【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体、各種メモリーハードディスク用基板等の研磨に使用される研磨用組成物に関し、特に半導体のデバイスウエハーの表面平坦化加工に好適に用いられる研磨用組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
エレクトロニクス業界の最近の著しい発展により、トランジスター、ＩＣ、ＬＳＩ、超ＬＳＩと進化してきており、これら半導体素子に於ける回路の集積度が急激に増大するに伴って半導体デバイスのデザインルールは年々微細化が進み、デバイス製造プロセスでの焦点深度は浅くなり、パターン形成面の平坦性はますます厳しくなってきている。
【０００３】
一方で配線の微細化による配線抵抗の増大をカバーするために、配線材料としてアルミニウムやタングステンからより電気抵抗の小さな銅配線が検討されてきている。しかしながら銅を配線層や配線間の相互接続に用いる場合には、絶縁膜上に配線溝や孔を形成した後、スパッタリングやメッキによって銅膜を形成して不要な部分を化学的機械的研磨法（ＣＭＰ）によって絶縁膜上の不要な銅が取り除かれる。
【０００４】
かかるプロセスでは銅が絶縁膜中に拡散してデバイス特性を低下させるので、通常は銅の拡散防止のために絶縁膜上にバリア層としてタンタルやタンタルナイトライドの層を設けることが一般的になっている。
【０００５】
このようにして最上層に銅膜を形成させたデバイスの平坦化ＣＭＰプロセスにおいては、初めに不要な部分の銅膜を絶縁層上に形成されたタンタル化合物の表面層まで研磨し、次のステップでは絶縁膜上のタンタル化合物の層を研磨しＳｉＯ２面が出たところで研磨が終了していなければならない。このようなプロセスを図１に示したが、かかるプロセスにおけるＣＭＰ研磨では銅、タンタル化合物、ＳｉＯ２などの異種材料に対して研磨レートに選択性があることが必要である。
【０００６】
即ちステップ１では銅に対する研磨レートが高く、タンタル化合物に対してはほとんど研磨能力がない程度の選択性が必要である。さらにステップ２ではタンタル化合物、銅、ＳｉＯ２に対する研磨レートが同程度のものが好ましい。
【０００７】
このプロセスを理想的には一つの研磨材で研磨できることが望まれるが、異種材料に対する研磨レートの選択比をプロセスの途中で変化させることはできないのでプロセスを２ステップに分けて異なる選択性を有する２つのスラリーでそれぞれのＣＭＰ工程を実施する。通常溝や孔の銅膜の削りすぎ（ディッシング、リセス、エロージョン）を防ぐためにステップ１ではタンタル化合物上の銅膜は少し残した状態で研磨を終了させる。ついでステップ２では銅、タンタル化合物、ＳｉＯ２を研磨除去する。
【０００８】
ステップ２に用いられる研磨用組成物に対しては、ステップ１で研磨された状態から銅、タンタル化合物、ＳｉＯ２を研磨するために必要な研磨レートは５００（Å／ｍｉｎ．）程度が望ましいとされている。
【０００９】
このようなステップ２研磨用の研磨用組成物としては、コロイダルシリカ、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、シュウ酸、エチレンジアミンと水とを含有しなどでｐＨ３〜６に調整した研磨用組成物が特許文献１に示されている。しかしこの研磨用組成物は、ＳｉＯ２に対しての研磨レートが小さくなっており、ステップ１においてアンダーポリッシュの状態にしておいた後のステップ２ではＣｕ／Ｔａ／ＳｉＯ２どれも同じ研磨レートが好ましいとされているので、ステップ２に用いるスラリーとしては不向きである。
【特許文献１】
特開平２００１−８９７４７号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、銅膜、タンタル化合物のバリア層、ＳｉＯ２の絶縁層を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅膜、タンタル化合物のバリア層、ＳｉＯ２の絶縁層の研磨速度がほぼ同程度であり、ディッシング、平坦性がオーバーポリシング法より改善される研磨用組成物を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、
（Ａ）研磨材、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）酸化剤、（Ｄ）酸化防止剤、（Ｅ）腐食抑制剤および（Ｆ）水を含有する研磨用組成物であって、（Ａ）研磨材が、平均粒径が１５ｎｍ−３０ｎｍの範囲にあるフュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも１種類からなる無機粒子であり、研磨用組成物中の濃度が１０〜２０重量％であり、（Ｂ）有機酸の主成分がシュウ酸であり、研磨用組成物中の濃度が０．０１〜１．０重量％であり、（Ｃ）酸化剤が過酸化水素であり、研磨用組成物中の濃度が０．０３〜１．０重量％であり、（Ｄ）酸化防止剤がベンゾトリアゾールまたはその誘導体及びキナルジン酸であり、研磨組成物中の濃度がそれぞれ０．０１〜１．０重量％であり、（Ｅ）腐食防止剤がエチレンジアミン又はその誘導体及びヒスチジンであり、研磨組成物中の濃度がそれぞれ０．０１〜１．０重量％であることを特徴とする研磨用組成物である。
【００１２】
本発明はかかる上記の問題点を解決するために種々検討した結果、無機砥粒、有機酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール化合物、キナルジン酸、エチレンジアミン誘導体、ヒスチジン及び水からなる研磨用組成物を用いることで、タンタル化合物、銅、ＳｉＯ２の研磨レートが同程度にできることを見いだし、発明を完成するに至ったものである。
【００１３】
本発明に用いる無機粒子の平均粒径は１５ｎｍ−３０ｎｍの範囲にあることが好ましい。１５ｎｍ未満ではＳｉＯ２膜を研磨する際の研磨速度が極端に低下するので好ましくなく、３０ｎｍを超えるとタンタル膜、ＳｉＯ２膜の研磨レートが小さくなってしまうので好ましくない。
【００１４】
本発明に用いる無機粒子はフュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも１種類であり、これらのものを単独或いは任意に組み合わせ用いることができる。組み合わせや比率などは特に限定されるものではない。
【００１５】
研磨材の研磨用組成物中の濃度は１０〜２０重量％であることが望ましい。研磨材の濃度が小さくなりすぎると機械的な研磨能力が減少し研磨レートが低下するので好ましくなく、濃度が高すぎると機械的研磨能力が増大してタンタル化合物、銅、ＳｉＯ２の研磨の選択性が低下するので好ましくない。
【００１６】
本発明の研磨用組成物は有機酸を含有する。本発明に用いる有機酸の主成分はシュウ酸であることが好ましい。研磨用組成物中の濃度は０．０１〜１．０重量％であることが望ましい。０．０１重量％未満であるとタンタル化合物膜の研磨レートが小さくなるために好ましくなく１．０重量％を超えると銅膜研磨レートが大きくなり制御できなくなるので好ましくない。
【００１７】
本発明の研磨用組成物は酸化剤を含有するが酸化剤としては過酸化水素が好ましい。過酸化水素はタンタル化合物膜に対して酸化作用を発揮し、イオン化を促進することによってタンタル化合物膜の研磨レートを高める働きがあるが、研磨用組成物中の濃度は０．０３〜１．０重量％であることが望ましい。この範囲の濃度から高くなっても低くなり過ぎてもタンタル化合物膜の研磨レートが低下するので好ましくない。また、過酸化水素は銅膜に対しても酸化作用を発揮し、イオン化を促進することによって銅膜の研磨レートを高める働きがあるが、研磨用組成物中の濃度は０．０３〜１．０重量％であることが望ましい。この範囲の濃度より高い場合は、銅膜に対する研磨レートが大きくなりすぎ、低い場合は、銅膜の研磨レートが低下するので好ましくない。
【００１８】
本発明の研磨用組成物は酸化防止剤としてベンゾトリアゾールまたはその誘導体及びキナルジン酸を含有し、研磨組成物中の濃度はそれぞれ０．０１〜１．０重量％である。ともに０．０１重量％未満であると銅膜の研磨レートを抑える効果に乏しくなるので好ましくなく、１．０重量％を超えるとタンタル化合物膜の研磨レートが極端に減少するので好ましくない。
【００１９】
本発明の研磨用組成物は腐食抑制剤としてエチレンジアミン又はその誘導体及びヒスチジンを含有する。研磨用組成物に腐食抑制剤を加えることにより、過剰な化学的作用による銅膜表面の腐食を防ぐことができる。研磨用組成物中の腐食抑制剤の濃度はそれぞれ０．０１〜１．０重量％であることが望ましい。ともにこの範囲の濃度から高くなっても低くなりすぎても銅膜の腐食防止効果が不十分であり、研磨後の銅膜の表面状態が悪くなるので好ましくない。
【００２０】
本発明の研磨用組成物の媒体は水であり、イオン性不純物や金属イオンを極力減らしたものであることが望ましい。
【００２１】
本発明の研磨用組成物は上記の各成分、研磨材、有機酸、酸化剤、酸化防止剤、腐食抑制剤を水に混合、溶解、分散させて製造する。過酸化水素は、研磨直前に前記の混合液に添加、混合するが予め混合しておくことも可能である。それらの混合方法は、任意の装置で行うことができる。例えば、翼式回転攪拌機、超音波分散機、ビーズミル分散機、ニーダー、ボールミルなどが適用可能である。
【００２２】
また上記成分以外に種々の研磨助剤を配合してもよい。このような研磨助剤の例としては、分散助剤、防錆剤、消泡剤、ｐＨ調整剤、防かび剤等が挙げられるが、これらはスラリーの分散貯蔵安定性、研磨速度の向上の目的で加えられる。分散助剤としてはヘキサメタリン酸ソーダ等が挙げられる。もちろん各種界面活性剤などを添加して分散性を向上させることができることは言うまでもない。ｐＨ調整剤としてはアンモニアなどの塩基性化合物や酢酸、塩酸、硝酸等の酸性化合物が挙げられる。消泡剤としては流動パラフィン、ジメチルシリコーンオイル、ステアリン酸モノ、ジグリセリド混合物、ソルビタンモノパルミチエート、等が挙げられる。
【００２３】
【実施例】
本発明を実施例で具体的に説明する。
＜実施例１＞
研磨材として一次粒子の平均粒径が３０ｎｍであるコロイダルシリカ、シュウ酸、過酸化水素、ベンゾトリアゾール、キナルジン酸、エチエンジアミン、ヒスチジンが表１に示された濃度になるように０．５μｍのカートリッジフィルターで濾過されたイオン交換水に混合し、高速ホモジナイザーで攪拌して均一に分散させて研磨用組成物を得た。
【００２４】
＜研磨評価＞
被研磨物は８インチのシリコンウエハー上ＳｉＯ２膜、タンタル化合物膜、銅膜のベタ膜を形成したものを用意し各膜の研磨レートを測定し、選択比を求めた。
【００２５】
研磨は定盤径６００ｍｍの片面研磨機を用いた。研磨機の定盤にはロデール社製（米国）のポリウレタン製研磨パッドＩＣ−１０００／Ｓｕｂａ４００を専用の両面テープで張り付け、研磨液組成物（スラリー）を流しながら研磨した。荷重は３ｐｓｉ、定盤の回転数を７０ｒｐｍ、ウエハー回転数７２ｒｐｍ、研磨材組成物の流量を１５０ｍｌ／ｍｉｎとした。
【００２６】
＜実施例２〜５、比較例１〜６＞
表１に示された配合によって研磨組成物を調整し研磨特性を評価した。
結果を表１に示した。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば銅膜、タンタル膜を含む半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいてタンタル化合物膜を優先的に研磨可能な研磨液組成物が得られ、半導体デバイスを効率的に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】銅膜を形成させたデバイスの研磨プロセスの模式図
【符号の説明】
１ Ｃｕ
２ Ｔａ
３ ＳｉＯ２ [0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a polishing composition used for polishing semiconductors, substrates for various memory hard disks, and the like, and more particularly to a polishing composition suitably used for flattening a surface of a semiconductor device wafer.
[0002]
[Prior art]
The recent remarkable development of the electronics industry has evolved into transistors, ICs, LSIs, and VLSIs. With the rapid increase in the degree of circuit integration in these semiconductor devices, the design rules for semiconductor devices have become smaller year by year. The depth of focus in the device manufacturing process has become shallower, and the flatness of the pattern formation surface has become increasingly severe.
[0003]
On the other hand, in order to cover an increase in wiring resistance due to miniaturization of wiring, copper wiring having lower electric resistance has been studied from aluminum and tungsten as wiring materials. However, when copper is used for wiring layers and interconnections between wiring, after forming wiring grooves and holes on the insulating film, a copper film is formed by sputtering or plating, and unnecessary parts are chemically and mechanically polished. Unnecessary copper on the insulating film is removed by the (CMP).
[0004]
In such a process, copper diffuses into the insulating film and deteriorates device characteristics. Therefore, it is common practice to provide a tantalum or tantalum nitride layer as a barrier layer on the insulating film to prevent copper diffusion. ing.
[0005]
In the planarization CMP process for a device in which a copper film is formed on the uppermost layer in this manner, an unnecessary portion of the copper film is first polished to a tantalum compound surface layer formed on an insulating layer, and the next step is performed. Then, the tantalum compound layer on the insulating film must be polished and the polishing must be completed when the SiO 2 surface comes out. FIG. 1 shows such a process. In the CMP polishing in such a process, it is necessary that the polishing rate has selectivity with respect to different materials such as copper, a tantalum compound, and SiO 2 .
[0006]
That is, in step 1, the polishing rate for copper is high and the selectivity is such that there is almost no polishing ability for the tantalum compound. Further, in Step 2, it is preferable that the polishing rates for the tantalum compound, copper, and SiO 2 are substantially the same.
[0007]
Ideally, this process should be able to be polished with a single abrasive, but since the selectivity of the polishing rate for different materials cannot be changed during the process, the process is divided into two steps and has different selectivities. Perform each CMP step with the two slurries. In order to prevent the copper film in the grooves and holes from being excessively ground (dishing, recess, erosion), the polishing is terminated in step 1 with the copper film on the tantalum compound being left slightly. Next, in step 2, the copper, the tantalum compound, and the SiO 2 are polished and removed.
[0008]
For the polishing composition used in step 2, the polishing rate required for polishing copper, a tantalum compound, and SiO 2 from the state polished in step 1 is preferably about 500 (Å / min.). Have been.
[0009]
As such a polishing composition for Step 2 polishing, a polishing composition adjusted to pH 3 to 6 by containing colloidal silica, hydrogen peroxide, benzotriazole, oxalic acid, ethylenediamine and water is disclosed in Patent Document 1. It is shown in FIG. However, this polishing composition has a low polishing rate for SiO 2 , and in Step 2 after being kept in an under-polished state in Step 1, the same polishing rate for Cu / Ta / SiO 2 is obtained. Since it is considered preferable, it is not suitable as a slurry used in step 2.
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-89747
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention, copper, a barrier layer of tantalum compound, in a CMP process for a semiconductor device having an insulating layer of SiO 2, copper, a barrier layer of tantalum compound, the polishing rate of the SiO 2 insulating layer is substantially the same It is an object of the present invention to provide a polishing composition whose dishing and flatness are improved over the overpolishing method.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
The present invention
A polishing composition comprising (A) an abrasive, (B) an organic acid, (C) an oxidizing agent, (D) an antioxidant, (E) a corrosion inhibitor, and (F) water, wherein (A) The abrasive is an inorganic particle composed of at least one of fumed silica, colloidal silica, fumed alumina, and colloidal alumina having an average particle diameter in a range of 15 nm to 30 nm, and has a concentration of 10% in the polishing composition. (B) the main component of the organic acid is oxalic acid, the concentration in the polishing composition is 0.01 to 1.0% by weight, and (C) the oxidizing agent is hydrogen peroxide. Wherein the concentration in the polishing composition is 0.03 to 1.0% by weight, (D) the antioxidant is benzotriazole or a derivative thereof and quinaldic acid, and the concentration in the polishing composition is 0, respectively. (E) rot. An inhibitor ethylene diamine or a derivative thereof and histidine, the polishing composition, wherein the concentration of the polishing composition are each 0.01 to 1.0% by weight.
[0012]
As a result of various studies to solve the above problems, the present invention uses a polishing composition comprising an inorganic abrasive, an organic acid, hydrogen peroxide, a benzotriazole compound, quinaldic acid, an ethylenediamine derivative, histidine and water. As a result, the inventors have found that the polishing rates of the tantalum compound, copper, and SiO 2 can be made substantially the same, and have completed the invention.
[0013]
The average particle size of the inorganic particles used in the present invention is preferably in the range of 15 nm to 30 nm. If the thickness is less than 15 nm, the polishing rate when polishing the SiO 2 film is extremely reduced, which is not preferable. If the thickness exceeds 30 nm, the polishing rates of the tantalum film and the SiO 2 film are undesirably reduced.
[0014]
The inorganic particles used in the present invention are at least one of fumed silica, colloidal silica, fumed alumina, and colloidal alumina, and these can be used alone or in any combination. The combination and ratio are not particularly limited.
[0015]
The concentration of the abrasive in the polishing composition is desirably 10 to 20% by weight. If the concentration of the abrasive is too low, the mechanical polishing ability decreases and the polishing rate decreases, which is not preferable. If the concentration is too high, the mechanical polishing ability increases and the polishing of the tantalum compound, copper, and SiO 2 is selected. It is not preferable because the property is lowered.
[0016]
The polishing composition of the present invention contains an organic acid. The main component of the organic acid used in the present invention is preferably oxalic acid. The concentration in the polishing composition is desirably 0.01 to 1.0% by weight. If the amount is less than 0.01% by weight, the polishing rate of the tantalum compound film is decreased. If the amount is more than 1.0% by weight, the polishing rate of the copper film becomes too large to control.
[0017]
The polishing composition of the present invention contains an oxidizing agent, and the oxidizing agent is preferably hydrogen peroxide. Hydrogen peroxide exerts an oxidizing effect on the tantalum compound film and has a function of increasing the polishing rate of the tantalum compound film by promoting ionization, but the concentration in the polishing composition is 0.03 to 1.0. % By weight. If the concentration is too high or too low, the polishing rate of the tantalum compound film is undesirably reduced. Hydrogen peroxide also exerts an oxidizing action on the copper film, and has a function of increasing the polishing rate of the copper film by promoting ionization. However, the concentration in the polishing composition is 0.03 to 1.0. It is desirably 0% by weight. When the concentration is higher than this range, the polishing rate for the copper film becomes too high, and when the concentration is lower, the polishing rate for the copper film decreases, which is not preferable.
[0018]
The polishing composition of the present invention contains benzotriazole or a derivative thereof and quinaldic acid as antioxidants, and the concentration in the polishing composition is 0.01 to 1.0% by weight. When both are less than 0.01% by weight, the effect of suppressing the polishing rate of the copper film is poor, and thus it is not preferable. When the amount exceeds 1.0% by weight, the polishing rate of the tantalum compound film is extremely reduced, which is not preferable.
[0019]
The polishing composition of the present invention contains ethylenediamine or a derivative thereof and histidine as a corrosion inhibitor. By adding a corrosion inhibitor to the polishing composition, corrosion of the copper film surface due to excessive chemical action can be prevented. The concentration of the corrosion inhibitor in the polishing composition is desirably 0.01 to 1.0% by weight. If the concentration is too high or too low from this range, the effect of preventing corrosion of the copper film is insufficient, and the surface state of the polished copper film is unfavorably deteriorated.
[0020]
The medium of the polishing composition of the present invention is water, and it is preferable that ionic impurities and metal ions are reduced as much as possible.
[0021]
The polishing composition of the present invention is produced by mixing, dissolving, and dispersing the above-described components, an abrasive, an organic acid, an oxidizing agent, an antioxidant, and a corrosion inhibitor in water. Hydrogen peroxide is added to and mixed with the above mixed solution immediately before polishing, but it is also possible to mix them in advance. These mixing methods can be performed with any device. For example, a blade-type rotary stirrer, an ultrasonic disperser, a bead mill disperser, a kneader, a ball mill and the like can be applied.
[0022]
In addition to the above components, various polishing aids may be blended. Examples of such polishing aids include dispersing aids, rust preventives, defoamers, pH adjusters, fungicides, and the like, which are used to improve the dispersion storage stability of the slurry and the polishing rate. Added for purpose. Examples of the dispersing aid include sodium hexametaphosphate. Of course, it is needless to say that the dispersibility can be improved by adding various surfactants and the like. Examples of the pH adjuster include basic compounds such as ammonia and acidic compounds such as acetic acid, hydrochloric acid, and nitric acid. Examples of the antifoaming agent include liquid paraffin, dimethyl silicone oil, monostearic acid, a mixture of diglycerides, and sorbitan monopalmitate.
[0023]
【Example】
The present invention will be specifically described with reference to examples.
<Example 1>
As an abrasive, colloidal silica having an average primary particle diameter of 30 nm, oxalic acid, hydrogen peroxide, benzotriazole, quinaldic acid, ethenediamine, histidine having a concentration of 0.5 μm so as to have a concentration shown in Table 1. The polishing composition was mixed with ion-exchanged water filtered through a cartridge filter and uniformly dispersed by stirring with a high-speed homogenizer to obtain a polishing composition.
[0024]
<Polishing evaluation>
The object to be polished was prepared by forming a solid film of an SiO 2 film, a tantalum compound film, and a copper film on an 8-inch silicon wafer, and the polishing rate of each film was measured to obtain a selectivity.
[0025]
Polishing was performed using a single-side polishing machine having a platen diameter of 600 mm. A polishing pad IC-1000 / Suba400 made by Rodale (USA) was adhered to a surface plate of the polishing machine with a special double-sided tape, and polished while flowing a polishing composition (slurry). The load was 3 psi, the number of revolutions of the platen was 70 rpm, the number of revolutions of the wafer was 72 rpm, and the flow rate of the abrasive composition was 150 ml / min.
[0026]
<Examples 2 to 5, Comparative Examples 1 to 6>
Polishing compositions were adjusted according to the formulations shown in Table 1 to evaluate polishing characteristics.
The results are shown in Table 1.
[0027]
[Table 1]
[0028]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, a polishing composition capable of preferentially polishing a tantalum compound film in a CMP processing process of a semiconductor device including a copper film and a tantalum film can be obtained, and a semiconductor device can be efficiently manufactured. Can be.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view of a polishing process of a device having a copper film formed thereon.
1 Cu
2 Ta
3 SiO 2
