℃における曲げ強度が30MPa以上のものを広く含む。このような有機化合物としては、具体的には例えば、ポリイミドおよびその前駆体であるポリアミド酸、ポリベンズイミダゾール、ポリキノキサリン、ポリフェニルキノキサリン、アセチレン末端ポリイミド、ポリフェニルキノキサリン等が例示される。   As described above, in the present invention, the organic sealing material for the vacuum envelope is an organic compound usually used as a heat-resistant adhesive, and 220 of the sealing portion of the vacuum envelope defined above. Widely includes those having a bending strength at 30 ° C. of 30 MPa or more. Specific examples of such organic compounds include polyimide and its precursor polyamic acid, polybenzimidazole, polyquinoxaline, polyphenylquinoxaline, acetylene-terminated polyimide, polyphenylquinoxaline and the like.

本発明の有機系封着材は、その焼成体が耐熱性に優れていることが必要である。本発明では、有機系封着材の焼成体の耐熱性に関して、20℃(常温)での質量と400℃での質量との比の値(以下、「400℃加熱時の質量比」とする。)を用いて評価する。具体的には、20℃における焼成体の質量をm20とし、400℃における焼成体の質量をm400とした場合に、m400/m20の値によって400℃加熱時の質量比が示される。
本発明の有機系封着材は、その焼成体の400℃加熱時の質量比(m400/m20の値)が、0.99<m400/m20≦1.00である。より好ましくは0.993<m400/m20≦1.00である。焼成体の400℃加熱時の質量比が上記の範囲であると、真空外囲器の高温真空排気工程の際に、封着部で有機系封着材が分解して、多量の分解ガスを生成するおそれがなく、得られる画像表示装置の特性が良好であって、真空不良が発生するおそれがない。
有機系封着材の焼成は、画像表示装置の製造工程における通常の条件で実施される。具体的には、たとえば、窒素雰囲気、アルゴンガス雰囲気のような不活性ガス雰囲気下で実施してもよく、または空気中で実施したのでもよい。焼成温度は、通常は300℃以上400℃未満の範囲であって、続いて実施される高温真空排気工程での温度よりも高い温度である。
The organic sealing material of the present invention requires that the fired body has excellent heat resistance. In the present invention, regarding the heat resistance of the fired body of the organic sealing material, the ratio of the mass at 20 ° C. (normal temperature) to the mass at 400 ° C. (hereinafter referred to as “mass ratio at 400 ° C. heating”). .). Specifically, when the mass of the fired body at 20 ° C. is m 20 and the mass of the fired body at 400 ° C. is m 400 , the value of m 400 / m 20 indicates the mass ratio when heated at 400 ° C. .
The organic sealing material of the present invention has a mass ratio (value of m 400 / m 20 ) of the fired body when heated at 400 ° C. of 0.99 <m 400 / m 20 ≦ 1.00. More preferably, 0.993 <m 400 / m 20 ≦ 1.00. When the mass ratio of the fired body when heated at 400 ° C. is in the above range, the organic sealing material is decomposed at the sealing portion during the high-temperature evacuation process of the vacuum envelope, and a large amount of decomposition gas is generated. There is no risk of generation, the characteristics of the obtained image display device are good, and there is no risk of vacuum failure.
The organic sealing material is fired under normal conditions in the manufacturing process of the image display device. Specifically, for example, it may be performed in an inert gas atmosphere such as a nitrogen atmosphere or an argon gas atmosphere, or may be performed in the air. The firing temperature is usually in the range of 300 ° C. or more and less than 400 ° C., and is higher than the temperature in the subsequent high-temperature evacuation process.

また、本発明における有機系封着材は、外囲器構成部材の封着時にその粘度が適度に低いことが必要である。すなわち、外囲器構成部材の封着は、有機系封着材を焼成することによってなされるが、この焼成時に有機系封着材が経験する可能性がある300℃以上400℃未満の温度範囲において、該有機系封着材の焼成体の最低粘度が103Pa・s以下であることが必要である。該温度範囲における有機系封着材の焼成体の最低粘度は、5×102Pa・s以下であることがより好ましい。該温度範囲における有機系封着材の最低粘度が上記範囲であると、封着時における有機系封着材の流動性が十分であり、封着部が強度に優れており、画像表示装置の製造工程、特に真空外囲器の高温真空排気工程の際に封着部の割れ問題の生じるおそれがない。 Further, the organic sealing material in the present invention needs to have a moderately low viscosity when sealing the envelope constituent member. That is, the sealing of the envelope constituent member is performed by firing the organic sealing material, and the temperature range of 300 ° C. or more and less than 400 ° C. that the organic sealing material may experience during the firing. The minimum viscosity of the fired body of the organic sealing material is required to be 10 3 Pa · s or less. The minimum viscosity of the fired body of the organic sealing material in the temperature range is more preferably 5 × 10 2 Pa · s or less. When the minimum viscosity of the organic sealing material in the temperature range is within the above range, the fluidity of the organic sealing material at the time of sealing is sufficient, the sealing part has excellent strength, and the image display device There is no risk of the problem of cracking of the sealing part during the manufacturing process, particularly during the high-temperature evacuation process of the vacuum envelope.

本発明の有機系封着材は、外囲構成部材の封着材として使用されるため、封着材自体の特性として、その焼成体の熱膨張特性が高温領域で大きく変化しないことが好ましい。すなわち、本発明の有機系封着材は、その焼成体の示差走査熱量分析計(DSC)により測定したガラス転移温度(Tg)が175℃以上であることが好ましく、より好ましくは220℃以上であり、更に好ましくは、250℃以上である。   Since the organic sealing material of the present invention is used as a sealing material for the surrounding structural member, it is preferable that the thermal expansion characteristics of the fired body do not change significantly in the high temperature region as the characteristics of the sealing material itself. That is, the organic sealing material of the present invention preferably has a glass transition temperature (Tg) measured by a differential scanning calorimeter (DSC) of the fired body of 175 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher. Yes, more preferably 250 ° C or higher.

また、本発明の有機系封着材は、その焼成体が高温環境下での機械的強度に優れていることが好ましい。すなわち、本発明の有機系封着材は、その焼成体の220℃における曲げ弾性率が100MPa以上であることが好ましく、300MPa以上であることがより好ましく、500MPa以上であることがさらに好ましい。
有機系封着材の焼成体の曲げ弾性率は、具体的には例えば、後述する実施例に記載するように、動的粘弾性測定装置(DMS:ダイナミック・メカニカル・スペクトロメータ)によって求めることができる。
有機系封着材の焼成体の220℃における曲げ弾性率が100MPa以上であると、得られる画像表示装置の真空外囲器の封着部が、強度、特に高温真空排気工程の際に負荷される真空応力および熱応力に対して充分な強度を有しており、製造工程時、特に真空外囲器の高温真空排気工程時において封着部の割れ問題が生じるおそれがない。
Moreover, it is preferable that the organic sealing material of this invention is excellent in the mechanical strength in the high temperature environment of the sintered body. That is, the organic sealing material of the present invention preferably has a flexural modulus at 220 ° C. of the fired body of 100 MPa or more, more preferably 300 MPa or more, and further preferably 500 MPa or more.
Specifically, the bending elastic modulus of the fired body of the organic sealing material can be obtained by a dynamic viscoelasticity measuring device (DMS: dynamic mechanical spectrometer) as described in the examples described later, for example. it can.
When the bending elastic modulus at 220 ° C. of the fired body of the organic sealing material is 100 MPa or more, the sealing portion of the vacuum envelope of the obtained image display device is loaded with strength, particularly during the high-temperature vacuum exhaust process. It has sufficient strength against vacuum stress and thermal stress, and there is no possibility of causing a problem of cracking of the sealing part during the manufacturing process, particularly during the high-temperature evacuation process of the vacuum envelope.

上記特性を有する本発明の有機系封着材は、主成分としてポリイミド化合物またはその前駆体であるポリアミド酸化合物を含むことが好ましい。
本発明の有機系封着材が主成分としてポリイミド化合物またはその前駆体であるポリアミド酸化合物を含む場合、ポリイミド化合物中のイミド基含有割合(イミド基分子量/ポリイミド分子量)またはポリアミド酸化合物中のアミド基含有割合(アミド基分子量/ポリアミド酸分子量)が10〜31%の範囲であることが好ましく、より好ましくは14〜26%である。ポリイミド化合物中のイミド基含有割合またはポリアミド酸化合物中のアミド基含有割合が上記の範囲であると高い接着強度を発現することができる。
The organic sealing material of the present invention having the above properties preferably contains a polyimide compound or a polyamic acid compound as a precursor thereof as a main component.
When the organic sealing material of the present invention contains a polyimide compound or a polyamic acid compound which is a precursor thereof as a main component, the imide group content ratio (imide group molecular weight / polyimide molecular weight) in the polyimide compound or the amide in the polyamic acid compound The group content (amide group molecular weight / polyamic acid molecular weight) is preferably in the range of 10 to 31%, more preferably 14 to 26%. When the imide group content ratio in the polyimide compound or the amide group content ratio in the polyamic acid compound is within the above range, high adhesive strength can be exhibited.

ポリイミド化合物としては、下記式1に示す構造を有するポリイミド化合物が好ましい。

Figure 2004319448
上記式1中、Xはジアミン化合物の主骨格を示し、Yはテトラカルボン酸二無水物の主骨格を示す。ここでジアミン化合物の主骨格とは、ジアミン化合物のアミノ基を除いた主鎖を意味し、テトラカルボン酸二無水物の主骨格とは、カルボン酸二無水物を除いた主鎖を意味する。
X、Yは、より具体的には、以下を意味する。
(A)Xが下記式4〜式8のうちのいずれか一つのとき、Yは、下記式9〜式14のうちのいずれか一つである。下記式4〜式8において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。
(B)Xが下記式15のとき、は下記式16または式17である。下記式15において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。 As a polyimide compound, the polyimide compound which has a structure shown in following formula 1 is preferable.
Figure 2004319448
In the above formula 1, X represents the main skeleton of the diamine compound, and Y represents the main skeleton of the tetracarboxylic dianhydride. Here, the main skeleton of the diamine compound means the main chain excluding the amino group of the diamine compound, and the main skeleton of the tetracarboxylic dianhydride means the main chain excluding the carboxylic dianhydride.
More specifically, X and Y mean the following.
(A) When X is any one of the following formulas 4 to 8, Y is any one of the following formulas 9 to 14. In the following formulas 4 to 8, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 —, and —C (CH 3 ) 2. Each of n is independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.
(B) When X is the following formula 15, is the following formula 16 or formula 17. In the following formula 15, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 — and —C (CH 3 ) 2. N is each independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.

Figure 2004319448
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ポリイミド化合物は、式1で示される構造のみで構成されていてもよいが、その末端部分がモノアミンまたはジカルボン酸無水物で封止されていてもよい。末端がモノアミンまたはジカルボン酸無水物で封止されたポリイミド化合物は、下記式2または式3で示される構造を有していることが好ましい。下記式2および式3中、XおよびYは、式1の定義と同じであり、X’はモノアミン化合物の主骨格を示し、Y’はジカルボン酸無水物の主骨格を示す。ここでモノアミン化合物の主骨格とは、モノアミン化合物のアミノ基を除いた主鎖を意味し、ジカルボン酸無水物の主骨格とは、カルボン酸無水物を除く主鎖を意味する。

Figure 2004319448

Figure 2004319448
The polyimide compound may be composed only of the structure represented by Formula 1, but the terminal portion may be sealed with a monoamine or dicarboxylic anhydride. The polyimide compound whose terminal is sealed with a monoamine or dicarboxylic anhydride preferably has a structure represented by the following formula 2 or formula 3. In the following formulas 2 and 3, X and Y are the same as defined in formula 1, X ′ represents the main skeleton of the monoamine compound, and Y ′ represents the main skeleton of the dicarboxylic acid anhydride. Here, the main skeleton of the monoamine compound means the main chain excluding the amino group of the monoamine compound, and the main skeleton of the dicarboxylic acid anhydride means the main chain excluding the carboxylic acid anhydride.
Figure 2004319448

Figure 2004319448

ポリアミド酸化合物としては、具体的には下記式20で示すポリアミド酸化合物が好ましい。

Figure 2004319448

上記式20中、Xはジアミン化合物の主骨格を示し、Yはテトラカルボン酸二無水物の主骨格を示す。
(A)Xが上記式4〜式8のうちのいずれか一つのとき、Yは、上記式9〜式14のうちのいずれか一つである。上記式4〜式8において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。
(B)Xが上記式15のとき、は上記式16または式17である。上記式15において、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。
(C)Xが上記式18のとき、Yは上記式19である。 As the polyamic acid compound, specifically, a polyamic acid compound represented by the following formula 20 is preferable.
Figure 2004319448

In the above formula 20, X represents the main skeleton of the diamine compound, and Y represents the main skeleton of the tetracarboxylic dianhydride.
(A) When X is any one of the above formulas 4 to 8, Y is any one of the above formulas 9 to 14. In the above formulas 4 to 8, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 —, and —C (CH 3 ) 2. Each of n is independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.
(B) When X is the above formula 15, is the above formula 16 or 17. In the above formula 15, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 — and —C (CH 3 ) 2. N is each independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.
(C) When X is the above formula 18, Y is the above formula 19.

式1の構造を有するポリイミド化合物および式20のポリアミド酸化合物は、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物の縮合により合成される。これらは通常の重縮合系ポリマーの場合と同様に、モノマー成分のモル比を調節することで分子量を制御することができる。すなわち、テトラカルボン酸二無水物1モルに対し、0.8〜1.2モルのジアミン化合物を使用することで、高分子量体を形成することが可能になる。ポリイミド化合物またはポリアミド酸化合物が高分子量体であると、その焼成体が機械的強度、電気絶縁性等に優れており、また高温環境下でアウトガスの発生がないため、有機系封着材として好ましい。上記のモル比は、より好ましくは、酸二無水物1モルに対してジアミン化合物0.9〜1.1モルであり、さらに好ましくは0.95〜1.05モルである。   The polyimide compound having the structure of Formula 1 and the polyamic acid compound of Formula 20 are synthesized by condensation of a diamine compound and tetracarboxylic dianhydride. In the same manner as in the case of ordinary polycondensation polymers, the molecular weight can be controlled by adjusting the molar ratio of the monomer components. That is, a high molecular weight body can be formed by using 0.8 to 1.2 mol of a diamine compound with respect to 1 mol of tetracarboxylic dianhydride. When the polyimide compound or the polyamic acid compound is a high molecular weight body, the fired body is excellent in mechanical strength, electrical insulation and the like, and is preferable as an organic sealing material because it does not generate outgas in a high temperature environment. . The above molar ratio is more preferably 0.9 to 1.1 mol of the diamine compound and further preferably 0.95 to 1.05 mol with respect to 1 mol of the acid dianhydride.

式1の構造を有するポリイミド化合物または式20のポリアミド酸化合物を合成するのに使用可能なジアミンとしては、具体的には例えば以下のジアミン化合物が挙げられる。
a)ベンゼン環1個を有する、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン。
b)ベンゼン環2個を有する、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、2,2−ジ(3−アミノフェニル)プロパン、2,2−ジ(4−アミノフェニル)プロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)プロパン、2,2−ジ(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ジ(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,1−ジ(3−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ジ(4−アミノフェニル)−1−フェニルエタン、1−(3−アミノフェニル)−1−(4−アミノフェニル)−1−フェニルエタン。
Specific examples of the diamine that can be used to synthesize the polyimide compound having the structure of Formula 1 or the polyamic acid compound of Formula 20 include the following diamine compounds.
a) p-phenylenediamine and m-phenylenediamine having one benzene ring.
b) 3,3′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl sulfide, 3,4′-diaminodiphenyl sulfide having two benzene rings 4,4′-diaminodiphenylsulfide, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 3,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 4,4′- Diaminobenzophenone, 3,4'-diaminobenzophenone, 3,3'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 2,2-di (3-aminophenyl) propane, 2, 2-di (4-aminophenyl) propane, 2- (3-amino Enyl) -2- (4-aminophenyl) propane, 2,2-di (3-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-di (4-amino) Phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2- (3-aminophenyl) -2- (4-aminophenyl) -1,1,1,3,3,3-hexa Fluoropropane, 1,1-di (3-aminophenyl) -1-phenylethane, 1,1-di (4-aminophenyl) -1-phenylethane, 1- (3-aminophenyl) -1- (4 -Aminophenyl) -1-phenylethane.

c)ベンゼン環3個を有する、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−α,α−ジメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−α,α−ジトリフルオロメチルベンジル)ベンゼン、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゾニトリル、2,6−ビス(3−アミノフェノキシ)ピリジン。   c) 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene having three benzene rings, 1, 4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-aminobenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-aminobenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene 1,4-bis (3-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-α) α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene 1,4-bis (4-amino-α, α-ditrifluoromethylbenzyl) benzene, 2,6-bis (3-aminophenoxy) benzonitrile, 2,6-bis (3-aminophenoxy) pyridine.

d)ベンゼン環4個を有する、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−(3−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン。   d) 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone having four benzene rings Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3- Aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 2 , 2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl Nyl] propane, 2,2-bis [3- (3-aminophenoxy) phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) ) Phenyl] -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane.

e)ベンゼン環5個を有する、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,3−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン、1,4−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)−α,α−ジメチルベンジル]ベンゼン。
f)ベンゼン環6個を有する、4,4’−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル]ジフェニルエーテル、4,4’−ビス[4−(4−アミノーα,αージメチルベンジル)フェノキシ]ベンゾフェノン、4,4’−ビス[4−(4−アミノーα,αージメチルベンジル)フェノキシ]ジフェニルスルホン、4,4’−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェノキシ]ジフェニルスルホン。
e) 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis having 5 benzene rings [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α- Dimethylbenzyl] benzene, 1,3-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl ] Benzene, 1,4-bis [4- (4-aminophenoxy) -α, α-dimethylbenzyl] benzene.
f) 4,4′-bis [4- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether having 6 benzene rings, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] Benzophenone, 4,4′-bis [4- (4-amino-α, α-dimethylbenzyl) phenoxy] diphenylsulfone, 4,4′-bis [4- (4-aminophenoxy) phenoxy] diphenylsulfone.

g)芳香族置換基を有する、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン。
h)スピロビインダン環を有する、6,6’−ビス(3−アミノフェノキシ)3,3,3,’3,’−テトラメチル−1,1’−スピロビインダン6,6’−ビス(4−アミノフェノキシ)3,3,3,’3,’−テトラメチル−1,1’−スピロビインダン。
i)シロキサンジアミン類である、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン、1,3−ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサン、α,ω−ビス(3−アミノブチル)ポリジメチルシロキサン。
g) 3,3′-diamino-4,4′-diphenoxybenzophenone, 3,3′-diamino-4,4′-dibiphenoxybenzophenone having an aromatic substituent, 3,3′-diamino-4- Phenoxybenzophenone, 3,3′-diamino-4-biphenoxybenzophenone.
h) 6,6′-bis (3-aminophenoxy) 3,3,3,3,3′-tetramethyl-1,1′-spirobiindane 6,6′-bis (4-aminophenoxy) having a spirobiindane ring ) 3,3,3, '3,'-tetramethyl-1,1'-spirobiindane.
i) 1,3-bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1,3-bis (4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, α, ω-bis (3-aminopropyl) which are siloxane diamines ) Polydimethylsiloxane, α, ω-bis (3-aminobutyl) polydimethylsiloxane.

j)エチレングリコールジアミン類である、ビス(アミノメチル)エーテル、ビス(2−アミノエチル)エーテル、ビス(3−アミノプロピル)エーテル、ビス(2−アミノメトキシ)エチル]エーテル、ビス[2−(2−アミノエトキシ)エチル]エーテル、ビス[2−(3−アミノプロトキシ)エチル]エーテル、1,2−ビス(アミノメトキシ)エタン、1,2−ビス(2−アミノエトキシ)エタン、1,2−ビス[2−(アミノメトキシ)エトキシ]エタン、1,2−ビス[2−(2−アミノエトキシ)エトキシ]エタン、エチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、ジエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル。 k)メチレンジアミン類である、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン、1,11−ジアミノウンデカン、1,12−ジアミノドデカン。
l)脂環式ジアミン類である、1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,3−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサン、1,2−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、1,3−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、1,4−ジ(2−アミノエチル)シクロヘキサン、ビス(4−アミノシクロへキシル)メタン、2,6−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、2,5−ビス(アミノメチル)ビシクロ[2.2.1]ヘプタン、が例示される。
j) Ethylene glycol diamines, bis (aminomethyl) ether, bis (2-aminoethyl) ether, bis (3-aminopropyl) ether, bis (2-aminomethoxy) ethyl] ether, bis [2- ( 2-aminoethoxy) ethyl] ether, bis [2- (3-aminoprotoxy) ethyl] ether, 1,2-bis (aminomethoxy) ethane, 1,2-bis (2-aminoethoxy) ethane, 1, 2-bis [2- (aminomethoxy) ethoxy] ethane, 1,2-bis [2- (2-aminoethoxy) ethoxy] ethane, ethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, diethylene glycol bis (3-aminopropyl) ) Ether, triethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether. k) Methylenediamines, ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diamino Octane, 1,9-diaminononane, 1,10-diaminodecane, 1,11-diaminoundecane, 1,12-diaminododecane.
l) Alicyclic diamines such as 1,2-diaminocyclohexane, 1,3-diaminocyclohexane, 1,4-diaminocyclohexane, 1,2-di (2-aminoethyl) cyclohexane, 1,3-di ( 2-aminoethyl) cyclohexane, 1,4-di (2-aminoethyl) cyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, 2,6-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane, 2,5-bis (aminomethyl) bicyclo [2.2.1] heptane is exemplified.

また、上記例示したジアミン化合物は、適宜単独で、または混合して使用することができる。また、ジアミン化合物は、上記ジアミン化合物の芳香環上の水素原子の一部もしくは全てをフルオロ基、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、またはトリフルオロメトキシ基から選ばれた置換基で置換したジアミンであってもよい。
更に、架橋点となるエチニル基、ベンゾシクロブテン−4’−イル基、ビニル基、アリル基、シアノ基、イソシアネート基、ニトリロ基、およびイソプロペニル基を、上記ジアミンの芳香環上の水素原子の一部もしくは全てに置換基として導入したものであってもよい。更にまた、架橋点となるビニレン基、ビニリデン基、およびエチニリデン基を置換基ではなく、主鎖骨格中に組み込んだものであってもよい。
また、分岐を導入する目的で、ジアミン化合物の一部をトリアミン類、テトラアミン類と代えてもよい。
In addition, the diamine compounds exemplified above can be used alone or in combination as appropriate. In the diamine compound, part or all of the hydrogen atoms on the aromatic ring of the diamine compound are substituted with a substituent selected from a fluoro group, a methyl group, a methoxy group, a trifluoromethyl group, or a trifluoromethoxy group. Diamine may be used.
Furthermore, an ethynyl group, a benzocyclobuten-4′-yl group, a vinyl group, an allyl group, a cyano group, an isocyanate group, a nitrilo group, and an isopropenyl group, which serve as a crosslinking point, are bonded to the hydrogen atom on the aromatic ring of the diamine. Some or all of them may be introduced as substituents. Furthermore, a vinylene group, a vinylidene group, and an ethynylidene group serving as a crosslinking point may be incorporated in the main chain skeleton instead of a substituent.
For the purpose of introducing branching, a part of the diamine compound may be replaced with triamines or tetraamines.

式1の構造を有するポリイミド化合物および式20のポリアミド酸化合物を合成するのに使用可能なテトラカルボン酸二無水物としては、具体的には例えば、以下のものが挙げられる。
ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、1,3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、4,4’−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ビフェニル二無水物、2,2−ビス[(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、エチレンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルフィド二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン二無水物、1,3−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、1,4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、および1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物。
Specific examples of the tetracarboxylic dianhydride that can be used to synthesize the polyimide compound having the structure of Formula 1 and the polyamic acid compound of Formula 20 include the following.
Pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-di Carboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxy) Phenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, 1,3-bis (3,4 -Dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 4,4'-bis (3,4-dicarboxyphenoxy) biphenyl dianhydride, 2 , 2- [(3,4-dicarboxyphenoxy) phenyl] propane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, Ethylenetetracarboxylic dianhydride, butanetetracarboxylic dianhydride, cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) -1,1,1 , 3,3,3-hexafluoropropane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) sulfide dianhydride, bis 2,3-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, 1,3-bis (2,3-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride, 1,4-bis (2,3-dicarboxyphenoxy) benzene dianhydride , And 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

上記例示したテトラカルボン酸二無水物は、適宜単独で、または混合して用いることができる。
また、上記テトラカルボン酸二無水物のいずれも、それらの芳香環上の水素原子の一部もしくは全てをフルオロ基、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、またはトリフルオロメトキシ基から選ばれた置換基で置換して用いることもできる。
更に、架橋点となるエチニル基、ベンゾシクロブテン−4’−イル基、ビニル基、アリル基、シアノ基、イソシアネート基、ニトリロ基、およびイソプロペニル基を、上記酸二無水物の芳香環上の水素原子の一部もしくは全てに置換基として導入しても用いることができる。更にまた、好ましくは成形加工性を損なわない範囲内で、架橋点となるビニレン基、ビニリデン基、およびエチニリデン基を置換基ではなく、主鎖骨格中に組み込むこともできる。
また、分岐を導入する目的で、テトラカルボン酸二無水物の一部をヘキサカルボン酸三無水物類、オクタカルボン酸四無水物類と代えてもよい。
The tetracarboxylic dianhydrides exemplified above can be used alone or in combination as appropriate.
In addition, any of the above tetracarboxylic dianhydrides was selected from a fluoro group, a methyl group, a methoxy group, a trifluoromethyl group, or a trifluoromethoxy group for some or all of the hydrogen atoms on their aromatic rings. It can also be used after being substituted with a substituent.
Furthermore, an ethynyl group, a benzocyclobuten-4′-yl group, a vinyl group, an allyl group, a cyano group, an isocyanate group, a nitrilo group, and an isopropenyl group that serve as a crosslinking point are bonded to the aromatic ring of the acid dianhydride. Even if it introduce | transduces into some or all of a hydrogen atom as a substituent, it can be used. Furthermore, vinylene groups, vinylidene groups, and ethynylidene groups that serve as crosslinking points can be incorporated in the main chain skeleton instead of the substituents, as long as the moldability is not impaired.
For the purpose of introducing branching, a part of the tetracarboxylic dianhydride may be replaced with hexacarboxylic dianhydrides and octacarboxylic dianhydrides.

また、有機系封着材に耐熱性を付与するため、ポリイミド化合物およびポリアミド酸化合物を合成する際に、末端封止剤としてジカルボン酸無水物またはモノアミン化合物を含めてもよい。ポリイミド化合物の末端をジカルボン酸無水物またはモノアミン化合物で封止することで、上記式2および式3のポリイミド化合物を得ることができる。
末端封止剤として使用可能なジカルボン酸無水物としては、具体的には例えば、フタル酸無水物、2,3−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、3,4−ベンゾフェノンジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル無水物、2,3−ビフェニルジカルボン酸無水物、3,4−ビフェニルジカルボン酸無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン無水物、2,3−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド無水物、3,4−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド無水物、1,2−ナフタレンジカルボン酸無水物、2,3−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,8−ナフタレンジカルボン酸無水物、1,2−アントラセンジカルボン酸無水物、2,3−アントラセンジカルボン酸無水物,1,9−アントラセンジカルボン酸無水物が挙げられる。これらのジカルボン酸無水物は、アミン化合物またはテトラカルボン酸二無水物と反応性を有しない基で置換されていても差し支えない。これらは単独または2種以上混合して用いることができる。これらの芳香族ジカルボン酸無水物の中で、好ましくはフタル酸無水物が使用される。
Further, in order to impart heat resistance to the organic sealing material, a dicarboxylic acid anhydride or a monoamine compound may be included as a terminal blocking agent when synthesizing the polyimide compound and the polyamic acid compound. By sealing the terminal of the polyimide compound with a dicarboxylic acid anhydride or a monoamine compound, the polyimide compounds of the above formulas 2 and 3 can be obtained.
Specific examples of the dicarboxylic acid anhydride that can be used as the end-capping agent include phthalic acid anhydride, 2,3-benzophenone dicarboxylic acid anhydride, 3,4-benzophenone dicarboxylic acid anhydride, 2,3- Dicarboxyphenyl phenyl ether anhydride, 3,4-dicarboxyphenyl phenyl ether anhydride, 2,3-biphenyl dicarboxylic acid anhydride, 3,4-biphenyl dicarboxylic acid anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl sulfone anhydride 3,4-dicarboxyphenyl phenyl sulfone anhydride, 2,3-dicarboxyphenyl phenyl sulfide anhydride, 3,4-dicarboxyphenyl phenyl sulfide anhydride, 1,2-naphthalenedicarboxylic acid anhydride, 2, 3-Naphthalenedicarboxylic anhydride, 1,8-naphthalenedicarbo Acid anhydride, 1,2-anthracene dicarboxylic acid anhydride, 2,3-anthracene dicarboxylic acid anhydride, 1,9-anthracene dicarboxylic acid anhydride. These dicarboxylic acid anhydrides may be substituted with groups that are not reactive with amine compounds or tetracarboxylic dianhydrides. These can be used alone or in admixture of two or more. Of these aromatic dicarboxylic anhydrides, phthalic anhydride is preferably used.

末端封止剤として使用可能なモノアミン化合物としては、具体的には例えば次のようなものが挙げられる。アニリン、o−トルイジン、m−トルイジン、p−トルイジン、2,3−キシリジン、2,6−キシリジン、3,4−キシリジン、3,5−キシリジン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−ブロモアニリン、m−ブロモアニリン、p−ブロモアニリン、o−ニトロアニリン、p−ニトロアニリン、m−ニトロアニリン、o−アミノフェノール、p−アミノフェノール、m−アミノフェノール,o−アニシジン、m−アニシジン、p−アニシジン,o−フェネチジン、m−フェネチジン、p−フェネチジン、o−アミノベンズアルデヒド、p−アミノベンズアルデヒド、m−アミノベンズアルデヒド、o−アミノベンズニトリル、p−アミノベンズニトリル、m−アミノベンズニトリル,2−アミノビフェニル,3−アミノビフェニル、4−アミノビフェニル、2−アミノフェニルフェニルエーテル、3−アミノフェニルフェニルエーテル,4−アミノフェニルフェニルエーテル、2−アミノベンゾフェノン、3−アミノベンゾフェノン、4−アミノベンゾフェノン、2−アミノフェニルフェニルスルフィド、3−アミノフェニルフェニルスルフィド、4−アミノフェニルフェニルスルフィド、2−アミノフェニルフェニルスルホン、3−アミノフェニルフェニルスルホン、4−アミノフェニルフェニルスルホン、α−ナフチルアミン、β−ナフチルアミン,1−アミノ−2−ナフトール、5−アミノ−1−ナフトール、2−アミノ−1−ナフトール,4−アミノ−1−ナフロール、5−アミノ−2−ナフトール、7−アミノ−2−ナフトール、8−アミノ−1−ナフトール、8−アミノ−2−ナフトール、1−アミノアントラセン、2−アミノアントラセン、9−アミノアントラセン等。通常、これらの芳香族モノアミンの中で、好ましくはアニリンの誘導体が使用される。これらは単独でまたは2種以上混合して用いることができる。   Specific examples of the monoamine compound that can be used as a terminal blocking agent include the following. Aniline, o-toluidine, m-toluidine, p-toluidine, 2,3-xylidine, 2,6-xylidine, 3,4-xylidine, 3,5-xylidine, o-chloroaniline, m-chloroaniline, p- Chloroaniline, o-bromoaniline, m-bromoaniline, p-bromoaniline, o-nitroaniline, p-nitroaniline, m-nitroaniline, o-aminophenol, p-aminophenol, m-aminophenol, o- Anisidine, m-anisidine, p-anisidine, o-phenetidine, m-phenetidine, p-phenetidine, o-aminobenzaldehyde, p-aminobenzaldehyde, m-aminobenzaldehyde, o-aminobenzonitrile, p-aminobenzonitrile, m -Aminobenzonitrile, 2-aminobiphenyl , 3-aminobiphenyl, 4-aminobiphenyl, 2-aminophenylphenyl ether, 3-aminophenylphenyl ether, 4-aminophenylphenyl ether, 2-aminobenzophenone, 3-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 2-amino Phenylphenyl sulfide, 3-aminophenylphenyl sulfide, 4-aminophenylphenylsulfide, 2-aminophenylphenylsulfone, 3-aminophenylphenylsulfone, 4-aminophenylphenylsulfone, α-naphthylamine, β-naphthylamine, 1-amino 2-naphthol, 5-amino-1-naphthol, 2-amino-1-naphthol, 4-amino-1-naphthol, 5-amino-2-naphthol, 7-amino-2-naphthol, 8- Mino-1-naphthol, 8-amino-2-naphthol, 1-aminoanthracene, 2-aminoanthracene, 9-aminoanthracene and the like. Usually, among these aromatic monoamines, derivatives of aniline are preferably used. These can be used alone or in admixture of two or more.

これらモノアミン化合物及び/またはジカルボン酸無水物は、単独または2種以上混合して用いてもよい。これら末端封止剤の使用量としては、ジアミン化合物とテトラカルボン酸二無水物の使用モル数の差の1〜数倍のモノアミン化合物(過剰成分がテトラカルボン酸二無水物)、あるいはジカルボン酸無水物(過剰成分がジアミン)であれば良いが、少なくとも一方の成分の0.01モル倍程度利用するのが一般的である。
また、これらモノアミン化合物及びジカルボン酸無水物は、その構造の一部が、架橋点となるビニル基、アセチル基、エチニル基、アリル基、シアノ基、イソシアネート基、ニトリロ基、イソプロペニル基、ビニレン基、ビニリデン基、エチニリデン基、ベンゾシクロブテン−4' −イル基で置換されていても差し支えない。
These monoamine compounds and / or dicarboxylic acid anhydrides may be used alone or in combination of two or more. The amount of these end-capping agents used is a monoamine compound (excess component is tetracarboxylic dianhydride) or 1 to several times the difference in the number of moles used between the diamine compound and tetracarboxylic dianhydride, or dicarboxylic anhydride Although it is sufficient if it is a product (excess component is a diamine), it is generally used in an amount of about 0.01 mole of at least one component.
In addition, these monoamine compounds and dicarboxylic acid anhydrides have a structure in which a part of the structure is a vinyl group, acetyl group, ethynyl group, allyl group, cyano group, isocyanate group, nitrilo group, isopropenyl group, vinylene group. , Vinylidene group, ethynylidene group, and benzocyclobuten-4′-yl group may be substituted.

上記ポリイミド化合物またはポリアミド酸化合物の合成反応は、通常有機溶剤中で実施する。この反応に用いる有機溶剤としては、ポリイミド化合物およびポリアミド酸化合物を製造するのに問題がなく、しかも生成したポリイミド酸化合物およびポリアミド酸化合物を溶解できるものであればどのようなものでも利用でき、具体的には、アミド系の溶剤、エーテル系の溶剤、フェノール系の溶剤が例示でき、より具体的には、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルメトキシアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、N−メチルカプロラクタム、1,2−ジメトキシエタン−ビス(2−メトキシエチル)エーテル、1,2−ビス(2−メトキシエトキシ)エタン、ビス[2−(2−メトキシエトキシ)エチル]エーテル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキサン、1,4−ジオキサン、ピリジン、ピコリン、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルアミド、フェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、クレゾール酸、o−クロロフェノール、m−クロロフェノール、p−クロロフェノール、アニソール等が挙げられ、これらは単独または2種以上混合して使用することもできる。特にアミド系の溶剤が溶液の安定性、作業性としての利用の点から好ましい。
合成されたポリイミド化合物およびポリアミド酸化合物は、これらの有機溶剤に溶解させたままで後述する有機封着材溶液として使用することができる。このような態様で使用する場合、ポリイミド化合物の溶剤としては、クレゾールが好ましく、ポリアミド酸化合物の溶剤としてはN−メチルピロリドンが好ましい。なお、これらの有機溶剤は、合成されたポリイミド化合物およびポリアミド酸化合物を溶液として使用する際の溶媒としても使用することができる。
The synthesis reaction of the polyimide compound or polyamic acid compound is usually carried out in an organic solvent. Any organic solvent can be used as the organic solvent used in this reaction as long as there is no problem in producing the polyimide compound and the polyamic acid compound and the polyamic acid compound and the polyamic acid compound thus produced can be dissolved. Specifically, amide solvents, ether solvents, and phenol solvents can be exemplified. More specifically, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-diethylacetamide, N , N-dimethylmethoxyacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N-methylcaprolactam, 1,2-dimethoxyethane-bis (2-methoxyethyl) ether, 1, 2-bis (2-methoxyethoxy) ethane, bis [2- (2-methoxyethoxy) eth ] Ether, tetrahydrofuran, 1,3-dioxane, 1,4-dioxane, pyridine, picoline, dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, tetramethylurea, hexamethylphosphoramide, phenol, o-cresol, m-cresol, p-cresol , Cresolic acid, o-chlorophenol, m-chlorophenol, p-chlorophenol, anisole and the like, and these can be used alone or in admixture of two or more. In particular, an amide-based solvent is preferable from the viewpoints of solution stability and workability.
The synthesized polyimide compound and polyamic acid compound can be used as an organic sealing material solution described later while being dissolved in these organic solvents. When used in such an embodiment, cresol is preferable as the solvent for the polyimide compound, and N-methylpyrrolidone is preferable as the solvent for the polyamic acid compound. In addition, these organic solvents can be used also as a solvent at the time of using the synthesized polyimide compound and polyamic acid compound as a solution.

また、ポリイミド化合物およびポリアミド酸化合物を合成するにあたって有機塩基触媒を共存させることも可能である。有機塩基触媒としては、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、キノリン、イソキノリン、トリエチルアミン等の第3級アミン類が用いられるが、特に好ましくはピリジンおよびγ−ピコリンである。これら触媒の使用量としては、テトラカルボン酸二無水物の総量1モルに対し、0.001〜0.50モルである。特に好ましくは0.01〜0.1モルである。   It is also possible to coexist an organic base catalyst in synthesizing the polyimide compound and the polyamic acid compound. As the organic base catalyst, tertiary amines such as pyridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, quinoline, isoquinoline and triethylamine are used, and pyridine and γ-picoline are particularly preferable. The amount of these catalysts used is 0.001 to 0.50 mol with respect to 1 mol of the total amount of tetracarboxylic dianhydride. Most preferably, it is 0.01-0.1 mol.

ポリアミド酸化合物を合成する際の反応温度は、−20〜60℃、好ましくは0〜40℃である。反応時間は、使用するテトラカルボン酸二無水物の種類、溶剤の種類及び反応温度等により異なるが、目安としては1〜48時間であり、通常数時間から十数時間である。本願においては、この様な方法により得られたポリアミド酸化合物を含有する有機溶剤溶液を、ポリアミド酸化合物を含む有機系封着材溶液と呼ぶ。ポリアミド酸化合物は、ポリイミド化合物の前駆体であるため、このようにして得られたポリアミド酸化合物を、ついで150℃以上400℃未満の範囲の温度で加熱脱水してイミド化することにより有機系封着材として用いる。   The reaction temperature for synthesizing the polyamic acid compound is -20 to 60 ° C, preferably 0 to 40 ° C. The reaction time varies depending on the type of tetracarboxylic dianhydride to be used, the type of solvent, the reaction temperature, and the like, but is generally 1 to 48 hours, and usually several hours to several tens of hours. In this application, the organic solvent solution containing the polyamic acid compound obtained by such a method is referred to as an organic sealing material solution containing the polyamic acid compound. Since the polyamic acid compound is a precursor of the polyimide compound, the polyamic acid compound thus obtained is then heated and dehydrated at a temperature in the range of 150 ° C. or higher and lower than 400 ° C. to imidize the organic system. Used as a dressing.

また、ポリイミド化合物を合成する際の反応温度は、100℃以上、好ましくは150〜300℃であり、反応によって生じる水を抜き出しながら行うのが一般的である。イミド化に先立ち、その前駆体であるポリアミド酸化合物を100℃以下の低温でまず合成し、ついで温度を100℃以上に上げてイミド化することも可能であるが、単にテトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物と、を混合した後、有機塩基存在下、すぐに100℃以上に昇温することでイミド化することもできる。反応時間は、使用するテトラカルボン酸二無水物の種類、溶剤の種類、有機塩基触媒の種類と量および反応温度等により異なるが、目安としては、留出する水がほぼ理論量に達する(通常は全てが回収されるわけではないので、70〜90%の回収率である。)まで反応することであり、通常数時間から10時間程度である。この場合、イミド化反応によって生じる水はトルエン等の共沸剤を反応系に加えて、共沸により水を除去する方法が一般的で有効である。または、まず前駆体であるポリアミド酸を合成した後、無水酢酸などのイミド化剤を用いて化学的にイミド化を行うことも可能である。本願においては、この様な方法により得られたポリイミド化合物を含有する有機溶剤溶液を、ポリイミド化合物を含有する有機系封着材溶液と呼ぶ。ポリイミド化合物を含有する有機系封着材溶液は保存安定性が良好で、しかもガラスからなる外囲器構成部材の封着面に塗布して加熱乾燥した後、焼成することで比較的低温低圧で焼成しても充分な90°封着剥離強度が得られる。ここで乾燥温度としては、溶媒の沸点によって異なり、特定はできないが、通常、100〜300℃である。一方、封着材の焼成は上記したが、300℃以上400℃未満の範囲の温度で実施する。
なお、ポリイミド化合物は、有機溶剤に溶解させた溶液としてではなく、公知の方法でフィルムに成形して使用してもよい。
Moreover, the reaction temperature at the time of synthesize | combining a polyimide compound is 100 degreeC or more, Preferably it is 150-300 degreeC, and it is common to carry out, extracting the water produced by reaction. Prior to imidization, it is possible to first synthesize the precursor polyamic acid compound at a low temperature of 100 ° C. or lower and then increase the temperature to 100 ° C. or higher to imidize, but it is simply tetracarboxylic dianhydride. And diamine compound can be mixed and then imidized by immediately raising the temperature to 100 ° C. or higher in the presence of an organic base. The reaction time varies depending on the type of tetracarboxylic dianhydride used, the type of solvent, the type and amount of the organic base catalyst, the reaction temperature, etc., but as a guide, the distilled water reaches almost the theoretical amount (usually Is not recovered, so the recovery rate is 70 to 90%.) Usually, the reaction takes several hours to 10 hours. In this case, the water generated by the imidization reaction is generally effective by adding an azeotropic agent such as toluene to the reaction system and removing the water by azeotropic distillation. Alternatively, after first synthesizing the polyamic acid as a precursor, it is possible to chemically imidize using an imidizing agent such as acetic anhydride. In the present application, an organic solvent solution containing a polyimide compound obtained by such a method is referred to as an organic sealing material solution containing a polyimide compound. The organic sealing solution containing the polyimide compound has good storage stability, and is applied to the sealing surface of the envelope component made of glass, dried by heating, and then fired at a relatively low temperature and low pressure. Even if baked, sufficient 90 ° sealing peel strength can be obtained. Here, the drying temperature varies depending on the boiling point of the solvent and cannot be specified, but is usually 100 to 300 ° C. On the other hand, as described above, the sealing material is fired at a temperature in the range of 300 ° C. or more and less than 400 ° C.
The polyimide compound may be used after being formed into a film by a known method, not as a solution dissolved in an organic solvent.

また、有機系封着材の封着性を向上させるために、上記成分に加えて、ジアミノシロキサン化合物を有機系封着材に含めてもよい(特開平5−74245、5−98233、5−98234、5−98235、5−98236、5−98237、5−112760号公報等)。ジアミノシロキサンは、上記式1ないし式3、または上記式20(ただし、式中のXは式8)で表される。従って、ジアミノシロキサンを併用する場合、ポリイミド化合物およびポリアミド酸化合物は、上記式1ないし式3、または式20において、Xが式4ないし式7のいずれかのものを用いる。なお、ジアミノシロキサンは、式1ないし式3の構造を有するポリイミド化合物または式20のポリアミド酸化合物1モルに対して、0.10モル以下となる量で使用する。ジアミノシロキサンを0.1モル以下とすれば、有機系封着材が本来有する耐熱性が損なわれることがなく、また有機系封着材溶液が層分離を起こす等の保存安定性にも問題を生じることがない。   In addition to the above components, a diaminosiloxane compound may be included in the organic sealing material in order to improve the sealing property of the organic sealing material (Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-74245, 5-98233, 5- 98234, 5-98235, 5-98236, 5-98237, 5-112760, etc.). The diaminosiloxane is represented by the above formulas 1 to 3 or the above formula 20 (where X is a formula 8). Therefore, when diaminosiloxane is used in combination, as the polyimide compound and the polyamic acid compound, those in which Formula 1 to Formula 3 or Formula 20 in which X is Formula 4 to Formula 7 are used. Diaminosiloxane is used in an amount of 0.10 mol or less with respect to 1 mol of the polyimide compound having the structure of Formulas 1 to 3 or the polyamic acid compound of Formula 20. If the diaminosiloxane is 0.1 mol or less, the heat resistance inherent in the organic sealing material is not impaired, and there is a problem in storage stability such that the organic sealing material solution causes layer separation. It does not occur.

ポリイミド化合物の分子量の指標としては一般的に対数粘度が用いられる。本発明のポリイミド化合物の対数粘度は、p- クロロフェノールとフェノールの混合溶媒(90:10)中、0.5g/ dL濃度、35℃において0.01〜5.0であり、好ましくは、0.10〜0.50である。
ポリアミド酸化合物の分子量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定可能であり、本発明のポリアミド酸の質量平均分子量は、4000〜30000であり、好ましくは5000〜15000である。
In general, logarithmic viscosity is used as an index of the molecular weight of the polyimide compound. The logarithmic viscosity of the polyimide compound of the present invention is 0.01 to 5.0 at a concentration of 0.5 g / dL at 35 ° C. in a mixed solvent of p-chlorophenol and phenol (90:10), preferably 0. .10 to 0.50.
The molecular weight of the polyamic acid compound can be measured by gel permeation chromatography (GPC), and the polyamic acid of the present invention has a mass average molecular weight of 4,000 to 30,000, preferably 5,000 to 15,000.

また、これら有機系封着材は、目的に応じてカップリング剤、無機フィラー等を混合して使用することが可能である。
カップリング剤は、封着性を向上させるために用いられ、その使用量は有機系封着材中、0.1質量%〜5質量%である。0.1質量%以上使用することにより高い封着性が得られる。また、5質量%以下とすることにより耐熱性を維持することが可能になる。使用可能なカップリング剤としてはすでに公知のカップリング剤を使用することができる。具体的には、トリアルコキシシラン化合物、メチルジアルコキシシラン化合物が挙げられる。より具体的にはγ−グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−アミノエチル−γ−イミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−アミノエチル−γ−イミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプピルルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、イソシアナートプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
In addition, these organic sealing materials can be used by mixing a coupling agent, an inorganic filler and the like according to the purpose.
A coupling agent is used in order to improve sealing property, and the usage-amount is 0.1 mass%-5 mass% in an organic type sealing material. By using 0.1% by mass or more, high sealing properties can be obtained. Moreover, it becomes possible to maintain heat resistance by setting it as 5 mass% or less. Already known coupling agents can be used as usable coupling agents. Specific examples include trialkoxysilane compounds and methyl dialkoxysilane compounds. More specifically, γ-glycidoxypropyl methyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- Aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-aminoethyl-γ-iminopropylmethyldimethoxysilane, N-aminoethyl-γ- Iminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, isocyanate propylmethyldie Toxisilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane and the like can be mentioned.

無機フィラーは、溶液の粘性調整、焼成体の熱応力低減等を目的として使用することが可能であり、公知の無機化合物の中から選択することができ特に制約は無く、具体的に例えば、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化亜鉛、二酸化珪素、チタン酸カリウム、カオリン、タルク、アスベスト粉、石英粉、雲母、ガラス繊維等が挙げられる。   The inorganic filler can be used for the purpose of adjusting the viscosity of the solution, reducing the thermal stress of the fired body, etc., and can be selected from known inorganic compounds, and is not particularly limited. Calcium, magnesium carbonate, barium sulfate, magnesium sulfate, aluminum silicate, zirconium silicate, iron oxide, titanium oxide, aluminum oxide (alumina), zinc oxide, silicon dioxide, potassium titanate, kaolin, talc, asbestos powder, quartz powder, mica And glass fiber.

上記した有機系封着材で画像表示装置の外囲器構成部材を封着する方法は、従来のガラスフリットを用いた方法と同様の手順で実施すればよい。すなわち、ポリイミド化合物またはポリアミド酸を含有する有機封着材溶液を外囲器構成部材の封着面に塗布するか、またはポリイミド化合物からなる有機封着材フィルムを封着面に取り付けて、比較的低温(150〜200℃)で乾燥またはプリ焼成し、その後、封着面同士を合わせて、前述の温度よりも高い温度、具体的には300℃以上400℃未満の温度範囲で10〜500分間、より好ましくは330℃以上400℃未満の温度範囲で10〜300分間、さらに好ましくは10〜60分間本焼成することで、外囲器構成部材同士が封着される。その後、内部を高真空にするため、200〜330℃の高温で真空排気することで画像表示装置の真空外囲器が製造される。
本発明の有機系封着材は、焼成温度が400℃未満であるため、従来のフリットガラスを封着材を使用した場合における画像表示装置の金属部材の熱変形等の問題が解消されている。また、本発明の有機系封着材は、その焼成体の220℃における曲げ強さが30MPa以上であるため、画像表示装置の真空外囲器の高温真空排気工程で負荷される真空応力および熱応力に対して、真空外囲器の封着部が充分な強度を有しており、画像表示装置の製造工程での封着部の割れ問題が解消されている。
The method for sealing the envelope constituent member of the image display device with the organic sealing material described above may be performed in the same procedure as the method using the conventional glass frit. That is, an organic sealing material solution containing a polyimide compound or polyamic acid is applied to the sealing surface of the envelope component member, or an organic sealing material film made of a polyimide compound is attached to the sealing surface, Drying or pre-baking at a low temperature (150 to 200 ° C.), and then bonding the sealing surfaces together, a temperature higher than the above-described temperature, specifically, a temperature range of 300 ° C. or more and less than 400 ° C. for 10 to 500 minutes. More preferably, the envelope constituent members are sealed together by performing main firing in a temperature range of 330 ° C. or higher and lower than 400 ° C. for 10 to 300 minutes, more preferably 10 to 60 minutes. Then, in order to make the inside into a high vacuum, the vacuum envelope of the image display device is manufactured by evacuating at a high temperature of 200 to 330 ° C.
Since the organic sealing material of the present invention has a firing temperature of less than 400 ° C., problems such as thermal deformation of the metal member of the image display device when the sealing material is used as a conventional frit glass are solved. . In addition, since the organic sealing material of the present invention has a bending strength at 220 ° C. of the fired body of 30 MPa or more, the vacuum stress and heat applied in the high-temperature evacuation process of the vacuum envelope of the image display device. The sealing part of the vacuum envelope has sufficient strength against the stress, and the problem of cracking of the sealing part in the manufacturing process of the image display device is solved.

以下、本発明を実施例および比較例により詳細に説明する。
(合成例1)
撹拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に4,4'−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル36.1g(0.098モル)、ジアミノシロキサン化合物0.496g(0.002モル)[東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製;製品名BY16−871]、N−メチル−2−ピロリドン225gを装入し、窒素雰囲気下において、ピロメリット酸二無水物9.60g(0.044モル)、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物12.95g(0.044モル)を溶液温度の上昇に注意しながら、分割して加え、室温で約20時間撹拌する。その後、フタル酸無水物7.11g(0.048モル)を加え5時間攪拌することでポリアミド酸(1)を得る。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples.
(Synthesis Example 1)
In a vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube, 36.1 g (0.098 mol) of 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl and 0.496 g (0.002 mol) of a diaminosiloxane compound [Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd .; product name BY16-871] and N-methyl-2-pyrrolidone 225 g were charged and pyromellitic dianhydride 9.60 g (0.044 mol) in a nitrogen atmosphere. ), 3.95 g (0.044 mol) of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, added in portions, paying attention to the rise in solution temperature, and stirred at room temperature for about 20 hours. . Thereafter, 7.11 g (0.048 mol) of phthalic anhydride is added and stirred for 5 hours to obtain polyamic acid (1).

(合成例2)
前記の合成例1におけるピロメリット酸二無水物の量を10.25g(0.047モル)、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の量を13.83g(0.047モル)、フタル酸無水物の量を1.63g(0.011モル)に変更した以外は全く同様にしてポリアミド酸(2)を得る。
(合成例3)
攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容器に1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン38.44g(0.1モル)を装入し、窒素雰囲気において2,2’,3,3’−ベンゾフェノンジテトラカルボン酸二無水物29.00g(0.09モル)を溶液温度の上昇に注意しながら、分割して加え、室温で20時間攪拌しポリアミド酸(3)を得る。
(合成例4)
前記の合成例1で得られたポリアミド酸(1)を200℃で3時間反応後、室温まで冷却した。メチルエチルケトンを225g添加後、濾過してポリイミド(1)を得る。
(Synthesis Example 2)
The amount of pyromellitic dianhydride in Synthesis Example 1 is 10.25 g (0.047 mol), and the amount of 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride is 13.83 g (0 0.047 mol), and polyamic acid (2) is obtained in the same manner except that the amount of phthalic anhydride is changed to 1.63 g (0.011 mol).
(Synthesis Example 3)
A vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser and a nitrogen introduction tube was charged with 38.44 g (0.1 mol) of 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, and 2,2 ′, 3 in a nitrogen atmosphere. , 3′-benzophenone ditetracarboxylic dianhydride 29.00 g (0.09 mol) is added in portions while paying attention to an increase in the solution temperature, and stirred at room temperature for 20 hours to obtain polyamic acid (3).
(Synthesis Example 4)
The polyamic acid (1) obtained in Synthesis Example 1 was reacted at 200 ° C. for 3 hours, and then cooled to room temperature. After adding 225 g of methyl ethyl ketone, filtration is performed to obtain polyimide (1).

(実施例1)
(1)封着部の曲げ強度
ポリアミド酸(1)をクレゾール中に濃度15質量%で含有する有機系封着材溶液を25型CRT用真空外囲器のファンネル部の封着端面に塗布し、200℃で1時間乾燥後、画像表示部をセットし、375℃で60分間焼成し封着部を得る。焼成後、封着部を切断し幅5mm×長さ60mmのサンプルを作成し、JIS R1601に準じた方法で4点曲げ強度試験を220℃で実施する。その結果を表1に示す。
(2)封着材料の曲げ弾性率
ポリアミド酸(1)を200℃で1時間乾燥後、375℃で60分間焼成して有機封着材フィルム(厚さ0.1mm)を得る。得られたフィルムを動的粘弾性測定装置(DMS:ダイナミック・メカニカル・スペクトロメータ)(セイコーインスツルメント社製DMS110)により220℃における弾性率を測定する。その結果を表1に示す。
Example 1
(1) Bending strength of sealing part An organic sealing material solution containing polyamic acid (1) in cresol at a concentration of 15% by mass was applied to the sealing end face of the funnel part of a 25-inch CRT vacuum envelope. After drying at 200 ° C. for 1 hour, the image display part is set and baked at 375 ° C. for 60 minutes to obtain a sealed part. After firing, the sealing part is cut to prepare a sample having a width of 5 mm and a length of 60 mm, and a four-point bending strength test is performed at 220 ° C. by a method according to JIS R1601. The results are shown in Table 1.
(2) Flexural modulus of sealing material Polyamic acid (1) is dried at 200 ° C. for 1 hour and then fired at 375 ° C. for 60 minutes to obtain an organic sealing material film (thickness 0.1 mm). The resulting film is measured for elastic modulus at 220 ° C. using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMS: Dynamic Mechanical Spectrometer) (DMS110 manufactured by Seiko Instruments Inc.). The results are shown in Table 1.

(3)400℃加熱時の質量比
ポリアミド酸(1)を熱質量示差熱分析(TG−DTA)測定用セル(セイコーインスツルメント社製TG/DTA6200)に一定量採取し、セル内にて200℃で1時間乾燥後、375℃で60分間焼成する。室温まで冷却した後、室温から550℃まで10℃/分で昇温する条件下でTG測定を行う。400℃における質量m400を室温(20℃での質量m20で除した値(m400/m20)を400℃加熱時の質量比とする。結果を表1に示す。
(4)300℃以上400℃未満の温度範囲における最低粘度
ポリアミド酸(1)を200℃で1時間乾燥後、375℃で60分間焼成する。室温まで冷却した後、所定の寸法に加工し、300℃以上400℃未満の温度範囲における最低粘度をパラレルプレート法により測定する。その結果を表1に示す。
(3) Mass ratio during heating at 400 ° C. A certain amount of polyamic acid (1) was collected in a thermal mass differential thermal analysis (TG-DTA) measurement cell (TG / DTA6200 manufactured by Seiko Instruments Inc.) After drying at 200 ° C for 1 hour, baking is performed at 375 ° C for 60 minutes. After cooling to room temperature, TG measurement is performed under conditions where the temperature is raised from room temperature to 550 ° C. at 10 ° C./min. The value obtained by dividing the mass m 400 at 400 ° C. by the mass m 20 at 20 ° C. (m 400 / m 20 ) is the mass ratio upon heating at 400 ° C. The results are shown in Table 1.
(4) Minimum viscosity in a temperature range of 300 ° C. or higher and lower than 400 ° C. The polyamic acid (1) is dried at 200 ° C. for 1 hour and then calcined at 375 ° C. for 60 minutes. After cooling to room temperature, it is processed into a predetermined dimension, and the minimum viscosity in a temperature range of 300 ° C. or higher and lower than 400 ° C. is measured by a parallel plate method. The results are shown in Table 1.

(5)電気絶縁破壊強度
25型CRT用真空外囲器のファンネル部から切り出したガラスピース(60mm×30mm×5mm)上に、(1)の有機系封着材溶液を塗布し、200℃で1時間乾燥後、ガラスパネル部から切り出したガラスピース(60mm×30mm×5mm)を載置し、375℃で60分間焼成する。焼成後のサンプルピース封着部の両側に直流電圧を印加、昇圧し、破壊した時の電圧をガラスの厚さで除した値を絶縁破壊強度として表1に示す。
(6)耐水圧強度
(1)と同様の手順で25型CRT用真空外囲器を製造し、該真空外囲器の内外に水による圧力差を連続的に加えていき、真空外囲器が破壊するときの圧力差を測定する。封着部より破壊した場合その値を耐水圧強度とし、結果を表1に示す。
(7)表示特性
(1)と同様の手順で図1に示す構成の25型CRTを製造し、画像表示特性を目視により評価する。その結果を表1に示す。表1に示した記号は、各々以下を意味する。
○;表示特性に問題なし
△;表示特性に若干問題あり
×;表示特性に問題あり
(8)ガラス転移温度の測定方法
ポリアミド酸(1)を200℃で1時間乾燥後、375℃で60分間焼成する。得られたポリアミド酸(1)を示差走査熱量分析計(DSC)(セイコーインスツルメント社製DSC6200)のセルに一定量採取し、セル内にて室温から450℃まで8℃/分で昇温する条件で測定を行う。得られたDSC曲線より吸熱ピークを読み取りTgとして示す。
(5) Electrical breakdown strength On the glass piece (60 mm × 30 mm × 5 mm) cut out from the funnel part of the 25 type CRT vacuum envelope, the organic sealing material solution of (1) is applied at 200 ° C. After drying for 1 hour, a glass piece (60 mm × 30 mm × 5 mm) cut out from the glass panel portion is placed and baked at 375 ° C. for 60 minutes. Table 1 shows the dielectric breakdown strength as a value obtained by dividing the voltage when a DC voltage is applied and boosted on both sides of the sample piece sealing part after firing and the voltage is broken by the thickness of the glass.
(6) Water pressure resistant strength A 25-inch CRT vacuum envelope is manufactured in the same procedure as in (1), and a pressure difference due to water is continuously applied to the inside and outside of the vacuum envelope. Measure the pressure difference when the breaks. When broken from the sealed portion, the value is defined as the water pressure resistance, and the results are shown in Table 1.
(7) Display characteristics A 25-inch CRT having the structure shown in FIG. 1 is manufactured in the same procedure as (1), and the image display characteristics are visually evaluated. The results are shown in Table 1. The symbols shown in Table 1 mean the following.
○: No problem in display characteristics Δ: Some problems in display characteristics ×: Problems in display characteristics (8) Measuring method of glass transition temperature Polyamide acid (1) is dried at 200 ° C. for 1 hour and then at 375 ° C. for 60 minutes. Bake. A certain amount of the obtained polyamic acid (1) is collected in a cell of a differential scanning calorimeter (DSC) (DSC6200 manufactured by Seiko Instruments Inc.), and the temperature is increased from room temperature to 450 ° C. at a rate of 8 ° C./min. Measure under the conditions to be used. The endothermic peak is read from the obtained DSC curve and indicated as Tg.

(実施例2〜実施例4)
実施例1と同様に、ポリアミド酸(1)の代わりに、各々ポリアミド酸(2)、ポリアミド酸(3)およびポリイミド(1)を使用して前記(1)〜(7)の試験を実施する。結果を表1に示す。
(Example 2 to Example 4)
In the same manner as in Example 1, the tests (1) to (7) are carried out using each of polyamic acid (2), polyamic acid (3) and polyimide (1) instead of polyamic acid (1). . The results are shown in Table 1.

(比較例1〜4)
実施例1と同様の(1)〜(7)の試験を表1に示す封着材料および焼成条件で実施する。結果を表1に示す。なお、比較例1〜4で使用する封着材料は、各々以下である。
エポキシ樹脂:ストラクトボンドEH−454(三井化学社製)
ポリアミド酸(4):LARK−TPI(三井化学社製)
ポリベンゾイミダゾール:PBI MR Solution(ヘキストインダストリー社製)
(Comparative Examples 1-4)
The same tests (1) to (7) as in Example 1 are performed with the sealing materials and firing conditions shown in Table 1. The results are shown in Table 1. The sealing materials used in Comparative Examples 1 to 4 are as follows.
Epoxy resin: Structbond EH-454 (Mitsui Chemicals)
Polyamic acid (4): LARK-TPI (Mitsui Chemicals)
Polybenzimidazole: PBI MR Solution (Hoechst Industry)

Figure 2004319448
Figure 2004319448

Figure 2004319448
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表1から明らかなように、その焼成体の220℃における曲げ強度が30MPa以上である本発明の有機系封着材を用いて、400℃未満の温度で封着されたCRT用真空外囲器は耐水圧強度が優れている。また、該真空外囲器を用いたCRTは表示特性が優れている。これに対して、従来のフリットガラスを用いて、400℃未満の温度で封着された真空外囲器は、220℃における封着部の曲げ強度が低く、高温真空排気工程で割れ問題が生じるおそれがある。また、真空外囲器の耐水圧強度も著しく低く、実用的なレベルではない。一般に真空外囲器の耐水圧強度は、0.25MPa以上であることが必要であり、0.3MPa以上であることが好ましい。また、その焼成体の220℃における曲げ強度が30MPa未満である有機系封着材を用いて、封着された真空外囲器は、高温真空排気工程の際に封着部の曲げ強度が不十分であり、封着部の割れ問題を生じるおそれがある。また、封着材料としてエポキシ樹脂を使用した比較例1では、400℃加熱時の質量比が非常に小さく、高温排気工程の際に封着材がかなりの量で分解していることが確認できる。また、比較例1〜4の画像表示装置は、その表示特性に問題を有している。さらに、比較例3および4の真空外囲器は、耐水圧強度が著しく低く、実用的なレベルではない。   As is clear from Table 1, the vacuum envelope for CRT sealed at a temperature of less than 400 ° C. using the organic sealing material of the present invention having a bending strength at 220 ° C. of the fired body of 30 MPa or more. Has excellent water pressure resistance. Further, the CRT using the vacuum envelope has excellent display characteristics. In contrast, a vacuum envelope sealed at a temperature of less than 400 ° C. using conventional frit glass has a low bending strength at 220 ° C., which causes cracking problems in the high-temperature vacuum exhaust process. There is a fear. Moreover, the water pressure resistance of the vacuum envelope is extremely low, which is not a practical level. In general, the water pressure resistance of the vacuum envelope is required to be 0.25 MPa or more, and preferably 0.3 MPa or more. In addition, the sealed vacuum envelope using an organic sealing material whose bending strength at 220 ° C. of the fired body is less than 30 MPa has a bending strength of the sealing portion during the high-temperature vacuum exhaust process. This is sufficient and may cause a cracking problem at the sealing portion. Moreover, in the comparative example 1 which uses an epoxy resin as a sealing material, the mass ratio at the time of 400 degreeC heating is very small, and it can confirm that the sealing material has decomposed | disassembled by the considerable quantity in the high temperature exhaust process. . Further, the image display devices of Comparative Examples 1 to 4 have a problem in display characteristics. Furthermore, the vacuum envelopes of Comparative Examples 3 and 4 have extremely low water pressure resistance and are not at a practical level.

図1は、本発明の画像表示装置の1実施形態の一部切欠き側面図であり、画像表示装置はCRTとして構成されている。FIG. 1 is a partially cutaway side view of an embodiment of an image display device of the present invention, and the image display device is configured as a CRT. 図2は、本発明の画像表示装置の別の1実施形態の一部切欠き側面図であり、画像表示装置は典型的なFEDとして構成されている。FIG. 2 is a partially cutaway side view of another embodiment of the image display device of the present invention, the image display device being configured as a typical FED.

符号の説明Explanation of symbols

1、1’:画像表示装置
11:真空外囲器(ガラスバルブ)
11’:真空外囲器
13:蛍光体
14:アルミニウム膜
15:シャドーマスク
16:電子銃
17:防爆補強バンド
18:スタッドピン
2:画像表示パネル部
2’:画像表示パネル部(フロントパネル部)
21:画像表示領域
22:スカート部
3:ガラスファンネル部
3’:リアパネル部
31:ネック部
4:外枠
5:有機系封着材層
61:陰極
62:電解放出型冷陰極
63:ゲート電極
64:絶縁層
65:陽極
66:蛍光体画素
1, 1 ': Image display device 11: Vacuum envelope (glass bulb)
11 ': Vacuum envelope 13: Phosphor 14: Aluminum film 15: Shadow mask 16: Electron gun 17: Explosion-proof reinforcement band 18: Stud pin 2: Image display panel 2': Image display panel (front panel)
21: Image display area 22: Skirt portion 3: Glass funnel portion 3 ′: Rear panel portion 31: Neck portion 4: Outer frame 5: Organic sealing material layer 61: Cathode 62: Electrolytic emission cold cathode 63: Gate electrode 64 : Insulating layer 65: Anode 66: Phosphor pixel

Claims (17)

ガラスからなる画像表示部を少なくとも含んだ外囲器構成部材を、封着材層を介して封着させてなる真空外囲器であって、
前記封着材層は、有機系封着材を焼成して得た有機系封着材層を含み、
前記有機系封着材層と、該有機系封着材層を介して封着される外囲器構成部材と、からなる封着部の曲げ強度が、220℃において30MPa以上であることを特徴とする画像表示装置用真空外囲器。
A vacuum envelope formed by sealing an envelope constituent member including at least an image display unit made of glass via a sealing material layer,
The sealing material layer includes an organic sealing material layer obtained by firing an organic sealing material,
The bending strength of a sealing portion composed of the organic sealing material layer and an envelope constituent member sealed via the organic sealing material layer is 30 MPa or more at 220 ° C. A vacuum envelope for an image display device.
前記封着部の電気絶縁破壊強度が3kV/mm以上であることを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置用真空外囲器。   The vacuum envelope for an image display device according to claim 1, wherein the electrical breakdown strength of the sealing portion is 3 kV / mm or more. 前記画像表示装置は、陰極線管であり、
前記封着部の電気破壊強度が、15kV/mm以上である請求項1または2に記載の画像表示装置用真空外囲器。
The image display device is a cathode ray tube,
The vacuum envelope for an image display device according to claim 1, wherein an electric breakdown strength of the sealing portion is 15 kV / mm or more.
前記有機系封着材層が実質的に鉛を含まないことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の画像表示装置用真空外囲器。   4. The vacuum envelope for an image display device according to claim 1, wherein the organic sealing material layer does not substantially contain lead. 請求項1ないし4のいずれかに記載の画像表示装置用真空外囲器を備えた画像表示装置。   An image display device comprising the vacuum envelope for an image display device according to claim 1. 画像表示装置の真空外囲器を構成する外囲器構成部材を封着するための有機系の封着材であって、
前記有機系封着材は、300℃以上400℃未満の温度範囲における最低粘度が103Pa・s以下であり、
前記有機系封着材の焼成体は、20℃における質量をm20とし、400℃における質量をm400とするとき、0.99<m400/m20≦1.00となることを特徴とする画像表示装置用封着材。
An organic sealing material for sealing an envelope constituent member constituting a vacuum envelope of an image display device,
The organic sealing material has a minimum viscosity of 10 3 Pa · s or less in a temperature range of 300 ° C. or more and less than 400 ° C.,
The fired body of the organic sealing material is characterized in that when the mass at 20 ° C. is m 20 and the mass at 400 ° C. is m 400 , 0.99 <m 400 / m 20 ≦ 1.00. A sealing material for an image display device.
前記有機系封着材の焼成体の示差走査熱量分析計(DSC)によるガラス転移温度が175℃以上であることを特徴とする請求項6に記載の画像表示装置用封着材。   The sealing material for an image display device according to claim 6, wherein a glass transition temperature of the fired body of the organic sealing material by a differential scanning calorimeter (DSC) is 175 ° C or higher. 前記有機系封着材の焼成体の220℃における曲げ弾性率が100MPa以上であることを特徴とする請求項6または7に記載の画像表示装置用封着材。   The sealing material for an image display device according to claim 6 or 7, wherein a bending elastic modulus at 220 ° C of the fired body of the organic sealing material is 100 MPa or more. ポリイミド化合物またはポリアミド酸化合物を主成分とすることを特徴とする請求項6ないし8のいずれかに記載の画像表示装置用封着材。   The sealing material for an image display device according to claim 6, comprising a polyimide compound or a polyamic acid compound as a main component. ポリイミド化合物中のイミド基含有割合(イミド基分子量/ポリイミド分子量)またはポリアミド酸化合物中のアミド基含有割合(アミド基分子量/ポリアミド酸分子量)が10〜31%の範囲であることを特徴とする請求項9に記載の画像表示装置用封着材。   The imide group content ratio (imide group molecular weight / polyimide molecular weight) in the polyimide compound or the amide group content ratio (amide group molecular weight / polyamic acid molecular weight) in the polyamic acid compound is in the range of 10 to 31%. Item 10. A sealing material for an image display device according to Item 9. 下記式1ないし式3で示される構造を有するポリイミド化合物のうち、少なくとも1つを主成分とすることを特徴とする請求項9または10に記載の画像表示装置用封着材。
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(式中、Xはジアミン化合物の主骨格であり、X’はモノアミン化合物の主骨格であり、Yはテトラカルボン酸二無水物の主骨格であり、Y’はジカルボン酸無水物の主骨格である。)
The sealing material for an image display device according to claim 9 or 10, comprising at least one of polyimide compounds having a structure represented by the following formulas 1 to 3 as a main component.
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(Wherein X is the main skeleton of the diamine compound, X ′ is the main skeleton of the monoamine compound, Y is the main skeleton of the tetracarboxylic dianhydride, and Y ′ is the main skeleton of the dicarboxylic acid anhydride. is there.)
前記式1ないし式3のポリイミド化合物において、前記Xが下記式4〜式8からなる群から選択されるいずれか1つのとき、前記Yは下記式9〜式14からなる群から選択されるいずれか1つであり、
前記Xが下記式15のとき、前記Yは下記式16または式17であり、
前記Xが下記式18のとき、前記Yは下記式19であることを特徴とする請求項11に記載の画像表示装置用封着材。
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(上記式中、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは、各々独立にCH3またはフェニル基である。)
In the polyimide compound of Formula 1 to Formula 3, when X is any one selected from the group consisting of Formulas 4 to 8, Y is selected from the group consisting of Formulas 9 to 14 below. Or one,
When the X is the following formula 15, the Y is the following formula 16 or the formula 17,
The sealing material for an image display device according to claim 11, wherein when X is a formula 18 below, the Y is a formula 19 below.
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(In the above formula, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 — and —C (CH 3 ) 2. N is each independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.)
下記式20で示される構造を有するポリアミド酸化合物を主成分とすることを特徴とする請求項9または10に記載の画像表示装置用封着材。
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前記式20において、Xが下記式4〜式8からなる群から選択されるいずれか一つのとき、Yは下記式9〜式14からなる群から選択されるいずれか一つであり、
Xが下記式15のとき、Yは下記式16または式17であり、
Xが下記式18のとき、Yは下記式19である。
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(上記式中、Rは、各々独立に−、−O−、−CO−、−SO2−、−S−、−CH2−および−C(CH32からなる群から選択されるいずれか一つであり、nは各々独立に0〜7であり、Zは各々独立にCH3またはフェニル基である。)
The sealing material for an image display device according to claim 9 or 10, comprising a polyamic acid compound having a structure represented by the following formula 20 as a main component.
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In the formula 20, when X is any one selected from the group consisting of the following formulas 4 to 8, Y is any one selected from the group consisting of the following formulas 9 to 14.
When X is the following formula 15, Y is the following formula 16 or formula 17,
When X is the following formula 18, Y is the following formula 19.
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(In the above formula, each R is independently selected from the group consisting of —, —O—, —CO—, —SO 2 —, —S—, —CH 2 — and —C (CH 3 ) 2. N is each independently 0 to 7, and Z is each independently CH 3 or a phenyl group.)
外囲器構成部材が請求項6ないし13のいずれかに記載の画像表示装置用封着材により封着されていることを特徴とする画像表示装置用真空外囲器。   A vacuum envelope for an image display device, wherein the envelope constituting member is sealed with the sealing material for an image display device according to any one of claims 6 to 13. 請求項14に記載の画像表示装置用真空外囲器を備えた画像表示装置。   The image display apparatus provided with the vacuum envelope for image display apparatuses of Claim 14. 真空外囲器を構成する外囲器構成部材の封着面に、ポリイミド化合物もしくはポリアミド酸化合物を主成分とする有機系封着剤またはその溶液を塗布し、その後300℃以上400℃未満の範囲の温度に加熱することにより、前記有機系封着剤を焼成し、固化せしめて前記外囲器構成部材を封着させることを特徴とする画像表示装置用真空外囲器の封着方法。   An organic sealing agent mainly composed of a polyimide compound or a polyamic acid compound or a solution thereof is applied to a sealing surface of an envelope constituent member constituting the vacuum envelope, and then a range of 300 ° C. or higher and lower than 400 ° C. A method for sealing a vacuum envelope for an image display device, wherein the organic sealing agent is baked and solidified by heating to a temperature of 2 to seal the envelope constituent member. 前記有機系封着材は、請求項10ないし13のいずれかに記載の画像表示装置用封着材であることを特徴とする請求項16に記載の画像表示装置の封着方法。   The method for sealing an image display device according to claim 16, wherein the organic sealant is the sealant for an image display device according to any one of claims 10 to 13.
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