JP2004317238A - Surface shape and/or film thickness measuring method and its apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明膜で覆われた測定対象面の凹凸形状および厚みを測定する表面形状および膜厚測定方法およびその装置に係り、特に、白色光を用いて非接触で測定対象表面形状および膜厚を測定する技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のこの種の装置として、半導体ウエハや液晶表示器用ガラス基板などの精密加工品の凹凸形状を白色光の干渉を用いて測定する方法を利用した表面形状測定装置が広く知られている。従来の表面形状測定装置は、図8に示すように、白色光源90からの白色光を第1レンズ91を通してハーフミラー92まで導き、ハーフミラー92で反射された白色光を第2レンズ93によって集束して、その白色光をビームスプリッタ95を介して測定対象面96上に照射するように構成された干渉計を備えている。
【0003】
干渉計のビームスプリッタ95では、測定対象面96に照射する白色光と、参照面94に照射する白色光とに分ける。参照面94に照射される白色光は、参照面94の反射部94aで反射して、ビームスプリッタ95に再び達する。一方、ビームスプリッタ95を通過した白色光は、測定対象面96上で反射してビームスプリッタ95に再び達する。ビームスプリッタ95は、参照面94で反射した白色光と、測定対象面96で反射した白色光とを再び同一の経路にまとめる。このとき、参照面94からビームスプリッタ95までの距離L1と、ビームスプリッタ95から測定対象面96までの距離L2との距離の差に応じた干渉現象が発生する。その干渉現象が発生した白色光は、ハーフミラー92を通過してCCDカメラ98に入射する。
【0004】
CCDカメラ98は、その干渉現象が発生した白色光とともに、測定対象面96を撮像する。ここで、図示しない変動手段によって、ビームスプリッタ95側のユニットを上下に変動させて、距離L1と距離L2との差を変化させることで、CCDカメラ98に入射する白色光の波長が強め合ったり、弱め合ったりする。例えば、CCDカメラ98で撮像される領域内の測定対象面96上の特定箇所に着目した場合に、距離L2<距離L1から距離L2>距離L1になるまで、ビームスプリッタ95の位置を変動させる。これにより、特定箇所における干渉した白色光(以下、単に「干渉光」と呼ぶ)の強度を測定すると、理論的には図3に示すような波形が得られる。この干渉光の強度値変化の波形が最大になる位置を求めることで、測定対象面の特定箇所の高さを求めることができる。同様にして、複数の特定箇所の高さを求めることで、測定対象面の凹凸形状を測定している。
【0005】
具体的には、所定間隔で干渉光の強度値を測定して取得した離散的な干渉光の強度値のデータ群から干渉光の強度値変化の波形が最大になる位置を求める必要がある。そこで、その波形が最大になる位置を求める方法として、離散的なデータ群の平均値を算出し、算出された平均値を各強度値から減算し、算出されたそれぞれの値を、さらに2乗することによって、プラス側の強度値を強調したデータ群に変換して、このデータ群を平滑化した波形(包絡線)を求める。この平滑化した波形の最大値になる位置を求めることにより、特定箇所の表面高さを求めている。(特許文献1参照)
【0006】
【特許文献1】
特開平11−23229
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、物体の表面が透明膜で覆われている場合に、物体の表面高さを精度よく求めることができないといった問題がある。
【0008】
つまり、物体の表面が透明膜で覆われている場合、白色光は、透明膜の表面と、透明膜を透過して透明膜の裏面と接合している測定対象物の表面とで反射する2つの反射光が発生する。この反射光が重畳した状態で取得した複数枚の画像における所定画素の強度値を輝度波形で表すと、表面が透明膜で覆われていない物体を測定したときのように、単純な単峰性ピークとならず、透明膜の表面と測定対象物の表面に対応した2個のピークが発生する。
【0009】
これら2個のピークは、透明膜の厚みよって、その現れ方が異なる。例えば、透明膜が薄い場合には、透明膜の表面と測定対象物の表面からの反射光の波形が略重畳した状態となり、それぞれのピークが波形上に重なった状態で現れる。このような場合には、従来の1個のピークの位置情報を求める方法では、2個のピークを分離することもできない。また、単純にローパスフィルタにより2個のピークを1個のピークとしてみなして平滑化処理をしてピーク位置情報を求めることとなる。したがって、測定対象物の正確な表面高さのピーク位置情報を得ることもできないし、透明膜の下にある測定対象物の表面高さのピーク位置情報をも得ることができないといった問題がある。
【0010】
また、透明膜が厚い場合には、図3に示すように、2個のピークのそれぞれが個別に現れるものの、2個のピークを分離することができない。また、単純なローパスフィルタによる処理では、図9に示すように、2個のピーク位置を単峰性のピークとしてとらえて処理するので、互いのピーク値情報が干渉しあって正確なピーク位置情報が得られないといった問題がある。
【0011】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、透明膜に覆われた測定対象物の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象物の表面高さ、および透明膜の膜厚を精度よく求めることのできる表面形状および/または膜厚測定方法及びその装置を提供することを主たる目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、白色光源からの白色光を透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに照射しながら、前記測定対象面と参照面との距離を変動させることにより、測定対象面と参照面から反射して同一光路を戻る反射光によって干渉縞の変化を生じさせ、このときの干渉光の強度値に基づいて測定対象物面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求める前記測定対象面の表面形状および/または膜厚測定方法において、
前記特定周波数帯域の白色光が照射された前記測定対象面と参照面との距離を変動させる第1の過程と、
前記測定対象面と参照面との距離を変動させる過程で、測定対象面の画像を所定間隔で連続して取得する第2の過程と、
前記所定間隔で連続して取得した複数枚の画像の各画素における干渉光の強度値群の変化を求める第3の過程と、
前記求めた干渉光の強度値群に含まれる複数個の干渉縞波形ピークを、干渉光の強度値群に基づいて分離する第4の過程と、
前記分離した各干渉縞波形ピークについて、前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求める第5の過程と、
前記求めた各ピーク位置情報に基づいて、測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および膜厚の少なくともいずれか一つを求める第6の過程と
を備えることを特徴とするものである。
【0013】
(作用・効果) 請求項1に記載の発明によれば、白色光源から発生した白色光を測定対象面と参照面とに照射する。透明膜の表面および表面側と接合している物体の表面である測定対象面と参照面とでそれぞれ反射した白色光の光路差に応じて干渉した干渉縞が発生する。ここで、測定対象面と参照面との距離を変動させることにより、それぞれの光路差を変化させて干渉縞を変化させながら所定間隔で連続して複数枚の測定対象面の画像を取得し、画像ごとの各画素における干渉光の強度値群の変化を求める。この強度値群に含まれる複数個(透明膜の表面と測定対象物の表面の2個)の干渉縞波形ピークを、それぞれ個別のピークを有する干渉光の強度値群に分離する。分離した干渉縞波形ピークを前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求め、そのピーク位置情報に基づいて測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚のそれぞれを求める。すなわち、これら求めた測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つから、測定対象面などの表面形状などを正確に求めることができる。
【0014】
また、請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記第4の過程における干渉光の強度値群の変化は、前記取得した複数枚の画像ごとの各画素における干渉光の強度値群の平均値を算出し、その平均値を各画像の所定画素の強度値から減算して算出した値であることを特徴とするものである。
【0015】
(作用・効果)請求項2に記載の発明によれば、複数枚の画像における特定画素ごとの強度値群から強度値の平均値を算出する。その平均値を各強度値から減算した値を求めることで、調整値群は中心線を基準として分布する波形を示す値群になる。この値群を使って、特性関数を推定する。この特性関数のピーク位置は、干渉光の強度値変化の波形が最大になる位置にほぼ一致するので、そのピーク位置に基づいて特定箇所の高さを求めることが可能になる。
【0016】
また、請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記第6の過程におけるピーク位置情報は、ローパスフィルタによって干渉縞波形を平滑化して求めることを特徴するものである。
【0017】
(作用・効果)請求項3に記載の発明によれば、ローパスフィルタによって、特定画素の強度値の実データを平滑化することができ、その平滑化した干渉縞波形から容易にピーク位置情報を得ることができる。つまり、請求項1に記載の方法を好適に実施することができる。
【0018】
また、請求項4に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の表面形状および/または膜厚測定方法において、前記第6の過程におけるピーク位置情報は、干渉光の強度値群から重心となる箇所を演算により求めることを特徴とするものである。
【0019】
(作用・効果)請求項4に記載の発明によれば、特定画素の干渉光に強度値群から重心となる箇所のピーク位置情報を演算により求められる。具体的には、強度値群から強度値の平均値を算出し、その平均値を各強度値から減算した値を、さらに2乗する。この求まる値を利用してピーク位置imaxを次式imax=Σi×d2/Σd2として求める。なお、iは、データ番号(撮像間隔に対応した番号)である。さらに、この求まるピーク位置imaxとデータの間隔(標本点間隔)の積かから測定対象面の表面高を求める。つまり、請求項1に記載の方法を好適に実施することができる。
【0020】
また、請求項5に記載の発明は、透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに照射する白色光を発生させる白色光源と、前記測定対象面と参照面との距離を変動させる変動手段と、前記白色光が照射された測定対象面と参照面との距離の変動に伴って測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって干渉縞の変化を生じさせるとともに前記測定対象面を撮像する撮像手段と、前記撮像された測定対象面上の複数の特定箇所における干渉光の強度値を取り込むサンプリング手段と、前記サンプリング手段によって取り込まれた特定箇所ごとの複数個の強度値である各干渉光強度値群を記憶する記憶手段と、前記記憶手段に記憶された各干渉光強度値群に基づいて特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求める演算手段とを備えた表面形状および/または膜厚測定装置において、
前記白色光源から発生した白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限する周波数帯域制限手段を備え、
前記サンプリング手段は、前記変動手段による前記測定対象面と参照面との距離の変動に伴って測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じた干渉縞の変化に応じた特定箇所の干渉光の強度値を、前記特定周波数帯域の帯域幅に応じたサンプリング間隔で順次取込み、
前記記憶手段は、前記サンプリング間隔で取り込まれた複数個の強度値である干渉光強度値群を記憶し、
前記演算手段は、測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および/または透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを以下の処理にしたがって求める
(1)前記記憶手段に記憶された各画素における干渉光から干渉光強度値群の変化を求め、
(2)前記求めた干渉光の強度値群に含まれる複数個の干渉縞波形ピークを、干渉光の強度値群に基づいて分離し、
(3)前記分離した各干渉縞波形ピークについて、前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求め
(4)前記求めた各ピーク位置情報に基づいて、特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求めることを特徴とするものである。
【0021】
(作用・効果)白色光源は、透明膜で覆われた測定対象面と参照面とに白色光を照射する。変動手段は、測定対象面と参照面との距離とを変動させる。撮像手段は、白色光が照射された測定対象面と参照面との相対的距離の変動に伴って発生する干渉縞の変化とともに前記測定対象面を撮像する。サンプリング手段は、撮像された測定対象面上の複数の特定箇所における干渉光の強度値を取り込む。記憶手段は、サンプリング手段によって取り込まれた特定箇所ごとの複数個の強度値である各干渉光強度値群を記憶する。演算手段は、記憶手段に記憶された各画素における干渉光強度値群から求まる干渉光の強度値変化を求め、求めた干渉光の強度値群に含まれる複数個の干渉縞波形ピークを、干渉光の強度値群に基づいて分離し、分離した各干渉縞波形ピークを、前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求め、求めた各ピーク位置情報に基づいて、特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求める。すなわち、請求項1に記載の方法を好適に実現することができる。
【0022】
また、請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記演算手段は、干渉光の強度値群の変化として、前記干渉光強度値群から強度値の平均値を算出し、その平均値を各画像の所定画素の強度値から減算して算出した値を求めることを特徴とするものである。
【0023】
(作用・効果)請求項6に記載の発明によれば、複数枚の画像における特定画素ごとの強度値群から強度値の平均値を算出する。その平均値を各強度値から減算した値を求めることで、この値群は中心線を基準として分布する波形を示す値群になる。この値群を使って、特性関数を推定する。この特性関数のピーク位置は、干渉光の強度値変化の波形が最大になる位置にほぼ一致するので、そのピーク位置に基づいて特定箇所の高さを求めることが可能になる。すなわち、請求項2に記載の方法を好適に実現することができる。
【0024】
また、請求項7に記載の発明は、請求項5または請求項6に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から前記撮像手段までの光路に取り付けられる、特定周波数帯域の白色光だけを通過させるバンドパスフィルタであることを特徴とするものである。
【0025】
(作用・効果)請求項7に記載の発明によれば、白色光源から撮像手段までの光路に取り付けられたバンドパスフィルタは、特定周波数帯域の白色光のみを通過させる。これにより、撮像手段では、特定周波数帯域の白色光による干渉縞および測定対象面が撮像される。したがって、装置構成を簡素化することができるとともに、任意の周波数帯域を通過させるバンドパスフィルタを利用することによって、特定周波数帯域を任意の周波数帯域にすることもできる。
【0026】
また、請求項8に記載の発明は、請求項5または請求項6に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から発せられた白色光の周波数帯域を特定周波数帯域にまで狭める、前記白色光源から前記撮像手段までの光学系であることを特徴とするものである。
【0027】
(作用・効果)請求項8に記載の発明によれば、白色光源から撮像手段までの光学系は、白色光源から発生した白色光が撮像手段に届くまでの間に、その白色光の周波数帯域を特定周波数帯域にまで狭める。これにより、撮像手段では、特定周波数帯域の白色光による干渉縞および測定対象面が撮像される。したがって、装置構成をより簡素化することができる。
【0028】
また、請求項9に記載の発明は、請求項5または請求項6に記載の表面形状および/または膜厚測定装置において、前記周波数帯域制限手段は、特定周波数帯域の白色光を感知する前記撮像手段の周波数感度であることを特徴とするものである。
【0029】
(作用・効果)請求項9に記載の発明によれば、撮像手段は、その周波数特性によって、特定周波数帯域の白色光による干渉縞および測定対象面を撮像する。したがって、装置構成をより簡素化することができる。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施例について具体的に説明をする。
図1は、本発明の実施例に係る表面形状測定装置の概略構成を示す図である。
【0031】
この表面形状測定装置は、半導体ウエハ、ガラス基板や金属基板などの測定対象物30の表面を覆った透明膜31および透明膜31の裏面側と接合している測定対象物30に形成された微細なパターンに、特定周波数帯域の白色光を照射する光学系ユニット1と、光学系ユニット1を制御する制御系ユニット2とを備えて構成されている。
【0032】
光学系ユニット1は、測定対象面30、31および参照面15に照射する白色光を発生させる白色光源10と、白色光源10から白色光を平行光にするコリメートレンズ11と、コリメートレンズ11からの白色光を測定対象物30の方向に反射する一方、測定対象物30の方向からの白色光を通過させるハーフミラー13と、ハーフミラー13で反射されてきた白色光を集光する対物レンズ14と、対物レンズ14を通過してきた白色光を、参照面15へ反射させる参照光と、測定対象面30、31へ通過させる測定光とに分けるとともに、参照面15で反射してきた参照光と測定対象面30、31で反射してきた測定光とを再びまとめて、干渉縞を発生させるビームスプリッタ17と、参照面15で参照光を反射させるために設けられたミラー16と、参照光と測定光とがまとめられた白色光を結像する結像レンズ18と、干渉縞とともに測定対象面30を撮像するCCDカメラ19とを備えて構成されている。
【0033】
白色光源10は、例えば白色光ランプなどであり、比較的広い周波数帯域の白色光を発生させる。この白色光源10から発生された白色光は、コリメートレンズ11によって平行光とされ、ハーフミラー13に到達する。
【0034】
ハーフミラー13は、コリメータレンズ13からの平行光となった白色光を測定対象物30の方向に向けて反射する一方、測定対象物30の方向から戻ってきた白色光を通過させるものである。このハーフミラー13で反射された特定周波数帯域の白色光は、対物レンズ14に入射する。
【0035】
対物レンズ14は、入射してきた白色光を焦点Pに向けて集光するレンズである。この対物レンズ14によって集光される白色光は、参照面15を通過し、ビームスプリッタ17に到達する。
【0036】
ビームスプリッタ17は、対物レンズ14で集光される白色光を、参照面15で反射させるために、ビームスプリッタ17の例えば上面で反射させる参照光と、測定対象面30、31で反射させるために、ビームスプリッタ17を通過させる測定光とに分けるとともに、それら参照光と測定光とを再びまとめることによって、干渉縞を発生させるものである。ビームスプリッタ17に達した白色光は、ビームスプリッタ17の上面で反射された参照光と、ビームスプリッタ17を通過する測定光とに分けられ、その参照光は参照面15に達し、その測定光は透明膜31で覆われた測定対象物30の透明31膜の表面、および透明膜の裏面と接合した測定対象物30の表面である測定対象面30Aに達する。
【0037】
参照面15には、参照光をビームスプリッタ17の方向に反射させるためのミラー16が取り付けられており、このミラー16によって反射された参照光は、ビームスプリッタ17に達し、さらに、この参照光はビームスプリッタ17によって反射される。
【0038】
ビームスプリッタ17を通過した測定光は、焦点PおよびP’に向けて集光され、測定対象面30A,31A上で反射する。この反射した2つの測定光は、ビームスプリッタ17に達して、そのビームスプリッタ17を通過する。
【0039】
ビームスプリッタ17は、参照光と測定光とを再びまとめる。このとき、参照面15とビームスプリッタ17との間の距離L1と、ビームスプリッタ17と測定対象面30A、31Aとの間の距離L2との、距離の違いによって光路差が生じる。この光路差に応じて、参照光と測定光とは干渉し合うことで、干渉縞が生じる。この干渉縞が生じた状態の白色光は、ハーフミラー13を通過し、結像レンズ18によって結像されて、CCDカメラ19に入射する。
【0040】
CCDカメラ19は、干渉縞が生じた状態の白色光とともに、測定光によって映し出される測定対象面30A,31Aの焦点P、P’付近の画像を撮像する。この撮像した画像データは、制御系ユニット2によって収集される。また、後述で明らかになるが、本願発明の変動手段に相当する制御系ユニット2の駆動部24によって、例えば光学系ユニット1が上下左右に変動される。特に、光学系ユニット1が上下方向に駆動されることによって、距離L1と距離L2との距離が変動される。これにより、距離L1と距離L2との距離の差に応じて、干渉縞が徐々に変化する。CCDカメラ19によって、後述する所定のサンプリング間隔ごとに、干渉縞の変化とともに測定対象面30A、31Aの画像が撮像され、その画像データが制御系ユニット2によって収集される。CCDカメラ19は、本発明における撮像手段に相当する。
【0041】
制御系ユニット2は、表面形状測定装置の全体を統括的に制御や、所定の演算処理を行うためのCPU20と、CPU20によって逐次収集された画像データやCPU20での演算結果などの各種のデータを記憶するメモリ21と、サンプリング間隔やその他の設定情報を入力するマウスやキーボードなどの入力部22と、測定対象面30Aの画像などを表示するモニタ23と、CPU20の指示に応じて光学系ユニット1を上下左右に駆動する例えば3軸駆動型のサーボモータなどの駆動機構で構成される駆動部24とを備えるコンピュータシステムで構成されている。なお、CPU20は、本発明におけるサンプリング手段および演算手段に、メモリ21は本発明における記憶手段に、駆動部25は本発明における変動手段にそれぞれ相当する。
【0042】
CPU20は、いわゆる中央処理装置であって、CCDカメラ19、メモリ21及び駆動部24を制御するとともに、CCDカメラ19で撮像した干渉縞を含む測定対象面31Aの画像データに基づいて、測定対象物30の特定箇所の透明膜31の表面高さ、測定対象物30の表面高さ、および透明膜31の膜厚Dとを求める演算処理を行う。この処理については後で詳細に説明する。さらに、CPU20には、モニタ23と、キーボードやマウスなどの入力部22とが接続されており、操作者は、モニタ23に表示される操作画面を観察しながら、入力部22から各種の設定情報の入力を行う。また、モニタ23には、測定対象面30Aの測定終了後に、測定対象面30A、31Aの表面高さ、透明膜31の膜厚D、および測定対象面の凹凸形状などを数値や画像として表示される。
【0043】
駆動部24は、光学系ユニット1内の参照面15とビームスプリッタ17との間の固定された距離L1と、ビームスプリッタ17と測定対象面31Aとの間の可変の距離L2との距離の差を変化させるために、光学系ユニット1を直交3軸方向に変動させる装置であり、CPU20からの指示によって光学系ユニット1をX,Y,Z軸方向に駆動する例えば3軸駆動型のサーボモータを備える駆動機構で構成されている。なお、駆動部24は、本発明における変動手段に相当し、本発明における相対的距離とは、参照面15から測定対象面31Aまでの距離すなわち距離L1および距離L2を示す。本実施例では、光学系ユニット1を動作させるが、例えば測定対象物30が載置される図示していないテーブルを直交3軸方向に変動させるようにしてもよい。
【0044】
以下、本実施例の表面形状測定装置全体で行なわれる処理を図2のフローチャートを参照しながら具体的に説明する。なお、本実施例では、測定対象面30AであるSi基板の表面に測定対象面31Aとして酸化膜(SiO2)を形成したものを用いたものとする。
【0045】
<ステップS1> 条件設定
光学系ユニットをz軸方向に移動させるための走査速度や走査レンジなどの種々の条件を設定する。本実施例の場合、例えば、走査速度を2.4μm/sec(図3〜図7の標本点間隔=0.08μm)、走査レンジを5μmに設定している。したがって、CCDでの取得する画像枚数は、5μm/0.08μm=63枚となっている。
【0046】
<ステップS2> 測定データ取得
光学系ユニット1は、白色光源10から発生される白色光を測定対象面30A、31Aおよび参照面15に照射する。
【0047】
また、CPU20は、予め所定の測定場所に移動された光学系ユニット1をz軸方向に移動を開始させるための変動開始の指示を駆動部24に与える。駆動部24は、図示しないステッピングモータなどの駆動系を駆動して、光学系ユニット1をz軸方向に予め決められた距離だけ移動させる。これにより、参照面15と測定対象面31Aとの距離が変動される。この過程が本発明における第1の過程に相当する。
【0048】
CPU20は、光学系ユニット1がサンプリング間隔だけ移動するたびに、CCD19で撮像される干渉縞を含む測定対象面31A、の画像データを収集して、メモリ21に順次記憶する。光学系ユニット1が予め決められた距離だけ移動することで、メモリ21には光学系ユニット1の移動距離およびサンプリング間隔によって決まる複数枚の画像データが記憶される。この過程が本発明における第2の過程に相当する。
【0049】
<ステップS3> 特定箇所の干渉光強度値群を取得
例えば、取得した画像データを2値化処理し操作者がモニタ23に表示される測定対象面30Aを観察しながら、その測定対象面30A、31Aの高さを測定したい複数の特定箇所を入力部22から入力する。CPU20は、入力された複数の特定箇所を把握して、測定対象面30Aを撮像した画像上の前記複数の特定箇所に相当する画素の濃度値すなわち特定箇所における干渉光の強度値を、複数枚の画像データからそれぞれ取込む。これにより、各特定箇所における複数個の強度値(干渉光強度値群)が得られる。
【0050】
<ステップS4> 強度値の平均値から特性値を求める
CPU20は、図3に示すように、離散的に取得した特定箇所における干渉光強度値群に基づいて、干渉光の強度値の平均値を求める。さらに、干渉光強度値群の各強度値から平均値を減算した各値(調整値群)を求める。つまり、図4に示すように、干渉縞波形は、測定された全強度値を通過するような、変化の緩やかな波形の内側で上下に激しく振動する波形で表される理論的な特性値(強度値)が求まる。
【0051】
調整値をさらに2乗し、図5に示すように、強度値をプラス側に強調した特性値を求める。なお、ステップS3およびステップS4は、本発明における第3の過程に相当する。
【0052】
<ステップS5> 干渉縞波形ピークの分離
CPU20は、ステップS3で求めた特性関数から明らかなように、測定対象物が透明膜31で覆われている場合、図4に示すように、2個のピークを含む干渉縞波形が現れる。これら2個のピークを分離する。具体的な方法は、例えば、観測値レベル数をL、観測値レベルiの頻度数をni(ただし、i=1,L)とすると、頻度値総和NをN=Σn(i)と、相対頻度p(i)をp(i)=n(i)/Nと、全体平均値μTをμT=Σ[i・p(i)]の式で表すことができる。これらの式に基づいて、評価関数f(k)を次式の表すことができる。
【0053】
f(k)=[μT・ω(k)−μ(k)]2/[ω(k)・{1−ω(k)}]
【0054】
ただし、ω(k)=ω(k−1)+p(k)=Σn(i)であってkまでの累積頻度である。また、μ(k)=ω(k−1)+k・p(k)=Σn(i)p・(i)であってkまでの平均値である。
【0055】
つまり、kの値を1からLまで順に変えてf(k)を計算し、f(k)が最大となるkの値を求める。この求まるkの値が閾値となる。この閾値に基づいて、ステップS3で導出した特性値を、図5に示すように、2個のピークのそれぞれを個別に有するように分離する。なお、ステップS5は、本発明における第4の過程に相当する。
【0056】
<ステップS6> 表面形状の測定
CPU20は、ステップS5で分離した特性値ごとにピーク位置情報を求める。つまり、特性値ごとにローパスフィルタでそれぞれの特性値を平滑化することにより、図6および図7に示すような包絡線が得られる。これら包絡線から特性値が最大になるピーク位置を求める。例えば、本実施例の場合、計算に21点の単純平滑化法であって次式のようになる。
y(n)=[x(n−10)+ x(n−9)+…x(n−1)+ x(n)+ x(n+1)… +x(n−10)]/21
【0057】
なお、本実施例では測定対象物30のピーク位置情報が図6に、透明膜31のピーク位置情報が図7に含まれている。ステップS6のここまでが、本発明における第5の過程に相当する。
【0058】
また、CPU20は、透明膜31の表面高さ、測定対象面30の表面高さ、および透明膜31の膜厚Dを算出する。本実施例の場合は、分離した干渉縞波形ピークについて、測定対象面30A,31Aと参照面との距離L1,L2に関連するので、次の通りとなる。
【0059】
透明膜31の表面高さのピーク位置は、取得画像の19枚目(図7参照)であり、測定対象物30の表面高さのピーク位置は、取得画像の42枚目(図6参照)である。また標本点間隔=0.08μであるから、透明膜の表面高さ=42×0.08=3.36μm、膜厚D=(42−19)×0.08/1.5(透明膜での屈折率)=1.23μm、測定対象面の表面高さ=透明膜の表面高さー膜厚D=2.13μmとなる。なお、ステップS6は、本発明における第6の過程に相当する。
【0060】
<ステップS7> 全特定箇所が終了?
CPU20は、全ての特定箇所が終了するまで、ステップS3〜S6の処理を繰り返し行い、全ての特定箇所の高さを求める。
【0061】
<ステップS8> 表示
CPU20は、モニタ23に透明膜の特定箇所の透明膜31の表面高さや測定対象物30の表面高さ、膜厚Dの情報を表示したり、それら各特定箇所の高さの情報に基づいた3次元または2次元の画像を表示したりする。操作者は、これらの表示を観察することで、測定対象物30の測定対象面30Aや透明膜31の表面31Aの凹凸形状を把握することができる。
【0062】
上述した実施例によれば、取得した強度値から直接的に特性値を求め、この特性値に含まれる透明膜31と測定対象物30の2個のピーク位置を、特性値(強度値群)から求めた閾値に基づいて分離する。この分離した2組の強度値群についてローパスフィルタによる平滑化処理を行って求める包絡線からそれぞれのピーク位置情報を求め、この求まるピーク位置情報に基づいて、測定対象面30の特定箇所の透明膜31の表面高さ、測定対象面30の表面高さ、および透明膜31の膜厚Dを求めることができる。また透明膜31の表面高さにより透明膜31の凹凸形状を、測定対象面30Aの表面高さから測定対象物30の凹凸形状をも測定することができる。また、特定箇所の高さを求めるのに必要なデータ量を少なくできるので、そのデータを記憶する記憶容量を小さくすることができ、表面形状測定装置を安価に製造することも可能になる。
【0063】
本発明は上述した実施例のものに限らず、次のように変形実施することもできる。
(1)上記各実施例では、測定対象面31の画像データを撮像した後で、特定箇所の干渉光の強度値を取得するように構成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、撮像した画像上の特定箇所に相当する画素における強度値をリアルタイムに取得して、それら干渉光の強度値を順次メモリ21に記憶するように構成することもできる。
【0064】
(2)上記実施例では、白色光源からの白色光が撮像手段であるCCDカメラ19までの光学系(光源,レンズ,各ミラーを含む)によって、白色光源からの白色光の周波数帯域が帯域制限されることを利用して、その周波数帯域を予め把握しておき、その帯域制限された周波数帯域を本発明における特定周波数帯域とすることもできる。
【0065】
(3)上記実施例では、撮像手段であるCCDカメラ19の周波数特性によって制限される周波数帯域を特定周波数帯域として、その特定周波数帯域を予め把握しておき、その帯域制限された周波数帯域を本発明における特定周波数帯域とすることもできる。
【0066】
(4)上記実施例では、撮像手段としてCCDカメラ19を用いたが、例えば、特定箇所の干渉光の強度値のみを撮像(検出)することに鑑みれば、一列または平面状に構成された受光素子など撮像手段を構成することもできる。
【0067】
(5)上記実施例では、特性関数を分離した後に、それぞれの特性関数についてローパスフィルタによって平滑化してそれぞれのピーク位置情報を得ていたが、他の方法として特性値に分離した後に、重心法を用いてピーク位置情報を得ても同様の効果が得られる。具体的には、強度値群から強度値の平均値を算出し、その平均値を各強度値から減算した値を、さらに2乗する。この求まる値を利用してピーク位置imaxを次式imax=Σi×d2/Σd2として求める。なお、iは、データ番号(撮像間隔に対応した番号)である。さらに、この求まるピーク位置imaxとデータの間隔(標本点間隔)の積かから測定対象面の表面高を求める。つまり、請求項1に記載の方法を好適に実施することができる。
【0068】
(6)上記実施例では、白色光源10から白色光をコリメートレンズ11で平行光にした後に、ハーフミラー13に向けて照射していたが、コリメートレンズ11とハーフミラー13との間に、特定周波数帯域の白色光を通過させるバンドパスフィルタを設けてもよい。
【0069】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれは、白色光を透明膜で覆われた測定対象面と参照面との距離を変動させながら照射し、取得した特定箇所における干渉光の強度値群を取得する。この強度値群から干渉光の強度値の変化を求める。この求まる強度値群から複数個の干渉縞波形ピークを分離し、各干渉縞波形ピークを測定対象面と参照面との距離に関連に基づいてピーク位置情報を求める。したがって、複数個のピーク位置情報を正確に得ることができ、このピーク位置情報に基づいて、透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さを正確に求めることができるとともに、これら両表面高さから透明膜の膜厚も正確に求めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例に係る表面形状測定装置の概略構成を示す図である。
【図2】表面形状測定装置における処理を示すフローチャートである。
【図3】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図4】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図5】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図6】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図7】特定関数のピーク位置を求める処理を説明するための説明図である。
【図8】従来例に係る表面形状測定装置の概略構成を示す図である。
【図9】従来例の干渉光の強度値のピーク位置を求めるまでの模式図である。
【符号の説明】
1 … 光学系ユニット
2 … 制御系ユニット
10 … 白色光源
11 … コリメートレンズ
13 … ハーフミラー
14 … 対物レンズ
15 … 参照面
16 … ミラー
17 … ビームスプリッタ
18 … 結像レンズ
19 … CCDカメラ
20 … CPU
21 … メモリ
22 … 入力部
23 … モニタ
24 … 駆動部
30 … 測定対象物
30A… 測定対象面(測定対象物)
31 … 透明膜
31A… 測定対象面(透明膜)
D … 膜厚(透明膜)[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a surface shape and film thickness measuring method and apparatus for measuring the uneven shape and thickness of a surface to be measured covered with a transparent film, and more particularly to a surface shape and film to be measured in a non-contact manner using white light. The present invention relates to a technique for measuring thickness.
[0002]
[Prior art]
As a conventional device of this type, a surface shape measuring device using a method for measuring the uneven shape of a precision processed product such as a semiconductor wafer or a glass substrate for a liquid crystal display using interference of white light is widely known. As shown in FIG. 8, the conventional surface shape measuring apparatus guides white light from the
[0003]
In the
[0004]
The
[0005]
Specifically, it is necessary to obtain a position where the waveform of the intensity value change of the interference light is maximized from the data group of discrete interference light intensity values obtained by measuring the intensity value of the interference light at predetermined intervals. Therefore, as a method for obtaining the position where the waveform is maximized, an average value of a discrete data group is calculated, the calculated average value is subtracted from each intensity value, and each calculated value is further squared. By doing so, it converts into the data group which emphasized the intensity | strength value of the plus side, and calculates | requires the waveform (envelope) which smoothed this data group. By obtaining the position where the smoothed waveform becomes the maximum value, the surface height of the specific portion is obtained. (See Patent Document 1)
[0006]
[Patent Document 1]
JP-A-11-23229
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of the conventional example having such a configuration, there is a problem that when the surface of the object is covered with a transparent film, the surface height of the object cannot be obtained with high accuracy.
[0008]
That is, when the surface of the object is covered with the transparent film, the white light is reflected by the surface of the transparent film and the surface of the measurement object that is transmitted through the transparent film and joined to the back surface of the transparent film. Two reflected lights are generated. When the intensity value of a given pixel in multiple images acquired with this reflected light superimposed is represented by a luminance waveform, it is as simple as when measuring an object whose surface is not covered with a transparent film. Two peaks corresponding to the surface of the transparent film and the surface of the object to be measured are generated.
[0009]
These two peaks appear differently depending on the thickness of the transparent film. For example, when the transparent film is thin, the waveform of the reflected light from the surface of the transparent film and the surface of the measurement object is substantially superimposed, and each peak appears on the waveform. In such a case, it is impossible to separate the two peaks by the conventional method of obtaining the position information of one peak. Further, the peak position information is obtained by performing smoothing processing by simply considering two peaks as one peak by a low-pass filter. Accordingly, there is a problem in that it is impossible to obtain accurate peak position information of the surface height of the measurement object, and it is also impossible to obtain peak position information of the surface height of the measurement object under the transparent film.
[0010]
In addition, when the transparent film is thick, as shown in FIG. 3, although each of the two peaks appears individually, the two peaks cannot be separated. Further, in the processing by a simple low-pass filter, as shown in FIG. 9, since the two peak positions are processed as unimodal peaks, the peak value information interferes with each other and accurate peak position information is obtained. There is a problem that cannot be obtained.
[0011]
The present invention has been made in view of such circumstances, and the surface height of the transparent film at the specific location of the measurement object covered by the transparent film, the surface height of the measurement object, and the transparent film The main object is to provide a surface shape and / or film thickness measuring method and apparatus capable of accurately determining the film thickness.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, the invention according to
A first step of changing a distance between the measurement target surface irradiated with white light of the specific frequency band and a reference surface;
A second step of continuously acquiring images of the measurement target surface at predetermined intervals in the process of changing the distance between the measurement target surface and the reference surface;
A third step of obtaining a change in the intensity value group of the interference light in each pixel of the plurality of images continuously acquired at the predetermined interval;
A fourth step of separating a plurality of interference fringe waveform peaks included in the obtained interference light intensity value group based on the interference light intensity value group;
For each separated interference fringe waveform peak, a fifth step of obtaining peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface;
A sixth step of obtaining at least one of the surface height of the transparent film, the surface height of the measurement target surface, and the film thickness of the specific portion of the measurement target surface based on the obtained peak position information;
It is characterized by providing.
[0013]
(Operation / Effect) According to the first aspect of the present invention, the white light generated from the white light source is applied to the measurement target surface and the reference surface. Interference fringes that interfere with each other according to the optical path difference of the white light reflected by the surface to be measured and the reference surface, which are the surfaces of the object bonded to the surface of the transparent film and the surface side, are generated. Here, by varying the distance between the measurement target surface and the reference surface, the respective optical path differences are changed to obtain the images of the plurality of measurement target surfaces continuously at predetermined intervals while changing the interference fringes, A change in the intensity value group of the interference light in each pixel for each image is obtained. A plurality of interference fringe waveform peaks included in the intensity value group (two on the surface of the transparent film and the surface of the measurement object) are separated into interference light intensity value groups each having an individual peak. The peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface is obtained from the separated interference fringe waveform peak, and based on the peak position information, the surface height of the transparent film at a specific location on the measurement target surface, the measurement target surface Each of the surface height and the film thickness of the transparent film is obtained. That is, the surface shape of the measurement target surface and the like can be accurately obtained from at least one of the obtained surface height of the measurement target surface and the film thickness of the transparent film.
[0014]
Further, the invention according to claim 2 is the surface shape and / or film thickness measurement method according to
[0015]
(Operation / Effect) According to the invention described in claim 2, the average value of intensity values is calculated from the intensity value group for each specific pixel in a plurality of images. By obtaining a value obtained by subtracting the average value from each intensity value, the adjustment value group becomes a value group indicating a waveform distributed with the center line as a reference. Using this value group, the characteristic function is estimated. Since the peak position of this characteristic function substantially coincides with the position where the waveform of the intensity value change of the interference light is maximized, the height of the specific portion can be obtained based on the peak position.
[0016]
Further, the invention according to
[0017]
According to the third aspect of the present invention, the actual data of the intensity value of the specific pixel can be smoothed by the low-pass filter, and the peak position information can be easily obtained from the smoothed interference fringe waveform. Can be obtained. That is, the method according to
[0018]
According to a fourth aspect of the present invention, in the surface shape and / or film thickness measuring method according to the first or second aspect, the peak position information in the sixth step is derived from a group of intensity values of interference light. It is characterized in that the center of gravity is obtained by calculation.
[0019]
(Operation / Effect) According to the invention described in claim 4, the peak position information of the location which becomes the center of gravity from the intensity value group can be obtained by calculation in the interference light of the specific pixel. Specifically, an average value of intensity values is calculated from the intensity value group, and a value obtained by subtracting the average value from each intensity value is further squared. Using this value, the peak position imax is expressed by the following equation: imax = Σi × d 2 / Σd 2 Asking. Note that i is a data number (a number corresponding to the imaging interval). Further, the surface height of the measurement target surface is obtained from the product of the obtained peak position imax and the data interval (sample point interval). That is, the method according to
[0020]
The invention according to
A frequency band limiting means for limiting a frequency band of white light generated from the white light source to a specific frequency band;
The sampling unit responds to a change in interference fringes caused by reflected light that is reflected from the measurement target surface and the reference surface and returns on the same optical path as the distance between the measurement target surface and the reference surface is changed by the changing unit. Sequentially fetching the intensity value of the interference light at a specific location at a sampling interval according to the bandwidth of the specific frequency band,
The storage means stores an interference light intensity value group that is a plurality of intensity values captured at the sampling interval,
The calculation means obtains at least one of the surface height of the transparent film at a specific location on the measurement target surface, the surface height of the measurement target surface, and / or the film thickness of the transparent film according to the following process.
(1) Obtain a change in the interference light intensity value group from the interference light in each pixel stored in the storage means,
(2) separating a plurality of interference fringe waveform peaks included in the obtained interference light intensity value group based on the interference light intensity value group;
(3) For each of the separated interference fringe waveform peaks, peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface is obtained.
(4) Based on the obtained peak position information, at least one of the surface height of the transparent film at the specific location, the surface height of the measurement target surface, and the film thickness of the transparent film is obtained. To do.
[0021]
(Operation / Effect) The white light source irradiates the measurement target surface and the reference surface covered with the transparent film with white light. The changing means changes the distance between the measurement target surface and the reference surface. The imaging means images the measurement target surface together with a change in interference fringes that occurs with a change in the relative distance between the measurement target surface irradiated with white light and the reference surface. The sampling means captures the intensity values of the interference light at a plurality of specific locations on the measured measurement target surface. The storage means stores each interference light intensity value group, which is a plurality of intensity values for each specific location captured by the sampling means. The calculation means obtains a change in the intensity value of the interference light obtained from the interference light intensity value group in each pixel stored in the storage means, and obtains a plurality of interference fringe waveform peaks included in the obtained intensity value group of the interference light as interference. Based on the intensity value group of light, each interference fringe waveform peak is obtained, peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface is obtained, and the identification is performed based on the obtained peak position information. At least one of the surface height of the transparent film, the surface height of the measurement target surface, and the film thickness of the transparent film is obtained. That is, the method according to
[0022]
Further, the invention according to
[0023]
(Operation / Effect) According to the invention described in
[0024]
The invention according to claim 7 is the surface shape and / or film thickness measuring device according to
[0025]
(Operation / Effect) According to the invention described in claim 7, the band-pass filter attached to the optical path from the white light source to the imaging means passes only white light in a specific frequency band. Thereby, in the imaging means, the interference fringes and the measurement target surface by the white light in the specific frequency band are imaged. Therefore, the device configuration can be simplified, and the specific frequency band can be changed to an arbitrary frequency band by using a bandpass filter that passes an arbitrary frequency band.
[0026]
Further, in the surface shape and / or film thickness measuring device according to
[0027]
(Operation / Effect) According to the invention described in
[0028]
The invention according to claim 9 is the surface shape and / or film thickness measuring device according to
[0029]
(Operation / Effect) According to the invention described in claim 9, the imaging means images the interference fringes and the measurement target surface by the white light in the specific frequency band based on the frequency characteristics. Therefore, the apparatus configuration can be further simplified.
[0030]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a surface shape measuring apparatus according to an embodiment of the present invention.
[0031]
This surface shape measuring apparatus includes a
[0032]
The
[0033]
The
[0034]
The
[0035]
The
[0036]
The
[0037]
A
[0038]
The measurement light that has passed through the
[0039]
The
[0040]
The
[0041]
The control system unit 2 performs overall control of the entire surface shape measuring apparatus and
[0042]
The
[0043]
The
[0044]
Hereinafter, processing performed by the entire surface shape measuring apparatus according to the present embodiment will be described in detail with reference to the flowchart of FIG. In this embodiment, it is assumed that an oxide film (SiO 2) is used as the
[0045]
<Step S1> Condition setting
Various conditions such as a scanning speed and a scanning range for moving the optical system unit in the z-axis direction are set. In the case of this embodiment, for example, the scanning speed is set to 2.4 μm / sec (sample point interval in FIGS. 3 to 7 = 0.08 μm), and the scanning range is set to 5 μm. Therefore, the number of images acquired by the CCD is 5 μm / 0.08 μm = 63.
[0046]
<Step S2> Acquisition of measurement data
The
[0047]
Further, the
[0048]
The
[0049]
<Step S3> Acquire a group of interference light intensity values at a specific location
For example, the obtained image data is binarized, and the operator observes the
[0050]
<Step S4> A characteristic value is obtained from an average value of intensity values.
As shown in FIG. 3, the
[0051]
The adjustment value is further squared to obtain a characteristic value with the intensity value emphasized on the plus side, as shown in FIG. Steps S3 and S4 correspond to the third process in the present invention.
[0052]
<Step S5> Separation of interference fringe waveform peak
As is apparent from the characteristic function obtained in step S3, when the measurement object is covered with the
[0053]
f (k) = [μT · ω (k) −μ (k)] 2 / [Ω (k) · {1-ω (k)}]
[0054]
However, ω (k) = ω (k−1) + p (k) = Σn (i) and the cumulative frequency up to k. Further, μ (k) = ω (k−1) + k · p (k) = Σn (i) p · (i), which is an average value up to k.
[0055]
That is, f (k) is calculated by sequentially changing the value of k from 1 to L, and the value of k that maximizes f (k) is obtained. The value of k obtained is a threshold value. Based on this threshold value, the characteristic value derived in step S3 is separated so as to have two peaks individually as shown in FIG. Step S5 corresponds to the fourth process in the present invention.
[0056]
<Step S6> Measurement of surface shape
CPU20 calculates | requires peak position information for every characteristic value isolate | separated by step S5. That is, an envelope as shown in FIGS. 6 and 7 can be obtained by smoothing each characteristic value with a low-pass filter for each characteristic value. The peak position where the characteristic value is maximized is obtained from these envelopes. For example, in the case of the present embodiment, the calculation is a 21-point simple smoothing method as shown in the following equation.
y (n) = [x (n-10) + x (n-9) + ... x (n-1) + x (n) + x (n + 1) ... + x (n-10)] / 21
[0057]
In the present embodiment, the peak position information of the
[0058]
Further, the
[0059]
The peak position of the surface height of the
[0060]
<Step S7> Are all specific locations finished?
CPU20 repeats the process of step S3-S6 until all the specific places are complete | finished, and calculates | requires the height of all the specific places.
[0061]
<Step S8> Display
The
[0062]
According to the above-described embodiment, the characteristic value is directly obtained from the acquired intensity value, and the two peak positions of the
[0063]
The present invention is not limited to the embodiment described above, and can be modified as follows.
(1) In each of the above embodiments, the configuration is such that the intensity value of the interference light at the specific location is acquired after the image data of the
[0064]
(2) In the above-described embodiment, the frequency band of white light from the white light source is band-limited by the optical system (including the light source, lens, and each mirror) from the white light source to the
[0065]
(3) In the above embodiment, the frequency band limited by the frequency characteristic of the
[0066]
(4) In the above embodiment, the
[0067]
(5) In the above embodiment, after separating the characteristic functions, each characteristic function is smoothed by a low-pass filter to obtain the respective peak position information. The same effect can be obtained even if peak position information is obtained using. Specifically, an average value of intensity values is calculated from the intensity value group, and a value obtained by subtracting the average value from each intensity value is further squared. Using this value, the peak position imax is expressed by the following equation: imax = Σi × d 2 / Σd 2 Asking. Note that i is a data number (a number corresponding to the imaging interval). Further, the surface height of the measurement target surface is obtained from the product of the obtained peak position imax and the data interval (sample point interval). That is, the method according to
[0068]
(6) In the above embodiment, the white light from the
[0069]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, according to the present invention, white light is irradiated while changing the distance between the measurement target surface covered with the transparent film and the reference surface, and the intensity value of the interference light at the specific location acquired is obtained. Get a group. A change in the intensity value of the interference light is obtained from the intensity value group. A plurality of interference fringe waveform peaks are separated from the obtained intensity value group, and peak position information is obtained for each interference fringe waveform peak based on the distance between the measurement target surface and the reference surface. Therefore, it is possible to accurately obtain a plurality of peak position information, and based on this peak position information, the surface height of the transparent film and the surface height of the measurement target surface can be accurately determined, and both these surfaces The film thickness of the transparent film can also be accurately determined from the height.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a surface shape measuring apparatus according to an embodiment.
FIG. 2 is a flowchart showing processing in the surface shape measuring apparatus.
FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining processing for obtaining a peak position of a specific function;
FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining processing for obtaining a peak position of a specific function;
FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining processing for obtaining a peak position of a specific function;
FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining processing for obtaining a peak position of a specific function.
FIG. 7 is an explanatory diagram for explaining processing for obtaining a peak position of a specific function.
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of a conventional surface shape measuring apparatus.
FIG. 9 is a schematic diagram until the peak position of the intensity value of the interference light in the conventional example is obtained.
[Explanation of symbols]
1 ... Optical system unit
2… Control system unit
10 ... White light source
11 ... Collimating lens
13… Half mirror
14 ... Objective lens
15 ... Reference plane
16 ... Mirror
17 ... Beam splitter
18… Imaging lens
19 ... CCD camera
20 ... CPU
21 ... Memory
22 ... Input section
23… Monitor
24 ... Drive unit
30 ... Measurement object
30A ... Measurement target surface (measurement object)
31 ... Transparent film
31A ... Surface to be measured (transparent film)
D ... Film thickness (transparent film)
Claims (9)
前記特定周波数帯域の白色光が照射された前記測定対象面と参照面との距離を変動させる第1の過程と、
前記測定対象面と参照面との距離を変動させる過程で、測定対象面の画像を所定間隔で連続して取得する第2の過程と、
前記所定間隔で連続して取得した複数枚の画像の各画素における干渉光の強度値群の変化を求める第3の過程と、
前記求めた干渉光の強度値群に含まれる複数個の干渉縞波形ピークを、干渉光の強度値群に基づいて分離する第4の過程と、
前記分離した各干渉縞波形ピークについて、前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求める第5の過程と、
前記求めた各ピーク位置情報に基づいて、測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および膜厚の少なくともいずれか一つを求める第6の過程と
を備えることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。While irradiating the measurement target surface and the reference surface covered with a transparent film with white light from a white light source, the distance between the measurement target surface and the reference surface is varied to reflect from the measurement target surface and the reference surface. The interference fringes change due to the reflected light returning on the same optical path, and based on the intensity value of the interference light at this time, the surface height of the transparent film at the specific location of the measurement object surface, the surface height of the measurement object surface, In the method for measuring the surface shape and / or film thickness of the measurement target surface for determining at least one of the film thickness of the transparent film,
A first step of changing a distance between the measurement target surface irradiated with white light of the specific frequency band and a reference surface;
A second step of continuously acquiring images of the measurement target surface at predetermined intervals in the process of changing the distance between the measurement target surface and the reference surface;
A third step of obtaining a change in the intensity value group of the interference light in each pixel of the plurality of images continuously acquired at the predetermined interval;
A fourth step of separating a plurality of interference fringe waveform peaks included in the obtained interference light intensity value group based on the interference light intensity value group;
For each separated interference fringe waveform peak, a fifth step of obtaining peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface;
A sixth step of obtaining at least one of the surface height of the transparent film, the surface height of the measurement target surface, and the film thickness of the specific portion of the measurement target surface based on the obtained peak position information; A surface shape and / or film thickness measuring method comprising:
前記第3の過程における干渉光の強度値群の変化は、前記取得した複数枚の画像ごとの各画素における干渉光の強度値群の平均値を算出し、その平均値を各画像の所定画素の強度値から減算して算出した値であることを特徴する表面形状および/または膜厚測定方法。In the surface shape and / or film thickness measuring method according to claim 1,
The change in the intensity value group of the interference light in the third process is performed by calculating an average value of the intensity value group of the interference light in each pixel for each of the acquired plurality of images, and calculating the average value as a predetermined pixel of each image. A surface shape and / or film thickness measuring method characterized by being a value calculated by subtracting from the intensity value of the surface.
前記第5の過程におけるピーク位置情報は、ローパスフィルタによって干渉縞波形を平滑化して求めることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。In the surface shape and / or film thickness measuring method according to claim 1 or 2,
The surface shape and / or film thickness measurement method according to claim 5, wherein the peak position information in the fifth step is obtained by smoothing an interference fringe waveform with a low-pass filter.
前記第5の過程におけるピーク位置情報は、干渉光の強度値群から重心となる箇所を演算により求めることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定方法。In the surface shape and / or film thickness measuring method according to claim 1 or 2,
The surface shape and / or film thickness measurement method according to claim 5, wherein the peak position information in the fifth step is obtained by calculating a location that is a center of gravity from a group of intensity values of interference light.
前記白色光源から発生した白色光の周波数帯域を特定周波数帯域に制限する周波数帯域制限手段を備え、
前記サンプリング手段は、前記変動手段による前記測定対象面と参照面との距離の変動に伴って測定対象面と参照面とから反射して同一光路を戻る反射光によって生じた干渉縞の変化に応じた特定箇所の干渉光の強度値を、前記特定周波数帯域の帯域幅に応じたサンプリング間隔で順次取込み、
前記記憶手段は、前記サンプリング間隔で取り込まれた複数個の強度値である干渉光強度値群を記憶し、
前記演算手段は、測定対象面の特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および/または透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを以下の処理にしたがって求める
(1)前記記憶手段に記憶された各画素における干渉光から干渉光強度値群の変化を求め、
(2)前記求めた干渉光の強度値群に含まれる複数個の干渉縞波形ピークを、干渉光の強度値群に基づいて分離し、
(3)前記分離した各干渉縞波形ピークについて、前記測定対象面と参照面との距離に関連するピーク位置情報を求め
(4)前記求めた各ピーク位置情報に基づいて、特定箇所の透明膜の表面高さ、測定対象面の表面高さ、および透明膜の膜厚の少なくともいずれか一つを求めることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。A white light source that generates white light to be irradiated on the measurement target surface and the reference surface covered with a transparent film, a fluctuating unit that varies a distance between the measurement target surface and the reference surface, and a measurement in which the white light is irradiated An imaging means for causing an interference fringe change by reflected light reflected from the measurement target surface and the reference surface and returning from the same optical path as the distance between the target surface and the reference surface varies, and for imaging the measurement target surface; Sampling means for capturing the intensity values of interference light at a plurality of specific locations on the imaged measurement target surface, and each interference light intensity value group that is a plurality of intensity values for each specific location captured by the sampling means. Storage means for storing, and at least one of the surface height of the transparent film at the specific location, the surface height of the measurement target surface, and the film thickness of the transparent film based on each interference light intensity value group stored in the storage means one In the surface shape and / or thickness measuring device and a calculation means for calculating a
A frequency band limiting means for limiting a frequency band of white light generated from the white light source to a specific frequency band;
The sampling unit responds to a change in interference fringes caused by reflected light that is reflected from the measurement target surface and the reference surface and returns on the same optical path as the distance between the measurement target surface and the reference surface is changed by the changing unit. Sequentially fetching the intensity value of the interference light at a specific location at a sampling interval according to the bandwidth of the specific frequency band,
The storage means stores an interference light intensity value group that is a plurality of intensity values captured at the sampling interval,
The calculation means obtains at least one of the surface height of the transparent film at the specific location on the surface to be measured, the surface height of the surface to be measured, and / or the film thickness of the transparent film according to the following process (1). ) Obtain a change in the interference light intensity value group from the interference light in each pixel stored in the storage means,
(2) separating a plurality of interference fringe waveform peaks included in the obtained interference light intensity value group based on the interference light intensity value group;
(3) For each of the separated interference fringe waveform peaks, peak position information related to the distance between the measurement target surface and the reference surface is obtained. (4) Based on the obtained peak position information, a transparent film at a specific location. A surface shape and / or film thickness measuring device for obtaining at least one of a surface height of a film, a surface height of a surface to be measured, and a film thickness of a transparent film.
前記演算手段は、干渉光の強度値群の変化として、前記干渉光強度値群から強度値の平均値を算出し、その平均値を各画像の所定画素の強度値から減算して算出した値を求めることを特徴する表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 5,
The calculation means calculates an average value of intensity values from the interference light intensity value group as a change in the intensity value group of interference light, and subtracts the average value from the intensity value of a predetermined pixel of each image. A surface shape and / or film thickness measuring apparatus characterized by
前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から前記撮像手段までの光路に取り付けられる、特定周波数帯域の白色光だけを通過させるバンドパスフィルタであることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 5 or 6,
The surface shape and / or film thickness measuring device, wherein the frequency band limiting means is a bandpass filter that is attached to an optical path from the white light source to the imaging means and passes only white light in a specific frequency band .
前記周波数帯域制限手段は、前記白色光源から発せられた白色光の周波数帯域を特定周波数帯域にまで狭める、前記白色光源から前記撮像手段までの光学系であることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 5 or 6,
The frequency band limiting means is an optical system from the white light source to the imaging means that narrows the frequency band of white light emitted from the white light source to a specific frequency band, and / or Film thickness measuring device.
前記周波数帯域制限手段は、特定周波数帯域の白色光を感知する前記撮像手段の周波数感度であることを特徴とする表面形状および/または膜厚測定装置。In the surface shape and / or film thickness measuring device according to claim 5 or 6,
The surface shape and / or film thickness measuring apparatus, wherein the frequency band limiting means is frequency sensitivity of the imaging means for sensing white light in a specific frequency band.
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